JP2002255925A - ジフェニルスルホン化合物の製造方法 - Google Patents
ジフェニルスルホン化合物の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】着色のない高純度なジフェニルスルホン化合物
を、簡便かつ工業的に有利に製造する方法を提供する。 【解決手段】式（１）で表されるジフェニルスルホン化
合物を含む混合物を精製する工程において、該混合物に
キレート剤を添加することを特徴とするジフェニルスル
ホン化合物（１）の製造方法。 【化１】 〔Ｒ１及びＲ２はハロゲン原子、アルキル基等を表し、
ｍ及びｎは０〜４の整数を表し、Ｑは水素原子、アルキ
ル基、又は式（２） 【化２】 （Ｘ及びＹは、エーテル結合を有してもよい炭化水素基
等を表し、Ｒ３〜Ｒ６はハロゲン原子、アルキル基等を
表し、ｐ、ｑ、ｒ及びｔは０〜４の整数を表し、ａは０
〜１０の整数を表す。）で表される基を表す。〕
を、簡便かつ工業的に有利に製造する方法を提供する。 【解決手段】式（１）で表されるジフェニルスルホン化
合物を含む混合物を精製する工程において、該混合物に
キレート剤を添加することを特徴とするジフェニルスル
ホン化合物（１）の製造方法。 【化１】 〔Ｒ１及びＲ２はハロゲン原子、アルキル基等を表し、
ｍ及びｎは０〜４の整数を表し、Ｑは水素原子、アルキ
ル基、又は式（２） 【化２】 （Ｘ及びＹは、エーテル結合を有してもよい炭化水素基
等を表し、Ｒ３〜Ｒ６はハロゲン原子、アルキル基等を
表し、ｐ、ｑ、ｒ及びｔは０〜４の整数を表し、ａは０
〜１０の整数を表す。）で表される基を表す。〕
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、感熱記録剤の顕色
剤及びその原料等として有用なジフェニルスルホン化合
物を高純度かつ工業的に有利に製造する方法に関する。
剤及びその原料等として有用なジフェニルスルホン化合
物を高純度かつ工業的に有利に製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】式（１０）
【０００３】
【化７】
【０００４】（式中、Ｒ’、Ｒ”及びＱ’はアルキル基
等を表し、ｍ’及びｎ’は０又は１〜４の整数を表
す。）で表される化合物（以下、「ジフェニルスルホン
化合物」という。）は、顕色剤及びその他の製造原料等
として有用である。例えば、４，４’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンは、顕色剤である４−置換ヒドロキシ
−４’−ヒドロキシジフェニルスルホンや、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン等のエンジニアリングプラス
チックスの製造原料として有用である。また、４−置換
ヒドロキシ−４’−ヒドロキシジフェニルスルホンや、
式（１１）
等を表し、ｍ’及びｎ’は０又は１〜４の整数を表
す。）で表される化合物（以下、「ジフェニルスルホン
化合物」という。）は、顕色剤及びその他の製造原料等
として有用である。例えば、４，４’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンは、顕色剤である４−置換ヒドロキシ
−４’−ヒドロキシジフェニルスルホンや、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン等のエンジニアリングプラス
チックスの製造原料として有用である。また、４−置換
ヒドロキシ−４’−ヒドロキシジフェニルスルホンや、
式（１１）
【０００５】
【化８】
【０００６】（式中、Ｒ１’〜Ｒ６’はハロゲン原子、
Ｃ１〜Ｃ８アルキル基等を表し、Ｘ’及びＹ’はアルキ
レン基等を表し、ｍ’、ｎ’、ｐ’、ｑ’、ｒ’及び
ｔ’は０又は１〜４の整数を表し、ａ’は０又は１〜１
０の整数を表す。）で表される化合物は、発色感度、保
存性及び耐感光性等に優れた顕色剤であり、ファクシミ
リ等の高速記録用、保存性を重視したラベル等の記録材
料に多用されている。
Ｃ１〜Ｃ８アルキル基等を表し、Ｘ’及びＹ’はアルキ
レン基等を表し、ｍ’、ｎ’、ｐ’、ｑ’、ｒ’及び
ｔ’は０又は１〜４の整数を表し、ａ’は０又は１〜１
０の整数を表す。）で表される化合物は、発色感度、保
存性及び耐感光性等に優れた顕色剤であり、ファクシミ
リ等の高速記録用、保存性を重視したラベル等の記録材
料に多用されている。
【０００７】従来、４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンの製造方法としては、例えば、（１）フェノー
ルと硫酸等のスルホン化剤とを反応させる方法（特開昭
５１−９８２３９号公報、特開昭６４−９９７０号公
報、特開平２−２３５８７号公報、特開平２−２８２３
５８号公報、特開平３−１０１６５６号公報等）、
（２）２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを、
酸の存在下に１４０〜２５０℃に加熱して、４，４’−
ジヒドロキシジフェニルスルホンを製造する方法（特開
昭５０−１１６４４６号公報、特開平３−２０６０７３
号公報等）、（３）フェノールと硫酸とを、１種又は２
種以上の脂肪族飽和炭化水素を含む溶媒中で反応させた
後、この反応液に炭素数１〜３のアルコールを加え、分
液したアルコール層から４，４’−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンを得る方法（特願２０００−２７３０８４
号）、等が知られている。
スルホンの製造方法としては、例えば、（１）フェノー
ルと硫酸等のスルホン化剤とを反応させる方法（特開昭
５１−９８２３９号公報、特開昭６４−９９７０号公
報、特開平２−２３５８７号公報、特開平２−２８２３
５８号公報、特開平３−１０１６５６号公報等）、
（２）２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを、
酸の存在下に１４０〜２５０℃に加熱して、４，４’−
ジヒドロキシジフェニルスルホンを製造する方法（特開
昭５０−１１６４４６号公報、特開平３−２０６０７３
号公報等）、（３）フェノールと硫酸とを、１種又は２
種以上の脂肪族飽和炭化水素を含む溶媒中で反応させた
後、この反応液に炭素数１〜３のアルコールを加え、分
液したアルコール層から４，４’−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンを得る方法（特願２０００−２７３０８４
号）、等が知られている。
【０００８】４−置換ヒドロキシ−４’−ヒドロキシジ
フェニルスルホンの製造方法としては、例えば、４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンとアルキルハラ
イド等のハロゲン化合物とをアルカリの存在下に反応さ
せる方法が知られている（特開平６−２５１２４８号公
報、特開平５−２５５２３４号公報、特許公報第２５０
０５３２号等参照）。
フェニルスルホンの製造方法としては、例えば、４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンとアルキルハラ
イド等のハロゲン化合物とをアルカリの存在下に反応さ
せる方法が知られている（特開平６−２５１２４８号公
報、特開平５−２５５２３４号公報、特許公報第２５０
０５３２号等参照）。
【０００９】また、前記一般式（１１）で表される化合
物の製造方法としては、４，４’−ジヒドロキジシフェ
ニルスルホン又は２，４’−ジヒドロキジシフェニルス
ルホンと、一般式：Ａ２’−Ｘ’−Ａ３’及び一般式：
Ａ４’−Ｙ’−Ａ５’（式中、Ａ２’〜Ａ５’は、それ
ぞれ独立して、ハロゲン原子を表し、Ｘ’及びＹ’は、
前記と同じ意味を表す。）で表される化合物とをアルカ
リ存在下に反応させる方法が知られている（特開平１０
−２９９６９号公報参照）。
物の製造方法としては、４，４’−ジヒドロキジシフェ
ニルスルホン又は２，４’−ジヒドロキジシフェニルス
ルホンと、一般式：Ａ２’−Ｘ’−Ａ３’及び一般式：
Ａ４’−Ｙ’−Ａ５’（式中、Ａ２’〜Ａ５’は、それ
ぞれ独立して、ハロゲン原子を表し、Ｘ’及びＹ’は、
前記と同じ意味を表す。）で表される化合物とをアルカ
リ存在下に反応させる方法が知られている（特開平１０
−２９９６９号公報参照）。
【００１０】しかしながら、これらのジフェニルスルホ
ン化合物を上記のいずれかの方法により工業的規模で製
造する場合には、反応混合物を精製して目的物を単離す
る工程において、反応混合物の液が着色し、それが目的
物であるジフェニルスルホン化合物（結晶中）に取り込
まれ、その後精製を繰り返しても完全に脱色することは
困難であるという問題があった。かかる場合、従来は、
反応混合物の液に活性炭を添加等して脱色する作業を行
なっていたが、活性炭を添加する方法では、ある程度脱
色することができるものの完全に脱色することが困難で
あり、また、添加した活性炭を濾別しなければならず、
作業が煩雑となっていた。
ン化合物を上記のいずれかの方法により工業的規模で製
造する場合には、反応混合物を精製して目的物を単離す
る工程において、反応混合物の液が着色し、それが目的
物であるジフェニルスルホン化合物（結晶中）に取り込
まれ、その後精製を繰り返しても完全に脱色することは
困難であるという問題があった。かかる場合、従来は、
反応混合物の液に活性炭を添加等して脱色する作業を行
なっていたが、活性炭を添加する方法では、ある程度脱
色することができるものの完全に脱色することが困難で
あり、また、添加した活性炭を濾別しなければならず、
作業が煩雑となっていた。
【００１１】ジフェニルスルホン化合物は、主に顕色剤
や、顕色剤又はエンジニアリングプラスチックスの製造
原料として用いられる。出発原料に着色物質が不純物と
して含まれていると、それがそのまま最終製品にも取り
込まれ、最終製品も着色してしまう。特に、これらの化
合物が顕色剤として用いられる場合には、僅かな着色が
あっても問題となる。したがって、着色がなく高純度な
ジフェニルスルホン化合物を工業的に有利に製造する方
法を確立することが必要とされていた。
や、顕色剤又はエンジニアリングプラスチックスの製造
原料として用いられる。出発原料に着色物質が不純物と
して含まれていると、それがそのまま最終製品にも取り
込まれ、最終製品も着色してしまう。特に、これらの化
合物が顕色剤として用いられる場合には、僅かな着色が
あっても問題となる。したがって、着色がなく高純度な
ジフェニルスルホン化合物を工業的に有利に製造する方
法を確立することが必要とされていた。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる実状
に鑑みてなされたものであり、着色がなく高純度なジフ
ェニルスルホン化合物を工業的に有利に製造する方法を
提供することを課題とする。
に鑑みてなされたものであり、着色がなく高純度なジフ
ェニルスルホン化合物を工業的に有利に製造する方法を
提供することを課題とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく、
本発明者らは、ジフェニルスルホン化合物の製造方法に
おける反応混合物を精製する工程において、反応混合物
が着色する原因を詳細に調べた。その結果、反応混合物
を精製する工程において、ＳＵＳ製の反応槽から溶出
し、又は溶媒として用いられる工業用水中に含まれる鉄
イオン、ニッケルイオン、クロムイオン等の金属イオン
が、ジフェニルスルホン化合物等のフェノール化合物と
反応して錯体を形成し、これが着色の原因物質であると
考えられた。そして、反応混合物を精製し、目的物を単
離する工程において、反応混合物にキレート剤を添加し
て、金属イオンをキレート剤で捕捉することにより、ジ
フェニルスルホン化合物の着色を効果的に防止できるこ
とを見出し、本発明を完成するに到った。
本発明者らは、ジフェニルスルホン化合物の製造方法に
おける反応混合物を精製する工程において、反応混合物
が着色する原因を詳細に調べた。その結果、反応混合物
を精製する工程において、ＳＵＳ製の反応槽から溶出
し、又は溶媒として用いられる工業用水中に含まれる鉄
イオン、ニッケルイオン、クロムイオン等の金属イオン
が、ジフェニルスルホン化合物等のフェノール化合物と
反応して錯体を形成し、これが着色の原因物質であると
考えられた。そして、反応混合物を精製し、目的物を単
離する工程において、反応混合物にキレート剤を添加し
て、金属イオンをキレート剤で捕捉することにより、ジ
フェニルスルホン化合物の着色を効果的に防止できるこ
とを見出し、本発明を完成するに到った。
【００１４】すなわち、本発明は、式（１）
【００１５】
【化９】
【００１６】{式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立し
て、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ８アルキル基又はＣ２〜Ｃ
８アルケニル基を表し、ｍ及びｎは、それぞれ独立し
て、０又は１〜４の整数を表す。Ｑは、水素原子、Ｃ１
〜８アルキル基、Ｃ２〜８アルケニル基、Ｃ３〜８のシ
クロアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、
又は式（２）
て、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ８アルキル基又はＣ２〜Ｃ
８アルケニル基を表し、ｍ及びｎは、それぞれ独立し
て、０又は１〜４の整数を表す。Ｑは、水素原子、Ｃ１
〜８アルキル基、Ｃ２〜８アルケニル基、Ｃ３〜８のシ
クロアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、
又は式（２）
【００１７】
【化１０】
【００１８】〔式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、
置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ１２の飽和若しくは不飽
和の炭化水素基、エーテル結合を有するＣ１〜Ｃ１２の
飽和若しくは不飽和の炭化水素基、式（３）
置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ１２の飽和若しくは不飽
和の炭化水素基、エーテル結合を有するＣ１〜Ｃ１２の
飽和若しくは不飽和の炭化水素基、式（３）
【００１９】
【化１１】
【００２０】（式中、Ｒ７はメチレン基又はエチレン基
を表す。）で表される基、又は式（４）
を表す。）で表される基、又は式（４）
【００２１】
【化１２】
【００２２】（式中、Ｒ８は、水素原子又はＣ１〜Ｃ４
アルキル基を表す。）で表される基を表す。Ｒ３〜Ｒ６
は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ８アル
キル基又はＣ２〜Ｃ８アルケニル基を表し、ｐ、ｑ、ｒ
及びｔは、それぞれ独立して、０又は１〜４の整数を表
し、ａは、０又は１〜１０の整数を表す。〕で表される
基を表す。}で表されるジフェニルスルホン化合物を含
む混合物を精製して、前記式（１）で表される化合物を
単離する工程を有する前記式（１）で表されるジフェニ
ルスルホン化合物の製造方法であって、前記混合物を精
製する工程において、前記混合物にキレート剤を添加す
ることを特徴とする前記式（１）で表されるジフェニル
スルホン化合物の製造方法を提供する。
アルキル基を表す。）で表される基を表す。Ｒ３〜Ｒ６
は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ８アル
キル基又はＣ２〜Ｃ８アルケニル基を表し、ｐ、ｑ、ｒ
及びｔは、それぞれ独立して、０又は１〜４の整数を表
し、ａは、０又は１〜１０の整数を表す。〕で表される
基を表す。}で表されるジフェニルスルホン化合物を含
む混合物を精製して、前記式（１）で表される化合物を
単離する工程を有する前記式（１）で表されるジフェニ
ルスルホン化合物の製造方法であって、前記混合物を精
製する工程において、前記混合物にキレート剤を添加す
ることを特徴とする前記式（１）で表されるジフェニル
スルホン化合物の製造方法を提供する。
【００２３】本発明において、前記ジフェニルスルホン
化合物としては、次（１）〜（３）のいずれかであるの
が好ましい。 （１）４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン （２）式（５）
化合物としては、次（１）〜（３）のいずれかであるの
が好ましい。 （１）４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン （２）式（５）
【００２４】
【化１３】
【００２５】（式中、Ｒ９は、Ｃ１〜８アルキル基、Ｃ
２〜８アルケニル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基又は置
換基を有してもよいアラルキル基を表す。）で表される
化合物（３）式（７）
２〜８アルケニル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基又は置
換基を有してもよいアラルキル基を表す。）で表される
化合物（３）式（７）
【００２６】
【化１４】
【００２７】（式中、Ｒ１〜Ｒ６、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、
ｒ、ｔ、ａ、Ｘ及びＹは、前記と同じ意味を表す。）で
表される化合物
ｒ、ｔ、ａ、Ｘ及びＹは、前記と同じ意味を表す。）で
表される化合物
【００２８】また、前記ジフェニルスルホン化合物を含
む混合物としては、次の（ａ）〜（ｄ）のいずれかであ
るのが好ましい。 （ａ）フェノールとスルホン化剤（好ましくは硫酸）と
を反応させて得られる４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンを含む反応混合物 （ｂ）２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを含
む混合物を加熱して得られる４，４’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンを含む反応混合物 （ｃ）４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンと、
式（６）：Ｒ９−Ａ１（式中、Ｒ９は前記と同じ意味を
表し、Ａ１はハロゲン原子を表す。）で表される化合物
とを、アルカリ存在下に反応させて得られる前記式
（５）で表される化合物を含む反応混合物 （ｄ）４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン又は
２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンと、式
（８）：Ａ２−Ｘ−Ａ３及び式（９）：Ａ４−Ｙ−Ａ ５
（式中、Ａ２〜Ａ５は、それぞれ独立して、ハロゲン原
子を表し、Ｘ及びＹは、前記と同じ意味を表す。）で表
される化合物とを、アルカリ存在下に反応させて得られ
る前記式（７）で表される化合物を含む反応混合物
む混合物としては、次の（ａ）〜（ｄ）のいずれかであ
るのが好ましい。 （ａ）フェノールとスルホン化剤（好ましくは硫酸）と
を反応させて得られる４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンを含む反応混合物 （ｂ）２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを含
む混合物を加熱して得られる４，４’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンを含む反応混合物 （ｃ）４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンと、
