JP2002532245A - 流動床処理システム - Google Patents
流動床処理システムInfo
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B7/00—Spraying apparatus for discharge of liquids or other fluent materials from two or more sources, e.g. of liquid and air, of powder and gas
- B05B7/02—Spray pistols; Apparatus for discharge
- B05B7/06—Spray pistols; Apparatus for discharge with at least one outlet orifice surrounding another approximately in the same plane
- B05B7/062—Spray pistols; Apparatus for discharge with at least one outlet orifice surrounding another approximately in the same plane with only one liquid outlet and at least one gas outlet
- B05B7/066—Spray pistols; Apparatus for discharge with at least one outlet orifice surrounding another approximately in the same plane with only one liquid outlet and at least one gas outlet with an inner liquid outlet surrounded by at least one annular gas outlet
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2/00—Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic
- B01J2/16—Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic by suspending the powder material in a gas, e.g. in fluidised beds or as a falling curtain
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Abstract
(57)【要約】
本発明の一実施形態による噴霧装置を備えた流動床処理システムは、拡大チャンバーと、拡大チャンバー内へと伸びる少なくとも１つの噴霧装置とを具備する。噴霧装置は、噴霧装置に沿って間隔を置いて並べられる複数のシングルノズルを有し、また各シングルノズルに接続される少なくとも１つの流体路を有する。
Description
（技術分野） 本発明は、一般に流動床処理システムに関し、より詳細には、流動床処理シス
テム用の複数のシングルノズルを備えたスプレーガンおよびその方法に関する。
（背景技術）
テム用の複数のシングルノズルを備えたスプレーガンおよびその方法に関する。
（背景技術）
【０００１】 流動床処理システムおよび方法は、種々の異なる用途で使用することができる
。例えば、流動床処理システムおよび方法は、湿潤粒子を乾燥してさらに処理ま
たは放出するために使用することができる。流動床処理システムおよび方法はま
た、識別されたコアの上に識別可能な層を均等に形成することによって、粒子を
被覆するために使用することもできる。さらに、流動床処理システムおよび方法
は、粒子をより大きい集塊に粒状化するために使用することができ、集塊内で元
の粒子を依然として識別することができる。
。例えば、流動床処理システムおよび方法は、湿潤粒子を乾燥してさらに処理ま
たは放出するために使用することができる。流動床処理システムおよび方法はま
た、識別されたコアの上に識別可能な層を均等に形成することによって、粒子を
被覆するために使用することもできる。さらに、流動床処理システムおよび方法
は、粒子をより大きい集塊に粒状化するために使用することができ、集塊内で元
の粒子を依然として識別することができる。
【０００２】 流動床処理システムおよび方法では、処理される粒子がプロダクト・チャンバ
ー内に装填され、次いで膨張チャンバー内に流動化される。粒子を被覆または粒
状化しようとする場合、粒子に溶液が噴射される。溶液により、粒子上に層が被
覆されるか、または粒子が凝集して大きい粒子を形成し始めるかのいずれかであ
る。粒子は膨張チャンバー内を下降しながら乾燥し、次いで上方に吹き戻される
。この上昇および下降プロセスは、粒子が乾燥し、かつ／または所望の被覆また
は凝集が発生するまで続く。次いで、粒子は容器から放出される。
ー内に装填され、次いで膨張チャンバー内に流動化される。粒子を被覆または粒
状化しようとする場合、粒子に溶液が噴射される。溶液により、粒子上に層が被
覆されるか、または粒子が凝集して大きい粒子を形成し始めるかのいずれかであ
る。粒子は膨張チャンバー内を下降しながら乾燥し、次いで上方に吹き戻される
。この上昇および下降プロセスは、粒子が乾燥し、かつ／または所望の被覆また
は凝集が発生するまで続く。次いで、粒子は容器から放出される。
【０００３】 先行の流動床処理システムおよび方法では、典型的には３つのノズルを１つの
グループとするノズル群またはノズルセットを有するスプレーガンを使用して溶
液が吹き付けられる。所望の噴射パターンを得るために、ノズルは相互に角度を
つけて、また垂直面から角度をつけて取り付けられる。典型的には、各群のスプ
レーノズルは垂直面から約１０〜８０度の角度で取り付けられる。
グループとするノズル群またはノズルセットを有するスプレーガンを使用して溶
液が吹き付けられる。所望の噴射パターンを得るために、ノズルは相互に角度を
つけて、また垂直面から角度をつけて取り付けられる。典型的には、各群のスプ
レーノズルは垂直面から約１０〜８０度の角度で取り付けられる。
【０００４】 これらのスプレーガンの問題の１つは、噴射が膨張チャンバー全体で重複しな
いように、ノズル群を相互に、あるいは膨張チャンバーの側壁から離して配置し
なければならないということである。残念なことに、噴射の重複を避けるために
ノズル群間に間隔が必要となり、それが全体の噴射率を低下させることになり、
その結果流動床処理システム全体の製造能力が低下する。
いように、ノズル群を相互に、あるいは膨張チャンバーの側壁から離して配置し
なければならないということである。残念なことに、噴射の重複を避けるために
ノズル群間に間隔が必要となり、それが全体の噴射率を低下させることになり、
その結果流動床処理システム全体の製造能力が低下する。
【０００５】 これらのスプレーガンのもう１つの問題として、各セットまたは各群のノズル
が同じフィードストリームから供給され、個々に制御できないということがある
。その結果、１つまたはそれ以上のノズルの噴射率を最適なレベルに設定できな
いことがある。
が同じフィードストリームから供給され、個々に制御できないということがある
。その結果、１つまたはそれ以上のノズルの噴射率を最適なレベルに設定できな
いことがある。
【０００６】 これらのスプレーガンのさらに別の問題として、多数の部品を必要とするため
に、ノズル群用の取付台の設置が複雑で、高価であるということがある。取付台
は追加部品なので、修理および／または交換が必要となることが多い。
に、ノズル群用の取付台の設置が複雑で、高価であるということがある。取付台
は追加部品なので、修理および／または交換が必要となることが多い。
【０００７】 （発明の概要） 本発明の一実施形態による噴射装置を備えた流動床処理システムは、膨張チャ
ンバーおよび膨張チャンバー内に伸長した少なくとも１つの噴射装置を含む。噴
射装置は複数のシングルノズルをもち、シングルノズルは噴射装置に沿って間隔
を置いて配置される。噴射装置はまた、シングルノズルに接続された少なくとも
１つの流体路も有する。噴射装置上にあるシングルノズルの各々は、他のシング
ルノズルからの噴射と実質的な相互作用をもつのを避けるために、１つの方向に
流体を吹き付けるよう位置付けられる。
ンバーおよび膨張チャンバー内に伸長した少なくとも１つの噴射装置を含む。噴
射装置は複数のシングルノズルをもち、シングルノズルは噴射装置に沿って間隔
を置いて配置される。噴射装置はまた、シングルノズルに接続された少なくとも
１つの流体路も有する。噴射装置上にあるシングルノズルの各々は、他のシング
ルノズルからの噴射と実質的な相互作用をもつのを避けるために、１つの方向に
流体を吹き付けるよう位置付けられる。
【０００８】 本発明の別の実施形態による噴射装置を備えた流動床処理システムは、膨張チ
ャンバーおよび膨張チャンバー内に伸長した少なくとも１つの噴射装置を含む。
噴射装置は噴射装置の少なくとも一部分に沿って伸長した複数の流体路と、スプ
レーガンに沿って間隔を置いて配置され、各々異なる流体路の１つに接続された
複数のシングルノズルとを含む。
ャンバーおよび膨張チャンバー内に伸長した少なくとも１つの噴射装置を含む。
噴射装置は噴射装置の少なくとも一部分に沿って伸長した複数の流体路と、スプ
レーガンに沿って間隔を置いて配置され、各々異なる流体路の１つに接続された
複数のシングルノズルとを含む。
【０００９】 本発明の別の実施形態による方法は、粒子に形成すべき材料をプロダクト・チ
ャンバーに装填し、材料の少なくとも一部をプロダクト・チャンバーから膨張チ
ャンバー内へと流動化させて、ノズルの各々からの噴射間に実質的な相互作用が
生じるのを避けるために、流体を噴射装置内の複数のシングルノズルから流動化
された粉末に選択した方向に吹き付けることを含む。
ャンバーに装填し、材料の少なくとも一部をプロダクト・チャンバーから膨張チ
ャンバー内へと流動化させて、ノズルの各々からの噴射間に実質的な相互作用が
生じるのを避けるために、流体を噴射装置内の複数のシングルノズルから流動化
された粉末に選択した方向に吹き付けることを含む。
【００１０】 本発明の別の実施形態による、流動床処理システム内の粉末から膨張した粒子
を形成する方法は、より大きな粒子に形成すべき材料をプロダクト・チャンバー
に装填し、少なくとも材料の一部をプロダクト・チャンバーから膨張チャンバー
内に流動化し、噴射装置上にある複数シングルノズルの各々に対して別々に流体
を供給し、その流体を流動化された材料に吹き付けることを含む。
を形成する方法は、より大きな粒子に形成すべき材料をプロダクト・チャンバー
に装填し、少なくとも材料の一部をプロダクト・チャンバーから膨張チャンバー
内に流動化し、噴射装置上にある複数シングルノズルの各々に対して別々に流体
を供給し、その流体を流動化された材料に吹き付けることを含む。
【００１１】 本発明による噴射装置を備えた流動床処理システムでは、先行のシステムより
多くのシングルノズルを所定の断面積内に配備することができ、従ってより高い
噴射率を達成することができる。その結果、流動床処理システム全体の生産能力
が増加する。
多くのシングルノズルを所定の断面積内に配備することができ、従ってより高い
噴射率を達成することができる。その結果、流動床処理システム全体の生産能力
が増加する。
【００１２】 さらに本発明では、先行のシステムより、良好に噴射方向を制御することがで
きる。例えば、本発明では、ノズル群またはノズルセットを備えた先行のシステ
ムで可能であったより、シングルノズルを相互に近づけて、またはシングルノズ
ルと壁を近づけて配置することができる。
きる。例えば、本発明では、ノズル群またはノズルセットを備えた先行のシステ
ムで可能であったより、シングルノズルを相互に近づけて、またはシングルノズ
ルと壁を近づけて配置することができる。
【００１３】 さらに、本発明によるシングルノズルでは、ノズル取付台がかなり簡略化され
ており、そのため、シングルノズルの取り付けや修理が容易に行える。
ており、そのため、シングルノズルの取り付けや修理が容易に行える。
【００１４】 本発明の一実施形態による塗工機、造粒機、乾燥機などの流動床処理システム
