JP2003003910A - 流体の流れを混合するための装置および方法 - Google Patents

流体の流れを混合するための装置および方法

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JP2003003910A JP2002162953A JP2002162953A JP2003003910A JP 2003003910 A JP2003003910 A JP 2003003910A JP 2002162953 A JP2002162953 A JP 2002162953A JP 2002162953 A JP2002162953 A JP 2002162953A JP 2003003910 A JP2003003910 A JP 2003003910A
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fluid
throat
mixing
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 二つ以上の流体の流れを、圧力の損失が低い
状態かつ均一な混合状態で、一緒に混合するための装置
および方法を提供すること。 【解決手段】 ベンチュリは、直径が小さいスロート１
７に向かって収束する上流の先細り領域１６と、スロー
ト１７から発散する下流のディフューザー部分１８とを
備える。ベンチュリのスロート１７と連通するＥＧＲガ
ス入口通路１９,２０が、第２流体の流れを第１流体の
流れに導入するために備えられ、これにより、ベンチュ
リの下流のディフューザー部分１８を流れるに従って、
二つの流体の流れが混合される。上記通路１９,２０
は、ベンチュリの中心軸に対して、約４５°から９０°
傾いた平面の方向、かつ、スロート１８の接平面に対し
約３０°より小さい方向から、第２流体の流れをベンチ
ュリのスロート１８の内に導くように形づくられてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、二つ以上の流体
の流れを一つの流体の流れに混合するための装置および
方法に関する。特に、限定するわけではないが、この発
明は、内燃機関の排気ガス再循環システムでのガスの流
れの混合に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、内燃機関からの窒素酸化物の放出
を、エンジンの排気ガスのいくらかをエンジン吸気口に
再循環することによって、減じることができるというこ
とが知られており、多数のそのような排気ガス再循環
（ＥＧＲ）システムが知られている。ＥＧＲシステムが
有する問題の一つは、再循環排気ガス（ＥＧＲガス）の
流れと吸気ガスの流れとを効率良く混合することが難し
いことである。これは、特に、ＥＧＲガスの流れと吸気
ガスの流れの間に好ましくない圧力差を生成する強制吸
込みエンジン（forced induction engines）（例えば、
ターボチャージャーエンジンや過給機関等）を組み込ん
だＥＧＲシステムで問題となる。このシステムの例とし
て、例えば、エンジン吸気口に導入するＥＧＲガスの流
れを加圧するエンジン可動のＥＧＲポンプを有するＥＧ
Ｒシステムが知られている。ＥＧＲポンプの使用は、し
かしながら、コストの増大や重量の増大といった問題を
引き起こし、燃料消費を増大させることを導くエンジン
パワーの寄生損失（parasiticlosses）を引き起こす。
【０００３】吸気ガスラインに局所的に低い圧力領域を
生成するベンチュリを備えたＥＧＲシステムが、知られ
ている。そのようなシステムでは、本質的に、ＥＧＲガ
スは、吸気ラインに設けられたベンチュリのスロートに
導入され、このベンチュリのスロートは、二つのガスの
流れを混合するのに必要とする仕事を減少させる。その
ようなＥＧＲシステムは、米国特許４,４２６,８４８で
公開されている。
【０００４】吸気ガスラインにＥＧＲポンプと連合して
ベンチュリを備えたＥＧＲシステムが、また知られてい
る。そのようなＥＧＲシステムは、米国特許５,９３７,
６５０で公開されている。これは、ターボコンプレッサ
が二つのベーンセットを有しているターボチャージャエ
ンジンの公開であり、一方は、吸気ガスの圧縮に使わ
れ、他方は、ＥＧＲガスの圧縮に使われる。圧縮された
吸気ガスの流れおよび圧縮されたＥＧＲガスの流れは、
そのとき、ターボチャージャの下流の吸気ガスラインに
備えられたベンチュリによって混合される。ＥＧＲガス
は、ベンチュリのスロートを取り囲むボリュートを経由
して吸気ガスの流れに導入される。
【０００５】米国特許５,６１１,２０３は、高効率ター
ボチャージャーエンジンで使用することを意図し、か
つ、ＥＧＲポンプを取り除いたＥＧＲシステムを公開し
ている。ＥＧＲガスは、本質的に、吸気通路に設けられ
た浅裂のミキサー型の排出器で収束された二つのＥＧＲ
通路を経由して主要な吸気ガスの流れに混合される。ポ
ンプ効率は、ベンチュリを使ったもの約４倍になると言
われている。
【０００６】一般的に、ＥＧＲシステムは、ポンプ、ベ
ンチュリあるいはその他のものを組み込んでいてもいな
くても、エンジン効率を最大にするために、圧力の損失
をできるだけ小さくした状態で、ＥＧＲガスの流れと吸
気ガスの流れとを混合することが必要である。更に、二
つのガスの流れは、各エンジンシリンダに均一な混合状
態で到着させられるために、良く混ぜられているべきで
ある。
【０００７】
【発明の目的および手段】それゆえに、この発明の目的
は、排気ガス再循環システムでの流体の流れを、圧力の
損失が低い状態かつ均一な混合状態で、一緒に混合する
ための装置および方法を提供することである。しかしな
がら、この発明は、より広くより一般的に適用されるこ
とができ、この発明の目的は、二つ以上の流体の流れを
効率よく混合する装置および方法を提供することであ
る。
【０００８】この発明の第１の側面によれば、入口と出
口の間の第１流体の流れを案内する第１流体コンジット
を備え、また、上記入口と上記出口の間の上記第１流体
コンジットにベンチュリを備え、上記ベンチュリは、直
径が縮小されているスロートの方に向かって収束する上
流の先細り部分と、上記出口の方に向かって上記スロー
トから発散する下流のディフューザー部分とを有し、上
記先細りの部分、上記スロートおよび上記ディフューザ
ー部分は、中心軸のまわりに形成されており、また、上
記第１流体の流れの中に第２流体の流れを導入するため
に、上記ベンチュリの上記スロートに連通している離散
的な開口を有する少なくとも一つの混合入り口を備え、
その結果、上記二つの流体の流れは、出口に向かってベ
ンチュリの上記ディフューザー部分を流れるに従って次
第に混合するようになり、上記混合入口は、上記第２流
体の流れを、上記中心軸に対して４５°から９０°の間
の角度で配置された平面の方向、かつ、上記混合入口の
領域におけるベンチュリスロートの接平面に対し約３０
°より小さい方向から、上記ベンチュリの上記スロート
に導くような形状をしている二つの流体の流れを一つに
混合するための装置が備えられる。
【０００９】「離散」開口は、いかなる方向に対しても
連続でない開口であり、例えば、環状開口は、排除され
る。
【００１０】上記第２流体の流れを上で定義した方向に
向かせることは、従来技術の配置に勝る幾つかの利点を
提供する。特に、乱流およびこの乱流に関連づけられる
圧力の損失を最小限にし、同時に、かなりの渦巻成分を
混合流体の中に導入することによって、ベンチュリのデ
ィフューザーでの混合を向上させ、かつ、圧力の損失を
最小限にすることができる。これらの効果は、以下でも
っと詳細に述べられる。
【００１１】上記第２流体の流れは、上記接平面に対し
約５°（上記接平面と平行であれば最も良い）よりも小
さい角度で方向づけられることが好ましい。
【００１２】また、上記第２流体の流れは、上記中心軸
に対し約６０°よりも大きい角度で方向づけられること
が好ましい。角度を大きくすればするほど、流体の流れ
に引き起こされる渦巻をおおきくすることができる。好
ましい実施形態では、上記第２流体の流れは、上記軸に
対し略横方向に方向づけられる。
【００１３】一つあるいは複数の上記混合入口は、好ま
しくは、ベンチュリのスロートの壁に空けられた開口の
各々を通じてベンチュリと連通しており、上記ベンチュ
リのスロートの壁に空けられた開口は、ベンチュリのス
ロートの円周の１/４か、あるいは、１/８より小さい円
周の広がりを有し、好ましくは、必要とする混合比を供
給することを実行できるできるだけ小さな広がりを有す
る。
【００１４】装置の他の実施形態では、混合入口は、弓
状の通路を備え、この弓状の通路は、ベンチュリのスロ
ートの円周上に沿って少なくとも部分的に延び、かつ、
上記弓状の通路の内には離間して配置された複数の開口
を備え、その結果、第２流体の流れを、上記ベンチュリ
のスロートの円周上における上記通路部分のまわりの異
なった位置で、上記第１流体の流れに導入することがで
きる。
【００１５】この発明による装置を、二つ以上の流体の
流れを混合する必要がある様々な分野に使用できること
は認識されるだろう（二つ以上の流体は、異なる二つ以
上の流体の受け口を設けることにより一緒に混合するこ
とができる）。しかしながら、この発明は、特に、従来
の排気ガス再循環システムにおいて、再循環排気ガス
を、内燃機関の吸気ガスの流れに混合させることに適用
される。そのような実施形態では、第１流体コンジット
およびベンチュリは、エンジンの吸気ラインに配置さ
れ、上記混合入口は、再循環排気ガスをベンチュリのス
ロートに導くためにエンジン排気装置と連通している。
【００１６】また、この発明は、二つの流体の流れ（例
えば、排気再循環システムでの吸気ガスの流れおよび再
循環排気ガスの流れ）を一緒に混合するための方法を提
供し、上記方法は、縮小された直径のスロートの方に向
かって収束する上流の先細り部分と、出口に向かってス
ロートから発散する下流のディフューザー部分とを有す
るベンチュリを備える第１流体コンジットに第１流体を
流す工程を備え、また、第２流体の流れを、上記ベンチ
ュリの上記スロートの領域における離散的な開口を通じ
て上記第１流体の流れに統合する工程を備え、この工程
で、これら二つの流れを、上記出口の方に向かって一緒
に流すに従って次第に上記ベンチュリの拡散領域で混合
するようにし、上記第２流体の流れを、上記ベンチュリ
を通る上記第１流体の流れの方向に対し４５°から９０
°の範囲の角度で配置された平面の方向、および、二つ
の流体の流れが合流する地点で上記ベンチュリスロート
の接平面に対して３０°より小さい方向から、上記第１
流体の流れに方向づけている。
【００１７】
【発明の実施の形態】図を参照すると、図１は、吸気マ