式（６）：Ｒ９−Ａ１（式中、Ｒ９は前記と同じ意味を
表し、Ａ１はハロゲン原子を表す。）で表される化合物
とを、アルカリ存在下に反応させて得られる前記式
（５）で表される化合物を含む反応混合物 （ｄ）４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン又は
２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンと、式
（８）：Ａ２−Ｘ−Ａ３及び式（９）：Ａ４−Ｙ−Ａ ５
（式中、Ａ２〜Ａ５は、それぞれ独立して、ハロゲン原
子を表し、Ｘ及びＹは、前記と同じ意味を表す。）で表
される化合物とを、アルカリ存在下に反応させて得られ
る前記式（７）で表される化合物を含む反応混合物
【００２９】本発明によれば、ＳＵＳ製の反応槽や溶媒
等として工業用水を用いても、着色の問題がない高純度
なジフェニルスルホン化合物を工業的に有利に製造する
ことができる。
等として工業用水を用いても、着色の問題がない高純度
なジフェニルスルホン化合物を工業的に有利に製造する
ことができる。
【００３０】
【発明の実施の形態】本発明は、ジフェニルスルホン化
合物を含む混合物を精製して、該化合物を単離する工程
において、該混合物にキレート剤を添加することを特徴
とする。本発明の対象とするジフェニルスルホン化合物
は、式（１）
合物を含む混合物を精製して、該化合物を単離する工程
において、該混合物にキレート剤を添加することを特徴
とする。本発明の対象とするジフェニルスルホン化合物
は、式（１）
【００３１】
【化１５】
【００３２】で表される化合物である。式（１）中、Ｒ
１及びＲ２は、それぞれ独立して、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メチル、エチル、ｎ
−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル基
等のＣ１〜８アルキル基；プロペニル、イソプロペニ
ル、ブテニル基等のＣ２〜８アルケニル基を表す。ｍ及
びｎは、それぞれ独立して、０又は１〜４の整数を表
す。
１及びＲ２は、それぞれ独立して、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メチル、エチル、ｎ
−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル基
等のＣ１〜８アルキル基；プロペニル、イソプロペニ
ル、ブテニル基等のＣ２〜８アルケニル基を表す。ｍ及
びｎは、それぞれ独立して、０又は１〜４の整数を表
す。
【００３３】Ｑは、水素原子；メチル、エチル、ｎ−プ
ロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル基等の
Ｃ１〜８アルキル基；ビニル、プロペニル、イソプロペ
ニル、ブテニル基等のＣ２〜８アルケニル基；シクロプ
ロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３〜
８のシクロアルキル基；ベンジル、４−クロロベンジ
ル、２−フェニルエチル基等の置換基を有してもよいア
ラルキル基；又は式（２）
ロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル基等の
Ｃ１〜８アルキル基；ビニル、プロペニル、イソプロペ
ニル、ブテニル基等のＣ２〜８アルケニル基；シクロプ
ロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３〜
８のシクロアルキル基；ベンジル、４−クロロベンジ
ル、２−フェニルエチル基等の置換基を有してもよいア
ラルキル基；又は式（２）
【００３４】
【化１６】
【００３５】で表される基；を表す。式（２）中、ｐ、
ｑ、ｒ及びｔは、それぞれ独立して、０又は１〜４の整
数を表し、ａは１〜１０の整数を表す。Ｘ及びＹは、そ
れぞれ独立して、メチレン、エチレン、トリメチレン、
テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘ
プタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメ
チレン、ウンデカメチレン、ドデカメチレン、メチルメ
チレン、ジメチルメチレン、メチルエチレン、メチレン
エチレン、エチルエチレン、１，２−ジメチルエチレ
ン、１−メチルトリメチレン、１−メチルテトラメチレ
ン、１，３−ジメチルトリメチレン、１−エチル−４−
メチル−テトラメチレン基、
ｑ、ｒ及びｔは、それぞれ独立して、０又は１〜４の整
数を表し、ａは１〜１０の整数を表す。Ｘ及びＹは、そ
れぞれ独立して、メチレン、エチレン、トリメチレン、
テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘ
プタメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメ
チレン、ウンデカメチレン、ドデカメチレン、メチルメ
チレン、ジメチルメチレン、メチルエチレン、メチレン
エチレン、エチルエチレン、１，２−ジメチルエチレ
ン、１−メチルトリメチレン、１−メチルテトラメチレ
ン、１，３−ジメチルトリメチレン、１−エチル−４−
メチル−テトラメチレン基、
【００３６】２−ヒドロキシトリメチレン、２−ヒドロ
キシ−２−メチルトリメチレン、２−ヒドロキシ−２−
エチルトリメチレン、２−ヒドロキシ−２−プロピルト
リメチレン、２−ヒドロキシ−２−イソプロピルトリメ
チレン、２−ヒドロキシ−２−ブチルトリメチレン基等
の置換基を有してもよいＣ１〜１２の飽和炭化水素基；
ビニレン、プロペニレン、２−ブテニレン、エチニレ
ン、２−ブチニレン、１−ビニルエチレン基等の置換基
を有してもよいＣ１〜１２の不飽和炭化水素基；エチレ
ンオキシエチレン、テトラメチレンオキシテトラメチレ
ン、エチレンオキシエチレンオキシエチレン、エチレン
オキシメチレンオキシエチレン、１，３−ジオキサン−
５，５−ビスメチレン基等のエーテル結合を有するＣ１
〜Ｃ１２の飽和若しくは不飽和炭化水素基；式（３）
キシ−２−メチルトリメチレン、２−ヒドロキシ−２−
エチルトリメチレン、２−ヒドロキシ−２−プロピルト
リメチレン、２−ヒドロキシ−２−イソプロピルトリメ
チレン、２−ヒドロキシ−２−ブチルトリメチレン基等
の置換基を有してもよいＣ１〜１２の飽和炭化水素基；
ビニレン、プロペニレン、２−ブテニレン、エチニレ
ン、２−ブチニレン、１−ビニルエチレン基等の置換基
を有してもよいＣ１〜１２の不飽和炭化水素基；エチレ
ンオキシエチレン、テトラメチレンオキシテトラメチレ
ン、エチレンオキシエチレンオキシエチレン、エチレン
オキシメチレンオキシエチレン、１，３−ジオキサン−
５，５−ビスメチレン基等のエーテル結合を有するＣ１
〜Ｃ１２の飽和若しくは不飽和炭化水素基；式（３）
【００３７】
【化１７】
【００３８】で表される基、又は式（４）
【００３９】
【化１８】
【００４０】で表される基のいずれかを表す。式（３）
中、Ｒ７はメチレン基又はエチレン基を表す。また、式
（４）中、Ｒ８は、水素原子；メチル、エチル、ｎ−プ
ロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル基等の
Ｃ１〜Ｃ４アルキル基；を表す。Ｒ３〜Ｒ６は、それぞ
れ独立して、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子；メ
チル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、ｔ−ブチル基等Ｃ１〜Ｃ８アルキル基；ビニル、プ
ロペニル、イソプロペニル、ブテニル基等のＣ２〜Ｃ８
アルケニル基；を表す。
中、Ｒ７はメチレン基又はエチレン基を表す。また、式
（４）中、Ｒ８は、水素原子；メチル、エチル、ｎ−プ
ロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル基等の
Ｃ１〜Ｃ４アルキル基；を表す。Ｒ３〜Ｒ６は、それぞ
れ独立して、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子；メ
チル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、ｔ−ブチル基等Ｃ１〜Ｃ８アルキル基；ビニル、プ
ロペニル、イソプロペニル、ブテニル基等のＣ２〜Ｃ８
アルケニル基；を表す。
【００４１】前記式（５）中、Ｒ９は、メチル、エチ
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブ
チル基等のＣ１〜８アルキル基；エテニル、プロペニ
ル、イソプロペニル、ブテニル基等のＣ２〜８アルケニ
ル基；シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル基等のＣ３〜８シクロアルキル基；又はベンジル、４
−クロロベンジル、２−フェニルエチル基等の置換基を
有してもよいアラルキル基を表す。
ル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブ
チル基等のＣ１〜８アルキル基；エテニル、プロペニ
ル、イソプロペニル、ブテニル基等のＣ２〜８アルケニ
ル基；シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル基等のＣ３〜８シクロアルキル基；又はベンジル、４
−クロロベンジル、２−フェニルエチル基等の置換基を
有してもよいアラルキル基を表す。
【００４２】式（５）で表される化合物の具体例として
は、４−メトキシ−４’−ヒドロキシジフェニルスルホ
ン、４−エトキシ−４’−ヒドロキシジフェニルスルホ
ン、４−ｎ−プロポキシ−４’−ヒドロキシジフェニル
スルホン、４−イソプロポキシ−４’−ヒドロキシジフ
ェニルスルホン、４−ｎ−ブトキシ−４’−ヒドロキシ
ジフェニルスルホン、４−ｓｅｃ−ブトキシ−４−ヒド
ロキシジフェニルスルホン、４−ｔ−ブトキシ−４’−
ヒドロキシジフェニルスルホン等が挙げられる。これら
の中でも、４−イソプロポキシ−４’−ヒドロキシジフ
ェニルスルホンが特に好ましい。
は、４−メトキシ−４’−ヒドロキシジフェニルスルホ
ン、４−エトキシ−４’−ヒドロキシジフェニルスルホ
ン、４−ｎ−プロポキシ−４’−ヒドロキシジフェニル
スルホン、４−イソプロポキシ−４’−ヒドロキシジフ
ェニルスルホン、４−ｎ−ブトキシ−４’−ヒドロキシ
ジフェニルスルホン、４−ｓｅｃ−ブトキシ−４−ヒド
ロキシジフェニルスルホン、４−ｔ−ブトキシ−４’−
ヒドロキシジフェニルスルホン等が挙げられる。これら
の中でも、４−イソプロポキシ−４’−ヒドロキシジフ
ェニルスルホンが特に好ましい。
【００４３】式（７）で表される化合物としては、例え
ば、以下のものが挙げられる。 １）式中、Ｘ及び／又はＹが置換基を有してもよいＣ１
〜Ｃ１２の飽和炭化水素基である化合物；４−[４−
（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−４
−ブチルオキシ]−４’−[４−（４−ヒドロキシフェニ
ルスルホニル）フェノキシ−３−プロピルオキシ]ジフ
ェニルスルホン、４，４’−ビス[４−（４−ヒドロキ
シフェニルスルホニル）フェノキシ−２−エチルオキ
シ]ジフェニルスルホン、４，４’−ビス[４−（４−ヒ
ドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−３−プロピ
ルオキシ]ジフェニルスルホン、４，４’−ビス[４−
（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−４
−ブチルオキシ]ジフェニルスルホン、４，４’−ビス
[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキ
シ−５−ペンチルオキシ]ジフェニルスルホン、４，
４’−ビス[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェノキシ−６−ヘキシルオキシ]ジフェニルスル
ホン、４−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェノキシ−４−ブチルオキシ]−４’−[４−（４
−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−２−エ
チルオキシ]ジフェニルスルホン、４−[４−（４−ヒド
ロキシホニルスルホニル）フェノキシ−３−プロピルオ
キシ]−４’−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェノキシ−２−エチルオキシ]ジフェニルスルホ
ン、４，４’−ビス[４−[４−（２−ヒドロキシフェニ
ルスルホニル）フェノキシ]ブチルオキシ]ジフェニルス
ルホン、４，４’−ビス[４−[２−（４−ヒドロキシフ
ェニルスルホニル）フェノキシ]ブチルオキシ]ジフェニ
ルスルホン、１，１−ビス[４−（４−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル）フェノキシ]メタン、１，２−ビス[４
−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ]
エタン、１，３−ビス[４−（４−ヒドロキシフェニル
スルホニル）フェノキシ]プロパン１，４−ビス[４−
（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ]ブ
タン、１，５−ビス[４−（４−ヒドロキシフェニルス
ルホニル）フェノキシ]ペンタン、１，６−ビス[４−
（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ]ヘ
キサン
ば、以下のものが挙げられる。 １）式中、Ｘ及び／又はＹが置換基を有してもよいＣ１
〜Ｃ１２の飽和炭化水素基である化合物；４−[４−
（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−４
−ブチルオキシ]−４’−[４−（４−ヒドロキシフェニ
ルスルホニル）フェノキシ−３−プロピルオキシ]ジフ
ェニルスルホン、４，４’−ビス[４−（４−ヒドロキ
シフェニルスルホニル）フェノキシ−２−エチルオキ
シ]ジフェニルスルホン、４，４’−ビス[４−（４−ヒ
ドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−３−プロピ
ルオキシ]ジフェニルスルホン、４，４’−ビス[４−
（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−４
−ブチルオキシ]ジフェニルスルホン、４，４’−ビス
[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキ
シ−５−ペンチルオキシ]ジフェニルスルホン、４，
４’−ビス[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェノキシ−６−ヘキシルオキシ]ジフェニルスル
ホン、４−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェノキシ−４−ブチルオキシ]−４’−[４−（４
−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−２−エ
チルオキシ]ジフェニルスルホン、４−[４−（４−ヒド
ロキシホニルスルホニル）フェノキシ−３−プロピルオ
キシ]−４’−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェノキシ−２−エチルオキシ]ジフェニルスルホ
ン、４，４’−ビス[４−[４−（２−ヒドロキシフェニ
ルスルホニル）フェノキシ]ブチルオキシ]ジフェニルス
ルホン、４，４’−ビス[４−[２−（４−ヒドロキシフ
ェニルスルホニル）フェノキシ]ブチルオキシ]ジフェニ
ルスルホン、１，１−ビス[４−（４−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル）フェノキシ]メタン、１，２−ビス[４
−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ]
エタン、１，３−ビス[４−（４−ヒドロキシフェニル
スルホニル）フェノキシ]プロパン１，４−ビス[４−
（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ]ブ
タン、１，５−ビス[４−（４−ヒドロキシフェニルス
ルホニル）フェノキシ]ペンタン、１，６−ビス[４−
（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ]ヘ
キサン
【００４４】２）式中、Ｘ及び／又はＹが置換基を有し
てもよいＣ１〜Ｃ１２の不飽和炭化水素基である化合
物；１，２−ビス[４−（４−ヒドロキシフェニルスル
ホニル）フェノキシ]エチレン、４，４’−ビス[４−
[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキ
シ]−２−トランス−ブテニルオキシ]ジフェニルスルホ
ン、４−[４−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェノキシ]−２−トランス−ブテニルオキシ]−
４’−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フ
ェノキシ−４−ブチルオキシ]ジフェニルスルホン、４
−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノ
キシ−２−トランス−ブテニルオキシ]−４’−[４−
（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−３
−プロピルオキシ]ジフェニルスルホン、４−[４−[４
−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ]
−２−トランス−ブテニルオキシ]−４’−[４−（４−
ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−２−エチ
ルオキシ]ジフェニルスルホン、１，４−ビス[４−[４
−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノ
キシ−２−トランス−ブテニルオキシ]フェニルスルホ
ニル]フェノキシ]−シス−２−ブテン、１，４−ビス
[４−[４−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェノキシ−２−トランス−ブテニルオキシ]フェ
ニルスルホニル]フェノキシ]−トランス−２−ブテン
てもよいＣ１〜Ｃ１２の不飽和炭化水素基である化合
物；１，２−ビス[４−（４−ヒドロキシフェニルスル
ホニル）フェノキシ]エチレン、４，４’−ビス[４−
[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキ
シ]−２−トランス−ブテニルオキシ]ジフェニルスルホ
ン、４−[４−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェノキシ]−２−トランス−ブテニルオキシ]−
４’−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フ
ェノキシ−４−ブチルオキシ]ジフェニルスルホン、４
−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノ
キシ−２−トランス−ブテニルオキシ]−４’−[４−
（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−３
