JP2002284975A - ポリアリレートと金属酸化物との複合体、及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れた透明性、表面硬度、機械強度、耐熱
性、低熱膨張率、及び電極材料などの他の素材との接着
性を有する、ポリアリレートと金属酸化物との複合体、
及びその製造方法、該複合体からなるフィルム又はシー
ト、及びそれを用いた光学材料、特にディスプレー用フ
ィルム基板、及び該基板を用いたディスプレーを提供す
ること。 【解決手段】 ポリアリレート中に溶解もしくは分子オ
ーダーで分散させた金属アルコキシドを加水分解、重縮
合することにより生成した０．１μｍ以下の微細に分散
した金属酸化物をポリアリレート中に含む、ポリアリレ
ートと金属酸化物との複合体、及びその製造方法、該複
合体からなるフィルム又はシート、及びそれを用いた光
学材料、特にディスプレー用フィルム基板、及び該基板
を用いたディスプレー。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、全芳香族ポリエス
テルであるポリアリレートと金属酸化物との複合材料、
その製造方法、及び複合体からなる光学材料、特にディ
スプレー用フィルム基板に関する。本発明のポリアリレ
ートと金属酸化物との複合体は、高い耐熱性、透明性、
表面硬度、及び低い線熱膨張係数を有し、光学材料、特
に表示装置（以下「ディスプレー」という）用フィルム
基板に有用である。

【０００２】

【従来の技術】プラスチック材料は一般に軽量であり、
力学強度、又は製膜性などの加工性に優れるため、ディ
スプレー、光学フィルター、光学レンズ及び光ディスク
等の光学材料として広く用いられている。光学材料とし
て用いる場合には、透明性を維持しながら、電極材料な
ど他の素材との接着性、耐擦傷性、ガスバリヤー性など
諸特性を満足させることが要求される。この為、通常は
一種類の樹脂フィルムで全ての要求を満たすことができ
ないため、多層フィルムとするのが一般的であり、生産
性とコストの観点から層構造を可能な限り単純化したフ
ィルムが望まれている。

【０００３】また、プラスチック基板を用いた液晶ディ
スプレーは、軽量化と高い耐衝撃性という特徴を生かし
て、一部で実用化されている。こうしたプラスチック基
板は、ガラス基板と比較して薄型化の要望も満たし、そ
れに伴い視差が少ないという液晶ディスプレーの視認性
向上の効果を有している。

【０００４】しかし、これらの光学材料用プラスチック
として用いられているメチルメタクリレート、ポリスチ
レン、ポリカーボネート等の透明性樹脂は、耐熱材料と
して扱われているものの、その耐熱性は十分ではなく、
光学材料としての使用時はもとより、製造工程における
取り扱いにおいても、より耐熱性の優れた透明性樹脂が
求められている。

【０００５】例えば、ディスプレー用プラスチックフィ
ルム基板では、その組立て工程に要する熱処理温度が、
ガラス基板で実施されている処理温度にできるだけ近い
高温が望まれているが、これら従来の光学材料用プラス
チックを用いたディスプレー用フィルム基板では、その
軟化温度が１００〜１６０℃であるため、導電膜の形成
や配向膜の形成といった加熱処理を含む工程におけるソ
リ等の変形や着色、同じく加熱処理を含む貼り合わせ工
程においての変形の発生、また、剛性の小さいポリマー
であるためセルギャップを均一にし難いことから表示ム
ラ、表示品位が低下する問題があった。

【０００６】一方、高分子素材だけでは不足する耐熱
性、機械的強度を補うため有機−無機ハイブリッド高分
子材料の応用開発も盛んに行われている。例えば、特開
平１１−２０９５９６号公報、特開２０００−３２７９
３０号公報においては、金属アルコキシド化合物と、そ
の金属アルコキシド化合物と反応可能な官能基を分子内
に有する第一のポリマーとを有機溶媒中に溶解させ、そ
の状態でゾル−ゲル法により加水分解、重縮合すること
により、金属酸化物粒子の表面に第１のポリマーが共有
結合し、改質された金属酸化物粒子を作成させる。

【０００７】次にこの分散液中に有機−無機複合材料の
マトリックスとなる第２のポリマーを投入し、よく混合
することによって、第２のポリマー中に改質された金属
酸化物粒子が均一かつ微細に分散した有機−無機複合材
料を得ている。しかし、この方法では予め金属アルコキ
シド化合物と反応可能な官能基を分子内に少なくとも１
個有する第一のポリマーを合成しなければならず、工程
が煩雑で、且つ生産効率とコストの点で問題があった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、優れた透明性、表面硬度、機械強度、耐熱
性、低熱膨張率、及び電極材料などの他の素材との接着
性を有する、ポリアリレートと金属酸化物との複合体、
及びその製造方法、該複合体からなるフィルム又はシー
ト、及びそれを用いた光学材料、特にディスプレー用フ
ィルム基板、及び該基板を用いたディスプレーを提供す
ることにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上述した課
題を解決するため鋭意研究した結果、ポリアリレート中
に溶解あるいは予め分子オーダーで分散させた金属酸化
物前駆体を、該ポリアリレート中で加水分解、重縮合
(ｉｎ ｓｉｔｕでの加水分解、重縮合)することによ
り、生成した０．１μｍ以下の金属酸化物を含むポリア
リレートと金属酸化物との複合体が、透明性を維持しな
がら、電極材料など他の素材との接着性、耐熱性、耐擦
傷性、低熱膨張性に優れた光学材料を、簡便に製造でき
ることを見出し本発明を完成するに至った。

【００１０】即ち、本発明は、ポリアリレート中に溶解
もしくは分子オーダーで分散させた金属アルコキシドを
加水分解、重縮合することにより生成した０．１μｍ以
下の微細に分散した金属酸化物をポリアリレート中に含
む、ポリアリレートと金属酸化物との複合体である。特
に、複合体の金属酸化物の金属が、シリカ、チタニア、
ジルコニアからなる群より選択された１つであることを
特徴とするポリアリレートと金属酸化物との複合体であ
る。

【００１１】本発明のポリアリレートと金属酸化物との
複合体は、構成するポリアリレートが、主鎖中にアルキ
レン鎖を含まない非晶性全芳香族ポリエステルであるこ
と、及び／又は２００℃〜５００℃のガラス転移温度を
有するポリアリレートであることを特徴とするポリアリ
レートと金属酸化物との複合体であり、特に該ポリアリ
レートが、一般式(１)の構造を有するポリエステルであ
るポリアリレートと金属酸化物との複合体である。

【００１２】一般式(１)

【００１３】

【化３】

【００１４】（式中、Ｒは水素原子又は炭素数１〜８の
アルキル基を表す） 本発明のポリアリレートと金属酸化物との複合体は、ハ
ロゲンランプを光源として用いた平行光線が５０％以上
である透明性を有すること、複合体の線熱膨張係数が、
該複合体を構成するポリアリレート単体の線熱膨張係数
より小さいこと、又は複合体の表面硬度が、該複合体を
構成するポリアリレート単体の表面硬度より大きいこと
を特徴とする。

【００１５】更に、本発明は、ポリアリレート中に溶解
もしくは予め分子オーダーで分散させた金属酸化物前駆
体を、該ポリアリレート中で加水分解、重縮合させる、
０．１μｍ以下の微細に分散した金属酸化物をポリアリ
レート中に含む、ポリアリレートと金属酸化物との複合
体の製造方法であり、特に金属酸化物の金属が、特にシ
リカ、チタニア、ジルコニアからなる群より選択された
１つであることを特徴とする製造方法である。

【００１６】また本発明のポリアリレートと金属酸化物
との複合体の製造方法は、特に、 （Ａ） ポリアリレートの溶液と、（Ｂ） Ｓｉ（Ｏ
Ｒ）₄ （式中、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、又はアルキ
ル基、又はフェニル基もしくはベンジル基などの芳香族
基で置換されているアルキル基を表す）と （Ｃ） ＳｉＲ’_4-a（ＯＲ）_a （式中、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、又はアルキ
ル基、又はフェニル基もしくはベンジル基などの芳香族
基で置換されているアルキル基を表し、Ｒ’は炭素数１
〜１０のアルキル基、又はアミノ基、ピリジル基、イミ
ダゾリル基、グリシジル基、水酸基、ビニル基、メルカ
プト基で置換されていても良い、炭素数１〜１０のアル
キル基、ａは１〜３の整数、Ｒは炭素数１〜１０のアル
キル基を表す）とからなる溶液とを混合しポリアリレー
ト中で（ｉｎ ｓｉｔｕで）加水分解、重縮合させる、
ポリアリレートと金属酸化物との複合体の製造方法であ
る。

【００１７】特に（Ｃ） ＳｉＲ’_4-a（ＯＲ）_aがアミ
ノ基を有するアルコキシシランを用いること、ポリアリ
レートとして、主鎖中にアルキレン鎖を含まない非晶性
全芳香族ポリエステル、又は、２００℃以上のガラス転
移温度を有するポリアリレートを用いることを特徴とす
るポリアリレートと金属酸化物との複合体の製造方法で
あり、特にポリアリレートとして、一般式(１)の構造を
有するポリエステルを用いる、ポリアリレートと金属酸
化物との複合体の製造方法。一般式(１)

【００１８】

【化４】

【００１９】（式中、Ｒは水素原子又は炭素数１〜８の
アルキル基を表す） 更に、得られる複合体の線熱膨張係数が、該複合体を構
成するポリアリレート単体の線熱膨張係数より小さいこ
と、及び／又は、得られる複合体の表面硬度が、該複合
体を構成するポリアリレート単体の表面硬度より大きい
ことを特徴とするポリアリレートと金属酸化物との複合
体の製造方法である。

【００２０】本発明は、本発明の製造方法で得られた、
ポリアリレートと金属酸化物との複合体を、１８０℃以
上の温度からポリアリレートのガラス転移温度までの間
の温度で更に熱処理することを特徴とするポリアリレー
トと金属酸化物との複合体の製造方法を含む。

【００２１】更に、本発明は本発明により得られるポリ
アリレートと金属酸化物との複合体からなるフィルム又
はシート、該フィルム又はシートを用いた光学材料、該
フィルム又はシートを用いたディスプレー用フィルム基
板、該ディスプレー用フィルム基板を用いたディスプレ
ー、並びに、導電膜の形成、配向膜の形成、又は液晶セ
ルの封止を１８０℃〜４００℃で行うことを特徴とす
る、ポリアリレートと金属酸化物との複合体からなるフ
ィルム又はシートを用いたディスプレー用フィルム基板
の製造方法を含むものである。

【００２２】

【発明の実施の形態】金属酸化物の前駆体とポリアリレ
ートを適当な溶媒に溶解し、この状態で金属酸化物の加
水分解、重縮合を進めることにより、ポリアリレート中
にｉｎ ｓｉｔｕで金属酸化物が生成する。本発明にお
けるポリアリレートと金属酸化物との複合体とはこのよ
うなｉｎ ｓｉｔｕで生成した０．１μｍ以下の金属酸
化物を含む複合体であり、予め調製された金属酸化物と
ポリアリレートとの混合物とは異なるものである。

【００２３】マトリックス樹脂であるポリアリレート
中、ｉｎ ｓｉｔｕで金属酸化物の生成反応を進めるこ
とにより、反応初期からポリマーと金属酸化物との間に
強い相互作用が形成され、生成した金属酸化物がマクロ
スケールに成長することなく微細に分布した形態とな
る。その結果、複合体中の金属酸化物の大きさは０．１
μｍ以下となり、光を散乱することがなく、得られたポ
リアリレートと金属酸化物との複合体は優れた透明性を
維持する。

【００２４】本発明で言う金属酸化物とは、ホウ素、マ
グネシウム、カルシウム、アルミニウム、ガリウム、ゲ
ルマニウム、インジウム、錫などの金属の酸化物の他、
バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケ
ル、銅、亜鉛などの遷移元素の酸化物をも含むが、好ま
しくはシリカ、チタニア、ジルコニア、最も好ましくは
シリカである。本発明の複合体は、これらは２種以上の
金属酸化物を含有してもよい。

【００２５】本発明で言うポリアリレートとは、芳香族
二塩基酸と二価フェノールとからなる芳香族ポリエステ
ルを意味し、例えば芳香族ジカルボン酸、又はそのエス
テル、酸無水物、酸ハライド等とビスフェノール又はそ
のエステル形成性誘導体との重縮合反応によって得られ
る。

【００２６】ポリアリレートの重合方法としては、芳香
族ジカルボン酸ジハライドとビスフェノールを互いに相
溶しない二種の溶媒に溶解した後、アルカリ及び触媒量
の第４級アンモニウム塩などの存在下に２液を混合・撹
拌して重縮合反応を行う界面重合法、芳香族ジカルボン
酸ジハライドとビスフェノールを第３級アミンなどの酸
を受容するアルカリ性化合物の存在下、有機溶媒中で反
応せしめる溶液重合法、芳香族ジカルボン酸とビスフェ
ノールジエステル、又は芳香族ジカルボン酸ジエステル
とビスフェノールを原料として溶融状態でエステル交換
反応する溶融重合法等がある。

【００２７】本発明に用いられるポリアリレート原料の
芳香族二塩基酸、及びそのエステルは以下に例示する通
りであり、これらは酸無水物、酸ハライド等として使用
することができる。

【００２８】フタル酸、フタル酸ジメチル、フタル酸ジ
フェニル、イソフタル酸、イソフタル酸ジメチル、イソ
フタル酸ジ（シアノメチル）、イソフタル酸ジフェニ
ル、イソフタル酸ジ（２，４−ジニトロフェニル）、イ
ソフタル酸（１，１−ジオキソベンゾチオフェンー３−
イル）、イソフタル酸ジ（３−ベンゾイソオキサゾリ
ル）、イソフタル酸ジ（２−ベンゾチアゾリル）、イソ
フタル酸ジ（１−ベンゾトリアゾリル）、ジチオイソフ
タル酸Ｓ，Ｓ’−ジプロピル、ジチオイソフタル酸Ｓ，
Ｓ’−ジ（ｐ−トリル）、ジチオイソフタル酸Ｓ，Ｓ’
−ジ（ｐ−ニトロフェニル）、

【００２９】ジチオイソフタル酸Ｓ，Ｓ’−ジ（２−ベ
ンゾオキサゾリル）、ジチオイソフタル酸Ｓ，Ｓ’−ジ
（２−ベンゾチアゾリル）、４−メチルイソフタル酸、
イソフタル酸ジメチル、５−メチルイソフタル酸、５−
メチルイソフタル酸ジメチル、４，５−ジメチルイソフ
タル酸、４，６−ジメチルイソフタル酸、４−クロロイ
ソフタル酸、４−クロロイソフタル酸ジメチル、５−ク
ロロイソフタル酸、５−クロロイソフタル酸ジメチル、
４，６−ジクロロイソフタル酸、４，６−ジクロロイソ
フタル酸ジメチル、４−ブロモイソフタル酸、４，６−
ジブロモイソフタル酸、