ニホルド２と排気マニホルド３を備える内燃機関を示
す。第１排気ライン４は、排気マニホルド３からターボ
チャージャ７のタービン６を経由して出口５まで排気ガ
スを案内する。ターボチャージャコンプレッサ８は、入
口９から受け取った吸気ガス圧縮し、これを後置冷却器
１１経由で吸気ライン１０を通して吸気マニホルド２に
導入する。
【００１８】ＥＧＲ（排気ガス循環）システムは、排気
マニホルド３（または第１排気ガスライン４）から排気
ガスを受けとるＥＧＲガスライン１２を有し、これをＥ
ＧＲクーラ１３およびＥＧＲ制御バルブ１４経由で吸気
ガスライン１０に導入する。ＥＧＲガスの流れは、吸気
ライン１０に設けられたベンリュリ１５のスロートで吸
気ガスの流れに合流させられる。
【００１９】図１で記述されたエンジンとＥＧＲシステ
ムは、基礎的な構成要素を有する典型的なシステムの一
例である。この発明は、ＥＧＲガスの流れを、ベンチュ
リ１５で吸気ガスの流れに混合する特別な方法に関す
る。
【００２０】この発明の第１実施形態のベンチュリ１５
を、図２および図３に示す。これは、スロート１７の方
向に先細りになっている上流部分１６と、下流のディフ
ューザー部分１８とを有するベンチュリを示している。
吸気ガスがベンチュリを通って流れるとき、吸気ガスの
圧力は、流れが上流の先細りの部分１６で加速されるに
従って低下し、ベンチュリスロート１７で最小値に達す
る。そして、吸気ガスの圧力は、ガスが下流のディフュ
ーザー部分１８でゆっくり流れるに従って再び増大す
る。それゆえに、局所的に低い気圧が、ベンチュリスロ
ート１７で吸気ガスに作り出される。
【００２１】ＥＧＲガスは、正反対に位置する二つのＥ
ＧＲガス入口通路１９および２０を通して、ベンチュリ
のスロート１８で吸気ガスの流れに導入される。
【００２２】ＥＧＲガス入口通路１９および２０は、循
環排気ガスを、主要な吸気ガスの流れ方向に対して横向
きの方向でかつベンチュリスロート１７の接線の方向か
ら、ベンチュリに導入するように配置されている（入口
１９および２０の各々は、ＥＧＲガスを周方向の同じ向
きに導入している）。接線方向のＥＧＲガスの流れは、
ベンチュリのディフューザー１８を通って流れる混合ガ
スの流れに渦巻成分を与えている。これを、図４に示し
ている。
【００２３】主要な吸気ガスの流れに接するように循環
排気ガスを導入することは、幾つかの利点を提供する。
比較的高い向きを変える圧力が、循環排気ガスと主要な
吸気ガスの二つの流れが合流する地点に生じ、混合を促
進する。ベンチュリ１５のディフューザー部分１８での
渦巻動作によるガスの流れの経路の長さのかなり増加
は、混合を更に促進する。
【００２４】渦巻の更なる利点は、混合ガスの流れの拡
散を促進することである。渦巻成分がなければ、流れは
ディフューザー部分１８の壁から離れて流れる傾向があ
り、その結果エンジンに供給される吸気ガスの流れの圧
力に損失が生じることになる。しかしながら、渦巻によ
って生成された向心力は、流れをディフューザーの壁に
押し付け、拡散過程を促進して、圧力の損失を最小限に
する。この発明のテストは、円錐ディフューザーの流れ
に８°から１６°の向きをかえる成分を含ませることに
より、渦巻成分を持たない流れと比較して拡散過程がか
なり向上することを示している。
【００２５】図２および図３に示すこの発明の実施形態
では、ＥＧＲガス入口通路１９および２０は、ベンチュ
リスロート１７に導入するＥＧＲガスの接線特性を強化
する平坦な矩形形状を有している。しかしながら、単純
なチユ−ブパイプを含む他の入口形状を使用しても良い
ことは、理解されるだろう。実際、入口通路を、ベンチ
ュリスロート１７の接線方向に配置する必要はなく、入
口通路を、ＥＧＲガスの流れが、主要な吸気ガスの流れ
の接線方向に導かれるように備える必要はない。
【００２６】ＥＧＲガスの流れは、ベンチュリ１５に対
し少なくとも略接線方向になることが好まれるが、ＥＧ
Ｒガスの流れは、（ベンチュリの軸に対して）径方向の
成分を有していても良く、その状態でも従来技術の配置
よりも利点が提供される状態となっている。接線方向か
ら３０°までのより大きなずれは、満足する結果を与え
るかもしれないけれども、接線方向から５°よりも小さ
なずれが、好まれる。
【００２７】同様に、ＥＧＲガスの流れは、ベンチュリ
を通る主要な吸気ガスの流れに対し厳密に横方向になる
必要はなく、ベンチュリの軸に対して軸方向の成分を有
することができる。そのような軸方向成分は、渦巻効果
を減じるだろうと思われる。しかしながら、約４５°ま
での角度であれば、充分な渦巻が引き起こされ、従来技
術における配置よりもかなりの改良が提供される。
【００２８】ベンチュリ１５の形状に修正を加えてもい
いということは、理解されるだろう。例えば、先細りの
部分１６の角度およびディフューザー部分１８の角度
を、変化させても良く、スロート１７の長さを変化させ
ても良い。そのような修正は、熟練した人には明白であ
るだろう。
【００２９】また、ＥＧＲガス入口を、二つのＥＧＲガ
ス入口よりも少ないＥＧＲガス入口か、または、二つの
ＥＧＲガス入口よりも多いＥＧＲガス入口にしても良い
ということも理解される。異なる数のＥＧＲガス入口を
有するこの発明の他の実施形態、および、異なる形態の
ＥＧＲガス入口を有するこの発明の他の実施形態の幾つ
かが、図５から図８に示されている。
【００３０】図５は、一つの接線方向のＥＧＲガス入口
２２を備えたベンチュリスロート２１の断面図を示して
いる。図３および図４の二つの入口配置と比較したと
き、この配置の一つの欠点は、非対称性がガスの流れに
引き起こされて、その結果、混合ガスの流れがディフュ
ーザーの壁から離れて、ガスの流れに導入された渦巻の
有益な効果を減じることである。従って、正反対の位置
にＥＧＲガス入口を複数有することが好まれる。例え
ば、二組の正反対の位置に配置された四つのＥＧＲガス
入口を有する実施形態を、図６に示している。
【００３１】図７に、接線部分２６と、ベンチュリスロ
ート２５を取り囲む環状部分２７とを有するＥＧＲガス
入口を備えたベンチュリスロート２５の断面図を示す。
環状部分２７は、周方向にずらりとならんだノズルによ
って提供され、それら各々の角度は、ＥＧＲガスをベン
チュリスロートの略接線方向に方向づけている。この配
置の変形例として、図８に示すものがある。図８の配置
では、ＥＧＲ入口は、接線部分２８と、弓状部分２９と
を備え、この弓状部分２９は、ベンチュリスロート３０
を部分的に囲み、かつ、ＥＧＲガスをベンチュリスロー
トの接線方向に導く連続したノズル３１を有している。
【００３２】この発明の適用は、上においては排気ガス
再循環システムでされたけれども、この発明を、もっと
広く適用できることは認識されるだろう。すなわち、こ
の発明は、流体である気体または液体の流れを効率的に
混合する事を必要とするいかなる応用にも利用でき、例
えば、化学物質を混合するような場合に利用できる。そ
して、そのような応用においては、この発明は、二つよ
り多くの異なる流体の流れを混合するのに使用されるか
もしれず、例えば、図６の実施形態では、五つの異なっ
た流体の流れを一つの流れに混合することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 ターボチャージャエンジンとベンチュリを含
むＥＧＲシステムの概略図である。
【図２】 図１に示すＥＧＲシステムに組みこまれてい
るかもしれないこの発明の第１実施形態のベンチュリ配
置の図である。
【図３】 図２のベンチュリ配置のスロートの断面図で
ある。
【図４】 図２および図３に示すベンチュリで実現され
るガスの混合を示す図である。
【図５】 この発明の１実施形態のベンチュリ配置のス
ロートの断面図である。
【図６】 この発明の１実施形態のベンチュリ配置のス
ロートの断面図である。
【図７】 この発明の１実施形態のベンチュリ配置のス
ロートの断面図である。
【図８】 この発明の１実施形態のベンチュリ配置のス
ロートの断面図である。
【符号の説明】
４ 第１排気ライン １５ ベンチュリ １６ 先細り部分 １７ スロート １８ ディフューザー部分 １９,２０ ＥＧＲガス入口通路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リチャード・エバンズ イギリス、エイチディ１・６アールエイ、 ハッダーズフィールド、セント・アンドリ ュース・ロード、ホルセット・エンジニア リング・カンパニー・リミテッド内 Ｆターム(参考） 3G062 AA05 ED04 ED05 4G035 AB02 AC23

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 入口と出口の間の第１流体の流れを導く
    第１流体コンジットを備え、 また、上記入口と上記出口の間の上記第１流体コンジッ
    トに設けられたベンチュリを備え、このベンチュリは、
    直径が縮小されているスロートの方に向かって収束する
    上流の先細りの部分および上記出口の方に向かって上記
    スロートから発散する下流のディフューザー部分を有
    し、上記先細りの部分、上記スロートおよび上記ディフ
    ューザー部分は、中心軸の周りに形成されており、 また、第２流体の流れを上記第１流体の流れに合流させ
    るために、上記ベンチュリの上記スロートに連通してい
    る離散的な開口を有する少なくとも一つの混合入り口を
    備え、この結果、上記二つの流体の流れは、上記出口に
    向けて上記ベンチュリの上記ディフューザー部分を通る
    に従って次第に混合するようになり、 上記混合入口は、上記第２流体を、上記中心軸に対して
    ４５°から９０°の間の角度に配置された平面の方向
    で、かつ、上記混合入口の領域における上記ベンチュリ
    の上記スロートの接平面に対して３０°より小さい方向
    から、上記ベンチュリの上記スロートの内に導くような
    形状であることを特徴とする二つの流体の流れを一緒に
    混合するための装置。
  2. 【請求項２】 請求項１に記載の装置において、上記第
    ２流体の流れは、上記接平面から約５°より小さい角度
    で方向づけられていることを特徴とする装置。
  3. 【請求項３】 請求項２に記載の装置において、上記第
    ２流体の流れは、上記接平面と略平行に方向づけられて
    いることを特徴とする装置。
  4. 【請求項４】 請求項１乃至３のいずれか一つに記載の
    装置において、上記第２流体の流れは、上記中心軸に対
    し約６０°より大きい角度で方向づけられていることを
    特徴とする装置。
  5. 【請求項５】 請求項４に記載の装置において、上記第