−プロピルオキシ]ジフェニルスルホン、４−[４−[４
−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ]
−２−トランス−ブテニルオキシ]−４’−[４−（４−
ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−２−エチ
ルオキシ]ジフェニルスルホン、１，４−ビス[４−[４
−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノ
キシ−２−トランス−ブテニルオキシ]フェニルスルホ
ニル]フェノキシ]−シス−２−ブテン、１，４−ビス
[４−[４−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェノキシ−２−トランス−ブテニルオキシ]フェ
ニルスルホニル]フェノキシ]−トランス−２−ブテン
【００４５】３）式中、Ｘ及び／又はＹがエーテル結合
を有するＣ１〜Ｃ１２の飽和若しくは不飽和の炭化水素
基である化合物；４，４’−ビス[４−（４−ヒドロキ
シフェニルスルホニル）フェノキシ]ジブチルエーテ
ル、２，２’−ビス[４−（４−ヒドロキシフェニルス
ルホニル）フェノキシ]ジエチルエーテル、４，４’−
ビス[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェ
ノキシ−２−エチレンオキシエトキシ]ジフェニルスル
ホン、２，２’−ビス[４−[４−[４−（４−ヒドロキ
シフェニルスルホニル）フェノキシ−２−エチレンオキ
シエトキシ]フェニルスルホニル]フェノキシ]ジエチル
エーテル、２，４’−ビス[２−（４−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル）フェノキシ−２−エチレンオキシエト
キシ]ジフェニルスルホン、２，４’−ビス[４−（２−
ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−２−エチ
レンオキシエトキシ]ジフェニルスルホン、４，４’−
ビス[３，５−ジメチル−４−（３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−２−エ
チレンオキシエトキシ]ジフェニルスルホン、４，４’
−ビス[３−アリル−４−（３−アリル−４−ヒドロキ
シフェニルスルホニル）フェノキシ−２−エチレンオキ
シエトキシ]ジフェニルスルホン
を有するＣ１〜Ｃ１２の飽和若しくは不飽和の炭化水素
基である化合物；４，４’−ビス[４−（４−ヒドロキ
シフェニルスルホニル）フェノキシ]ジブチルエーテ
ル、２，２’−ビス[４−（４−ヒドロキシフェニルス
ルホニル）フェノキシ]ジエチルエーテル、４，４’−
ビス[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェ
ノキシ−２−エチレンオキシエトキシ]ジフェニルスル
ホン、２，２’−ビス[４−[４−[４−（４−ヒドロキ
シフェニルスルホニル）フェノキシ−２−エチレンオキ
シエトキシ]フェニルスルホニル]フェノキシ]ジエチル
エーテル、２，４’−ビス[２−（４−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル）フェノキシ−２−エチレンオキシエト
キシ]ジフェニルスルホン、２，４’−ビス[４−（２−
ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−２−エチ
レンオキシエトキシ]ジフェニルスルホン、４，４’−
ビス[３，５−ジメチル−４−（３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−２−エ
チレンオキシエトキシ]ジフェニルスルホン、４，４’
−ビス[３−アリル−４−（３−アリル−４−ヒドロキ
シフェニルスルホニル）フェノキシ−２−エチレンオキ
シエトキシ]ジフェニルスルホン
【００４６】４）式中、Ｘ及び／又はＹが式（３）で表
される基である化合物；α，α’−ビス[４−（４−ヒ
ドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ]−ｐ−キシ
レン、α，α’−ビス[４−（４−ヒドロキシフェニル
スルホニル）フェノキシ]−ｍ−キシレン、α，α’−
ビス[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェ
ノキシ]−ｏ−キシレン、α，α’−ビス[４−[４−[４
−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェニル−
１，４−フェニレンビスメチレンオキシ]フェニルスル
ホニル]フェノキシ]−ｐ−キシレン、α，α’−ビス
[４−[４−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェニル−１，３−フェニレンビスメチレンオキ
シ]フェニルスルホニル]フェノキシ]−ｍ−キシレン、
α，α’−ビス[４−[４−[４−（４−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル）フェニル−１，２−フェニレンビスメ
チレンオキシ]フェニルスルホニル]フェノキシ]−ｏ−
キシレン、
される基である化合物；α，α’−ビス[４−（４−ヒ
ドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ]−ｐ−キシ
レン、α，α’−ビス[４−（４−ヒドロキシフェニル
スルホニル）フェノキシ]−ｍ−キシレン、α，α’−
ビス[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェ
ノキシ]−ｏ−キシレン、α，α’−ビス[４−[４−[４
−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェニル−
１，４−フェニレンビスメチレンオキシ]フェニルスル
ホニル]フェノキシ]−ｐ−キシレン、α，α’−ビス
[４−[４−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェニル−１，３−フェニレンビスメチレンオキ
シ]フェニルスルホニル]フェノキシ]−ｍ−キシレン、
α，α’−ビス[４−[４−[４−（４−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル）フェニル−１，２−フェニレンビスメ
チレンオキシ]フェニルスルホニル]フェノキシ]−ｏ−
キシレン、
【００４７】４，４’−ビス[４−（４−ヒドロキシフ
ェニルスルホニル）フェニル−１，４−フェニレンビス
メチレンオキシ]ジフェニルスルホン、４，４’−ビス
[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェニル
−１，３−フェニレンビスメチレンオキシ]ジフェニル
スルホン、４，４’−ビス[４−（４−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル）フェニル−１，２−フェニレンビスメ
チレンオキシ]ジフェニルスルホン、４，４’−ビス
[３，５−ジメチル−４−（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニルスルホニル）フェニル−１，４−フェ
ニレンビスメチレンオキシ]ジフェニルスルホン、４，
４’−ビス[３，５−ジメチル−４−（３，５−ジメチ
ル−４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェニル−
１，３−フェニレンビスメチレンオキシ]ジフェニルス
ルホン、４，４’−ビス[３，５−ジメチル−４−
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェニル−１，２−フェニレンビスメチレンオキ
シ]ジフェニルスルホン、４，４’−ビス[３−アリル−
４−（３−アリル−４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）−１，４−フェニレンビスメチレンオキシ]ジフェ
ニルスルホン、４，４’−ビス[３−アリル−４−（３
−アリル−４−ヒドロキシフェニルスルホニル）−１，
３−フェニレンビスメチレンオキシ]ジフェニルスルホ
ン、４，４’−ビス[３−アリル−４−（３−アリル−
４−ヒドロキシフェニルスルホニル）−１，２−フェニ
レンビスメチレンオキシ]ジフェニルスルホン
ェニルスルホニル）フェニル−１，４−フェニレンビス
メチレンオキシ]ジフェニルスルホン、４，４’−ビス
[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェニル
−１，３−フェニレンビスメチレンオキシ]ジフェニル
スルホン、４，４’−ビス[４−（４−ヒドロキシフェ
ニルスルホニル）フェニル−１，２−フェニレンビスメ
チレンオキシ]ジフェニルスルホン、４，４’−ビス
[３，５−ジメチル−４−（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニルスルホニル）フェニル−１，４−フェ
ニレンビスメチレンオキシ]ジフェニルスルホン、４，
４’−ビス[３，５−ジメチル−４−（３，５−ジメチ
ル−４−ヒドロキシフェニルスルホニル）フェニル−
１，３−フェニレンビスメチレンオキシ]ジフェニルス
ルホン、４，４’−ビス[３，５−ジメチル−４−
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェニル−１，２−フェニレンビスメチレンオキ
シ]ジフェニルスルホン、４，４’−ビス[３−アリル−
４−（３−アリル−４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）−１，４−フェニレンビスメチレンオキシ]ジフェ
ニルスルホン、４，４’−ビス[３−アリル−４−（３
−アリル−４−ヒドロキシフェニルスルホニル）−１，
３−フェニレンビスメチレンオキシ]ジフェニルスルホ
ン、４，４’−ビス[３−アリル−４−（３−アリル−
４−ヒドロキシフェニルスルホニル）−１，２−フェニ
レンビスメチレンオキシ]ジフェニルスルホン
【００４８】５）式中、Ｘ及び／又はＹが式（４）で表
される基である化合物；４，４’−ビス[４−（４−ヒ
ドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−２−ヒドロ
キシプロピルオキシ]ジフェニルスルホン、１，３−ビ
ス[４−[４−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェノキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ]フェ
ニルスルホニル]フェノキシ]−２−ヒドロキシプロパン
される基である化合物；４，４’−ビス[４−（４−ヒ
ドロキシフェニルスルホニル）フェノキシ−２−ヒドロ
キシプロピルオキシ]ジフェニルスルホン、１，３−ビ
ス[４−[４−[４−（４−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル）フェノキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ]フェ
ニルスルホニル]フェノキシ]−２−ヒドロキシプロパン
【００４９】これらの化合物の中でも、式（７）中、ａ
が０又は１〜３の整数であり、Ｘ及び／又はＹが、−Ｃ
Ｈ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−又は−ＣＨＣＨ＝ＣＨ
ＣＨ ２−である化合物が好ましい。
が０又は１〜３の整数であり、Ｘ及び／又はＹが、−Ｃ
Ｈ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−又は−ＣＨＣＨ＝ＣＨ
ＣＨ ２−である化合物が好ましい。
【００５０】精製の対象とするジフェニルスルホン化合
物を含む混合物としては、少なくとも前記（１）で表さ
れるジフェニルスルホン化合物を含むものであれば特に
制限はない。本発明においては、（Ｉ）４，４’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホン、（II）４−置換ヒドロキ
シ−４’−ヒドロキシジフェニルスルホン又は（III）
式（７）で表される化合物を含む反応混合物が好適であ
る。以下、（Ｉ）、（II）及び（III）のそれぞれの場
合を例にとって、本発明の製造方法を詳細に説明する。
物を含む混合物としては、少なくとも前記（１）で表さ
れるジフェニルスルホン化合物を含むものであれば特に
制限はない。本発明においては、（Ｉ）４，４’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホン、（II）４−置換ヒドロキ
シ−４’−ヒドロキシジフェニルスルホン又は（III）
式（７）で表される化合物を含む反応混合物が好適であ
る。以下、（Ｉ）、（II）及び（III）のそれぞれの場
合を例にとって、本発明の製造方法を詳細に説明する。
【００５１】（Ｉ）４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンの製造 ４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを含む反応
混合物を得る方法としては、特に制限なく公知の方法を
採用できる。例えば、フェノールとスルホン化剤とを反
応させて４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを
得る方法や、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンを加熱して転位反応により４，４’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンを得る方法等が挙げられる。
スルホンの製造 ４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを含む反応
混合物を得る方法としては、特に制限なく公知の方法を
採用できる。例えば、フェノールとスルホン化剤とを反
応させて４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを
得る方法や、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンを加熱して転位反応により４，４’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンを得る方法等が挙げられる。
【００５２】かかる方法しては、具体的には、 ４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンと２，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの異性体混合物
を、硫酸、発煙硫酸又はフェノールスルホン酸の存在下
に、１４０〜２５０℃で加熱する方法（特開昭５０−１
１６４４６号公報参照） ２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンよりも
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを溶解しな
い溶媒中で、フェノールと硫酸とを１５０℃付近で反応
させて、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンと
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの異性体混
合物を得た後、該混合物を１６０〜２００℃で加熱する
ことにより、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンを４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンへ異性
化させて、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン
を選択的に得る方法（特開昭５１−９８２３９号公報参
照） ジクロロベンゼン又はトリクロロベンゼン中で、フ
ェノールと硫酸とを反応させて、４，４’−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンを選択的に結晶化させて得る方法
（特公平４−７４３４７号公報参照） ２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンと４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの混合物のメシ
チレン懸濁液を、酸触媒下に溶媒を留出させながら加熱
して、異性化反応を進行させる方法（特開平３−２０６
７３号公報参照） 脂肪族炭化水素を溶媒として、フェノールと硫酸と
を反応させて得られる反応混合物にアルコールを添加し
て分液し、目的物のみをアルコール層へ抽出することに
より、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを得
る方法（特願２０００−２７３０８４号公報参照）等が
挙げられる。
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの異性体混合物
を、硫酸、発煙硫酸又はフェノールスルホン酸の存在下
に、１４０〜２５０℃で加熱する方法（特開昭５０−１
１６４４６号公報参照） ２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンよりも
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを溶解しな
い溶媒中で、フェノールと硫酸とを１５０℃付近で反応
させて、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンと
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの異性体混
合物を得た後、該混合物を１６０〜２００℃で加熱する
ことにより、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンを４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンへ異性
化させて、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン
を選択的に得る方法（特開昭５１−９８２３９号公報参
照） ジクロロベンゼン又はトリクロロベンゼン中で、フ
ェノールと硫酸とを反応させて、４，４’−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンを選択的に結晶化させて得る方法
（特公平４−７４３４７号公報参照） ２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンと４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの混合物のメシ
チレン懸濁液を、酸触媒下に溶媒を留出させながら加熱
して、異性化反応を進行させる方法（特開平３−２０６
７３号公報参照） 脂肪族炭化水素を溶媒として、フェノールと硫酸と
を反応させて得られる反応混合物にアルコールを添加し
て分液し、目的物のみをアルコール層へ抽出することに
より、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを得
る方法（特願２０００−２７３０８４号公報参照）等が
挙げられる。
【００５３】これらの中でも、副生成物の生成量を極力