１０を図１に示す。流動床処理システム１０は、膨張チャンバー１２と複数のシ
ングルノズル１６を備えた少なくとも１つの噴射装置１４とを含む。本発明は、
より多くのシングルノズル１６を所定の断面積内に配備することができ、先行の
システムよりも噴射方向に対する優れた制御を行うことが可能であり、さらに先
行のシステムにおけるよりも簡略化されたノズル取付台１８を備えることを含め
、多数の利点を提供する。
１０を図１に示す。流動床処理システム１０は、膨張チャンバー１２と複数のシ
ングルノズル１６を備えた少なくとも１つの噴射装置１４とを含む。本発明は、
より多くのシングルノズル１６を所定の断面積内に配備することができ、先行の
システムよりも噴射方向に対する優れた制御を行うことが可能であり、さらに先
行のシステムにおけるよりも簡略化されたノズル取付台１８を備えることを含め
、多数の利点を提供する。
【００１５】 図１を参照すると、膨張チャンバー１２は開口頂部２０およびプロダクト・チ
ャンバー２６の開口頂部２４に接続された開口底部２２を有する。この特定の実
施形態では、膨張チャンバー１２は円筒形をもつが、必要または希望に応じて、
形状を変えることができる。膨張チャンバー１２は、プロダクト・チャンバー２
６から吹き上げられた、流動化された粒子Ｐを受容する。この特定の実施形態で
は、膨張チャンバー１２は、膨張チャンバー１２の周囲に伸長したフランジを有
し、フランジはボルト３２または他の固定装置で膨張チャンバー１２の下部にあ
るプロダクト・チャンバー２６のフランジ３０に固定される。しかし膨張チャン
バー１２をプロダクト・チャンバー２６に接続するためには、他の方法も使用で
きるであろう。
ャンバー２６の開口頂部２４に接続された開口底部２２を有する。この特定の実
施形態では、膨張チャンバー１２は円筒形をもつが、必要または希望に応じて、
形状を変えることができる。膨張チャンバー１２は、プロダクト・チャンバー２
６から吹き上げられた、流動化された粒子Ｐを受容する。この特定の実施形態で
は、膨張チャンバー１２は、膨張チャンバー１２の周囲に伸長したフランジを有
し、フランジはボルト３２または他の固定装置で膨張チャンバー１２の下部にあ
るプロダクト・チャンバー２６のフランジ３０に固定される。しかし膨張チャン
バー１２をプロダクト・チャンバー２６に接続するためには、他の方法も使用で
きるであろう。
【００１６】 図１および図２Ａを参照すると、噴射装置１４は膨張チャンバー１２内に伸長
している。この特定の実施形態では、噴射装置１４は実質的に直線的な長形、あ
るいは杖のような形状をもつが、必要または希望に応じて他の形状を取ることも
できる。図１に示した特定の実施形態では、流動床処理システム１０は１つの噴
射装置１４を有しているが、流動床処理システム１０は１つ以上の噴射装置１４
を有していてもよい。例えば、図３Ａの一実施形態に示すように、流動床処理シ
ステム１０は３つの噴射装置１４を有しており、また図３Ｂに示す別の実施形態
の流動床処理システム１０は８つの噴射装置１４を有している。膨張チャンバー
１２内の噴射装置１４の特定の配置も必要または希望に応じて変えることができ
る。例えば、図３Ａでは、噴射装置１４は重なり合うように配置されているが、
図３Ｂでは、噴射装置１４は重なり合わずに膨張チャンバー１２内に伸長してい
る。これらの例が示すように、噴射装置１４とシングルノズル１６とを膨張チャ
ンバー１２の周囲に位置付けることにより、噴を大きく重複させることなく、流
動化された粒子Ｐに流体を均等に吹き付けることができる。
している。この特定の実施形態では、噴射装置１４は実質的に直線的な長形、あ
るいは杖のような形状をもつが、必要または希望に応じて他の形状を取ることも
できる。図１に示した特定の実施形態では、流動床処理システム１０は１つの噴
射装置１４を有しているが、流動床処理システム１０は１つ以上の噴射装置１４
を有していてもよい。例えば、図３Ａの一実施形態に示すように、流動床処理シ
ステム１０は３つの噴射装置１４を有しており、また図３Ｂに示す別の実施形態
の流動床処理システム１０は８つの噴射装置１４を有している。膨張チャンバー
１２内の噴射装置１４の特定の配置も必要または希望に応じて変えることができ
る。例えば、図３Ａでは、噴射装置１４は重なり合うように配置されているが、
図３Ｂでは、噴射装置１４は重なり合わずに膨張チャンバー１２内に伸長してい
る。これらの例が示すように、噴射装置１４とシングルノズル１６とを膨張チャ
ンバー１２の周囲に位置付けることにより、噴を大きく重複させることなく、流
動化された粒子Ｐに流体を均等に吹き付けることができる。
【００１７】 図１および図２Ａ〜図２Ｃを参照すると、各噴射装置１４は複数のシングルノ
ズル１６を有し、これら複数のシングルノズル１６は噴射装置１４の長さ方向に
沿って広がっている。図１、図３Ａおよび図３Ｂに示した特定の実施形態では、
噴射装置１４は２つまたは４つのシングルノズル１６を有しているが、シングル
ノズル１６の数は必要または希望に応じて変えることができる。シングルノズル
１６は噴射装置１４の各々に取り付けられ、それによりプロダクト・チャンバー
２６に向けて流体またはバインダ溶液を下方に噴射することができる。この特定
の実施形態では、図１および図２Ａに示すように、スプレーの中心が軸Ｖ−Ｖに
沿って略垂直方向に向くように、シングルノズル１６が取り付けられる。しかし
、軸Ｖ−Ｖにより示される垂直面に対して所望の角度で噴射が行えるように、シ
ングルノズル１６を調節することができる。本発明の利点の１つは、ノズル群の
代わりにシングルノズル１６を使用することであり、シングルノズル１６を相互
に近づけて、また膨張チャンバー１２の側壁３４または壁に近づけて配置するこ
とができる。こう配置することにより膨張チャンバー１２の断面積のかなりの部
分に吹き付けを行うことができ、シングルノズル１６間で噴射の重なりがあった
としてもごくわずかである。シングルノズル１６の各々からの噴射は面に対して
略垂直方向をとるために、噴射できる範囲が広がり、高い噴射率が得られ、その
結果造粒機１０全体の生産の間中が向上する。
ズル１６を有し、これら複数のシングルノズル１６は噴射装置１４の長さ方向に
沿って広がっている。図１、図３Ａおよび図３Ｂに示した特定の実施形態では、
噴射装置１４は２つまたは４つのシングルノズル１６を有しているが、シングル
ノズル１６の数は必要または希望に応じて変えることができる。シングルノズル
１６は噴射装置１４の各々に取り付けられ、それによりプロダクト・チャンバー
２６に向けて流体またはバインダ溶液を下方に噴射することができる。この特定
の実施形態では、図１および図２Ａに示すように、スプレーの中心が軸Ｖ−Ｖに
沿って略垂直方向に向くように、シングルノズル１６が取り付けられる。しかし
、軸Ｖ−Ｖにより示される垂直面に対して所望の角度で噴射が行えるように、シ
ングルノズル１６を調節することができる。本発明の利点の１つは、ノズル群の
代わりにシングルノズル１６を使用することであり、シングルノズル１６を相互
に近づけて、また膨張チャンバー１２の側壁３４または壁に近づけて配置するこ
とができる。こう配置することにより膨張チャンバー１２の断面積のかなりの部
分に吹き付けを行うことができ、シングルノズル１６間で噴射の重なりがあった
としてもごくわずかである。シングルノズル１６の各々からの噴射は面に対して
略垂直方向をとるために、噴射できる範囲が広がり、高い噴射率が得られ、その
結果造粒機１０全体の生産の間中が向上する。
【００１８】 図２Ｂおよび図２Ｃを参照すると、噴射装置１４の一部分およびシングルノズ
ル１６の１つが示されている。この特定の実施形態では、シングルノズル１６を
溶接によって噴射装置１４に取り付けており、これによりシングルノズル１６内
の通路３７が流体路３６（１）に接続され、通路３９がガス通路４０に接続され
る。通路４７が通路３７と連通するように、通路４７を備えた液体インサート４
５をシングルノズル１６内の開口部４３に挿し込む。シングルノズル１６と液体
インサート４５との間の開口部４３に任意のＯリング４１を挿し込み、シールを
形成する。この特定の実施形態では、液体インサート４５が、シングルノズル１
６内の開口部４３の適所に溶接によって保持される。エアキャップ４９は液体イ
ンサート４５の上に、また部分的にシングルノズル１６の開口部４３内に設置さ
れる。この特定の実施形態では、エアキャップ４９は溶接によってシングルノズ
ル１６内の開口部４３の適所に保持される。別の任意のＯリング５３はシングル
ノズル１６とエアキャップ４９との間の開口部４３に挿入される。エアキャップ
４９は、通路４０と３９からくる空気を液体インサート４５の端部５１の周囲に
集める通路５５を有しており、これによりシングルノズル１６からの噴射が可能
となる。上述の様々な構成部品を取り付けるために溶接の使用が示されているが
、接着剤、ボルト、結合ねじ山など、他の種類の装着技術も使用することができ
る。図示したように、シングルノズル１６は先行のノズルより簡単なデザインで
あり、シングルノズル１６の取付けまたは交換は容易にできる。
ル１６の１つが示されている。この特定の実施形態では、シングルノズル１６を
溶接によって噴射装置１４に取り付けており、これによりシングルノズル１６内
の通路３７が流体路３６（１）に接続され、通路３９がガス通路４０に接続され
る。通路４７が通路３７と連通するように、通路４７を備えた液体インサート４
５をシングルノズル１６内の開口部４３に挿し込む。シングルノズル１６と液体
インサート４５との間の開口部４３に任意のＯリング４１を挿し込み、シールを
形成する。この特定の実施形態では、液体インサート４５が、シングルノズル１
６内の開口部４３の適所に溶接によって保持される。エアキャップ４９は液体イ
ンサート４５の上に、また部分的にシングルノズル１６の開口部４３内に設置さ
れる。この特定の実施形態では、エアキャップ４９は溶接によってシングルノズ
ル１６内の開口部４３の適所に保持される。別の任意のＯリング５３はシングル
ノズル１６とエアキャップ４９との間の開口部４３に挿入される。エアキャップ
４９は、通路４０と３９からくる空気を液体インサート４５の端部５１の周囲に
集める通路５５を有しており、これによりシングルノズル１６からの噴射が可能
となる。上述の様々な構成部品を取り付けるために溶接の使用が示されているが
、接着剤、ボルト、結合ねじ山など、他の種類の装着技術も使用することができ
る。図示したように、シングルノズル１６は先行のノズルより簡単なデザインで
あり、シングルノズル１６の取付けまたは交換は容易にできる。
【００１９】 図１および図２Ａ〜図２Ｄを参照すると、この特定の実施形態における噴射装
置１４は、噴射装置１４の長さ方向の少なくとも一部に沿って伸長した複数の流
体路３６（１）〜３６（４）を含む。シングルノズル１６の各々が流体路３６（
１）〜３６（４）のうちの１つの一端に接続され、流体路３６（１）〜３６（４
）の他端が、この特定の実施形態では水または有機溶媒などである流体の流体源
３８またはバインダ溶液源に接続される。流体路３６（１）〜３６（４）の各々
がシングルノズル１６の各々に接続された状態で、流量および噴射率をシングル
ノズル１６の各々において別々に調節することができる。その結果、シングルノ
ズル１６の各々からの噴射率を特定の用途に応じて任意に設定することができる
。シングルノズル１６の各々からの流体の流速を、各流体路３６（１）〜３６（
４）の内部にある弁（図示せず）で制御することができる。各弁の開放量によっ
てルノズル１６の各々に供給される流量を制御することができる。噴射装置１４
はシングルノズル１６の各々と空気などのガス源４２とに接続されたガス通路４
０を備えてもよい。流体およびガスはシングルノズル１６の各々に供給される。
置１４は、噴射装置１４の長さ方向の少なくとも一部に沿って伸長した複数の流
体路３６（１）〜３６（４）を含む。シングルノズル１６の各々が流体路３６（
１）〜３６（４）のうちの１つの一端に接続され、流体路３６（１）〜３６（４
）の他端が、この特定の実施形態では水または有機溶媒などである流体の流体源
３８またはバインダ溶液源に接続される。流体路３６（１）〜３６（４）の各々
がシングルノズル１６の各々に接続された状態で、流量および噴射率をシングル
ノズル１６の各々において別々に調節することができる。その結果、シングルノ
ズル１６の各々からの噴射率を特定の用途に応じて任意に設定することができる
