JP2003013296A - 表面処理装置 - Google Patents
表面処理装置Info
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- JP2003013296A JP2003013296A JP2001198072A JP2001198072A JP2003013296A JP 2003013296 A JP2003013296 A JP 2003013296A JP 2001198072 A JP2001198072 A JP 2001198072A JP 2001198072 A JP2001198072 A JP 2001198072A JP 2003013296 A JP2003013296 A JP 2003013296A
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- rail
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 粉塵の発生の抑制化および給電の確実化を図
りつつ表面処理品質を大幅に向上可能にする。 【解決手段】 搬送（Ｘ）方向に延設されたガイドレー
ルに支持された冶具を介して保持されたワークを搬送可
能な搬送手段と、搬送中のワークに当該冶具を介して給
電する給電手段とを有し、表面処理槽内でワークを連続
搬送かつ給電しつつ表面処理を施すことができる表面処
理装置において、冶具２０をガイドレール３７に転がり
係合機構９０を介して支持させ、給電手段５０がＸ方向
に延設された給電レール５１と冶具２０側に装着されか
つ給電レール５１と摺接して集電可能な集電子５５とを
含み形成されている。
りつつ表面処理品質を大幅に向上可能にする。 【解決手段】 搬送（Ｘ）方向に延設されたガイドレー
ルに支持された冶具を介して保持されたワークを搬送可
能な搬送手段と、搬送中のワークに当該冶具を介して給
電する給電手段とを有し、表面処理槽内でワークを連続
搬送かつ給電しつつ表面処理を施すことができる表面処
理装置において、冶具２０をガイドレール３７に転がり
係合機構９０を介して支持させ、給電手段５０がＸ方向
に延設された給電レール５１と冶具２０側に装着されか
つ給電レール５１と摺接して集電可能な集電子５５とを
含み形成されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、搬送方向に延設さ
れたガイドレールに支持された冶具を介して当該冶具に
保持されたワークを搬送可能な搬送手段と、搬送中のワ
ークに当該冶具を介して給電する給電手段とを有し、表
面処理槽内でワークを連続搬送かつ給電しつつワークに
表面処理を施す表面処理装置に関する。
れたガイドレールに支持された冶具を介して当該冶具に
保持されたワークを搬送可能な搬送手段と、搬送中のワ
ークに当該冶具を介して給電する給電手段とを有し、表
面処理槽内でワークを連続搬送かつ給電しつつワークに
表面処理を施す表面処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図７に示す表面処理装置は、搬送方向
（図７で紙面に垂直方向）に延設されたガイドレール３
７Ｐ，このガイドレール３７Ｐに支持された冶具２０Ｐ
を介して当該冶具２０Ｐに保持されたワークＷを搬送可
能な搬送手段３０Ｐと，ガイドレール３７Ｐを給電レー
ル５１Ｐとして利用した構成で搬送中のワークＷに当該
冶具２０Ｐを介して給電する給電手段５０Ｐとを有し、
表面処理槽１０内の表面処理液Ｑ中でワークＷを連続搬
送しつつ表面処理を施すことができる。
（図７で紙面に垂直方向）に延設されたガイドレール３
７Ｐ，このガイドレール３７Ｐに支持された冶具２０Ｐ
を介して当該冶具２０Ｐに保持されたワークＷを搬送可
能な搬送手段３０Ｐと，ガイドレール３７Ｐを給電レー
ル５１Ｐとして利用した構成で搬送中のワークＷに当該
冶具２０Ｐを介して給電する給電手段５０Ｐとを有し、
表面処理槽１０内の表面処理液Ｑ中でワークＷを連続搬
送しつつ表面処理を施すことができる。
【０００３】冶具２０Ｐは、ガイドレール３７Ｐに摺動
可能に支持された移動体３２Ｐに連結されている。かく
して、表面処理槽１０が電解処理槽（例えば、めっき処
理槽）である場合には、外部電源からガイドレール３７
Ｐ，移動体３２Ｐおよび冶具２０Ｐを通してワークＷに
給電することができるわけである。
可能に支持された移動体３２Ｐに連結されている。かく
して、表面処理槽１０が電解処理槽（例えば、めっき処
理槽）である場合には、外部電源からガイドレール３７
Ｐ，移動体３２Ｐおよび冶具２０Ｐを通してワークＷに
給電することができるわけである。
【０００４】一般的に、本装置のレイアウト的設計思想
は、表面処理槽群はワークＷの搬送方向に沿って列配置
し、かつ左右方向は搬送軌跡を中心に図７で左右方向に
対称とすることである。
は、表面処理槽群はワークＷの搬送方向に沿って列配置
