JP2002535482A - 物質製造 - Google Patents

物質製造

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JP2002535482A
JP2002535482A JP2000593789A JP2000593789A JP2002535482A JP 2002535482 A JP2002535482 A JP 2002535482A JP 2000593789 A JP2000593789 A JP 2000593789A JP 2000593789 A JP2000593789 A JP 2000593789A JP 2002535482 A JP2002535482 A JP 2002535482A
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aerosol
substrate
nozzle unit
electrode
outlet
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JP2000593789A
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English (en)
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クァン−リオン コイ,
ジュンファ メイ,
ボー スー,
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Imperial College of Science Technology and Medicine
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Imperial College of Science Technology and Medicine
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4486Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by producing an aerosol and subsequent evaporation of the droplets or particles

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、(i)基板上に、物質、好ましくはフィルムを蒸着させるため以下:基板(5)を提供し、加熱する工程;物質溶液の小滴を含むエアロゾルを生成する工程;エアロゾルの定方向流が送達される少なくとも1つの出口(18)および少なくとも1つの電極(21)を備える、エアロゾルを送達するためノズルユニット(11)を提供する工程;正または負の電荷でこのエアロゾル小滴を荷電する工程;出口からエアロゾルの定方向流を送達するためノズルユニットを通じるエアロゾルの流れを提供する工程;ならびに、定方向エアロゾル流が基板に向かって引きつけられるように、この基板と少なくとも1つの電極との間に電場を生成する工程、を包含する方法および装置、ならびに(ii)上記の工程を包含するが、エアロゾル小滴が、粉末を形成するように、気相中で均一に反応する、粉末、好ましくは超微細粉末を製造するための方法および装置、を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、物質(好ましくは、フィルム)を基板上に蒸着させる方法およびそ
のための装置、ならびに粉末(好ましくは、超微細粉末)を作製する方法および
そのための装置に関する。
【0002】 物質フィルム(特に、セラミックフィルム)は、広範にわたる構造的応用およ
び機能的応用を有する。これらの異なる応用は、しばしば、異なる厚さのフィル
ムを必要とするが、薄いフィルム(代表的には1μm未満の厚さを有するフィル
ム)および厚いフィルム(代表的には10μmより厚い厚さを有するフィルム)
の両方を蒸着させるための、商業的に費用効率のよい単一のフィルムまたはコー
ティング蒸着技術は、存在しない。
【0003】 蒸気処理技術(化学蒸着(CVD)および物理蒸着(PVD)を含む)は、薄
いフィルムを作製するために使用されているが、その遅い蒸着速度および高価な
設備に起因して、大きな面積の厚いフィルムの蒸着には適さない。さらに、複雑
な形状を有する基板のコーティングは、PVD技術を使用しては特に困難である
【0004】 ゾルゲル処理技術もまた、薄いフィルムを蒸着するために使用されているが、
薄いフィルムは単一のコーティングランで達成され得るのに対して、単一のコー
ティングにより提供される、より厚いフィルムは、ひび割れ、従って厚い中実フ
ィルムは、複数の連続したコーティングランを実施することによって、構築され
なければならない。
【0005】 新規の蒸着技術(静電スプレー補助蒸着(electrostatic sp
ray assisted vapour deposition)(ESAV
D)と称され、WO−A−97/21848に開示される)もまた、薄いフィル
ムを蒸着するために特に使用されている。このESAVD技術において、エアロ
ゾルが、ノズルユニットから静電的に発生され、そして温度勾配および電場が、
基板とノズルユニットとの間に提供され、その結果、エアロゾル小滴が、基板の
表面の近くで蒸気相で、燃焼および/または化学反応を起こす。この蒸着技術は
、良好な表面接着を有する中実フィルムを生成し得るが、エアロゾルを静電的に
発生させる結果として、例えば、利用可能な前駆体溶液の性質、エアロゾルの蒸
着速度および小滴サイズ分布に関して、制限を有する。
【0006】 スプレー熱分解(ここで、フィルムは、加熱した基板に対する超音波噴霧によ
り発生するエアロゾルにより送達される)が、例えばEP−A−0103505
およびGB−A−1362803に開示されるように、薄いフィルムおよび厚い
フィルムの両方を蒸着するために使用されているが、その蒸着効率は、通常、環
境に対するエアロゾルの非常に高い損失(この損失は、前駆体物質が高価であり
、その蒸着速度が非常に低い場合に、環境的理由および費用的理由の両方により
認容不可能である)に起因して、非常に低い。さらに、非常に厚いフィルム(代
表的に、150μmより厚い厚さを有するフィルム)の、スプレー熱分解による
蒸着は、困難である。刊行された記事(表題「Corona Spray Py
rolysis」Thin Solid Films、121(1984)、2
67〜274頁および「Properties of Thin In23
nd SnO2 Films Prepared by Corona Spr
ay Pyrolysis and a Discussion of the
Spray Pyrolysis Process」Thin Solid
Films、121(1984)、275〜282頁)において、80%までの
要求される蒸着効率でのコロナスプレー熱分解による、ドープされたIn23
よびSnO2の薄いフィルムの蒸着が考察されるが、この蒸着技術は、本質的に
、有機前駆体溶液の使用、エアロゾルの鉛直方向下向きの送達(エアロゾル小滴
に対する重力の効果を利用するため)、および2つの電極(各々がエアロゾルの
鉛直方向下向きの流路に対して40〜45°の角度で配置される)を備える特定
の電極構造を必要とする。
【0007】 本発明の目的は、物質(好ましくは、薄いフィルムまたは厚いフィルムの物質
)を基板に蒸着させる改善された方法およびそのための装置(これは、静電補助
エアロゾルジェット蒸着(electrostatic assisted a
erosol jet deposition(EAAJD))と称され、特に
、低費用であり、そして高い蒸着効率を示す)、ならびに粉末(好ましくは、超
微細粉末)を作製する改善された方法およびそのための装置を提供することであ
る。
【0008】 従って、本発明は、物質(好ましくは、フィルム)を基板上に蒸着させる方法
を提供し、この方法は、以下の工程を包含する:基板を提供する工程;この基板
を加熱する工程;物質溶液の小滴を含むエアロゾルを発生させる工程;このエア
ロゾルをこの基板に送達するためのノズルユニットを提供する工程であって、こ
のノズルが、少なくとも1つの出口および少なくとも1つの電極を備え、この出
口を通って、エアロゾルの定方向流が送達される、工程;このエアロゾル小滴を
正電荷または負電荷で荷電させる工程;ノズルユニットを通してエアロゾルの流
れを提供し、少なくとも1つの出口からエアロゾルの定方向流を送達する工程;
ならびに基板と少なくとも1つの電極との間に電場を発生させる工程であって、
その結果、定方向のエアロゾル流れが基板に向けて引き付けられる、工程。
【0009】 好ましくは、この基板は、約1050℃未満、より好ましくは約800℃未満
の温度に加熱される。
【0010】 好ましくは、この基板は、蒸着の間、加熱される。
【0011】 より好ましくは、熱環境は、基板からノズルユニットに向かう方向に減少する
温度勾配を維持するような環境である。
【0012】 1つの実施形態においては、物質溶液は、水溶液である。
【0013】 別の実施形態においては、物質溶液は、非水溶液である。好ましい非水性溶媒
としては、アセチルアセトン、メタノールおよび2−メトキシエタノールが挙げ
られる。
【0014】 1つの実施形態においては、エアロゾル小滴は、少なくとも1つの出口を出る
前に、少なくとも部分的に荷電される。
【0015】 別の実施形態においては、エアロゾル小滴は、少なくとも1つの出口を出る前
に、荷電される。
【0016】 さらなる実施形態においては、エアロゾル小滴は、少なくとも1つの出口を出