    ２流体の流れは、上記中心軸に対し約８５°よりも大き
    い角度で方向づけられていることを特徴とする装置。
  6. 【請求項６】 請求項５に記載の装置において、上記第
    ２流体の流れは、上記中心軸に対し略横方向に方向づけ
    られていることを特徴とする装置。
  7. 【請求項７】 請求項１乃至６のいずれか１つに記載の
    装置において、一つあるいは複数の上記混合入口は、上
    記ベンチュリの上記スロートの壁に設けられた各開口を
    通じて上記ベンチュリと連通し、上記各開口は、上記ベ
    ンチュリの上記スロートの円周の１/４より小さい円周
    の広がりを有していることを特徴とする装置。
  8. 【請求項８】 請求項７に記載の装置において、一つあ
    るいは複数の上記混合入口は、上記ベンチュリの上記ス
    ロートの壁に設けられた各開口を通じて上記ベンチュリ
    と連通し、上記各開口は、上記ベンチュリの上記スロー
    トの円周の１/８より小さい円周の広がりを有している
    ことを特徴とする装置。
  9. 【請求項９】 請求項１乃至８のいずれか１つに記載の
    装置において、一つあるいは複数の上記混合入口は、上
    記ベンチュリの上記スロートの壁の開口を通して上記ベ
    ンチュリと連通し、上記開口は、円周方向の広がりより
    も大きな軸方向の広がりを有することを特徴とする装
    置。
  10. 【請求項１０】 請求項1乃至９のいずれか１つに記載
    の装置において、上記ベンチュリの上記スロートと連通
    する少なくとも一対の上記混合入口を、正反対の位置に
    備えることを特徴とする装置。
  11. 【請求項１１】 請求項１０に記載の装置において、上
    記ベンチュリの上記スロートの円周のまわりに二組の混
    合入口を備えることを特徴とする装置。
  12. 【請求項１２】 請求項１乃至１１に記載の装置におい
    て、一つあるいは複数の上記混合入口は、上記ベンチュ
    リの上記スロートの壁の開口と連通する略まっすぐなチ
    ューブ部分を備えることを特徴とする装置。
  13. 【請求項１３】 請求項１乃至６のいずれか１つに記載
    の装置において、上記混合入口は、少なくとも一部分が
    上記ベンチュリの上記スロートの円周のまわりに延びて
    いる弓状の通路を備え、この弓状の通路は、離間された
    複数の開口をを有し、上記第２流体の流れを、上記ベン
    チュリの上記スロートの円周上における上記一部分のま
    わりの異なる位置で、上記第１流体の流れに合流させる
    ことを特徴とする装置。
  14. 【請求項１４】 請求項１３に記載の装置において、上
    記弓状の通路に配置される複数のベーンを備え、上記第
    ２流体の流れを、円周上の隣同士の上記ベーンによって
    画定される開口を通じて方向づけることを特徴とする装
    置。
  15. 【請求項１５】 請求項１乃至１４に記載のいずれか１
    つに記載の装置を備え、上記第１流体コンジットはエン
    ジンの吸気ラインであり、上記混合入口は、上記エンジ
    ンの排気装置からの再循環排気ガスを受け取ることを特
    徴とする内燃機関のための排気ガス再循環システム。
  16. 【請求項１６】 小さな直径の方に向かって収束する上
    流の先細り部分と、出口に向かってスロートから発散す
    る下流のディフューザー部分とを有するベンチュリを備
    えている第１流体コンジットに第１流体を流す工程を備
    え、 また、第２流体の流れを、上記ベンチュリの上記スロー
    トの領域における離散的な開口を通じて上記第１流体の
    流れに統合する工程を備え、この工程で、これら二つの
    流れを、上記出口の方に向かって一緒に流すに従って、
    上記ベンチュリの拡散領域で混合するようにし、 上記第２流体の流れを、上記ベンチュリを通る上記第１
    流体の流れの方向に対し４５°から９０°の範囲の角度
    で配置された平面の方向、かつ、二つの流体の流れが合
    流する地点で上記ベンチュリの上記スロートの接平面に
    対し３０°より小さい方向から、上記第１流体の流れに
    方向づけることを特徴とする二つの流体の流れを一緒に
    混合するための方法。
  17. 【請求項１７】 内燃機関の排気ガス再循環システムに
    おける吸気ガスの流れと再循環される排気ガスの流れと
    を一緒に混合するための方法において、上記方法は、 直径が縮小されているスロートの方に向かって先細りと
    なる上流部分と、上記スロートから発散する下流のディ
    フューザー部分とを有するベンチュリを通じて吸気ガス
    の流れを流す工程と、 上記ベンチュリの上記スロートの領域で、一つあるいは
    二つ以上の混合入口を経由して、上記再循環排気ガスの
    流れを上記吸気ガスの流れに合流させる工程とを備え、 上記第２流体の流れを、上記ベンチュリを通る上記第１
    流体の流れの方向に対し４５°から９０°の範囲の角度
    で配置された平面の方向、かつ、二つの流体の流れが合
    流する地点で上記ベンチュリの上記スロートの接平面に
    対し３０°より小さい方向から、上記第１流体の流れに
    方向づけることを特徴とする内燃機関の排気ガス再循環
    システムにおける吸気ガスの流れと再循環される排気ガ
    スの流れとを一緒に混合するための方法。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008136641A1 (en) * 2007-05-08 2008-11-13 Xyvec Inc. Air supercharger and air supercharging system for engine
WO2009028802A2 (en) * 2007-08-28 2009-03-05 Xyvec Inc. Turbo charger
JP2009526646A (ja) * 2006-02-15 2009-07-23 エクシカ インコーポレイテッド ベンチュリ装置
JP2009203920A (ja) * 2008-02-28 2009-09-10 Denso Corp 吸気装置
JP2011106294A (ja) * 2009-11-12 2011-06-02 Mitsubishi Motors Corp 排気還流装置
JP2013194703A (ja) * 2012-03-22 2013-09-30 Isuzu Motors Ltd ベンチュリ
JP5640078B2 (ja) * 2010-03-31 2014-12-10 日本たばこ産業株式会社 エアロゾル粒子サンプリング装置
KR101758209B1 (ko) * 2015-11-06 2017-07-14 주식회사에이비테크 액―액 혼합 장치

Families Citing this family (362)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6742335B2 (en) * 2002-07-11 2004-06-01 Clean Air Power, Inc. EGR control system and method for an internal combustion engine
FR2861137B1 (fr) * 2003-10-16 2008-03-07 Renault Sa Dispositif et procede de preparation d'un melange homogene de fluides gazeux pour moteur
ITMI20040564A1 (it) * 2004-03-23 2004-06-23 Iveco Spa Dispositivo per la miscelazione di gas di scarico ricircolati ad un motore con l'aria di alimentazione e metodo di ricircolo dei gas di scarico
US7695275B2 (en) * 2004-06-02 2010-04-13 Fuel Management, Inc. Air:fluid distribution system and method
US7032578B2 (en) * 2004-09-21 2006-04-25 International Engine Intellectual Property Company, Llc Venturi mixing system for exhaust gas recirculation (EGR)
US7243641B2 (en) * 2005-08-18 2007-07-17 International Engine Intellectual Property Company, Llc Tangential mixer and method
FR2896546B1 (fr) * 2006-01-23 2012-12-21 Peugeot Citroen Automobiles Sa Dispositif de recyclage de gaz d'echappement d'un vehicule automobile
KR20080095843A (ko) * 2006-01-27 2008-10-29 보그워너 인코포레이티드 압축기로 들어가는 저압 ｅｇｒ 응축물의 혼합 유닛
FR2904057B1 (fr) * 2006-07-21 2008-10-03 Valeo Sys Controle Moteur Sas Circuit d'alimentation d'un moteur thermique avec mise en rotation des gaz et moteur thermique correspondant
FR2904056B1 (fr) * 2006-07-21 2010-12-03 Valeo Sys Controle Moteur Sas Moteur thermique avec circuit de recirculation mixte
FR2917131A1 (fr) * 2007-06-06 2008-12-12 Renault Sas Moteur a combustion interne comportant un dispositif apte a animer d'un mouvement tourbillonnaire ordonne les gaz d'echappement recircules injectes.