【００３０】４，６−ジブロモイソフタル酸ジメチル、
テレフタル酸、テレフタル酸ジメチル、テレフタル酸ジ
（シアノメチル）、テレフタル酸ジフェニル、テレフタ
ル酸ジ（３−ベンゾイソオキサゾリル）、テレフタル酸
ジ（２−ベンゾチアゾリル）、２−メチルテレフタル
酸、２−メチルテレフタル酸ジメチル、２，５ジメチル
テレフタル酸、２，６ジメチルテレフタル酸、２，６ジ
メチルテレフタル酸ジメチル、２−クロロテレフタル
酸、２−クロロテレフタル酸ジメチル、２，５ジ−クロ
ロテレフタル酸、２，５ジ−クロロテレフタル酸ジメチ
ル、テトラクロロテレフタル酸、

【００３１】テトラクロロテレフタル酸ジメチル、２−
ブロモテレフタル酸、２−ブロモテレフタル酸ジメチ
ル、２，５ジブロモテレフタル酸、２，５ジブロモテレ
フタル酸ジエチル、２，２’−ジフェニルジカルボン
酸、３，３’−ジフェニルジカルボン酸、３，４’−ジ
フェニルジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボ
ン酸、３，４’−ジカルボキシジフェニルエーテル、
４，４’−ジカルボキシジフェニルエーテル、１，５−
ナフタレンジカルボン酸、１，２−ナフタレンジカルボ
ン酸、１，２−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、１，
３−ナフタレンジカルボン酸、

【００３２】１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，４
−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、１，５−ナフタレ
ンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸ジメ
チル、１，６−ナフタレンジカルボン酸、１，６−ナフ
タレンジカルボン酸ジメチル、１，６−ナフタレンジカ
ルボン酸ジフェニル、１，７−ナフタレンジカルボン
酸、１，７−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、１，８
−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカル
ボン酸ジメチル、１，８−ナフタレンジカルボン酸ジフ
ェニル、２，３−ナフタレンジカルボン酸、２，３−ナ
フタレンジカルボン酸ジメチル、

【００３３】２，３−ナフタレンジカルボン酸ジフェニ
ル、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタ
レンジカルボン酸ジメチル、２，６−ナフタレンジカル
ボン酸ジフェニル、２，7−ナフタレンジカルボン酸、
２，７−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、２，７−ナ
フタレンジカルボン酸ジフェニル、１,２−（９−オキ
ソフルオレン）ジカルボン酸、１,２−（９−オキソフ
ルオレン）ジカルボン酸ジメチル、１,５−（９−オキ
ソフルオレン）ジカルボン酸、１,５−（９−オキソフ
ルオレン）ジカルボン酸ジメチル、１,６−（９−オキ
ソフルオレン）ジカルボン酸、

【００３４】１,６−（９−オキソフルオレン）ジカル
ボン酸ジメチル、１,７−（９−オキソフルオレン）ジ
カルボン酸、１,７−（９−オキソフルオレン）ジカル
ボン酸ジメチル、２，３−（９−オキソフルオレン）ジ
カルボン酸、２，３−（９−オキソフルオレン）ジカル
ボン酸ジメチル、２，７−（９−オキソフルオレン）ジ
カルボン酸、２，７−（９−オキソフルオレン）ジカル
ボン酸ジメチル、１，４−アントラセンジカルボン酸、
１，５−アントラセンジカルボン酸、１，５−アントラ
センジカルボン酸ジエチル、１，８−アントラセンジカ
ルボン酸、

【００３５】１，９−アントラセンジカルボン酸、２，
３−アントラセンジカルボン酸、９，１０−アントラセ
ンジカルボン酸、９，１０−アントラセンジカルボン酸
ジメチル、１，２−アントラキノンジカルボン酸、１，
２−アントラキノンジカルボン酸ジメチル、１，３−ア
ントラキノンジカルボン酸、１，４−アントラキノンジ
カルボン酸、１，５−アントラキノンジカルボン酸、
１，５−アントラキノンジカルボン酸ジメチル、１，５
−アントラキノンジカルボン酸ジフェニル、１，６−ア
ントラキノンジカルボン酸、１，７−アントラキノンジ
カルボン酸、

【００３６】１，８−アントラキノンジカルボン酸、
２，３−アントラキノンジカルボン酸、２，７−アント
ラキノンジカルボン酸、２，３−ビフェニルジカルボン
酸、２，３−ビフェニルジカルボン酸ジメチル、２，５
−ビフェニルジカルボン酸、２，６−ビフェニルジカル
ボン酸、３，４−ビフェニルジカルボン酸、３，４−ビ
フェニルジカルボン酸ジメチル、３，４−ビフェニルジ
カルボン酸、２，２’−ビフェニルジカルボン酸、２，
２’−ビフェニルジカルボン酸ジメチル、２，２’−ビ
フェニルジカルボン酸ジフェニル、２，４’−ビフェニ
ルジカルボン酸、

【００３７】２，４’−ビフェニルジカルボン酸ジメチ
ル、３，３’−ビフェニルジカルボン酸、３，３’−ビ
フェニルジカルボン酸ジメチル、３，４’−ビフェニル
ジカルボン酸、３，４’−ビフェニルジカルボン酸ジメ
チル、４，４’−ビフェニルジカルボン酸、４，４’−
ビフェニルジカルボン酸ジメチル、４，４’−ビフェニ
ルジカルボン酸ジフェニル、１，５−ビフェニレンジカ
ルボン酸、１，５−ビフェニレンジカルボン酸ジメチ
ル、１，８−ビフェニレンジカルボン酸、１，８−ビフ
ェニレンジカルボン酸ジメチル、２，６−ビフェニレン
ジカルボン酸、

【００３８】２，６−ビフェニレンジカルボン酸ジメチ
ル、２，７−ビフェニレンジカルボン酸、２，７−ビフ
ェニレンジカルボン酸ジメチル、２，２’−ジメチル
４，４’−ビフェニルジカルボン酸、２，２’−ジメチ
ル４，４’−ビフェニルジカルボン酸ジエチル、４，
４”−ｐ−テルフェニルジカルボン、４，４’’ ’−
ｐ−クアテルフェニルジカルボン酸ジメチル、４，
４’’ ’−ｐ−クアテルフェニルジカルボン酸、２，
２’−メチレン二安息香酸、２，２’−メチレン二安息
香酸ジメチル、２，４’−メチレン二安息香酸、２，
４’−メチレン二安息香酸ジメチル、

【００３９】３，３’−メチレン二安息香酸、４，４’
−メチレン二安息香酸、４，４’−メチレン二安息香酸
ジメチル、４，４’−イソプロピリデン二安息香酸、
２，２’−ビベンジルジカルボン酸、２，２’−ビベン
ジルジカルボン酸ジメチル、３，３’−ビベンジルジカ
ルボン酸ジメチル、４，４’−ビベンジルジカルボン
酸、４，４’−ビベンジルジカルボン酸ジメチル、２，
２’−ｔｒａｎｓ−スチルベンジカルボン酸、２，２’
−ｔｒａｎｓ−スチルベンジカルボン酸ジメチル、２，
２’−ｔｒａｎｓ−スチルベンジカルボン酸ジフェニ
ル、２，４’−ｔｒａｎｓ−スチルベンジカルボン酸、
４，４’−ｔｒａｎｓ−スチルベンジカルボン酸、

【００４０】４，４’−ｔｒａｎｓ−スチルベンジカル
ボン酸、２，４’−ｔｒａｎｓ−スチルベンジカルボン
酸、２，４’−ｔｒａｎｓ−スチルベンジカルボン酸ジ
エチル、４，４’−ｔｒａｎｓ−スチルベンジカルボン
酸、４，４’−ｔｒａｎｓ−スチルベンジカルボン酸ジ
メチル、２，２’−トランジカルボン酸、２，２’−ト
ランジカルボン酸ジメチル、２，４’−トランジカルボ
ン酸、４，４’−トランジカルボン酸、４，４’−トラ
ンジカルボン酸ジメチル、プソイド−ｐ−ジカルボキシ
[２.２]パラシクロファン、４，４’−カルボニル二安
息香酸、

【００４１】３，３’−オキシ二安息香酸、４，４’−
オキシ二安息香酸、４，４’−オキシ二安息香酸ジメチ
ル、４，４’−オキシ二安息香酸ジフェニル、４，４’
−チオ二安息香酸、４，４’−スルホニル二安息香酸、
４，４’−スルホニル二安息香酸ジメチル、３，３’−
ジチオ二安息香酸、４，４’−ジチオ二安息香酸、４，
４’−ジチオ二安息香酸ジエチル、２，２’−アゾベン
ゼンジカルボン酸、２，２’−アゾベンゼンジカルボン
酸ジメチル、３，３’−アゾベンゼンジカルボン酸、
３，３’−アゾベンゼンジカルボン酸ジメチル、４，
４’−アゾベンゼンジカルボン酸、４，４’−アゾベン
ゼンジカルボン酸ジメチル、ホモフタル酸、

【００４２】ホモフタル酸ジメチル、ホモイソフタル
酸、ホモイソフタル酸ジメチル、ホモテレフタル酸、ホ
モテレフタル酸ジメチル、ｏ−フェニレン二酢酸、ｏ−
フェニレン二酢酸ジエチル、ｍ−フェニレン二酢酸、ｍ
−フェニレン二酢酸ジエチル、ｐ−フェニレン二酢酸、
ｐ−フェニレン二酢酸ジエチル、３，３’−ｏ−フェニ
レンジプロピオン酸、３，３’−ｏ−フェニレンジプロ
ピオン酸ジエチル、３，３’−ｍ−フェニレンジプロピ
オン酸、３，３’−ｍ−フェニレンジプロピオン酸ジエ
チル、３，３’−ｐ−フェニレンジプロピオン酸、３，
３’−ｐ−フェニレンジプロピオン酸ジエチル、２−カ
ルボキシ桂皮酸、３−カルボキシ桂皮酸、

【００４３】４−カルボキシ桂皮酸、４−カルボキシ桂
皮酸ジエチル、３ｔ，３’ｔ−ｏ−フェニレンジアクリ
ル酸、３ｔ，３’ｔ−ｏ−フェニレンジアクリル酸ジメ
チル、３ｔ，３’ｔ−ｍ−フェニレンジアクリル酸、３
ｔ，３’ｔ−ｍ−フェニレンジアクリル酸ジメチル、３
ｔ，３’ｔ−ｐ−フェニレンジアクリル酸、３ｔ，３’
ｔ−ｐ−フェニレンジアクリル酸ジメチル、ｍ−フェニ
レンジプロピオール酸、ｍ−フェニレンジプロピオール
酸ジメチル、１，４−ナフタレン二酢酸、１，５−ナフ
タレン二酢酸、１，５−ナフタレン二酢酸ジメチル、

【００４４】３，３’−（１，４−ナフタレン）ジプロ
ピオン酸、３，３’−（１，４−ナフタレン）ジプロピ
オン酸ジエチル、４，４’−ビフェニル二酢酸、４，
４’−ビフェニル二酢酸ジエチル、３，３’−（４，
４’−ビフェニル）ジプロピオン酸、３，３’−[４，
４’−(メチレンジ−ｐ−フェニレン)]ジプロピオン
酸、４，４’−ビベンジル二酪酸、３，３’−（４，
４’−ビベンジル）ジプロピオン酸、４，４’−（オキ
シジーｐ−フェニレン）二酪酸、

【００４５】３，３’−[４，４’−(オキシジ−ｐ−フ
ェニレン)]ジプロピオン酸、３，３’−[４，４’−(オ
キシジ−ｐ−フェニレン)] 二酪酸、ジフェニルスルホ
ンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン
酸、２，３−フランジカルボン酸、２，３−フランジカ
ルボン酸ジメチル、２，４−フランジカルボン酸、２，
４−フランジカルボン酸ジメチル、２，５−フランジカ
ルボン酸、２，５−フランジカルボン酸ジメチル、２，
５−フランジカルボン酸ジフェニル、３，４−フランジ
カルボン酸、３，４−フランジカルボン酸ジメチル、
３，４−ジフェニル−２，５−フランジカルボン酸、
３，４−ジフェニル−２，５−フランジカルボン酸ジメ
チル、

【００４６】３，３’−（２，５−フラン）ジプロピオ
ン酸、３，３’−（２，５−フラン）ジプロピオン酸ジ
メチル、２，５−ｃｉｓ−テトラヒドロフランジカルボ
ン酸、２，５−ｃｉｓ−テトラヒドロフランジカルボン
酸ジメチル、３，３’−（２，５−ｃｉｓ−テトラヒド
ロフラン）ジプロピオン酸、３，３’−（２，５−ｃｉ
ｓ−テトラヒドロフラン）ジプロピオン酸ジエチル、
２，３−チオフェンジカルボン酸、２，３−チオフェン
ジカルボン酸ジメチル、２，４−チオフェンジカルボン
酸、２，４−チオフェンジカルボン酸ジメチル、２，５
−チオフェンジカルボン酸、

【００４７】２，５−チオフェンジカルボン酸ジメチ
ル、２，５−チオフェンジカルボン酸ジフェニル、３，
４−チオフェンジカルボン酸、３，４−チオフェンジカ
ルボン酸ジメチル、３，４−ジフェニル−２，５−チオ
フェンジカルボン酸、３，４−ジフェニル−２，５−チ
オフェンジカルボン酸ジメチル、２，５−チオフェン二
酢酸、３，３’−（２，５−チオフェン）ジプロピオン
酸、３，３’−（２，５−チオフェン）ジプロピオン酸
ジエチル、２，５−ｃｉｓ−テトラヒドロチオフェンジ
カルボン酸、２，５−ｃｉｓ−テトラヒドロチオフェン
ジカルボン酸ジエチル、

【００４８】３，４−ｃｉｓ−テトラヒドロチオフェン
ジカルボン酸、３，４−ｃｉｓ−テトラヒドロチオフェ
ンジカルボン酸ジメチル、１，１−ジオキソ−２，５−
ｃｉｓ−テトラヒドロチオフェンジカルボン酸、１，１
−ジオキソ−２，５−ｃｉｓ−テトラヒドロチオフェン
ジカルボン酸ジエチル、２，６−４Ｈ−ピランジカルボ
ン酸、４−オキソ−２，６−４Ｈ−ピランジカルボン
酸、４−オキソ−２，６−４Ｈ−ピランジカルボン酸ジ
エチル、２，６−ｃｉｓ−テトラヒドロピランジカルボ
ン酸、２，６−ｃｉｓ−テトラヒドロピランジカルボン
酸ジメチル、

【００４９】２，６−ｃｉｓ−テトラヒドロチオピラン
ジカルボン酸、２，６−ｃｉｓ−テトラヒドロチオピラ
ンジカルボン酸ジメチル、１，１−ジオキソ−２，６−
ｃｉｓ−テトラヒドロチオピランジカルボン酸、１，１
−ジオキソ−２，６−ｃｉｓ−テトラヒドロチオピラン
ジカルボン酸ジメチル、２，８−ジベンゾフランジカル
ボン酸、２，８−ジベンゾフランジカルボン酸ジメチ
ル、３，７−ジベンゾフランジカルボン酸、３，７−ジ
ベンゾフランジカルボン酸ジメチル、４，６−ジベンゾ
フランジカルボン酸、４，６−ジベンゾフランジカルボ
ン酸ジメチル、