。シングルノズル１６の各々からの流体の流速を、各流体路３６（１）〜３６（
４）の内部にある弁（図示せず）で制御することができる。各弁の開放量によっ
てルノズル１６の各々に供給される流量を制御することができる。噴射装置１４
はシングルノズル１６の各々と空気などのガス源４２とに接続されたガス通路４
０を備えてもよい。流体およびガスはシングルノズル１６の各々に供給される。
【００２０】 図１を参照すると、プロダクト・チャンバー２６は開口底部４４も有している
。プロダクト・チャンバーは流動床処理システム１０内に粒子Ｐを保持するため
に使用される。この特定の実施形態では、プロダクト・チャンバー２６は開口頂
部２４から下方および内側に傾斜した漏斗形を持つが、プロダクト・チャンバー
２６は部分ピラミッド形など他の形を持つことができ、必要または希望に応じて
開口頂部２４から開口底部４４まで直線的にまたは他の方向に傾斜することがで
きる。
。プロダクト・チャンバーは流動床処理システム１０内に粒子Ｐを保持するため
に使用される。この特定の実施形態では、プロダクト・チャンバー２６は開口頂
部２４から下方および内側に傾斜した漏斗形を持つが、プロダクト・チャンバー
２６は部分ピラミッド形など他の形を持つことができ、必要または希望に応じて
開口頂部２４から開口底部４４まで直線的にまたは他の方向に傾斜することがで
きる。
【００２１】 さらに、流動床処理システム１０は、流動床処理システム４６を含み、ブロワ
ー４８と、液体を開口底部４４を通してプロダクト・チャンバー２６内に、図１
で矢印に示す方向に向けるために配置された出口５２付きダクト５０とを含む。
この特定の実施形態では、ダクト５０の出口５２全体にスクリーン５４が接続さ
れているが、他の場所、例えばプロダクト・チャンバー２６の開口底部４４全体
に接続してもよい。スクリーン５４は粒子Ｐを支持するために適切なメッシュサ
イズを有する。流体供給システム４６はまた、流体を粒子Ｐの流動床処理に適し
た温度に加熱するために使用される加熱器（図示せず）を含むことができる。こ
の特定の実施形態では、流体供給システム４６によって供給される流体は空気で
あるが、必要または希望に応じて他の種類の流体を使用することができる。
ー４８と、液体を開口底部４４を通してプロダクト・チャンバー２６内に、図１
で矢印に示す方向に向けるために配置された出口５２付きダクト５０とを含む。
この特定の実施形態では、ダクト５０の出口５２全体にスクリーン５４が接続さ
れているが、他の場所、例えばプロダクト・チャンバー２６の開口底部４４全体
に接続してもよい。スクリーン５４は粒子Ｐを支持するために適切なメッシュサ
イズを有する。流体供給システム４６はまた、流体を粒子Ｐの流動床処理に適し
た温度に加熱するために使用される加熱器（図示せず）を含むことができる。こ
の特定の実施形態では、流体供給システム４６によって供給される流体は空気で
あるが、必要または希望に応じて他の種類の流体を使用することができる。
【００２２】 流体供給システム４６用のダクト５０の出口５２とプロダクト・チャンバー２
６の開口底部４４との間に放出開口５６が画定され、実質的にその周囲に伸長し
ている。放出開口５６は粒子Pをプロダクト・チャンバー２６から急速に放出さ
せるための通路を提供する。この特定の実施形態では、放出開口５６はダクト５
０の出口５２とプロダクト・チャンバー２６の開口底部４４との間に配置されて
いるが、他の場所、例えば開口底部４４に隣接したプロダクト・チャンバー２６
内に配置してもよい。
６の開口底部４４との間に放出開口５６が画定され、実質的にその周囲に伸長し
ている。放出開口５６は粒子Pをプロダクト・チャンバー２６から急速に放出さ
せるための通路を提供する。この特定の実施形態では、放出開口５６はダクト５
０の出口５２とプロダクト・チャンバー２６の開口底部４４との間に配置されて
いるが、他の場所、例えば開口底部４４に隣接したプロダクト・チャンバー２６
内に配置してもよい。
【００２３】 収集チャンバー５８がプロダクト・チャンバー２６に接続され、放出開口５６
の近くに配置される。収集チャンバーは放出開口５６が露出されるかまたは開か
れたときに、プロダクト・チャンバー２６から粒子Ｐを受容する。
の近くに配置される。収集チャンバーは放出開口５６が露出されるかまたは開か
れたときに、プロダクト・チャンバー２６から粒子Ｐを受容する。
【００２４】 側部放出機構６０が、取付け構造（図示せず）を備えたプロダクト・チャンバ
ー２６の内部に取り付けられ、放出開口５６を覆う第１位置、放出開口５６を露
出させる第２の位置、および放出開口５６を部分的に露出させて放出量を制御す
ることを可能にする中間位置に、取り付け構造内で移動することができる。この
特定の実施形態では、側部放出機構６０がプロダクト・チャンバー２６の内側に
配置されている。側部放出機構６０は、側部放出機構６０が第１位置、第２位置
および中間位置に移動することができる限り、プロダクト・チャンバー２６の外
側など他の位置に取り付けることができる。
ー２６の内部に取り付けられ、放出開口５６を覆う第１位置、放出開口５６を露
出させる第２の位置、および放出開口５６を部分的に露出させて放出量を制御す
ることを可能にする中間位置に、取り付け構造内で移動することができる。この
特定の実施形態では、側部放出機構６０がプロダクト・チャンバー２６の内側に
配置されている。側部放出機構６０は、側部放出機構６０が第１位置、第２位置
および中間位置に移動することができる限り、プロダクト・チャンバー２６の外
側など他の位置に取り付けることができる。
【００２５】 流動床処理システム１０はさらに膨張チャンバー１２の開口頂部２０全体に接
続されたフィルタ６２を含んでもよい。フィルタ６２は、空気を膨張チャンバー
１２の開口頂部２０から放出する前に、空気中の流動化された粒子Ｐを除去する
ために使用される。捕捉された粒子Ｐを膨張チャンバー１２およびプロダクト・
チャンバー２６の方向に戻すのに、フィルタ６２を定期的に振動させるために、
撹拌機構（図示せず）をフィルタ６２に接続することができる。
続されたフィルタ６２を含んでもよい。フィルタ６２は、空気を膨張チャンバー
１２の開口頂部２０から放出する前に、空気中の流動化された粒子Ｐを除去する
ために使用される。捕捉された粒子Ｐを膨張チャンバー１２およびプロダクト・
チャンバー２６の方向に戻すのに、フィルタ６２を定期的に振動させるために、
撹拌機構（図示せず）をフィルタ６２に接続することができる。
【００２６】 図１および図２Ａ〜図２Ｄを参照しながら粒子Ｐの流動床処理のための１つの
方法を論じる。第一に、側部放出機構６０を第１位置に移動して、放出開口５６
を覆う。次に、単一または複数の成分を含む粉末などの処理される粒子Ｐはプロ
ダクト・チャンバー２６内に装填される。
方法を論じる。第一に、側部放出機構６０を第１位置に移動して、放出開口５６
を覆う。次に、単一または複数の成分を含む粉末などの処理される粒子Ｐはプロ
ダクト・チャンバー２６内に装填される。
【００２７】 ひとたび粒子Ｐがプロダクト・チャンバー２６内に装填されると、流体供給シ
ステム４６はこの特定の例では、空気などの流体をダクト５０を介して、粒子Ｐ
に供給することに従事する。吹き付けられる空気は、粒子Ｐの撹拌を助け、粒子
Ｐの一部を流動化して膨張チャンバー１２内に吹き上げる。一方、加熱器は吹き
付けられる流体を被覆や凝集プロセスなど特定の流動床処理に適した温度に加熱
する。
ステム４６はこの特定の例では、空気などの流体をダクト５０を介して、粒子Ｐ
に供給することに従事する。吹き付けられる空気は、粒子Ｐの撹拌を助け、粒子
Ｐの一部を流動化して膨張チャンバー１２内に吹き上げる。一方、加熱器は吹き
付けられる流体を被覆や凝集プロセスなど特定の流動床処理に適した温度に加熱
する。
【００２８】 次に、この特定の例では、膨張チャンバー１２内の噴射装置１４は流動化され
た粒子Ｐ上に、シングルノズル１６からバインダ溶液などの溶液を吹き付けるこ
とに従事する。本発明では、図３Ａおよび図３Ｂの例で示されるように、膨張チ
ャンバー１２の断面積の略全体を覆うように、またスプレーを膨張チャンバー１
２の側壁に隣接すらさせて、シングルノズル１６を配置することができる。また
、実質的な重複なしに、シングルノズル１６を相互に近づけて配置することがで
きるので、高い噴射率が得られる。それにより流動床処理システム１０の全体的
な生産能力は増加する。さらに、シングルノズル１６の各々を噴射装置１４内の
異なる流体路３６に接続して、シングルノズル１６の各々からの噴射量を特定の
用途に応じて最適化することができる。
た粒子Ｐ上に、シングルノズル１６からバインダ溶液などの溶液を吹き付けるこ
とに従事する。本発明では、図３Ａおよび図３Ｂの例で示されるように、膨張チ
ャンバー１２の断面積の略全体を覆うように、またスプレーを膨張チャンバー１
２の側壁に隣接すらさせて、シングルノズル１６を配置することができる。また
、実質的な重複なしに、シングルノズル１６を相互に近づけて配置することがで
きるので、高い噴射率が得られる。それにより流動床処理システム１０の全体的
な生産能力は増加する。さらに、シングルノズル１６の各々を噴射装置１４内の
異なる流体路３６に接続して、シングルノズル１６の各々からの噴射量を特定の
用途に応じて最適化することができる。
【００２９】 流動化された粒子Ｐが噴射装置１４からの溶液で湿潤化されるにつれて、その
増加した重量のため、材料Ｍが膨張チャンバー１２の底部へと下降し始める。粒
子Ｐが下降するにつれて、それらは乾燥され、膨張チャンバー１２内で再び吹き
上げられてさらに被覆されるか、あるいはさらに多くの材料を収集させる。この
特定の処理が完了するまで、例えば、粒子に充分な数の層が被覆されるまで、粒
子Ｐはこの上昇と下降のプロセスを続ける。このプロセス中に、フィルタ６２に
より捕獲された粒子Ｐを膨張チャンバー１２およびプロダクト・チャンバー２６
に向かって下方に解放するために、フィルタ６２は定期的に振動される。
増加した重量のため、材料Ｍが膨張チャンバー１２の底部へと下降し始める。粒
子Ｐが下降するにつれて、それらは乾燥され、膨張チャンバー１２内で再び吹き
上げられてさらに被覆されるか、あるいはさらに多くの材料を収集させる。この
特定の処理が完了するまで、例えば、粒子に充分な数の層が被覆されるまで、粒
子Ｐはこの上昇と下降のプロセスを続ける。このプロセス中に、フィルタ６２に
より捕獲された粒子Ｐを膨張チャンバー１２およびプロダクト・チャンバー２６
に向かって下方に解放するために、フィルタ６２は定期的に振動される。
【００３０】 ひとたび処理が完了すると、噴射装置１４は作動を停止する。その間、流体供
給システム４６は粒子Ｐを乾燥するためにプロダクト・チャンバー２６内に流体
を供給し続ける。ひとたび膨張した粒子Ｐが乾燥すると、流体供給システム４６
は作動を停止する。
給システム４６は粒子Ｐを乾燥するためにプロダクト・チャンバー２６内に流体
を供給し続ける。ひとたび膨張した粒子Ｐが乾燥すると、流体供給システム４６
は作動を停止する。
【００３１】 粒子Ｐは、プロダクト・チャンバー２６内に側部放出機構６０および放出開口
５６に隣接して蓄積される。側部放出機構６０は第１位置から第２位置または中
間位置に移動して、放出開口５６を少なくとも部分的に露出するかまたは開放す
る。放出量は、放出開口５６側部放出機構６０により開放される大きさを制御す
ることによって、制御することができる。放出開口５６はプロダクト・チャンバ
ー２６の略周囲に伸長しているので、粒子Ｐをプロダクト・チャンバー２６から
素早く、また容易に除去することができる。ひとたび全ての粒子Ｐがプロダクト
・チャンバー２６から放出されると、側部放出機構６０は第２または中間位置か
ら第１位置に移動して放出開口５６を覆う。プロダクト・チャンバー２６は今や
、次の流動床処理プロセスを開始するためにさらなる粒子Ｐを受容する用意がで
きている。
５６に隣接して蓄積される。側部放出機構６０は第１位置から第２位置または中
間位置に移動して、放出開口５６を少なくとも部分的に露出するかまたは開放す
る。放出量は、放出開口５６側部放出機構６０により開放される大きさを制御す
ることによって、制御することができる。放出開口５６はプロダクト・チャンバ
ー２６の略周囲に伸長しているので、粒子Ｐをプロダクト・チャンバー２６から
素早く、また容易に除去することができる。ひとたび全ての粒子Ｐがプロダクト
・チャンバー２６から放出されると、側部放出機構６０は第２または中間位置か
