JP2002512879A - 被覆された基質の乾燥方法 - Google Patents

被覆された基質の乾燥方法

Info

Publication number
JP2002512879A
JP2002512879A JP2000545645A JP2000545645A JP2002512879A JP 2002512879 A JP2002512879 A JP 2002512879A JP 2000545645 A JP2000545645 A JP 2000545645A JP 2000545645 A JP2000545645 A JP 2000545645A JP 2002512879 A JP2002512879 A JP 2002512879A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
vacuum
coating
coating medium
passage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000545645A
Other languages
English (en)
Inventor
ロシンスキ，ビクター
タカクス，ポール・ジエイ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF Catalysts LLC
Original Assignee
Engelhard Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Engelhard Corp filed Critical Engelhard Corp
Publication of JP2002512879A publication Critical patent/JP2002512879A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
    • C04B41/87—Ceramics
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
    • B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
    • B01J37/0215—Coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
    • B28B11/24—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for curing, setting or hardening
    • B28B11/243—Setting, e.g. drying, dehydrating or firing ceramic articles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 被覆されたモノリス型基質の乾燥中にその通路から揮発した成分が引き出されるように前記基質の一方の末端に真空をかけかつ前記基質のもう一方の末端に気体流れを送り込むことを通して前記基質を乾燥させる方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 （発明の分野） 本発明は、一般に、通路（ｃｈａｎｎｅｌｓ）を多数有する基質、例えば触媒
コンバーターで用いられるモノリス型基質（ｍｏｎｏｌｉｔｈｉｃ ｓｕｂｓｔ
ｒａｔｅ）などを被覆する（ｃｏａｔｉｎｇ）方法に向けたものである。特に、
本発明は、そのようなモノリス型基質をコーティング媒体（ｃｏａｔｉｎｇ ｍ
ｅｄｉａ）のスラリーで迅速かつ均一に被覆してそれの迅速な乾燥を行うことを
提供するものである。この乾燥過程中、前記モノリス型基質の通路内に水分が保
持されている。そのようなコーティングを乾燥させて固定するには水分を除去す
る必要がある。本発明に従い、前記通路内に所望のコーティングプロファイル（
ｃｏａｔｉｎｇ ｐｒｏｆｉｌｅ）が維持されるようにしながら真空を水分およ
び他の揮発物が取り除かれるに充分な様式で充分な時間かけることを通して、水
分および他の揮発物を除去する。
【０００２】 （発明の背景） 触媒コンバーターは排気ガスに含まれる有害な成分の除去および／または変換
を行うことでよく知られている。触媒コンバーターは前記目的で多様な構造を有
するが、１つの形態の構造物は、触媒作用を示す被膜を有する（ｃａｔａｌｙｔ
ｃａｌｌｙ ｃｏａｔｅｄ）堅い骨格のモノリス型基質、または大きな表面積を
有していて触媒作用を示す被膜を有する本体（ｂｏｄｙ）を与えるように多数の
縦方向の通路を有するハニカム型要素（ｈｏｎｅｙｃｏｍ−ｔｙｐｅ ｅｌｅｍ
ｅｎｔ）である。この硬質モノリス型基質の加工はセラミックおよび他の材料を
用いて行われる。そのような材料およびそれらの構成が例えば米国特許第３，３
３１，７８７号および３，５６５，８３０号（これらは各々引用することによっ
て本明細書に組み入れられる）に記述されている。
【０００３】 このようなモノリス型基質、特に多数の通路を触媒作用および／または吸収作
用を示す材料が入っているスラリー（本明細書では以降集合的に「コーティング
媒体」と呼ぶ）で被覆することが行われている。このスラリーには水と恐らくは
他の液状成分が入っており、これらは加熱時に蒸発する。モノリス型基質をコー
ティング媒体で被覆する技術にはいろいろな方法が知られてはいるが、そのよう
な方法は、特に、触媒活性を示す高価な貴金属、例えば白金、パラジウムまたは
ロジウムなどをコーティング媒体の一部として付着させようとして塗布すべきコ
ーティング媒体の量を最小限にしようとする時、費用の観点で欠点を有する。モ
ノリス型基質の被覆は困難なばかりでなく、また、前記通路内に再現可能なコー
ティングパターン（ｃｏａｔｉｎｇ ｐａｔｔｅｒｎ）を一貫して得るのも困難
である。
【０００４】 前以て加工しておいたモノリス型基質を被覆する１つの方法は、コーティング
媒体を個々の通路の中にポンプで輸送した後にその被覆した基質に乾燥操作を受
けさせる方法である。このようなコーティング過程において蒸発する成分（例え
ば水蒸気）を除去して前記コーティング媒体を前記通路内に迅速に固着させる（
ｆｉｘ）に必要な段階は乾燥段階である。乾燥操作を利用した系は、均一な被膜
厚および均一なコーティングプロファイル（コーティング媒体が前記通路の各々
に同じ長さに渡って均一に付着していること）を与えようとしても不成功に終わ
っていた。
【０００５】 コーティング媒体が前記通路の中を通って上方に引き込まれるようにする目的
で真空を用いることが提案が成された。例えばＰｅｔｅｒ Ｄ．Ｙｏｕｎｇの米
国特許第４，３８４，０１４号には、空気が通路から除去されると同時にコーテ
ィング媒体が前記通路の中を通って上方に引き込まれるようにする目的でモノリ
ス型基質全体に真空をかけることが開示されている。次に、前記真空を解除して
余分なコーティング媒体を好適には重力排出で除去する、即ち余分なコーティン
グ媒体は下方に移動して前記通路の下方、即ち後方末端部から出る。
【０００６】 Ｊａｍｅｓ Ｒ．Ｒｅｅｄ他の米国特許第４，１９１，１２６号には、モノリ
ス型基質をコーティング媒体に浸漬した後に大気圧以下の圧力を用いて余分なコ
ーティング媒体を支持体の表面から取り除くことが開示されている。そのかけた
真空は、前記コーティング媒体が前記通路各々の表面全体から取り除かれるよう