【００５０】２，８−ジベンゾチオフェンジカルボン
酸、５，５−ジオキソ−２，８−ジベンゾチオフェンジ
カルボン酸、９−オキソ−１，８−キサンテンジカルボ
ン酸、９−オキソ−２，７−キサンテンジカルボン酸、
９−オキソ−２，７−キサンテンジカルボン酸ジメチ
ル、１，６−ジベンゾ[１．４]ジオキシンジカルボン
酸、１，６−ジベンゾ[１．４]ジオキシンジカルボン酸
ジメチル、２，７−ジベンゾ[１．４]ジオキシンジカル
ボン酸、２，７−ジベンゾ[１．４]ジオキシンジカルボ
ン酸ジメチル、２，８−ジベンゾ[１．４]ジオキシンジ
カルボン酸、

【００５１】２，８−ジベンゾ[１．４]ジオキシンジカ
ルボン酸ジメチル、１，６−フェノキサチインジカルボ
ン酸、１，２，８−フェノキサチインジカルボン酸、
４，６−フェノキサチインジカルボン酸、４，６−フェ
ノキサチインジカルボン酸ジメチル、１０，１０−ジオ
キソ−１，６−フェノキサチインジカルボン酸、１０，
１０−ジオキソ−１，６−フェノキサチインジカルボン
酸ジメチル、１０，１０−ジオキソ−１，９−フェノキ
サチインジカルボン酸、１０，１０−ジオキソ−１，９
−フェノキサチインジカルボン酸ジメチル、

【００５２】１０，１０−ジオキソ−２，８−フェノキ
サチインジカルボン酸、１０，１０−ジオキソ−２，８
−フェノキサチインジカルボン酸ジメチル、１０，１０
−ジオキソ−４，６−フェノキサチインジカルボン酸、
２，７−チアントレンジカルボン酸、２，７−チアント
レンジカルボン酸ジメチル、１０，１０−ジオキソ−
１，９−チアントレンジカルボン酸、５，５，１０，１
０−テトラオキソ−２，７−チアントレンジカルボン
酸、５，５，１０，１０−テトラオキソ−２，７−チア
ントレンジカルボン酸ジメチル、１０−オキソ−１０−
フェニル−２，８−フェノキサホスフィンジカルボン
酸、

【００５３】９−オキサビシクロ[３．３．１]ノナン−
２，６−ジカルボン酸ジメチル、９−オキサビシクロ
[３．３．１]ノナン−２，６−ジカルボン酸ジフェニ
ル、２，４，６，８−テトラオキサスピロ[５．５]ウン
デカン−３，９−ジカルボン酸、２，４，６，８−テト
ラオキサスピロ[５．５]ウンデカン−３，９−ジカルボ
ン酸ジメチル、２，４，６，８−テトラオキサスピロ
[５．５]ウンデカン−３，９−二酢酸、２，４，６，８
−テトラオキサスピロ[５．５]ウンデカン−３，９−二
酢酸ジエチル、２，３−ピロールジカルボン酸、２，３
−ピロールジカルボン酸ジメチル、

【００５４】２，４−ピロールジカルボン酸、２，４−
ピロールジカルボン酸ジメチル、２，５−ピロールジカ
ルボン酸、２，５−ピロールジカルボン酸ジメチル、１
−メチル−２，５−ピロールジカルボン酸、１−メチル
−２，５−ピロールジカルボン酸ジメチル、１−フェニ
ル−２，５−ピロールジカルボン酸、１−フェニル−
２，５−ピロールジカルボン酸ジメチル、３，４−ピロ
ールジカルボン酸、３，４−ピロールジカルボン酸ジメ
チル、１−メチル−３，４−ピロールジカルボン酸、１
−メチル−３，４−ピロールジカルボン酸ジエチル、１
−フェニル−３，４−ピロールジカルボン酸、１−フェ
ニル−３，４−ピロールジカルボン酸ジエチル、

【００５５】３，５−ジメチル−２，４−ピロールジカ
ルボン酸ジエチル、２，５−ジメチル−３，４−ピロー
ルジカルボン酸、２，５−ジメチル−３，４−ピロール
ジカルボン酸ジエチル、１，２，５−トリメチル−３，
４−ピロールジカルボン酸、１，２，５−トリメチル−
３，４−ピロールジカルボン酸ジエチル、１−メチル−
２，５−ピロール二酢酸、１−メチル−２，５−ピロー
ル二酢酸ジメチル、３，３’−（２，５−ピロール）ジ
プロピオン酸、３，３’−（２，５−ピロール）ジプロ
ピオン酸ジメチル、３，３’−（１−メチル−２，５−
ピロール）ジプロピオン酸、

【００５６】３，３’−（１−メチル−２，５−ピロー
ル）ジプロピオン酸ジメチル、３，３’−（１−フェニ
ル−２，５−ピロール）ジプロピオン酸ジエチル、１−
メチル−２，５−ｃｉｓ−ピロリジンジカルボン酸ジエ
チル、１−フェニル−２，５−ｃｉｓ−ピロリジンジカ
ルボン酸ジエチル、１−メチル−２，５−ピロリジン二
酢酸ジエチル、３，３’−（１−メチル−２，５−ピロ
リジン）ジプロピオン酸、３，３’−（１−メチル−
２，５−ピロリジン）ジプロピオン酸ジエチル、２，５
−インドールジカルボン酸、２，５−インドールジカル
ボン酸ジエチル、

【００５７】２，６−インドールジカルボン酸、２，６
−インドールジカルボン酸ジエチル、９−メチル−１，
８−カルバゾールジカルボン酸、２，６−カルバゾール
ジカルボン酸、２，６−カルバゾールジカルボン酸ジエ
チル、３，６−カルバゾールジカルボン酸、３，６−カ
ルバゾールジカルボン酸ジエチル、９−メチル−３，６
−カルバゾールジカルボン酸、９−メチル−３，６−カ
ルバゾールジカルボン酸ジエチル、３，４−ピラゾール
ジカルボン酸、３，４−ピラゾールジカルボン酸ジメチ
ル、２−メチル−３，４−ピラゾールジカルボン酸、

【００５８】１−フェニル−３，４−ピラゾールジカル
ボン酸、１−フェニル−３，４−ピラゾールジカルボン
酸ジメチル、２−フェニル−３，４−ピラゾールジカル
ボン酸、２−フェニル−３，４−ピラゾールジカルボン
酸ジメチル、３，５−ピラゾールジカルボン酸、３，５
−ピラゾールジカルボン酸ジメチル、１−メチル−３，
５−ピラゾールジカルボン酸、１−メチル−３，５−ピ
ラゾールジカルボン酸ジメチル、１−フェニル−３，５
−ピラゾールジカルボン酸、１−フェニル−３，５−ピ
ラゾールジカルボン酸ジメチル、４，５−イミダゾール
ジカルボン酸、

【００５９】４，５−イミダゾールジカルボン酸ジメチ
ル、４，５−イミダゾールジカルボン酸ジフェニル、１
−メチル−４，５−イミダゾールジカルボン酸、１−メ
チル−４，５−イミダゾールジカルボン酸ジメチル、１
−フェニル−４，５−イミダゾールジカルボン酸、１−
フェニル−４，５−イミダゾールジカルボン酸ジエチ
ル、２，３−ピリジンジカルボン酸、２，３−ピリジン
ジカルボン酸ジメチル、２，３−ピリジンジカルボン酸
ジフェニル、２，４−ピリジンジカルボン酸、２，４−
ピリジンジカルボン酸ジメチル、２，４−ピリジンジカ
ルボン酸ジフェニル、２，５−ピリジンジカルボン酸、
２，５−ピリジンジカルボン酸ジメチル、

【００６０】２，５−ピリジンジカルボン酸ジフェニ
ル、２，６−ピリジンジカルボン酸、２，６−ピリジン
ジカルボン酸ジメチル、２，６−ピリジンジカルボン酸
ジフェニル、３，４−ピリジンジカルボン酸、３，４−
ピリジンジカルボン酸ジメチル、３，５−ピリジンジカ
ルボン酸、３，５−ピリジンジカルボン酸ジメチル、
３，５−ピリジンジカルボン酸ジフェニル、２，６−ジ
メチル−３，５−ピリジンジカルボン酸、２，４，６−
トリメチル−３，５−ピリジンジカルボン酸、２，５−
ピペリジンジカルボン酸ジメチル、２，３−ピペリジン
ジカルボン酸ジエチル、２，６−ｃｉｓ−ピペリジンジ
カルボン酸、２，６−ｃｉｓ−ピペリジンジカルボン酸
ジメチル、１−メチル−２，６−ｃｉｓ−ピペリジンジ
カルボン酸、

【００６１】１−メチル−２，６−ｃｉｓ−ピペリジン
ジカルボン酸ジメチル、３，５−ピペリジンジカルボン
酸ジエチル、２，６−ｃｉｓ−ピペリジン二酢酸、１−
メチル−２，６−ｃｉｓ−ピペリジン二酢酸、１−メチ
ル−２，６−ｃｉｓ−ピペリジン二酢酸ジエチル、２，
３−キノリンジカルボン酸、２，３−キノリンジカルボ
ン酸ジメチル、２，４−キノリンジカルボン酸、２，４
−キノリンジカルボン酸ジメチル、２，６−キノリンジ
カルボン酸、３，７−キノリンジカルボン酸、４，８−
キノリンジカルボン酸、４，８−キノリンジカルボン酸
ジメチル、

【００６２】５，６−キノリンジカルボン酸、５，６−
キノリンジカルボン酸ジメチル、５，８−キノリンジカ
ルボン酸、６，７−キノリンジカルボン酸、６，７−キ
ノリンジカルボン酸ジメチル、６，８−キノリンジカル
ボン酸、７，８−キノリンジカルボン酸、２，２’−ビ
ピリジン−４，４’−ジカルボン酸、２，２’−ビピリ
ジン−４，４’−ジカルボン酸ジメチル、２，２’−ビ
ピリジン−５，５’−ジカルボン酸、２，２’−ビピリ
ジン−５，５’−ジカルボン酸ジメチル、２，２’−ビ
ピリジン−６，６’−ジカルボン酸、３，３’−ビピリ
ジン−２，２’−ジカルボン酸、３，３’−ビピリジン
−２，２’−ジカルボン酸ジメチル、

【００６３】４，５−ピリダジンジカルボン酸、４，５
−ピリミジンジカルボン酸、４，６−ピリミジンジカル
ボン酸、２，３−ピラジンジカルボン酸、２，３−ピラ
ジンジカルボン酸ジメチル、２，５−ピラジンジカルボ
ン酸、２，５−ピラジンジカルボン酸ジメチル、２，５
−ピラジンジカルボン酸ジフェニル、２，６−ピラジン
ジカルボン酸、２，６−ピラジンジカルボン酸ジメチ
ル、１，４−ピペラジン二酢酸ジメチル、３，３’−
（１，４−ピペラジン）ジプロピオン酸ジメチル、１，
６−フェナジンジカルボン酸、１，６−フェナジンジカ
ルボン酸ジメチルなどが挙げられる。

【００６４】この内、主鎖中にアルキレン鎖を含まない
剛直な分子構造がより好ましく、上記のうち、フタル酸
類、テレフタル酸類、イソフタル酸類、ビフェニルジカ
ルボン酸類、ナフタレンジカルボン酸類、オキソフルオ
レンジカルボン酸類、アントラセンジカルボン酸類、ア
ントラキノンジカルボン酸類、ビフェニレンジカルボン
酸類、テルフェニルジカルボン酸類、クアテルフェニル
ジカルボン酸類、アゾベンゼンジカルボン酸類、フラン
ジカルボン酸類、チオフェンジカルボン酸類、ピランジ
カルボン酸類、ジベンゾフランジカルボン酸類、ジベン
ゾチオフェンジカルボン酸類、

【００６５】キサンテンジカルボン酸類、ジベンゾ
[１．４]ジオキシンジカルボン酸類、フェノキサチイン
ジカルボン酸類、チアントレンジカルボン酸類、フェノ
キサホスフィンジカルボン酸類、ピロールジカルボン酸
類、インドールジカルボン酸類、カルバゾールジカルボ
ン酸類、ピラゾールジカルボン酸類、イミダゾールジカ
ルボン酸類、ピリジンジカルボン酸類、キノリンジカル
ボン酸類、ビピリジンジカルボン酸類、ピリミジンジカ
ルボン酸類、ピラジンジカルボン酸類、フェナジンジカ
ルボン酸類などが好ましく用いられる。特に好ましくは
５〜１００モル％のイソフタル酸及び９５〜０モル％の
テレフタル酸からなる二塩基酸成分を用いたものであ
る。

【００６６】本発明に用いられるポリアリレート原料の
二価フェノールの例としては、１，１’−ビフェニル−
４，４’−ジオール、１，１’−ビフェニル−２，２’
−ジオール、１，１’−ビフェニル−３，３’−ジオー
ル、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、４，４’−ジ
ヒドロキシジフェニルエーテル、２，２−ビス−（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，４’―ジヒドロキ
シジフェニルメタン、ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、ビス−（２−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビス−（４−ヒドロキシ−２，６−ジメチル−３−
メトキシフェニル）メタン、１，１−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）エタン、１，１（４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキサン、１，２−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）エタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシ
−２−クロロフェニル）エタン、

【００６７】１，１’―ビナフタレン−２，２’―ジオ
ール、１，２−ジヒドロキシナフタレン、１，３−ジヒ
ドロキシナフタレン、１，４−ジヒドロキシナフタレ
ン、１，５−ジヒドロキシナフタレン、１，６−ジヒド
ロキシナフタレン、１，７−ジヒドロキシナフタレン、
１，８−ジヒドロキシナフタレン、２，３−ジヒドロキ
シナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、２，
7−ジヒドロキシナフタレン、９，９−ビス(４−ヒドロ
キシフェニル)フルオレン、９，９−ビス(５−メチル−
４−ヒドロキシフェニル)フルオレン１,２−（９−オキ
ソフルオレン）ジオール、

【００６８】１,５−（９−オキソフルオレン）ジオー
ル、１,６−（９−オキソフルオレン）ジオール、１,７
−（９−オキソフルオレン）ジオール、２，３−（９−
オキソフルオレン）ジオール、２，７−（９−オキソフ
ルオレン）ジオール、２，２−ビス−（４−ヒドロキシ
ナフチル）プロパン、２，２ビス（３，５−ジメチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−
（４―ヒドロキシフェニル）ペンタン、３，３−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、パラ−
α,α’−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−パラ−
ジイソプロピルベンゼン、ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）エーテル、４，３’−ヒドロキシジフェニルエー
テル、