た後に、少なくとも部分的に荷電される。
【0017】 好ましくは、エアロゾル小滴は、少なくとも1つの電極によって、荷電される
【0018】 好ましくは、少なくとも1つの電極は、少なくとも部分的に、各エアロゾル流
れの中に配置される。
【0019】 好ましくは、少なくとも1つの電極は、少なくとも1つの出口の上流に延びる
【0020】 好ましくは、少なくとも1つの電極は、細長いエレメントを備える。
【0021】 好ましくは、少なくとも1つの電極の遠位端は、少なくとも1つの出口の実質
的に中心に位置する。
【0022】 1つの実施形態においては、少なくとも1つの電極の遠位端は、単一の先端部
を備える。
【0023】 別の実施形態においては、少なくとも1つの電極の遠位端は、複数の先端部を
備える。
【0024】 好ましくは、ノズルユニットは、各出口の上流に、管状部分を備える。
【0025】 より好ましくは、この管状部分は、細長い部分である。
【0026】 より好ましくは、この管状部分は、線形部分である。
【0027】 より好ましくは、この管状部分は、実質的に円柱状である。
【0028】 より好ましくは、少なくとも1つの電極は、関連する管状部分の実質的に全体
を通って延びる。
【0029】 より好ましくは、少なくとも1つの電極は、関連する管状部分の中心軸に実質
的に沿って延びる。
【0030】 より好ましくは、管状部分の少なくとも内面は、絶縁物質から構成される。
【0031】 1つの実施形態においては、エアロゾル流れは、ノズルユニットに供給される
キャリアガスの流れにエアロゾルを巻き込むことによって、提供される。
【0032】 別の実施形態においては、エアロゾル流れは、少なくとも1つの出口に減圧を
適用して、ノズルユニットを通して引かれるキャリアガスの流れにエアロゾルを
巻き込むことによって、提供される。
【0033】 1つの実施形態において、キャリアガスは、物質溶液と反応性のガスである。
【0034】 別の実施形態においては、キャリアガスは、物質溶液と非反応性のガスである
【0035】 好ましくは、キャリアガスの流れは、代表的に、流速、温度および/または方
向を制御して、減少する温度勾配を維持することによって、提供される。
【0036】 好ましくは、エアロゾルは、1分間あたり少なくとも0.2μmのフィルム成
長速度が達成されるように、基板に送達される。
【0037】 より好ましくは、エアロゾルは、1分間あたり少なくとも1μmのフィルム成
長速度を達成するように、基板に送達される。
【0038】 なおより好ましくは、エアロゾルは、1分間あたり少なくとも2μmのフィル
ム成長速度を達成するように、基板に送達される。
【0039】 好ましくは、少なくとも1つの出口を通る流速は、1分間あたり約5mlであ
り、より好ましくは、1分間あたり少なくとも50mlである。
【0040】 好ましくは、ノズルユニットは、少なくとも1つの出口からのエアロゾルの流
れが上方に方向付けられるように、より好ましくは、実質的に鉛直方向上方に方
向付けられるように、構成される。
【0041】 好ましくは、ノズルユニットは、少なくとも1つの出口の上流に、穿孔された
部材を備える。好ましい実施形態においては、この穿孔された部材は、メッシュ
を備える。
【0042】 好ましくは、印加電圧は、約35kV未満であり、より好ましくは、約20k
V未満である。
【0043】 好ましくは、少なくとも1つの出口と基板との間の距離は、約100mmより
短く、より好ましくは、約50mmより短い。
【0044】 1つの実施形態においては、基板は、ノズルユニットに対して静止して保持さ
れる。
【0045】 別の実施形態においては、この方法は、ノズルユニットを基板に対して移動さ
せる工程をさらに包含する。
【0046】 好ましくは、基板は、ノズルユニットに対して回転され、傾斜され、そして/
または平行移動される。
【0047】 1つの実施形態においては、蒸着は、大気圧で実施される。
【0048】 別の実施形態においては、蒸着は、大気圧未満で実施される。
【0049】 さらなる実施形態においては、蒸着は、大気圧より高圧で実施される。
【0050】 好ましくは、この方法は、蒸着の間に物質溶液の組成および濃度の一方または
両方を変化させる工程をさらに包含する。
【0051】 好ましくは、この方法は、蒸着の間に基板と少なくとも1つの電極との間の極
性を、時折逆転させる工程をさらに包含する。
【0052】 好ましくは、この方法は、基板の少なくとも1領域を局所的に加熱する工程を
さらに包含する。
【0053】 好ましくは、この方法は、ノズルユニットから基板への移行において、エアロ
ゾル小滴を電気的にかまたは磁気的にの一方または両方で撹拌する工程をさらに
包含する。
【0054】 好ましくは、このフィルムは、構造フィルムまたは機能フィルムの1つまたは
両方であり、代表的には、工学および医療の適用における使用のためである。
【0055】 好ましくは、このフィルムは、高密度フィルムまたは多孔質フィルムの1つで
ある。
【0056】 好ましくは、このフィルムは、アモルファスフィルムまたは結晶性フィルムの
1つである。
【0057】 好ましくは、このフィルムは、単一フィルム、ドープされたフィルム、または
多成分フィルムの1つであり;代表的には、非酸化物フィルムまたは酸化物フィ
ルムである。
【0058】 好ましくは、このフィルムは複合性フィルムである。
【0059】 好ましくは、このフィルムは、組成的に等級付けられたフィルムである。
【0060】 好ましくは、このフィルムは多層フィルムである。
【0061】 1つの実施形態において、このフィルムは無機フィルムである。
【0062】 好ましくは、このフィルムはセラミックフィルムであり、より好ましくは、エ
レクトロセラミックフィルムである。
【0063】 別の実施形態において、このフィルムは有機フィルムである。
【0064】 好ましくは、このフィルムはポリマーフィルムである。
【0065】 さらなる実施形態において、このフィルムは、有機/無機フィルムのようなハ
イブリッドフィルムである。
【0066】 本発明はまた、基板上に物質(好ましくは、フィルム)を蒸着するための装置
を提供し、この装置は以下を含む;基板を保持するための基板ホルダー;基板を
加熱するためのヒーター;物質溶液の小滴を含むエアロゾルを発生するエアロゾ
ル発生装置;エアロゾル小滴に正電荷または負電荷を加えるための荷電付与装置
;エアロゾルを基板に送達するための、エアロゾル発生装置と連絡するノズルユ
ニットであって、このノズルユニットは、少なくとも1つの出口(使用中に、エ
アロゾルの定方向流がこの出口を通って送達される)および少なくとも1つの電
極を備えるノズルユニット;および使用中にエアロゾルの定方向流が基板に向か
って付着するように、基板と少なくとも1つの電極との間に電界を発生するため
の高電圧電源。
【0067】 好ましくは、この装置は、基板から離れて、ノズルユニットに向かう方向で減
少した温度勾配を維持するために構成される。
【0068】 好ましくは、少なくとも1つの電極は、少なくとも1つの出口の上流に延びる
【0069】 好ましくは、少なくとも1つの電極は、細長いエレメントを備える。
【0070】 好ましくは、少なくとも1つの電極の遠位末端は、実質的に少なくとも1つの
出口の中心に位置される。
【0071】 1つの実施形態において、少なくとも1つの電極の遠位末端は、1つの先端部
を備える。
【0072】 別の実施形態において、少なくとも1つの電極の遠位末端は、複数の先端部を
備える。
【0073】 好ましくは、ノズルユニットは、各々の出口の上流に管状部分を備える。
【0074】 より好ましくは、この管状部分は、細長い部分である。
【0075】 より好ましくは、この管状部分は、直線状部分である。
【0076】 より好ましくは、この管状部分は、実質的に円柱状である。
【0077】 より好ましくは、少なくとも1つの電極は、実質的に、全体的に結合した管状
部分を通って延びる。
【0078】 より好ましくは、少なくとも1つの電極は、結合した管状部分の実質的に中心
軸に沿って延びる。
【0079】 より好ましくは、管状部分の少なくとも内部表面は、絶縁体から構成される。
【0080】 好ましくは、この装置は、エアロゾルを巻き込み、そしてノズルユニットを通
して送達するためのキャリアーガスの流れを供給するために、エアロゾル発生装
置と連絡したガス供給ユニットをさらに備える。
【0081】 好ましくは、少なくとも1つの出口は、上向き(より好ましくは、実質的に鉛
直上向き)に指向される。
【0082】 好ましくは、少なくとも1つの出口と基板との間の距離は、約100mm未満
であり、より好ましくは約50mm未満である。
【0083】 1つの実施形態において、ノズルユニットおよび基板ホルダーは、固定された
関係で保持される。
【0084】 別の実施形態において、ノズルユニットおよび基板ホルダーは、お互いに移動
可能な関係で構成される。
【0085】 より好ましくは、基板ホルダーは、ノズルユニットに対して回転可能、傾斜可
能および/または平行移動可能な関係である。
【0086】 好ましくは、この装置は、基板ホルダーを囲むためのチャンバーをさらに備え
る。
【0087】 より好ましくは、この装置は、チャンバーにさらなるガスを別々に送達するた
めの、チャンバーと連絡したさらなるガス供給ユニットをさらに備える。
【0088】 好ましくは、ノズルユニットは、少なくとも1つの出口の上流に穿孔された部
材を備える。1つの実施形態において、この穿孔された部材は、メッシュを備え
る。
【0089】 本発明は、粉末(好ましくは、超微細粉末)を作製するための方法をさらに提
供し、この方法は、以下の工程:加熱区域を提供する工程;物質溶液の小滴を含