に前記通路の詰まりを取り除くことを意図したものである。
【０００７】 そのような系の改良がＴｈｏｍａｓ Ｓｈｉｍｒｏｃｋ他の米国特許第４，６
０９，４５３号（引用することによって本明細書に組み入れられる）に開示され
ている。このような系は、コーティング媒体をセラミック基質部材に真空で被覆
する方法を包含し、このような系では、コーティング媒体をセラミック製モノリ
ス型基質に塗布する目的で前記コーティング媒体を前以て決めた量で計量してい
る。前記モノリス型基質を下げて、好適には前以て決めておいた寸法の容器（前
記基質に被覆すべきコーティング媒体が正確な量で入っている）の中に前以て決
めておいた深さまで入れることが行われている。次に、コーティング媒体浴の中
に浸かっている末端部とは反対側の基質末端部に真空をかけることで前記コーテ
ィング媒体を引き上げている。余分なコーティング媒体を前記基質から排出させ
る必要も取り除く必要もなくまた空気を除去する目的で予備的に真空をかける段
階を設ける必要も全くない。
【０００８】 Ｓｈｉｍｒｏｃｋ他の場合のコーティング媒体を正確な量で入れる容器［また
浸漬鍋（ｄｉｐ ｐａｎ）としても知られる］のデザインは、望ましくは、被覆
すべき基質を自由に受け取るが前記基質に密に合致するように形作られたデザイ
ンである。米国特許第４，６０９，４５３号に例示されているように、モノリス
型基質の形状が楕円形の場合にはまた前記浸漬鍋の形状も楕円形にするが、それ
の寸法を前記基質自身のそれよりも若干大きくしておく。
【０００９】 前記’５６３特許の方法を用いた時に得られる被膜の滑らかさは他の標準方法
を用いた場合よりも優れてはいるが、それにも拘らず、均一なコーティングプロ
ファイル（コーティング媒体が各通路を同じ長さで覆っていること）を得るのは
困難である。加うるに、前記’５６３特許の方法では浸漬鍋の形状および寸法を
各種類のモノリス型基質に正確に一致させるのが好適であることから、いろいろ
な大きさおよび形状を有する多様な浸漬鍋を在庫しておく必要があることから追
加的費用を被る。更にその上、好適には各浸漬鍋の寸法を基質の寸法より若干の
み大きくしておく。従って、作業者がそのような壊れ易い基質を浸漬鍋に入れる
時に基質が誤って浸漬鍋に当たることでそれが損傷を受けないようにする余分な
注意を払う必要がある。
【００１０】 改良真空注入（ｖａｃｕｕｍ ｉｎｆｕｓｉｏｎ）コーティング方法が１９９
６年６月２１日付けで提出された米国出願連続番号０８／６６８，３８５（代理
人の処理予定番号３９８３）に開示されており、それは、コーティング媒体に部
分的に浸漬した基質に真空を前記コーティング媒体がモノリス型基質の通路の中
に上方に向かって均一に引き込まれるに充分な強度で充分な時間かけることによ
って均一なコーティングプロファイルを得ることを探求するものである。このよ
うな様式で被覆した基質の被膜は均一ではあるが、それを乾燥させるのは困難で
ある。その理由は、前記コーティング媒体に含まれる成分のいくらかがコーティ
ング条件下で蒸発することで蒸気の層が前記通路内に生じるからである。蒸気の
層が存在しているとコーティング媒体の乾燥が妨げられ、それによって、被覆さ
れた基質のさらなる処理が遅くなり得る。乾燥過程を速めようとして前記コーテ
ィング媒体の真空注入を行っている間にかける真空の強度を高くすると、前記コ
ーティング媒体が前記通路の中に所望度合よりもずっと中にまで入り込んでしま
う可能性があり、その結果として、均一なコーティングプロファイルが得られな
い可能性がある。
【００１１】 従って、モノリス型基質、特に触媒コンバーターで用いられるモノリス型基質
の乾燥速度をこの基質に含まれる通路内の均一なコーティングプロファイルを維
持しながら速めることができれば、これは、前記基質を被覆する技術の有意な進
展になるであろう。
【００１２】 （発明の要約） 本発明は、一般に、コーティング媒体で被覆しておいたモノリス型基質の通路
を乾燥させる方法に向けたものである。本方法は、コーティング過程で得られる
コーティングプロファイル、好適には均一なコーティングプロファイルを維持し
ながら乾燥を迅速な様式で行うものである。用語「均一なコーティングプロファ
イル」を本明細書で用いる場合、これは、基質に含まれる各通路がおおよそ同じ
長さ、典型的には当該基質の長さ全体よりも短い同じ長さに渡って被覆されるで
あろうことを意味する。
【００１３】 本発明の方法は、真空をかける（即ち吸引する）ことで蒸気を「引っ張り」出
しかつ気体の流れ（好適には高温の）を基質の中に「押し込む」ことの両方によ
るものである。
【００１４】 基質にコーティング媒体を塗布した後、それの乾燥を、本発明の押し引き（ｐ
ｕｓｈ−ｐｕｌｌ）方法に従い、通路内のコーティング媒体が移動しないように
する目的かつコーティングプロファイルが悪影響を受けないようにしながら前記
コーティング媒体を前記通路の壁に固着させる目的で迅速かつ徹底的に行う。そ
の結果として、そのようにして被覆した基質のさらなる加工を費用効率的および
効果的様式で行うことが可能になる。
【００１５】 本発明は、特に、多数の通路内にコーティング媒体が入っているモノリス型基
質を乾燥させる方法に向けたものであり、この方法は、 （ａ）前記コーティング媒体が入っている浴液から被覆された前記モノリス型基
質の１番目の末端部を前記コーティング媒体が湿った状態の間に取り出し、そし
て ｂ）前記通路内のコーティングプロファイルが実質的に変化しないようにしなが
ら前記被覆されたモノリス型基質の反対側末端部に真空を前記通路から蒸気が引
き出されるに充分な強度で充分な時間かけると同時に前記基質の中に気体流れを
前記１番目の末端部から前記反対側末端部の方向に強制的に送り込む、 ことを含んで成る。
【００１６】 本発明の好適な形態では、前記気体流れ、好適には空気の温度を乾燥操作が助
長されるように高くする。
【００１７】 （発明の詳細な記述） 本発明は、通路を多数有する基質を被覆する方法に向けたものであり、この方
法では、迅速な乾燥がコーティングプロファイルの崩壊なしに生じることを確保
する方法を用いてコーティング媒体を乾燥させる。本発明の方法は、真空をかけ
ることで前記基質から蒸発した材料を引き出す、即ち引き抜くことを気体流れを
前記基質の中に追いやる、即ち押し込むことと協力させる組み合わせである。
【００１８】 モノリス型基質の被覆は数種のいろいろな方法で実施可能であり、そのような
方法には、浸漬、噴霧、そして米国特許第４，６０９，５６３号および１９９６
年６月２１日付けで提出した係属中の米国出願連続番号０８／６６８，３８５（
これらは各々引用することによって本明細書に組み入れられる）に開示されてい
る如き真空注入が含まれる。
【００１９】 一般的には、前以て成形しておいたモノリス型基質（これはセラミックもしく
は金属または他の適切な材料で作られていてもよい）をコーティング媒体、例え
ば触媒組成物、吸収剤組成物または両方などで被覆する。このコーティング媒体
の形態は、典型的に、コーティング操作中に蒸発する成分（例えば水）が入って
いるスラリーの形態である。前記モノリス型基質への前記スラリーの塗布は、例
えば浸漬、噴霧、または真空を前記基質の一方の末端部にかけることでコーティ
ング媒体を容器から上方に引き上げることなどで実施可能である。
【００２０】 図１を参照して、上方末端部４と下方末端部６を有するモノリス型基質２を示