【００６９】４，２’−ヒドロキシジフェニルエーテ
ル、２，２’−ヒドロキシジフェニルエーテル、２，
３’−ヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒ
ドロキシ−２，６−ジメチルジフェニルエーテル、ビス
−（ヒドロキシナフチル）エーテル、３，４’−ジヒド
ロキシジフェニル、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）
スルホン、ビス−（３−ヒドロキシフェニル）スルホ
ン、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、カテ
コール、３−メチルカテコール、４−メチルカテコー
ル、３−エチルカテコール、４−メチルカテコール、３
−ｎ−プロピルカテコール、４−ｎ−プロピルカテコー
ル、３−ｎ−ブチルカテコール、４−ｎ−ブチルカテコ
ール、３−（１，１−ジメチルエチル）カテコール、３
−ｎ−ペンチルカテコール、

【００７０】４−ｎ−ペンチルカテコール、４−（１，
１−ジメチルプロピル）カテコール、４−ヘキシルカテ
コール、４−シクロヘキシルカテコール、４−（１，
１，３，３、−テトラメチルブチル）カテコール、４−
ノニルカテコール、３、４−ジメチルカテコール、３，
５−ジメチルカテコール、３，６−ジメチルカテコー
ル、４，５−ジメチルカテコール、４−メチル−５−エ
チルカテコール、３−モノクロロカテコール、４−モノ
クロロカテコール、３−モノブロモカテコール、４−モ
ノブロモカテコール、３−フルオロカテコール、４−フ
ルオロカテコール、３，５−ジクロロカテコール、４，
５−ジクロロカテコール、３，４−ジクロロカテコー
ル、３，４−ジブロモカテコール、３，５−ジブロモカ
テコール、

【００７１】４，５−ジブロモカテコール、４−クロロ
−５−ニトロカテコール、３−クロロ−６−メトキシカ
テコール、５−ブロモ−４−ニトロカテコール、４−ブ
ロモ−５−メチルカテコール、３−ブロモ−５−（１，
１−ジメチルエチル）カテコール、３，４，５トリクロ
ロカテコール、３，４，５トリブロモカテコール、３，
４，６トリブロモカテコール、テトラクロロカテコー
ル、テトラブロモカテコール、３−アミノカテコール、
４−アミノカテコール、３−（２−アミノエチル）カテ
コール、４−（２−メチルアミノエチル）カテコール、
４−（２−ジメチルアミノエチル）カテコール、４−
（２−アミルエチルアミノ）カテコール、６−アミノ−
４−（２−アミノエチル）カテコール、３−ニトロカテ
コール、

【００７２】３，４−ジニトロカテコール、３，６−ジ
ニトロカテコール、４，５−ジニトロカテコール、３−
ニトロ−６−メトキシカテコール、４−ニトロ−３−メ
トキシカテコール、５−ニトロ−３−メチルカテコー
ル、４−メトキシカテコール、６−メトキシカテコー
ル、４−（２−ヒドロキシエチル）カテコール、３−プ
ロピオキシカテコール、３−ブチロキシカテコール、
３，４−ジメトキシカテコール、３，６−ジメトキシカ
テコール、５−メトキシ−３−（１，１−ジメチルエチ
ル）カテコール、３−エトキシ−３−（１，１−ジメチ
ルエチル）カテコール、３，４，６−トリメトキシカテ
コール、レゾルシノール、２−クロロレゾルシノール、

【００７３】４−クロロレゾルシノール、５−クロロレ
ゾルシノール、２，４−ジクロロレゾルシノール、４，
６−ジクロロレゾルシノール、２，４，６−トリクロロ
レゾルシノール、２−ブロモ−４−クロロレゾルシノー
ル、４−ブロモ−２−クロロレゾルシノール、４−クロ
ロ−５−メチルレゾルシノール、６−クロロ−４−エチ
ルレゾルシノール、２−クロロ−４−ブチルレゾルシノ
ール、６−クロロ−４−ブチルレゾルシノール、６−ク
ロロ−４−シクロヘキシルレゾルシノール、２，４−ジ
クロロ−５−メチルレゾルシノール、トリクロロレゾル
シノール、２−ブロモレゾルシノール、４−ブロモレゾ
ルシノール、５−ブロモレゾルシノール、２，４−ジブ
ロモレゾルシノール、４，６−ジブロモレゾルシノー
ル、

【００７４】２，４，６−トリブロモレゾルシノール、
６−ブロモ−４−ブチルレゾルシノール、２−ヨードレ
ゾルシノール、４−ヨードレゾルシノール、５−ヨード
レゾルシノール、４，６−ジヨードレゾルシノール、
２，４，６−トリヨードレゾルシノール、２−アミノレ
ゾルシノール、５−アミノレゾルシノール、４−アミノ
−２，５−ジメチルレゾルシノール、４−ベンズアミノ
レゾルシノール、５−メルカプトレゾルシノール、５−
メチルチオレゾルシノール、５−エチルチオレゾルシノ
ール、５−プロピルチオレゾルシノール、５−ブチルチ
オレゾルシノール、２−ベンズスルホニルレゾルシノー
ル、レゾルシノールモノアセテート、レゾルシノールモ
ノベンゾエート、２−ニトロレゾルシノール、４−ニト
ロレゾルシノール、

【００７５】５−ニトロレゾルシノール、２，４−ジニ
トロレゾルシノール、４，６−ジニトロレゾルシノー
ル、２，４，６−トリニトロレゾルシノール、テトラニ
トロレゾルシノール、６−ニトロ−５−メトキシレゾル
シノール、２−ニトロ−５−メトキシレゾルシノール、
４−ニトロ−５−メトキシレゾルシノール、２，４−ジ
ニトロ−５−メチルレゾルシノール、２，４，６−トリ
ニトロ−５−メチルレゾルシノール、２−メトキシレゾ
ルシノール、４−メトキシレゾルシノール、５−メトキ
シレゾルシノール、２，３−メトキシレゾルシノール、
２，５−メトキシレゾルシノール、２−メトキシ−５−
メチルレゾルシノール、５−メトキシ−４−メチルレゾ
ルシノール、５−メトキシ−６−メチルレゾルシノー
ル、

【００７６】５−エトキシレゾルシノール、２−メチル
レゾルシノール、4−メチルレゾルシノール、５−メチ
ルレゾルシノール、２−エチルレゾルシノール、４−エ
チルレゾルシノール、５−エチルレゾルシノール、２−
ｎ−プロピルレゾルシノール、４−ｎ−プロピルレゾル
シノール、５−ｎ−プロピルレゾルシノール、２−（２
−プロペニル）レゾルシノール、４−（２−プロペニ
ル）レゾルシノール、４−（１−メチルエテニル）レゾ
ルシノール、２−ｎ−ブチルレゾルシノール、４−ｎ−
ブチルレゾルシノール、５−ｎ−ブチルレゾルシノー
ル、５−ｓｅｃ−ブチルレゾルシノール、４−ｔｅｒｔ
−ブチルレゾルシノール、２−ｎ−ペンチルレゾルシノ
ール、

【００７７】４−ｎ−ペンチルレゾルシノール、５−ｎ
−ペンチルレゾルシノール、４−（１−メチルブチル）
レゾルシノール、５−（２−メチル−１−エチルプロピ
ル）レゾルシノール、２−ｎ−ヘキシルレゾルシノー
ル、４−ｎ−ヘキシルレゾルシノール、５−ｎ−ヘキシ
ルレゾルシノール、４−（４−メチルペンチル）レゾル
シノール、５−（４−メチルペンチル）レゾルシノー
ル、５−（１，１−ジメチルブチル）レゾルシノール、
５−（１，２−ジメチルブチル）レゾルシノール、５−
（１−メチル−１−ペンテニル）レゾルシノール、４−
シクロヘキシルレゾルシノール、４−フェニルレゾルシ
ノール、４−ヘプチルレゾルシノール、５−ヘプチルレ
ゾルシノール、５−（１−メチルヘキシル）レゾルシノ
ール、

【００７８】４−フェニルメチルレゾルシノール、２−
オクチルレゾルシノール、４−オクチルレゾルシノー
ル、５−オクチルレゾルシノール、４−（１−メチルヘ
プチル）レゾルシノール、４−（１，１，３，３−テト
ラブチル）レゾルシノール、４−（２−フェニルエチ
ル）レゾルシノール、５−ノニルレゾルシノール、５−
（１−メチルオクチル）レゾルシノール、５−（１，１
−ジメチルヘプチル）レゾルシノール、５−（１，２−
ジメチルヘプチル）レゾルシノール、５−（１，２，４
−トリメチルヘキシル）レゾルシノール、４−デシルレ
ゾルシノール、５−（１−メチルノニル）レゾルシノー
ル、２，４−ジメチルレゾルシノール、２，５−ジメチ
ルレゾルシノール、４，５−ジメチルレゾルシノール、

【００７９】４，６−ジメチルレゾルシノール、４−エ
チル−２−メチルレゾルシノール、５−エチル−２−メ
チルレゾルシノール、２−エチル−４−メチルレゾルシ
ノール、５−エチル−４−メチルレゾルシノール、６−
エチル−４−メチルレゾルシノール、５−エテニル−４
−メチルレゾルシノール、２，４−ジメチルレゾルシノ
ール、５−メチル−４−プロピルレゾルシノール、２−
メチル−５−ｓｅｃ−ブチルレゾルシノール、４，６−
ジ（イソプロピル）レゾルシノール、４−エチル−６−
ペンチルレゾルシノール、４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル）レゾルシノール、２−メチル−４−（フェニルメチ
ル）レゾルシノール、

【００８０】２，４，５−トリメチルレゾルシノール、
２，４，６−トリメチルレゾルシノール、４，５，６−
トリメチルレゾルシノール、４，６−ジメチル−５−ｓ
ｅｃ−ブチルレゾルシノール、テトラメチルレゾルシノ
ール、２−ヒドロキシエチルレゾルシノール、５−トリ
フルオロメチルレゾルシノール、ヒドロキノン、フェニ
ルヒドロキノン、クロルヒドロキノン、メチルヒドロキ
ノン、トリフルオロヒドロキノン、テトラフルオロヒド
ロキノン、２−クロロ−３−メトキシヒドロキノン、２
−クロロ−５−メトキシヒドロキノン、２−クロロ−６
−メトキシヒドロキノン、２，３−ジクロロヒドロキノ
ン、２，５−ジクロロヒドロキノン、２，６−ジクロロ
ヒドロキノン、トリクロロヒドロキノン、テトラクロロ
ヒドロキノン、

【００８１】ブロモヒドロキノン、３−ブロモ−２，６
−ジメチルヒドロキノン、２，５−ジブロモヒドロキノ
ン、２，６−ジブロモヒドロキノン、トリブロモヒドロ
キノン、ヨードヒドロキノン、２，６−ジヨードヒドロ
キノン、テトラヨードヒドロキノン、ニトロヒドロキノ
ン、２，６−ジニトロヒドロキノン、メトキシヒドロキ
ノン、２−メトキシ−３−メチルヒドロキノン、２−メ
トキシ−５−メチルヒドロキノン、３−メトキシ−２−
メチルヒドロキノン、５−メトキシ−２−メチルヒドロ
キノン、２−メトキシ−６−プロピルヒドロキノン、２
−メトキシ−５−プロペニルヒドロキノン、２，３−ジ
メトキシヒドロキノン、２，５−ジメトキシヒドロキノ
ン、２，６−ジメトキシヒドロキノン、フェノキシヒド
ロキノン、

【００８２】メルカプトヒドロキノン、アセチルヒドロ
キノン、ベンゾイルヒドロキノン、ヒドロキシメチルヒ
ドロキノン、メチルヒドロキノン、２−メチル−６−エ
チルヒドロキノン、２−メチル−５−イソプロピルヒド
ロキノン、２−メチル−５−シクロヘキシルヒドロキノ
ン、２，３−ジメチルヒドロキノン、２，５−ジメチル
ヒドロキノン、２，６−ジメチルヒドロキノン、トリメ
チルヒドロキノン、テトラメチルヒドロキノン、エチル
ヒドロキノン、２，６−ジエチルヒドロキノン、ビニル
ヒドロキノン、ｎ−プロピルヒドロキノン、イソプロピ
ルヒドロキノン、１−プロペニルヒドロキノン、２−プ
ロペニルヒドロキノン、

【００８３】２，５−（ジイソプロピル）ヒドロキノ
ン、２−ブチルヒドロキノン、４−ブチルヒドロキノ
ン、２、３−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ヒドロキノン、
２、５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ヒドロキノン、２、６
−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ヒドロキノン、２−メチル−
２−プロペニルヒドロキノン、ヘキシルヒドロキノン、
４−メチルペンチルヒドロキノン、シクロヘキシルヒド
ロキノン、４−フェニルメチルヒドロキノン、オクチル
ヒドロキノン、２，２’−メチリデンビスフェノール、
３，３’−メチリデンビスフェノール、４，４’−メチ
リデンビスフェノール、２，２’−メチリデンビス（４
−メチルフェノール）、２，２’−メチリデンビス（５
−メチルフェノール）、２，２’−メチリデンビス（６
−メチルフェノール）、

【００８４】４，４’−メチリデン（２−メチルフェノ
ール）、４，４’−メチリデン（３−メチルフェノー
ル）、２，２’−メチリデンビス（４，６−ジメチルフ
ェノール）、２，２’−メチリデンビス（３，５−ジメ
チルフェノール）、４，４’−メチリデンビス（２，６
−ジメチルフェノール）、３，３’−メチリデンビス
（２，４，６−トリメチルフェノール）、２，２’−メ
チリデンビス（４−プロピルフェノール）、４，４’−
メチリデンビス（２−プロピルフェノール）、４，４’
−メチリデンビス（２−メチル−６−エチルフェノー
ル）、２，２’−メチリデンビス（３，４，５，６−テ
トラメチルフェノール）、４，４’−メチリデンビス
（２、３，５，６−テトラメチルフェノール）、

【００８５】２，２’−メチリデンビス（４−ｔｅｒｔ
−ブチルフェノール）、４，４’−メチリデンビス（２
−メチル−５−イソプロピルフェノール）、４，４’−
メチリデンビス（３−メチル−６−イソプロピルフェノ
ール）、４，４’−メチリデンビス（５−メチル−６−
イソプロピルフェノール）、２，２’−メチリデンビス
（４−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェノール）、
２，２’−メチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−メチルフェノール）、４，４’−メチリデンビス（２
−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェノール）、４，
４’−メチリデンビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メ
チルフェノール）、

【００８６】２，２’−メチリデンビス（３，４−ジメ
チル−６−イソプロピルフェノール）、２，２’−メチ
リデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノ
ール）、２，２’−メチリデンビス（４−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）フェノール）、２，２’
−メチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ノール）、４，４’−メチリデンビス（２，６−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチリデンビ
ス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，
２’−メチリデンビス（４−クロロフェノール）、４，
４’−メチリデンビス（２−クロロフェノール）、２，
２’−メチリデンビス（４−ブロモフェノール）、

