JP2002253919A

JP2002253919A - ガス分離フィルタ

Info

Publication number: JP2002253919A
Application number: JP2001053170A
Authority: JP
Inventors: Hitohide Oshima; 仁英大嶋
Original assignee: Kyocera Corp
Current assignee: Kyocera Corp
Priority date: 2001-02-27
Filing date: 2001-02-27
Publication date: 2002-09-10
Anticipated expiration: 2021-02-27
Also published as: JP4605920B2

Abstract

(57)【要約】【課題】耐水性に優れるとともに、種々の特定ガスの分
離が可能であり、高いガス分離効率を有するガス分離フ
ィルタを提供する。【解決手段】多孔質支持体２の表面に、特定のガスのみ
を選択的に透過しうる多数の細孔３ａを有するガス分離
膜３を被着形成するとともに、ガス分離膜３の表面に、
撥水性を有し、かつガス分離膜３の平均細孔径より大き
い平均細孔径を有する撥水膜４を被着形成したガス分離
フィルタ１を作製する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複数種のガスを含
有する被処理ガス中から特定ガスを分離できる耐水性、
耐熱性及び信頼性に優れたガス分離フィルタに関するも
のである。

【０００２】

【従来技術】従来から、ガス分離膜としての複数のガ
ス、蒸気を含有する混合流体から特定成分のみを選択的
に透過、分離することのできる分離膜を備えたガス分離
フィルタが知られており、かかるガス分離フィルタは、
各種燃焼機関をはじめ、食品工業や医療用機器、更には
廃棄物処理等の分野でも注目されている。

【０００３】近年では、耐熱性、耐食性に優れた各種無
機材料からなる多孔質体が特に注目されるようになり種
々検討され、中でも特開平１１−１９４５８号公報に記
載のガラスの溶融、酸処理を利用した方法、特開平４−
６３１１９号公報に記載のゾルゲル法、特開平８−３８
８６４号公報に記載のＣＶＤ法等によって作製されるシ
リカ質ガス分離膜は、微細でガスの分子径に近似する細
孔を有するとともに、多孔質支持体の表面になじみよ
く、かつ薄く被着形成できることが開示されている。

【０００４】しかしながら、微細に細孔が制御された無
機多孔質体は特に上記シリカ質分離膜やγ−アルミナ質
分離膜では、乾燥雰囲気下での作動では、時間の経過に
よらず高いガス分離性能を維持するものの、被処理ガス
として水蒸気を含むガスを処理する場合、特にその処理
温度が１００℃よりも低くなる場合には、被処理ガス中
の水分がガス分離膜に吸着または反応してガス分離膜の
細孔径が変化してしまい、また、かかるガス分離フィル
タを大気中等の水分を含んだ環境下に放置した場合に
も、ガス分離膜の細孔内へ水分が侵入、吸着して細孔径
が変化してしまうという問題があり、さらに、かかるガ
ス分離膜内の吸着水はガス分離膜の細孔径が変わらない
温度範囲で単に温度を上げただけでは完全に離脱させる
ことができないことから、ガス分離フィルタのガス分離
性能が変化してしまい特性の信頼性を損なう要因となっ
ていた。

【０００５】一方、本出願人は、特開平１１−２２６３
６８号公報にて、ガス分離膜を撥水性の高い材料にて形
成することにより、ガス分離膜への液体あるいは液状物
質の透過を抑制して特定ガスの分離性能を向上できるこ
とを提案した。

【０００６】また、特開２０００−２８８３６７号公報
では、多孔質膜の表面に撥水剤を塗布して撥水膜を形成
した疎水性多孔質膜が記載されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
１１−２２６３６８号公報のガス分離膜自体を撥水性材
料にて形成すると、ガス分離膜中の細孔径が大きくなっ
てしまうことから、分離可能なガス種が限定されてしま
い、例えば、窒素と水素等の分子径の小さいガスを分離
することが困難であるという問題があった。