し、かつ左右方向は搬送軌跡を中心に図７で左右方向に
対称とすることである。
【０００５】すなわち、搬送手段３０Ｐを形成するガイ
ドレール３７Ｐは、各表面処理槽１０の左右方向中心に
配設されることになる。また、電解処理槽（例えば、め
っき処理槽）からなる表面処理槽１０の給電手段５０Ｐ
として、外部電源に接続されたガイドレール３７Ｐ上を
摺動する移動体３２Ｐ側の集電子（図示省略）を含む給
電手段５０Ｐから冶具２０Ｐを介して給電している。
ドレール３７Ｐは、各表面処理槽１０の左右方向中心に
配設されることになる。また、電解処理槽（例えば、め
っき処理槽）からなる表面処理槽１０の給電手段５０Ｐ
として、外部電源に接続されたガイドレール３７Ｐ上を
摺動する移動体３２Ｐ側の集電子（図示省略）を含む給
電手段５０Ｐから冶具２０Ｐを介して給電している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、電解処理槽
（例えば、めっき処理槽）を含む表面処理槽１０では、
上記の通り電解処理槽での給電を必須とすることから、
電解処理槽内の両側に配設された電極（アノード）とワ
ーク（カソード）との距離を等しくするために電解処理
槽の搬送方向で上流側に配設される前処理槽群およびそ
の下流側に配設される後処理槽群においても、左右方向
中心として搬送手段３０Ｐ（ガイドレール３７Ｐ）およ
び給電手段５０Ｐ（給電レール５１Ｐ）を設けている。
（例えば、めっき処理槽）を含む表面処理槽１０では、
上記の通り電解処理槽での給電を必須とすることから、
電解処理槽内の両側に配設された電極（アノード）とワ
ーク（カソード）との距離を等しくするために電解処理
槽の搬送方向で上流側に配設される前処理槽群およびそ
の下流側に配設される後処理槽群においても、左右方向
中心として搬送手段３０Ｐ（ガイドレール３７Ｐ）およ
び給電手段５０Ｐ（給電レール５１Ｐ）を設けている。
【０００７】しかも、ガイドレール３７Ｐを給電レール
５１Ｐとして利用した給電手段５０Ｐであるから、ガイ
ドレール３７Ｐを搬送手段３０Ｐのみに利用する場合に
比較して、ガイドレール３７Ｐと移動体３２Ｐ側の集電
子（図示省略）との接触圧力を大きくする必要がある。
５１Ｐとして利用した給電手段５０Ｐであるから、ガイ
ドレール３７Ｐを搬送手段３０Ｐのみに利用する場合に
比較して、ガイドレール３７Ｐと移動体３２Ｐ側の集電
子（図示省略）との接触圧力を大きくする必要がある。
【０００８】かくして、いずれの表面処理槽１０におい
ても、摺動・移動するガイドレール３７Ｐ（給電レール
５１Ｐ）と移動体３２Ｐ（冶具２０Ｐ）との摩擦により
構成部品から塵埃が発生しかつその塵埃の殆んどが表面
処理槽１０の外部開口部１０Ｕから当該表面処理液Ｑ中
に混入してしまう。
ても、摺動・移動するガイドレール３７Ｐ（給電レール
５１Ｐ）と移動体３２Ｐ（冶具２０Ｐ）との摩擦により
構成部品から塵埃が発生しかつその塵埃の殆んどが表面
処理槽１０の外部開口部１０Ｕから当該表面処理液Ｑ中
に混入してしまう。
【０００９】かかる塵埃の発生は、表面処理対象製品に
よって許される場合と許されない場合とがある。装飾品
の如きは許されても、電子部品（例えば、プリント配線
基板）の場合は許され難い。換言すれば、電子部品のク
リーニングルーム（生産現場）での環境（空気清浄度）
が非常に高級になっているに対して、表面処理の場合に
はそこまで気配りされていなかったといえる。
よって許される場合と許されない場合とがある。装飾品
の如きは許されても、電子部品（例えば、プリント配線
基板）の場合は許され難い。換言すれば、電子部品のク
リーニングルーム（生産現場）での環境（空気清浄度）
が非常に高級になっているに対して、表面処理の場合に
はそこまで気配りされていなかったといえる。
【００１０】つまり、従来装置では構成部品から生じか
つ表面処理液Ｑ中に混入した塵埃がガサやザラの原因に
なっていた。このガサやザラのない高品質な表面処理製
品が強く求められている。例えば、プリント配線基板の
線幅やピン間距離の一段の狭小化には、是非解決しなけ
ればならない課題となって来た。
つ表面処理液Ｑ中に混入した塵埃がガサやザラの原因に
なっていた。このガサやザラのない高品質な表面処理製
品が強く求められている。例えば、プリント配線基板の
線幅やピン間距離の一段の狭小化には、是非解決しなけ
ればならない課題となって来た。
【００１１】本発明の目的は、粉塵の発生の抑制化およ
び給電の確実化を図りつつ表面処理品質を大幅に向上さ
せられる表面処理装置を提供することにある。
び給電の確実化を図りつつ表面処理品質を大幅に向上さ
せられる表面処理装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、搬送
方向に延設されたガイドレールに支持された冶具を介し
て当該冶具に保持されたワークを搬送可能な搬送手段
と、搬送中のワークに当該冶具を介して給電する給電手