す。基質２には多数の通路８が含まれていて、前記通路の内側をコーティング媒
体、例えば触媒組成物、吸収剤組成物または両方などで被覆する。図１に示すよ
うに、基質２を容器１０、例えばコーティング媒体１４が入る貯蔵槽の形態の領
域１２を有する浸漬鍋などに浸漬してもよい。
【００２１】 真空注入コーティング方法では、コーティング媒体１４が貯蔵槽１２から上方
に向かって基質２の下方末端部６の中に引き込まれることで通路８が少なくとも
その長さの一部に渡って被覆されるようにする目的で、基質２の上方末端部４に
真空をかけることで圧力降下を生じさせる。前記コーティング媒体が上方に向か
って前記通路の中に引き込まれると、その通路内に揮発性成分（水蒸気を包含）
が存在することになる。前記通路内の温度は前記コーティング媒体に含まれる成
分の少なくとも数種が示す蒸発温度を越えることから蒸発が起こる。その結果と
して蒸気の層が前記通路内に生じる。
【００２２】 蒸気の層が存在していると、これは前記通路が詰まる一因になり、それによっ
て乾燥の効率が制限されることで前記コーティング操作で最初に塗布したコーテ
ィングのプロファイルが悪影響を受ける可能性がある。
【００２３】 より具体的には、前記通路内に存在する蒸気が蒸気の層を形成すると典型的に
前記通路が限定する小道（ｐａｔｈｗａｙ）の封鎖、即ち詰まりが生じる。従っ
て、まだ湿った状態のコーティング媒体が大気にさらされる度合が低下し、それ
によって、前記コーティング媒体の乾燥に要する時間が長くなってしまう。乾燥
時間が長くなればなるほど、そのまだ湿っているコーティング媒体が重力によっ
て下方に移動する危険性が高くなる。その結果として、前記モノリス型基質に含
まれる通路の被膜にむらが生じる可能性がある。
【００２４】 被覆された基質の通常の乾燥では、蒸発が単独で用いられるか或は蒸発が熱風
を前記基質の下方末端部から上方末端部に吹き込むことと協力させて用いられる
。熱風を吹き込むと蒸気に圧力がかかることで蒸気が上昇して前記通路から出て
行く。しかしながら、前記通路内に水蒸気がそのような量で存在しかつそれによ
って圧力勾配が作り出されることから、蒸気を前記通路から吹き飛ばすには有意
な力が必要になり得る。そのような過剰な力を用いると、コーティング媒体、特
にコーティングプロファイルが悪影響を受ける可能性がある。特に、蒸気を除去
する目的で過度に熱い空気を前記通路の中に吹き込むと、前記通路内に入ってい
るコーティング媒体もまた上昇し、それによってコーティングプロファイルが変
化する可能性がある。
【００２５】 本発明に従い、真空を前記基質の上方末端部かけることを単独で行うか或はそ
れを熱風を前記基質の下方末端部の中に吹き込むことと組み合わせることを通し
て、前記コーティング媒体を塗布した後の通路内に含まれる蒸気を前記通路から
引き出す。
【００２６】 図２Ａおよび２Ｂを参照して、本発明の実施で用いるに適した装置の態様を示
す。図２Ａに、蒸気を前記基質から引き出すための真空装置および気体（例えば
加熱された空気）を前記基質の中に強制的に送り込むための送風装置の有効連結
（ｏｐｅｒａｔｉｖｅ ｅｎｇａｇｅｍｅｎｔ）を示す。図２Ｂに、真空装置と
送風装置が作動中でない時の基質の位置（乾燥操作前および後の両方）を示す。
【００２７】 最初に図２Ｂを参照して、乾燥装置２０には、乾燥操作中に基質２を支える中
心支持用アセンブリ（ｃｅｎｔｒａｌ ｓｕｐｐｏｒｔｉｎｇ ａｓｓｅｍｂｌ
ｙ）２２が含まれている。このアセンブリ２２には、上方および下方のシーリン
グガスケット（ｓｅａｌｉｎｇ ｇａｓｋｅｔｓ）２６Ａおよび２６Ｂが備わっ
ている支持用ハウジング（ｈｏｕｓｉｎｇ）２４が含まれている。このハウジン
グ２４はクランプ２９または他の同様な連結用装置でサポートスタンド（ｓｕｐ
ｐｏｒｔ ｓｔａｎｄ）２８にしっかりと固定されている。このハウジング２４
は基質２を図２Ｂに示す適切な位置に支える能力を有する。
【００２８】 基質２は上方末端部４と下方末端部６を有する。上方末端部４を真空を発生す
る装置３０（これは乾燥装置２０の２番目の部分を構成する）で覆う。図２Ｂを
再び参照して、真空を発生する装置３０には、ハウジング２４と有効連結して中
心支持用アセンブリ２２の上方ガスケット２６Ａと一緒になって液密シール（ｆ
ｌｕｉｄ ｔｉｇｈｔ ｓｅａｌ）を形成する伸長部（ｅｘｔｅｎｓｉｏｎ）３
４が備わっているフード３２が含まれている。このフード３２は導管３６を通し
て送風装置または同様な装置（示していない）に連結しており、それによって、
蒸気がフード３２から導管３６を通って矢印の方向に引き込まれ、前記導管を通
して排気される。
【００２９】 乾燥装置２０には、気体を前記基質の通路の中に強制的に送り込む、即ち押し
込むための装置４０が含まれている。より具体的には、この装置４０には、この
上に記述したフード３２に類似したフード４２が含まれている。前記ハウジング
２４と有効連結して中心支持用アセンブリ２２の下方ガスケット２６Ａと一緒に
なって液密シールを形成する伸長部４４を設ける。前記フード４２は導管４４を
通してファン（示していない）に連結しており、それによって、熱ガス（例えば
空気）が導管４４の中を通って基質２に含まれる通路の下方末端部６の中に強制
的に送り込まれる。
【００３０】 本発明の操作を図２Ａに関連させて説明する。図２Ａを参照して、真空を発生
させる装置３０および強制的に送る気体を生じさせる装置４０を基質２の回りに
個々のフード３２および４２が個々のガスケット２６Ａおよび２６Ｂを通してハ
ウジング２４に密封されるようにしっかりと固定する。送風機（示していない）
を作動させながら熱ガス（例えば熱風）を導管４４の中に強制的に送り込む。蒸
気が基質２から引き出されてフード３２を通って導管３６から出ると同時に熱風
を導管４４の中に通して上方に強制的に送り込むことでフード４２の中に入らせ
そして基質２の下方末端部６の中にまで至らせる。この上に説明したように真空
を発生する装置３０を用いる結果として、前記基質の通路内に発生した蒸気が前
記通路から引き出される。
【００３１】 この乾燥段階中にかける真空の強度は、前記通路の断面積、各通路に塗布すべ
きコーティング媒体の組成およびコーティング媒体の量に応じて変わり得る。一
般的には、前記真空の強度を約５から１５ｉｎ ｗ．ｃ．の範囲にする。真空を
かける装置３０は例えばＰａｘｔｏｎ Ｂｌｏｗｅｒなどであってもよい。
【００３２】 熱ガス送風装置４０は、例えば約５０，０００ｂｔｕの加熱容量を有するジェ
ットエアケロセンヒーター（ｊｅｔ ａｉｒ ｋｅｒｏｓｅｎｅ ｈｅａｔｅｒ
）の形態であってもよい。操作中、前記基質を前記コーティング媒体が入ってい
る貯蔵槽から取り出した後、約５から１５ｉｎ ｗ．ｃ．の真空度で真空を典型
的には２４から４０秒間かけることで、前記通路から蒸発した成分を引き出す。
この真空を前記蒸気が逸散するまで維持する。この真空をかけている間か或はか
けた後、熱ガスを発生する装置を用いて、前記基質の乾燥を速めるか或は完了さ
せるに適切な温度（例えば約１８０から７００度Ｆ、最も典型的には約２５０か
ら４００度Ｆ）の熱ガス（例えば熱風）を発生させてもよい。
【００３３】 本発明に従って前記基質を被覆する時に使用可能なコーティング媒体は幅広く
多様であり得る。貴金属または卑金属を含有させた触媒組成物を用いることがで
きるばかりでなく、汚染物を吸収する材料、例えばゼオライトなどを含有させた
吸着剤組成物を用いることも可能である。