【００８７】２，２’−メチリデンビス（４，６−ジク
ロロフェノール）、２，２’−メチリデンビス（４，５
−ジクロロフェノール）、３，３’−メチリデンビス
（４，５−ジクロロフェノール）、４，４’−メチリデ
ンビス（２，５−ジクロロフェノール）、４，４’−メ
チリデンビス（２，６−ジクロロフェノール）、２，
２’−メチリデンビス（４，６−ジブロモフェノー
ル）、４，４’−メチリデンビス（２，６−ジブロモフ
ェノール）、２，２’−メチリデンビス（３，４，５−
トリクロロフェノール）、２，２’−メチリデンビス
（３，４，６−トリクロロフェノール）、３，３’−メ
チリデンビス（２，４，６−トリクロロフェノール）、

【００８８】２，２’−メチリデンビス（６−ブロモ−
４−クロロフェノール）、２，２’−メチリデンビス
（４−ブロモ−６−ニトロフェノール）、２，２’−メ
チリデンビス（６−クロロ−４−ニトロフェノール）、
２，２’−メチリデンビス（４−ニトロフェノール）、
４，４’−メチリデンビス（２−ニトロフェノール）、
２，２’−メチリデンビス（４、６−ジニトロフェノー
ル）、３，３’−メチリデンビス（６−メトキシフェノ
ール）、４，４’−メチリデンビス（２−メトキシフェ
ノール）、２，２’−メチリデンビス（４−クロロ−６
−メチルフェノール）、２，２’−メチリデンビス（６
−クロロ−４−メチルフェノール）、

【００８９】４，４’−メチリデンビス（２−クロロ−
５−メチルフェノール）、４，４’−メチリデンビス
（２−クロロ−６−メチルフェノール）、２，２’−メ
チリデンビス（６−ブロモ−４−メチルフェノール）、
４，４’−メチリデンビス（６−ブロモ−２−メチルフ
ェノール）、２，２’−メチリデンビス（４−クロロ−
３，５−ジメチルフェノール）、２，２’−メチリデン
ビス（３−クロロ−４，６−ジメチルフェノール）、
２，２’−メチリデンビス（６−ブロモ−４，５−ジメ
チルフェノール）、４，４’−メチリデンビス（２−ク
ロロ−３，５，６−トリメチルフェノール）、

【００９０】２，２’−メチリデンビス（４−クロロ−
６−イソプロピルフェノール）、２，２’−メチリデン
ビス（６−クロロ−４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノー
ル）、２，２’−メチリデンビス（４−クロロ−３−メ
チル−６−イソプロピルフェノール）、２，２’−メチ
リデンビス（４−クロロ−６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−
メチルフェノール）、２，２−メチルデンビス（４，６
−ジクロロ−３−メチルフェノール）、２，２’−メチ
リデンビス（６−ニトロ−４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノ
ール）、

【００９１】４，４’−イソプロピリデンビスフェノー
ル、２，２’−イソプロピリデンビス（５−メチルフェ
ノール）、４，４’−イソプロピリデンビス（２−メチ
ルフェノール）、４，４’−イソプロピリデンビス（２
−シクロヘキシルフェノール）、４，４’−イソプロピ
リデンビス（２，６−ジブロモフェノール）、４，４’
−イソプロピリデンビス（２−ニトロフェノール）、
４，４’−イソプロピリデンビス（２，６−ジニトロフ
ェノール）、４，４’−ブタンジイルビス（２−メチル
フェノール）、４，４’−ブチリデンビスフェノール、
２，２’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−メチルフェノール）、

【００９２】４，４’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ
−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−ｓｅｃ
−ブチリデンビスフェノール、４，４’−ｓｅｃ−ブチ
リデンビス（３−メチルフェノール）、２，２’−ｓｅ
ｃ−ブチリデンビス（３−メチル−６−イソプロピルフ
ェノール）、２，２’−ｓｅｃ−ブチリデンビス（６−
ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，４’
−イソブチリデンビスフェノール、４，４’−イソブチ
リデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノ
ール）、４，４’−（１，３−シクロヘキサンジイル）
ビスフェノール、

【００９３】４，４’−シクロヘキシリデンビスフェノ
ール、４，４’−シクロヘキシリデンビス（２−クロロ
フェノール）、４，４’−シクロヘキシリデンビス
（２，６−ジクロロフェノール）、２，２’−チオビス
フェノール、４，４’−チオビスフェノール、４，４’
−チオビス（２−メチルフェノール）、２，２’−チオ
ビス（４，５−ジメチルフェノール）、２，２’−チオ
ビス（４，６−ジメチルフェノール）、４，４’−チオ
ビス（２，６−ジメチルフェノール）、２，２’−チオ
ビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノー
ル）、

【００９４】４，４’−チオビス（２−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−５−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４
−フルオロフェノール）、２，２’−チオビス（４−ク
ロロフェノール）、４，４’−チオビス（３−クロロフ
ェノール）、２，２’−チオビス（４−クロロ−５−メ
チルフェノール）、２，２’−チオビス（４，６−ジク
ロロフェノール）、４，４’−チオビス（２−ブロモフ
ェノール）、２，２’−チオビス（５−ニトロフェノー
ル）、４，４’−スルフィニルビスフェノール、４，
４’−スルフィニルビス（２−メチルフェノール）、
４，４’−スルフィニルビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−
５−メチルフェノール）、

【００９５】４，４’−スルフィニルビス（２−クロロ
フェノール）、４，４’−スルフィニルビス（４−クロ
ロフェノール）、２，２’−スルフィニルビス（４，６
−ジクロロフェノール）、４，４’−スルフィニルビス
（２−ブロモフェノール）、２，２’−スルホニルビス
フェノール、４，４’−スルホニルビスフェノール、
４，４’−スルホニルビス（２−メチルフェノール）、
４，４’−スルホニルビス（２，５−ジメチルフェノー
ル）、４，４’−スルホニルビス（２−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−５−メチルフェノール）、４，４’−スルホニルビ
ス（２−クロロフェノール）、４，４’−スルホニルビ
ス（３−クロロフェノール）、

【００９６】４，４’−スルホニルビス（２−ブロモフ
ェノール）、４，４’−スルホニルビス（２−ニトロフ
ェノール）、２，３’−オキシビスフェノール、２，
２’−エタンジイルジメルカプトビスフェノール、４，
４’−メチリデンビスカテコール、４，４’−メチリデ
ンビスレゾルシン、４，４’−エチリデンビスレゾルシ
ン、２，２’−プロパンジイルビスレゾルシン、２，
２’−ブタンジイルビスレゾルシン、２，２’−ペンタ
ンジイルビスレゾルシン、−メチリデンビス（６−クロ
ロレゾルシン）、２，２’−メチリデンビス（４−クロ
ロ−６−ニトロレゾルシン）、４，４’−スルフィンビ
スレゾルシン、２，２’−エタンジイルビスヒドロキノ
ン、４，４’−スルホニルビスヒドロキノンなどが挙げ
られる。

【００９７】この内、主鎖中にアルキレン鎖を含まない
剛直な分子構造がより好ましく、ビフェノール類、ビナ
フタレンジオール類、ジヒドロキシナフタレン類、ジヒ
ドロキシフルオレン類、ジヒドロキシオキソフルオレン
類、カテコール類、レゾルシノール類、ヒドロキノン類
が好ましく用いられる。更に好ましくは、３，３’，
５，５’−テトラアルキル−４，４’−ビフェノール
(アルキル鎖は炭素原子数１〜８)、最も好ましくは３，
３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ビフェノー
ルが挙げられる。

【００９８】光学材料、特にディスプレー用フィルム基
板を製造する場合、導電膜の形成及び光学デバイスの封
止などの製造工程において耐熱性が要求される。従っ
て、本発明におけるポリアリレートは上述した芳香族二
塩基酸及び芳香族ジオールとからなる全芳香族ポリエス
テルのうち、２００℃以上のガラス転移温度を有するこ
とが好ましく、より好ましくは２３０℃以上のガラス転
移温度を有するものである。要求特性からは特に上限値
を設ける必要はなく、有機化合物である以上、自ずから
上限はあるものの、可能であれば、５００℃である。

【００９９】特に、一般式（１）の構造を有するポリア
リレートが耐熱性、透明性、機械的強度などの観点、及
びフィルムなどへの成型加工のし易さに関係する溶媒溶
解性の各観点から好ましい。その重量平均分子量は１×
１０⁴以上、好ましくは２×１０⁴〜１×１０⁶程度であ
る。尚、一般式(１)のポリアリレートは、他のポリアリ
レート成分である芳香族二塩基酸及び芳香族ジオールと
の共重合体も好適に用いられる。

【０１００】

【化５】

【０１０１】（式中、Ｒは水素原子、又は炭素数１〜８
のアルキル基を表す）一般式（１）の構造を有するポリ
アリレートの内、特に好ましいものは、イソフタル酸単
位とテレフタル酸単位から成る芳香族ジカルボン酸
（Ｄ）と、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，
４’−ビフェノール単位（Ｅ）とからなる全芳香族ポリ
エステルである。この場合、芳香族ジカルボン酸（Ｄ）
を構成するイソフタル酸とテレフタル酸の割合はイソフ
タル酸４０〜１００モル％、好ましくは５０〜１００モ
ル％、更に好ましくは６０〜１００モル％、テレフタル
酸単位０〜６０モル％、好ましくは０〜５０モル％、更
に好ましくは０〜４０モル％である。イソフタル酸単位
の割合が４０モル％未満の場合にはポリマーの溶媒溶解
性が低下する。

【０１０２】一方、芳香族ジカルボン酸（Ｄ）と構造単
位（Ｅ）との構成単位の割合は５０モル％ずつである。
３，３’，５，５’−テロラメチル−４，４’−ビフェ
ノール単位（Ｅ）５０モル％に対し芳香族ジカルボン酸
単位（Ｄ）が５０モル％を超えると重合度の高いポリマ
ーが得られないため好ましくない。

【０１０３】該ポリエステルは、構成単位がイソフタル
酸単位（Ｄ）と、３，３’，５，５’−テトラメチル−
４，４’−ビフェノール単位（Ｅ）のみである場合に
は、（Ｄ）と（Ｅ）との構成単位の割合は５０モル％ず
つである。該割合の場合、重合時に重合度の高いポリマ
ーが得られ、力学強度が高く、製膜性に優れたフィルム
となり好ましい。

【０１０４】透明性を損なわない範囲で、また必要な耐
熱性を実現できる範囲で、耐候性、耐酸化劣化性、帯電
防止性を改善するため、各種紫外線吸収剤、酸化防止剤
及び帯電防止剤を、透明性と耐熱性を損なわない範囲で
本発明におけるポリアリレートに添加することができ
る。

【０１０５】本発明で得られるポリアリレートと金属酸
化物との複合体は、透明性に優れたものが得られ、ＪＩ
Ｓ Ｋ７１０５に準拠し、光源としてハロゲンランプを
用いた平行光線透過率が５０％以上である透明性を有す
ることが好ましく、より好ましくは平行光線透過率７０
％以上、更に好ましくは８０％以上、最も好ましくは９
０％以上である。またヘイズ値では５％以下、好ましく
は３〜０．０１％である。

【０１０６】また、本発明で得られるポリアリレートと
金属酸化物との複合体の線熱膨張係数は複合前のポリア
リレートより小さいものが得られる。配合した金属酸化
物の量にもよるが、複合体の線熱膨張係数を複合前のポ
リアリレートの値で割った値が０．９以下であることが
好ましく、より好ましくは０．７以下、更に好ましくは
０．６以下である。

【０１０７】本発明で得られるポリアリレートと金属酸
化物との複合体は、酸化物と複合化することにより硬度
が上昇する。ＪＩＳのＫ−５４００に準拠した鉛筆硬度
で評価して、複合化前のポリアリレートの値より硬度が
増加したものが好ましく、鉛筆硬度Ｈ以上であるもの、
更に好ましくは２Ｈ以上である。

【０１０８】本発明は、ポリアリレート中に溶解もしく
は予め分子オーダーで分散させた金属酸化物前駆体を、
該ポリアリレート中（ｉｎ ｓｉｔｕ）で加水分解、重
縮合させる、０．１μｍ以下の微細に分散した金属酸化
物をポリアリレート中に含む、ポリアリレートと金属酸
化物との複合体の製造方法である。

【０１０９】更に詳しくは、本発明のポリアリレートと
金属酸化物との複合体は、 （Ａ） ポリアリレートの溶液と、 （Ｂ） Ｓｉ（ＯＲ）₄ （式中、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、又はフェニ
ル基もしくはベンジル基などの芳香族基で置換されてい
るアルキル基を表す）と （Ｃ） ＳｉＲ’_4-a（ＯＲ）_a （式中、Ｒ’は炭素数１〜１０のアルキル基、又はフェ
ニル基もしくはベンジル基などの芳香族基で置換されて
いるアルキル基、又はアミノ基、ピリジル基、イミダゾ
リル基、グリシジル基、水酸基、ビニル基、メルカプト
基で置換されていても良い、炭素数１〜１０のアルキル
基、ａは１〜３の整数、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル
基、又はフェニル基もしくはベンジル基などの芳香族基
で置換されているアルキル基を表す）とからなる溶液と
を混合し、ｉｎ ｓｉｔｕで加水分解、重縮合させるこ
とによって作られる。

【０１１０】（Ａ）ポリアリレートを溶媒に溶解し、次
いでシリカの前駆体であるＳｉ（ＯＲ）₄とＳｉＲ’_4-a
（ＯＲ）_aとを他の溶媒に溶解し、最終的に（Ａ）が溶
解した溶液と、（Ｂ）と（Ｃ）が溶解した溶液とを混合
し必要に応じてこれに微量の水と触媒を添加する。この
ように未反応状態の金属酸化物前駆体（Ｂ）と（Ｃ）と
を（Ａ）ポリアリレート中で加水分解、重縮合させるこ
とでポリアリレートと金属酸化物との間の親和性の増し
た混合状態を実現することができ、また生成した金属酸
化物の大きさを、条件にもよるが０．１μｍ以下にする
ことができる。

【０１１１】混合後、反応を促進するため必要に応じて
溶液を加温しても良い。これは反応時間との兼ね合いで
決められる。温度としては１０℃〜２００℃、反応時間
としては１０分から１日である。尚、溶解方法としては
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を同時に溶媒中で混合してもよ
い。

【０１１２】得られる複合体の特性が失われない範囲で
（Ｂ）、（Ｃ）は部分加水分解したものや、部分的に縮
合したものでもよく、（Ｂ）と（Ｃ）のＲ及びＲ’は各
々独立に選ぶことができ、複数結合している場合には互
いに異なる分子構造であってもよい。また（Ｂ）及び
（Ｃ）は２種以上を併用してもよい。

【０１１３】最も好適に用いられる金属酸化物として、
金属がシリコンである場合について、シリカの前駆体で
ある（Ｂ）及び（Ｃ）の具体例を例示すが、これらは金
属名をチタンもしくはジルコニウムにして同様な金属酸
化物前駆体を例示しうる。またホウ素、マグネシウム、
カルシウム、アルミニウム、ガリウム、ゲルマニウム、
インジウム、錫、及び遷移元素であるバナジウム、クロ
ム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛など
についても同様な金属酸化物前駆体を例示しうる。