段とを有し、表面処理槽内でワークを連続搬送かつ給電
しつつワークに表面処理を施す表面処理装置において、
前記冶具を前記ガイドレールに転がり係合機構を介して
支持させるとともに、前記給電手段が搬送方向に延設さ
れた給電レールと前記冶具側に装着されかつ給電レール
と摺接して集電可能な集電子とを含み形成された表面処
理装置である。
方向に延設されたガイドレールに支持された冶具を介し
て当該冶具に保持されたワークを搬送可能な搬送手段
と、搬送中のワークに当該冶具を介して給電する給電手
段とを有し、表面処理槽内でワークを連続搬送かつ給電
しつつワークに表面処理を施す表面処理装置において、
前記冶具を前記ガイドレールに転がり係合機構を介して
支持させるとともに、前記給電手段が搬送方向に延設さ
れた給電レールと前記冶具側に装着されかつ給電レール
と摺接して集電可能な集電子とを含み形成された表面処
理装置である。
【００１３】かかる発明では、ワークを保持した冶具は
転がり係合機構を介してガイドレールに支持されている
ので、ガイドレールと冶具との搬送方向の相対変位があ
っても直接摩擦係合の場合に比較して粉塵の発生量を極
減化できる。
転がり係合機構を介してガイドレールに支持されている
ので、ガイドレールと冶具との搬送方向の相対変位があ
っても直接摩擦係合の場合に比較して粉塵の発生量を極
減化できる。
【００１４】しかも、給電手段が搬送方向に延設された
給電レールと冶具側に装着された集電子を摺接して集電
する構成であるから、従来例の場合のように給電レール
を兼用するガイドレールを表面処理槽の左右方向の中心
に配設しなくてもよくなる。つまり、確実な給電を担保
しつつ摺動に伴う粉塵の処理槽内液への混入を防止する
ことができる。
給電レールと冶具側に装着された集電子を摺接して集電
する構成であるから、従来例の場合のように給電レール
を兼用するガイドレールを表面処理槽の左右方向の中心
に配設しなくてもよくなる。つまり、確実な給電を担保
しつつ摺動に伴う粉塵の処理槽内液への混入を防止する
ことができる。
【００１５】すなわち、粉塵の発生の抑制化および給電
の確実化を大幅に改善できるので、表面処理品質を大幅
に向上することができる。特に、高実装密度で高品質の
プリント配線基板の生産に大きく貢献することができ
る。
の確実化を大幅に改善できるので、表面処理品質を大幅
に向上することができる。特に、高実装密度で高品質の
プリント配線基板の生産に大きく貢献することができ
る。
【００１６】また、請求項２の発明は、前記給電レール
と前記集電子との摺接により発生した粉塵を回収廃棄す
るための粉塵回収廃棄手段を設けた表面処理装置であ
る。
と前記集電子との摺接により発生した粉塵を回収廃棄す
るための粉塵回収廃棄手段を設けた表面処理装置であ
る。
【００１７】かかる発明では、粉塵回収廃棄手段が給電
レールと集電子との摺接により発生した粉塵を回収廃棄
するので、請求項１の発明の場合と同様な作用効果を奏
することができることに加え、さらに処理液中に廻り込
んで混入する虞を一掃できるとともに、給電手段（給電
レールおよび集電子）の構造簡素化および低コスト化を
図りつつレイアウトの自由度を一段と拡大できる。
レールと集電子との摺接により発生した粉塵を回収廃棄
するので、請求項１の発明の場合と同様な作用効果を奏
することができることに加え、さらに処理液中に廻り込
んで混入する虞を一掃できるとともに、給電手段（給電
レールおよび集電子）の構造簡素化および低コスト化を
図りつつレイアウトの自由度を一段と拡大できる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。
て、図面を参照して詳細に説明する。
【００１９】（第１の実施形態）本表面処理装置は、図
１〜図４に示す如く、冶具２０をガイドレール３７に転
がり係合機構９０を介して支持させるとともに、給電手
段５０が搬送（Ｘ）方向に延設された給電レール５１
と，冶具２０側に装着されかつ給電レール５１と摺接し
て集電可能な集電子５５とから形成されている。
１〜図４に示す如く、冶具２０をガイドレール３７に転
がり係合機構９０を介して支持させるとともに、給電手
段５０が搬送（Ｘ）方向に延設された給電レール５１
と，冶具２０側に装着されかつ給電レール５１と摺接し
て集電可能な集電子５５とから形成されている。
【００２０】本表面処理装置の基本的構成・機能は、搬
送（Ｘ）方向に延設されたガイドレール３７に支持され
た冶具２０（ハンガー２９）を介して当該冶具２０に保
持されたワークＷを搬送可能な搬送手段３０と、搬送中
のワークＷに当該冶具２０を介して給電する給電手段５
０とを有し、表面処理槽１０内でワークＷを連続搬送か
つ給電しつつ表面処理を施すことができる。
送（Ｘ）方向に延設されたガイドレール３７に支持され
た冶具２０（ハンガー２９）を介して当該冶具２０に保
持されたワークＷを搬送可能な搬送手段３０と、搬送中
のワークＷに当該冶具２０を介して給電する給電手段５