【０００８】また、特開２０００−２８８３６７号公報
の多孔質膜の表面に撥水膜を形成したフィルタにおいて
も、同号公報の実施例に記載されるように、撥水膜の被
着形成によってガスの透過係数が低下するとあるよう
に、撥水膜を被着形成することによってガス分離効率が
大幅に低下するという問題があった。

【０００９】本発明は、前記課題を解決するためになさ
れたもので、その目的は、耐水性に優れるとともに、種
々の特定ガスの分離が可能であり、高いガス分離効率を
有するガス分離なガス分離フィルタを提供することにあ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題に
対してガス分離フィルタを構成する各層の構成について
検討した結果、多孔質支持体の表面に小さい細孔径を有
するガス分離膜を被着形成するとともに、該ガス分離膜
の表面に、ガス分離膜の細孔径よりも大きい細孔径を有
する撥水膜を被着形成することによって、ガス分離フィ
ルタの耐水性を高めることができるとともに、ガス分離
膜の細孔径をガス種に合わせて制御することが可能であ
り、かつ撥水膜の被着形成によってもガス分離効率の低
下を小さくすることができることを見出した。

【００１１】すなわち、本発明のガス分離フィルタは、
多孔質支持体の表面に、特定のガスのみを選択的に透過
しうる多数の細孔を有するガス分離膜を被着形成すると
ともに、該ガス分離膜の表面に撥水性を有し、かつ前記
ガス分離膜の平均細孔径より大きい平均細孔径を有する
撥水膜を被着形成したことを特徴とするものである。

【００１２】ここで、前記撥水膜がゲル膜からなるこ
と、前記撥水膜がシリコンおよびフッ素を含有するこ
と、前記撥水膜がフッ素を含有するシリコンアルコキシ
ド溶液を用いて作製されたものであることが望ましい。

【００１３】また、前記ガス分離膜の平均細孔径
（ｒ₁）と前記撥水膜の平均細孔径（ｒ₂）との比（ｒ₂
／ｒ₁）が１．１〜５であることが望ましい。

【００１４】さらに、前記撥水膜が５０〜３００℃にて
熱処理されたものであること、前記ガス分離膜がシリコ
ンを含有する非晶質体からなることが望ましい。

【００１５】さらに、前記多孔質支持体の前記ガス分離
膜形成面の反対側に他の撥水膜を形成したことが望まし
い。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明のガス分離フィルタの一例
について、その模式図である図１を基に説明する。図１
によれば、ガス分離フィルタ１は、多孔質支持体２の表
面に、複数種のガスを含む被処理ガスから特定のガスの
みを選択的に透過しうる細孔３ａを有するガス分離膜３
を被着形成するとともに、該ガス分離膜３の表面に撥水
膜４を被着形成した構造からなる。

【００１７】本発明によれば、撥水膜４は多数の細孔４
ａを有する多孔質体からなり、該撥水膜４の平均細孔径
（ｒ₂）が、ガス分離膜３の平均細孔径（ｒ₁）よりも大
きいことが重要であり、これによって、ガス分離膜３に
水分が侵入することを防止してガス分離膜３の細孔３ａ
径が吸着水によって変化することを防止できることか
ら、ガス分離フィルタ１の耐水性を高めることができる
とともに、ガス分離膜３の細孔３ａの細孔径をガス種に
合わせて変化、制御することが可能であり、かつ撥水膜
４の被着形成によってもガス分離フィルタ１のガス分離
効率の低下を小さくすることができる。

【００１８】すなわち、撥水膜４を被着形成しない場合
には、ガス分離膜３の表面および細孔３ａ内へ水分が侵
入してガス分離膜３の細孔３ａ内に吸着水が付着する
か、または水分によってガス分離膜３自体が反応して変
質してしまい、ガス分離膜３の細孔径が変化する結果、
ガス分離フィルタ１のガス分離性能が低下してしまう。
また、撥水膜４自体をガス分離膜として使用しガス分離
膜３を形成しない場合には、撥水膜４の細孔径を所望の
範囲に制御することが困難となってしまう。さらに、撥
水膜４の平均細孔径がガス分離膜３の平均細孔径以下で
ある場合には、ガス分離性能が撥水膜４により律速され
てしまい、結果的にガス分離フィルタ１のガス分離効率
が低下してしまう。