LU91355B1 (de) * 2007-08-14 2009-02-16 Luxembourg Patent Co Vorrichtung f}r die anreicherung eines fl}ssigkeitsstroms mit einem gas
KR100946963B1 (ko) 2008-04-02 2010-03-15 나현호 기포 발생 헤드 및 이를 구비하는 기포 발생기
US10378106B2 (en) 2008-11-14 2019-08-13 Asm Ip Holding B.V. Method of forming insulation film by modified PEALD
US9394608B2 (en) 2009-04-06 2016-07-19 Asm America, Inc. Semiconductor processing reactor and components thereof
US7886727B2 (en) * 2009-05-26 2011-02-15 Ford Global Technologies, Llc Variable venturi system and method for engine
US8802201B2 (en) 2009-08-14 2014-08-12 Asm America, Inc. Systems and methods for thin-film deposition of metal oxides using excited nitrogen-oxygen species
US9133793B2 (en) * 2010-12-22 2015-09-15 GM Global Technology Operations LLC Boosting devices with integral features for recirculating exhaust gas
US9217396B2 (en) 2010-12-22 2015-12-22 GM Global Technology Operations LLC Boosting devices with integral features for recirculating exhaust gas
US9205385B2 (en) * 2011-03-04 2015-12-08 Focus Products Group International, Llc Venturi apparatus with a fluid flow regulator valve
CN102797595A (zh) * 2011-05-25 2012-11-28 广西玉柴机器股份有限公司 柴油机egr系统
US9312155B2 (en) 2011-06-06 2016-04-12 Asm Japan K.K. High-throughput semiconductor-processing apparatus equipped with multiple dual-chamber modules
US10364496B2 (en) 2011-06-27 2019-07-30 Asm Ip Holding B.V. Dual section module having shared and unshared mass flow controllers
US10854498B2 (en) 2011-07-15 2020-12-01 Asm Ip Holding B.V. Wafer-supporting device and method for producing same
US20130023129A1 (en) 2011-07-20 2013-01-24 Asm America, Inc. Pressure transmitter for a semiconductor processing environment
CN102425724A (zh) * 2011-08-25 2012-04-25 厦门卓越生物质能源有限公司 生物柴油生产中尾气输送装置
US9017481B1 (en) 2011-10-28 2015-04-28 Asm America, Inc. Process feed management for semiconductor substrate processing
CN102679374B (zh) * 2012-05-10 2014-12-03 中昊晨光化工研究院 一种等离子体焚烧有机氟残液的装置和方法
US9558931B2 (en) 2012-07-27 2017-01-31 Asm Ip Holding B.V. System and method for gas-phase sulfur passivation of a semiconductor surface
US9659799B2 (en) 2012-08-28 2017-05-23 Asm Ip Holding B.V. Systems and methods for dynamic semiconductor process scheduling
US9021985B2 (en) 2012-09-12 2015-05-05 Asm Ip Holdings B.V. Process gas management for an inductively-coupled plasma deposition reactor
US10714315B2 (en) 2012-10-12 2020-07-14 Asm Ip Holdings B.V. Semiconductor reaction chamber showerhead
JP6363610B2 (ja) * 2012-10-26 2018-07-25 ブルー キューブ アイピー エルエルシー 混合器およびそれを組み込んだプロセス
US20160376700A1 (en) 2013-02-01 2016-12-29 Asm Ip Holding B.V. System for treatment of deposition reactor
ITRM20130103A1 (it) * 2013-02-22 2014-08-23 Piaggio & C Spa Sistema di aspirazione dell'aria e di ricircolo dei gas di scarico per un motore diesel
US9484191B2 (en) 2013-03-08 2016-11-01 Asm Ip Holding B.V. Pulsed remote plasma method and system
US9589770B2 (en) 2013-03-08 2017-03-07 Asm Ip Holding B.V. Method and systems for in-situ formation of intermediate reactive species
US8993054B2 (en) 2013-07-12 2015-03-31 Asm Ip Holding B.V. Method and system to reduce outgassing in a reaction chamber
US9240412B2 (en) 2013-09-27 2016-01-19 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor structure and device and methods of forming same using selective epitaxial process
US9422877B2 (en) 2013-10-11 2016-08-23 General Electric Company System and method for control of exhaust gas recirculation (EGR) utilizing process temperatures
US9605343B2 (en) 2013-11-13 2017-03-28 Asm Ip Holding B.V. Method for forming conformal carbon films, structures conformal carbon film, and system of forming same
US10683571B2 (en) * 2014-02-25 2020-06-16 Asm Ip Holding B.V. Gas supply manifold and method of supplying gases to chamber using same
US10167557B2 (en) 2014-03-18 2019-01-01 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system, reactor including the system, and methods of using the same
US11015245B2 (en) 2014-03-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof
DE102014004133A1 (de) * 2014-03-24 2015-09-24 Man Truck & Bus Ag Homogenisierungsvorrichtung für wenigstens zwei Fluidströme, insbesondere zur homogenen Gas-Luft-Vermischung bei einem Gasmotor
WO2016011115A1 (en) * 2014-07-17 2016-01-21 Dayco Ip Holdings, Llc Aspirated relief valve for a turbocharging system
US10858737B2 (en) 2014-07-28 2020-12-08 Asm Ip Holding B.V. Showerhead assembly and components thereof
US9890456B2 (en) 2014-08-21 2018-02-13 Asm Ip Holding B.V. Method and system for in situ formation of gas-phase compounds
US10941490B2 (en) 2014-10-07 2021-03-09 Asm Ip Holding B.V. Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same
US9657845B2 (en) 2014-10-07 2017-05-23 Asm Ip Holding B.V. Variable conductance gas distribution apparatus and method
KR102300403B1 (ko) 2014-11-19 2021-09-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법
RU2581630C1 (ru) * 2014-12-11 2016-04-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный технологический институт (технический университет)" Вихревой струйный аппарат для дегазации жидкостей
KR102263121B1 (ko) 2014-12-22 2021-06-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자 및 그 제조 방법
US10529542B2 (en) 2015-03-11 2020-01-07 Asm Ip Holdings B.V. Cross-flow reactor and method
US10276355B2 (en) 2015-03-12 2019-04-30 Asm Ip Holding B.V. Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same
KR20160147482A (ko) * 2015-06-15 2016-12-23 삼성전자주식회사 가스 혼합부를 갖는 반도체 소자 제조 설비
US10458018B2 (en) 2015-06-26 2019-10-29 Asm Ip Holding B.V. Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same
US10600673B2 (en) 2015-07-07 2020-03-24 Asm Ip Holding B.V. Magnetic susceptor to baseplate seal
US10043661B2 (en) 2015-07-13 2018-08-07 Asm Ip Holding B.V. Method for protecting layer by forming hydrocarbon-based extremely thin film
CN106334468A (zh) * 2015-07-16 2017-01-18 北京慧荣和科技有限公司 涡旋散射稀释器及暴露设备
US10083836B2 (en) 2015-07-24 2018-09-25 Asm Ip Holding B.V. Formation of boron-doped titanium metal films with high work function
US10087525B2 (en) 2015-08-04 2018-10-02 Asm Ip Holding B.V. Variable gap hard stop design
US9647114B2 (en) 2015-08-14 2017-05-09 Asm Ip Holding B.V. Methods of forming highly p-type doped germanium tin films and structures and devices including the films
EP3341615B1 (en) * 2015-08-28 2021-09-29 Dayco IP Holdings, LLC Restrictors using the venturi effect
US9960072B2 (en) 2015-09-29 2018-05-01 Asm Ip Holding B.V. Variable adjustment for precise matching of multiple chamber cavity housings
US10211308B2 (en) 2015-10-21 2019-02-19 Asm Ip Holding B.V. NbMC layers
US10322384B2 (en) 2015-11-09 2019-06-18 Asm Ip Holding B.V. Counter flow mixer for process chamber
US9627221B1 (en) 2015-12-28 2017-04-18 Asm Ip Holding B.V. Continuous process incorporating atomic layer etching
US11139308B2 (en) 2015-12-29 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices
US10529554B2 (en) 2016-02-19 2020-01-07 Asm Ip Holding B.V. Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches
US10468251B2 (en) 2016-02-19 2019-11-05 Asm Ip Holding B.V. Method for forming spacers using silicon nitride film for spacer-defined multiple patterning
US10501866B2 (en) 2016-03-09 2019-12-10 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution apparatus for improved film uniformity in an epitaxial system
US10343920B2 (en) 2016-03-18 2019-07-09 Asm Ip Holding B.V. Aligned carbon nanotubes
US9892913B2 (en) 2016-03-24 2018-02-13 Asm Ip Holding B.V. Radial and thickness control via biased multi-port injection settings
US10087522B2 (en) 2016-04-21 2018-10-02 Asm Ip Holding B.V. Deposition of metal borides
US10190213B2 (en) 2016-04-21 2019-01-29 Asm Ip Holding B.V. Deposition of metal borides
US10865475B2 (en) 2016-04-21 2020-12-15 Asm Ip Holding B.V. Deposition of metal borides and silicides
US10367080B2 (en) 2016-05-02 2019-07-30 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a germanium oxynitride film
US10032628B2 (en) 2016-05-02 2018-07-24 Asm Ip Holding B.V. Source/drain performance through conformal solid state doping
KR102592471B1 (ko) 2016-05-17 2023-10-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 금속 배선 형성 방법 및 이를 이용한 반도체 장치의 제조 방법