０とを有し、表面処理槽１０内でワークＷを連続搬送か
つ給電しつつ表面処理を施すことができる。
【００２１】この発明では、搬送レール（ガイドレール
３７）と給電レール５１とを兼用しかつ兼用するガイド
レール３７を表面処理槽１０の幅（左右）方向の中心で
かつＸ方向に延設されていた従来例の場合に比較して、
ガイドレール３７と給電レール５１とを別個に設けてい
る。
３７）と給電レール５１とを兼用しかつ兼用するガイド
レール３７を表面処理槽１０の幅（左右）方向の中心で
かつＸ方向に延設されていた従来例の場合に比較して、
ガイドレール３７と給電レール５１とを別個に設けてい
る。
【００２２】そして、これを前提として、第１に、ガイ
ドレール３７と冶具２０との直接接触・摺動方式を摩擦
抵抗が少なく塵埃の発生を大幅に抑制できる転がり係合
方式に改善する。第２に、給電レール５１と集電子５５
との摺動摩擦係合により発生する粉塵が表面処理槽内１
０に入らないように給電レール５１を表面処理槽１０の
外側に配置する。
ドレール３７と冶具２０との直接接触・摺動方式を摩擦
抵抗が少なく塵埃の発生を大幅に抑制できる転がり係合
方式に改善する。第２に、給電レール５１と集電子５５
との摺動摩擦係合により発生する粉塵が表面処理槽内１
０に入らないように給電レール５１を表面処理槽１０の
外側に配置する。
【００２３】また、この実施形態では、転がり係合機構
９０を採用しても、搬送手段３０から発生する塵埃の絶
無化が至難である機械的事情を考慮して、ガイドレール
３７および搬送手段３０を表面処理槽１０の外側に配設
してある。
９０を採用しても、搬送手段３０から発生する塵埃の絶
無化が至難である機械的事情を考慮して、ガイドレール
３７および搬送手段３０を表面処理槽１０の外側に配設
してある。
【００２４】さらに、表面処理槽１０の外側に配設され
た給電手段５０から発生する塵埃の絶無化が至難である
機械的事情を考慮して、給電手段５０から発生した粉塵
（塵埃）を回収かつ外部へ廃棄するための粉塵回収廃棄
手段６０を設けている。
た給電手段５０から発生する塵埃の絶無化が至難である
機械的事情を考慮して、給電手段５０から発生した粉塵
（塵埃）を回収かつ外部へ廃棄するための粉塵回収廃棄
手段６０を設けている。
【００２５】図１〜図３において、表面処理槽１０は、
ワークＷのＸ方向に伸びる搬送軌跡（図１で紙面に垂直
方向）を中心に左右方向が対称となるように配設してあ
る。したがって、表面処理槽１０がこの実施形態の場合
のように電解処理槽（めっき処理槽）である場合には、
電解処理槽１０内の左右両側のいずれも図示しない電極
（アノード）とワークＷとの極間距離を正確に保てる。
ワークＷのＸ方向に伸びる搬送軌跡（図１で紙面に垂直
方向）を中心に左右方向が対称となるように配設してあ
る。したがって、表面処理槽１０がこの実施形態の場合
のように電解処理槽（めっき処理槽）である場合には、
電解処理槽１０内の左右両側のいずれも図示しない電極
（アノード）とワークＷとの極間距離を正確に保てる。
【００２６】搬送手段３０は、図１に示すように表面処
理槽１０の上部開口部１０Ｕの外側（図で右側）に配設
されている。搬送手段３０および関連機器から発生する
粉塵等を含む塵埃が表面処理槽液Ｑ内に混入（侵入）す
ることを防止するためである。
理槽１０の上部開口部１０Ｕの外側（図で右側）に配設
されている。搬送手段３０および関連機器から発生する
粉塵等を含む塵埃が表面処理槽液Ｑ内に混入（侵入）す
ることを防止するためである。
【００２７】この搬送手段３０は、図４に示すＸ方向に
延設されたガイドレール３７と，ガイドレール３７に沿
って一定ストロークだけ往復移動可能な往復移動部材３
２と，この往復移動部材３２に一定ピッチで取り付けら
れた複数のアンチバック爪３３と，往復移動部材３２に
往復移動力を付与するネジ式往復移動機構３１とを含
み、複数の冶具２０（ワークＷ）を一定ピッチだけ離隔
させた状態でＸ方向に間欠搬送することができる。
延設されたガイドレール３７と，ガイドレール３７に沿
って一定ストロークだけ往復移動可能な往復移動部材３
２と，この往復移動部材３２に一定ピッチで取り付けら
れた複数のアンチバック爪３３と，往復移動部材３２に
往復移動力を付与するネジ式往復移動機構３１とを含
み、複数の冶具２０（ワークＷ）を一定ピッチだけ離隔
させた状態でＸ方向に間欠搬送することができる。
【００２８】アンチバック爪３３は、往復移動部材３２
のＸ方向への移動中つまり往動時には係合する冶具２０
に往動力を加えて当該冶具２０をＸ方向へ往動させるこ
とができるが、復動時には冶具２０に復動力を付与せず
無抵抗として通過する。つまり、一方向送りタクト搬送
機構から形成されている。
のＸ方向への移動中つまり往動時には係合する冶具２０
に往動力を加えて当該冶具２０をＸ方向へ往動させるこ
とができるが、復動時には冶具２０に復動力を付与せず
無抵抗として通過する。つまり、一方向送りタクト搬送
機構から形成されている。