【００１９】また、本発明における撥水膜４は、ガス分
離膜３よりも大きな撥水性を示す材質を指し、より具体
的には、大きな細孔径に制御されたフッ素系有機質高分
子や金属酸化物を例示することができるが、細孔径制御
の点で、シリコン、アルミニウム、チタンおよびジルコ
ンの群から選ばれる少なくとも１種のアルコキシドを原
料としてゾルゲル法により作製される加水分解化合物等
を用いることが望ましく、また、強い撥水効果を有する
有機鎖が残存して撥水性を向上させるために、撥水膜４
がゲル膜からなることが望ましい。

【００２０】また、ガス分離フィルタ１を、特に５０〜
３００℃の高温にて使用しても撥水膜４の細孔径が変化
することなく耐熱性の高いものとするため、および高い
撥水性を維持するために、撥水膜４は５０〜３００℃に
て熱処理されたものであることが望ましい。

【００２１】さらに、撥水膜４として、耐熱性および撥
水性の点で、シリコンとフッ素とを含有することが望ま
しく、特に下記化１にて表されるようなフッ素を含有す
るシリコンアルコキシド溶液から作製されたものである
ことが望ましい。

【００２２】

【化１】

【００２３】なお、撥水膜４を形成する方法としては、
撥水膜４を形成するための溶液中に多孔質支持体をディ
ッピングする浸漬法やスピンコーティング法等の塗布法
にて成膜した後、該膜を乾燥して所望により熱処理する
方法、ＣＶＤ法やスパッタリング法等の薄膜形成法等が
好適に採用でき、また、撥水膜４を形成するための溶液
としては、フッ素系撥水水性エマルジョンやフッ素系撥
水撥油剤エマルジョン等の有機質高分子を含有する溶液
や、ジメチルポリシロキサン等を含有する溶液、アルキ
ルアルコキシシラン等のアルコキシド溶液が望ましい。

【００２４】また、上記溶液の中でも、アルキルアルコ
キシシラン等のアルコキシド溶液を用い、これを用いて
加水分解した溶液を作製する方法としては、例えば、前
記アルコキシドのアルコール溶液のアルコキシド１モル
に対し、加水分解ゾルの安定性、細孔径の制御の点で、
１〜１０倍モル量の水と少量の酸をアルコール存在下で
添加することにより作製することができる。

【００２５】また、高いガス透過率およびガス分離効率
を維持しつつ、ガス分離膜３への水分の侵入を効果的に
抑制する点で、ガス分離膜３の平均細孔径（ｒ₁）と撥
水膜４の平均細孔径（ｒ₂）との比（ｒ₂／ｒ₁）が１．
１〜５、特に１．５〜３であることが望ましく、例え
ば、撥水膜４の平均細孔径（ｒ₂）は０．４〜１．５ｎ
ｍ程度であることが望ましい。

【００２６】なお、撥水膜４の膜厚は、ガス分離膜３の
表面に欠陥等の発生なく均一に被着形成されてガス分離
膜３の透過率およびガス分離効率を低下させることな
く、かつガス分離膜３への水分（水蒸気）の接触を防止
する点で、０．０１〜１μｍ、特にガス分離膜３の膜厚
より薄い膜厚であることが望ましい。

【００２７】一方、ガス分離膜３は、有機高分子膜も使
用可能であるが、ガスの透過性能、耐熱性の点で、アル
ミナ、チタニア、シリカ、ジルコニア、ゼオライト等の
無機酸化物やカーボン等の無機多孔質体からなることが
望ましく、特に細孔径の制御が容易であり、ガスの分離
性能、耐食性、信頼性に優れている点で非晶質な無機酸
化物多孔体からなることが望ましい。さらに、ガス分離
膜３の細孔径を１ｎｍ以下の低分子のガス分離に必要な
細孔径に制御可能なシリカ、ジルコニアおよびチタニア
の群から選ばれる少なくとも１種からなること、特に、
上記理由に加えて撥水膜４とのなじみの点で、シリカを
含有する非晶質体からなることが望ましい。なお、ガス
分離膜３の平均細孔径は、ガスの選択的な透過性の点
で、例えば０．２〜２．０ｎｍ、特に０．３〜１．０ｎ
ｍであることが望ましく、例えば、窒素と水素を分離す
る場合には、０．２９〜０．５０ｎｍ、窒素とＳＦ₆と
を分離する場合には、０．３５〜０．６０ｎｍであるこ
とが望ましい。