【００３４】 本発明に従って前記基質に塗布可能な汚染物処理用組成物は幅広く多様であり
得、それには水系および非水系、例えば塗料、ラッカーなどが含まれる。本発明
は、特に、モノリスの形態の汚染物処理装置を生じさせる目的で基質に塗布され
る触媒および／または吸着剤含有組成物に適用可能である。
【００３５】 そのような組成物に含めることができる触媒は幅広く多様であり得るが、それ
には一般に白金族金属、卑金属、アルカリ土類金属、希土類金属および初期（ｅ
ａｒｌｙ）遷移金属が含まれる。白金族金属には白金、パラジウム、イリジウム
およびロジウムが含まれる。
【００３６】 卑金属にはマンガン、銅、ニッケル、コバルト、銀および金が含まれる。アル
カリ土類金属にはベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バ
リウムおよびラジウムが含まれる。
【００３７】 希土類金属にはセシウム、プラセオジム、ネオジム、プロメチウム、サマリウ
ム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、
エルビウム、ツリウム、イッテルビウムおよびルテチウムが含まれる。
【００３８】 初期遷移金属にはスカンジウム、イットリウム、ランタン、チタン、ジルコニ
ウムおよびハフニウムが含まれる。
【００３９】 そのような触媒系の例が米国特許第５，１３９，９９２、米国特許第５，１２
８，３０６、米国特許第５，０５７，４８３、米国特許第５，０２４，９８１、
米国特許第５，２５４，５１９、および米国特許第５，２１２，１４２号（これ
らは各々引用することによって本明細書に組み入れられる）に開示されている。
【００４０】 吸着剤組成物は、炭化水素、一酸化炭素、オゾン、窒素酸化物、または汚染物
含有気体（自動車の排気または周囲の空気を包含）に通常関連した他の汚染物を
吸収する組成物である。そのような吸着剤は、アルカリ土類金属の酸化物、活性
炭、モレキュラーシーブ、特にゼオライト、例えばベータ−ゼオライトなどおよ
びそれらの組み合わせを含み得る組成物である。そのような吸着剤組成物の例が
米国特許第４，９８５，２１０、５，０５１，２４４および５，１２５，２３１
号（これらは各々引用することによって本明細書に組み入れられる）に開示され
ている。
【００４１】 実施例１−４ １平方インチ当たり４００個のセルから成るセル密度（ｃｅｌｌ ｄｅｎｓｉ
ｔｙ）を有するセラミック製モノリス型基質を貴金属を伴うアルミナスリップコ
ート（ａｌｕｍｉｎａ ｓｌｉｐ ｃｏａｔ ｗｉｔｈ ｎｏｂｌｅ ｍｅｔａ
ｌｓ）を含有するコーティング媒体が入っている容器に部分的に浸けながら前記
基質に真空をかけることを通して、前記基質を前記コーティング媒体のスラリー
で被覆した。
【００４２】 前記基質を前記容器から取り出した後、図２Ａおよび２Ｂに示した如き装置を
用いて真空を下記の様式でかけた。この真空を発生する装置を作動させて約１０
ｗ．ｃ．の真空を生じさせた。それと同時に、温度が２５０度Ｆの熱風を前記基
質の中に１分当たり約１５００標準立方フィートの全体的速度（ｏｖｅｒａｌｌ
ｒａｔｅ）で約４０秒間強制的に送り込んだ。前記基質から除去された水蒸気
の量を測定して、その結果を表１に示し、その結果は実施例１Ａの下に示す如き
である。
【００４３】
【表１】
【００４４】 前記基質の乾燥で強制的に送り込む熱風のみを用いるように前記真空を発生す
る装置のスイッチを切る以外は実施例１Ａを繰り返した。この比較実施例を比較
１Ｂとして表示した。
【００４５】 本発明の条件に従って行った実施例１Ａの場合に前記基質から取り除かれた水
の量は強制的に送り込む空気のみを用いた場合（比較１Ｂ）に比較して劇的に向
上することが分かった（２５％に対して４３％）。
【００４６】 実施例２Ａ−４Ａを、それぞれ実験をより高い温度（即ちそれぞれ２７５度Ｆ
、３００度Ｆおよび３５０度Ｆ）で行う以外は実施例１Ａおよび比較１Ｂと同様
な様式で実施した。例えば、実施例２Ａを本発明に従って実施する一方で、比較
実施例２Ｂの実施では真空をかけなかった。その結果を表１に示す。
【００４７】 表１に示すように、乾燥過程を本発明に従って真空を発生する装置および熱ガ
スを強制的に送る装置の両方を用いて実施すると、熱ガスを強制的に送るのを単
独で用いて前記基質を乾燥させた場合に比較して、温度を一定にした時、除去さ
れる水の量が有意に多かった。
【００４８】 実施例５ 実施例１で用いた種類の同じ様式で被覆した２個のモノリス型基質を白金含有
触媒のスラリーで均一に被覆した。各基質をそれぞれ実施例４Ａおよび４Ｂと同
じ様式で処理した（乾燥温度を３５０度Ｆに設定）。前記基質の中に強制的に送
り込まれる熱風の速度を経時的に測定して、その結果を表２に示す。
【００４９】
【表２】
【００５０】 コーティング過程の結果として前記基質に塗布されたスラリーの量を測定した
結果、その量は７２１グラムであり、それには水が前記コーティング媒体の組成
を基にして１２０グラム含まれていた。真空を熱風流と一緒に全体で９０秒間か
けた。除去された水蒸気の量をいろいろな間隔で測定して、その結果を表２に示
す。
【００５１】 表２に示すように、本発明に従って強制的に熱風を送り込んだ時の速度は、真
空を用いないで熱風を強制的に送り込んだ時の速度を有意に越えていた。このこ
とは、揮発性成分が前記基質の通路からより迅速に除去されたことを示している
。
【図面の簡単な説明】
同様な参照、即ち同様な記号が同様な部分を示す下記の図は本発明の態様を説
明するものであり、本出願の一部を構成する請求の範囲に含める如き本発明を限
定することを意図するものでない。
【図１】 図１は、通路がコーティング媒体で部分的に被覆されるようにコーティング媒
体が入っている容器に部分的に浸かっている状態のモノリス型基質を示す側面図
である。
【図２Ａ】 図２Ａは、本発明の方法の実施で作動位置にある乾燥装置を示す側面図である
。
【図２Ｂ】 図２Ｂは、図２Ａに類似しているが被覆および乾燥を受けた基質が乾燥装置か
ら取り出される状態を示す側面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，Ｇ Ｍ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ， ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，Ｍ Ｘ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ， ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ Ｆターム(参考） 4D075 AB01 BB24Y BB33Y BB56Y BB93Y CA48 DA21 DB14 DC22 EA05 EB01 EC10 4G069 AA03 AA08 BA13A BA13B BB02A BB04A BC08A BC09A BC10A BC11A BC12A BC13A BC14A BC31A BC32A BC33A BC38A BC39A BC40A BC42A BC43A BC44A BC50A BC51A BC52A BC62A BC67A BC68A BC69A BC71A BC72A BC74A BC75A CA03 CA13 CA14 CA16 EA19 EB12Y FA03 FA06 FB15 FB23 FB57 FB79 FC07