US11453943B2 (en) 2016-05-25 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor
CN109310048A (zh) * 2016-06-08 2019-02-05 耐特菲姆有限公司 注射器
US10388509B2 (en) 2016-06-28 2019-08-20 Asm Ip Holding B.V. Formation of epitaxial layers via dislocation filtering
US10612137B2 (en) 2016-07-08 2020-04-07 Asm Ip Holdings B.V. Organic reactants for atomic layer deposition
US9859151B1 (en) 2016-07-08 2018-01-02 Asm Ip Holding B.V. Selective film deposition method to form air gaps
US9793135B1 (en) 2016-07-14 2017-10-17 ASM IP Holding B.V Method of cyclic dry etching using etchant film
US10714385B2 (en) 2016-07-19 2020-07-14 Asm Ip Holding B.V. Selective deposition of tungsten
US10381226B2 (en) 2016-07-27 2019-08-13 Asm Ip Holding B.V. Method of processing substrate
US9887082B1 (en) 2016-07-28 2018-02-06 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US10177025B2 (en) 2016-07-28 2019-01-08 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
KR102532607B1 (ko) 2016-07-28 2023-05-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 가공 장치 및 그 동작 방법
US9812320B1 (en) 2016-07-28 2017-11-07 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US10395919B2 (en) 2016-07-28 2019-08-27 Asm Ip Holding B.V. Method and apparatus for filling a gap
US10090316B2 (en) 2016-09-01 2018-10-02 Asm Ip Holding B.V. 3D stacked multilayer semiconductor memory using doped select transistor channel
US10410943B2 (en) 2016-10-13 2019-09-10 Asm Ip Holding B.V. Method for passivating a surface of a semiconductor and related systems
CN107957068B (zh) * 2016-10-18 2024-05-28 艾欧史密斯(中国)热水器有限公司 文丘里管及其燃气设备
US10643826B2 (en) 2016-10-26 2020-05-05 Asm Ip Holdings B.V. Methods for thermally calibrating reaction chambers
US11532757B2 (en) 2016-10-27 2022-12-20 Asm Ip Holding B.V. Deposition of charge trapping layers
US10714350B2 (en) 2016-11-01 2020-07-14 ASM IP Holdings, B.V. Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures
US10643904B2 (en) 2016-11-01 2020-05-05 Asm Ip Holdings B.V. Methods for forming a semiconductor device and related semiconductor device structures
US10435790B2 (en) 2016-11-01 2019-10-08 Asm Ip Holding B.V. Method of subatmospheric plasma-enhanced ALD using capacitively coupled electrodes with narrow gap
US10229833B2 (en) 2016-11-01 2019-03-12 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures
US10134757B2 (en) 2016-11-07 2018-11-20 Asm Ip Holding B.V. Method of processing a substrate and a device manufactured by using the method
KR102546317B1 (ko) 2016-11-15 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
US10340135B2 (en) 2016-11-28 2019-07-02 Asm Ip Holding B.V. Method of topologically restricted plasma-enhanced cyclic deposition of silicon or metal nitride
KR20180068582A (ko) 2016-12-14 2018-06-22 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11447861B2 (en) 2016-12-15 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure
US9916980B1 (en) 2016-12-15 2018-03-13 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US11581186B2 (en) 2016-12-15 2023-02-14 Asm Ip Holding B.V. Sequential infiltration synthesis apparatus
KR20180070971A (ko) 2016-12-19 2018-06-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US10269558B2 (en) 2016-12-22 2019-04-23 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US10867788B2 (en) 2016-12-28 2020-12-15 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a structure on a substrate
US11390950B2 (en) 2017-01-10 2022-07-19 Asm Ip Holding B.V. Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process
US10655221B2 (en) 2017-02-09 2020-05-19 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing oxide film by thermal ALD and PEALD
US10468261B2 (en) 2017-02-15 2019-11-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US10283353B2 (en) 2017-03-29 2019-05-07 Asm Ip Holding B.V. Method of reforming insulating film deposited on substrate with recess pattern
US10529563B2 (en) 2017-03-29 2020-01-07 Asm Ip Holdings B.V. Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures
US10103040B1 (en) 2017-03-31 2018-10-16 Asm Ip Holding B.V. Apparatus and method for manufacturing a semiconductor device
USD830981S1 (en) 2017-04-07 2018-10-16 Asm Ip Holding B.V. Susceptor for semiconductor substrate processing apparatus
KR102457289B1 (ko) 2017-04-25 2022-10-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법
US10770286B2 (en) 2017-05-08 2020-09-08 Asm Ip Holdings B.V. Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US10892156B2 (en) 2017-05-08 2021-01-12 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures
US10446393B2 (en) 2017-05-08 2019-10-15 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming silicon-containing epitaxial layers and related semiconductor device structures
US10504742B2 (en) 2017-05-31 2019-12-10 Asm Ip Holding B.V. Method of atomic layer etching using hydrogen plasma
US10886123B2 (en) 2017-06-02 2021-01-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming low temperature semiconductor layers and related semiconductor device structures
US11306395B2 (en) 2017-06-28 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus
US10685834B2 (en) 2017-07-05 2020-06-16 Asm Ip Holdings B.V. Methods for forming a silicon germanium tin layer and related semiconductor device structures
KR20190009245A (ko) 2017-07-18 2019-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물
US10541333B2 (en) 2017-07-19 2020-01-21 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US11374112B2 (en) 2017-07-19 2022-06-28 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US11018002B2 (en) 2017-07-19 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures
US10605530B2 (en) 2017-07-26 2020-03-31 Asm Ip Holding B.V. Assembly of a liner and a flange for a vertical furnace as well as the liner and the vertical furnace
US10590535B2 (en) 2017-07-26 2020-03-17 Asm Ip Holdings B.V. Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same
US10312055B2 (en) 2017-07-26 2019-06-04 Asm Ip Holding B.V. Method of depositing film by PEALD using negative bias
US20190040824A1 (en) * 2017-08-03 2019-02-07 GM Global Technology Operations LLC Long route-egr connection for compressor inlet swirl control
US10770336B2 (en) 2017-08-08 2020-09-08 Asm Ip Holding B.V. Substrate lift mechanism and reactor including same
US10692741B2 (en) 2017-08-08 2020-06-23 Asm Ip Holdings B.V. Radiation shield
US11769682B2 (en) 2017-08-09 2023-09-26 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US11139191B2 (en) 2017-08-09 2021-10-05 Asm Ip Holding B.V. Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith
US10249524B2 (en) 2017-08-09 2019-04-02 Asm Ip Holding B.V. Cassette holder assembly for a substrate cassette and holding member for use in such assembly
US10236177B1 (en) 2017-08-22 2019-03-19 ASM IP Holding B.V.. Methods for depositing a doped germanium tin semiconductor and related semiconductor device structures
USD900036S1 (en) 2017-08-24 2020-10-27 Asm Ip Holding B.V. Heater electrical connector and adapter
US11830730B2 (en) 2017-08-29 2023-11-28 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
US11056344B2 (en) 2017-08-30 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method
KR102491945B1 (ko) 2017-08-30 2023-01-26 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11295980B2 (en) 2017-08-30 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
KR102401446B1 (ko) 2017-08-31 2022-05-24 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US10607895B2 (en) 2017-09-18 2020-03-31 Asm Ip Holdings B.V. Method for forming a semiconductor device structure comprising a gate fill metal
KR102630301B1 (ko) 2017-09-21 2024-01-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 침투성 재료의 순차 침투 합성 방법 처리 및 이를 이용하여 형성된 구조물 및 장치
US10844484B2 (en) 2017-09-22 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
US10658205B2 (en) 2017-09-28 2020-05-19 Asm Ip Holdings B.V. Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber
US10403504B2 (en) 2017-10-05 2019-09-03 Asm Ip Holding B.V. Method for selectively depositing a metallic film on a substrate