ら第１位置に移動して放出開口５６を覆う。プロダクト・チャンバー２６は今や
、次の流動床処理プロセスを開始するためにさらなる粒子Ｐを受容する用意がで
きている。
【００３２】 この例が示すように、シングルノズル１６を備えた噴射装置１４は膨張チャン
バー１２の側壁３４の隣を含む、膨張チャンバー１２の大きな断面積を覆うよう
に、配置することができる。さらに、シングルノズル１６の各々に別個の流体路
３６を備えて、噴射の制御を良好にすることができる。また、シングルノズル１
６の簡略化されたデザインにより、シングルノズル１６の取付けおよび交換が容
易である。
バー１２の側壁３４の隣を含む、膨張チャンバー１２の大きな断面積を覆うよう
に、配置することができる。さらに、シングルノズル１６の各々に別個の流体路
３６を備えて、噴射の制御を良好にすることができる。また、シングルノズル１
６の簡略化されたデザインにより、シングルノズル１６の取付けおよび交換が容
易である。
【００３３】 こうして本発明の基本的概念を記述したが、上で詳述した開示は例として提示
することを意図しており、制限ではないことが当業者には明らかであろう。ここ
で明示的に記述しないが、様々な変形、改善、および変更を当業者は思い付くで
あろう。これらの交替、改善、および変更はこれにより示唆されているものとし
、発明の精神および範囲の内である。従って、本発明は請求の範囲の記述および
その均等物によってのみ限定される。
することを意図しており、制限ではないことが当業者には明らかであろう。ここ
で明示的に記述しないが、様々な変形、改善、および変更を当業者は思い付くで
あろう。これらの交替、改善、および変更はこれにより示唆されているものとし
、発明の精神および範囲の内である。従って、本発明は請求の範囲の記述および
その均等物によってのみ限定される。
【図１】 図１は本発明の一実施形態による噴射装置を備えた流動床処理システムの断
面図である。
面図である。
【図２】 図２Ａは噴射装置の部分側面図と部分断面図である。 図２Ｂは噴射装置と１つのスプレーノズルの一部分の拡大図である。 図２Ｃは図２Ｂに示した噴射装置とスプレーノズルの一部分の分解図である
。 図２Ｄは図２Ａにおける線２Ｄ−２Ｄに沿って切った噴射装置の断面図であ
る。
。 図２Ｄは図２Ａにおける線２Ｄ−２Ｄに沿って切った噴射装置の断面図であ
る。
【図３】 図３Ａは噴射装置に可能な１つの構成を示す膨張チャンバーの断面図である
。 図３Ｂは噴射装置に可能な別の構成を示す膨張チャンバーの断面図である。
。 図３Ｂは噴射装置に可能な別の構成を示す膨張チャンバーの断面図である。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書 【提出日】平成１２年１２月１５日（２０００．１２．１５） 【手続補正１】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】特許請求の範囲 【補正方法】変更 【補正内容】 【特許請求の範囲】 【請求項１】 粒子の流動床処理システムであって、 膨張チャンバーと、 スプレーハウジングを有する少なくとも１つの噴射装置であって、前記噴射装
置の前記ハウジングの少なくとも一部が前記膨張チャンバー内に伸長する噴射装
置と、前記膨張チャンバー内に伸長した前記ハウジングの部分に沿って間隔を置いて配 置された複数のシングルノズルと、 前記ハウジング内に配置された複数の流体路であって、前記シングルノズルの各 々が異なる流体路の一つに接続された流体路と、 前記ハウジング内に配置され、前記シングルノズルの各々に接続された少なくと も１つのガス通路と を含む流動床処理システム。 【請求項２】 前記シングルノズルは、略垂直方向に前記流体路から流体を
吹き付けるように各々配置された、請求項１に記載の流動床処理システム。 【請求項３】 前記噴射装置は実質的に直線的な長形を有する、請求項１に
記載の流動床処理システム。 【請求項４】 前記膨張チャンバーに接続されたプロダクト・チャンバーで
あって、開口部が前記プロダクト・チャンバーの内部と前記膨張チャンバーの内
部とを接続するプロダクト・チャンバーと、 【請求項５】 粒子に形成すべき材料をプロダクト・チャンバーに装填し、 材料の少なくとも一部を前記プロダクト・チャンバーから膨張チャンバー内ま
で流動化させて、 噴射装置内の複数のシングルノズルから流動化された粉末に略垂直方向に流体
を噴射することを含む粒子の流動床処理方法。 【請求項６】 別個のフィードストリームが前記スプレーガン内の前記シン
グルノズルの各々へと流体を供給する、請求項１１に記載の方法。 【請求項７】 膨張した粒子に形成すべき材料をプロダクト・チャンバーに
装填し、 材料の少なくとも一部を前記プロダクト・チャンバーから膨張チャンバー内ま
で流動化させて、 噴射装置上の複数のシングルノズルの各々へと別個に流体を供給し、 流動化された粉末に流体を噴射することを含む粒子の流動床処理方法。 【請求項８】 前記シングルノズルが略垂直方向に流体を噴射する、請求項
１３に記載の方法。 【請求項９】 前記シングルノズルが略垂直下方向に第２の流体を吹き付け るように各々配置された、請求項１に記載の流動床処理システム。 【請求項１０】 前記シングルノズルが、前記膨張チャンバー内に流動化さ れた粒子の流動床に第２の流体を吹き付けるように配置され、また前記シングル ノズルが大きな噴射の重なりなしに、流動化された粒子に流体を均等に吹き付け るように、前記膨張チャンバーの周囲に配置された、請求項１５に記載の流動床 処理システム。 【請求項１１】 前記膨張チャンバー内に流動化された粒子に対し、略垂直 上向きの流体流方向を有する流動化される流体源をさらに備え、前記シングルノ ズルが前記流体路から略垂直下方向に流体を吹き付けるように各々配置された、 請求項１に記載の流動床処理システム。 【請求項１２】 開口底部と、前記膨張チャンバーと連通する前記開口頂部 とを有するプロダクト・チャンバーと、 流動化された流体源と、 前記流動化された流体源と前記プロダクト・チャンバーの前記開口底部とを連 通させるダクトと、 前記プロダクト・チャンバーの前記開口底部に配置されたスクリーンであって 、このスクリーンを通して、前記プロダクト・チャンバー内に配置された粒子を 通じて、前記流動化された流体源から流動化された流体を略垂直上方向に流すこ とができ、 前記流体路と連通するバインダ溶液源、被覆溶液源、または収集溶液源をさら に備え、 前記流体路の各々から供給される流体を略垂直に下方向に吹き付けるように、 シングルノズルが各々位置付けられた、請求項１に記載の流動床処理システム。 【請求項１３】 流動化されるべき粒子の床を包含するための、前記膨張チ ャンバーと連通するプロダクト・チャンバーと、 前記プロダクト・チャンバーの底を通って上向きに、また前記膨張チャンバー 内まで流れる流動化された流体源とをさらに備え、 前記流体路から供給される流体を下方向に向けるように、前記シングルノズル が位置付けられた、請求項１に記載の流動床処理システム。 【請求項１４】 粒子の流動床処理システムであって、 膨張チャンバーと、 主通路を含むスプレーハウジングを有する少なくとも１つの噴射装置と、前記 前記膨張チャンバー内に伸長した主通路を含む前記ハウジングの少なくとも一部 と、 前記膨張チャンバー内に伸長した前記ハウジングの部分に沿って間隔を置いて 配置された複数のシングルノズルと、 主通路内に配置される複数の流体路であって、シングルノズルの各々が異なる 流体路の一つに接続される流体路と、 主通路内に配置される少なくとも１つのガス通路とを備え、前記少なくとも１ つのガス通路はシングルノズルの各々に接続され、膨張チャンバー内に伸長する ハウジングの部分において、複数の流体路とガス通路とが完全に前記主通路内に 配置される、流動床処理システム。 【手続補正２】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１０ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１０】 本発明の別の実施形態による、流動床処理システム内の粉末から膨張した粒子
を形成する方法は、より大きな粒子に形成すべき材料をプロダクト・チャンバー
に装填し、少なくとも材料の一部をプロダクト・チャンバーから膨張チャンバー
内に流動化し、噴射装置上にある複数のシングルノズルの各々に対して別々に流
体を供給し、その流体を流動化された材料に吹き付けることを含む。 【手続補正３】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１５ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１５】 図１を参照すると、膨張チャンバー１２は開口頂部２０およびプロダクト・チ
ャンバー２６の開口頂部２４に接続された開口底部２２を有する。この特定の実
施形態では、膨張チャンバー１２は円筒形をもつが、必要または希望に応じて、
形状を変えることができる。膨張チャンバー１２は、プロダクト・チャンバー２
６から吹き上げられた、流動化された粒子Ｐを受容する。この特定の実施形態で
は、膨張チャンバー１２は、膨張チャンバー１２の周囲に伸長したフランジ２８ を有し、フランジ２８はボルト３２または他の固定装置で膨張チャンバー１２の
下部にあるプロダクト・チャンバー２６のフランジ３０に固定される。しかし膨
張チャンバー１２をプロダクト・チャンバー２６に接続するためには、他の方法
も使用できるであろう。 【手続補正４】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１６ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１６】 図１および図２Ａを参照すると、噴射装置１４は膨張チャンバー１２内に伸長
している。この特定の実施形態では、噴射装置１４は実質的に直線的な長形、あ
るいは杖のような形状をもつが、必要または希望に応じて他の形状を取ることも
できる。図１に示した特定の実施形態では、流動床処理システム１０は１つの噴
射装置１４を有しているが、流動床処理システム１０は１つ以上の噴射装置１４
を有していてもよい。例えば、図３Ａの一実施形態に示すように、流動床処理シ
ステム１０は３つの噴射装置１４を有しており、また図３Ｂに示す別の実施形態
の流動床処理システム１０は８つの噴射装置１４を有している。膨張チャンバー
１２内の噴射装置１４の特定の配置も必要または希望に応じて変えることができ
る。例えば、図３Ａでは、噴射装置１４は重なり合うように配置されているが、
図３Ｂでは、噴射装置１４は重なり合わずに膨張チャンバー１２内に伸長してい
る。これらの例が示すように、噴射装置１４とシングルノズル１６とを膨張チャ
ンバー１２の周囲に位置付けることにより、噴を大きく重複させることなく、流
動化された粒子Ｐに流体を均等に吹き付けることができる。 【手続補正５】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１７ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１７】 図１および図２Ａ〜図２Ｃを参照すると、各噴射装置１４は複数のシングルノ
ズル１６を有し、これら複数のシングルノズル１６は噴射装置１４の長さ方向に
沿って広がっている。図１、図３Ａおよび図３Ｂに示した特定の実施形態では、
噴射装置１４は２つまたは４つのシングルノズル１６を有しているが、シングル
ノズル１６の数は必要または希望に応じて変えることができる。シングルノズル
１６は噴射装置１４の各々に取り付けられ、それによりプロダクト・チャンバー
２６に向けて流体またはバインダ溶液を下方に噴射することができる。この特定
の実施形態では、図１および図２Ａに示すように、スプレーの中心が軸Ｖ−Ｖに
沿って略垂直方向に向くように、シングルノズル１６が取り付けられる。しかし
、軸Ｖ−Ｖにより示される垂直面に対して所望の角度で噴射が行えるように、シ
ングルノズル１６を調節することができる。本発明の利点の１つは、ノズル群の
代わりにシングルノズル１６を使用することであり、シングルノズル１６を相互
に近づけて、また膨張チャンバー１２の側壁３４または壁に近づけて配置するこ
とができる。こう配置することにより膨張チャンバー１２の断面積のかなりの部