むエアロゾルを発生する工程;加熱区域にエアロゾルを送達するためのノズルユ
ニットを提供する工程であって、このノズルユニットは、少なくとも1つの出口
(エアロゾルの定方向流がこの出口を通って送達される)および少なくとも1つ
の電極を備える、工程;エアロゾル小滴を、正電荷または負電荷で荷電させる工
程;エアロゾルの定方向流を少なくとも1つの出口から送達するために、ノズル
ユニットを通るエアロゾルの流れを提供する工程;ならびにエアロゾルの定方向
流が加熱区域(ここでエアロゾル小滴が気相中で均一に反応して、粉末を形成す
る)に向かって引きつけられるように、加熱区域と少なくとも1つの電極との間
に電界を発生する工程、を包含する。
【0090】 本発明は、粉末(好ましくは、超微細粉末)を作製するための装置を、さらに
提供し、この装置は:加熱区域を提供するためのヒーター;物質溶液の小滴を含
むエアロゾルを発生するためのエアロゾル発生装置;エアロゾル小滴に、正電荷
または負電荷を付与するための電荷付与装置;エアロゾルを加熱区域に送達する
ための、エアロゾル発生装置に連絡したノズルユニットであって、このノズルユ
ニットは、少なくとも1つの出口(使用中に、エアロゾルの定方向流がこの出口
を通って送達される)および少なくとも1つの電極を備える、ノズルユニット;
ならびにエアロゾルの定方向流が、使用中に加熱区域(ここでエアロゾル小滴が
気相中で均一に反応して、粉末を形成する)に向かって引きつけられるように、
加熱区域と少なくとも1つの電極との間に電界を発生するための高電圧電源、を
備える。
【0091】 本発明は、WO−A−97/21848で開示されたESAVD技術とは異な
り、水性前駆溶液および非水性前駆溶液の両方および、特にコロイド状ゾル溶液
を利用し得、そして非常に高い蒸着速度、代表的にはESAVD技術を使用して
可能な速度の少なくとも2倍の蒸着速度を可能とする。さらに、EP−A−01
03505で開示された蒸着技術とは異なり、結晶性(特に、高密度)のフィル
ムが、蒸着後加熱処理の必要なく、単一の動作で生成され得る。なおさらに、上
記のコロナスプレー熱分解蒸着技術とは異なり、有機前駆溶液は必ずしも必要で
はなく、そして下向きの基板に対して上向き(好ましくは、実質的に鉛直上向き
)にエアロゾルを送達するときに、フィルム蒸着のより正確な制御を可能にし、
そのために改良されたフィルムを提供するために、より安定な熱的環境が、基板
の表面に維持され得る。
【0092】 本発明の好ましい実施形態において、少なくとも90%の蒸着効率が得られ、
この増大した蒸着効率は、製造費用を減少させ、そして環境に対しておそらく有
害な前駆物質の損失を最小化する。
【0093】 本発明の好ましい実施形態は、ここで、添付した図面を参照して、例示のみの
目的で以下に記載される。
【0094】 図1は、本発明の第1実施形態に従うフィルム蒸着装置を図示する。
【0095】 フィルム蒸着装置は、加熱区域を提供するためのヒーター1(この実施形態に
おいては、管状加熱炉)、および基板5を加熱区域(被覆される基板5の表面か
ら離れる方向において、減少した温度勾配を提供するような)に保持するための
基板ホルダー3を備える。基板ホルダー3は、例えば、被覆される基板5の表面
における温度および温度勾配の両方を変化させ得るために、ヒーター1に対して
移動可能に配置される。この実施形態において、基板ホルダー3はまた、例えば
、被覆される基板5の表面の移動を、ヒーター1の1つの端に提示し、それによ
ってより均一なフィルム蒸着を可能にするために、ヒーター1の長手方向軸回り
を回転可能に配置される。
【0096】 このフィルム蒸着装置は、例えば、作動時に基板ホルダー3を回転するための
、基板ホルダー3に連結したモーターユニット7、およびモーターユニット7の
作動を制御するためのコンピューター9をさらに備える。
【0097】 特に図2〜4を参照すると、このフィルム蒸着装置は、被覆される基板5にエ
アロゾルの定方向流を送達するためのノズルユニット11をさらに備える。
【0098】 ノズルユニット11は、管状部分15(この実施形態では、細長い円柱状部分
)を備え、管状部分15は、その一端においてエアロゾルフローが導入される入
口ポート17、およびその他端においてエアロゾルの定方向流がコーティングさ
れるべき基板5に送達される出口ポート18を備え、管状部分15の内部形状が
エアロゾルフローに対する方向性を与えるような形状である。ノズルユニット1
1の出口ポート18と基板5との間の距離は、好ましくは、100mm未満、よ
り好ましくは50mm未満、そしてなおより好ましくは、20mm以下である。
管状部分15は、非電導性絶縁材料(例えば、セラミック、ガラス、または石英
)から形成され、これらは、ヒーター1によって展開される高温に耐え得る。ノ
ズルユニット11は、さらに、管状部分15の入口ポート17に配置される穿孔
部材19を備え、管状部分15を通る流路が穿孔部材19の穿孔20を通る。穿
孔部材19は、導電性部材であり、好ましくは、アルミニウム、ステンレス鋼、
またはインジウム−酸化スズコーティングプレートから形成される。ノズルユニ
ット11はさらに、電極21(この実施形態においては、単一の先のとがった先
端部を有する細長いエレメント(例えば、ワイヤ))を備え、これは、穿孔部材
19に接続され、そして管状部分15(この実施形態では、その先端部は出口ポ
ート18の下流に配置される)の長さを通って同軸に延びる。電極21は、任意
の導電性材料から形成され得るが、好ましくは、アルミニウム、ステンレス鋼ま
たはタングステンから形成される。改変されたノズルユニット11において、図
5に示されるように、電極21は、複数の先端部にされ得る。
【0099】 フィルム蒸着装置は、さらに、エアロゾルのフローをノズルユニット11の入
口ポート17に提供するためのエアロゾル発生装置25を備える。エアロゾル発
生装置25は、チャンバ27を備え、チャンバ27は、第1入口ポート29、第
2入口ポート31およびノズルユニット11の入口ポート17に接続される出口
ポート33を備え、そしてエアロゾル化されるべき前駆体溶液37を含むための
レザバ35および生成した場合にエアロゾルを収集するヘッドスペース39を規
定する。エアロゾル発生装置25は、さらに、レザバ35中の前駆体溶液37の
一定容積を維持するためのチャンバ27の第1入口ポート29にライン42によ
って接続される液体レベルコントローラ41を備える。エアロゾル発生装置25
は、さらに、圧電変換器43を備え、圧電変換器43は、電源44によって駆動
され、そして前駆体溶液37とは別々で含まれる移動媒体45(例えば、水)を
通してレザバ35と連絡し、その結果、圧電変換器43の操作において、液体前
駆体37が超音波的に振動されて、ヘッドスペース39中にエアロゾルを生成す
る。好ましい実施形態において、圧電変換器43は、1.7〜3MHzの範囲の
周波数で作動され、それによって、エアロゾルが1分当たり5mlより多い速度
で、2μm未満の小滴サイズおよび狭いサイズ分布で達成され得る。エアロゾル
発生装置25は、さらに、ガス供給ユニット47を備え、ガス供給ユニット47
は、送達ライン49を通ってチャンバ27の第2入口ポート31に接続され、例
えば、ヘッドスペース39にエアロゾルを巻き込み、そしてこれをノズルユニッ
ト11を通って基板5に輸送するための、チャンバ27を通るキャリアガスのフ
ローを提供するためにある。この実施形態において、送達ライン49は、基板5
へのエアロゾルの流速を制御するためのフロー調節バルブ51を備える。好まし
くは、キャリアガスは、空気、Ar、H2S、N2、NH3、およびO2のうちの少
なくとも1つを含む。代替の実施形態において、ガス供給ユニット47の代わり
にまたはそれに加えて、圧力減少手段(例えば、真空ポンプ)が、管状部分15
の出口ポート18において減圧を適用し、そこを通るフローとしてエアロゾルを
吸い込むために提供され得る。
【0100】 フィルム蒸着装置は、さらに高電圧直流電源53を備え、高電圧直流電源53
は、電極21と基板5との間に接続され、例えば、これらの間に電場を確立し、
この電場は、電極21を通過する際にエアロゾル小滴を荷電させ、そしてノズル
ユニット11の出口ポート18を出る際に荷電小滴を基板5に付着させる。好ま
しい実施形態において、電極21と基板5との間に印加される電圧は、10〜3
0kVである。
【0101】 使用において、エアロゾル発生装置25は、ノズルユニット11を通るエアロ
ゾル小滴を巻き込むガスのフローを提供するために操作され、ノズルユニット1
1を通るこのフローが、管状部分15の出口ポート18からのエアロゾルの定方
向流を提供し、そして電極21を通過する際にエアロゾル小滴に荷電を生じさせ
る。ノズルユニット11の出口ポート18を出る際に、荷電エアロゾル小滴が、
基板5に付着され、エアロゾルの流速、ならびに基板5の表面における温度およ
び温度勾配が、所望のフィルム性質(典型的には、多孔性または密な中実フィル
ムの1つ)を達成するために最適化される。好ましい実施形態において、エアロ
ゾルの小滴が、基板5の表面近くで蒸発/分解するか、または蒸発/分解の前に
基板5の表面に衝突するように、熱的環境およびエアロゾルの定方向流の速度が
、構成され得る。このプロセスは、必要な厚さのフィルムが基板5の上で達成さ
れるまで続けられる。
【0102】 図6は、本発明の第2の実施形態に従ったフィルム蒸着装置を例示し、これは
、大きな面積の基板上へのフィルムの蒸着において特定の用途を見出す。
【0103】 フィルム蒸着装置は、ヒーター101(この実施形態では、抵抗ヒーター)お
よびヒーターの上に載置された基板105を保持するための基板ホルダー105