低下させ、かつ、４，４’−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンを高収率で得ることができる方法を採用するのが
好ましく、後処理操作が簡便で、目的物を高収率で得る
ことができるの方法がより好ましい。
低下させ、かつ、４，４’−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンを高収率で得ることができる方法を採用するのが
好ましく、後処理操作が簡便で、目的物を高収率で得る
ことができるの方法がより好ましい。
【００５４】フェノールとスルホン化剤と反応させる方
法で用いられるスルホン化剤としては、例えば、硫酸、
無水硫酸、発煙硫酸、フェノールスルホン酸、クロロス
ルホン酸等が挙げられる。これらの中でも、硫酸の使用
が好ましく、濃硫酸（ここでは、「９０〜９８％硫酸」
を意味する。）の使用が特に好ましい。スルホン化剤の
使用量は、フェノール１モルに対して、通常２〜３モ
ル、好ましくは２〜２．５モルの範囲である。
法で用いられるスルホン化剤としては、例えば、硫酸、
無水硫酸、発煙硫酸、フェノールスルホン酸、クロロス
ルホン酸等が挙げられる。これらの中でも、硫酸の使用
が好ましく、濃硫酸（ここでは、「９０〜９８％硫酸」
を意味する。）の使用が特に好ましい。スルホン化剤の
使用量は、フェノール１モルに対して、通常２〜３モ
ル、好ましくは２〜２．５モルの範囲である。
【００５５】フェノールとスルホン化剤との反応は無溶
媒で行なうことができるが、溶媒で希釈して行なうのが
好ましい。用いられる溶媒としては、例えば、脂肪族炭
化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素等が挙げ
られる。脂肪族炭化水素としては、例えば、ノナン、デ
カン、ウンデカン、ドデカン、デカリン、テトラリン、
アイソパーＧ（エクソン化学（株）の商品名）、アイソ
パーＨ、アイソパーＬ、アイソパーＭ等が挙げられる。
芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、メシチレン、クロロベンゼン、クロロトルエン、キ
シレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン等が挙げら
れる。また、ハロゲン化炭化水素としては、例えば、テ
トラクロロエタン等を用いることができる。これらの中
でも、脂肪族炭化水素の使用が好ましく、ノナン、デカ
ン、アイソパーＧの使用がより好ましく、アイソパーＧ
の使用が特に好ましい
媒で行なうことができるが、溶媒で希釈して行なうのが
好ましい。用いられる溶媒としては、例えば、脂肪族炭
化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素等が挙げ
られる。脂肪族炭化水素としては、例えば、ノナン、デ
カン、ウンデカン、ドデカン、デカリン、テトラリン、
アイソパーＧ（エクソン化学（株）の商品名）、アイソ
パーＨ、アイソパーＬ、アイソパーＭ等が挙げられる。
芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン、トルエ
ン、メシチレン、クロロベンゼン、クロロトルエン、キ
シレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン等が挙げら
れる。また、ハロゲン化炭化水素としては、例えば、テ
トラクロロエタン等を用いることができる。これらの中
でも、脂肪族炭化水素の使用が好ましく、ノナン、デカ
ン、アイソパーＧの使用がより好ましく、アイソパーＧ
の使用が特に好ましい
【００５６】また、これらの溶媒は単独で、あるいは２
種以上を混合して用いることができるが、混合溶媒を用
いる場合には、脂肪族飽和炭化水素と芳香族炭化水素溶
媒との混合溶媒の使用が好ましい。この場合において、
脂肪族飽和炭化水素の沸点は、これらの芳香族炭化水素
溶媒よりも高いことが望ましい。溶媒の使用量は、スル
ホン化剤に対して１〜２倍重量部、好ましくは１．５倍
重量部である。反応は、通常１４０〜２５０℃の範囲の
温度で撹拌することにより行われる。また、反応に用い
られる反応槽としては、ガラス製のあるいはＳＵＳ製の
反応槽等を用いることができるが、工業的に大量生産す
る場合においては、ＳＵＳ製の反応槽を用いるのが一般
的である。
種以上を混合して用いることができるが、混合溶媒を用
いる場合には、脂肪族飽和炭化水素と芳香族炭化水素溶
媒との混合溶媒の使用が好ましい。この場合において、
脂肪族飽和炭化水素の沸点は、これらの芳香族炭化水素
溶媒よりも高いことが望ましい。溶媒の使用量は、スル
ホン化剤に対して１〜２倍重量部、好ましくは１．５倍
重量部である。反応は、通常１４０〜２５０℃の範囲の
温度で撹拌することにより行われる。また、反応に用い
られる反応槽としては、ガラス製のあるいはＳＵＳ製の
反応槽等を用いることができるが、工業的に大量生産す
る場合においては、ＳＵＳ製の反応槽を用いるのが一般
的である。
【００５７】反応混合物中には、目的物である４，４’
−ジヒドロキシジフェニルスルホンの他、水、未反応の
フェノール、未反応のスルホン化剤、副生成物である
２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン及び反応溶
媒等が混在しているため、反応混合物を精製する工程を
設ける必要がある。
−ジヒドロキシジフェニルスルホンの他、水、未反応の
フェノール、未反応のスルホン化剤、副生成物である
２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン及び反応溶
媒等が混在しているため、反応混合物を精製する工程を
設ける必要がある。
【００５８】水及び未反応のフェノールは、反応中又は
反応終了後に反応混合物を加熱することにより留去でき
る。水及びフェノールを除いた反応混合物は、公知の方
法に準じて精製を行うことができる。精製方法として
は、例えば、（ｉ）反応混合物を水酸化ナトリウム等の
アルカリ水溶液に溶解させた後、硫酸等の酸を加えて酸
性にすることにより４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンを晶析させる方法（特開平２−２３５８７号公
報、特開平２−２８２３５８号公報等参照）、（ii）反
応混合物にアルコール及び水を加えて、アルコールと水
との混合層（以下、「アルコール性水層」という。）に
分離し、アルコール性水層のｐＨ調整を行い、アルコー
ル性水層を分取し、アルコール性水層から４，４’−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホンを晶析させる方法（特願
２０００−２７３０８４号参照）等が挙げられる。これ
らの方法の中でも、特に（ii）の方法が効率よく高純度
の４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを得るこ
とができるので好ましい。（ii）の方法については、後
により具体的に詳述する。
反応終了後に反応混合物を加熱することにより留去でき
る。水及びフェノールを除いた反応混合物は、公知の方
法に準じて精製を行うことができる。精製方法として
は、例えば、（ｉ）反応混合物を水酸化ナトリウム等の
アルカリ水溶液に溶解させた後、硫酸等の酸を加えて酸
性にすることにより４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンを晶析させる方法（特開平２−２３５８７号公
報、特開平２−２８２３５８号公報等参照）、（ii）反
応混合物にアルコール及び水を加えて、アルコールと水
との混合層（以下、「アルコール性水層」という。）に
分離し、アルコール性水層のｐＨ調整を行い、アルコー
ル性水層を分取し、アルコール性水層から４，４’−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホンを晶析させる方法（特願
２０００−２７３０８４号参照）等が挙げられる。これ
らの方法の中でも、特に（ii）の方法が効率よく高純度
の４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを得るこ
とができるので好ましい。（ii）の方法については、後
により具体的に詳述する。
【００５９】ところで、これら従来の精製方法をそのま
ま適用すると、精製工程において反応混合物が着色する
場合がある。これは、フェノールとスルホン化剤とを反
応させる工程において、反応容器として通常用いられる
ＳＵＳ製の反応槽から溶出したり、又は、反応混合物を
精製する工程において用いられる水（工業用水）に微量
含まれる鉄イオン、ニッケルイオン、クロムイオン等の
金属イオンが４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン等のフェノール化合物と結合して錯体を形成して、こ
れが反応液の着色の原因物質となるためと考えられる。
ま適用すると、精製工程において反応混合物が着色する
場合がある。これは、フェノールとスルホン化剤とを反
応させる工程において、反応容器として通常用いられる
ＳＵＳ製の反応槽から溶出したり、又は、反応混合物を
精製する工程において用いられる水（工業用水）に微量
含まれる鉄イオン、ニッケルイオン、クロムイオン等の
金属イオンが４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン等のフェノール化合物と結合して錯体を形成して、こ
れが反応液の着色の原因物質となるためと考えられる。
【００６０】そこで、本発明は、反応混合物を精製する
工程において、反応混合物にキレート剤を添加し、金属
イオンをキレート化して捕捉することにより、金属イオ
ンと４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン等のフ
ェノール化合物との錯体形成を阻止し、着色を防止する
こととした。
工程において、反応混合物にキレート剤を添加し、金属
イオンをキレート化して捕捉することにより、金属イオ
ンと４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン等のフ
ェノール化合物との錯体形成を阻止し、着色を防止する
こととした。
【００６１】用いられるキレート剤としては、金属イオ
ンに結合してキレートを生成する化合物であれば特に制
限はない。かかるキレート剤としては、アンモニア、ポ
リアミン、アミノ酸等のアミノ基含有化合物に、二硫化
炭素、ハロゲン化カルボン酸、ハロゲン化アルコール等
を反応させて得られる化合物；及びこれらの塩；ジチオ
カルバミン酸塩；ジメチルグリオキシム；ジチゾン；ビ
ピリジン；フェナントロリン；等が挙げられる。
ンに結合してキレートを生成する化合物であれば特に制
限はない。かかるキレート剤としては、アンモニア、ポ
リアミン、アミノ酸等のアミノ基含有化合物に、二硫化
炭素、ハロゲン化カルボン酸、ハロゲン化アルコール等
を反応させて得られる化合物；及びこれらの塩；ジチオ
カルバミン酸塩；ジメチルグリオキシム；ジチゾン；ビ
ピリジン；フェナントロリン；等が挙げられる。
【００６２】前記ポリアミンとしては、例えば、エチレ
ンジアミン、Ｎ−メチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−
ジメチルエチレンジアミン、１，２−ジアミノプロパ
ン、１，３−ジアミノプロパン、ジエチレントリアミ
ン、トリエチレンテトラミン、テトラメチレンペンタミ
ン、ペンタメチレンヘキサミン等が挙げられる。ハロゲ
ン化カルボン酸としては、例えば、モノクロロ酢酸、モ
ノブロモ酢酸、モノヨード酢酸、１−クロロプロピオン
酸、２−クロロプロピオン酸、１−ブロモプロピオン
酸、２−ブロモプロピオン酸等が挙げられる。また、ハ
ロゲン化アルコールとしては、例えば、１−クロロエタ
ノール、２−クロロエタノール、１−ブロモエタノー
ル、２−ブロモエタノール、１−クロロプロパノール、
２−クロロプロパノール、２−クロロイソプロパノー
ル、３−クロロプロパノール、１−ブロモプロパノー
ル、２−ブロモプロパノール、２−ブロモイソプロパノ
ール、３−ブロモプロパノール等が挙げられる。
ンジアミン、Ｎ−メチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−
ジメチルエチレンジアミン、１，２−ジアミノプロパ
ン、１，３−ジアミノプロパン、ジエチレントリアミ
ン、トリエチレンテトラミン、テトラメチレンペンタミ
ン、ペンタメチレンヘキサミン等が挙げられる。ハロゲ
ン化カルボン酸としては、例えば、モノクロロ酢酸、モ
ノブロモ酢酸、モノヨード酢酸、１−クロロプロピオン
酸、２−クロロプロピオン酸、１−ブロモプロピオン
酸、２−ブロモプロピオン酸等が挙げられる。また、ハ
ロゲン化アルコールとしては、例えば、１−クロロエタ
ノール、２−クロロエタノール、１−ブロモエタノー
ル、２−ブロモエタノール、１−クロロプロパノール、
２−クロロプロパノール、２−クロロイソプロパノー
ル、３−クロロプロパノール、１−ブロモプロパノー
ル、２−ブロモプロパノール、２−ブロモイソプロパノ
ール、３−ブロモプロパノール等が挙げられる。
【００６３】キレート剤の具体例としては、ジチオカル
バミン酸ナトリウム、ジチオカルバミン酸カリウム等の
ジチオカルバミン酸塩；エチレンジアミンテトラアセテ
ィックアシド（ＥＤＴＡ）、ヒドロキシエチルイミノジ
アセティックアシド（ＨＩＤＡ）、ニトリロトリアセテ
ィックアシド（ＮＴＡ）、ヒドロキシエチルエチレンジ
アミントリアセティックアシド（ＨＥＤＴＡ）、ジエチ
レントリアミンペンタアセティックアシド（ＤＴＨ
Ａ）、トリエチレンテトラアミンヘキサアセティックア
シド（ＴＴＨＡ）等のアミン類の酢酸誘導体及びこれら
酢酸誘導体の塩（例えば、ナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属塩；カルシウム、マグネシウム等のアルカリ
土類金属塩；アンモニウム塩等）；エタノールアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ’，Ｎ''’−トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）エチレンジアミン、ジヒドロキシエチルグリシン
（ＤＨＥＧ）等のエタノールアミン類；Ｎ，Ｎ’−ビス
（ジチオカルボキシ）エチレンジアミン ナトリウム
塩、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジチオカルボキシ）エチレンジア
ミンカリウム塩、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジチオカルボキシ）
トリメチレンジアミン ナトリウム塩、Ｎ，Ｎ’−ビス
（ジチオカルボキシ）トリメチレンジアミン カリウム
塩、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジチオカルボキシ）ジエチレント
リアミン ナトリウム塩、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジチオカル
ボキシ）ジエチレントリアミン カリウム塩、Ｎ，
Ｎ’，Ｎ''−トリス（ジチオカルボキシ）ジエチレント
リアミン ナトリウム塩、Ｎ，Ｎ’，Ｎ''−トリス（ジ
チオカルボキシ）ジエチレントリアミンカリウム塩、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ジチオカルボキシ）トリエチレンテト
ラミン ナトリウム塩、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジチオカルボ
キシ）トリエチレンテトラミン カリウム塩、Ｎ，
Ｎ’，Ｎ''−トリス（ジチオカルボキシ）トリエチレン
テトラミン ナトリウム塩、Ｎ，Ｎ’，Ｎ''−トリス
（ジチオカルボキシ）トリエチレンテトラミン カリウ
ム塩等のポリアミンのジチオカルバミン酸誘導体の塩；
ジメチルグリオキシム、ジチゾン、ビピリジン、フェナ
ントロリン等が挙げられる。
バミン酸ナトリウム、ジチオカルバミン酸カリウム等の
ジチオカルバミン酸塩；エチレンジアミンテトラアセテ
ィックアシド（ＥＤＴＡ）、ヒドロキシエチルイミノジ
アセティックアシド（ＨＩＤＡ）、ニトリロトリアセテ
ィックアシド（ＮＴＡ）、ヒドロキシエチルエチレンジ
アミントリアセティックアシド（ＨＥＤＴＡ）、ジエチ
レントリアミンペンタアセティックアシド（ＤＴＨ
Ａ）、トリエチレンテトラアミンヘキサアセティックア
シド（ＴＴＨＡ）等のアミン類の酢酸誘導体及びこれら
酢酸誘導体の塩（例えば、ナトリウム、カリウム等のア
ルカリ金属塩；カルシウム、マグネシウム等のアルカリ
土類金属塩；アンモニウム塩等）；エタノールアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ’，Ｎ''’−トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）エチレンジアミン、ジヒドロキシエチルグリシン
（ＤＨＥＧ）等のエタノールアミン類；Ｎ，Ｎ’−ビス
（ジチオカルボキシ）エチレンジアミン ナトリウム
塩、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジチオカルボキシ）エチレンジア
ミンカリウム塩、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジチオカルボキシ）
トリメチレンジアミン ナトリウム塩、Ｎ，Ｎ’−ビス
（ジチオカルボキシ）トリメチレンジアミン カリウム
塩、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジチオカルボキシ）ジエチレント
リアミン ナトリウム塩、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジチオカル
ボキシ）ジエチレントリアミン カリウム塩、Ｎ，
Ｎ’，Ｎ''−トリス（ジチオカルボキシ）ジエチレント
リアミン ナトリウム塩、Ｎ，Ｎ’，Ｎ''−トリス（ジ
チオカルボキシ）ジエチレントリアミンカリウム塩、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ジチオカルボキシ）トリエチレンテト
ラミン ナトリウム塩、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジチオカルボ
キシ）トリエチレンテトラミン カリウム塩、Ｎ，
Ｎ’，Ｎ''−トリス（ジチオカルボキシ）トリエチレン
テトラミン ナトリウム塩、Ｎ，Ｎ’，Ｎ''−トリス
（ジチオカルボキシ）トリエチレンテトラミン カリウ
ム塩等のポリアミンのジチオカルバミン酸誘導体の塩；
ジメチルグリオキシム、ジチゾン、ビピリジン、フェナ
ントロリン等が挙げられる。
【００６４】これらキレート剤の中でも、アンモニア又
はポリアミンにハロゲン化カルボン酸及び／又はハロゲ
ン化アルコールを反応させて得られるキレート剤；並び
にこれらの塩等の水溶性のキレートを形成するキレート
剤（水溶性キレート剤）が好ましく、入手容易性、取扱
い性等の観点からＥＤＴＡ又はその塩の使用が特に好ま
しい。
はポリアミンにハロゲン化カルボン酸及び／又はハロゲ
ン化アルコールを反応させて得られるキレート剤；並び
にこれらの塩等の水溶性のキレートを形成するキレート
剤（水溶性キレート剤）が好ましく、入手容易性、取扱
い性等の観点からＥＤＴＡ又はその塩の使用が特に好ま
しい。
【００６５】ＥＤＴＡの塩としては、例えば、ＥＤＴＡ
２ナトリウム塩、ＥＤＴＡ３ナトリウム塩、ＥＤＴＡ４
ナトリウム塩、ＥＤＴＡ２カリウム塩、ＥＤＴＡ３カリ
ウム塩、ＥＤＴＡ４カリウム塩、ＥＤＴＡカルシウム
塩、ＥＤＴＡ３カリウム塩、ＥＤＴＡジアンモニウム