US10319588B2 (en) 2017-10-10 2019-06-11 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a metal chalcogenide on a substrate by cyclical deposition
US10923344B2 (en) 2017-10-30 2021-02-16 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures
KR102443047B1 (ko) 2017-11-16 2022-09-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 방법 및 그에 의해 제조된 장치
US10910262B2 (en) 2017-11-16 2021-02-02 Asm Ip Holding B.V. Method of selectively depositing a capping layer structure on a semiconductor device structure
US11022879B2 (en) 2017-11-24 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer
KR102633318B1 (ko) 2017-11-27 2024-02-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 청정 소형 구역을 포함한 장치
WO2019103613A1 (en) 2017-11-27 2019-05-31 Asm Ip Holding B.V. A storage device for storing wafer cassettes for use with a batch furnace
US10290508B1 (en) 2017-12-05 2019-05-14 Asm Ip Holding B.V. Method for forming vertical spacers for spacer-defined patterning
US10872771B2 (en) 2018-01-16 2020-12-22 Asm Ip Holding B. V. Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures
US11482412B2 (en) 2018-01-19 2022-10-25 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a gap-fill layer by plasma-assisted deposition
TW202325889A (zh) 2018-01-19 2023-07-01 荷蘭商Ａｓｍ 智慧財產控股公司 沈積方法
USD903477S1 (en) 2018-01-24 2020-12-01 Asm Ip Holdings B.V. Metal clamp
US11018047B2 (en) 2018-01-25 2021-05-25 Asm Ip Holding B.V. Hybrid lift pin
USD880437S1 (en) 2018-02-01 2020-04-07 Asm Ip Holding B.V. Gas supply plate for semiconductor manufacturing apparatus
US10535516B2 (en) 2018-02-01 2020-01-14 Asm Ip Holdings B.V. Method for depositing a semiconductor structure on a surface of a substrate and related semiconductor structures
US11081345B2 (en) 2018-02-06 2021-08-03 Asm Ip Holding B.V. Method of post-deposition treatment for silicon oxide film
US10896820B2 (en) 2018-02-14 2021-01-19 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
EP3737779A1 (en) 2018-02-14 2020-11-18 ASM IP Holding B.V. A method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process
US10731249B2 (en) 2018-02-15 2020-08-04 Asm Ip Holding B.V. Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus
US10658181B2 (en) 2018-02-20 2020-05-19 Asm Ip Holding B.V. Method of spacer-defined direct patterning in semiconductor fabrication
KR102636427B1 (ko) 2018-02-20 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 장치
US10975470B2 (en) 2018-02-23 2021-04-13 Asm Ip Holding B.V. Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment
US11473195B2 (en) 2018-03-01 2022-10-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate
US11629406B2 (en) 2018-03-09 2023-04-18 Asm Ip Holding B.V. Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate
US11114283B2 (en) 2018-03-16 2021-09-07 Asm Ip Holding B.V. Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same
KR102646467B1 (ko) 2018-03-27 2024-03-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조
US11088002B2 (en) 2018-03-29 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate rack and a substrate processing system and method
US10510536B2 (en) 2018-03-29 2019-12-17 Asm Ip Holding B.V. Method of depositing a co-doped polysilicon film on a surface of a substrate within a reaction chamber
US11230766B2 (en) 2018-03-29 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR102501472B1 (ko) 2018-03-30 2023-02-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법
WO2019204877A1 (en) * 2018-04-27 2019-10-31 Gasapps Australia Pty Ltd Gas supply system
TWI811348B (zh) 2018-05-08 2023-08-11 荷蘭商Ａｓｍ 智慧財產控股公司 藉由循環沉積製程於基板上沉積氧化物膜之方法及相關裝置結構
TWI816783B (zh) 2018-05-11 2023-10-01 荷蘭商Ａｓｍ 智慧財產控股公司 用於基板上形成摻雜金屬碳化物薄膜之方法及相關半導體元件結構
KR102596988B1 (ko) 2018-05-28 2023-10-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치
US11718913B2 (en) 2018-06-04 2023-08-08 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution system and reactor system including same
US11270899B2 (en) 2018-06-04 2022-03-08 Asm Ip Holding B.V. Wafer handling chamber with moisture reduction
US11286562B2 (en) 2018-06-08 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Gas-phase chemical reactor and method of using same
KR102568797B1 (ko) 2018-06-21 2023-08-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 시스템
US10797133B2 (en) 2018-06-21 2020-10-06 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures
KR20210027265A (ko) 2018-06-27 2021-03-10 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 금속 함유 재료를 형성하기 위한 주기적 증착 방법 및 금속 함유 재료를 포함하는 막 및 구조체
US11492703B2 (en) 2018-06-27 2022-11-08 Asm Ip Holding B.V. Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material
US10612136B2 (en) 2018-06-29 2020-04-07 ASM IP Holding, B.V. Temperature-controlled flange and reactor system including same
KR20200002519A (ko) 2018-06-29 2020-01-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법
US10755922B2 (en) 2018-07-03 2020-08-25 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US10388513B1 (en) 2018-07-03 2019-08-20 Asm Ip Holding B.V. Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition
US10767789B2 (en) 2018-07-16 2020-09-08 Asm Ip Holding B.V. Diaphragm valves, valve components, and methods for forming valve components
US10483099B1 (en) 2018-07-26 2019-11-19 Asm Ip Holding B.V. Method for forming thermally stable organosilicon polymer film
US11053591B2 (en) 2018-08-06 2021-07-06 Asm Ip Holding B.V. Multi-port gas injection system and reactor system including same
US10883175B2 (en) 2018-08-09 2021-01-05 Asm Ip Holding B.V. Vertical furnace for processing substrates and a liner for use therein
US10829852B2 (en) 2018-08-16 2020-11-10 Asm Ip Holding B.V. Gas distribution device for a wafer processing apparatus
CN109046050A (zh) * 2018-08-17 2018-12-21 无锡伟思博润科技有限公司 一种气液混合器
US11430674B2 (en) 2018-08-22 2022-08-30 Asm Ip Holding B.V. Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods
KR20200030162A (ko) 2018-09-11 2020-03-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 증착 방법
US11024523B2 (en) 2018-09-11 2021-06-01 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
US11049751B2 (en) 2018-09-14 2021-06-29 Asm Ip Holding B.V. Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith
CN110970344A (zh) 2018-10-01 2020-04-07 Asm Ip控股有限公司 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法
US11232963B2 (en) 2018-10-03 2022-01-25 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus and method
KR102592699B1 (ko) 2018-10-08 2023-10-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치
US10847365B2 (en) 2018-10-11 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Method of forming conformal silicon carbide film by cyclic CVD
US10811256B2 (en) 2018-10-16 2020-10-20 Asm Ip Holding B.V. Method for etching a carbon-containing feature
KR102546322B1 (ko) 2018-10-19 2023-06-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
KR102605121B1 (ko) 2018-10-19 2023-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
USD948463S1 (en) 2018-10-24 2022-04-12 Asm Ip Holding B.V. Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus
US10381219B1 (en) 2018-10-25 2019-08-13 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a silicon nitride film
US11087997B2 (en) 2018-10-31 2021-08-10 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing apparatus for processing substrates
KR20200051105A (ko) 2018-11-02 2020-05-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
US11572620B2 (en) 2018-11-06 2023-02-07 Asm Ip Holding B.V. Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate
US11031242B2 (en) 2018-11-07 2021-06-08 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a boron doped silicon germanium film
US10847366B2 (en) 2018-11-16 2020-11-24 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process
US10818758B2 (en) 2018-11-16 2020-10-27 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures
US10559458B1 (en) 2018-11-26 2020-02-11 Asm Ip Holding B.V. Method of forming oxynitride film
US11217444B2 (en) 2018-11-30 2022-01-04 Asm Ip Holding B.V. Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film
CN111001323A (zh) * 2018-12-04 2020-04-14 杭州临安惠通玻璃钢有限公司 一种玻璃钢引射混合器
KR102636428B1 (ko) 2018-12-04 2024-02-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치를 세정하는 방법