を備え、例えば、コーティングされるべき基板5の表面から離れる方向に減少す
る温度勾配を提供する。この実施形態において、基板ホルダー103は、絶縁部
材106を備え、絶縁部材106は、基板105の周りで前方に伸張し、コーテ
ィングされるべき基板105の表面において均一な温度および温度勾配を維持す
るように構成される。この実施形態において、基板105は接触加熱によって加
熱されるが、ここで、抵抗加熱、非接触加熱(例えば、赤外ランプによる)が基
板105を加熱するために使用され得る。
【0104】 フィルム蒸着装置は、さらに、エアロゾルの定方向流をコーティングされるべ
き基板105に送達するためのノズルユニット111を備える。ノズルユニット
111は、上記第1の実施形態のフィルム蒸着装置において使用されるノズルユ
ニットと同じ種類のものであり、対応する参照符号が同様な部品を示すように使
用される。ノズルユニット111は、管状部分115(この実施形態では、細長
い円柱状部分)を備え、管状部分115は、その一端においてエアロゾルフロー
が導入される入口ポート117、およびその他端においてエアロゾルの定方向流
がコーティングされるべき基板105に送達される出口ポート118を備え、管
状部分115の内部形状がエアロゾルフローに対する方向性を与えるような形状
である。ノズルユニット111の出口ポート118と基板105との間の距離は
、好ましくは、100mm未満、より好ましくは50mm未満、そしてなおより
好ましくは、20mm以下である。管状部分115は、非電導性絶縁材料(例え
ば、セラミック、ガラス、または石英)から形成され、これらは、ヒーター10
1によって展開される高温に耐え得る。ノズルユニット111は、さらに、管状
部分115の入口ポート117に配置される穿孔部材119を備え、管状部分1
15を通る流路が穿孔部材119の穿孔120を通る。穿孔部材119は、導電
性部材であり、好ましくは、アルミニウム、ステンレス鋼、タングステンまたは
インジウム−酸化スズコーティングプレートから形成される。ノズルユニット1
11はさらに、電極121(この実施形態においては、単一の先のとがった先端
部を有する細長いエレメント(例えば、ワイヤ))を備え、これは、穿孔部材1
19に接続され、そして管状部分115(この実施形態では、その先端部は出口
ポート118の下流に配置される)の長さを通って同軸に延びる。電極121は
、任意の導電性材料から形成され得るが、好ましくは、アルミニウム、ステンレ
ス鋼またはタングステンから形成される。改変されたノズルユニット111にお
いて、図5に示されるように、電極121は、複数の先端部にされ得る。
【0105】 フィルム蒸着装置は、さらに、エアロゾルのフローをノズルユニット111の
入口ポート117に提供するためのエアロゾル発生装置125を備える。エアロ
ゾル発生装置125は、チャンバ127を備え、チャンバ127は、第1入口ポ
ート129、第2入口ポート131および可撓性管状部分134によってノズル
ユニット111の入口ポート117に接続される出口ポート133を備え、そし
てエアロゾル化されるべき前駆体溶液137を含むためのレザバ135および生
成した場合にエアロゾルを収集するヘッドスペース139を規定する。エアロゾ
ル発生装置125は、さらに、レザバ135中の前駆体溶液137の一定容積を
維持するためのチャンバ127の第1入口ポート129にライン142によって
接続される液体レベルコントローラ141を備える。エアロゾル発生装置125
は、さらに、圧電変換器143を備え、圧電変換器143は、電源144によっ
て駆動され、そして前駆体溶液137とは別々で含まれる移動媒体145(例え
ば、水)を通してレザバ135と連絡し、その結果、圧電変換器143の操作に
おいて、前駆体溶液137が超音波的に振動されて、ヘッドスペース139中に
エアロゾルを生成する。エアロゾル発生装置125は、さらに、ガス供給ユニッ
ト147を備え、ガス供給ユニット147は、送達ライン149を通ってチャン
バ127の第2入口ポート131に接続され、例えば、ヘッドスペース139に
エアロゾルを巻き込み、そしてこれをノズルユニット111を通って基板105
に輸送するための、チャンバ127を通るキャリアガスのフローを提供するため
にある。この実施形態において、送達ライン149は、基板105に送達される
エアロゾルの流速を制御するためのフロー調節バルブ151を備える。好ましく
は、キャリアガスは、空気、Ar、H2S、N2、NH3、およびO2のうちの少な
くとも1つを含む。代替の実施形態において、ガス供給ユニット147の代わり
にまたはそれに加えて、圧力減少手段(例えば、真空ポンプ)が、管状部分11
5の出口ポート118において減圧を適用し、そこを通るフローとしてエアロゾ
ルを吸い込むために提供され得る。
【0106】 フィルム蒸着装置は、さらに高電圧直流電源153を備え、高電圧直流電源5
3は、電極121と基板105との間に接続され、例えば、これらの間に電場を
確立し、この電場は、電極121を通過する際にエアロゾル小滴を荷電させ、そ
してノズルユニット111の出口ポート118を出る際に荷電小滴を基板105
に付着させる。好ましい実施形態において、電極121と基板105との間に印
加される電圧は、10〜30kVである。
【0107】 フィルム蒸着装置はさらに、X−Y−Zテーブル155およびコンピュータ1
57を備え、X−Y−Zテーブル155は、ノズルユニット111に接続され、
大きな面積でかつ非平坦な形状形状の基板をコーティングする際に、基板105
に対してノズルユニット111の運動を可能にし、コンピュータ157は、X−
Y−Zテーブル155を制御するためにある。基板105が平坦である場合、X
−Y−Zテーブル155はX−Yテーブルによって置き代えられ得る。
【0108】 使用において、エアロゾル発生装置125は、ノズルユニット111を通るエ
アロゾル小滴を巻き込むガスのフローを提供するために操作され、ノズルユニッ
ト111を通るこのフローが、管状部分115の出口ポート118からのエアロ
ゾルの定方向流を提供し、そして電極121を通過する際にエアロゾル小滴に荷
電を生じさせる。ノズルユニット111の出口ポート118を出る際に、荷電エ
アロゾル小滴が、基板105に付着され、エアロゾルの流速、ならびに基板10
5の表面における温度および温度勾配が、所望のフィルム性質(典型的には、多
孔性または密な中実フィルムの1つ)を達成するために最適化される。好ましい
実施形態において、エアロゾルの小滴が、基板105の表面近くで蒸発/分解す
るか、または蒸発/分解の前に基板105の表面に衝突するように、熱的環境お
よびエアロゾルの定方向流の速度が、構成され得る。このプロセスは、必要な厚
さのフィルムが基板105の上で達成されるまで続けられる。
【0109】 図7は、本発明の第3の実施形態に従ったフィルム蒸着装置を例示し、管状部
分のような複雑な形状の三次元基板上へのフィルムの蒸着における特定の用途を
見出す。
【0110】 フィルム蒸着装置は、ヒーター201を備え、ヒーター201は、囲まれた蒸
着チャンバ201(この実施形態においては、囲まれた管炉)を備え、ここで、
加熱区域、および加熱チャンバ202における基板205を保持するための基板
ホルダー203が提供される。基板ホルダー203は、ヒーター201内に(こ
の実施形態では、加熱チャンバ202の長手軸に周りに)回転可能に配置され、
例えば、コーティングされるべき基板205の全表面をエアロゾルフローに提示
し得る。加熱チャンバ202は、ガスがそこを通って導入され得る入口ポート2
06、排気として作用する出口ポート207、およびノズルユニット211がエ
アロゾルをそこに送達するために伸長する放射状開口208を備える。この実施
形態において、出口ポート207は、排気ライン209に接続され、排気ライン
209は、加熱チャンバ202からの流速を調節するためのフロー調節バルブ2
10を備える。
【0111】 このフィルム蒸着装置は、被覆される基板205への定方向エアロゾル流を送
達するための、蒸着チャンバー202の放射状開口部208を通って延びるノズ
ルユニット211をさらに備える。このノズルユニット211は、上記の第1実
施形態のフィルム蒸着装置において使用されるものと同様の構成であり、同様の
部品を示すために使用される、対応する参照記号を有する。このノズルユニット
211は、管状部分215(この実施形態においては、内向きテーパー状の出口
端を有する細長い円柱状部分)を備え、この管状部分215は、その片方の端に
入口ポート217(ここを通って、エアロゾル流が導入される)、およびもう片
方の端に出口ポート218(ここを通って、定方向エアロゾル流が、被覆される
基板205に送達される)を備え、管状部分215の内部形状は、エアロゾル流
に方向性を与えるためである。この管状部分215は、好ましくは、非導電性の
絶縁性物質(例えば、セラミック、ガラスまたは石英)で形成され、これは、ヒ
ーター201によって発生された高温に耐え得る。ノズルユニット211は、電
極221(この実施形態においては、ワイヤーのような細長いエレメントであり
、1つの先の尖った先端部を有する)をさらに備え、この電極は、管状部分21
5(この実施形態においては、出口ポート218の上流に位置される先端部を有
する)の長さを通って、すなわち、管状部分215内で同軸方向に延びる。この
電極221は、任意の導電性物質で構成され得るが、好ましくはアルミニウム、
ステンレス鋼、またはタングステンで構成される。改変されたノズルユニット2
11において、図5に図示されるように、電極221は、複数の先端部であり得
る。
【0112】 フィルム蒸着装置は、ノズルユニット211の入口ポート217にエアロゾル