分に吹き付けを行うことができ、シングルノズル１６間で噴射の重なりがあった
としてもごくわずかである。シングルノズル１６の各々からの噴射は面に対して
略垂直方向をとるために、噴射できる範囲が広がり、高い噴射率が得られ、その
結果造粒機１０全体の生産能力が向上する。 【手続補正６】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１９ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１９】 図１および図２Ａ〜図２Ｄを参照すると、この特定の実施形態における噴射装
置１４は、噴射装置１４の長さ方向の少なくとも一部に沿って伸長した複数の流
体路３６（１）〜３６（４）を含む。シングルノズル１６の各々が流体路３６（
１）〜３６（４）のうちの１つの一端に接続され、流体路３６（１）〜３６（４
）の他端が、この特定の実施形態では水または有機溶媒などである流体の流体源
３８またはバインダ溶液源に接続される。流体路３６（１）〜３６（４）の各々
がシングルノズル１６の各々に接続された状態で、流量および噴射率をシングル
ノズル１６の各々において別々に調節することができる。その結果、シングルノ
ズル１６の各々からの噴射率を特定の用途に応じて任意に設定することができる
。シングルノズル１６の各々からの流体の流速を、各流体路３６（１）〜３６（
４）の内部にある弁（図示せず）で制御することができる。各弁の開放量によっ
て、シングルノズル１６の各々に供給される流量を制御することができる。噴射
装置１４はシングルノズル１６の各々と空気などのガス源４２とに接続されたガ
ス通路４０を備えてもよい。流体およびガスはシングルノズル１６の各々に供給
される。 【手続補正７】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００３１ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００３１】 粒子Ｐは、プロダクト・チャンバー２６内に側部放出機構６０および放出開口
５６に隣接して蓄積される。側部放出機構６０は第１位置から第２位置または中
間位置に移動して、放出開口５６を少なくとも部分的に露出するかまたは開放す
る。放出量は、放出開口５６が側部放出機構６０により開放される大きさを制御
することによって、制御することができる。放出開口５６はプロダクト・チャン
バー２６の略周囲に伸長しているので、粒子Ｐをプロダクト・チャンバー２６か
ら素早く、また容易に除去することができる。ひとたび全ての粒子Ｐがプロダク
ト・チャンバー２６から放出されると、側部放出機構６０は第２または中間位置
から第１位置に移動して放出開口５６を覆う。プロダクト・チャンバー２６は今
や、次の流動床処理プロセスを開始するためにさらなる粒子Ｐを受容する用意が
できている。 【手続補正８】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００３３ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００３３】 こうして本発明の基本的概念を記述したが、上で詳述した開示は例として提示
することを意図しており、制限ではないことが当業者には明らかであろう。ここ
で明示的に記述しないが、様々な変形、改善、および変更を当業者は思い付くで
あろう。これらの変形、改善、および変更はこれにより示唆されているものとし
、発明の精神および範囲の内である。従って、本発明は請求の範囲の記述および
その均等物によってのみ限定される。 【手続補正９】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】図２ 【補正方法】変更 【補正内容】 【図２】 図２Ａは噴射装置の部分側面図と部分断面図である。 図２Ｂは噴射装置と１つのスプレーノズルの一部分の拡大図である。 図２Ｃは図２Ｂに示した噴射装置とスプレーノズルの一部分の分解図である
。 図２Ｄは図２Ａにおける線２Ｄ−２Ｄに沿って切った噴射装置の断面図であ
る。 【手続補正書】 【提出日】平成１４年５月２７日（２００２．５．２７） 【手続補正１】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】発明の名称 【補正方法】変更 【補正内容】 【発明の名称】 流動床処理システム 【手続補正２】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】特許請求の範囲 【補正方法】変更 【補正内容】 【特許請求の範囲】 【請求項１】 膨張チャンバーと、 少なくとも一部分が前記膨張チャンバー内に伸長する少なくとも１つの噴射装 置と、 前記膨張チャンバー内に伸長する前記噴射装置の部分に沿って間隔配置された 複数のシングルノズルとを含む流動床処理システムであって、 前記膨張チャンバー内に伸長する前記噴射装置の前記部分が実質的に一直線で あり、細長い杖の形状を有し、かつ 複数の流体路であって、前記シングルノズルの各々が前記流体路の異なる１つ に接続されて成る流体路と、 前記シングルノズルの各々に接続された少なくとも１つのガス通路とを含む流 動床処理システム 。 【請求項２】 前記シングルノズルが前記流体路からの流体を実質的に垂直 方向に噴射するように各々配置された、請求項１に記載の流動床処理システム 。 【請求項３】 前記膨張チャンバーに接続されたプロダクト・チャンバーで あって、開口部が前記プロダクト・チャンバーの内部と前記膨張チャンバーの内 部とを接続されて成るプロダクト・チャンバーと、 前記プロダクト・チャンバーの入口に接続された出口を持つブロワーと、 前記ブロワーの前記出口と前記プロダクト・チャンバーの前記入口との間に伸 長するスクリーンと、 前記膨張チャンバーの開口部全体にわたって接続されたフィルタとをさらに含 む、請求項１に記載の流動床処理システム 。 【請求項４】 前記シングルノズルが、前記膨張チャンバー内で流動化され た粒子の流動床に第２流体を噴射するように配置され、かつ前記膨張チャンバー 内で流動化された粒子に前記第２流体を大きい噴射の重なり無く均等に噴射する ように前記膨張チャンバーの周囲に配置された、請求項３に記載の流動床処理シ ステム 。 【請求項５】 粒子を前記膨張チャンバー内に流動化するために実質的に垂 直上向きの流体流動方向を有する流動化流体の供給源をさらに含み、前記シング ルノズルが前記流体路からの流体を実質的に垂直下方向に噴射するように各々配 置された、請求項１に記載の流動床処理システム 。 【請求項６】 開口底部と開口頂部とを有し、前記開口頂部が前記膨張チャ ンバーと連通して成るプロダクト・チャンバーと、 流動化流体の供給源と、 前記流動化流体の供給源と前記プロダクト・チャンバーの前記開口頂部とを連 通させるダクトと、 前記プロダクト・チャンバーの前記開口底部に配置されたスクリーンであって 、それを通して前記流動化流体の供給源からの流動化流体が前記プロダクト・チ ャンバー内の粒子を通過して垂直上方向に流れることができるように構成された スクリーンと、 前記流体路と連通したバインダ溶液、コーティング流体、または凝集化流体の 供給源とをさらに含み、 前記シングルノズルが前記それぞれの流体路から供給される流体を実質的に垂 直下方向に噴射するように各々配置された、請求項１に記載の流動床処理システ ム 。 【請求項７】 膨張チャンバーと、 主通路を含むスプレーハウジングを有する少なくとも１つの噴射装置であって 、前記主通路を含む前記ハウジングの少なくとも一部分が前記膨張チャンバー内 に伸長して成る噴射装置と、 前記膨張チャンバー内に伸長する前記ハウジングの前記部分に沿って間隔配置 された複数のシングルノズルと、 前記主通路内に配置された複数の流体路であって、前記シングルノズルの各々 が前記流体路の異なる１つに接続されて成る流体路と、 前記主通路内に配置された少なくとも１つのガス通路であって、前記少なくと も１つのガス通路が前記シングルノズルの各々に接続され、前記膨張チャンバー 内に伸長する前記ハウジングの部分において前記複数の流体路およびガス通路が 前記主通路内に配置されて成るガス通路とを含む、流動床処理システム 。 【請求項８】 前記シングルノズルが前記流体路からの流体を実質的に垂直 方向に噴射するように各々配置された、請求項７に記載の流動床処理システム 。 【請求項９】 粒子を前記膨張チャンバー内に流動化するために、流れが実 質的に垂直上向きの流体流動方向である流動化流体の供給源をさらに含み、前記 シングルノズルが前記流体路からの流体を実質的に垂直下方向に噴射するように 各々配置された、請求項７に記載の流動床処理システム 。 【請求項１０】 バインダ溶液、コーティング流体、または凝集化流体が前 記流体路に供給され、前記シングルノズルから実質的に垂直下方向に噴射される 、請求項９に記載の流動床処理システム 。 【請求項１１】 開口底部と開口頂部とを有し、前記開口頂部が前記膨張チ ャンバーと連通して成るプロダクト・チャンバーと、 流動化流体の供給源と、 前記流動化流体の供給源と前記プロダクト・チャンバーの前記開口頂部とを連 通させるダクトと、 前記プロダクト・チャンバーの前記開口底部に配置されたスクリーンであって 、それを通して前記流動化流体の供給源からの流動化流体が前記プロダクト・チ ャンバー内に配置された粒子内を垂直上方向に流れることができるように構成さ れたスクリーンと、 前記流体路と連通したバインダ溶液、コーティング流体、または凝集化流体の 供給源とをさらに含み、 前記シングルノズルが前記流体路のそれぞれ１つから供給される流体を実質的 に垂直下方向に噴射するように各々配置された、請求項７に記載の流動床処理シ ステム 。 【請求項１２】 流動化されるべき粒子の床を収容しており、前記膨張チャ ンバーと連通したプロダクト・チャンバーと、 前記プロダクト・チャンバーの底部を通って前記膨張チャンバー内まで上方向 に流れる流動化流体の供給源とをさらに含み、前記シングルノズルが前記流体路 から供給される流体が下方向に向くように配置された、請求項７に記載の流動床 処理システム 。 【手続補正３】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】０００７ 【補正方法】変更 【補正内容】 【０００７】 （発明の概要） 本発明の一実施形態による流動床処理システムは、膨張チャンバーと、少なく とも一部分が前記膨張チャンバー内に伸長する少なくとも１つの噴射装置と、前 記膨張チャンバー内に伸長する前記噴射装置の部分に沿って間隔配置された複数 のシングルノズルとを含む流動床処理システムであって、前記膨張チャンバー内 に伸長する前記噴射装置の前記部分が実質的に一直線であり、細長い杖の形状を 有し、かつ複数の流体路であって、前記シングルノズルの各々が前記流体路の異 なる１つに接続されて成る流体路と、前記シングルノズルの各々に接続された少 なくとも１つのガス通路とを含むことを特徴とする 。 【手続補正４】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】０００８ 【補正方法】変更 【補正内容】 【０００８】 より好ましくは、前記シングルノズルが前記流体路からの流体を実質的に垂直 方向に噴射するように各々配置されるか、或いは、前記膨張チャンバーに接続さ れたプロダクト・チャンバーであって、開口部が前記プロダクト・チャンバーの 内部と前記膨張チャンバーの内部とを接続されて成るプロダクト・チャンバーと 、前記プロダクト・チャンバーの入口に接続された出口を持つブロワーと、前記 ブロワーの前記出口と前記プロダクト・チャンバーの前記入口との間に伸長する スクリーンと、前記膨張チャンバーの開口部全体にわたって接続されたフィルタ とをさらに含む ことが望ましい。このときには、前記シングルノズルが、前記膨 張チャンバー内で流動化された粒子の流動床に第２流体を噴射するように配置さ れ、かつ前記膨張チャンバー内で流動化された粒子に前記第２流体を大きい噴射 の重なり無く均等に噴射するように前記膨張チャンバーの周囲に配置されている ことが望ましい。 【手続補正５】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】０００９ 【補正方法】変更 【補正内容】 【０００９】 若しくは、前記シングルノズルが、前記膨張チャンバー内で流動化された粒子 の流動床に第２流体を噴射するように配置され、かつ前記膨張チャンバー内で流 動化された粒子に前記第２流体を大きい噴射の重なり無く均等に噴射するように 前記膨張チャンバーの周囲に配置されていることが望ましい。 