【００２９】各冶具２０は、搬送手段３０を表面処理槽
（この実施形態では、電解処理槽…めっき処理槽）１０
の横外方に配設しつつ表面処理槽１０自体を従来例の場
合と比較して大きく改変しなくてもすむように、図１，
図２に示す構造とされている。
（この実施形態では、電解処理槽…めっき処理槽）１０
の横外方に配設しつつ表面処理槽１０自体を従来例の場
合と比較して大きく改変しなくてもすむように、図１，
図２に示す構造とされている。
【００３０】図１において、冶具２０は、水平部２１と
垂直部２３をＬ字形状に連結した構造で、基端部２１Ｋ
でガイドレール３７に相対移動可能に支持させ、先端部
２３ＳでワークＷを保持することができる。基端部２１
Ｋは起立する係止部２１Ｖを介して間接的にガイドレー
ル３７に支持され、先端部２３Ｓは図２に示すハンガー
２９を介してワークＷを保持する。
垂直部２３をＬ字形状に連結した構造で、基端部２１Ｋ
でガイドレール３７に相対移動可能に支持させ、先端部
２３ＳでワークＷを保持することができる。基端部２１
Ｋは起立する係止部２１Ｖを介して間接的にガイドレー
ル３７に支持され、先端部２３Ｓは図２に示すハンガー
２９を介してワークＷを保持する。
【００３１】すなわち、各冶具２０は、転がり係合機構
９０を介してガイドレール３７に支持される。冶具２０
とガイドレール３７との直接接触および摺動による摩擦
軽減に基づき塵埃発生量の極減化を企図するのである。
９０を介してガイドレール３７に支持される。冶具２０
とガイドレール３７との直接接触および摺動による摩擦
軽減に基づき塵埃発生量の極減化を企図するのである。
【００３２】この転がり係合機構９０は、当該機構の枠
体を兼ねる冶具２０の一部である係止部２１Ｖに回転自
在に装着された複数の車輪９２を含み、ガイドレール３
７に各冶具２０を転がり係合させる役目を持つ。
体を兼ねる冶具２０の一部である係止部２１Ｖに回転自
在に装着された複数の車輪９２を含み、ガイドレール３
７に各冶具２０を転がり係合させる役目を持つ。
【００３３】車輪９２は、冶具２０の係止部２１Ｖに装
着された図２に示す複数の上下方向規制車輪９２Ｖと，
図３に示す水平方向規制車輪９２Ｈと，外れ防止車輪９
２Ｇとから形成されている。
着された図２に示す複数の上下方向規制車輪９２Ｖと，
図３に示す水平方向規制車輪９２Ｈと，外れ防止車輪９
２Ｇとから形成されている。
【００３４】各上下方向規制車輪９２Ｖは、ガイドレー
ル３７の図２に示す上面３７Ｕに係合され冶具２０の上
下方向の位置を規制する。また、水平方向規制車輪９２
Ｈは、ガイドレール３７の図３に示す側面３７Ｓに係合
され冶具２０の水平方向の位置を規制する。
ル３７の図２に示す上面３７Ｕに係合され冶具２０の上
下方向の位置を規制する。また、水平方向規制車輪９２
Ｈは、ガイドレール３７の図３に示す側面３７Ｓに係合
され冶具２０の水平方向の位置を規制する。
【００３５】そして、外れ防止車輪９２Ｇは、ガイドレ
ール３７の側面３７Ｓの高さ方向中間に突出して設けた
外れ防止レール３７Ｇにこれを水平方向の両側から挟み
込むように係合されている。したがって、各上下方向規
制車輪９２Ｖおよび水平方向規制車輪９２Ｈの協働のも
とに、冶具２０がガイドレール３７から外れる心配がな
い。
ール３７の側面３７Ｓの高さ方向中間に突出して設けた
外れ防止レール３７Ｇにこれを水平方向の両側から挟み
込むように係合されている。したがって、各上下方向規
制車輪９２Ｖおよび水平方向規制車輪９２Ｈの協働のも
とに、冶具２０がガイドレール３７から外れる心配がな
い。
【００３６】カソードであるワークＷには、図１に示す
ように、当該冶具２０（２１，２３）を介して給電手段
６０から、マイナス電源が供給される。アノードである
槽１０内両側の電極は図示省略してある。
ように、当該冶具２０（２１，２３）を介して給電手段
６０から、マイナス電源が供給される。アノードである
槽１０内両側の電極は図示省略してある。
【００３７】給電手段５０は、図１に示す表面処理槽１
０上部で外部側に設けられたＸ方向に延びる給電レール
５１と，外部電源装置（図示省略）と給電レール５１と
を接続する給電バー５２と，係止部２１Ｖにバネ式接触
圧調整手段５６を介して取り付けられた集電子５５およ
びリード線５９とからなる。
０上部で外部側に設けられたＸ方向に延びる給電レール
５１と，外部電源装置（図示省略）と給電レール５１と
を接続する給電バー５２と，係止部２１Ｖにバネ式接触
圧調整手段５６を介して取り付けられた集電子５５およ
びリード線５９とからなる。
【００３８】この給電手段５０も表面処理槽１０の外側
に配設されているので、各集電子５５と給電レール５１
との摺動（直接接触）による粉塵（塵埃）が生じても表
面処理槽１０内には侵入し難いわけである。
に配設されているので、各集電子５５と給電レール５１
との摺動（直接接触）による粉塵（塵埃）が生じても表
面処理槽１０内には侵入し難いわけである。