の流れを提供するための、エアロゾル発生装置225をさらに備える。このエア
ロゾル発生装置225は、チャンバー227(これは、第1および第2入口ポー
ト229、231、およびノズルユニット211の入口ポート217に可撓性管
状部分234によって連結された出口ポート233を備える)を備え、そしてエ
アロゾル化される前駆体溶液137を備えるためのリザバ235および、上部(
head)空間239(ここに、発生された場合にエアロゾルを集める)を規定
する。このエアロゾル発生装置225は、リザバ235中に一定量の前駆体溶液
237を保持するための、ライン242によってチャンバー227の第1入口ポ
ート229に連結された液体レベルコントローラー241をさらに備える。この
エアロゾル発生装置225は、電源244によって駆動される圧電変換器243
をさらに備え、そしてこの圧電変換器は、水のような伝達媒体245を通ってリ
ザバ235に連絡し、圧電変換器243の操作時に、上部空間239にエアロゾ
ルを発生するために液体前駆体237が超音波的に振動されるように、前駆体溶
液237とは別に備えられる。このエアロゾル発生装置225は、上部空間23
9のエアロゾルを巻き込み、そしてそれをノズルユニット211を通って基板2
05に輸送するための、チャンバー227を通るキャリアーガスの流れを供給す
るための、送達ライン249を通ってチャンバー227の第2入口ポート231
に接続される第1ガス供給ユニット247をさらに備える。この実施形態におい
て、第1ガス供給ユニット247は、送達されるガスの温度を制御するための、
温度調節装置を備え、この重要性は、以下で明らかとなる。さらに、この実施形
態において、送達ライン249は、ガス流速を制御し、その結果基板205に送
達されるエアロゾルの流速を制御するための流れ調節バルブ251を備える。好
ましくは、このキャリアーガスは、空気、Ar、H2S、N2、NH3およびO2
少なくとも1つを含む。代替の実施形態において、ノズルユニット211を通る
流れとしてエアロゾルを引き込むように、加熱チャンバー202の出口ポート2
07において減少した圧力を適用するために、第1ガス供給ユニット247の代
わりに、またはそれに加えて、真空ポンプのような圧力を減少させる手段が提供
され得る。
【0113】 フィルム蒸着装置は、電極221と基板205との間に電界を確立するための
、電極221と基板205の間に接続された高電圧直流電源253をさらに備え
、この電界は、電極221を通過したときにエアロゾル小滴を荷電させ、そして
荷電された小滴が、ノズルユニット211の出口ポート218を出る際に基板2
05へ引きつけられる。好ましい実施形態において、電極221と基板205と
の間に印加された電圧は、10〜30kVである。この実施形態において、フィ
ルム蒸着装置は、蒸着チャンバー202内の基板205の位置の周囲に配置され
る複数のデフレクタープレート254をさらに備え、このデフレクタープレート
254は、電極221および従って荷電されたエアロゾル小滴と同じ極性を有し
、そして基板205に向かってエアロゾル小滴を反らせるために作用するように
、高電圧直流電源253に接続され、それによって蒸着キャンバー202の内部
壁上への物質の蒸着を最小化する。
【0114】 このフィルム蒸着装置は、蒸着チャンバー202において制御された環境を提
供するための、送達ライン256によって蒸着チャンバー202の入口ポート2
06に連結された第2ガス供給ユニット255をさらに備える。好ましくは、こ
のガスは、アルゴンまたは窒素のような不活性ガスである。この実施形態におい
て、送達ライン256は、蒸着キャンバー202に送達されるガスの流速を制御
するための、流れ調節バルブ257を備える。
【0115】 このフィルム蒸着装置は、ノズルユニット211の出口ポート218に対する
蒸着チャンバー202において、基板ホルダー203の運動、従って基板205
の運動(この実施形態においては、回転および軸方向運動による運動)を提供す
るための、基盤ホルダー203に接続された第1モーターユニット258、基板
ホルダー203に対する、従って基板205に対する蒸着チャンバー202にお
いて、ノズルユニット211の運動(この実施形態においては、半径方向の運動
)を提供するための、ノズルユニット211に連結された第2モーターユニット
259、ならびに第1および第2モーターユニット258、259の操作を制御
するためのコンピューター261さらに備える。ノズルユニット211の出口ポ
ート218と被覆される基板205の表面との間の距離は、好ましくは100m
m未満、より好ましくは50mm未満、そしてなおより好ましくは20mm以下
に維持される。
【0116】 使用において、エアロゾル発生装置225は、ノズルユニット211を通るエ
アロゾル小滴を巻き込んだガス流を提供するために操作され、このノズルユニッ
ト211を通る流れは、管状部分215の出口ポート218からの定方向エアロ
ゾル流を提供し、そして電極221の通過時にエアロゾル小滴に荷電させる。ノ
ズルユニット221の出口ポート218を出るときに、荷電エアロゾル小滴は基
板205に引きつけられ、エアロゾルの流速、基板205の表面における温度お
よび温度勾配は、所望のフィルム特性(代表的には、多孔質または高密度の中実
フィルムの1つ)に達成するように最適化される。この実施形態において、第1
ガス供給ユニット247によって供給されるキャリアーガスの温度および流速の
両方を制御することによって、基板205の表面における温度勾配は維持される
。好ましい実施形態において、熱的環境および定方向エアロゾル流の速度は、エ
アロゾル小滴が基板205の表面の近くで蒸気化/分解されるように、または蒸
気化/分解の前に基板205の表面に衝突するように構成され得る。ひき続く基
板205およびノズルユニット211の相対運動を伴って、このプロセスは、基
板205の表面上に所望の厚さのフィルムが達成されるまで続けられる。
【0117】 上記の第3実施形態の1つの改変において、図8に図示されるように、ノズル
ユニット211は、管状部分215(ここを通って、エアロゾルが送達される)
の内部容積を冷却するために、管状部分215のまわりに位置する冷却ジャケッ
ト261を備え得る。この冷却ジャケット261は、連続して循環する冷却媒体
(代表的には、オイルまたは水のような液体)が通るキャビティー263を備え
る。ノズルユニット211はまた、第1電極221の下流に配置される第2電極
265(この実施形態においては、第1電極221の長手方向軸のまわりに位置
する環状エレメント)を備え得、これは、基板205に向かってエアロゾル小滴
を集中させ、そして加速させるように作用する。
【0118】 上記の第3実施形態の別の改変において、この装置は、粉末(好ましくは、超
微細粉末)を作製するために組み立てられ得る。この改変において、基板ホルダ
ー203およびデフレクタープレート254は取り除かれ、そして、プレート(
これは、ノズルユニット221の出口ポート218に実質的に対向して配置され
、そしてこのプレートと電極221との間に電界が確立されるように、高電圧直
流電源253に連結される)に置き換えられる。使用時に、適切に設定された加
熱区域の熱的環境で、ノズルユニット221を出るエアロゾル小滴は、気相中で
均一に反応し、加熱チャンバー202で集められる粉末を提供する。エアロゾル
小滴の大きさを制御することで、超微細粉末が作製され得る。
【0119】 本発明は、以下の非限定的実施例を参照して、ここでさらに記載される。
【0120】 (実施例1) BaZrO3フィルムの蒸着のための非水性前駆体溶液を、以下のように最初
に調製する。金属バリウム(Aldrichによって供給)を、多量の2−メト
キシエタノール(Aldrichによって供給)に、室温で攪拌して完全に溶解
し、バリウムアルコキシド溶液を形成した。次いで、化学量論量のジルコニウム
n−プロポキシドのn−プロパノール中の70重量%溶液(Aldrichによ
って供給)を、バリウムメトキシオキシド溶液に添加し、そして、2−メトキシ
エタノールの沸点である124℃で5時間還流した。次いで、多量の2−メトキ
シエタノールを、還流溶液に添加し、0.05Mの前駆体溶液を得た。最初に記
載した実施形態の装置および、このようにして調製した溶液を使用して、基板温
度600℃、基板5からノズルユニット11までの距離30mm、電界電圧10
kV、エアロゾル発生装置25の圧電変換器43を1.7MHzの周波数および
50Wの電力で操作し、そしてキャリアーガスとして窒素を1分間に30ml供
給して、BaZrO3フィルムを銀基板5上に蒸着した。大気中での、バリウム
と二酸化炭素との間の反応を最少化するために、窒素をキャリアーガスとして使
用した。いずれの蒸着後熱処理の必要もなく単一の操作で形成された、得られた
フィルムは、図9で図示されるX線回折パターンによって特徴付けられる、結晶
性BaZrO3フィルムであった。
【0121】 (実施例2) CdSフィルムを蒸着するための、0.01M水性前駆体溶液を、塩化カドミ
ウムおよびチオウレアを使用して、最初に調製した。2番目に記載した実施形態
の装置およびこのようにして調製された溶液を使用して、基板温度450℃、基
板105からノズルユニット111までの距離20mm、電界電圧10kV、エ
アロゾル発生装置125の圧電変換器143を1.7MHzの周波数および50
Wの電力で操作し、蒸着時間5分、そしてキャリアーガスとして空気を1分間に
50ml供給して、CdSフィルムをガラス基板105上に蒸着した。いずれの
蒸着後熱処理の必要もなく単一の操作で形成された、得られたフィルムは、約1
μmの厚さを有する、高密度な結晶性CdSフィルムであり、柱状構造および滑
らかかつ均一な表面を有する。得られたフィルムのSEM顕微鏡写真を、図10