【手続補正６】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１０ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１０】 より好ましくは、開口底部と開口頂部とを有し、前記開口頂部が前記膨張チャ ンバーと連通して成るプロダクト・チャンバーと、流動化流体の供給源と、前記 流動化流体の供給源と前記プロダクト・チャンバーの前記開口頂部とを連通させ るダクトと、前記プロダクト・チャンバーの前記開口底部に配置されたスクリー ンであって、それを通して前記流動化流体の供給源からの流動化流体が前記プロ ダクト・チャンバー内の粒子を通過して垂直上方向に流れることができるように 構成されたスクリーンと、前記流体路と連通したバインダ溶液、コーティング流 体、または凝集化流体の供給源とをさらに含み、前記シングルノズルが前記それ ぞれの流体路から供給される流体を実質的に垂直下方向に噴射するように各々配 置されていることが望ましい 。 【手続補正７】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１１ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１１】 本発明による別の流動床処理システムでは、膨張チャンバーと、主通路を含む スプレーハウジングを有する少なくとも１つの噴射装置であって、前記主通路を 含む前記ハウジングの少なくとも一部分が前記膨張チャンバー内に伸長して成る 噴射装置と、前記膨張チャンバー内に伸長する前記ハウジングの前記部分に沿っ て間隔配置された複数のシングルノズルと、前記主通路内に配置された複数の流 体路であって、前記シングルノズルの各々が前記流体路の異なる１つに接続され て成る流体路と、前記主通路内に配置された少なくとも１つのガス通路であって 、前記少なくとも１つのガス通路が前記シングルノズルの各々に接続され、前記 膨張チャンバー内に伸長する前記ハウジングの部分において前記複数の流体路お よびガス通路が前記主通路内に配置されて成るガス通路とを含むことを特徴とし ている 。 【手続補正８】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１２ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１２】 より好ましくは、前記シングルノズルが前記流体路からの流体を実質的に垂直 方向に噴射するように各々配置されているか、或いは粒子を前記膨張チャンバー 内に流動化するために流れが実質的に垂直上向きの流体流動方向である流動化流 体の供給源をさらに含み、前記シングルノズルが前記流体路からの流体を実質的 に垂直下方向に噴射するように各々配置されていることが望ましい。 このときに
は、バインダ溶液、コーティング流体、または凝集化流体が前記流体路に供給さ れ、前記シングルノズルから実質的に垂直下方向に噴射されると良い 。 【手続補正９】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１３ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１３】 若しくは、開口底部と開口頂部とを有し、前記開口頂部が前記膨張チャンバー と連通して成るプロダクト・チャンバーと、流動化流体の供給源と、前記流動化 流体の供給源と前記プロダクト・チャンバーの前記開口頂部とを連通させるダク トと、前記プロダクト・チャンバーの前記開口底部に配置されたスクリーンであ って、それを通して前記流動化流体の供給源からの流動化流体が前記プロダクト ・チャンバー内に配置された粒子内を垂直上方向に流れることができるように構 成されたスクリーンと、前記流体路と連通したバインダ溶液、コーティング流体 、または凝集化流体の供給源とをさらに含み、前記シングルノズルが前記流体路 のそれぞれ１つから供給される流体を実質的に垂直下方向に噴射するように各々 配置されるようにするか、或いは流動化されるべき粒子の床を収容しており、前 記膨張チャンバーと連通したプロダクト・チャンバーと、前記プロダクト・チャ ンバーの底部を通って前記膨張チャンバー内まで上方向に流れる流動化流体の供 給源とをさらに含み、前記シングルノズルが前記流体路から供給される流体が下 方向に向くように配置されるようにすると良い 。
置の前記ハウジングの少なくとも一部が前記膨張チャンバー内に伸長する噴射装
置と、前記膨張チャンバー内に伸長した前記ハウジングの部分に沿って間隔を置いて配 置された複数のシングルノズルと、 前記ハウジング内に配置された複数の流体路であって、前記シングルノズルの各 々が異なる流体路の一つに接続された流体路と、 前記ハウジング内に配置され、前記シングルノズルの各々に接続された少なくと も１つのガス通路と を含む流動床処理システム。 【請求項２】 前記シングルノズルは、略垂直方向に前記流体路から流体を
吹き付けるように各々配置された、請求項１に記載の流動床処理システム。 【請求項３】 前記噴射装置は実質的に直線的な長形を有する、請求項１に
記載の流動床処理システム。 【請求項４】 前記膨張チャンバーに接続されたプロダクト・チャンバーで
あって、開口部が前記プロダクト・チャンバーの内部と前記膨張チャンバーの内
部とを接続するプロダクト・チャンバーと、 【請求項５】 粒子に形成すべき材料をプロダクト・チャンバーに装填し、 材料の少なくとも一部を前記プロダクト・チャンバーから膨張チャンバー内ま
で流動化させて、 噴射装置内の複数のシングルノズルから流動化された粉末に略垂直方向に流体
を噴射することを含む粒子の流動床処理方法。 【請求項６】 別個のフィードストリームが前記スプレーガン内の前記シン
グルノズルの各々へと流体を供給する、請求項１１に記載の方法。 【請求項７】 膨張した粒子に形成すべき材料をプロダクト・チャンバーに
装填し、 材料の少なくとも一部を前記プロダクト・チャンバーから膨張チャンバー内ま
で流動化させて、 噴射装置上の複数のシングルノズルの各々へと別個に流体を供給し、 流動化された粉末に流体を噴射することを含む粒子の流動床処理方法。 【請求項８】 前記シングルノズルが略垂直方向に流体を噴射する、請求項
１３に記載の方法。 【請求項９】 前記シングルノズルが略垂直下方向に第２の流体を吹き付け るように各々配置された、請求項１に記載の流動床処理システム。 【請求項１０】 前記シングルノズルが、前記膨張チャンバー内に流動化さ れた粒子の流動床に第２の流体を吹き付けるように配置され、また前記シングル ノズルが大きな噴射の重なりなしに、流動化された粒子に流体を均等に吹き付け るように、前記膨張チャンバーの周囲に配置された、請求項１５に記載の流動床 処理システム。 【請求項１１】 前記膨張チャンバー内に流動化された粒子に対し、略垂直 上向きの流体流方向を有する流動化される流体源をさらに備え、前記シングルノ ズルが前記流体路から略垂直下方向に流体を吹き付けるように各々配置された、 請求項１に記載の流動床処理システム。 【請求項１２】 開口底部と、前記膨張チャンバーと連通する前記開口頂部 とを有するプロダクト・チャンバーと、 流動化された流体源と、 前記流動化された流体源と前記プロダクト・チャンバーの前記開口底部とを連 通させるダクトと、 前記プロダクト・チャンバーの前記開口底部に配置されたスクリーンであって 、このスクリーンを通して、前記プロダクト・チャンバー内に配置された粒子を 通じて、前記流動化された流体源から流動化された流体を略垂直上方向に流すこ とができ、 前記流体路と連通するバインダ溶液源、被覆溶液源、または収集溶液源をさら に備え、 前記流体路の各々から供給される流体を略垂直に下方向に吹き付けるように、 シングルノズルが各々位置付けられた、請求項１に記載の流動床処理システム。 【請求項１３】 流動化されるべき粒子の床を包含するための、前記膨張チ ャンバーと連通するプロダクト・チャンバーと、 前記プロダクト・チャンバーの底を通って上向きに、また前記膨張チャンバー 内まで流れる流動化された流体源とをさらに備え、 前記流体路から供給される流体を下方向に向けるように、前記シングルノズル が位置付けられた、請求項１に記載の流動床処理システム。 【請求項１４】 粒子の流動床処理システムであって、 膨張チャンバーと、 主通路を含むスプレーハウジングを有する少なくとも１つの噴射装置と、前記 前記膨張チャンバー内に伸長した主通路を含む前記ハウジングの少なくとも一部 と、 前記膨張チャンバー内に伸長した前記ハウジングの部分に沿って間隔を置いて 配置された複数のシングルノズルと、 主通路内に配置される複数の流体路であって、シングルノズルの各々が異なる 流体路の一つに接続される流体路と、 主通路内に配置される少なくとも１つのガス通路とを備え、前記少なくとも１ つのガス通路はシングルノズルの各々に接続され、膨張チャンバー内に伸長する ハウジングの部分において、複数の流体路とガス通路とが完全に前記主通路内に 配置される、流動床処理システム。 【手続補正２】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１０ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１０】 本発明の別の実施形態による、流動床処理システム内の粉末から膨張した粒子
を形成する方法は、より大きな粒子に形成すべき材料をプロダクト・チャンバー
に装填し、少なくとも材料の一部をプロダクト・チャンバーから膨張チャンバー
内に流動化し、噴射装置上にある複数のシングルノズルの各々に対して別々に流
体を供給し、その流体を流動化された材料に吹き付けることを含む。 【手続補正３】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１５ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１５】 図１を参照すると、膨張チャンバー１２は開口頂部２０およびプロダクト・チ
ャンバー２６の開口頂部２４に接続された開口底部２２を有する。この特定の実
施形態では、膨張チャンバー１２は円筒形をもつが、必要または希望に応じて、
形状を変えることができる。膨張チャンバー１２は、プロダクト・チャンバー２
６から吹き上げられた、流動化された粒子Ｐを受容する。この特定の実施形態で
は、膨張チャンバー１２は、膨張チャンバー１２の周囲に伸長したフランジ２８ を有し、フランジ２８はボルト３２または他の固定装置で膨張チャンバー１２の
下部にあるプロダクト・チャンバー２６のフランジ３０に固定される。しかし膨
張チャンバー１２をプロダクト・チャンバー２６に接続するためには、他の方法
も使用できるであろう。 【手続補正４】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１６ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１６】 図１および図２Ａを参照すると、噴射装置１４は膨張チャンバー１２内に伸長
している。この特定の実施形態では、噴射装置１４は実質的に直線的な長形、あ
るいは杖のような形状をもつが、必要または希望に応じて他の形状を取ることも
できる。図１に示した特定の実施形態では、流動床処理システム１０は１つの噴
射装置１４を有しているが、流動床処理システム１０は１つ以上の噴射装置１４
を有していてもよい。例えば、図３Ａの一実施形態に示すように、流動床処理シ
ステム１０は３つの噴射装置１４を有しており、また図３Ｂに示す別の実施形態
の流動床処理システム１０は８つの噴射装置１４を有している。膨張チャンバー
１２内の噴射装置１４の特定の配置も必要または希望に応じて変えることができ
る。例えば、図３Ａでは、噴射装置１４は重なり合うように配置されているが、
図３Ｂでは、噴射装置１４は重なり合わずに膨張チャンバー１２内に伸長してい
る。これらの例が示すように、噴射装置１４とシングルノズル１６とを膨張チャ
ンバー１２の周囲に位置付けることにより、噴を大きく重複させることなく、流