【００２８】また、ガス分離膜３の膜厚は、ピンホール
等の欠陥がなく、かつ特定ガスの透過効率を高めるため
に、０．０５〜１μｍ、特に０．１〜０．５μｍである
ことが望ましい。

【００２９】他方、多孔質支持体２は、管形状、平板形
状、モノリス形状、ハニカム形状等の形状からなる、例
えば、平均細孔径が０．０５〜２μｍとガス分離膜３の
細孔径よりも大きな平均細孔径を有する多孔質体からな
り、かつ構造体として必要な強度を有するために、気孔
（細孔）率が２０〜４０％であることが望ましい。ま
た、多孔質支持体２の耐熱性、耐薬品性の点で、多孔質
支持体２は、α−アルミナ、ジルコニア、コージェライ
ト、窒化ケイ素等のセラミックスであることが望まし
い。

【００３０】さらに、多孔質支持体２へのガス分離膜３
の成膜性を高めて、薄く、均一なガス分離膜３を形成
し、ガス透過性能を高める目的から、多孔質支持体２と
ガス分離膜３の間に、例えば、平均細孔径が１〜２０ｎ
ｍと両者の間の平均細孔径を有する中間層（図示せ
ず。）を形成することが望ましい。なお、中間層として
は、多孔質支持体２とガス分離膜３とのなじみ、耐熱性
の点で、γ−アルミナ、チタニア、ジルコニアおよびシ
リカ等の無機酸化物からなることが望ましい。

【００３１】また、上述したように、撥水膜４はガス分
離膜３の表面に被着形成されていれば耐水性を向上させ
ることができるが、さらなる耐水性の向上のためには、
多孔質支持体２のガス分離膜３形成面とは反対側にも他
の撥水膜５が形成されることが望ましい。

【００３２】なお、他の撥水膜５は耐水性の向上および
製造の容易性の点で、撥水膜４と同じ材質からなること
が望ましい。また、他の撥水膜５は多孔質支持体２の細
孔２ａ内を侵入してガス分離膜３または中間層形成面ま
でにわたる多孔質支持体２の細孔２ａ内に形成されるこ
とが撥水膜５の耐水性を高める点で望ましい。

【００３３】さらに、他の撥水膜５は、必ずしも層状で
ある必要はなく、その一部が多孔質支持体２の細孔２ａ
内壁面に点在してもよい。

【００３４】また、上述したガス分離フィルタ１を用い
てガス分離を行うには、多孔質支持体２側表面側または
撥水膜４表面側に特定ガスを含む複数種のガスからなる
被処理ガスを接触せしめることによって、ガス分離膜３
の細孔径により分子径の小さい特定ガスのみが選択的に
ガス分離膜３を透過して、ガス分離フィルタ１の反対面
側に放出されることにより、被処理ガス中から特定ガス
を分離することができる。

【００３５】さらに、本発明のガス分離フィルタ１は、
特に、室温から１００℃以上の広範囲の温度域まで使用
可能であるが、ガス分離膜３の耐熱性やガス分離フィル
タ１を収容したガス分離モジュールの耐久性の点からは
室温から３００℃の温度範囲においてより好適に使用し
うるものである。

【００３６】

【実施例】（実施例１）先ず、純度９９．９％、平均粒
径０．１μｍのアルミナ粉末に対して、所定の有機バイ
ンダ、潤滑剤、可塑剤および水を添加、混合し、押出成
形にて管状の成形体を作製した後、１２００℃にて焼成
して、外径２．０ｍｍ、内径１．１ｍｍ、長さ１０ｃｍ
で、平均粒径０．２μｍ、気孔率３９％を有するαアル
ミナ多孔質管を作製した。