(a)および(b)に図示する。
【0122】 (実施例3) コロイド状シリカ溶液(LudoxTM、Dupontによって供給)を、蒸留
水で希釈し、SiO2フィルムの蒸着のための、0.1g/mlの濃度を有する水
性前駆体溶液を調製した。2番目に記載した実施形態の装置およびこのようにし
て調製した溶液を使用して、基板温度200℃、基板105からノズルユニット
111までの距離20mm、電界電圧10kV、エアロゾル発生装置125の圧
電変換器143を1.7MHzの周波数および20Wの電力で操作し、蒸着時間
1分、そしてキャリアーガスとして空気を1分間に50ml供給して、SiO2
フィルムをガラス基板105上に蒸着した。いずれの蒸着後熱処理の必要もなく
単一の操作で形成された、得られたフィルムは、網状構造を有する多孔性SiO 2 フィルムであった。得られたフィルムのSEM顕微鏡写真を、図11(a)お
よび(b)に図示する。
【0123】 最後に、本発明は、この好ましい実施形態に記載され、そして、添付の特許請
求の範囲により規定される本発明の範囲内で、多くの異なる方法によって改変さ
れ得ることが理解される。例えば、広範囲または複雑な幾何形状の被覆基板5、
105、205において、ノズルユニット11、111、211は、複数の出口
ポート18、118、218を備えるように改変され得るか、またはこのフィル
ム蒸着装置は、複数のノズルユニット11、111、211を備えるように改変
され得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は、本発明の第1実施形態に従うフィルム蒸着装置を、概略的に図示する
【図2】 図2は、図1のフィルム蒸着装置のノズルユニットの出口端の断面図を図示す
る;
【図3】 図3は、図1のフィルム蒸着装置のノズルユニットの入口端の断面図を図示す
る;
【図4】 図4は、図1のフィルム蒸着装置のノズルユニットの入口端の端面図を図示す
る;
【図5】 図5は、図1のフィルム蒸着装置のために改変されたノズルユニットの出口端
の断面図を図示する;
【図6】 図6は、本発明の第2実施形態に従うフィルム蒸着装置を、概略的に図示する
【図7】 図7は、本発明の第3実施形態に従うフィルム蒸着装置を、概略的に図示する
【図8】 図8は、図7のフィルム蒸着装置のために改変されたノズルユニットの出口端
の断面図を図示する;
【図9】 図9は、実施例1によって作製されたBaZrO3フィルムのX線回折パター
ンを図示する;
【図10】 図10(a)および(b)は、実施例2によって作製されたCdSフィルムの
、表面および横断面SEM顕微鏡写真を図示する;
【図11】 図11(a)および(b)は、実施例3によって作製された多孔質SiO2
ィルムの、表面および横断面SEM顕微鏡写真を図示する。
【手続補正書】
【提出日】平成13年7月17日(2001.7.17)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項61】 前記ノズルユニットが、前記少なくとも1つの出口の上流
の穿孔された部材を備える、請求項41〜60のいずれかに記載の装置。
【請求項62】 粉末、好ましくは超微細粉末を製造する方法であって、該
方法は、以下の工程: 加熱区域を提供する工程; 物質溶液の小滴を含むエアロゾルを生成する工程; 該加熱領域に該エアロゾルを送達するためノズルユニットを提供する工程であっ
て、該ノズルユニットは、該エアロゾルの定方向流が送達される少なくとも1つ
の出口および少なくとも1つの電極を備える、工程; 正の電荷または負の電荷で該エアロゾル小滴を荷電する工程; 該少なくとも1つの出口から該エアロゾルの定方向流を送達するため、該ノズル
ユニットを通じる該エアロゾルの流れを提供する工程;ならびに、 該定方向エアロゾル流が、該加熱領域に向かって引きつけられるように、該加熱
領域と該少なくとも1つの電極との間に電場を生成する工程であって、ここで該
エアロゾル小滴は、気相中で均一に反応して粉末を形成する、工程 を包含する、方法。
【請求項63】 粉末、好ましくは超微細粉末を製造する装置であって、該
装置は、以下: 加熱領域を提供するためのヒーター; 物質溶液の小滴を含むエアロゾルを生成するためのエアロゾル発生装置; 正の電荷または負の電荷を該エアロゾル小滴に印加するための電荷付与装置; 該加熱領域にエアロゾルを送達するためエアロゾル発生装置と連絡したノズルユ
ニットであって、該ノズルユニットは、該エアロゾルの定方向流の送達に使用さ
れる少なくとも1つの出口および少なくとも1つの電極を備える、ノズルユニッ
ト;ならびに 該定方向エアロゾル流が該加熱領域に向かって引きつけられるのに使用するよう
に、該加熱領域と該少なくとも1つの電極との間に電場を生成するための高電圧
供給源であって、ここで該エアロゾル小滴は、気相中で均一に反応して粉末を形
成する、高電圧供給源、 を備える、装置。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0086
【補正方法】削除
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0087
【補正方法】削除
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0109
【補正方法】削除
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0110
【補正方法】削除
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0111
【補正方法】削除
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0112
【補正方法】削除
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0113
【補正方法】削除
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0114
【補正方法】削除
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0115
【補正方法】削除
【手続補正11】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0116
【補正方法】削除
【手続補正12】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0117
【補正方法】削除
【手続補正13】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0118
【補正方法】削除
【手続補正14】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0120
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0120】 (実施例1) BaZrO3フィルムの蒸着のための非水性前駆体溶液を、以下のように最初
に調製する。金属バリウム(Aldrichによって供給)を、多量の2−メト
キシエタノール(Aldrichによって供給)に、室温で攪拌して完全に溶解
し、バリウムアルコキシド溶液を形成した。次いで、化学量論量のジルコニウム
n−プロポキシドのn−プロパノール中の70重量%溶液(Aldrichによ
って供給)を、バリウムメトキシオキシド溶液に添加し、そして、2−メトキシ
エタノールの沸点である124℃で5時間還流した。次いで、多量の2−メトキ
シエタノールを、還流溶液に添加し、0.05Mの前駆体溶液を得た。最初に記
載した実施形態の装置および、このようにして調製した溶液を使用して、基板温
度600℃、基板5からノズルユニット11までの距離30mm、電界電圧10
kV、エアロゾル発生装置25の圧電変換器43を1.7MHzの周波数および
50Wの電力で操作し、そしてキャリアーガスとして窒素を1分間に30ml供
給して、BaZrO3フィルムを銀基板5上に蒸着した。大気中での、バリウム
と二酸化炭素との間の反応を最少化するために、窒素をキャリアーガスとして使
用した。いずれの蒸着後熱処理の必要もなく単一の操作で形成された、得られた
フィルムは、図で図示されるX線回折パターンによって特徴付けられる、結晶
性BaZrO3フィルムであった。
【手続補正15】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0121
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0121】 (実施例2) CdSフィルムを蒸着するための、0.01M水性前駆体溶液を、塩化カドミ
ウムおよびチオウレアを使用して、最初に調製した。2番目に記載した実施形態
の装置およびこのようにして調製された溶液を使用して、基板温度450℃、基
板105からノズルユニット111までの距離20mm、電界電圧10kV、エ
アロゾル発生装置125の圧電変換器143を1.7MHzの周波数および50
Wの電力で操作し、蒸着時間5分、そしてキャリアーガスとして空気を1分間に
50ml供給して、CdSフィルムをガラス基板105上に蒸着した。いずれの
蒸着後熱処理の必要もなく単一の操作で形成された、得られたフィルムは、約1
μmの厚さを有する、高密度な結晶性CdSフィルムであり、柱状構造および滑
らかかつ均一な表面を有する。得られたフィルムのSEM顕微鏡写真を、図
a)および(b)に図示する。
【手続補正16】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0122