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 多数の通路内にコーティング媒体が入っているモノリス型基
    質を乾燥させる方法であって、 ａ）前記コーティング媒体が入っている浴液から被覆された前記モノリス型基質
    の１番目の末端部を前記コーティング媒体が湿った状態の間に取り出し、 ｂ）前記通路内のコーティングプロファイルが実質的に変化しないようにしなが
    ら前記被覆されたモノリス型基質の反対側末端部に真空を前記通路から蒸気が引
    き出されるに充分な強度で充分な時間かけると同時に前記基質の中に気体流れを
    前記１番目の末端部から前記反対側末端部の方向に強制的に送り込む、 ことを含んで成る方法。
  2. 【請求項２】 前記気体流れを高温に加熱して前記通路の中に送り込む請求
    項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 前記気体流れが加熱された空気である請求項１記載の方法。
  4. 【請求項４】 前記気体流れが約１８０から７００度Ｆの温度に加熱されて
    いる請求項２記載の方法。
  5. 【請求項５】 前記真空の強度が約５から１５ｉｎ ｗ．ｃ．である請求項
    １記載の方法。
  6. 【請求項６】 多数の通路内にコーティング媒体が入っているモノリス型基
    質を乾燥させる装置であって、 ａ）前記コーティング媒体が入っている浴液から被覆された前記モノリス型基質
    を前記コーティング媒体が湿った状態の間に取り出すための取り出し手段、 ｂ）前記被覆されたモノリス型基質に真空をかけるための、前記基質の一方末端
    部に有効にかみ合う、真空をかける手段、および ｃ）前記真空をかける手段が真空を前記基質にかけている間に気体流れを前記基
    質の反対側末端部に送り込むための、気体流れを強制的に送り込む手段、 を含んで成る装置。
JP2000545645A 1998-04-28 1999-03-29 被覆された基質の乾燥方法 Withdrawn JP2002512879A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/067,831 US5953832A (en) 1998-04-28 1998-04-28 Method for drying a coated substrate
US09/067,831 1998-04-28
PCT/US1999/006981 WO1999055458A1 (en) 1998-04-28 1999-03-29 Method for drying a coated substrate