【００３９】しかし、更なる慎重を期して給電部（５
１，５５）を内包するチャンバー６１と下向き排気管６
２を含み、発生した粉塵を例えば下方のピット内に回収
しつつ外部に排出・廃棄する粉塵回収廃棄手段６０を設
けてある。
１，５５）を内包するチャンバー６１と下向き排気管６
２を含み、発生した粉塵を例えば下方のピット内に回収
しつつ外部に排出・廃棄する粉塵回収廃棄手段６０を設
けてある。
【００４０】かかる構成の第１の実施形態では、ワーク
Ｗを保持した冶具２０は転がり係合機構９０を介してガ
イドレール３７に支持されているので、ガイドレール３
７と冶具２０とのＸ方向の相対変位があっても、直接摩
擦係合の場合に比較して、粉塵の発生量を極減化でき
る。
Ｗを保持した冶具２０は転がり係合機構９０を介してガ
イドレール３７に支持されているので、ガイドレール３
７と冶具２０とのＸ方向の相対変位があっても、直接摩
擦係合の場合に比較して、粉塵の発生量を極減化でき
る。
【００４１】しかも、給電手段５０がＸ方向に延設され
た給電レール５１と冶具２０側に装着された集電子５５
とを摺接して集電する構成であるから、従来例の場合の
ように給電レール５１を兼用するガイドレール３７を表
面処理槽１０の左右方向の中心に配設しなくてもよくな
る。つまり、確実な給電を担保しつつ摺動に伴う粉塵の
処理槽内液Ｑへの混入を防止することができる。
た給電レール５１と冶具２０側に装着された集電子５５
とを摺接して集電する構成であるから、従来例の場合の
ように給電レール５１を兼用するガイドレール３７を表
面処理槽１０の左右方向の中心に配設しなくてもよくな
る。つまり、確実な給電を担保しつつ摺動に伴う粉塵の
処理槽内液Ｑへの混入を防止することができる。
【００４２】すなわち、搬送手段３０からの粉塵の発生
の抑制化および給電手段５０による給電の確実化を大幅
に改善できるので、表面処理品質を大幅に向上すること
ができる。特に、高実装密度で高品質のプリント配線基
板（ワーク）の生産に大きく貢献することができる。
の抑制化および給電手段５０による給電の確実化を大幅
に改善できるので、表面処理品質を大幅に向上すること
ができる。特に、高実装密度で高品質のプリント配線基
板（ワーク）の生産に大きく貢献することができる。
【００４３】また、粉塵回収廃棄手段６０は、給電レー
ル５１と集電子５５との摺接により発生した粉塵を回収
廃棄するので、処理液Ｑ中に廻り込んで混入する虞を一
掃できるとともに、給電手段６０（給電レール５１およ
び集電子５５）の構造簡素化および低コスト化を図りつ
つレイアウトの自由度を一段と拡大できる。
ル５１と集電子５５との摺接により発生した粉塵を回収
廃棄するので、処理液Ｑ中に廻り込んで混入する虞を一
掃できるとともに、給電手段６０（給電レール５１およ
び集電子５５）の構造簡素化および低コスト化を図りつ
つレイアウトの自由度を一段と拡大できる。
【００４４】（第２の実施形態）この第２の実施形態
は、図５，図６に示す如く、粉塵回収廃棄手段６０の排
気管６２を横向きとするとともに排気ダクト６３を接続
して粉塵を吸引しつつフィルタ（図示省略）へ導いて一
段と確実な回収・破棄を行えるように形成してある。
は、図５，図６に示す如く、粉塵回収廃棄手段６０の排
気管６２を横向きとするとともに排気ダクト６３を接続
して粉塵を吸引しつつフィルタ（図示省略）へ導いて一
段と確実な回収・破棄を行えるように形成してある。
【００４５】その他の構成・機能は、第１の実施形態の
場合と同様である。
場合と同様である。
【００４６】しかして、この第２の実施形態によれば、
第１の実施形態の場合に比較して給電手段５０から発生
した粉塵を一段と確実に回収・廃棄できるから、表面処
理槽１０内への侵入を完璧に防止できる。
第１の実施形態の場合に比較して給電手段５０から発生
した粉塵を一段と確実に回収・廃棄できるから、表面処
理槽１０内への侵入を完璧に防止できる。
【００４７】
【発明の効果】請求項１の発明によれば、冶具をガイド
レールに転がり係合機構を介して支持させるとともに、
給電手段が搬送方向に延設された給電レールと冶具側に
装着されかつ給電レールと摺接して集電可能な集電子と
を含み形成された表面処理装置であるから、ガイドレー
ルと冶具との搬送方向の相対変位があっても直接摩擦係
合の場合に比較して粉塵の発生量を極減化できる。ま
た、従来例の場合に比較して給電レールを兼用するガイ
ドレールを表面処理槽の左右方向の中心に配設しなくて
もよくなる。つまり、確実な給電を担保しつつ摺動に伴
う粉塵の処理槽内液への混入を防止することができる。
よって、粉塵の発生の抑制化および給電の確実化を大幅
に改善できるので、表面処理品質を大幅に向上すること
ができる。特に、高実装密度で高品質のプリント配線基
板の生産に大きく貢献することができる。
レールに転がり係合機構を介して支持させるとともに、
給電手段が搬送方向に延設された給電レールと冶具側に
装着されかつ給電レールと摺接して集電可能な集電子と