塩、ＥＤＴＡマグネシウム ジカリウム塩等が挙げられ
る。反応混合物に水溶性キレート剤を添加する場合に
は、生成するキレートが水溶性であり、４，４’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンの結晶中に取り込まれるこ
とがなく、完全に脱色された目的物を得ることができ
る。
２ナトリウム塩、ＥＤＴＡ３ナトリウム塩、ＥＤＴＡ４
ナトリウム塩、ＥＤＴＡ２カリウム塩、ＥＤＴＡ３カリ
ウム塩、ＥＤＴＡ４カリウム塩、ＥＤＴＡカルシウム
塩、ＥＤＴＡ３カリウム塩、ＥＤＴＡジアンモニウム
塩、ＥＤＴＡマグネシウム ジカリウム塩等が挙げられ
る。反応混合物に水溶性キレート剤を添加する場合に
は、生成するキレートが水溶性であり、４，４’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンの結晶中に取り込まれるこ
とがなく、完全に脱色された目的物を得ることができ
る。
【００６６】キレート剤を添加する時期としては、前記
（ｉ）の場合には、４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンのアルカリ水溶液に酸を添加して４，４’−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホンを析出させる前の段階で
添加するのが好ましい。
（ｉ）の場合には、４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンのアルカリ水溶液に酸を添加して４，４’−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホンを析出させる前の段階で
添加するのが好ましい。
【００６７】また、前記（ii）の場合においては、反
応混合物から水とフェノールを留去した後、アルコール
及び水を加える前又はそれと同時、アルコール及び水
を加えた後、アルコール性水層を分取する前、アルコ
ール性水層を分取した後、アルコール性水層にアルカリ
を添加してｐＨ調整をする前、又はｐＨ調整した後、
のいずれかにおいてキレート剤を添加することができる
が、ｐＨ調整を行なった後にキレート剤を添加するの
が好ましい。
応混合物から水とフェノールを留去した後、アルコール
及び水を加える前又はそれと同時、アルコール及び水
を加えた後、アルコール性水層を分取する前、アルコ
ール性水層を分取した後、アルコール性水層にアルカリ
を添加してｐＨ調整をする前、又はｐＨ調整した後、
のいずれかにおいてキレート剤を添加することができる
が、ｐＨ調整を行なった後にキレート剤を添加するの
が好ましい。
【００６８】本発明においては、（ii）の方法を採用
し、アルコール性水層を分取した後、又はアルコール性
水層のｐＨ調整を行なった後にキレート剤を添加するの
が特に好ましい。キレート剤を添加する方法としては、
キレート剤を固体状態で反応混合物に添加する方法、キ
レート剤を水等の溶媒に溶解させて溶液を反応混合液に
添加する方法等が挙げられる。
し、アルコール性水層を分取した後、又はアルコール性
水層のｐＨ調整を行なった後にキレート剤を添加するの
が特に好ましい。キレート剤を添加する方法としては、
キレート剤を固体状態で反応混合物に添加する方法、キ
レート剤を水等の溶媒に溶解させて溶液を反応混合液に
添加する方法等が挙げられる。
【００６９】キレート剤の添加量は、反応混合物中に含
まれる鉄イオン、ニッケルイオン、クロムイオン等の金
属イオンの濃度によって適宜決定することができる。キ
レート剤の添加量があまりに少ないと、キレート剤添加
による着色防止効果が不十分となる。一方、キレート剤
の添加量が多すぎると、十分な着色防止効果を得ること
ができるものの、過剰のキレート剤が不純物として最終
の４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンに混入す
るおそれがある。したがって、キレート剤を添加する前
に、反応混合物中に含まれる金属イオン濃度を公知の方
法で測定した後、金属イオン濃度に見合う量のキレート
剤を添加するのが好ましい。キレート剤の添加量は、反
応混合物１００重量部に対して、通常０．０００１〜
０．５重量部、好ましくは０．００１〜０．１重量部の
範囲である。
まれる鉄イオン、ニッケルイオン、クロムイオン等の金
属イオンの濃度によって適宜決定することができる。キ
レート剤の添加量があまりに少ないと、キレート剤添加
による着色防止効果が不十分となる。一方、キレート剤
の添加量が多すぎると、十分な着色防止効果を得ること
ができるものの、過剰のキレート剤が不純物として最終
の４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンに混入す
るおそれがある。したがって、キレート剤を添加する前
に、反応混合物中に含まれる金属イオン濃度を公知の方
法で測定した後、金属イオン濃度に見合う量のキレート
剤を添加するのが好ましい。キレート剤の添加量は、反
応混合物１００重量部に対して、通常０．０００１〜
０．５重量部、好ましくは０．００１〜０．１重量部の
範囲である。
【００７０】本発明において、特に好ましいフェノール
とスルホン化剤との反応方法及び反応混合物の精製工程
は、下記の要領で行うものである。 （ステップ１）まず、フェノールと硫酸との混合物を、
水及び低級アルコールと相溶しない脂肪族炭化水素溶媒
中で１４０〜１８０℃で反応させる。次いで、反応混合
物から水及び未反応のフェノールを留去させる。 （ステップ２）ステップ１で得られた反応混合物に低級
アルコール及び水を加え、アルコール性水層と脂肪族飽
和炭化水素溶媒の層とに分液し、アルコール性水層を分
取する。ここで用いられる低級アルコールとしては、メ
タノール、エタノール、プロパノール等の炭素数１〜３
のアルコールが挙げられる。また、用いられる水は金属
イオンを含まない精製水であってもよいが、工業的に製
造する場合には、工業用水を用いることができる。
とスルホン化剤との反応方法及び反応混合物の精製工程
は、下記の要領で行うものである。 （ステップ１）まず、フェノールと硫酸との混合物を、
水及び低級アルコールと相溶しない脂肪族炭化水素溶媒
中で１４０〜１８０℃で反応させる。次いで、反応混合
物から水及び未反応のフェノールを留去させる。 （ステップ２）ステップ１で得られた反応混合物に低級
アルコール及び水を加え、アルコール性水層と脂肪族飽
和炭化水素溶媒の層とに分液し、アルコール性水層を分
取する。ここで用いられる低級アルコールとしては、メ
タノール、エタノール、プロパノール等の炭素数１〜３
のアルコールが挙げられる。また、用いられる水は金属
イオンを含まない精製水であってもよいが、工業的に製
造する場合には、工業用水を用いることができる。
【００７１】（ステップ３）得られたアルコール性水層
を水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリ水を滴下するこ
とによりｐＨを調整する。次いで、所定量のキレート剤
を添加し十分に撹拌する。なお、より確実な着色防止効
果を得るために、従来から行なわれていた活性炭処理を
キレート剤添加の前の段階で併用することもできる。
を水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリ水を滴下するこ
とによりｐＨを調整する。次いで、所定量のキレート剤
を添加し十分に撹拌する。なお、より確実な着色防止効
果を得るために、従来から行なわれていた活性炭処理を
キレート剤添加の前の段階で併用することもできる。
【００７２】（ステップ４）最後に、得られたアルコー
ル性水層を冷却することにより、着色のない高純度な
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを高収率で
得ることができる。なお、この場合においては、４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの溶解度を下げ
るために、アルコール性水層に適当量の水をさらに添加
することもできる。
ル性水層を冷却することにより、着色のない高純度な
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを高収率で
得ることができる。なお、この場合においては、４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの溶解度を下げ
るために、アルコール性水層に適当量の水をさらに添加
することもできる。
【００７３】（II）式（５）で表される４−置換ヒドロ
キシ−４’−ヒドロキシジフェニルスルホンの製造 前記式（５）で表される化合物（以下、「化合物
（５）」という。）は、４，４’−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンと式（６）：Ｒ９−Ａ１で表される化合物
（以下、「化合物（６）」という。）とを、溶媒中、ア
ルカリ存在下に反応させることで得ることができる（下
記反応式参照）。
キシ−４’−ヒドロキシジフェニルスルホンの製造 前記式（５）で表される化合物（以下、「化合物
（５）」という。）は、４，４’−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホンと式（６）：Ｒ９−Ａ１で表される化合物
（以下、「化合物（６）」という。）とを、溶媒中、ア
ルカリ存在下に反応させることで得ることができる（下
記反応式参照）。
【００７４】
【化１９】
【００７５】式中、Ｒ９は前記と同じ意味を表し、Ａ１
はハロゲン原子を表す。ハロゲン原子としては、例え
ば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられるが、
臭素原子が特に好ましい。化合物（６）の使用量は、
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン１モルに対
して、通常１〜３モル、好ましくは１〜１．５モルの範
囲である。
はハロゲン原子を表す。ハロゲン原子としては、例え
ば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられるが、
臭素原子が特に好ましい。化合物（６）の使用量は、
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン１モルに対
して、通常１〜３モル、好ましくは１〜１．５モルの範
囲である。
【００７６】用いられるアルカリとしては、例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸
化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアル
カリ土類金属水酸化物；炭酸カルシウム等のアルカリ金
属炭酸塩；等が挙げられる。これらの中でも、水酸化ナ
トリウム等のアルカリ金属水酸化物の使用が好ましい。
アルカリの使用量は、４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン１モルに対して、通常１〜５モル、好ましく
は１．５〜３モルの範囲である。
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸
化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアル
カリ土類金属水酸化物；炭酸カルシウム等のアルカリ金
属炭酸塩；等が挙げられる。これらの中でも、水酸化ナ
トリウム等のアルカリ金属水酸化物の使用が好ましい。
アルカリの使用量は、４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン１モルに対して、通常１〜５モル、好ましく
は１．５〜３モルの範囲である。
【００７７】用いられる溶媒としては、例えば、水、又
は水−トルエン、水−キシレン、水−ベンゼン等の２相
系混合溶媒等が挙げられるが、水又は水−トルエンの混
合溶媒の使用が好ましい。また、水を用いる場合、鉄イ
オン等の重金属イオンの含有量が少ない精製水を用いる
ことができるが、一般的に使用されている工業用水であ
ってもよい。溶媒の使用量は、４，４’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン１ｇに対して、通常、０．１〜１０
ｍｌの範囲である。
は水−トルエン、水−キシレン、水−ベンゼン等の２相
系混合溶媒等が挙げられるが、水又は水−トルエンの混
合溶媒の使用が好ましい。また、水を用いる場合、鉄イ
オン等の重金属イオンの含有量が少ない精製水を用いる
ことができるが、一般的に使用されている工業用水であ
ってもよい。溶媒の使用量は、４，４’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン１ｇに対して、通常、０．１〜１０
ｍｌの範囲である。
【００７８】用いられる反応槽としては、ガラス製の反
応槽やＳＵＳ製の反応槽等が挙げられるが、工業的に大
量生産する場合においては、ＳＵＳ製の反応槽を用いる
のが一般的である。反応方法としては、例えば、４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンのアルカリ塩の
溶液中に、化合物（６）を滴下させて行う方法が挙げら
れる。化合物（６）の滴下方法としては、所定量を連続
して滴下する方法、又は少量ずつを数回に分けて滴下す
る方法が挙げられる。反応は、通常、室温〜溶媒の沸
点、好ましくは４５〜６５℃の温度範囲で行われ、通
常、２０〜２５時間で終了する。
応槽やＳＵＳ製の反応槽等が挙げられるが、工業的に大
量生産する場合においては、ＳＵＳ製の反応槽を用いる
のが一般的である。反応方法としては、例えば、４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンのアルカリ塩の
溶液中に、化合物（６）を滴下させて行う方法が挙げら
れる。化合物（６）の滴下方法としては、所定量を連続
して滴下する方法、又は少量ずつを数回に分けて滴下す
る方法が挙げられる。反応は、通常、室温〜溶媒の沸
点、好ましくは４５〜６５℃の温度範囲で行われ、通
常、２０〜２５時間で終了する。
【００７９】この反応においては、反応が完全に進行せ
ず副反応も進行することから、通常、反応混合物には目
的物の他に、未反応の化合物（６）や未反応の４，４’
−ジヒドロキシジフェニルスルホン、副生成物である
４，４’−ジ置換ヒドロキシジフェニルスルホン等の不
純物が含まれている。したがって、反応混合物からこれ
らの不純物を除去する必要がある。
ず副反応も進行することから、通常、反応混合物には目
的物の他に、未反応の化合物（６）や未反応の４，４’
−ジヒドロキシジフェニルスルホン、副生成物である
４，４’−ジ置換ヒドロキシジフェニルスルホン等の不
純物が含まれている。したがって、反応混合物からこれ
らの不純物を除去する必要がある。
【００８０】反応混合物の精製工程は、主に、未反応
の化合物（６）の除去、副生成物である４，４’−ジ
置換ヒドロキシジフェニルスルホン等の除去、ｐＨ調
整による未反応の４，４’−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンの除去からなる。これらの操作の順序には特に制
限はないが、通常、、、の順序である。
の化合物（６）の除去、副生成物である４，４’−ジ
置換ヒドロキシジフェニルスルホン等の除去、ｐＨ調
整による未反応の４，４’−ジヒドロキシジフェニルス
ルホンの除去からなる。これらの操作の順序には特に制
限はないが、通常、、、の順序である。
【００８１】の未反応の化合物（６）の除去する方法
としては、例えば、反応終了後、反応液を加熱して化合
物（６）を蒸発留去させる方法が挙げられる。また、化
合物（６）を溶媒とともに共沸留去させることもでき
る。この場合には、反応混合物に、更に溶媒を適当量加
えてから行うのが好ましい。蒸発留去の操作は常圧で行
うことができるが、減圧下で行うこともできる。減圧下
で行う場合には、より低温で蒸発留去させることがで
き、化合物（６）の分解を抑制することができる。な
お、化合物（６）の除去は、該化合物の分解を最小限に
抑える観点から、反応終了後できるだけ速やかに行うの
が好ましい。また、回収した化合物（６）は、再度反応
に供することができる。
としては、例えば、反応終了後、反応液を加熱して化合
物（６）を蒸発留去させる方法が挙げられる。また、化
合物（６）を溶媒とともに共沸留去させることもでき
る。この場合には、反応混合物に、更に溶媒を適当量加
えてから行うのが好ましい。蒸発留去の操作は常圧で行
うことができるが、減圧下で行うこともできる。減圧下
で行う場合には、より低温で蒸発留去させることがで
き、化合物（６）の分解を抑制することができる。な
お、化合物（６）の除去は、該化合物の分解を最小限に
抑える観点から、反応終了後できるだけ速やかに行うの
が好ましい。また、回収した化合物（６）は、再度反応
に供することができる。
【００８２】の４，４’−ジ置換ヒドロキシジフェニ
ルスルホンを除去する方法としては、このものがアルカ
リ水に不溶である性質であることから、反応混合物をト
ルエン、キシレン、ベンゼン等の非水混和性溶媒で洗浄
する方法が挙げられる。洗浄は、目的物及び不純物等の
晶析を防止する観点から、晶析温度以上の温度、通常７
０〜９０℃の温度範囲で行うのが好ましい。
ルスルホンを除去する方法としては、このものがアルカ
リ水に不溶である性質であることから、反応混合物をト
ルエン、キシレン、ベンゼン等の非水混和性溶媒で洗浄
する方法が挙げられる。洗浄は、目的物及び不純物等の
晶析を防止する観点から、晶析温度以上の温度、通常７
０〜９０℃の温度範囲で行うのが好ましい。
【００８３】また、のｐＨ調整による未反応の４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを除去する方法
としては、例えば、反応混合物を所定のｐＨ値に調整し
た後、冷却することにより溶解度の差を利用して、目的
物である化合物（５）を優先的に晶析させる方法や、反
応液に非水混和性溶媒を添加して、有機層と水層の２相
系とした後、水層のｐＨ値を所定の値に調整して、目的
とする化合物（５）を有機層側へ、４，４’−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンを水層側へ分離する方法等が挙
げられる。これは、４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンと化合物（５）のフェノール性水酸基の酸性度
に差があることを利用したものである。本発明において
は、より確実な分離を実現して純度の高い目的物が得ら
れる観点から、後者の方法が好ましい。
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを除去する方法
としては、例えば、反応混合物を所定のｐＨ値に調整し
た後、冷却することにより溶解度の差を利用して、目的
物である化合物（５）を優先的に晶析させる方法や、反
応液に非水混和性溶媒を添加して、有機層と水層の２相
系とした後、水層のｐＨ値を所定の値に調整して、目的
とする化合物（５）を有機層側へ、４，４’−ジヒドロ
キシジフェニルスルホンを水層側へ分離する方法等が挙
げられる。これは、４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンと化合物（５）のフェノール性水酸基の酸性度
に差があることを利用したものである。本発明において
は、より確実な分離を実現して純度の高い目的物が得ら
れる観点から、後者の方法が好ましい。
【００８４】反応混合物のｐＨ値の調整は、例えば、反
応混合物に硫酸、硝酸、塩酸等の酸又は水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ水溶液を撹拌しながら