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0122】 (実施例3) コロイド状シリカ溶液(LudoxTM、Dupontによって供給)を、蒸留
水で希釈し、SiO2フィルムの蒸着のための、0.1g/mlの濃度を有する水
性前駆体溶液を調製した。2番目に記載した実施形態の装置およびこのようにし
て調製した溶液を使用して、基板温度200℃、基板105からノズルユニット
111までの距離20mm、電界電圧10kV、エアロゾル発生装置125の圧
電変換器143を1.7MHzの周波数および20Wの電力で操作し、蒸着時間
1分、そしてキャリアーガスとして空気を1分間に50ml供給して、SiO2
フィルムをガラス基板105上に蒸着した。いずれの蒸着後熱処理の必要もなく
単一の操作で形成された、得られたフィルムは、網状構造を有する多孔性SiO 2 フィルムであった。得られたフィルムのSEM顕微鏡写真を、図(a)およ
び(b)に図示する。
【手続補正17】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0123
【補正方法】変更
【補正の内容】
【0123】 最後に、本発明は、この好ましい実施形態に記載され、そして、添付の特許請
求の範囲により規定される本発明の範囲内で、多くの異なる方法によって改変さ
れ得ることが理解される。例えば、広範囲または複雑な幾何形状の被覆基板5、
105において、ノズルユニット11、111は、複数の出口ポート18、11
8を備えるように改変され得るか、またはこのフィルム蒸着装置は、複数のノズ
ルユニット11、111を備えるように改変され得る。
【手続補正18】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は、本発明の第1実施形態に従うフィルム蒸着装置を、概略的に図示する
【図2】 図2は、図1のフィルム蒸着装置のノズルユニットの出口端の断面図を図示す
る。
【図3】 図3は、図1のフィルム蒸着装置のノズルユニットの入口端の断面図を図示す
る。
【図4】 図4は、図1のフィルム蒸着装置のノズルユニットの入口端の端面図を図示す
る。
【図5】 図5は、図1のフィルム蒸着装置のために改変されたノズルユニットの出口端
の断面図を図示する。
【図6】 図6は、本発明の第2実施形態に従うフィルム蒸着装置を、概略的に図示する
【図】 図は、実施例1によって作製されたBaZrO3フィルムのX線回折パター
ンを図示する。
【図】 図(a)および(b)は、実施例2によって作製されたCdSフィルムの、
表面および横断面SEM顕微鏡写真を図示する。
【図】 図(a)および(b)は、実施例3によって作製された多孔質SiO2フィ
ルムの、表面および横断面SEM顕微鏡写真を図示する。
【手続補正19】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B05D 3/10 B05D 3/10 E C23C 16/455 C23C 16/455 16/46 16/46 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZW ),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU, TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN,C R,CU,CZ,DE,DK,DM,EE,ES,FI ,GB,GD,GE,GH,GM,HR,HU,ID, IL,IN,IS,JP,KE,KG,KP,KR,K Z,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MA ,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ, PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,S K,SL,TJ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG ,US,UZ,VN,YU,ZA,ZW (72)発明者 メイ, ジュンファ イギリス国 ビー29 6アールエックス バーミンガム, セリー オーク, ダー リー ディーン ロード 114 (72)発明者 スー, ボー イギリス国 ビー14 6エイチエル バー ミンガム, キングスヒース, フー ロ ード 21 Fターム(参考) 4D075 AC06 AC07 BB23X BB81Y BB85Y DA06 EA12 4F034 AA10 CA02 DA26 4G075 AA24 AA27 BC01 CA02 CA14 CA65 EB01 EC01 EC21 4K030 AA03 AA09 AA11 AA16 BA01 BA03 BA22 BA42 BA44 BA50 CA02 CA06 EA01 EA03 JA10 LA25

Claims (65)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に、物質、好ましくはフィルムを蒸着させる方法であ
    って、該方法は、以下の工程: 基板を提供する工程; 該基板を加熱する工程; 物質溶液の小滴を含むエアロゾルを生成する工程; 該基板に該エアロゾルを送達するためのノズルユニットを提供する工程であって
    、該ノズルユニットは、該エアロゾルの定方向流が送達される少なくとも1つの
    出口および少なくとも1つの電極を備える、工程; 正の電荷または負の電荷で該エアロゾル小滴を荷電する工程; 該少なくとも1つの出口から該エアロゾルの定方向流を送達するため、該ノズル
    ユニットを通じる該エアロゾルの流れを提供する工程;ならびに、 該定方向エアロゾル流が該基板に向かって引きつけられるように、該基板と該少
    なくとも1つの電極との間に電場を生成する工程、 を包含する、方法。
  2. 【請求項2】 前記基板が、約1050℃未満、好ましくは約800℃未満
    の温度に加熱される、請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記基板が、蒸着の間に加熱される、請求項1または2に記
    載の方法。
  4. 【請求項4】 温度環境が、前記基板から離れて前記ノズルユニットに向か
    って低下する温度勾配を維持するようである、請求項3に記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記物質溶液が、水溶液である、請求項1から4のいずれか
    に記載の方法。
  6. 【請求項6】 前記物質溶液が、非水溶液である、請求項1から4のいずれ
    かに記載の方法。
  7. 【請求項7】 前記エアロゾル小滴が、前記少なくとも1つの出口から出る
    前に少なくとも部分的に荷電される、請求項1から6のいずれかに記載の方法。
  8. 【請求項8】 前記エアロゾル小滴が、前記少なくとも1つの出口から出る
    前に荷電される、請求項7に記載の方法。
  9. 【請求項9】 前記エアロゾル小滴が、前記少なくとも1つの出口から出た
    後に少なくとも部分的に荷電される、請求項1から7のいずれかに記載の方法。
  10. 【請求項10】 前記エアロゾル小滴が、前記少なくとも1つの電極により
    荷電される、請求項1から9のいずれかに記載の方法。
  11. 【請求項11】 前記少なくとも1つの電極が、各エアロゾル流中に、少な
    くとも部分的に配置される、請求項1から10のいずれかに記載の方法。
  12. 【請求項12】 前記少なくとも1つの電極が、前記少なくとも1つの出口
    の上流に伸びる、請求項1から11のいずれかに記載の方法。
  13. 【請求項13】 前記少なくとも1つの電極が、細長いエレメントを備える
    、請求項1から12のいずれかに記載の方法。
  14. 【請求項14】 前記少なくとも1つの電極の遠位端が、前記少なくとも1
    つの出口の実質的に中央に配置される、請求項1から13のいずれかに記載の方
    法。
  15. 【請求項15】 前記少なくとも1つの電極の遠位端が、単一の先端部を備
    える、請求項1から14のいずれかに記載の方法。
  16. 【請求項16】 前記少なくとも1つの電極の遠位端が、複数の先端部を備
    える、請求項1から14のいずれかに記載の方法。
  17. 【請求項17】 前記ノズルユニットが各出口の上流の管状部分を備える、
    請求項1から16のいずれかに記載の方法。
  18. 【請求項18】 前記管状部分が、細長い部分である、請求項17に記載の
    方法。
  19. 【請求項19】 前記管状部分が、直線部分である、請求項17または18
    に記載の方法。
  20. 【請求項20】 前記管状部分が、実質的に円柱状である、請求項17〜1
    9のいずれかに記載の方法。
  21. 【請求項21】 前記少なくとも1つの電極が結合する実質的に管状部分全
    体を通じて伸長する、請求項17〜20のいずれかに記載の方法。
  22. 【請求項22】 前記少なくとも1つの電極が、実質的に、結合する管状部
    分の中央軸にそって伸長する、請求項17〜21のいずれかに記載の方法。
  23. 【請求項23】 前記管状部分の少なくとも内部表面が、絶縁物質からなる
    、請求項1〜22のいずれかに記載の方法。
  24. 【請求項24】 前記エアロゾル流が、前記ノズルユニットへ供給されたキ
    ャリアガス流中に該エアロゾルを巻き込むことにより提供される、請求項1〜2