を含み形成された表面処理装置であるから、ガイドレー
ルと冶具との搬送方向の相対変位があっても直接摩擦係
合の場合に比較して粉塵の発生量を極減化できる。ま
た、従来例の場合に比較して給電レールを兼用するガイ
ドレールを表面処理槽の左右方向の中心に配設しなくて
もよくなる。つまり、確実な給電を担保しつつ摺動に伴
う粉塵の処理槽内液への混入を防止することができる。
よって、粉塵の発生の抑制化および給電の確実化を大幅
に改善できるので、表面処理品質を大幅に向上すること
ができる。特に、高実装密度で高品質のプリント配線基
板の生産に大きく貢献することができる。
【００４８】また、請求項２の発明によれば、給電レー
ルと集電子との摺接により発生した粉塵を回収廃棄する
ための粉塵回収廃棄手段を設けてあるので、請求項１の
発明の場合と同様な効果を奏することができることに加
え、さらに処理液中に廻り込んで混入する虞を一掃でき
るとともに、給電手段（給電レールおよび集電子）の構
造簡素化および低コスト化を図りつつレイアウトの自由
度を一段と拡大できる。
ルと集電子との摺接により発生した粉塵を回収廃棄する
ための粉塵回収廃棄手段を設けてあるので、請求項１の
発明の場合と同様な効果を奏することができることに加
え、さらに処理液中に廻り込んで混入する虞を一掃でき
るとともに、給電手段（給電レールおよび集電子）の構
造簡素化および低コスト化を図りつつレイアウトの自由
度を一段と拡大できる。
【図１】本発明の第１の実施形態に係る全体的構成を説
明するための正面図である。
明するための正面図である。
【図２】同じく、側面図である。
【図３】同じく、転がり係合機構を説明するための正面
図である。
図である。
【図４】同じく、搬送手段を説明するための側面図であ
る。
る。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る給電手段および
粉塵回収破棄手段を説明するための正面図である。
粉塵回収破棄手段を説明するための正面図である。
【図６】同じく、拡大図である。
【図７】従来例を説明するための図である。
【符号の説明】
１０ 表面処理槽（電解処理槽）
１０Ｕ 上部開口部
２０ 冶具
２１ 水平部
２３ 垂直部
３０ 搬送手段
３１ ネジ式往復移動機構
３７ ガイドレール
５０ 給電手段
５１ 給電レール
５５ 集電子
６０ 粉塵回収廃棄手段
６１ チャンバー
６２ 排気管
６３ 排気ダクト
９０ 転がり係合機構
９２Ｖ 上下方向規制車輪
９２Ｇ 外れ防止車輪
９２Ｈ 水平方向規制車輪
Claims (2)
- 【請求項１】 搬送方向に延設されたガイドレールに支
持された冶具を介して当該冶具に保持されたワークを搬
送可能な搬送手段と、搬送中のワークに当該冶具を介し
て給電する給電手段とを有し、表面処理槽内でワークを
連続搬送かつ給電しつつワークに表面処理を施す表面処
理装置において、 前記冶具を前記ガイドレールに転がり係合機構を介して
支持させるとともに、前記給電手段が搬送方向に延設さ
れた給電レールと前記冶具側に装着されかつ給電レール
と摺接して集電可能な集電子とを含み形成されている、
表面処理装置。 - 【請求項２】 前記給電レールと前記集電子との摺接に
より発生した粉塵を回収廃棄するための粉塵回収廃棄手
段を設けた、請求項１記載の表面処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001198072A JP3591721B2 (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001198072A JP3591721B2 (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 表面処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003013296A true JP2003013296A (ja) | 2003-01-15 |
| JP3591721B2 JP3591721B2 (ja) | 2004-11-24 |
Family
ID=19035577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001198072A Expired - Fee Related JP3591721B2 (ja) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | 表面処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3591721B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100865686B1 (ko) | 2007-03-15 | 2008-10-30 | (주)포인텍 | 급전부를 갖는 표면처리장치 |