少量ずつ添加することにより行われる。ｐＨ値の調整
は、均一かつ正確に行う必要がある。また、アルカリ可
溶性の副生成物と目的物との分離を確実に達成するため
に、ｐＨ値の設定値を変化させて抽出する操作を複数回
繰り返して行うこともできる。非水混和性有機溶媒の使
用量は、通常、原料として用いた４，４’−ジヒドロキ
シジフェニルスルホン１ｇに対して、０．５〜５ｍｌの
範囲である。なお、反応混合物中の目的物質等の濃度が
高いために晶析のおそれがある場合は、ｐＨ値の調整の
前に、反応混合物に適当量の水を添加しておくのが好ま
しい。
応混合物に硫酸、硝酸、塩酸等の酸又は水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ水溶液を撹拌しながら
少量ずつ添加することにより行われる。ｐＨ値の調整
は、均一かつ正確に行う必要がある。また、アルカリ可
溶性の副生成物と目的物との分離を確実に達成するため
に、ｐＨ値の設定値を変化させて抽出する操作を複数回
繰り返して行うこともできる。非水混和性有機溶媒の使
用量は、通常、原料として用いた４，４’−ジヒドロキ
シジフェニルスルホン１ｇに対して、０．５〜５ｍｌの
範囲である。なお、反応混合物中の目的物質等の濃度が
高いために晶析のおそれがある場合は、ｐＨ値の調整の
前に、反応混合物に適当量の水を添加しておくのが好ま
しい。
【００８５】ところで、これら従来の精製方法をそのま
ま適用すると、精製工程において反応混合物が着色する
ことがある。これは、４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンと式（６）で表される化合物とを反応させる
工程において、反応容器として通常用いられるＳＵＳ製
の反応容器から溶出したり、又は、反応混合物を精製す
る工程において用いられる水（工業用水）に微量含まれ
る鉄イオン、ニッケルイオン、クロムイオン等の金属イ
オンが、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン等
のフェノール化合物と結合して錯体を形成して、これが
反応液の着色の原因物質となるためと考えられる。一旦
着色すると、その後精製を繰り返しても脱色するのが困
難である、また、式（５）で表される化合物は主に顕色
剤として用いられるものであるから、着色があると実用
上問題となる。そこで、本発明では、反応混合物を精製
する工程において、反応混合物にキレート剤を添加し、
金属イオンをキレート化して捕捉することにより、着色
を防止することとした。
ま適用すると、精製工程において反応混合物が着色する
ことがある。これは、４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンと式（６）で表される化合物とを反応させる
工程において、反応容器として通常用いられるＳＵＳ製
の反応容器から溶出したり、又は、反応混合物を精製す
る工程において用いられる水（工業用水）に微量含まれ
る鉄イオン、ニッケルイオン、クロムイオン等の金属イ
オンが、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン等
のフェノール化合物と結合して錯体を形成して、これが
反応液の着色の原因物質となるためと考えられる。一旦
着色すると、その後精製を繰り返しても脱色するのが困
難である、また、式（５）で表される化合物は主に顕色
剤として用いられるものであるから、着色があると実用
上問題となる。そこで、本発明では、反応混合物を精製
する工程において、反応混合物にキレート剤を添加し、
金属イオンをキレート化して捕捉することにより、着色
を防止することとした。
【００８６】用いられるキレート剤としては、金属イオ
ンに結合してキレートを生成する化合物であれば特に制
限はない。その具体例としては、前記（Ｉ）の製造方法
で例示したものと同様なものを用いることができる。本
発明においては、水中の金属イオンをキレート化して水
溶性のキレートを形成し、分離も容易である観点から、
水溶性のキレートを形成するキレート剤を用いるのが特
に好ましい。
ンに結合してキレートを生成する化合物であれば特に制
限はない。その具体例としては、前記（Ｉ）の製造方法
で例示したものと同様なものを用いることができる。本
発明においては、水中の金属イオンをキレート化して水
溶性のキレートを形成し、分離も容易である観点から、
水溶性のキレートを形成するキレート剤を用いるのが特
に好ましい。
【００８７】キレート剤を添加する時期は、（ａ）反応
終了後、未反応の化合物（６）を除去する前、（ｂ）化
合物（６）を除去した後、４，４’−ジ置換ヒドロキシ
ジフェニルスルホンを除去する前、（ｃ）４，４’−ジ
置換ヒドロキシジフェニルスルホンを除去した後、ｐＨ
調整による未反応の４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンを除去する前、（ｄ）ｐＨ調整による未反応の
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを除去した
後のいずれかの段階で添加することができる。これらの
中でも、（ｄ）のｐＨ調整による未反応の４，４’−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホンを除去した後に添加する
のがより好ましい。反応混合物に水を加える際に水溶性
キレート剤を同時に添加すると、水中の金属イオンをキ
レート化して水溶性のキレートを形成し、分離も容易と
なるので特に好ましい。また、キレート剤の添加は必要
に応じて複数回に分けて行うこともできる。キレート剤
の添加量は、前述した前記（Ｉ）の製造の場合と同様の
添加量でよい。
終了後、未反応の化合物（６）を除去する前、（ｂ）化
合物（６）を除去した後、４，４’−ジ置換ヒドロキシ
ジフェニルスルホンを除去する前、（ｃ）４，４’−ジ
置換ヒドロキシジフェニルスルホンを除去した後、ｐＨ
調整による未反応の４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンを除去する前、（ｄ）ｐＨ調整による未反応の
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを除去した
後のいずれかの段階で添加することができる。これらの
中でも、（ｄ）のｐＨ調整による未反応の４，４’−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホンを除去した後に添加する
のがより好ましい。反応混合物に水を加える際に水溶性
キレート剤を同時に添加すると、水中の金属イオンをキ
レート化して水溶性のキレートを形成し、分離も容易と
なるので特に好ましい。また、キレート剤の添加は必要
に応じて複数回に分けて行うこともできる。キレート剤
の添加量は、前述した前記（Ｉ）の製造の場合と同様の
添加量でよい。
【００８８】最後に、得られた有機層を冷却して晶析さ
せ、析出結晶をろ取し、水洗及び乾燥することにより、
着色のない４−置換ヒドロキシ−４’−ヒドロキシジフ
ェニルスルホンを高純度かつ収率よく得ることができ
る。
せ、析出結晶をろ取し、水洗及び乾燥することにより、
着色のない４−置換ヒドロキシ−４’−ヒドロキシジフ
ェニルスルホンを高純度かつ収率よく得ることができ
る。
【００８９】（III）式（７）で表される化合物の製造 式（７）で表される化合物（以下、「化合物（７）」と
いう。）は、例えば、特開平１０−２９９６９号公報の
記載の方法に準じて製造することができる。具体的に
は、次の反応式で示す方法で行うことができる。
いう。）は、例えば、特開平１０−２９９６９号公報の
記載の方法に準じて製造することができる。具体的に
は、次の反応式で示す方法で行うことができる。
【００９０】
【化２０】
【００９１】（式中、Ｒ１〜Ｒ６、Ａ２〜Ａ５、ａ、
ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、ｔ、Ｘ及びＹは、前記と同じ意味
を表す。） 出発原料としては、入手容易性及び汎用性の観点から
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン若しくはそ
の誘導体又は２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン若しくはその誘導体が好ましい。
ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、ｔ、Ｘ及びＹは、前記と同じ意味
を表す。） 出発原料としては、入手容易性及び汎用性の観点から
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン若しくはそ
の誘導体又は２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン若しくはその誘導体が好ましい。
【００９２】式（８）及び式（９）中、Ａ２〜Ａ５は、
それぞれ独立して、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハ
ロゲン原子を表す。これらの中でも、Ａ２とＡ３、及び
Ａ４とＡ５の間で反応性に差をもたせて、反応を制御で
きる観点から、Ａ２とＡ３、及びＡ４とＡ５は、例えば
塩素原子と臭素原子等のように異なるハロゲン原子であ
るのが好ましい。
それぞれ独立して、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハ
ロゲン原子を表す。これらの中でも、Ａ２とＡ３、及び
Ａ４とＡ５の間で反応性に差をもたせて、反応を制御で
きる観点から、Ａ２とＡ３、及びＡ４とＡ５は、例えば
塩素原子と臭素原子等のように異なるハロゲン原子であ
るのが好ましい。
【００９３】式（８）及び（９）で表される化合物とし
ては、例えば、以下のものが挙げられる。１）Ｘ及び／
又はＹが置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ１２の飽和炭化
水素基である化合物；ジクロロメタン、ジブロモメタ
ン、ブロモクロロメタン、ジヨードメタン、１，２−ジ
クロロエタン、１，２−ジブロモエタン、１，２−ジヨ
ードエタン、１−ブロモ−２−ヨードエタン、１−ブロ
モ−２−クロロエタン、１−ブロモ−３−クロロプロパ
ン、１−ブロモ−２−クロロプロパン、１，３−ジクロ
ロプロパン、１，３−ジブロモプロパン、１，３−ジヨ
ードプロパン、１−ブロモ−３−ヨードプロパン、１−
クロロ−３−ヨードプロパン、１−クロロ−４−ブロモ
ブタン、１，４−ジクロロブタン、１，４−ジブロモブ
タン、１−ブロモ−４−ヨードブタン、１−クロロ−３
−ブロモブタン、１−クロロ−５−ブロモペンタン、
１，５−ジクロロペンタン、１，５−ジブロモペンタ
ン、１−ブロモ−５−ヨードペンタン、１−クロロ−４
−ブロモペンタン、１−クロロ−３−ブロモペンタン、
１−クロロ−６−ブロモヘキサン、１−クロロ−５−ブ
ロモヘキサン、１，６−ジクロロヘキサン、１，６−ジ
ブロモヘキサン、１−ブロモ−６−ヨードヘキサン、１
−クロロ−４−ブロモヘキサン、１−クロロ−３−ブロ
モヘキサン、１−クロロ−７−ブロモヘプタン、１，７
−ジクロロヘプタン、１，７−ジブロモヘプタン、１−
クロロ−８−ブロモオクタン、１，６−ジクロロオクタ
ン、１，８−ジブロモオクタン、１−クロロ−９−ブロ
モノナン、１，９−ジクロロノナン、１，９−ジブロモ
ノナン、１−クロロ−１０−ブロモデカン、１，１０−
ジクロロデカン、１，１０−ジブロモデカン、２，２−
ジクロロプロパン、２，２−ジブロモプロパン、２−ブ
ロモ−４−クロロブタン
ては、例えば、以下のものが挙げられる。１）Ｘ及び／
又はＹが置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ１２の飽和炭化
水素基である化合物；ジクロロメタン、ジブロモメタ
ン、ブロモクロロメタン、ジヨードメタン、１，２−ジ
クロロエタン、１，２−ジブロモエタン、１，２−ジヨ
ードエタン、１−ブロモ−２−ヨードエタン、１−ブロ
モ−２−クロロエタン、１−ブロモ−３−クロロプロパ
ン、１−ブロモ−２−クロロプロパン、１，３−ジクロ
ロプロパン、１，３−ジブロモプロパン、１，３−ジヨ
ードプロパン、１−ブロモ−３−ヨードプロパン、１−
クロロ−３−ヨードプロパン、１−クロロ−４−ブロモ
ブタン、１，４−ジクロロブタン、１，４−ジブロモブ
タン、１−ブロモ−４−ヨードブタン、１−クロロ−３
−ブロモブタン、１−クロロ−５−ブロモペンタン、
１，５−ジクロロペンタン、１，５−ジブロモペンタ
ン、１−ブロモ−５−ヨードペンタン、１−クロロ−４
−ブロモペンタン、１−クロロ−３−ブロモペンタン、
１−クロロ−６−ブロモヘキサン、１−クロロ−５−ブ
ロモヘキサン、１，６−ジクロロヘキサン、１，６−ジ
ブロモヘキサン、１−ブロモ−６−ヨードヘキサン、１
−クロロ−４−ブロモヘキサン、１−クロロ−３−ブロ
モヘキサン、１−クロロ−７−ブロモヘプタン、１，７
−ジクロロヘプタン、１，７−ジブロモヘプタン、１−
クロロ−８−ブロモオクタン、１，６−ジクロロオクタ
ン、１，８−ジブロモオクタン、１−クロロ−９−ブロ
モノナン、１，９−ジクロロノナン、１，９−ジブロモ
ノナン、１−クロロ−１０−ブロモデカン、１，１０−
ジクロロデカン、１，１０−ジブロモデカン、２，２−
ジクロロプロパン、２，２−ジブロモプロパン、２−ブ
ロモ−４−クロロブタン
【００９４】２）Ｘ及び／又はＹが置換基を有してもよ
いＣ１〜Ｃ１２の不飽和炭化水素基である化合物；１，
２−ジクロロエチレン、１−ブロモ−２−クロロエチレ
ン、１，２−ジブロモエチレン、１−ブロモ−３−クロ
ロプロパン−１−エン、１−クロロ−３−ブロモプロパ
ン−１−エン、１，３−ジクロロプロパン−１−エン、
１，３−ジブロモプロパン−１−エン、２−ブロモ−３
−クロロプロパン−１−エン、２，３−ジクロロプロパ
ン−１−エン、２，３−ジブロモプロパン−１−エン、
１−ブロモ−４−クロロブタン−１−エン、１−ブロモ
−４−クロロブタン−２−エン、１，４−ジブロモブタ
ン−１−エン、１，４−ジクロロブタン−１−エン、
１，４−ジブロモブタン−２−エン、１−ブロモ−４−
クロロブタン−１，３−ジエン、１，４−ジブロモブタ
ン−１，３−ジエン等の炭素２重結合を有する化合物；
ブロモメチルクロロメチルアセチレン、ビス（ブロモメ
チル）アセチレン、ビス（クロロメチル）アセチレン、
２−ブロモエチル−２’−クロロエチルアセチレン、ビ
ス（２−ブロモエチル）アセチレン、ビス（２−クロロ
エチル）アセチレン等の３重結合を有する化合物
いＣ１〜Ｃ１２の不飽和炭化水素基である化合物；１，
２−ジクロロエチレン、１−ブロモ−２−クロロエチレ
ン、１，２−ジブロモエチレン、１−ブロモ−３−クロ
ロプロパン−１−エン、１−クロロ−３−ブロモプロパ
ン−１−エン、１，３−ジクロロプロパン−１−エン、
１，３−ジブロモプロパン−１−エン、２−ブロモ−３
−クロロプロパン−１−エン、２，３−ジクロロプロパ
ン−１−エン、２，３−ジブロモプロパン−１−エン、
１−ブロモ−４−クロロブタン−１−エン、１−ブロモ
−４−クロロブタン−２−エン、１，４−ジブロモブタ
ン−１−エン、１，４−ジクロロブタン−１−エン、
１，４−ジブロモブタン−２−エン、１−ブロモ−４−
クロロブタン−１，３−ジエン、１，４−ジブロモブタ
ン−１，３−ジエン等の炭素２重結合を有する化合物；
ブロモメチルクロロメチルアセチレン、ビス（ブロモメ
チル）アセチレン、ビス（クロロメチル）アセチレン、
２−ブロモエチル−２’−クロロエチルアセチレン、ビ
ス（２−ブロモエチル）アセチレン、ビス（２−クロロ
エチル）アセチレン等の３重結合を有する化合物
【００９５】３）Ｘ及び／又はＹがエーテル結合を有す
るＣ１〜Ｃ１２の飽和若しくは不飽和炭化水素である化
合物；ビス（クロロメチル）エーテル、ビス（ブロモメ
チル）エーテル、ブロモメチルクロロメチルエーテル、
２−ブロモメチルークロロメチルエーテル、２−クロロ
メチルブロモメチルエーテル、２−ブロモエチル−２’
−クロロエチルエーテル、ビス（２−ブロモエチル）エ
ーテル、ビス（２−クロロメチル）エーテル、３−ブロ
モプロピル−３’−クロロプロピルエーテル、ビス（３
−ブロモプロピル）エーテル、ビス（３−クロロプロピ
ル）エーテル、３−ブロモメチル−２’−クロロエチル
エーテル、３−クロロプロピル−２’−ブロモエチルエ
ーテル、３−ブロモプロピル−２’−ブロモエチルエー
テル、３−クロロプロピル−２’−クロロエチルエーテ
ル、３−ブロモプロピルクロロメチルエーテル、３−ブ
ロモプロピルブロモメチルエーテル、２−ブロモプロピ
ル−３−クロロプロピルエーテル、４−ブロモブチル−
４’−クロロブチルエーテル、ビス（４−ブロモブチ
ル）エーテル、５−ブロモペンチル−５’−クロロペン
チルエーテル、ビス（５−ブロモペンチル）エーテル、
２−（２’−ブロモエトキシ）エチル−２−（２’−ク
ロロエトキシ）エチルエーテル、ブロモメトキシメチル
クロロメトキシメチルエーテル、ビス（ブロモメトキシ
メチル）エーテル、２−（ブロモメトキシ）エチル−
２’−（クロロメトキシ）エチルエーテル、ビス（２−
ブロモメトキシエチル）エーテル、２−（２’−ブロモ
エトキシ）エチル−２”−（２”’−クロロエトキシ）
エチルエーテル、ビス[２−（２’−ブロモエトキシ）
エチル]エーテル、２−（２’−ブロモエトキシ）エチ
ル−２−（２’−クロロエトキシ）エチルエーテル、ビ
ス（クロロメチル）−１，３−ジオキソラン、ビス（ク
ロロメチル）−１，３−ジオキサン
るＣ１〜Ｃ１２の飽和若しくは不飽和炭化水素である化
合物；ビス（クロロメチル）エーテル、ビス（ブロモメ
チル）エーテル、ブロモメチルクロロメチルエーテル、
２−ブロモメチルークロロメチルエーテル、２−クロロ
メチルブロモメチルエーテル、２−ブロモエチル−２’
−クロロエチルエーテル、ビス（２−ブロモエチル）エ
ーテル、ビス（２−クロロメチル）エーテル、３−ブロ
モプロピル−３’−クロロプロピルエーテル、ビス（３
−ブロモプロピル）エーテル、ビス（３−クロロプロピ
ル）エーテル、３−ブロモメチル−２’−クロロエチル
エーテル、３−クロロプロピル−２’−ブロモエチルエ
ーテル、３−ブロモプロピル−２’−ブロモエチルエー
テル、３−クロロプロピル−２’−クロロエチルエーテ
ル、３−ブロモプロピルクロロメチルエーテル、３−ブ
ロモプロピルブロモメチルエーテル、２−ブロモプロピ
ル−３−クロロプロピルエーテル、４−ブロモブチル−
４’−クロロブチルエーテル、ビス（４−ブロモブチ
ル）エーテル、５−ブロモペンチル−５’−クロロペン
チルエーテル、ビス（５−ブロモペンチル）エーテル、
２−（２’−ブロモエトキシ）エチル−２−（２’−ク
ロロエトキシ）エチルエーテル、ブロモメトキシメチル
クロロメトキシメチルエーテル、ビス（ブロモメトキシ
メチル）エーテル、２−（ブロモメトキシ）エチル−
２’−（クロロメトキシ）エチルエーテル、ビス（２−
ブロモメトキシエチル）エーテル、２−（２’−ブロモ
エトキシ）エチル−２”−（２”’−クロロエトキシ）
エチルエーテル、ビス[２−（２’−ブロモエトキシ）
エチル]エーテル、２−（２’−ブロモエトキシ）エチ
ル−２−（２’−クロロエトキシ）エチルエーテル、ビ
ス（クロロメチル）−１，３−ジオキソラン、ビス（ク
ロロメチル）−１，３−ジオキサン
【００９６】４）Ｘ及び／又はＹが前記式（３）で表さ
れる基である化合物；α，α'−ジクロロ−ｏ−キシレ
ン、α，α'−ジクロロ−ｍ−キシレン、α，α'−ジク
ロロ−ｐ−キシレン、α，α'−ジブロモ−ｏ−キシレ
ン、α，α'−ジブロモ−ｍ−キシレン、α，α'−ジブ
ロモ−ｐ−キシレン、α，α'−ジヨード−ｏ−キシレ
ン、α，α'−ジヨード−ｍ−キシレン、α，α'−ジヨ
ード−ｐ−キシレン、α−クロロ−α'−ブロモ−ｏ−
キシレン、α−クロロ−α'−ブロモ−ｍ−キシレン、
α−クロロ−α'−ブロモ−ｐ−キシレン、α−クロロ