【０１１４】即ち、（Ｂ）Ｓｉ（ＯＲ）₄ （式中、Ｒ
は炭素数１〜１０のアルキル基、又はフェニル基もしく
はベンジル基などの芳香族基で置換されているアルキル
基を表す）としては、テトラメトキシシラン、テトラエ
トキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブ
トキシシラン、テトラフェノキシシラン等のテトラアル
コキシシラン類、これらの部分加水分解及び部分縮合
物、及び水ガラスが挙げられる。

【０１１５】また（Ｃ） ＳｉＲ’_4-a（ＯＲ）_a （式
中、Ｒ’は炭素数１〜１０のアルキル基、又はフェニル
基もしくはベンジル基などの芳香族基で置換されている
アルキル基、又はアミノ基、ピリジル基、イミダゾリル
基、グリシジル基、水酸基、ビニル基、メルカプト基で
置換されていても良い、炭素数１〜１０のアルキル基、
ａは１〜３の整数、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、
又はフェニル基もしくはベンジル基などの芳香族基で置
換されているアルキル基を表す）を具体的に例示する
と、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、メチルトリｎ−プロポキシシラン、ジメチルジメ
トキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ
イソプロポキシシラン、トリメチルメトキシシラン、ト
リメチルエトキシシラン、トリメチルブトキシシラン、
エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラ
ン、

【０１１６】エチルトリｎ−プロポキシシラン、ジエチ
ルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエ
チルジイソプロポキシシラン、トリエチルメトキシシラ
ン、トリエチルエトキシシラン、トリエチルブトキシシ
ラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピル
トリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、
イソブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキ
シシラン、イソブチルメチルジメトキシシラン、フェニ
ルトリメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、
トリフェニルメトキシシラン、１，３−ジ−ｎ−オクチ
ルテトラエトキシジシロキサン、１，３−ジメチルテト
ラメトキシジシロキサン、

【０１１７】ジシクロペンチルジメトキシシラン、１，
１−ジエトキシ−１−シラシクロペンタ−３−エン、シ
クロペンチルトリメトキシシラン、（３−シクロペンタ
ジエニルプロピル）トリエトキシシラン、シクロヘキシ
ルトリメトキシシラン、シクロヘキシルエチルジメトキ
シシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、
[２−（３−シクロヘキセニル）エチル]トリエトキシシ
ラン、[２−（３−シクロヘキセニル）エチル]トリメト
キシシラン、ｔ−ブチルジフェニルメトキシシランなど
のＲ及びＲ’が炭素数１〜１０のアルキル基、又はフェ
ニル基もしくはベンジル基などの芳香族基で置換されて
いるアルキル基であるアルコキシシラン、

【０１１８】Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（６−アミノヘキシ
ル）アミノプロピルトリメトキシシラン、４−アミノブ
チルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−
３−アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、２−ア
ミノエチルアミノメチルベンジロキシジメチルシラン、
（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシ
シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、２−（ｍ−アミノフェノキ
シ）プロピルトリメトキシシラン、ｍ−アミノフェニル
トリメトキシシラン、３−（３−アミノプロポキシ）−
３，３−ジメチル−１−プロペニルトリメトキシシラ
ン、

【０１１９】アミノフェニルトリメトキシシラン、３−
アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラン、３−ア
ミノプロピルメチルビス（トリメチルシロキシ）シラ
ン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、３−
アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、３−アミノプロピルトリス（メトキシエ
トキシエトキシ）シラン、３−アミノプロピルトリス
（トリメチルシロキシ）シラン、（３−トリメトキシシ
リルプロピル）ジエチレントリアミン、トリフェニルア
ミノシラン、Ｎ−（トリメトキシシリルプロピル）イソ
チオウロニウムクロライド、Ｎ−フェニルアミノプロピ
ルトリメトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルトリ
メトキシシラン、

【０１２０】Ｎ−メチルアミノプロピルメチルジメトキ
シシラン、３−（２，４−ジニロトフェニルアミノ）プ
ロピルトリエトキシシラン、ジメチルアミノメチルエト
キシシラン、（Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−アミノプロピ
ル）トリメトキシシラン、ビス[３−（トリメトキシシ
リル）プロピル]エチレンジアミン、ビス（トリメトキ
シシリルプロピル）アミンなどのアミノ基を有するアル
コキシシラン、２−(トリメトキシシリルエチル)ピリジ
ンなどのピリジル基を有するアルコキシシラン、

【０１２１】Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）
−４，５−ジヒドロイミダゾールなどのイミダゾリル基
を有するアルコキシシラン、（３−グリシドキシプロピ
ル）ビス（トリメチルシロキシ）メチルシラン、（３−
グリシドキシプロピル）ジメチルエトキシシラン、（３
−グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシラン、
（３−グリシドキシプロピル）メチルジメトキシシラ
ン、（３−グリシドキシプロピル）トリメトキシシラ
ン、２−(３，４−エポキシシクロヘキシル)エチルトリ
エトキシシラン、２−(３，４−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン、５，６−エポキシヘキ
シルトリエトキシシラン、１，３−ジビニルテトラエト
キシジシロキサンなどのグリシジル基を有するアルコキ
シシラン、

【０１２２】ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメ
チルジメトキシシラン、Ｏ−（ビニロキシエチル）−Ｎ
−（トリエトキシシリルプロピル）ウレタン、ビニロキ
シトリメチルシラン、ビニルフェニルジエトキシシラ
ン、ビニルトリ−ｔ−ブトキシシラン、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリフ
ェノキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキ
シ）シラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、スチリ
ルエチルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−スチリルメチ
ル−２−アミノエチルアミノ）―プロピルトリメトキシ
シラン塩酸塩、（３−アクリロキシプロピル）ジメチル
メトキシシラン、２−(アクリロキシエトキシ)トリメチ
ルシラン、Ｎ−３−（アクリロキシ−２−ヒドロキシプ
ロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、ブ
テニルトリエトキシシランなどのビニル基を有するアル
コキシシラン及びアセトキシシラン、

【０１２３】トリフェニルシラノール、Ｎ−（３−トリ
エトキシシリルプロピル）グルコンアミド、Ｎ−（３−
トリエトキシシリルプロピル）−４−ヒドロキシブチル
アミド、ナトリウムメチルシリコネート、Ｎ−（ヒドロ
キシエチル）−Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシ
シランなどの水酸機を有するアルコキシシラン、

【０１２４】３−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、２−メルカプトエチルトリエトキシシラン、３−メ
ルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカ
プトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロ
ピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチ
ルジメトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシ
ラン、メルカプトメチルメチルジエトキシシランなどの
メルカプト基を有するアルコキシシランが挙げられ、こ
のうち特にアミノ基を有するアルコキシシランがそれ自
身で触媒作用を有すること、及び該ポリアリレートとの
親和性が高いことから好ましい。

【０１２５】金属酸化物の金属がシリコンである場合を
除くと、一般に金属酸化物前駆体の加水分解と重縮合の
速度は極めて速く、ｉｎ ｓｉｔｕ反応を行っても、ポ
リアリレートとの相互作用によって金属酸化物の大きさ
の制御が図れない場合がある。その場合には金属酸化物
前駆体としてジケトネートを有する反応速度の遅い前駆
体を用いることが好ましい。

【０１２６】以下、金属がチタンの場合について金属酸
化物の前駆体としてのジケトネート類を例示するが、他
の金属でも同様である。即ち、チタンアリルアセトアセ
テートトリイソプロポキサイド、チタンジ−ｎ−ブトキ
サイド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）、チタン
ジイソプロポキサイド（ビス−２，４−ペンタンジオネ
ート）、チタンジイソプロポキサイドビス（テトラメチ
ルヘプタンジオネート）、チタンジイソプロポキサイド
ビス（エチルアセトアセテート）、チタンメタクリルオ
キシエチルアセトアセテートトリイソプロポキサイド、
チタンオキシドビス（ペンタンジオネート）、チタンオ
キシドビス（テトラメチルヘプタンジオネート）などが
挙げられる。

【０１２７】（Ａ）に対する（Ｂ）と（Ｃ）の添加量
は、最終的に得られた複合体中の金属酸化物の含有量か
ら決められる。即ち、得られた複合体から溶媒を除去し
た後の金属酸化物の含有量は、好ましくは０．１〜５０
重量％、より好ましくは０．１〜３５重量％、最も好ま
しくは０．５〜３０重量％である。

【０１２８】（Ｂ）と（Ｃ）との添加量比は得られる金
属酸化物の量と、金属酸化物とポリアリレートとの相互
作用を勘案して決められる。即ち、（Ｂ）と（Ｃ）との
重量比は５０／５０〜９９/1が好ましく、更に好ましく
は６０／４０〜９９/1、最も好ましくは６０／４０〜９
５/５である。

【０１２９】溶媒としては（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び
必要によって添加する水及び触媒を溶解するもの及び成
膜の容易なものなら特に制限はないが、ＴＨＦ、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、メチルエチルケトン、アルコール類などの極
性溶媒及びプロトン性溶媒、更にこれらの混合物が好適
に用いられる。必要に応じて添加される水の量は、上記
の溶媒中に水分が全く含まれないとして、金属酸化物の
前駆体に対してモル比で０．１〜１２.０倍量である。

【０１３０】また必要に応じて添加される触媒としては
各種公知の化合物が用いられるが、例えば塩酸、硫酸な
どの無機酸、蟻酸、酢酸などの有機酸、アンモニア水、
水酸化ナトリウムなどの無機塩基、トリエチルアミン、
ベンジルアミンなどの塩基性を有する有機化合物、及び
チタンエトキサイドなどの反応速度の速い金属酸化物前
駆体などが挙げられる。これらは金属酸化物の前駆体に
対して０．０１〜１.０モル比使用されるが、（Ｃ）と
してアミノ基を有する化合物を用いる場合など、（Ｃ）
自体が触媒になりえる場合には添加する必要はない。

【０１３１】反応後、複合体を含む溶液はコーティング
もしくはキャストによりフィルム状に成形される。その
際、溶液中の（Ａ）ポリアリレートの濃度(溶液濃度)は
０．１〜２５重量％が好ましく、より好ましくは０．５
〜２０重量％である。溶液濃度０．１％未満では溶媒を
大量に使用しなければならないため製造コストの上で好
ましくない。また、溶液濃度が２５重量％を超える場合
には溶液の粘度が高すぎ、該複合体溶液が不均質になり
易い。

【０１３２】フィルムへの成形はポリアリレートと金属
酸化物との複合体からなる溶液を、ポリエステルフィル
ム、ガラス板、テフロン（登録商標）板及びこれらの材
質からなる容器などにコーティングもしくはキャスト
し、使用溶媒の蒸発速度を考慮して、キャスト液中に激
しい熱対流を起こさないように、また溶媒蒸発に伴うキ
ャスト膜の温度低下による水の凝結を防ぐように、ある
いは膜中に空隙の生じないように温度と風量を設定し、
溶媒を蒸発させる。尚、またフィルムの平坦性を増すた
め、界面活性剤などからなる適当なレベリング剤を使用
することも可能である。

【０１３３】更に乾燥した膜は、使用した溶媒の沸点近
傍から、膜を構成するポリアリレートと金属酸化物との
複合体のガラス転移温度までの温度、好ましくは１８０
℃以上から該ガラス転移温度以下、より好ましくは２１
０℃以上から該ガラス転移温度以下までの温度範囲で熱
処理し、溶媒を完全に除去すると共にフィルム内の残留
応力を除去し、フィルムの平坦性を向上させ、金属酸化
物前駆体の加水分解、重縮合を促進させる。熱処理温度
の上限は実質的に５００℃程度である。熱処理時間は熱
処理工程中で最も高い温度の過程を１分〜５時間行うこ
とが好ましく、より好ましくは５分〜３時間、更に好ま
しくは５分〜１時間である。

【０１３４】この熱処理ではフィルムを枠に固定して行
うことで、フィルムの高温での形状安定性を更に増すこ
とができる。またこの熱処理を、膜を構成するポリアリ
レートと金属酸化物との複合体のガラス転移温度までの
温度、好ましくは１８０℃以上から該ガラス転移温度以
下、より好ましくは２１０℃以上から該ガラス転移温度
以下、更に好ましくは２３０℃以上から該ガラス転移温
度以下、最も好ましくは２５０℃以上から該ガラス転移
温度以下までの温度範囲において、減圧条件下で行うこ
とにより、着色の少ない透明なフィルムを得ることがで
きる。

【０１３５】これは熱処理により、酸化されやすい未反
応原料や酸化された未反応原料を除去することができる
ためと考えられ、この真空加熱処理はポリアリレート重
合後に行っても良い。減圧条件としては、１×１０
³（Ｐａ）以下、好ましくは１×１０¹〜１×１０³（Ｐ
ａ）下、更に好ましくは１×１０¹〜６．５×１０²（Ｐ
ａ）の真空度で熱処理することが望ましい。

【０１３６】このようにして得られたポリアリレートと
金属酸化物との複合材料は、光学材料特にディスプレー
用フィルム基板として、とりわけ液晶ディスプレー用フ
ィルム基板として好ましく用いられる。ここで、ディス
プレー用フィルム基板とは、液晶ディスプレー、又は有
機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレーの電
極付きフィルム基板を意味する。

【０１３７】例えば、液晶ディスプレーに、この複合体
フィルムを用いた場合は、ディスプレーの標準的工程と
して、導電膜の形成、配向膜の形成、基板貼り合わせ、
液晶注入、封止などを経るが、十分な液晶ディスプレー
の性能を引き出す為に組立て工程において、使用する光
学材料は１８０℃から２００℃を超える耐熱性が要求さ
れる。

【０１３８】即ち、ディスプレー組立工程における電極
膜の形成工程、配向膜の塗工工程に引き続く熱処理工
程、封止剤の熱硬化工程などに十分耐え、良好な液晶表
示パネルを得るためには、１８０℃以上、好ましくは２
１０℃、更に好ましくは２３０℃、特に好ましくは２５
０℃以上を超える耐熱温度を有するフィルム基板である
ことが望まれる。この際、耐熱温度の上限は、上述の組
立てプロセス等の都合上自ずと限界はあろうが、高温で
あるほど好ましい。

【０１３９】液晶ディスプレー製造の各工程は一般的に
次のように処理される。始めに、該フィルム基板上に、
導電膜を形成する。導電膜は透明性と導電性が要求され
るため、インジウム−スズ酸化物が好適に使用される
が、アルミニウム−亜鉛酸化物系材料も使用することが
できる。導電膜のフィルム上への形成はスパッタリン
グ、真空蒸着、イオンプレーティング等の公知の方法で
達成することができ、これにより目的とする光透過率と
導電性を有する薄膜として製膜できる。