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010117490A Division JP2010247155A (ja) 1998-04-28 2010-05-21 被覆された基質の乾燥方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002512879A true JP2002512879A (ja) 2002-05-08

Family

ID=22078704

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000545645A Withdrawn JP2002512879A (ja) 1998-04-28 1999-03-29 被覆された基質の乾燥方法
JP2010117490A Pending JP2010247155A (ja) 1998-04-28 2010-05-21 被覆された基質の乾燥方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010117490A Pending JP2010247155A (ja) 1998-04-28 2010-05-21 被覆された基質の乾燥方法

Country Status (12)

Country Link
US (1) US5953832A (ja)
EP (1) EP1079927B1 (ja)
JP (2) JP2002512879A (ja)
KR (1) KR100605420B1 (ja)
CN (1) CN1115197C (ja)
AT (1) ATE268222T1 (ja)
AU (1) AU3372999A (ja)
BR (1) BR9909985B1 (ja)
DE (1) DE69917770T2 (ja)
RU (1) RU2213629C2 (ja)
WO (1) WO1999055458A1 (ja)
ZA (1) ZA200005517B (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002512880A (ja) * 1998-04-28 2002-05-08 エンゲルハード・コーポレーシヨン モノリス型触媒および関連製造方法
JP2003506211A (ja) * 1999-08-06 2003-02-18 エンゲルハード・コーポレーシヨン 基質を触媒で被覆するシステム
JP2007237085A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Cataler Corp スラリーの乾燥方法および乾燥装置
JP2010506699A (ja) * 2006-10-18 2010-03-04 日本碍子株式会社 セラミック多孔質膜の製造方法及びセラミックフィルタの製造方法
JP2015502900A (ja) * 2011-11-10 2015-01-29 コーニング インコーポレイテッド コーティング層をモノリス基材の上に形成するコーティング装置及び方法
CN104999552A (zh) * 2015-06-25 2015-10-28 钟聆 一种石膏制品快干工艺
JP5829787B2 (ja) * 2006-12-25 2015-12-09 日本碍子株式会社 分離膜の製造方法
CN105312043A (zh) * 2014-08-04 2016-02-10 中国石化扬子石油化工有限公司 一种用于处理pta尾气高强度涂层蜂窝陶瓷催化剂的制备方法