US11158513B2 (en) 2018-12-13 2021-10-26 Asm Ip Holding B.V. Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures
TW202037745A (zh) 2018-12-14 2020-10-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 形成裝置結構之方法、其所形成之結構及施行其之系統
WO2020131214A1 (en) * 2018-12-20 2020-06-25 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for supplying improved gas flow to a processing volume of a processing chamber
CN109499414A (zh) * 2019-01-14 2019-03-22 西安交通大学 一种使流体混合更加充分的文丘里混合器
CN109499412B (zh) * 2019-01-14 2024-02-02 西安交通大学 一种喉部可变径的文丘里管
TW202405220A (zh) 2019-01-17 2024-02-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ 私人控股有限公司 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法
KR20200091543A (ko) 2019-01-22 2020-07-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
CN111524788B (zh) 2019-02-01 2023-11-24 Asm Ip私人控股有限公司 氧化硅的拓扑选择性膜形成的方法
KR102626263B1 (ko) 2019-02-20 2024-01-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치
TW202044325A (zh) 2019-02-20 2020-12-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 填充一基板之一表面內所形成的一凹槽的方法、根據其所形成之半導體結構、及半導體處理設備
CN111593319B (zh) 2019-02-20 2023-05-30 Asm Ip私人控股有限公司 用于填充在衬底表面内形成的凹部的循环沉积方法和设备
KR20200102357A (ko) 2019-02-20 2020-08-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 3-d nand 응용의 플러그 충진체 증착용 장치 및 방법
JP2020133004A (ja) 2019-02-22 2020-08-31 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 基材を処理するための基材処理装置および方法
KR20200108242A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체
KR20200108243A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. SiOC 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법
KR20200108248A (ko) 2019-03-08 2020-09-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. SiOCN 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법
KR20200116033A (ko) 2019-03-28 2020-10-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 도어 개방기 및 이를 구비한 기판 처리 장치
KR20200116855A (ko) 2019-04-01 2020-10-13 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반도체 소자를 제조하는 방법
US11447864B2 (en) 2019-04-19 2022-09-20 Asm Ip Holding B.V. Layer forming method and apparatus
KR20200125453A (ko) 2019-04-24 2020-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
KR20200130118A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법
KR20200130121A (ko) 2019-05-07 2020-11-18 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기
KR20200130652A (ko) 2019-05-10 2020-11-19 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조
JP2020188255A (ja) 2019-05-16 2020-11-19 エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ． ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
JP2020188254A (ja) 2019-05-16 2020-11-19 エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ． ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法
USD975665S1 (en) 2019-05-17 2023-01-17 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD947913S1 (en) 2019-05-17 2022-04-05 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
USD935572S1 (en) 2019-05-24 2021-11-09 Asm Ip Holding B.V. Gas channel plate
FI128516B (en) * 2019-05-24 2020-06-30 Proventia Oy Mixing arrangement and method for exhaust gas treatment
USD922229S1 (en) 2019-06-05 2021-06-15 Asm Ip Holding B.V. Device for controlling a temperature of a gas supply unit
KR20200141002A (ko) 2019-06-06 2020-12-17 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 배기 가스 분석을 포함한 기상 반응기 시스템을 사용하는 방법
KR20200143254A (ko) 2019-06-11 2020-12-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조
USD944946S1 (en) 2019-06-14 2022-03-01 Asm Ip Holding B.V. Shower plate
USD931978S1 (en) 2019-06-27 2021-09-28 Asm Ip Holding B.V. Showerhead vacuum transport
KR20210005515A (ko) 2019-07-03 2021-01-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법
CN110251776A (zh) * 2019-07-05 2019-09-20 联众智慧科技股份有限公司 一种护士站报警管理系统
JP7499079B2 (ja) 2019-07-09 2024-06-13 エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法
CN112216646A (zh) 2019-07-10 2021-01-12 Asm Ip私人控股有限公司 基板支撑组件及包括其的基板处理装置
KR20210010307A (ko) 2019-07-16 2021-01-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
KR20210010816A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법
KR20210010820A (ko) 2019-07-17 2021-01-28 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법
US11643724B2 (en) 2019-07-18 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Method of forming structures using a neutral beam
CN112242296A (zh) 2019-07-19 2021-01-19 Asm Ip私人控股有限公司 形成拓扑受控的无定形碳聚合物膜的方法
TW202113936A (zh) 2019-07-29 2021-04-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於利用n型摻雜物及/或替代摻雜物選擇性沉積以達成高摻雜物併入之方法
CN112309900A (zh) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112309899A (zh) 2019-07-30 2021-02-02 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
US11587814B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11587815B2 (en) 2019-07-31 2023-02-21 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
US11227782B2 (en) 2019-07-31 2022-01-18 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly
CN112323048B (zh) 2019-08-05 2024-02-09 Asm Ip私人控股有限公司 用于化学源容器的液位传感器
USD965524S1 (en) 2019-08-19 2022-10-04 Asm Ip Holding B.V. Susceptor support
USD965044S1 (en) 2019-08-19 2022-09-27 Asm Ip Holding B.V. Susceptor shaft
JP2021031769A (ja) 2019-08-21 2021-03-01 エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ． 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置
USD949319S1 (en) 2019-08-22 2022-04-19 Asm Ip Holding B.V. Exhaust duct
KR20210024423A (ko) 2019-08-22 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법
USD940837S1 (en) 2019-08-22 2022-01-11 Asm Ip Holding B.V. Electrode
USD979506S1 (en) 2019-08-22 2023-02-28 Asm Ip Holding B.V. Insulator
USD930782S1 (en) 2019-08-22 2021-09-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor
US11286558B2 (en) 2019-08-23 2022-03-29 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film
KR20210024420A (ko) 2019-08-23 2021-03-05 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법
KR20210029090A (ko) 2019-09-04 2021-03-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법
KR20210029663A (ko) 2019-09-05 2021-03-16 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
US11562901B2 (en) 2019-09-25 2023-01-24 Asm Ip Holding B.V. Substrate processing method
CN112593212B (zh) 2019-10-02 2023-12-22 Asm Ip私人控股有限公司 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法
CN112635282A (zh) 2019-10-08 2021-04-09 Asm Ip私人控股有限公司 具有连接板的基板处理装置、基板处理方法
KR20210042810A (ko) 2019-10-08 2021-04-20 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 활성 종을 이용하기 위한 가스 분배 어셈블리를 포함한 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법
KR20210043460A (ko) 2019-10-10 2021-04-21 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 포토레지스트 하부층을 형성하기 위한 방법 및 이를 포함한 구조체
US12009241B2 (en) 2019-10-14 2024-06-11 Asm Ip Holding B.V. Vertical batch furnace assembly with detector to detect cassette
TWI834919B (zh) 2019-10-16 2024-03-11 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 氧化矽之拓撲選擇性膜形成之方法
US11637014B2 (en) 2019-10-17 2023-04-25 Asm Ip Holding B.V. Methods for selective deposition of doped semiconductor material
KR20210047808A (ko) 2019-10-21 2021-04-30 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법
KR20210050453A (ko) 2019-10-25 2021-05-07 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 표면 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조
US11646205B2 (en) 2019-10-29 2023-05-09 Asm Ip Holding B.V. Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same
KR20210054983A (ko) 2019-11-05 2021-05-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템
KR102658128B1 (ko) * 2019-11-07 2024-04-16 엘지전자 주식회사 가스 퍼니스
US11501968B2 (en) 2019-11-15 2022-11-15 Asm Ip Holding B.V. Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps
KR20210062561A (ko) 2019-11-20 2021-05-31 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템
KR20210065848A (ko) 2019-11-26 2021-06-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 제1 유전체 표면과 제2 금속성 표면을 포함한 기판 상에 타겟 막을 선택적으로 형성하기 위한 방법
CN112951697A (zh) 2019-11-26 2021-06-11 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112885693A (zh) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
CN112885692A (zh) 2019-11-29 2021-06-01 Asm Ip私人控股有限公司 基板处理设备