| JP2009293064A (ja) * | 2008-06-03 | 2009-12-17 | C Uyemura & Co Ltd | めっき処理用ワーク保持治具及びワーク搬送装置 |
| CN102851722A (zh) * | 2011-06-30 | 2013-01-02 | Almexpe株式会社 | 表面处理装置及工件保持夹具 |
| JP2013091817A (ja) * | 2011-10-24 | 2013-05-16 | Kyocer Slc Technologies Corp | 電解めっき装置 |
| CN103774200A (zh) * | 2010-08-25 | 2014-05-07 | Almexpe株式会社 | 表面处理装置 |
| JP2014198909A (ja) * | 2014-06-27 | 2014-10-23 | アルメックスＰｅ株式会社 | 表面処理装置及びワーク保持治具 |
| US20150033505A1 (en) * | 2013-08-01 | 2015-02-05 | Hsin-Chi Iou | Continuous panel frame |
| CN105442027A (zh) * | 2010-09-17 | 2016-03-30 | Almexpe株式会社 | 表面处理装置 |
| CN109804108A (zh) * | 2016-09-29 | 2019-05-24 | Almex Pe 株式会社 | 工件保持夹具和表面处理装置 |
-
2001
- 2001-06-29 JP JP2001198072A patent/JP3591721B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100865686B1 (ko) | 2007-03-15 | 2008-10-30 | (주)포인텍 | 급전부를 갖는 표면처리장치 |
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| CN103774200A (zh) * | 2010-08-25 | 2014-05-07 | Almexpe株式会社 | 表面处理装置 |
| CN103774200B (zh) * | 2010-08-25 | 2016-08-17 | Almexpe株式会社 | 表面处理装置 |
| CN105442027A (zh) * | 2010-09-17 | 2016-03-30 | Almexpe株式会社 | 表面处理装置 |
| CN102851722A (zh) * | 2011-06-30 | 2013-01-02 | Almexpe株式会社 | 表面处理装置及工件保持夹具 |
| US10487414B2 (en) | 2011-06-30 | 2019-11-26 | Almex Pe Inc. | Surface treatment system and workpiece-holding jig |
| CN104532331A (zh) * | 2011-06-30 | 2015-04-22 | Almexpe株式会社 | 表面处理装置及工件保持夹具 |
| US9346632B2 (en) | 2011-06-30 | 2016-05-24 | Almex Pe Inc. | Surface treatment system and workpiece-holding jig |
| JP2013091817A (ja) * | 2011-10-24 | 2013-05-16 | Kyocer Slc Technologies Corp | 電解めっき装置 |
| US9200479B2 (en) * | 2013-08-01 | 2015-12-01 | Hsin-Chi Iou | Continuous panel frame with hanging arm |
| US20150033505A1 (en) * | 2013-08-01 | 2015-02-05 | Hsin-Chi Iou | Continuous panel frame |
| JP2014198909A (ja) * | 2014-06-27 | 2014-10-23 | アルメックスＰｅ株式会社 | 表面処理装置及びワーク保持治具 |
| CN109804108A (zh) * | 2016-09-29 | 2019-05-24 | Almex Pe 株式会社 | 工件保持夹具和表面处理装置 |
| CN109804108B (zh) * | 2016-09-29 | 2021-07-23 | Almex Pe 株式会社 | 工件保持夹具和表面处理装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3591721B2 (ja) | 2004-11-24 |
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