JP5829787B2 - 分離膜の製造方法 - Google Patents
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Description
[6] 前記モノリス基材の材質が、アルミナ、シリカ、コージェライト、ムライト、チタニア、ジルコニア及び炭化珪素からなる群より選択された何れか一種のセラミックスである[1]に記載の分離膜の製造方法。
[7] 前記モノリス基材の材質が、アルミナである[1]に記載の分離膜の製造方法。
[8] 前記前駆体溶液の溶媒が、有機溶媒である[1]に記載の分離膜の製造方法。
[9] 前記ポリアミド酸溶液の溶媒が、有機溶媒である[2]に記載の分離膜の製造方法。
[10] 前記ポリアミド酸溶液の溶媒が、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)及びN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)からなる群より選択された何れか一種の有機溶媒である[2]に記載の分離膜の製造方法。
[11] 前記ポリアミド酸溶液の溶媒が、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)である[2]に記載の分離膜の製造方法。
アルミナからなる多孔質のモノリス基材の外周面にシールテープを巻いた後、その貫通孔の軸方向が鉛直方向となるように設置し、送液ポンプを使用して、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)を溶媒とするポリアミド酸濃度10質量%のポリアミド酸溶液(宇部興産株式会社のU−ワニス−A(商品名))を、各貫通孔の一方の開口端から1cm/分の速度で各貫通孔内に送入することにより、各貫通孔の表面にポリアミド酸膜を成膜し、その後、ドライヤーを用いて150℃の熱風を、10m/sの風速で、貫通孔の下側開口端から上側開口端に向かって70分間に渡って通過させ、更に熱風の温度を250℃に上昇させて15分間に渡って通過させて、ポリアミド酸膜の乾燥とイミド化を行った。以上の工程を3回繰り返した後、モノリス基材を真空のボックス炉にて、800℃で熱処理し、前記イミド化により得られたポリイミド膜を炭化して、膜厚が約1μmの分離膜(炭素膜)を得た。こうして貫通孔内表面に分離膜が形成されたモノリス基材の両端面をシリコーンにてシールした後、浸透気化試験を行って、分離膜の分離性能を評価し、その結果を表1に示した。
(式(II)において、Q:透過液質量[kg]、A:分離膜面積[m2]、t:時間[h])
実施例1と同様にしてモノリス基材の各貫通孔の表面にポリアミド酸膜を成膜し、その後、乾燥機内にモノリス基材を下面を塞がないように設置し、200℃で19時間に渡って定置乾燥した。以上の工程を3回繰り返した後、乾燥機内の設定温度を300℃に上昇させて、更に1時間加熱することにより、ポリアミド酸膜をイミド化した。次いで、モノリス基材を真空のボックス炉にて、800℃で熱処理し、前記イミド化により得られたポリイミド膜を炭化して、膜厚が約1μmの分離膜(炭素膜)を得た。こうして貫通孔内表面に分離膜が形成されたモノリス基材の両端面をシリコーンにてシールした後、実施例1と同様に浸透気化試験を行って、分離膜の分離性能を評価し、その結果を表1に示した。
実施例1と同様にしてモノリス基材の各貫通孔の表面にポリアミド酸膜を成膜し、その後、ドライヤーを用いて貫通孔の下側開口端から上側開口端に向かって150℃の熱風を、10m/sの風速で、70分間に渡って通過させ、更に乾燥機内にモノリス基材を下面を塞がないように設置し、200℃で16時間に渡って定置乾燥した。以上の工程を3回繰り返した後、乾燥機内の設定温度を300℃に上昇させて、更に1時間加熱することにより、ポリアミド酸膜をイミド化した。次いで、モノリス基材を真空のボックス炉にて、800℃で熱処理し、前記イミド化により得られたポリイミド膜を炭化して、膜厚が約1μmの分離膜(炭素膜)を得た。こうして貫通孔内表面に分離膜が形成されたモノリス基材の両端面をシリコーンにてシールした後、実施例1と同様に浸透気化試験を行って、分離膜の分離性能を評価し、その結果を表1に示した。