JP2021090042A (ja) 2019-12-02 2021-06-10 エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ． 基板処理装置、基板処理方法
KR20210070898A (ko) 2019-12-04 2021-06-15 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치
TW202125596A (zh) 2019-12-17 2021-07-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 形成氮化釩層之方法以及包括該氮化釩層之結構
US11527403B2 (en) 2019-12-19 2022-12-13 Asm Ip Holding B.V. Methods for filling a gap feature on a substrate surface and related semiconductor structures
TW202140135A (zh) 2020-01-06 2021-11-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 氣體供應總成以及閥板總成
US11993847B2 (en) 2020-01-08 2024-05-28 Asm Ip Holding B.V. Injector
US11551912B2 (en) 2020-01-20 2023-01-10 Asm Ip Holding B.V. Method of forming thin film and method of modifying surface of thin film
TW202130846A (zh) 2020-02-03 2021-08-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 形成包括釩或銦層的結構之方法
TW202146882A (zh) 2020-02-04 2021-12-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 驗證一物品之方法、用於驗證一物品之設備、及用於驗證一反應室之系統
US11776846B2 (en) 2020-02-07 2023-10-03 Asm Ip Holding B.V. Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices
TW202146715A (zh) 2020-02-17 2021-12-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於生長磷摻雜矽層之方法及其系統
TW202203344A (zh) 2020-02-28 2022-01-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ控股公司 專用於零件清潔的系統
US11876356B2 (en) 2020-03-11 2024-01-16 Asm Ip Holding B.V. Lockout tagout assembly and system and method of using same
KR20210116240A (ko) 2020-03-11 2021-09-27 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치
CN113394086A (zh) 2020-03-12 2021-09-14 Asm Ip私人控股有限公司 用于制造具有目标拓扑轮廓的层结构的方法
KR20210124042A (ko) 2020-04-02 2021-10-14 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 박막 형성 방법
TW202146689A (zh) 2020-04-03 2021-12-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ控股公司 阻障層形成方法及半導體裝置的製造方法
TW202145344A (zh) 2020-04-08 2021-12-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法
US11821078B2 (en) 2020-04-15 2023-11-21 Asm Ip Holding B.V. Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film
US11996289B2 (en) 2020-04-16 2024-05-28 Asm Ip Holding B.V. Methods of forming structures including silicon germanium and silicon layers, devices formed using the methods, and systems for performing the methods
GB2594078A (en) * 2020-04-16 2021-10-20 Edwards Ltd Flammable gas dilution
KR20210132605A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 냉각 가스 공급부를 포함한 수직형 배치 퍼니스 어셈블리
US11898243B2 (en) 2020-04-24 2024-02-13 Asm Ip Holding B.V. Method of forming vanadium nitride-containing layer
KR20210132600A (ko) 2020-04-24 2021-11-04 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템
KR20210134226A (ko) 2020-04-29 2021-11-09 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 고체 소스 전구체 용기
KR20210134869A (ko) 2020-05-01 2021-11-11 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환
KR20210141379A (ko) 2020-05-13 2021-11-23 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 반응기 시스템용 레이저 정렬 고정구
TW202147383A (zh) 2020-05-19 2021-12-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 基材處理設備
KR20210145078A (ko) 2020-05-21 2021-12-01 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법
TW202200837A (zh) 2020-05-22 2022-01-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於在基材上形成薄膜之反應系統
TW202201602A (zh) 2020-05-29 2022-01-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 基板處理方法
CN111613349B (zh) * 2020-05-29 2023-08-08 上海交通大学 基于流体自振荡和微界面强化的微量气体脱除装置及方法
TW202218133A (zh) 2020-06-24 2022-05-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 形成含矽層之方法
TW202217953A (zh) 2020-06-30 2022-05-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 基板處理方法
TW202202649A (zh) 2020-07-08 2022-01-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 基板處理方法
TW202219628A (zh) 2020-07-17 2022-05-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於光微影之結構與方法
TW202204662A (zh) 2020-07-20 2022-02-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於沉積鉬層之方法及系統
TW202212623A (zh) 2020-08-26 2022-04-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 形成金屬氧化矽層及金屬氮氧化矽層的方法、半導體結構、及系統
USD990534S1 (en) 2020-09-11 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Weighted lift pin
USD1012873S1 (en) 2020-09-24 2024-01-30 Asm Ip Holding B.V. Electrode for semiconductor processing apparatus
US12009224B2 (en) 2020-09-29 2024-06-11 Asm Ip Holding B.V. Apparatus and method for etching metal nitrides
TW202229613A (zh) 2020-10-14 2022-08-01 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 於階梯式結構上沉積材料的方法
KR20220053482A (ko) 2020-10-22 2022-04-29 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 바나듐 금속을 증착하는 방법, 구조체, 소자 및 증착 어셈블리
TW202223136A (zh) 2020-10-28 2022-06-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統
KR20220076343A (ko) 2020-11-30 2022-06-08 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. 기판 처리 장치의 반응 챔버 내에 배열되도록 구성된 인젝터
KR20220076607A (ko) * 2020-12-01 2022-06-08 엘지전자 주식회사 엔진시스템
CN114639631A (zh) 2020-12-16 2022-06-17 Asm Ip私人控股有限公司 跳动和摆动测量固定装置
TW202231903A (zh) 2020-12-22 2022-08-16 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成
USD981973S1 (en) 2021-05-11 2023-03-28 Asm Ip Holding B.V. Reactor wall for substrate processing apparatus
USD980813S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate for substrate processing apparatus
USD1023959S1 (en) 2021-05-11 2024-04-23 Asm Ip Holding B.V. Electrode for substrate processing apparatus
USD980814S1 (en) 2021-05-11 2023-03-14 Asm Ip Holding B.V. Gas distributor for substrate processing apparatus
USD990441S1 (en) 2021-09-07 2023-06-27 Asm Ip Holding B.V. Gas flow control plate
CN117999417A (zh) * 2021-09-17 2024-05-07 塞缪尔·康 涡轮辅助文丘里管混合器
CN113702270A (zh) * 2021-11-01 2021-11-26 碧兴物联科技(深圳)股份有限公司 一种基于文丘里效应的气溶胶鞘流检测结构

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3665949A (en) * 1969-06-27 1972-05-30 Bendix Corp Gaseous controlled fluidic throttling valve
DE7601034U1 (de) * 1976-01-16 1979-01-11 Wiegand Karlsruhe Gmbh, 7505 Ettlingen Direkt-dampf-injektionsgeraet
US4130388A (en) * 1976-09-15 1978-12-19 Flynn Burner Corporation Non-contaminating fuel burner
US4828768A (en) * 1983-06-10 1989-05-09 Chevron Research Company Jet scrubber and method of operation
US4913856A (en) * 1988-02-04 1990-04-03 Dri-Steem Humidifier Company Humidifier system
US5385467A (en) * 1990-07-06 1995-01-31 Worgas Bruciatori S.R.L. Methods and apparatus for gas combustion
GB9407257D0 (en) * 1993-04-22 1994-06-08 Ici Plc Vaporisation of liquids
JPH1077912A (ja) * 1996-08-30 1998-03-24 Mitsubishi Motors Corp 排気ガス還流装置
IT1291509B1 (it) * 1997-02-11 1999-01-11 Fiat Ricerche Motore a combustione a ciclo diesel, con ricircolo dei gas di scarico, provvisto di dispositivo miscelatore dei gas di ricircolo.
JP3528517B2 (ja) * 1997-05-30 2004-05-17 日産自動車株式会社 エンジンの排気ガス還流装置
US6120008A (en) * 1998-04-28 2000-09-19 Life International Products, Inc. Oxygenating apparatus, method for oxygenating a liquid therewith, and applications thereof
AT4388U1 (de) * 1999-11-03 2001-06-25 Avl List Gmbh Verdampfungselement zum eindampfen einer flüssigkeit in ein gas
US6267106B1 (en) * 1999-11-09 2001-07-31 Caterpillar Inc. Induction venturi for an exhaust gas recirculation system in an internal combustion engine

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009526646A (ja) * 2006-02-15 2009-07-23 エクシカ インコーポレイテッド ベンチュリ装置
WO2008136641A1 (en) * 2007-05-08 2008-11-13 Xyvec Inc. Air supercharger and air supercharging system for engine
WO2009028802A2 (en) * 2007-08-28 2009-03-05 Xyvec Inc. Turbo charger
WO2009028802A3 (en) * 2007-08-28 2009-04-23 Xyvec Inc Turbo charger
JP2009203920A (ja) * 2008-02-28 2009-09-10 Denso Corp 吸気装置
JP2011106294A (ja) * 2009-11-12 2011-06-02 Mitsubishi Motors Corp 排気還流装置
JP5640078B2 (ja) * 2010-03-31 2014-12-10 日本たばこ産業株式会社 エアロゾル粒子サンプリング装置
JP2013194703A (ja) * 2012-03-22 2013-09-30 Isuzu Motors Ltd ベンチュリ
KR101758209B1 (ko) * 2015-11-06 2017-07-14 주식회사에이비테크 액―액 혼합 장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20020092835A (ko) 2002-12-12
GB0113735D0 (en) 2001-07-25
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CN1405443A (zh) 2003-03-26
US20030015596A1 (en) 2003-01-23

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