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20010026838A1 (en) * 1996-06-21 2001-10-04 Engelhard Corporation Monolithic catalysts and related process for manufacture
US5713138A (en) * 1996-08-23 1998-02-03 Research, Incorporated Coating dryer system
DE19837731A1 (de) * 1998-08-20 2000-02-24 Degussa Verfahren zum Beschichten der Strömungskanäle eines monolithischen Katalysatortragkörpers mit einer Beschichtungsdispersion
US6289605B1 (en) * 2000-02-18 2001-09-18 Macronix International Co. Ltd. Method for drying a semiconductor wafer
US6797315B2 (en) 2000-02-23 2004-09-28 Odawara Automation, Inc. Method for coating an electric coil including heating
US6569243B2 (en) 2000-02-23 2003-05-27 Odawara Automation, Inc. Method and apparatus for coating an electric coil including vibration
DE10104751A1 (de) * 2001-02-02 2002-08-08 Volkswagen Ag Vorrichtung zum Reinigen von Abgasen eines Verbrennungsmotors und Verfahren zu seiner Herstellung
WO2003008098A1 (en) * 2001-07-20 2003-01-30 Ralph Jazzar Raad Apparatus for, and method of, treating substrates for catalytic converters
US20040001781A1 (en) * 2002-06-27 2004-01-01 Engelhard Corporation Multi-zone catalytic converter
US7521087B2 (en) 2002-08-27 2009-04-21 Basf Catalysts Llc Method for catalyst coating of a substrate
US7658017B1 (en) * 2004-01-12 2010-02-09 Thomas Brian Laviolette Vacuum drying method
DE102005024108A1 (de) * 2005-05-25 2006-11-30 Süd-Chemie AG Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Katalysatoren und deren Verwendung bei der Reinigung von Abgasen
DE102005024124A1 (de) * 2005-05-25 2006-11-30 Süd-Chemie AG Verfahren und Vorrichtung zum Auftragen von Washcoat-Suspensionen auf einen Wabenkörper und deren Verwendung
US7678416B2 (en) * 2005-12-05 2010-03-16 Cataler Corporation Substrate coating method
CN101636252A (zh) * 2007-03-20 2010-01-27 日本碍子株式会社 封孔蜂窝结构体的制造方法
US8006637B2 (en) * 2007-03-29 2011-08-30 Corning Incorporated Method and apparatus for membrane deposition
US20100129547A1 (en) * 2008-11-26 2010-05-27 Dayue David Jiang Washcoating high porosity ceramic substrates
US9144796B1 (en) * 2009-04-01 2015-09-29 Johnson Matthey Public Limited Company Method of applying washcoat to monolithic substrate
GB201000019D0 (en) * 2010-01-04 2010-02-17 Johnson Matthey Plc Coating a monolith substrate with catalyst component
DE102013104318A1 (de) * 2013-04-29 2014-10-30 Fredy Iseli Beschichtungsvorrichtung sowie Beschichtungsverfahren
GB201311615D0 (en) * 2013-06-03 2013-08-14 Johnson Matthey Plc Method of coating a substrate with a catalyst component
US9194627B2 (en) * 2013-12-18 2015-11-24 Fca Us Llc Catalyst brick solution safe handling laboratory bench fixture
CN103752466B (zh) * 2014-01-23 2016-06-08 常州市范群干燥设备有限公司 多工位催化剂自动涂覆装置
RU2722134C1 (ru) * 2015-12-09 2020-05-26 Басф Корпорейшн Системы и способы нанесения раствора на подложку
US10971354B2 (en) 2016-07-15 2021-04-06 Applied Materials, Inc. Drying high aspect ratio features
JP6856075B2 (ja) * 2016-09-30 2021-04-07 日立金属株式会社 セラミックハニカムフィルタを製造する方法及び装置
US10546762B2 (en) * 2016-11-18 2020-01-28 Applied Materials, Inc. Drying high aspect ratio features
US11168033B2 (en) * 2017-03-24 2021-11-09 Ngk Insulators, Ltd. Method for drying columnar honeycomb formed body and method for producing columnar honeycomb structure
TWI756475B (zh) * 2017-10-06 2022-03-01 日商東京威力科創股份有限公司 抑制粒子產生之方法及真空裝置
DE102018100833A1 (de) 2018-01-16 2019-07-18 Umicore Ag & Co. Kg Verfahren zur Herstellung eines SCR-Katalysators
GB201806995D0 (en) * 2018-04-30 2018-06-13 Rolls Royce Plc A method and apparatus for impregnating the surface region of an article
JP7199988B2 (ja) * 2019-02-08 2023-01-06 日本碍子株式会社 ハニカム構造体の製造方法
EP3834933B8 (en) * 2019-12-10 2024-03-27 Johnson Matthey Public Limited Company Apparatus and method for coating substrates with washcoats