【０１４０】導電膜の物性を満足のいくものとするため
には、製膜時の雰囲気に含まれる酸素量と被着基板の温
度が重要であり、酸素が多いほど透明性が増し、基板温
度が高いほど導電性を上げ、表面抵抗を下げることがで
きる。本発明の複合体を用いたデスプレー用フィルム基
板は、高い耐熱性を有するため、基板温度を１８０℃以
上に上げて導電膜を形成させることができる。

【０１４１】そのため、得られた導電膜は膜厚６０ｎｍ
において１〜１００Ω、好ましくは１〜３０Ωという極
めて低い表面抵抗率（ＪＩＳ Ｋ ６９１１準拠）を示
す。複合体フィルムへの導電膜形成は、必要に応じてフ
ィルムを固定した状態で行うことができる。固定により
導電膜の形成が全体的に平均化し、安定した状態の精密
な電極パターンを有する導電膜とすることができる。

【０１４２】配向膜としては通常の液晶セルと同様、ポ
リイミド系高分子薄膜を用いることができ、これを上述
の導電膜上に形成した後、ラビング処理することで目的
の配向膜が得られる。用いるポリイミドが可溶性ポリイ
ミドの場合には、使用している溶媒が低沸点化合物であ
れば低温度で乾燥可能であるが、溶媒によっては１８０
℃以上の高温での乾燥条件が、生産効率を上げるために
必要な場合もある。

【０１４３】またポリイミドの前駆体であるポリアミッ
ク酸の閉環反応を加熱処理により進行させてイミド化す
る場合には、その温度は一般に１８０℃を越えるものが
多く、本発明における複合体フィルムのようにガラス転
移点が２００℃を超え、金属酸化物により更に耐熱性を
向上させた基板は高温での加熱処理に耐え、変形するこ
とがないため好ましい。

【０１４４】この様に本発明のフィルム基板に導電膜層
と配向膜層を積層して形成した基板を用いて液晶ディス
プレーを製造することができるが、更に液晶ディスプレ
ーの長期安定性の観点から、該基板に適宜、ガスバリア
ー層、ハードコート層、導電膜層等及び各層間との密着
性を増すため接着層等を積層し形成せしめ、この様な基
板を用いて液晶ディスプレーを製造しても良い。

【０１４５】ガスバリアー層とは主に空気中の水分、酸
素などが液晶層中に進入するのを防ぐ目的のもので、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルアルコール−エチレン
共重合体等のポリビニルアルコール系共重合体、ポリア
クリロニトリル、ポリアクリロニトリル−スチレン共重
合体のポリアクリロニトリル系共重合体、ポリビニリデ
ンクロライド等の公知のガスバリアー材料等を用いるこ
とができる。

【０１４６】ハードコート層とは、本発明における液晶
ディスプレー用フィルム基板材料の表面硬度を増すた
め、及びフォトレジスト現像工程での耐性付与のために
必要に応じて積層するもので、公知の架橋性高分子材
料、例えばシリコン系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ
系樹脂、ポリウレタン系樹脂、メラミン系樹脂など、も
しくはＳｉ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｍｇ，Ｚｒなどから選ばれた
少なくとも１種の金属、あるいは２種以上の金属混合物
の酸化物、窒化物、酸窒化物の薄膜を公知の方法で形成
することができる。しかしながら、本発明の複合体フィ
ルムにおいては、金属酸化物の添加効果により硬度が増
しているため、ハードコート層は必ずしも必要ではな
い。

【０１４７】接着層は該ポリエステルフィルムと導電膜
との接着性を向上させる為に用いるが、該複合体フィル
ムの場合は金属酸化物の添加効果により接着性が良好で
あるため必ずしも必要ではなく、接着層無しでも導電膜
との接着性は良好である。もちろん、必要に応じ、更に
大きな密着性が望ましい場合にはシリコン系材料、アク
リル系材料、アクリル−ウレタン系材料及びこれらにシ
ランカップリング剤、もしくはアルコキシチタンなどを
含有させた公知の材料を用いることができる。

【０１４８】接着層は、この他、液晶セルに用いるため
多層化した基板の各層間の接着性を向上させる目的もあ
り、その場合にはそれぞれ最適な材料を上記の材料から
適宜選択できる。本発明の複合体フィルムの場合は上記
と同様な理由で必ずしも必要ない。特にガスバリアー膜
中に金属酸化物を含有せしめた場合には、本発明の複合
体フィルム基板とガスバリアー膜との密着性は更に高く
なる。

【０１４９】このようにして得られた液晶ディスプレー
用フィルム基板は、スペーサーを挟んで２枚が接着さ
れ、液晶を注入する容器として組み立てられる。接着に
用いる熱硬化性、又はエネルギー線硬化樹脂としてはエ
ポキシ系樹脂などが用いられるが、その硬化温度は１０
０〜２００℃であるので、この工程においても液晶ディ
スプレー用フィルム基板にソリなどの変形を生じる可能
性がある。

【０１５０】尚、エネルギー線硬化樹脂であっても、エ
ネルギー線だけによる処理では内部の硬化が十分進まな
いため、最終的に加熱して硬化を進めることが多い。従
って、このような基板貼り合わせ及び封止を行う工程に
おいても、耐熱性の高い本発明の複合体フィルムを液晶
ディスプレー用フィルム基板として用いることにより、
変形や着色のない表示品位に優れた液晶ディスプレー用
フィルムを得ることができる。

【０１５１】本発明で使用されるディスプレー用フィル
ム基板の厚さは使用目的により適宜、選択され、特に制
限されないが、表示品位とその製造工程におけるハンド
リングのしやすさから、５μｍ〜１．５ｍｍ、更に好ま
しくは１０〜３００μｍの厚さのフィルムが好ましく用
いられる。厚みムラはディスプレーの表示品位に影響す
るため好ましくはは±１μｍ、より好ましくは０．１μ
ｍ以下であることが望ましい。

【０１５２】液晶ディスプレーの場合、基板による光学
的異方性(レタデーション)は２０ｎｍ以下であることが
望まれており、本発明の複合体フィルム基板は，Ｈｅ−
Ｎｅレーザを光源とし、偏光変調素子を用いた透過型の
エリプソメータにより測定した、膜厚１００ｎｍにおけ
るレタデーション（測定波長６３２．８ｎｍ）を２０ｎ
ｍ以下に抑えることができるため、色相ムラを抑えるこ
とができる。

【０１５３】また本発明の複合体を用いたフィルムの高
い機械強度と寸法安定性は、液晶パネルの製造工程にお
ける歩留まりを向上させ、また高弾性率(高剛性)である
ことは液晶ディスプレーのセルギャップの均一性を高
め、ディスプレーの高品位を保証する。本発明の複合体
フィルムは、力学強度として、引張強度が１５０ＭＰａ
以上であり、好ましくは、１５０ＭＰａ〜８００ＭＰａ
である。また引張弾性率は２．４ＧＰａ以上であり、好
ましくは２．４ＧＰａ〜５．０ＧＰａである。更に、１
８０℃を超える温度で基板の平面性が損なわれない寸法
安定性を有する。

【０１５４】本発明によるポリアリレートと金属酸化物
との複合体を用いたフィルム、又はシートは透明性、機
械強度、耐擦傷性、耐熱性に優れ、低い熱膨張係数と、
他の素材との接着性を有し、光学材料、特に表示品位に
優れたディスプレー用フィルム基板、即ち、導電膜とフ
ィルム基板との間の熱膨張係数の差に基づく画面精度低
下、及び従来の低剛性のプラスチックフィルムでは劣る
セルギャップの均一性に優れたディスプレー用フィルム
基板、及び該基板を用いたディスプレーに好適に応用す
ることができる。

【０１５５】

【実施例】以下に、実施例により本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれらの実施例の範囲に限定される
ものではない。なお、特に断りがない限り「部」又は
「％」は「重量部」又は「重量％」を表す。

【０１５６】（実施例１）撹拌翼、窒素導入口を備えた
重合装置に３，３’，５，５’−テトラメチル−４，
４’−ビフェノール２.４１Ｋｇ（９.８モル）を、水酸
化ナトリウム１.０Ｋｇを含む３０ｌの脱酸素水に溶解
し水溶液を得た。別に、７８ｇのメチルトリオクチルア
ンモニウムクロライド、イソフタル酸クロリド１.５８
Ｋｇ（７.８モル）、テレフタル酸クロリド４０６ｇ
（２.０モル）を５ｌの脱酸素したトルエンに溶解させ
有機溶液を得た。

【０１５７】水溶液を窒素気流下で撹拌しながら、有機
溶液を加え、２５℃で３０分間撹拌を続けた。次いで、
水溶液相を傾斜法にて取り除いた。生成物を含む有機溶
液相を蒸留水で繰り返し洗浄した後に、アセトン浴に注
ぎ沈殿を得た。得られた沈殿を繰り返しアセトンで洗浄
してポリアリレートを得た。その後、真空乾燥機にて、
室温から徐々に加温し最終的に２４０℃で１５分、約２
００Ｐａで真空乾燥して粉体のポリエステル樹脂３.５
Ｋｇを得た。このポリエステル樹脂を３０℃のクロロホ
ルム中にて固有粘度を測定したところ０．９７ｄｌ／ｇ
であリ、重量平均分子量は７×１０⁴であった。

【０１５８】得られたポリアリレートをキャストフィル
ムとして、ガラス転移温度をセイコー電子製の動的粘弾
性測定装置を用いて、サンプル幅５ｍｍ、昇温速度１℃
／分、周波数１Ｈｚの条件で測定したところ，ｔａｎδ
ピーク温度から見たガラス転移温度は２６７℃であっ
た。

【０１５９】このポリアリレート（１ｇ）をＴＨＦ（５
７ｇ）とアニソール（９ｇ）とからなる混合溶媒に溶解
して１．５％溶液とし、次いで、これに、Ｎ−（２−ア
ミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン
（０．２５ｇ）とテトラメトキシシラン（０．７７ｇ）
を添加し、最後に、これを攪拌しながら水を０．４３ｇ
滴下し均質溶液とした。５時間後これをガラス製バット
にキャストし、窒素気流中で室温から徐々に昇温して、
８０℃で１時間乾燥した。乾燥した膜を剥がして固定枠
に止め、真空下（２００Ｐａ）、室温から徐々に昇温し
て最終的に２４０℃で１５分間熱処理しフィルム基板を
得た。

【０１６０】フィルム基板の厚さは６０μｍであり、膜
厚ムラは±０．１μｍであった。ＪＩＳ Ｋ７１０５に
準拠し、光源としてハロゲンランプを用いたこのフィル
ム基板の平行光線透過率は９２％であり、ヘイズ値は
０．３％であった（ともに日本電色工業株式会社製ＮＤ
−１００１ＤＰ型により測定した）。Ｈｅ−Ｎｅレーザ
を光源とし、偏光変調素子を用いた透過型のエリプソメ
ータにより測定した、膜厚６０ｎｍにおける複屈折率
（レタデーション、測定波長６３２．８ｎｍ）は１０ｎ
ｍであった。

【０１６１】セイコー電子株式会社製の熱応力歪測定装
置を用いてフィルムの線熱膨張係数を測定すると２８ｐ
ｐｍ／℃であった。複合化前のポリアリレートの線熱膨
張係数は６６ｐｐｍ／℃であったから、複合体の線熱膨
張係数を複合前のポリアリレートの値で割った値は０．
４２となり、膨張係数は低くなって改善された。また複
合化によりフィルム基板の表面硬度は鉛筆硬度３Ｈであ
ったが、これは複合化前のポリアリレートの値Ｈより著
しく向上している。このフィルム基板の複合化後の引張
強度は１７０ＭＰａ、引っ張り弾性率は２．７ＧＰａで
あり、複合化前は引張強度は１２０ＭＰａ、引っ張り弾
性率は２.０ＧＰａであったから、複合化によりフィル
ムの剛性も向上した。

【０１６２】（実施例２）実施例１に記載のフィルム基
板上に導電膜としてインジウム−スズ酸化物薄膜層を常
法に従いフォトマスクとスパッタリングにより形成し
た。スパッタリング条件は次の通りである。インジウム
−スズ酸化物をターゲットとして用い、アルゴンと酸素
の混合気体を、雰囲気圧力が０．２５Ｐａとなるように
流した。ターゲットには２６０Ｖの電圧をかけ、基板を
試料台上に固定し、基板温度を２００℃にして、膜厚が
１００ｎｍになるまでスパッタリング処理を行った。そ
の結果、得られた導電膜の表面抵抗率は２０Ωであっ
た。この工程でのフィルム基板の変形、着色は全く見ら
れなかった。

【０１６３】上記のフィルム基板に配向膜材料をスピン
コートし、８５℃で３０秒予備乾燥した後１８０℃で９
０分間乾燥して硬化させた。その後、ラビング処理を施
したが、この工程においてもフィルム基板の変形、着色
は全く見られなかった。

【０１６４】一方、ポバール樹脂ＣＭ３１８（クラレ株
式会社）３．１ｇを水に溶解した後、この溶液にテトラ
メトキシシランを１．４ｇ、Ｎ−（２−アミノエチル）
−３−アミノプロピルトリメトキシシランを０．０７ｇ
各々混合し、室温で３時間攪拌して加水分解、重縮合反
応を進行させた。この溶液を上記の配向膜まで形成した
基板の導電膜と反対側の基板表面に塗布し、６０℃で１
０分、９０℃で１５分間乾燥して厚さ２０μｍの膜を形
成し、ガスバリアー膜とした。ハードコート層と接着層
は省略することができた。

【０１６５】更に、該基板上に熱硬化性エポキシ系シー
ル材をスクリーン印刷により、所定のパターンで印刷し
た。その後、スペーサーとしてプラスチックビーズを均
一に散布し、２枚の上下基板を合わせて、２００℃、圧
力１ｋｇｆ/ｃｍ²にて１．５時間、ホットプレスを行い
両者を貼り合わせ、液晶セルを作成した。この工程にお
いてもフィルム基板の変形、着色は全く見られなかっ
た。

【０１６６】液晶セルのシール材開口部から液晶材料と
してＤＬＣ−４２１１１（大日本インキ化学工業株式会
社）を液晶注入装置にて注入した。セル内に液晶を充填
した後、ＵＶ硬化型エポキシ樹脂にて開口部を封止し
た。液晶が充填された液晶セルに所定の角度を持った偏
光板を貼り付け、液晶ディスプレーを形成した。

【０１６７】上記方法により得られた液晶ディスプレー
（ＳＴＮ型）はセルギャップが均一であり、導電膜と基
板との熱膨張係数の差が少ないため、色調が均一である
と共に鮮明なドット表示が可能であることを確認した。

【０１６８】（実施例３）撹拌翼、窒素導入口、環流冷
却管を備えた重合装置にイソフタル酸クロリド１０３．
５ｇ（０．５１モル）、テレフタル酸クロリド１０３．
５ｇ（０．５１モル）３，３’，５，５’−テトラメチ
ル−４，４’−ビフェノール１２１．２ｇ（０．５モ
ル）、１，１’―ビナフタレン−２，２’―ジオール１
４３．２ｇ(０．５０モル)、ピリジン３１６．４ｇ、ク
ロロホルム４Ｌを仕込み、２０℃窒素雰囲気下で８時間
攪拌し重合させた。