【００３７】また、窒素気流下でテトラエトキシシラン
２．５５ｇ（モル比１）とエタノール５６．４８ｇ（モ
ル比１００）とを混合し、この溶液に水０．１７ｇ（モ
ル比１）とＨＣｌ０．０９ｇ（モル比０．０７）とを添
加して環流撹拌した後、これにテトラｎ−プロポキシジ
ルコニウム２．０１ｇ（モル比０．５）を添加して複合
アルコキシドを作製し、これにアセチルアセトン０．２
５ｇ（モル比０．０２）、水２．００ｇ（モル比９）、
エタノール５６．４８ｇ（モル比１００）の混合溶液を
添加し加水分解して、ガス分離膜用のシリカ−ジルコニ
ア質複合アルコキシドの加水分解ゾル溶液を作製した。

【００３８】一方、水１１０ｍｏｌに対してアルミニウ
ムセカンダリーブトキシドを１ｍｏｌ添加して加水分解
し、さらに、硝酸を加えて環流して中間層形成用のアル
ミナベーマイトゾルを作製した。

【００３９】次に、上記α−アルミナ質多孔質支持体の
一端に栓をした状態で、上記中間層用の前駆体ゾル溶液
およびガス分離膜用のゾル溶液中に順次多孔質支持体の
栓をした端側から浸漬して、引き上げ、乾燥後、５００
℃にて焼成する工程を４回繰り返して多孔質支持体の外
表面に中間層およびガス分離膜を順次被着形成した。中
間層の膜厚２μｍ、ガス分離膜の膜厚０．４μｍであっ
た。

【００４０】他方、（トリデカフルオロ−１、１、２、
２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン６．２
８ｇ（モル比１）とエタノール５６．７３ｇ（モル比１
００）とを混合した溶液に、水０．０８ｇ（モル比
１）、塩酸０．０４ｇ（モル比０．０７）およびエタノ
ール５６．７３ｇ（モル比１００）の混合溶液を添加し
て加水分解することによって、撥水膜用の加水分解ゾル
溶液を作製した。

【００４１】そして、上記多孔質支持体のガス分離膜形
成面（外面）に浸漬法によって撥水膜を被着形成しガス
分離フィルタを作製した。なお、撥水膜の形成条件は、
多孔質支持体の端部に栓をしない状態で、該支持体を上
記撥水膜用の前駆体ゾル溶液に浸漬して引き上げ、乾燥
してゲル化した後、表１に示す温度にて焼成することに
より形成した。撥水膜の膜厚は０．１μｍであった。

【００４２】得られたガス分離フィルタおよび撥水膜を
研磨したガス分離フィルタについて、アルゴン吸着法に
より撥水膜およびガス分離膜の平均細孔径を測定した。
結果は表１に示した。

【００４３】（実施例２）実施例１のガス分離フィルタ
に対して、撥水膜の材質をアクリルトリエトキシシラン
（ＡＴＥＳ）、フルオロポリマー、ポリテトラフルオロ
エチレン（ＰＴＦＥ）に代える以外は実施例１と同様に
ガス分離フィルタおよびガス分離モジュールを作製し、
同様に評価した。結果は表１に示した（試料Ｎｏ．５〜
８）。

【００４４】（実施例３）実施例１のシリカ−ジルコニ
ア質複合アルコキシドを用いたガス分離膜の材質を、原
料としてポリイミド溶液を用いて５５０℃で焼成したカ
ーボンからなるガス分離膜を用いる以外は実施例１と同
様にしてガス分離フィルタおよびガス分離モジュールを
作製し、同様に評価した。結果は表１に示した（試料Ｎ
ｏ．９）。