動化された粒子Ｐに流体を均等に吹き付けることができる。 【手続補正５】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１７ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１７】 図１および図２Ａ〜図２Ｃを参照すると、各噴射装置１４は複数のシングルノ
ズル１６を有し、これら複数のシングルノズル１６は噴射装置１４の長さ方向に
沿って広がっている。図１、図３Ａおよび図３Ｂに示した特定の実施形態では、
噴射装置１４は２つまたは４つのシングルノズル１６を有しているが、シングル
ノズル１６の数は必要または希望に応じて変えることができる。シングルノズル
１６は噴射装置１４の各々に取り付けられ、それによりプロダクト・チャンバー
２６に向けて流体またはバインダ溶液を下方に噴射することができる。この特定
の実施形態では、図１および図２Ａに示すように、スプレーの中心が軸Ｖ−Ｖに
沿って略垂直方向に向くように、シングルノズル１６が取り付けられる。しかし
、軸Ｖ−Ｖにより示される垂直面に対して所望の角度で噴射が行えるように、シ
ングルノズル１６を調節することができる。本発明の利点の１つは、ノズル群の
代わりにシングルノズル１６を使用することであり、シングルノズル１６を相互
に近づけて、また膨張チャンバー１２の側壁３４または壁に近づけて配置するこ
とができる。こう配置することにより膨張チャンバー１２の断面積のかなりの部
分に吹き付けを行うことができ、シングルノズル１６間で噴射の重なりがあった
としてもごくわずかである。シングルノズル１６の各々からの噴射は面に対して
略垂直方向をとるために、噴射できる範囲が広がり、高い噴射率が得られ、その
結果造粒機１０全体の生産能力が向上する。 【手続補正６】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１９ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１９】 図１および図２Ａ〜図２Ｄを参照すると、この特定の実施形態における噴射装
置１４は、噴射装置１４の長さ方向の少なくとも一部に沿って伸長した複数の流
体路３６（１）〜３６（４）を含む。シングルノズル１６の各々が流体路３６（
１）〜３６（４）のうちの１つの一端に接続され、流体路３６（１）〜３６（４
）の他端が、この特定の実施形態では水または有機溶媒などである流体の流体源
３８またはバインダ溶液源に接続される。流体路３６（１）〜３６（４）の各々
がシングルノズル１６の各々に接続された状態で、流量および噴射率をシングル
ノズル１６の各々において別々に調節することができる。その結果、シングルノ
ズル１６の各々からの噴射率を特定の用途に応じて任意に設定することができる
。シングルノズル１６の各々からの流体の流速を、各流体路３６（１）〜３６（
４）の内部にある弁（図示せず）で制御することができる。各弁の開放量によっ
て、シングルノズル１６の各々に供給される流量を制御することができる。噴射
装置１４はシングルノズル１６の各々と空気などのガス源４２とに接続されたガ
ス通路４０を備えてもよい。流体およびガスはシングルノズル１６の各々に供給
される。 【手続補正７】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００３１ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００３１】 粒子Ｐは、プロダクト・チャンバー２６内に側部放出機構６０および放出開口
５６に隣接して蓄積される。側部放出機構６０は第１位置から第２位置または中
間位置に移動して、放出開口５６を少なくとも部分的に露出するかまたは開放す
る。放出量は、放出開口５６が側部放出機構６０により開放される大きさを制御
することによって、制御することができる。放出開口５６はプロダクト・チャン
バー２６の略周囲に伸長しているので、粒子Ｐをプロダクト・チャンバー２６か
ら素早く、また容易に除去することができる。ひとたび全ての粒子Ｐがプロダク
ト・チャンバー２６から放出されると、側部放出機構６０は第２または中間位置
から第１位置に移動して放出開口５６を覆う。プロダクト・チャンバー２６は今
や、次の流動床処理プロセスを開始するためにさらなる粒子Ｐを受容する用意が
できている。 【手続補正８】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００３３ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００３３】 こうして本発明の基本的概念を記述したが、上で詳述した開示は例として提示
することを意図しており、制限ではないことが当業者には明らかであろう。ここ
で明示的に記述しないが、様々な変形、改善、および変更を当業者は思い付くで
あろう。これらの変形、改善、および変更はこれにより示唆されているものとし
、発明の精神および範囲の内である。従って、本発明は請求の範囲の記述および
その均等物によってのみ限定される。 【手続補正９】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】図２ 【補正方法】変更 【補正内容】 【図２】 図２Ａは噴射装置の部分側面図と部分断面図である。 図２Ｂは噴射装置と１つのスプレーノズルの一部分の拡大図である。 図２Ｃは図２Ｂに示した噴射装置とスプレーノズルの一部分の分解図である
。 図２Ｄは図２Ａにおける線２Ｄ−２Ｄに沿って切った噴射装置の断面図であ
る。 【手続補正書】 【提出日】平成１４年５月２７日（２００２．５．２７） 【手続補正１】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】発明の名称 【補正方法】変更 【補正内容】 【発明の名称】 流動床処理システム 【手続補正２】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】特許請求の範囲 【補正方法】変更 【補正内容】 【特許請求の範囲】 【請求項１】 膨張チャンバーと、 少なくとも一部分が前記膨張チャンバー内に伸長する少なくとも１つの噴射装 置と、 前記膨張チャンバー内に伸長する前記噴射装置の部分に沿って間隔配置された 複数のシングルノズルとを含む流動床処理システムであって、 前記膨張チャンバー内に伸長する前記噴射装置の前記部分が実質的に一直線で あり、細長い杖の形状を有し、かつ 複数の流体路であって、前記シングルノズルの各々が前記流体路の異なる１つ に接続されて成る流体路と、 前記シングルノズルの各々に接続された少なくとも１つのガス通路とを含む流 動床処理システム 。 【請求項２】 前記シングルノズルが前記流体路からの流体を実質的に垂直 方向に噴射するように各々配置された、請求項１に記載の流動床処理システム 。 【請求項３】 前記膨張チャンバーに接続されたプロダクト・チャンバーで あって、開口部が前記プロダクト・チャンバーの内部と前記膨張チャンバーの内 部とを接続されて成るプロダクト・チャンバーと、 前記プロダクト・チャンバーの入口に接続された出口を持つブロワーと、 前記ブロワーの前記出口と前記プロダクト・チャンバーの前記入口との間に伸 長するスクリーンと、 前記膨張チャンバーの開口部全体にわたって接続されたフィルタとをさらに含 む、請求項１に記載の流動床処理システム 。 【請求項４】 前記シングルノズルが、前記膨張チャンバー内で流動化され た粒子の流動床に第２流体を噴射するように配置され、かつ前記膨張チャンバー 内で流動化された粒子に前記第２流体を大きい噴射の重なり無く均等に噴射する ように前記膨張チャンバーの周囲に配置された、請求項３に記載の流動床処理シ ステム 。 【請求項５】 粒子を前記膨張チャンバー内に流動化するために実質的に垂 直上向きの流体流動方向を有する流動化流体の供給源をさらに含み、前記シング ルノズルが前記流体路からの流体を実質的に垂直下方向に噴射するように各々配 置された、請求項１に記載の流動床処理システム 。 【請求項６】 開口底部と開口頂部とを有し、前記開口頂部が前記膨張チャ ンバーと連通して成るプロダクト・チャンバーと、 流動化流体の供給源と、 前記流動化流体の供給源と前記プロダクト・チャンバーの前記開口頂部とを連 通させるダクトと、 前記プロダクト・チャンバーの前記開口底部に配置されたスクリーンであって 、それを通して前記流動化流体の供給源からの流動化流体が前記プロダクト・チ ャンバー内の粒子を通過して垂直上方向に流れることができるように構成された スクリーンと、 前記流体路と連通したバインダ溶液、コーティング流体、または凝集化流体の 供給源とをさらに含み、 前記シングルノズルが前記それぞれの流体路から供給される流体を実質的に垂 直下方向に噴射するように各々配置された、請求項１に記載の流動床処理システ ム 。 【請求項７】 膨張チャンバーと、 主通路を含むスプレーハウジングを有する少なくとも１つの噴射装置であって 、前記主通路を含む前記ハウジングの少なくとも一部分が前記膨張チャンバー内 に伸長して成る噴射装置と、 前記膨張チャンバー内に伸長する前記ハウジングの前記部分に沿って間隔配置 された複数のシングルノズルと、 前記主通路内に配置された複数の流体路であって、前記シングルノズルの各々 が前記流体路の異なる１つに接続されて成る流体路と、 前記主通路内に配置された少なくとも１つのガス通路であって、前記少なくと も１つのガス通路が前記シングルノズルの各々に接続され、前記膨張チャンバー 内に伸長する前記ハウジングの部分において前記複数の流体路およびガス通路が 前記主通路内に配置されて成るガス通路とを含む、流動床処理システム 。 【請求項８】 前記シングルノズルが前記流体路からの流体を実質的に垂直 方向に噴射するように各々配置された、請求項７に記載の流動床処理システム 。 【請求項９】 粒子を前記膨張チャンバー内に流動化するために、流れが実 質的に垂直上向きの流体流動方向である流動化流体の供給源をさらに含み、前記 シングルノズルが前記流体路からの流体を実質的に垂直下方向に噴射するように 各々配置された、請求項７に記載の流動床処理システム 。 【請求項１０】 バインダ溶液、コーティング流体、または凝集化流体が前 記流体路に供給され、前記シングルノズルから実質的に垂直下方向に噴射される 、請求項９に記載の流動床処理システム 。 【請求項１１】 開口底部と開口頂部とを有し、前記開口頂部が前記膨張チ ャンバーと連通して成るプロダクト・チャンバーと、 流動化流体の供給源と、 前記流動化流体の供給源と前記プロダクト・チャンバーの前記開口頂部とを連 通させるダクトと、 前記プロダクト・チャンバーの前記開口底部に配置されたスクリーンであって 、それを通して前記流動化流体の供給源からの流動化流体が前記プロダクト・チ ャンバー内に配置された粒子内を垂直上方向に流れることができるように構成さ れたスクリーンと、 前記流体路と連通したバインダ溶液、コーティング流体、または凝集化流体の 供給源とをさらに含み、 前記シングルノズルが前記流体路のそれぞれ１つから供給される流体を実質的 に垂直下方向に噴射するように各々配置された、請求項７に記載の流動床処理シ ステム 。 【請求項１２】 流動化されるべき粒子の床を収容しており、前記膨張チャ ンバーと連通したプロダクト・チャンバーと、 前記プロダクト・チャンバーの底部を通って前記膨張チャンバー内まで上方向 に流れる流動化流体の供給源とをさらに含み、前記シングルノズルが前記流体路 から供給される流体が下方向に向くように配置された、請求項７に記載の流動床 処理システム 。 【手続補正３】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】０００７ 【補正方法】変更 【補正内容】 【０００７】 （発明の概要） 本発明の一実施形態による流動床処理システムは、膨張チャンバーと、少なく とも一部分が前記膨張チャンバー内に伸長する少なくとも１つの噴射装置と、前 記膨張チャンバー内に伸長する前記噴射装置の部分に沿って間隔配置された複数 のシングルノズルとを含む流動床処理システムであって、前記膨張チャンバー内 に伸長する前記噴射装置の前記部分が実質的に一直線であり、細長い杖の形状を 有し、かつ複数の流体路であって、前記シングルノズルの各々が前記流体路の異 なる１つに接続されて成る流体路と、前記シングルノズルの各々に接続された少 なくとも１つのガス通路とを含むことを特徴とする 。 