【０１６９】反応液を３５Ｌのメタノール中にゆっくり
と添加して沈殿させた。得られた沈殿物を濾別し、アセ
トン洗浄、更にメタノール洗浄を行い精製した。得られ
たポリマーを１２０℃、真空下で１２時間乾燥した。ポ
リマーの固有粘度は０．７０ｄＬ／ｇであった。得られ
たポリアリレートをキャストフィルムとして、ガラス転
移温度をセイコー電子製の動的粘弾性測定装置を用い
て、サンプル幅５ｍｍ、昇温速度１℃／分、周波数１Ｈ
ｚの条件で測定したところ、ｔａｎδピーク温度から見
たガラス転移温度は２５５℃であった。

【０１７０】このポリアリレート（１ｇ）をＴＨＦ（６
６ｇ）に溶解して１．５％溶液とし、次いで、これに、
２−(トリメトキシシリルエチル)ピリジン（０．２５
ｇ）とテトラメトキシシラン（０．７７ｇ）を添加し、
最後に、これを攪拌しながら水を０．４３ｇ滴下し均質
溶液とした。５時間後これをガラス製バットにキャスト
し、窒素気流中で室温から徐々に昇温して、８０℃で１
時間乾燥した。乾燥した膜を剥がして固定枠に止め、真
空下（２００Ｐａ）、室温から徐々に昇温して最終的に
２４０℃で１５分間熱処理しフィルム基板を得た。

【０１７１】フィルム基板の厚さは６０μｍであり、膜
厚ムラは±０．２μｍであった。ＪＩＳ Ｋ７１０５に
準拠し、光源としてハロゲンランプを用いたこのフィル
ム基板の平行光線透過率は９０％であり、ヘイズ値は
０．６％であった（ともに日本電色工業株式会社製ＮＤ
−１００１ＤＰ型で測定した）。Ｈｅ−Ｎｅレーザを光
源とし、偏光変調素子を用いた透過型のエリプソメータ
により測定した、膜厚６０ｎｍにおける複屈折率（レタ
デーション、測定波長６３２．８ｎｍ）は１２ｎｍであ
った。

【０１７２】セイコー電子株式会社製の熱応力歪測定装
置を用いてフィルムの線熱膨張係数を測定すると２７ｐ
ｐｍ／℃であった。複合化前のポリアリレートの線熱膨
張係数は６１ｐｐｍ／℃であったから、複合体の線熱膨
張係数を複合前のポリアリレートの値で割った値は０．
４４となり、膨張係数は低くなって改善された。また複
合化によりフィルム基板の表面硬度は鉛筆硬度３Ｈであ
ったが、これは複合化前のポリアリレートの値２Ｈより
向上している。このフィルム基板の複合化後の引張強度
は１６０ＭＰａ、引っ張り弾性率は２．４ＧＰａであ
り、複合化前は引張強度は１００ＭＰａ、引っ張り弾性
率は１．９ＧＰａであったから、複合化によりフィルム
の剛性も向上した。

【０１７３】（実施例４）撹拌翼、窒素導入口を備えた
重合装置内で３，３’，５，５’−テトラメチル−４，
４’−ビフェノール１１７ｇ（０.４９モル）と９，９
−ビス(５−メチル−４−ヒドロキシフェニル)フルオレ
ン１８５ｇ（０.４９モル）、水酸化ナトリウム１００
ｇを３ｌの脱酸素水に溶解し水溶液を得た。別に、７.
８ｇのメチルトリオクチルアンモニウムクロライド、イ
ソフタル酸クロリド１５８ｇ（０．７８モル）、テレフ
タル酸クロリド４０.６ｇ（０．２モル）を０．７ｌの
脱酸素した塩化メチレンに溶解し有機溶液を得た。水溶
液を窒素気流下で撹拌しながら、有機溶液を加え、２５
℃で２時間撹拌を続けた。次いで、水溶液相を傾斜法に
て取り除いた。生成物を含む有機溶液相を蒸留水で繰り
返し洗浄した後に、反応液を３.５Ｌのメタノール中に
ゆっくりと添加して沈殿させた。得られた沈殿物を濾別
し、アセトン洗浄、更にメタノール洗浄を行い精製し
た。得られたポリマーを１２０℃、真空下で１２時間乾
燥した。ポリマーの固有粘度は１．０２ｄＬ／ｇであっ
た。

【０１７４】得られたポリアリレートをキャストフィル
ムとして、ガラス転移温度をセイコー電子製の動的粘弾
性測定装置を用いて、サンプル幅５ｍｍ、昇温速度１℃
／分、周波数１Ｈｚの条件で測定したところ，ｔａｎδ
ピーク温度から見たガラス転移温度は２７２℃であっ
た。

【０１７５】このポリアリレート（１ｇ）をＴＨＦ（６
６ｇ）に溶解して１．５％溶液とし、次いで、これに、
（アミノエチルアミノメチル）フェネチルトリメトキシ
シラン、（０．１９ｇ）とテトラメトキシシラン（０．
７７ｇ）を添加し、最後に、これを攪拌しながら水を
０．４３ｇ滴下し均質溶液とした。５時間後これをガラ
ス製バットにキャストし、窒素気流中で室温から徐々に
昇温して、８０℃で１時間乾燥した。乾燥した膜を剥が
して固定枠に止め、真空下（２００Ｐａ）、室温から徐
々に昇温して最終的に２４０℃で１５分間熱処理し本発
明のフィルム基板を得た。

【０１７６】該フィルム基板の厚さは６０μｍであり、
膜厚ムラは±０．８μｍであった。ＪＩＳ Ｋ７１０５
に準拠し、光源としてハロゲンランプを用いたこのフィ
ルム基板の平行光線透過率は８８％であり、ヘイズ値は
０．８％であった（ともに日本電色工業株式会社製ＮＤ
−１００１ＤＰ型で測定した）。Ｈｅ−Ｎｅレーザを光
源とし、偏光変調素子を用いた透過型のエリプソメータ
により測定した、膜厚６０ｎｍにおける複屈折率（レタ
デーション、測定波長６３２．８ｎｍ）は１１ｎｍであ
った。

【０１７７】セイコー電子製の熱応力歪測定装置を用い
てフィルムの線熱膨張係数を測定すると２６ｐｐｍ／℃
であった。複合化前のポリアリレートの線熱膨張係数は
５９ｐｐｍ／℃であったから、複合体の線熱膨張係数を
複合前のポリアリレートの値で割った値は０．４４とな
り、膨張係数は低くなって改善された。また複合化によ
りフィルム基板の表面硬度は鉛筆硬度３Ｈであったがこ
れは複合化前のポリアリレートの値２Ｈより１段階向上
した。このフィルム基板の複合化後の引張強度は１５０
ＭＰａ、引っ張り弾性率は２．８ＧＰａであり、複合化
前は引張強度は１００ＭＰａ、引っ張り弾性率は２．１
ＧＰａであったから、複合化によりフィルムの剛性が向
上した。

【０１７８】（比較例１）市販のポリアリレートである
Ｕ−１００（ユニチカ株式会社製）をジクロロメタンと
アニソールからなる混合溶媒に溶解して６％溶液とし、
ワーナマチス型のコーターを用いてポリエステルフィル
ム上にキャストした。これをその後、乾燥炉に移し、４
５℃次いで９０℃で乾燥した。更に、得られたフィルム
を円形の枠に固定し１５０℃に保たれた高温槽中で熱固
定した。得られたフィルム基板のガラス転移温度をセイ
コー電子製のＤＳＣ（示差走査型熱量計）で測定したと
ころ，１９３℃であった。

【０１７９】このフィルムについて実施例１と同様な工
程で液晶セルの作成を試みたが、導電膜の形成工程にお
いて、インジウム−スズ酸化物薄膜層をスパッタリング
により形成する際、フィルムの耐熱性の問題から基板温
度を１５０℃までしか上げることができず、得られた導
電膜の表面抵抗率は６０Ωと高い値を示した。次いで、
このフィルムに配向膜材料をスピンコートし、１７０℃
で９０分間加熱したところ、フィルムが反り返り、液晶
ディスプレー用フィルム基板として使用することが不可
能となった。

【０１８０】

【発明の効果】本発明は、優れた透明性、表面硬度、機
械強度、耐熱性、低熱膨張率、及び電極材料などの他の
素材との接着性を有する、ポリアリレートと金属酸化物
との複合体、及びその製造方法、該複合体からなるフィ
ルム又はシート、及びそれを用いた光学材料、特にディ
スプレー用フィルム基板、及び該基板を用いたディスプ
レーを提供することができる。

Claims (23)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリアリレート中に溶解もしくは分子オ
   ーダーで分散させた金属アルコキシドを加水分解、重縮
   合することにより生成した０．１μｍ以下の微細に分散
   した金属酸化物をポリアリレート中に含む、ポリアリレ
   ートと金属酸化物との複合体。
2. 【請求項２】 金属酸化物の金属が、シリカ、チタニ
   ア、ジルコニアからなる群より選択された１つである、
   請求項１又は２に記載のポリアリレートと金属酸化物と
   の複合体。
3. 【請求項３】 ポリアリレートが、主鎖中にアルキレン
   鎖を含まない非晶性全芳香族ポリエステルである、請求
   項１又は２に記載のポリアリレートと金属酸化物との複
   合体。
4. 【請求項４】 ポリアリレートが、２００℃〜５００℃
   のガラス転移温度を有するポリアリレートである、請求
   項１〜３のいずれか１つに記載のポリアリレートと金属
   酸化物との複合体。
5. 【請求項５】 ポリアリレートが、一般式(１)の構造を
   有するポリエステルである、請求項１〜３のいずれか１
   つに記載のポリアリレートと金属酸化物との複合体。 一般式(１) 【化１】 （式中、Ｒは水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を
   表す）
6. 【請求項６】 ハロゲンランプを光源として用いた平行
   光線が５０％以上である透明性を有する請求項１〜６の
   いずれか１つに記載のポリアリレートと金属酸化物との
   複合体。
7. 【請求項７】 複合体の線熱膨張係数が、該複合体を構
   成するポリアリレート単体の線熱膨張係数より小さいこ
   とを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載のポ
   リアリレートと金属酸化物との複合体。
8. 【請求項８】 複合体の表面硬度が、該複合体を構成す
   るポリアリレート単体の表面硬度より大きいことを特徴
   とする請求項１〜６のいずれか１つに記載のポリアリレ
   ートと金属酸化物との複合体。
9. 【請求項９】 ポリアリレート中に溶解もしくは予め分
   子オーダーで分散させた金属酸化物前駆体を、該ポリア
   リレート中で加水分解、重縮合させる、０．１μｍ以下
   の微細に分散した金属酸化物をポリアリレート中に含
   む、ポリアリレートと金属酸化物との複合体の製造方
   法。
10. 【請求項１０】 金属酸化物の金属が、シリカ、チタニ
    ア、ジルコニアからなる群より選択された１つである、
    請求項１０に記載のポリアリレートと金属酸化物との複
    合体の製造方法。
11. 【請求項１１】 （Ａ） ポリアリレートの溶液と、 （Ｂ） Ｓｉ（ＯＲ）₄ （式中、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、又はアルキ
    ル基、又はフェニル基もしくはベンジル基などの芳香族
    基で置換されているアルキル基を表す）と （Ｃ） ＳｉＲ’_4-a（ＯＲ）_a （式中、Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基、又はアルキ
    ル基、又はフェニル基もしくはベンジル基などの芳香族
    基で置換されているアルキル基を表し、Ｒ’は炭素数１
    〜１０のアルキル基、又はアミノ基、ピリジル基、イミ
    ダゾリル基、グリシジル基、水酸基、ビニル基、メルカ
    プト基で置換されていても良い、炭素数１〜１０のアル
    キル基、ａは１〜３の整数、Ｒは炭素数１〜１０のアル
    キル基を表す）とからなる溶液とを混合し、ポリアリレ
    ート中で（ｉｎ ｓｉｔｕで）加水分解、重縮合させ
    る、請求項１１に記載のポリアリレートと金属酸化物と
    の複合体の製造方法。
12. 【請求項１２】 （Ｃ） ＳｉＲ’_4-a（ＯＲ）_aがアミ
    ノ基を有するアルコキシシランである請求項１２に記載
    の複合体の製造方法。
13. 【請求項１３】 ポリアリレートとして、主鎖中にアル
    キレン鎖を含まない非晶性全芳香族ポリエステルを用い
    る、請求項１０〜１３のいずれか１つに記載のポリアリ
    レートと金属酸化物との複合体の製造方法。
14. 【請求項１４】 ポリアリレートとして、２００℃以上
    のガラス転移温度を有するポリアリレートを用いる、請
    求項１０〜１３のいずれか１つに記載のポリアリレート
    と金属酸化物との複合体の製造方法。
15. 【請求項１５】 ポリアリレートとして、一般式(１)の
    構造を有するポリエステルを用いる、請求項１０〜１３
    のいずれか１つに記載のポリアリレートと金属酸化物と
    の複合体の製造方法。 一般式(１) 【化２】 （式中、Ｒは水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を
    表す）
16. 【請求項１６】 得られる複合体の線熱膨張係数が、該
    複合体を構成するポリアリレート単体の線熱膨張係数よ
    り小さいこと、及び／又は、得られる複合体の表面硬度
    が、該複合体を構成するポリアリレート単体の表面硬度
    より大きいことを特徴とする請求項１０〜１６のいずれ
    か１つに記載のポリアリレートと金属酸化物との複合体
    の製造方法。
17. 【請求項１７】 請求項１０〜１６のいずれか１つに記
    載の製造方法で得られた、ポリアリレートと金属酸化物
    との複合体を、１８０℃以上の温度からポリアリレート
    のガラス転移温度までの間の温度で熱処理することを特
    徴とするポリアリレートと金属酸化物との複合体の製造
    方法。
18. 【請求項１８】 請求項１〜９のいずれか１つに記載
    の、ポリアリレートと金属酸化物との複合体からなるフ
    ィルム又はシート。
19. 【請求項１９】 請求項１０〜１６のいずれか１つに記
    載の製造方法により得られる、ポリアリレートと金属酸
    化物との複合体からなるフィルム又はシート。
20. 【請求項２０】 請求項１９又は２０に記載のポリアリ
    レートと金属酸化物との複合体からなるフィルム又はシ
    ートを用いた光学材料。
21. 【請求項２１】 光学材料がディスプレー用フィルム基
    板である、請求項２１に記載のポリアリレートと金属酸
    化物との複合体からなるフィルム又はシートを用いた光
    学材料。
22. 【請求項２２】 導電膜の形成、配向膜の形成、又は液
    晶セルの封止を１８０℃〜４００℃で行うことを特徴と
    する、請求項２２に記載の、ポリアリレートと金属酸化
    物との複合体からなるフィルム又はシートを用いたディ
    スプレー用フィルム基板の製造方法。
23. 【請求項２３】 請求項２２に記載のディスプレー用フ
    ィルム基板を用いたディスプレー。