−α'−ヨード−ｏ−キシレン、α−クロロ−α'−ヨー
ド−ｍ−キシレン、α−クロロ−α'−ヨード−ｐ−キ
シレン、α−ブロモ−α'−ヨード−ｏ−キシレン、α
−ブロモ−α'−ヨード−ｍ−キシレン、α−ブロモ−
α'−ヨード−ｐ−キシレン
れる基である化合物；α，α'−ジクロロ−ｏ−キシレ
ン、α，α'−ジクロロ−ｍ−キシレン、α，α'−ジク
ロロ−ｐ−キシレン、α，α'−ジブロモ−ｏ−キシレ
ン、α，α'−ジブロモ−ｍ−キシレン、α，α'−ジブ
ロモ−ｐ−キシレン、α，α'−ジヨード−ｏ−キシレ
ン、α，α'−ジヨード−ｍ−キシレン、α，α'−ジヨ
ード−ｐ−キシレン、α−クロロ−α'−ブロモ−ｏ−
キシレン、α−クロロ−α'−ブロモ−ｍ−キシレン、
α−クロロ−α'−ブロモ−ｐ−キシレン、α−クロロ
−α'−ヨード−ｏ−キシレン、α−クロロ−α'−ヨー
ド−ｍ−キシレン、α−クロロ−α'−ヨード−ｐ−キ
シレン、α−ブロモ−α'−ヨード−ｏ−キシレン、α
−ブロモ−α'−ヨード−ｍ−キシレン、α−ブロモ−
α'−ヨード−ｐ−キシレン
【００９７】５）Ｘ及び／又はＹが式（４）で表される
基である化合物；１−ブロモ−３−クロロ−２−プロパ
ノール、１−ブロモ−４−クロロ−３−ブタノール、２
−ブロモ−４−クロロ−３−ペンタノール、１−ブロモ
−４−クロロ−３−ペンタノール、１−ブロモ−２−メ
チル−４−クロロ−２−ブタノール、１−ブロモメチル
−１−クロロメチル−１−ブタノール、１−ブロモメチ
ル−１−クロロメチル−１−プロパノール、１−ブロモ
メチル−１−クロロメチル−１−イソブタノール
基である化合物；１−ブロモ−３−クロロ−２−プロパ
ノール、１−ブロモ−４−クロロ−３−ブタノール、２
−ブロモ−４−クロロ−３−ペンタノール、１−ブロモ
−４−クロロ−３−ペンタノール、１−ブロモ−２−メ
チル−４−クロロ−２−ブタノール、１−ブロモメチル
−１−クロロメチル−１−ブタノール、１−ブロモメチ
ル−１−クロロメチル−１−プロパノール、１−ブロモ
メチル−１−クロロメチル−１−イソブタノール
【００９８】反応は、アルカリの存在下、水、極性有機
溶媒又は水−非水混和性有機溶媒の二層系のいずれかで
行うのが好ましい。水混和性有機溶媒としては、例え
ば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３
−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶
媒；テトラヒドロフラン；アセトン；ジメチルスルホキ
シド；等が挙げられる。また、非水混和性有機溶媒とし
ては、例えば、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；ジエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロ
ヘキサノン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸プロピ
ル等のエステル系溶媒；ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル等のエーテル系溶媒；等が挙げられる。こ
れらの中でも、アセトン、ＭＩＢＫ等のケトン系溶媒；
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−アセタミド等
のアミド系溶媒；テトラヒドロフラン；等の水混和性又
は非水混和性極性有機溶媒の使用が好ましい。
溶媒又は水−非水混和性有機溶媒の二層系のいずれかで
行うのが好ましい。水混和性有機溶媒としては、例え
ば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３
−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶
媒；テトラヒドロフラン；アセトン；ジメチルスルホキ
シド；等が挙げられる。また、非水混和性有機溶媒とし
ては、例えば、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒；ジエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロ
ヘキサノン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸プロピ
ル等のエステル系溶媒；ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル等のエーテル系溶媒；等が挙げられる。こ
れらの中でも、アセトン、ＭＩＢＫ等のケトン系溶媒；
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−アセタミド等
のアミド系溶媒；テトラヒドロフラン；等の水混和性又
は非水混和性極性有機溶媒の使用が好ましい。
【００９９】用いられるアルカリとしては、例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸
化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアル
カリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸マグネシウム、炭酸カル
シウム等のアルカリ土類金属炭酸塩；が挙げられる。こ
れらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸
化物の使用が好ましい。反応温度は、通常−２０℃〜１
５０℃、好ましくは３０℃〜１２０℃の範囲であり、反
応時間は数時間〜十数時間である。
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸
化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアル
カリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸マグネシウム、炭酸カル
シウム等のアルカリ土類金属炭酸塩；が挙げられる。こ
れらの中でも、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸
化物の使用が好ましい。反応温度は、通常−２０℃〜１
５０℃、好ましくは３０℃〜１２０℃の範囲であり、反
応時間は数時間〜十数時間である。
【０１００】次に、上記で得られた反応混合物を精製す
る工程について説明する。反応混合物中には、目的物で
ある化合物（７）の他に未反応の４，４’−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンや副生成物等の不純物が含まれて
いる。したがって、反応混合物からこれらの不純物を除
去する必要がある。
る工程について説明する。反応混合物中には、目的物で
ある化合物（７）の他に未反応の４，４’−ジヒドロキ
シジフェニルスルホンや副生成物等の不純物が含まれて
いる。したがって、反応混合物からこれらの不純物を除
去する必要がある。
【０１０１】反応混合物の精製方法は、不純物を除去で
きる方法であれば特に制限はないが、ｐＨ調整により化
合物（７）と不純物とを分離する方法が簡便である。か
かるｐＨ調整による方法としては、例えば、反応混合物
に水又は水−アルコール溶媒を添加した後、反応混合物
を所定のｐＨ値に調整し、冷却することにより溶解度の
差を利用して化合物（７）を優先的に析出させる方法が
挙げられる。ここで用いられるアルコールとしては、例
えば、メタノール、エタノール、プロパノール等の低級
アルコールが挙げられる。水又は水−アルコール溶媒の
使用量は、反応混合物に対して、１〜５倍重量部であ
る。
きる方法であれば特に制限はないが、ｐＨ調整により化
合物（７）と不純物とを分離する方法が簡便である。か
かるｐＨ調整による方法としては、例えば、反応混合物
に水又は水−アルコール溶媒を添加した後、反応混合物
を所定のｐＨ値に調整し、冷却することにより溶解度の
差を利用して化合物（７）を優先的に析出させる方法が
挙げられる。ここで用いられるアルコールとしては、例
えば、メタノール、エタノール、プロパノール等の低級
アルコールが挙げられる。水又は水−アルコール溶媒の
使用量は、反応混合物に対して、１〜５倍重量部であ
る。
【０１０２】反応混合物のｐＨ値の調整は、例えば、反
応混合物に硫酸、硝酸、塩酸等の酸又は水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ水溶液を撹拌しなが
ら、少量ずつ添加することにより行われる。ｐＨ値の調
整は均一かつ正確に行う必要がある。また、分離を確実
に達成するために、ｐＨ値の設定値を変化させて抽出す
る操作を複数回繰り返して行うこともできる。
応混合物に硫酸、硝酸、塩酸等の酸又は水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ水溶液を撹拌しなが
ら、少量ずつ添加することにより行われる。ｐＨ値の調
整は均一かつ正確に行う必要がある。また、分離を確実
に達成するために、ｐＨ値の設定値を変化させて抽出す
る操作を複数回繰り返して行うこともできる。
【０１０３】ところで、化合物（７）の生成反応におい
て、反応槽としてＳＵＳ製の反応槽や溶媒として工業用
水を用いる場合、反応混合物には微量の鉄イオン、ニッ
ケルイオン、クロムイオン等の金属イオンが混入してい
ることがある。これらの金属イオンは、化合物（７）等
のフェノール化合物と結合して金属錯体を形成して、反
応混合物の着色の原因物質となる。
て、反応槽としてＳＵＳ製の反応槽や溶媒として工業用
水を用いる場合、反応混合物には微量の鉄イオン、ニッ
ケルイオン、クロムイオン等の金属イオンが混入してい
ることがある。これらの金属イオンは、化合物（７）等
のフェノール化合物と結合して金属錯体を形成して、反
応混合物の着色の原因物質となる。
【０１０４】そこで、本発明は、このような反応混合物
を精製する工程において、反応混合物にキレート剤を添
加し、金属イオンをキレート化して捕捉することによ
り、金属イオンと化合物（７）等のフェノール化合物と
の錯体形成を阻止し、着色を防止することとした。
を精製する工程において、反応混合物にキレート剤を添
加し、金属イオンをキレート化して捕捉することによ
り、金属イオンと化合物（７）等のフェノール化合物と
の錯体形成を阻止し、着色を防止することとした。
【０１０５】用いられるキレート剤としては、金属イオ
ンに結合してキレートを生成する化合物であれば特に制
限はない。その具体例としては、前記（Ｉ）の製造方法
で例示したものと同様なものを用いることができる。キ
レート剤は、例えば、（ａ）反応終了後、反応混合物に
水又は水−アルコール溶媒等を添加する前、（ｂ）反応
混合物に水又は水−アルコール溶媒等を添加した後、
（ｃ）ｐＨ調整する前、（ｄ）ｐＨ調整した後のいずれ
かにおいて添加することができるが、（ｂ）の反応混合
物に水又は水−アルコール溶媒等を添加した後〜（ｄ）
のｐＨ調整した後のいずれかにおいて添加するのが好ま
しい。また、反応混合物に水を加える際に水溶性キレー
ト剤を同時に添加すると、水中の金属イオンをキレート
化して水溶性のキレートを形成し、分離も容易となるの
で好ましい。なお、キレート剤の添加は複数回に分けて
行うこともできる。キレート剤の添加量は、前述した前
記（Ｉ）の製造の場合と同様である。
ンに結合してキレートを生成する化合物であれば特に制
限はない。その具体例としては、前記（Ｉ）の製造方法
で例示したものと同様なものを用いることができる。キ
レート剤は、例えば、（ａ）反応終了後、反応混合物に
水又は水−アルコール溶媒等を添加する前、（ｂ）反応
混合物に水又は水−アルコール溶媒等を添加した後、
（ｃ）ｐＨ調整する前、（ｄ）ｐＨ調整した後のいずれ
かにおいて添加することができるが、（ｂ）の反応混合
物に水又は水−アルコール溶媒等を添加した後〜（ｄ）
のｐＨ調整した後のいずれかにおいて添加するのが好ま
しい。また、反応混合物に水を加える際に水溶性キレー
ト剤を同時に添加すると、水中の金属イオンをキレート
化して水溶性のキレートを形成し、分離も容易となるの
で好ましい。なお、キレート剤の添加は複数回に分けて
行うこともできる。キレート剤の添加量は、前述した前
記（Ｉ）の製造の場合と同様である。
【０１０６】最後に、析出結晶をろ取し、水又は水−ア
ルコール溶媒で洗浄、乾燥することにより、着色のない
化合物（７）を高純度かつ収率よく得ることができる。
ルコール溶媒で洗浄、乾燥することにより、着色のない
化合物（７）を高純度かつ収率よく得ることができる。
【０１０７】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。本発明は下記の実施例に限定されることなく、本
発明の主旨を逸脱しない範囲で、ジフェニルスルホン化
合物、添加するキレート剤、使用する溶媒の種類等を自
由に変更することができる。なお、実施例及び比較例に
おいては、溶媒として一般的に使用されている工業用水
を用いた。 （実施例１）４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンの製造
する。本発明は下記の実施例に限定されることなく、本
発明の主旨を逸脱しない範囲で、ジフェニルスルホン化
合物、添加するキレート剤、使用する溶媒の種類等を自
由に変更することができる。なお、実施例及び比較例に
おいては、溶媒として一般的に使用されている工業用水
を用いた。 （実施例１）４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンの製造
【０１０８】
【化２１】
【０１０９】撹拌機、温度計、水分離管を備えた５００
ｍｌの４口フラスコに、フェノール１３１．６ｇ（１．
４ｍｏｌ）のアイソパーＧ ７０ｍｌ溶液を仕込み、そ
の溶液を撹拌しながら、９５％硫酸７２．２ｇ（０．７
ｍｏｌ）を５０℃で滴下した。滴下終了後、反応混合物
を撹拌しながら反応系を徐々に昇温させた。１４４℃付
近から反応物の留出が始まり、この留分は水分離管中で
凝縮され、上層は溶媒層、中層は水層、下層はフェノー
ル層の３層に分離した。上層の溶媒層は連続的に反応液
に戻し、下層のフェノール層は１５分毎に抜き取り反応
系に戻した。昇温から約７時間で反応系の温度は１６５
℃になり、水の留出が停止し、反応液から水と未反応の
フェノールはほぼ完全に留出した。
ｍｌの４口フラスコに、フェノール１３１．６ｇ（１．
４ｍｏｌ）のアイソパーＧ ７０ｍｌ溶液を仕込み、そ
の溶液を撹拌しながら、９５％硫酸７２．２ｇ（０．７
ｍｏｌ）を５０℃で滴下した。滴下終了後、反応混合物
を撹拌しながら反応系を徐々に昇温させた。１４４℃付
近から反応物の留出が始まり、この留分は水分離管中で
凝縮され、上層は溶媒層、中層は水層、下層はフェノー
ル層の３層に分離した。上層の溶媒層は連続的に反応液
に戻し、下層のフェノール層は１５分毎に抜き取り反応
系に戻した。昇温から約７時間で反応系の温度は１６５
℃になり、水の留出が停止し、反応液から水と未反応の
フェノールはほぼ完全に留出した。
【０１１０】次に、反応混合物を８０℃まで冷却した
後、さらにメタノール１８５ｍｌを加えて、６５℃で１
時間撹拌した。この溶液に水１４４ｍｌを加えて分液
し、アルコール性水層を分取した。次いで、１０％水酸
化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ５に調整した後、ＥＤ
ＴＡ２ナトリウム塩の５％水溶液１ｍｌを滴下した。こ
のアルコール性水層を十分に撹拌した後、３０℃まで冷
却して晶析させた。析出結晶をろ取し、乾燥することに
より、目的物である４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンの粉末１４０．２ｇを得た。収率：８０％得ら
れた４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの純度
は９９．５％以上であった。また、このものを色差計
（日本電色工業（株）製、型式：１００１ＤＰ）で測定
したところ、ｂ値は２．５以下であり、着色は見られな
かった。
後、さらにメタノール１８５ｍｌを加えて、６５℃で１
時間撹拌した。この溶液に水１４４ｍｌを加えて分液
し、アルコール性水層を分取した。次いで、１０％水酸
化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ５に調整した後、ＥＤ
ＴＡ２ナトリウム塩の５％水溶液１ｍｌを滴下した。こ
のアルコール性水層を十分に撹拌した後、３０℃まで冷
却して晶析させた。析出結晶をろ取し、乾燥することに
より、目的物である４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンの粉末１４０．２ｇを得た。収率：８０％得ら
れた４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの純度
は９９．５％以上であった。また、このものを色差計
（日本電色工業（株）製、型式：１００１ＤＰ）で測定
したところ、ｂ値は２．５以下であり、着色は見られな
かった。
【０１１１】（比較例１）ＥＤＴＡ２ナトリウム塩水溶
液５％水溶液１ｍｌを加える操作を省略する以外は、実
施例１と同様にして４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンの粉末１４０．２ｇを得た。収率：８０％得ら
れた４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの純度
は９９．５％以上であった。また、このものを色差計
（日本電色工業（株）製、型式：１００１ＤＰ）で測定
したところ、ｂ値は４．１であり、淡黄色の着色が見ら
れた。
液５％水溶液１ｍｌを加える操作を省略する以外は、実
施例１と同様にして４，４’−ジヒドロキシジフェニル
スルホンの粉末１４０．２ｇを得た。収率：８０％得ら
れた４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンの純度
は９９．５％以上であった。また、このものを色差計
（日本電色工業（株）製、型式：１００１ＤＰ）で測定
したところ、ｂ値は４．１であり、淡黄色の着色が見ら
れた。
【０１１２】（実施例２）４−イソプロポキシ−４’−
ヒドロキシジフェニルスルホンの製造（１）
ヒドロキシジフェニルスルホンの製造（１）
【０１１３】
【化２２】
【０１１４】４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン４５０ｇ、４８％水酸化ナトリウム水溶液２５５ｍｌ
及び水１２０ｍｌをＳＵＳ製の反応槽に仕込み、撹拌し
ながら７５℃に昇温させて全容を均一な溶液とした。得
られた溶液に、イソプロピルブロマイド２２５ｇを５５
±３℃でゆっくりと滴下し、滴下終了後さらに５５±５
℃で撹拌を継続した。滴下開始からトータルで２０時間
経過後、反応液に温水２３５ｍｌを加え、８０℃で１時
間加熱して、未反応のイソプロピルブロマイドを蒸発留
去させた。その後、温水３００ｍｌ及びトルエン２５０
ｍｌを８０℃で加えて十分に撹拌し、水層を分取した。
ン４５０ｇ、４８％水酸化ナトリウム水溶液２５５ｍｌ
及び水１２０ｍｌをＳＵＳ製の反応槽に仕込み、撹拌し
ながら７５℃に昇温させて全容を均一な溶液とした。得
られた溶液に、イソプロピルブロマイド２２５ｇを５５
±３℃でゆっくりと滴下し、滴下終了後さらに５５±５
℃で撹拌を継続した。滴下開始からトータルで２０時間
経過後、反応液に温水２３５ｍｌを加え、８０℃で１時
間加熱して、未反応のイソプロピルブロマイドを蒸発留
去させた。その後、温水３００ｍｌ及びトルエン２５０
ｍｌを８０℃で加えて十分に撹拌し、水層を分取した。
【０１１５】次いで、水層にトルエン１１００ｍｌ及び
水２００ｍｌを７９℃で加え、同温度で３０分間撹拌し
た。さらに、３０％希硫酸を撹拌しながら８２℃で少量