【手続補正４】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】０００８ 【補正方法】変更 【補正内容】 【０００８】 より好ましくは、前記シングルノズルが前記流体路からの流体を実質的に垂直 方向に噴射するように各々配置されるか、或いは、前記膨張チャンバーに接続さ れたプロダクト・チャンバーであって、開口部が前記プロダクト・チャンバーの 内部と前記膨張チャンバーの内部とを接続されて成るプロダクト・チャンバーと 、前記プロダクト・チャンバーの入口に接続された出口を持つブロワーと、前記 ブロワーの前記出口と前記プロダクト・チャンバーの前記入口との間に伸長する スクリーンと、前記膨張チャンバーの開口部全体にわたって接続されたフィルタ とをさらに含む ことが望ましい。このときには、前記シングルノズルが、前記膨 張チャンバー内で流動化された粒子の流動床に第２流体を噴射するように配置さ れ、かつ前記膨張チャンバー内で流動化された粒子に前記第２流体を大きい噴射 の重なり無く均等に噴射するように前記膨張チャンバーの周囲に配置されている ことが望ましい。 【手続補正５】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】０００９ 【補正方法】変更 【補正内容】 【０００９】 若しくは、前記シングルノズルが、前記膨張チャンバー内で流動化された粒子 の流動床に第２流体を噴射するように配置され、かつ前記膨張チャンバー内で流 動化された粒子に前記第２流体を大きい噴射の重なり無く均等に噴射するように 前記膨張チャンバーの周囲に配置されていることが望ましい。 【手続補正６】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１０ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１０】 より好ましくは、開口底部と開口頂部とを有し、前記開口頂部が前記膨張チャ ンバーと連通して成るプロダクト・チャンバーと、流動化流体の供給源と、前記 流動化流体の供給源と前記プロダクト・チャンバーの前記開口頂部とを連通させ るダクトと、前記プロダクト・チャンバーの前記開口底部に配置されたスクリー ンであって、それを通して前記流動化流体の供給源からの流動化流体が前記プロ ダクト・チャンバー内の粒子を通過して垂直上方向に流れることができるように 構成されたスクリーンと、前記流体路と連通したバインダ溶液、コーティング流 体、または凝集化流体の供給源とをさらに含み、前記シングルノズルが前記それ ぞれの流体路から供給される流体を実質的に垂直下方向に噴射するように各々配 置されていることが望ましい 。 【手続補正７】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１１ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１１】 本発明による別の流動床処理システムでは、膨張チャンバーと、主通路を含む スプレーハウジングを有する少なくとも１つの噴射装置であって、前記主通路を 含む前記ハウジングの少なくとも一部分が前記膨張チャンバー内に伸長して成る 噴射装置と、前記膨張チャンバー内に伸長する前記ハウジングの前記部分に沿っ て間隔配置された複数のシングルノズルと、前記主通路内に配置された複数の流 体路であって、前記シングルノズルの各々が前記流体路の異なる１つに接続され て成る流体路と、前記主通路内に配置された少なくとも１つのガス通路であって 、前記少なくとも１つのガス通路が前記シングルノズルの各々に接続され、前記 膨張チャンバー内に伸長する前記ハウジングの部分において前記複数の流体路お よびガス通路が前記主通路内に配置されて成るガス通路とを含むことを特徴とし ている 。 【手続補正８】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１２ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１２】 より好ましくは、前記シングルノズルが前記流体路からの流体を実質的に垂直 方向に噴射するように各々配置されているか、或いは粒子を前記膨張チャンバー 内に流動化するために流れが実質的に垂直上向きの流体流動方向である流動化流 体の供給源をさらに含み、前記シングルノズルが前記流体路からの流体を実質的 に垂直下方向に噴射するように各々配置されていることが望ましい。 このときに
は、バインダ溶液、コーティング流体、または凝集化流体が前記流体路に供給さ れ、前記シングルノズルから実質的に垂直下方向に噴射されると良い 。 【手続補正９】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】００１３ 【補正方法】変更 【補正内容】 【００１３】 若しくは、開口底部と開口頂部とを有し、前記開口頂部が前記膨張チャンバー と連通して成るプロダクト・チャンバーと、流動化流体の供給源と、前記流動化 流体の供給源と前記プロダクト・チャンバーの前記開口頂部とを連通させるダク トと、前記プロダクト・チャンバーの前記開口底部に配置されたスクリーンであ って、それを通して前記流動化流体の供給源からの流動化流体が前記プロダクト ・チャンバー内に配置された粒子内を垂直上方向に流れることができるように構 成されたスクリーンと、前記流体路と連通したバインダ溶液、コーティング流体 、または凝集化流体の供給源とをさらに含み、前記シングルノズルが前記流体路 のそれぞれ１つから供給される流体を実質的に垂直下方向に噴射するように各々 配置されるようにするか、或いは流動化されるべき粒子の床を収容しており、前 記膨張チャンバーと連通したプロダクト・チャンバーと、前記プロダクト・チャ ンバーの底部を通って前記膨張チャンバー内まで上方向に流れる流動化流体の供 給源とをさらに含み、前記シングルノズルが前記流体路から供給される流体が下 方向に向くように配置されるようにすると良い 。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０５Ｄ 7/24 ３０２ Ｂ０５Ｄ 7/24 ３０２Ｅ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ， ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｕ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ， ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，Ｌ Ｋ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ， ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，Ｔ Ｍ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ ，ＺＷ (72)発明者 クリストンソン ジュニア ロバート ア イ アメリカ合衆国 カリフォルニア州 94564 ピノール ブルー ジェイ サー クル 2156 (72)発明者 フューウィックス ロバート シィー アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14580 ウェブスター ヒドゥン バリー トレ イル 1162 (72)発明者 ゲートナー アルウレッド エル アメリカ合衆国 カリフォルニア州 94066 サンブルーノ メープル アベニ ュー 432 (72)発明者 レイノルズ ジョン アメリカ合衆国 アイオワ州 52404 シ ダーラピッズ アベニュー ドライブ エ ス ダブリュー 1000 41ストリート (72)発明者 ワィト ディビッド アール アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14612 ロチェスター エヌ バーリー ロード 431 (72)発明者 コソーラ アンティ フィンランド カーコォンノンムミィ ヴ ェトゥーリタリンティエ ５ディー 34 Ｆターム(参考） 4D075 AA01 AB08 CA48 DA11 4F033 AA00 BA01 CA01 DA03 EA04 LA04 4G004 BA02 KA02 4G070 AA01 AB06 BB32 CA06 CA09 CA30 CB03 CB10
Claims (14)
- 【請求項１】 粒子の流動床処理システムであって、 膨張チャンバーと、 噴射装置に沿って間隔を置いて配置された複数のシングルノズルをもつ、少な
くとも１つの噴射装置であって、前記膨張チャンバー内に伸長し、前記シングル
ノズルに接続された少なくとも１つの流体路を有する噴射装置を含む、粒子の流
動床処理システム。 - 【請求項２】 スプレーガンが複数の流体路を有し、シングルノズルの各々
が異なる一つの流体路に接続された、請求項１に記載の流動床処理システム。 - 【請求項３】 シングルノズルの各々に接続された噴射装置内の少なくとも
１つのガス通路をさらに備える、請求項２に記載の流動床処理システム。 - 【請求項４】 前記シングルノズルは、略垂直方向に流体を噴射するために
各々位置付けられた、請求項１に記載の流動床処理システム。 - 【請求項５】 前記噴射装置は実質的に直線的な長形を有する、請求項１に
記載の流動床処理システム。 - 【請求項６】 前記膨張チャンバーに接続されたプロダクト・チャンバーで
あって、開口部が前記プロダクト・チャンバーの内部と前記膨張チャンバーの内
部とを接続するプロダクト・チャンバーと、 前記プロダクト・チャンバー用の入口に接続された出口をもつブロワーと、 前記ブロワー用の前記出口と前記プロダクト・チャンバー用の前記入口との間
に伸長したスクリーンと、 前記膨張チャンバー内の開口部にわたって接続されたフィルタとをさらに備え
る請求項１に記載の流動床処理システム。 - 【請求項７】 粒子の流動床処理システムであって、 膨張チャンバーと、 前記膨張チャンバー内に伸長した少なくとも１つの噴射装置であって、噴射装
置の少なくとも一部に沿って伸長した複数の流体路を有する噴射装置と、 前記スプレーガンに沿って間隔を置いて配置され、各々異なる流体路の一つに
接続された複数のシングルノズルとを備える粒子の流動床処理システム。 - 【請求項８】 前記噴射装置の長さ方向の少なくとも一部分に沿って伸長し
、前記シングルノズルの各々に接続された少なくとも１つのガス通路をさらに備
える、請求項７に記載の流動床処理システム。 - 【請求項９】 前記シングルノズルの各々が、略垂直方向に噴射するために
位置付けられた、請求項７に記載の流動床処理システム。 - 【請求項１０】 前記膨張チャンバーに接続されたプロダクト・チャンバー
であって、開口部が前記プロダクト・チャンバーの内部と前記膨張チャンバーの
内部とを接続するプロダクト・チャンバーと、 前記プロダクト・チャンバー用の入口に接続された出口をもつブロワーと、 前記ブロワー用の前記出口と前記プロダクト・チャンバー用の前記入口との間
に伸長したスクリーンと、 前記膨張チャンバー内の開口部にわたって接続されたフィルタとをさらに備え
る請求項７に記載の流動床処理システム。 - 【請求項１１】 粒子に形成すべき材料をプロダクト・チャンバーに装填し
、 材料の少なくとも一部を前記プロダクト・チャンバーから膨張チャンバー内ま
で流動化させて、 噴射装置内の複数のシングルノズルから流動化された粉末に略垂直方向に流体
を噴射することを含む粒子の流動床処理方法。 - 【請求項１２】 別個のフィードストリームが前記スプレーガン内の前記シ
ングルノズルの各々へと流体を供給する、請求項１１に記載の方法。 - 【請求項１３】 膨張した粒子に形成すべき材料をプロダクト・チャンバー
に装填し、 材料の少なくとも一部を前記プロダクト・チャンバーから膨張チャンバー内ま
で流動化させて、 噴射装置上の複数のシングルノズルの各々へと別個に流体を供給し、 流動化された粉末に流体を噴射することを含む粒子の流動床処理方法。 - 【請求項１４】 前記シングルノズルが略垂直方向に流体を噴射する、請求
項１３に記載の方法。
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