実施例1における最初の通風乾燥の際の通風気体の温度及び風速を、表2に示すような様々な組み合わせに変えて、分離膜(炭素膜)を形成し、分離膜が形成されたモノリス基材の両端面をシリコーンにてシールした後、実施例1と同様に浸透気化試験を行って、分離膜の分離性能を評価し、その結果を表2に示した。なお、前記通風気体の温度及び風速以外の分離膜形成条件は、実施例1と同様である。
モノリス基材の各貫通孔の表面にポリアミド酸膜を成膜する前に、ドライヤーを用いて、貫通孔内に150℃の熱風を10分間通過させ、各貫通孔の表面を150℃に温めた以外は、実施例1と同様にして分離膜(炭素膜)を形成し、分離膜が形成されたモノリス基材の両端面をシリコーンにてシールした後、実施例1と同様に浸透気化試験を行って、分離膜の分離性能を評価し、その結果を表3に示した。
モノリス基材の各貫通孔の表面にポリアミド酸膜を成膜する前に、乾燥機を用いて、モノリス基材全体を150℃に温めた以外は、実施例1と同様にして分離膜(炭素膜)を形成し、分離膜が形成されたモノリス基材の両端面をシリコーンにてシールした後、実施例1と同様に浸透気化試験を行って、分離膜の分離性能を評価し、その結果を表3に示した。
モノリス基材の各貫通孔の表面にポリアミド酸膜を成膜する前に、乾燥機を用いて、モノリス基材全体を表4に示すような様々な温度に温めた以外は、実施例1と同様にして分離膜(炭素膜)を形成し、分離膜が形成されたモノリス基材の両端面をシリコーンにてシールした後、実施例1と同様に浸透気化試験を行って、分離膜の分離性能を評価し、その結果を表4に示した。
Claims (12)
- 多孔質のモノリス基材に形成された貫通孔内に分離膜の前駆体溶液を通すことにより、前記貫通孔の表面に、前記前駆体溶液からなる膜を成膜し、前記膜を乾燥させた後、最終的に熱分解して炭化させることにより分離膜とする分離膜の製造方法であって、
前記乾燥を、前記貫通孔内に50〜300℃の熱風を0.5〜30m/sの風速で通過させる通風乾燥のみにより行う分離膜の製造方法。 - 前記前駆体溶液が、ポリアミド酸溶液である請求項1に記載の分離膜の製造方法。
- 前記通風乾燥により、前記膜を乾燥させるとともにイミド化させる請求項1又は2に記載の分離膜の製造方法。
- 前記モノリス基材全体又は前記貫通孔表面を50〜350℃に予熱してから前記成膜を行う請求項1〜3の何れか一項に記載の分離膜の製造方法。
- 前記モノリス基材の外周面にシールを施した後、前記成膜を行う請求項1〜4の何れか一項に記載の分離膜の製造方法。
- 前記モノリス基材の材質が、アルミナ、シリカ、コージェライト、ムライト、チタニア、ジルコニア及び炭化珪素からなる群より選択された何れか一種のセラミックスである請求項1に記載の分離膜の製造方法。
- 前記モノリス基材の材質が、アルミナである請求項1に記載の分離膜の製造方法。
- 前記前駆体溶液の溶媒が、有機溶媒である請求項1に記載の分離膜の製造方法。
- 前記ポリアミド酸溶液の溶媒が、有機溶媒である請求項2に記載の分離膜の製造方法。
- 前記ポリアミド酸溶液の溶媒が、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)及びN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)からなる群より選択された何れか一種の有機溶媒である請求項2に記載の分離膜の製造方法。
- 前記ポリアミド酸溶液の溶媒が、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)である請求項2に記載の分離膜の製造方法。
- 前記モノリス基材として、長手方向に垂直な断面が円形又は多角形であり、全体外径が10〜300mm、長さが30〜2000mmで、1〜10000個の貫通孔が形成されたモノリス基材を使用する、請求項1〜11の何れか一項に記載の分離膜の製造方法。
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