    3のいずれかに記載の方法。
  25. 【請求項25】 前記エアロゾル流が、前記ノズルユニットを通じて吸引さ
    れたキャリアガス流中に該エアロゾルを巻き込むために、前記少なくとも1つの
    出口に減圧を適用することにより提供される、請求項1〜23のいずれかに記載
    の方法。
  26. 【請求項26】 前記キャリアガスが、前記物質溶液に反応性のガスである
    、請求項24または25に記載の方法。
  27. 【請求項27】 前記キャリアガスが、前記物質溶液に非反応性のガスであ
    る、請求項24または25に記載の方法。
  28. 【請求項28】 前記キャリアガスの流れが、低下する温度勾配を維持する
    ために提供される、請求項4に従属する、請求項24〜27のいずれかに記載の
    方法。
  29. 【請求項29】 前記エアロゾルが、1分あたり少なくとも0.2μm、好
    ましくは、1分あたり少なくとも1μm、より好ましくは1分あたり少なくとも
    2μmのフィルム成長速度を達成するように前記基板に送達される、請求項1〜
    28のいずれかに記載の方法。
  30. 【請求項30】 前記少なくとも1つの出口を通じる前記流速が、1分あた
    り少なくとも5ml、好ましくは、1分あたり少なくとも50mlである、請求
    項1〜29のいずれかに記載の方法。
  31. 【請求項31】 前記少なくとも1つの出口からの前記定方向エアロゾル流
    が上向き、好ましくは実質的に鉛直上向きであるように、前記ノズルユニットが
    構成される、請求項1〜30のいずれかに記載の方法。
  32. 【請求項32】 前記ノズルユニットが前記少なくとも1つの出口の上流の
    穿孔した部材を備える、請求項1〜31のいずれかに記載の方法。
  33. 【請求項33】 前記印加された電圧が約35kV未満、好ましくは約20
    kV未満である、請求項1〜32のいずれかに記載の方法。
  34. 【請求項34】 前記少なくとも1つの出口と前記基板との間の距離が、約
    100mm未満、好ましくは約50mm未満である、請求項1〜33のいずれか
    に記載の方法。
  35. 【請求項35】 前記基板が、前記ノズルユニットに対して静止して保持さ
    れる、請求項1〜34のいずれかに記載の方法。
  36. 【請求項36】 前記基板に対して、前記ノズルユニットを移動する工程を
    さらに包含する、請求項1〜34のいずれかに記載の方法。
  37. 【請求項37】 前記基板が、前記ノズルユニットに対して、回転され、傾
    けられ、そして/または平行移動される、請求項36に記載の方法。
  38. 【請求項38】 大気圧下で実行される、請求項1〜37のいずれかに記載
    の方法。
  39. 【請求項39】 大気圧未満で実行される、請求項1〜37のいずれかに記
    載の方法。
  40. 【請求項40】 大気圧より上で実行される、請求項1〜37のいずれかに
    記載の方法。
  41. 【請求項41】 基板上に、物質、好ましくはフィルムを蒸着させる装置で
    あって、該装置は、以下: 基板を保持するための基板ホルダー; 該基板を加熱するためのヒーター; 物質溶液の小滴を含むエアロゾルを生成するエアロゾル発生装置; 正の電荷または負の電荷を該エアロゾル小滴に印加するための電荷付与装置; 該基板に該エアロゾルを送達するため該エアロゾル発生装置と連絡したノズルユ
    ニットであって、該ノズルユニットは、使用中にエアロゾルの定方向流の送達に
    用いられる少なくとも1つの出口および少なくとも1つの電極を備える、ノズル
    ユニット;ならびに 該定方向エアロゾル流が基板に向かって引きつけられるのに使用するように、該
    基板と該少なくとも1つの電極との間に電場を生成するための高電圧供給源、 を備える、装置。
  42. 【請求項42】 前記基板から離れて前記ノズルユニットに向かって低下す
    る温度勾配を維持するように構成された、請求項41に記載の装置。
  43. 【請求項43】 前記少なくとも1つの電極が、前記少なくとも1つの出口
    の上流に伸びる、請求項41または42に記載の装置。
  44. 【請求項44】 前記少なくとも1つの電極が、細長いエレメントを備える
    、請求項41〜43のいずれかに記載の装置。
  45. 【請求項45】 前記少なくとも1つの電極の遠位端が、前記少なくとも1
    つの出口の実質的に中央に配置される、請求項41から44のいずれかに記載の
    装置。
  46. 【請求項46】 前記少なくとも1つの電極の遠位端が、単一の先端部を備
    える、請求項41から45のいずれかに記載の装置。
  47. 【請求項47】 前記少なくとも1つの電極の遠位端が、複数の先端部を備
    える、請求項41から45のいずれかに記載の装置。
  48. 【請求項48】 前記ノズルユニットが各出口の上流の管状部分を備える、
    請求項41から47のいずれかに記載の装置。
  49. 【請求項49】 前記管状部分が、細長い部分である、請求項48に記載の
    装置。
  50. 【請求項50】 前記管状部分が、直線部分である、請求項48または49
    に記載の装置。
  51. 【請求項51】 前記管状部分が、実質的に円柱状である、請求項48〜5
    0のいずれかに記載の装置。
  52. 【請求項52】 前記少なくとも1つの電極が、実質的に、結合する管状部
    分全体を通じて伸長する、請求項48〜51のいずれかに記載の装置。
  53. 【請求項53】 前記少なくとも1つの電極が、実質的に、結合する管状部
    分の中央軸にそって伸長する、請求項48〜52のいずれかに記載の装置。
  54. 【請求項54】 前記管状部分の少なくとも内部表面が、絶縁物質からなる
    、請求項48〜53のいずれかに記載の装置。
  55. 【請求項55】 エアロゾルを巻き込むためのキャリアガス流を供給し、そ
    して前記ノズルユニットを通じて該キャリアガス流を送達するための、エアロゾ
    ル発生装置と連絡したガス供給ユニットをさらに備える、請求項41〜54のい
    ずれかに記載の装置。
  56. 【請求項56】 前記少なくとも1つの出口が、上向き、好ましくは実質的
    に鉛直上向きである、請求項41〜55のいずれかに記載の装置。
  57. 【請求項57】 前記少なくとも1つの出口と前記基板との間の前記距離が
    、約100mm未満、好ましくは約50mm未満である、請求項41〜56のい
    ずれかに記載の装置。
  58. 【請求項58】 前記ノズルユニットおよび前記基板が固定された関係で保
    持される、請求項41〜57のいずれかに記載の装置。
  59. 【請求項59】 前記ノズルユニットおよび前記基板が、互いに対して可動
    であるように構成される、請求項41〜57のいずれかに記載の装置。
  60. 【請求項60】 前記基板が、前記ノズルユニットに対して、回転可能で、
    傾斜可能で、そして/または平行移動可能である、請求項59に記載の装置。
  61. 【請求項61】 前記基板ホルダーを囲むためのチャンバをさらに備える、
    請求項41〜60のいずれかに記載の装置。
  62. 【請求項62】 前記チャンバに、さらなるガスを別々に送達するための該
    チャンバと連絡するさらなるガス供給ユニットをさらに備える、請求項61に記
    載の装置。
  63. 【請求項63】 前記ノズルユニットが、前記少なくとも1つの出口の上流
    の穿孔された部材を備える、請求項41〜62のいずれかに記載の装置。
  64. 【請求項64】 粉末、好ましくは超微細粉末を製造する方法であって、該
    方法は、以下の工程: 加熱区域を提供する工程; 物質溶液の小滴を含むエアロゾルを生成する工程; 該加熱領域に該エアロゾルを送達するためノズルユニットを提供する工程であっ
    て、該ノズルユニットは、該エアロゾルの定方向流が送達される少なくとも1つ
    の出口および少なくとも1つの電極を備える、工程; 正の電荷または負の電荷で該エアロゾル小滴を荷電する工程; 該少なくとも1つの出口から該エアロゾルの定方向流を送達するため、該ノズル
    ユニットを通じる該エアロゾルの流れを提供する工程;ならびに、 該定方向エアロゾル流が、該加熱領域に向かって引きつけられるように、該加熱
    領域と該少なくとも1つの電極との間に電場を生成する工程であって、ここで該
    エアロゾル小滴は、気相中で均一に反応して粉末を形成する、工程 を包含する、方法。
  65. 【請求項65】 粉末、好ましくは超微細粉末を製造する装置であって、該
    装置は、以下: 加熱領域を提供するためのヒーター; 物質溶液の小滴を含むエアロゾルを生成するためのエアロゾル発生装置; 正の電荷または負の電荷を該エアロゾル小滴に印加するための電荷付与装置; 該加熱領域にエアロゾルを送達するためエアロゾル発生装置と連絡したノズルユ
    ニットであって、該ノズルユニットは、該エアロゾルの定方向流の送達に使用さ
    れる少なくとも1つの出口および少なくとも1つの電極を備える、ノズルユニッ
    ト;ならびに 該定方向エアロゾル流が該加熱領域に向かって引きつけられるのに使用するよう
    に、該加熱領域と該少なくとも1つの電極との間に電場を生成するための高電圧
    供給源であって、ここで該エアロゾル小滴は、気相中で均一に反応して粉末を形
    成する、高電圧供給源、 を備える、装置。
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