ずつ１時間かけて滴下して、反応液が均一にｐＨ８．３
〜８．７になるように調整し、ＥＤＴＡ２ナトリウム塩
の５％水溶液２．７ｍｌを添加した。このものを８２℃
で３０分間静置した後、トルエン層を分取した。さら
に、このトルエン層にトルエン２５０ｍｌ及び水２５０
ｍｌを８２℃で加え、同温度で２時間撹拌した後、８２
℃で３０分間静置して、トルエン層を分取した。得られ
たトルエン層を冷却することにより、結晶を晶析させ、
析出結晶をろ取し、水で洗浄、乾燥することにより、目
的とする４−イソプロポキシ−４’−ヒドロキシジフェ
ニルスルホンの粉末３６８．０ｇを得た（収率７０
％）。得られた４−イソプロポキシ−４’−ヒドロキシ
ジフェニルスルホンの純度は９８％以上であった。ま
た、このものを色差計（日本電色工業（株）製、型式：
１００１ＤＰ）で測定したところ、ｂ値は２．５以下で
あり、着色は見られなかった。
水２００ｍｌを７９℃で加え、同温度で３０分間撹拌し
た。さらに、３０％希硫酸を撹拌しながら８２℃で少量
ずつ１時間かけて滴下して、反応液が均一にｐＨ８．３
〜８．７になるように調整し、ＥＤＴＡ２ナトリウム塩
の５％水溶液２．７ｍｌを添加した。このものを８２℃
で３０分間静置した後、トルエン層を分取した。さら
に、このトルエン層にトルエン２５０ｍｌ及び水２５０
ｍｌを８２℃で加え、同温度で２時間撹拌した後、８２
℃で３０分間静置して、トルエン層を分取した。得られ
たトルエン層を冷却することにより、結晶を晶析させ、
析出結晶をろ取し、水で洗浄、乾燥することにより、目
的とする４−イソプロポキシ−４’−ヒドロキシジフェ
ニルスルホンの粉末３６８．０ｇを得た（収率７０
％）。得られた４−イソプロポキシ−４’−ヒドロキシ
ジフェニルスルホンの純度は９８％以上であった。ま
た、このものを色差計（日本電色工業（株）製、型式：
１００１ＤＰ）で測定したところ、ｂ値は２．５以下で
あり、着色は見られなかった。
【０１１６】（実施例３）４−イソプロポキシ−４’−
ヒドロキシジフェニルスルホンの製造（２） ４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン２１０ｇ、
４８％水酸化ナトリウム水溶液７４．２ｍｌ及び水７４
０ｍｌをＳＵＳ製の反応槽に仕込み、撹拌しながら８０
℃に昇温させて全容を均一な溶液とした。得られた溶液
にトルエン７０５ｍｌを７０℃で加え、イソプロピルブ
ロマイド（ｉＰｒ−Ｂｒ）１６５ｇを撹拌しながらゆっ
くりと滴下した後、７６〜８０℃で８時間撹拌した。次
いで、４８％水酸化ナトリウム水溶液４．８ｍｌ及びイ
ソプロピルブロマイド２２ｇを加えて７８〜８０℃で６
時間撹拌した。さらに、４８％水酸化ナトリウム水溶液
３．３ｍｌ及びイソプロピルブロマイド２５ｇを加え
て、７８〜８１℃で８時間反応させた。反応終了後、反
応液にトルエン３００ｍｌを加え、８０℃で３時間加熱
して、未反応のイソプロピルブロマイドを完全に蒸発留
去させた。
ヒドロキシジフェニルスルホンの製造（２） ４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン２１０ｇ、
４８％水酸化ナトリウム水溶液７４．２ｍｌ及び水７４
０ｍｌをＳＵＳ製の反応槽に仕込み、撹拌しながら８０
℃に昇温させて全容を均一な溶液とした。得られた溶液
にトルエン７０５ｍｌを７０℃で加え、イソプロピルブ
ロマイド（ｉＰｒ−Ｂｒ）１６５ｇを撹拌しながらゆっ
くりと滴下した後、７６〜８０℃で８時間撹拌した。次
いで、４８％水酸化ナトリウム水溶液４．８ｍｌ及びイ
ソプロピルブロマイド２２ｇを加えて７８〜８０℃で６
時間撹拌した。さらに、４８％水酸化ナトリウム水溶液
３．３ｍｌ及びイソプロピルブロマイド２５ｇを加え
て、７８〜８１℃で８時間反応させた。反応終了後、反
応液にトルエン３００ｍｌを加え、８０℃で３時間加熱
して、未反応のイソプロピルブロマイドを完全に蒸発留
去させた。
【０１１７】次いで、水２００ｍｌ、トルエン６９４ｍ
ｌ、無水炭酸ナトリウム（ソーダ灰）２．５ｇ及び温水
１０ｍｌを加え、さらに、４８％水酸化ナトリウム水溶
液を加えて、反応液のｐＨを８．５５±０．０２に調整
した。そこへ、ＥＤＴＡ２ナトリウム塩の５％水溶液
１．２ｍｌを添加し、３０分静置した後、トルエン層を
分取した。このトルエン層に水５００ｍｌ、トルエン８
００ｍｌ及びを７５〜８０℃で加え、同温度で３０分間
撹拌し、トルエン層を分取した。得られたトルエン層を
冷却して析出した結晶をろ取し、水で洗浄、乾燥するこ
とにより、目的とする４−イソプロポキシ−４’−ヒド
ロキシジフェニルスルホンの粉末１７１．７ｇを得た
（収率７０％）。得られた４−イソプロポキシ−４’−
ヒドロキシジフェニルスルホンの純度は９８％以上であ
った。また、このものを色差計（日本電色工業（株）
製、型式：１００１ＤＰ）で測定したところ、ｂ値は
２．５以下であり、着色は見られなかった。
ｌ、無水炭酸ナトリウム（ソーダ灰）２．５ｇ及び温水
１０ｍｌを加え、さらに、４８％水酸化ナトリウム水溶
液を加えて、反応液のｐＨを８．５５±０．０２に調整
した。そこへ、ＥＤＴＡ２ナトリウム塩の５％水溶液
１．２ｍｌを添加し、３０分静置した後、トルエン層を
分取した。このトルエン層に水５００ｍｌ、トルエン８
００ｍｌ及びを７５〜８０℃で加え、同温度で３０分間
撹拌し、トルエン層を分取した。得られたトルエン層を
冷却して析出した結晶をろ取し、水で洗浄、乾燥するこ
とにより、目的とする４−イソプロポキシ−４’−ヒド
ロキシジフェニルスルホンの粉末１７１．７ｇを得た
（収率７０％）。得られた４−イソプロポキシ−４’−
ヒドロキシジフェニルスルホンの純度は９８％以上であ
った。また、このものを色差計（日本電色工業（株）
製、型式：１００１ＤＰ）で測定したところ、ｂ値は
２．５以下であり、着色は見られなかった。
【０１１８】（比較例２）４−イソプロポキシ−４’−
ヒドロキシジフェニルスルホンの製造精製工程におい
て、反応液に５％ＥＤＴＡ２ナトリウム塩水溶液を加え
る操作を省略する以外は、実施例２と同様にして、４−
イソプロピポキシ−４’−ヒドロキシジフェニルスルホ
ンの粉末３６８．０ｇを得た（収率７０％）。得られた
４−イソプロポキシ−４’−ヒドロキシジフェニルスル
ホンの純度は９８％以上であった。また、このものを色
差計（日本電色工業（株）製、型式：１００１ＤＰ）で
測定したところ、ｂ値は４．１であり、淡黄色の着色が
見られた。
ヒドロキシジフェニルスルホンの製造精製工程におい
て、反応液に５％ＥＤＴＡ２ナトリウム塩水溶液を加え
る操作を省略する以外は、実施例２と同様にして、４−
イソプロピポキシ−４’−ヒドロキシジフェニルスルホ
ンの粉末３６８．０ｇを得た（収率７０％）。得られた
４−イソプロポキシ−４’−ヒドロキシジフェニルスル
ホンの純度は９８％以上であった。また、このものを色
差計（日本電色工業（株）製、型式：１００１ＤＰ）で
測定したところ、ｂ値は４．１であり、淡黄色の着色が
見られた。
【０１１９】（実施例４）化合物（７）で表される化合
物〔下記式（１２）〕の製造
物〔下記式（１２）〕の製造
【０１２０】
【化２３】
【０１２１】（式中、ｘは１〜１０の整数を表す。） ５００ｍｌの四つ口フラスコ中に、水４７．５ｍｌ、水
酸化ナトリウム２５．６ｇ、４，４'−ジヒドロキシジ
フェニルスルホン８０．０ｇを加え、１１０±２℃で４
時間撹拌し溶解させた。そこへ、ビス（２−クロロエチ
ル）エーテル２０．３４ｇを１１０〜１１２℃で加え、
同温度で８時間撹拌した。反応終了後、反応液に熱水１
０８．１ｍｌを加えて８０℃まで冷却し、９０％メタノ
ール水溶液１６７．４ｍｌを７０℃で加えて均一な溶液
となるように３０分間撹拌した。次いで、ＥＤＴＡ２ナ
トリウム塩の５％水溶液０．５ｍｌを加え、７１℃で１
０％塩酸１１６．４ｇをゆっくりと滴下してｐＨを４〜
５とした。７１℃で１時間放置した後、２５〜３０℃に
冷却して、さらに８時間放置した。析出結晶をろ取し、
５０％メタノール水溶液２００ｍｌで洗浄し、乾燥して
目的物（１２）の粉末６３．２ｇを得た。収率７８％得
られた化合物（１２）の純度は９９％以上であった。ま
た、このものを色差計（日本電色工業（株）製、型式：
１００１ＤＰ）で測定したところ、ｂ値は２．５以下で
あり、着色は見られなかった。
酸化ナトリウム２５．６ｇ、４，４'−ジヒドロキシジ
フェニルスルホン８０．０ｇを加え、１１０±２℃で４
時間撹拌し溶解させた。そこへ、ビス（２−クロロエチ
ル）エーテル２０．３４ｇを１１０〜１１２℃で加え、
同温度で８時間撹拌した。反応終了後、反応液に熱水１
０８．１ｍｌを加えて８０℃まで冷却し、９０％メタノ
ール水溶液１６７．４ｍｌを７０℃で加えて均一な溶液
となるように３０分間撹拌した。次いで、ＥＤＴＡ２ナ
トリウム塩の５％水溶液０．５ｍｌを加え、７１℃で１
０％塩酸１１６．４ｇをゆっくりと滴下してｐＨを４〜
５とした。７１℃で１時間放置した後、２５〜３０℃に
冷却して、さらに８時間放置した。析出結晶をろ取し、
５０％メタノール水溶液２００ｍｌで洗浄し、乾燥して
目的物（１２）の粉末６３．２ｇを得た。収率７８％得
られた化合物（１２）の純度は９９％以上であった。ま
た、このものを色差計（日本電色工業（株）製、型式：
１００１ＤＰ）で測定したところ、ｂ値は２．５以下で
あり、着色は見られなかった。
【０１２２】（比較例３）化合物（７）で表される化合
物〔前記式（１２）〕の製造 精製工程において、反応液にＥＤＴＡ２ナトリウム塩の
５％水溶液を加える操作を省略する以外は、実施例４と
同様にして、化合物（１２）の粉末６３．２ｇを得た
（収率７８％）。得られた化合物（１２）の純度は９８
％以上であった。また、このものを色差計（日本電色工
業（株）製、型式：１００１ＤＰ）で測定したところ、
ｂ値は４．１であり、淡黄色の着色が見られた。
物〔前記式（１２）〕の製造 精製工程において、反応液にＥＤＴＡ２ナトリウム塩の
５％水溶液を加える操作を省略する以外は、実施例４と
同様にして、化合物（１２）の粉末６３．２ｇを得た
（収率７８％）。得られた化合物（１２）の純度は９８
％以上であった。また、このものを色差計（日本電色工
業（株）製、型式：１００１ＤＰ）で測定したところ、
ｂ値は４．１であり、淡黄色の着色が見られた。
【０１２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
従来の製造ラインに大幅に変更を加えることなく簡便
に、着色のない高純度なジフェニルスルホン化合物を効
率よく製造することができる。
従来の製造ラインに大幅に変更を加えることなく簡便
に、着色のない高純度なジフェニルスルホン化合物を効
率よく製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小山 祐一郎 福島県耶麻郡磐梯町大字磐梯1372 日曹金 属化学株式会社会津工場内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC62 AD15 AD33 BE03 TA02 TB13 TB42 TC32
Claims (9)
- 【請求項１】式（１） 【化１】 {式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、ハロゲン
原子、Ｃ１〜Ｃ８アルキル基又はＣ２〜Ｃ８アルケニル
基を表し、ｍ及びｎは、それぞれ独立して０又は１〜４
の整数を表す。Ｑは、水素原子、Ｃ１〜８アルキル基、
Ｃ２〜８アルケニル基、Ｃ３〜８のシクロアルキル基、
置換基を有してもよいアラルキル基、又は式（２） 【化２】 〔式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、置換基を有し
てもよいＣ１〜Ｃ１２の飽和若しくは不飽和の炭化水素
基、エーテル結合を有するＣ１〜Ｃ１２の飽和若しくは
不飽和の炭化水素基、式（３） 【化３】 （式中、Ｒ７は、メチレン基又はエチレン基を表す。）
で表される基、又は式（４） 【化４】 （式中、Ｒ８は、水素原子又はＣ１〜Ｃ４アルキル基を
表す。）で表される基を表す。Ｒ３〜Ｒ６は、それぞれ
独立して、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ８アルキル基又はＣ
２〜Ｃ８アルケニル基を表し、ｐ、ｑ、ｒ及びｔは、そ
れぞれ独立して、０又は１〜４の整数を表し、ａは０又
は１〜１０の整数を表す。〕で表される基を表す。}で
表されるジフェニルスルホン化合物を含む混合物を精製
して、前記式（１）で表される化合物を単離する工程を
有する前記式（１）で表されるジフェニルスルホン化合
物の製造方法であって、前記混合物を精製する工程にお
いて、前記混合物にキレート剤を添加することを特徴と
する前記式（１）で表されるジフェニルスルホン化合物
の製造方法。 - 【請求項２】前記ジフェニルスルホン化合物は、４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンである請求項１
に記載のジフェニルスルホン化合物の製造方法。 - 【請求項３】前記ジフェニルスルホン化合物を含む混合
物は、フェノールとスルホン化剤とを反応させて得られ
る４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを含む反
応混合物である請求項１又は２に記載のジフェニルスル
ホン化合物の製造方法。 - 【請求項４】前記スルホン化剤として硫酸を用いる請求
項３に記載のジフェニルスルホン化合物の製造方法。 - 【請求項５】前記ジフェニルスルホン化合物を含む混合
物は、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを含
む混合物を所定温度に加熱して得られる４，４’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンを含む反応混合物である請
求項１又は２に記載のジフェニルスルホン化合物の製造
方法。 - 【請求項６】前記ジフェニルスルホン化合物は、式
（５） 【化５】 （式中、Ｒ９は、Ｃ１〜８アルキル基、Ｃ２〜８アルケ
ニル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基又は置換基を有して
もよいアラルキル基を表す。）で表される化合物である
請求項１に記載のジフェニルスルホン化合物の製造方
法。 - 【請求項７】前記ジフェニルスルホン化合物を含む混合
物は、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンと、
式（６）：Ｒ９−Ａ１（式中、Ｒ９は前記と同じ意味を
表し、Ａ１はハロゲン原子を表す。）で表される化合物
とを、アルカリ存在下に反応させて得られる前記式
（５）で表される化合物を含む反応混合物である請求項
１又は６に記載のジフェニルスルホン化合物の製造方
法。 - 【請求項８】前記ジフェニルスルホン化合物は、式
（７） 【化６】 （式中、Ｒ１〜Ｒ６、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、ｔ、ａ、Ｘ
及びＹは、前記と同じ意味を表す。）で表される化合物
である請求項１に記載のジフェニルスルホン化合物の製
造方法。 - 【請求項９】前記ジフェニルスルホン化合物を含む混合
物は、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン又は
２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホンと、式
（８）：Ａ２−Ｘ−Ａ３及び式（９）：Ａ４−Ｙ−Ａ５
（式中、Ａ２〜Ａ５は、それぞれ独立して、ハロゲン原
子を表し、Ｘ及びＹは、前記と同じ意味を表す。）で表
される化合物とを、アルカリ存在下に反応させて得られ
る前記式（７）で表される化合物を含む反応混合物であ
る請求項１又は８に記載のジフェニルスルホン化合物の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001060854A JP4864218B2 (ja) | 2001-03-05 | 2001-03-05 | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001060854A JP4864218B2 (ja) | 2001-03-05 | 2001-03-05 | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002255925A true JP2002255925A (ja) | 2002-09-11 |
| JP4864218B2 JP4864218B2 (ja) | 2012-02-01 |
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ID=18920225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001060854A Expired - Lifetime JP4864218B2 (ja) | 2001-03-05 | 2001-03-05 | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP4864218B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| EP2289704A1 (en) * | 2008-06-18 | 2011-03-02 | Nippon Soda Co., Ltd. | Color-developing composition and recording material containing the same |
| US20110120345A1 (en) * | 2008-08-04 | 2011-05-26 | Nippon Soda Co., Ltd. | Color developing composition containing molecular compound, and recording material |
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| JPH1029969A (ja) * | 1995-10-31 | 1998-02-03 | Nippon Soda Co Ltd | ジフェニルスルホン架橋型化合物及びそれを用いた記録材料 |
-
2001
- 2001-03-05 JP JP2001060854A patent/JP4864218B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| CN102066123B (zh) * | 2008-06-18 | 2013-07-03 | 日本曹达株式会社 | 显色性组合物及含有其的记录材料 |
| US8546299B2 (en) | 2008-06-18 | 2013-10-01 | Nippon Soda Co., Ltd. | Color-developing composition and recording material containing the same |
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| JP2010284939A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-12-24 | Nippon Soda Co Ltd | 顕色性組成物及びそれを含有する記録材料 |
| JP2011223740A (ja) * | 2010-04-09 | 2011-11-04 | Keio Gijuku | 仮想エネルギートレードシステム |
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|---|---|
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