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3959520A (en) * 1974-10-21 1976-05-25 Universal Oil Products Company Continuous system for providing a catalytic coating on support members
US4191126A (en) * 1978-01-19 1980-03-04 General Motors Corporation Apparatus for coating catalyst supports
JPS54148187A (en) * 1978-05-15 1979-11-20 Nissan Motor Co Ltd Integrated structure carrier coating
AU541791B2 (en) * 1980-03-14 1985-01-17 Ultraseal International Ltd. Impregnation of porous articles
US4550034A (en) * 1984-04-05 1985-10-29 Engelhard Corporation Method of impregnating ceramic monolithic structures with predetermined amounts of catalyst
US4609563A (en) * 1985-02-28 1986-09-02 Engelhard Corporation Metered charge system for catalytic coating of a substrate
JPS63107751A (ja) * 1986-10-27 1988-05-12 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 触媒担体のコ−テイング方法
DE3803579C1 (ja) * 1988-02-06 1989-07-13 Degussa Ag, 6000 Frankfurt, De
JP2693980B2 (ja) * 1988-11-22 1997-12-24 キャタラー工業株式会社 排ガス浄化用触媒の製造方法
JP2693981B2 (ja) * 1988-11-29 1997-12-24 キャタラー工業株式会社 排ガス浄化用モノリス触媒の製造方法
JP2766665B2 (ja) * 1989-04-24 1998-06-18 キャタラー工業株式会社 排ガス浄化用触媒の製造方法
DE4040150A1 (de) * 1990-02-28 1991-08-29 Degussa Verfahren zum belegen von keramikwabenkoerpern mit feinteiligen feststoffen
US5514421A (en) * 1994-01-31 1996-05-07 Xerox Corporation Airfoil air ring
US5667928A (en) * 1996-06-06 1997-09-16 Xerox Corporation Dip coating method having intermediate bead drying step
IN195165B (ja) * 1996-06-21 2005-01-28 Engelhard Corp
DE19713908A1 (de) * 1997-04-04 1998-10-08 Symbio Herborn Group Gmbh & Co Vaginaltampon und Verfahren zu seiner Herstellung

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002512880A (ja) * 1998-04-28 2002-05-08 エンゲルハード・コーポレーシヨン モノリス型触媒および関連製造方法
JP2003506211A (ja) * 1999-08-06 2003-02-18 エンゲルハード・コーポレーシヨン 基質を触媒で被覆するシステム
JP2007237085A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Cataler Corp スラリーの乾燥方法および乾燥装置
JP2010506699A (ja) * 2006-10-18 2010-03-04 日本碍子株式会社 セラミック多孔質膜の製造方法及びセラミックフィルタの製造方法
JP5829787B2 (ja) * 2006-12-25 2015-12-09 日本碍子株式会社 分離膜の製造方法
JP2015502900A (ja) * 2011-11-10 2015-01-29 コーニング インコーポレイテッド コーティング層をモノリス基材の上に形成するコーティング装置及び方法
CN105312043A (zh) * 2014-08-04 2016-02-10 中国石化扬子石油化工有限公司 一种用于处理pta尾气高强度涂层蜂窝陶瓷催化剂的制备方法
CN104999552A (zh) * 2015-06-25 2015-10-28 钟聆 一种石膏制品快干工艺

Also Published As

Publication number Publication date
KR20010043062A (ko) 2001-05-25
ZA200005517B (en) 2002-01-09
BR9909985B1 (pt) 2010-08-24
JP2010247155A (ja) 2010-11-04
ATE268222T1 (de) 2004-06-15
WO1999055458A1 (en) 1999-11-04
EP1079927B1 (en) 2004-06-02
CN1298325A (zh) 2001-06-06
CN1115197C (zh) 2003-07-23
BR9909985A (pt) 2000-12-26
EP1079927A1 (en) 2001-03-07
DE69917770D1 (de) 2004-07-08
DE69917770T2 (de) 2005-06-16
US5953832A (en) 1999-09-21
RU2213629C2 (ru) 2003-10-10
KR100605420B1 (ko) 2006-08-02
AU3372999A (en) 1999-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002512879A (ja) 被覆された基質の乾燥方法
KR100489574B1 (ko) 기판 피복방법
KR100581987B1 (ko) 일체형 촉매 담체 내의 유동 채널을 피복 분산액으로 피복시키는 방법
JPS60225653A (ja) 含浸方法
KR19990077742A (ko) 벌집형 촉매 컨버터 캐리어의 유동채널을 분산성 피복물로 피복시키는 방법
JP5150719B2 (ja) セラミックハニカム流通体の細孔中へ触媒被覆を導入するための方法
JP6055134B1 (ja) 二酸化炭素吸着剤及びその製造方法、並びに、二酸化炭素分離回収システム
US3528781A (en) Air pollutant removal apparatus having horizontal bed for air - liquid contact
JPH0320441B2 (ja)
JP4852325B2 (ja) スラリーの乾燥方法および乾燥装置
JP2001515199A5 (ja)
KR100684330B1 (ko) 촉매 다구역을 가지는 촉매컨버터 제조방법 및 장치
US20060154816A1 (en) Method for coating a catalyst carrier containing two different partial structures with a catalytically active coating, and catalyst obtained thereby
JP7340954B2 (ja) 排ガス浄化装置及びその製造方法
JPS5939346A (ja) セラミツクハニカム触媒担体の製造方法
JP2001310150A (ja) 塗装用熱風乾燥炉用排気ガス処理装置および方法、並びにこれらを採用した塗装用熱風乾燥炉
JP3620650B2 (ja) ガス処理装置および処理方法
JP2693981B2 (ja) 排ガス浄化用モノリス触媒の製造方法
JP2002346328A (ja) 半導体排ガスからの微粉末除去装置
JPH01107818A (ja) ウォールフロー型フィルターのコーティング方法
JP2003321280A (ja) ハニカム構造体とその製造方法及びディーゼルパティキュレートフィルタ
JPH0459055A (ja) モノリス触媒の製造方法
JP2000143223A (ja) 炭化物の賦活方法
JPH0889769A (ja) ガス分離用構造体ならびにこれを用いたガス分離方法
CN1178750C (zh) 在蜂窝载体上涂覆活性组分的方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060131

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20080529

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081202

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20090302

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20090309

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090528

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090707

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20091007

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20091015

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091228

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100209

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100521

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20100617

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20100820