【００４５】（比較例）実施例１のガス分離膜を被着形
成せず、実施例１の試料Ｎｏ．４の撥水膜をガス分離膜
として使用する以外は実施例１と同様にガス分離フィル
タおよびガス分離モジュールを作製し、同様に評価し
た。結果は表１に示した（試料Ｎｏ．１０）。

【００４６】

【表１】

【００４７】また、図２に示すように、表１のガス分離
フィルタ１の３７本について、その両端を、内部に３７
個の貫通孔を有する２つの支持板７の貫通孔内にそれぞ
れ差し込んで収束固定してフィルタ収束体８を作製し、
該フィルタ収束体８を被処理ガス供給口９と透過ガス排
出口１０と残部ガス排出口１１とを有するハウジング１
２内に収容して、フィルタ収束体８を固定用冶具１３に
て固定するとともに、ハウジング１２内を密閉してガス
分離モジュール１４を作製した。

【００４８】そして、ガス分離モジュール１４を１００
℃に加温した状態で、ガス分離モジュール１４の被処理
ガス供給口９から、水素ガス（Ｈ₂）５０％と窒素ガス
（Ｎ₂）５０％との混合ガスを流速３リットル／ｍｉｎ
でガス分離モジュール１４内に供給し、透過ガス排出口
１０から排出されたガスについて、その流量と各ガスの
含有比率を流量計とガスクロマトグラフィにて測定し、
各ガスのガス透過率（ｐ _N2、ｐ_H2）および透過係数比α
（ｐ_H2／ｐ_N2）を算出した。結果は表２に示した。

【００４９】また、上記各ガス分離モジュール１４に対
して、上記測定後、被処理ガス供給口９および透過ガス
排出口１０から、温度２０℃、相対湿度１００％の大気
（１気圧）を導入して４８時間放置した後、系内の温度
を１００℃に加温して、系内を乾燥ガス置換した。その
後、上記のガス分離試験と同様の条件にて水素ガスと窒
素ガスとのガス分離特性を評価した。結果は表２に示し
た。

【００５０】さらに、上記ガス分離フィルタの撥水膜を
形成しないものを用いて図２の構成のガス分離モジュー
ル１４を作製し、上記のガス分離試験と同様の条件にて
水素ガスと窒素ガスとのガス分離特性を評価し撥水膜形
成によるガス透過効率の変化を測定した。結果は表２に
示した。

【００５１】

【表２】

【００５２】表１、２の結果から明らかなように、撥水
膜を形成しない試料Ｎｏ．１では、耐水試験後のガス分
離特性が著しく低下し、また、撥水膜自体をガス分離膜
として使用し、ガス分離膜を別途形成しなかった試料Ｎ
ｏ．１０では、窒素ガスと水素ガスとのガス分離性能が
低いものであった。また、撥水膜の平均細孔径がガス分
離膜の平均細孔径と同じである試料Ｎｏ．５および撥水
膜の平均細孔径が小さい試料Ｎｏ．８では、撥水膜の形
成によってガス透過率が大きく低下してしまい、ガス分
離効率が低下した。

【００５３】これに対して、本発明に従い、多孔質支持
体の表面にガス分離膜と、該ガス分離膜の平均細孔径よ
りも大きい細孔径の撥水膜を順次被着形成した試料Ｎ
ｏ．２〜４、６、７、９では、特に水素（Ｈ₂）ガスの
透過率の比ｂ／ａ（撥水膜あり（ｂ）／撥水膜なし
（ａ））が０．６以上、かつ透過係数比αの比α₃／α₂
（水蒸気処理後（α₃）／水蒸気処理前（α₂））が０．
７５以上と高いガス透過率と高い耐水性を有することが
確認された。

【００５４】

【発明の効果】以上、詳述したとおり、本発明のガス分
離フィルタによれば、多孔質支持体の表面に小さい細孔
径を有するガス分離膜を被着形成するとともに、該ガス
分離膜の表面に、ガス分離膜の細孔径よりも大きい細孔
径を有する撥水膜を被着形成することによって、ガス分
離フィルタの耐水性を高めることができるとともに、ガ
ス分離膜の細孔径をガス種に合わせて制御することが可
能であり、かつ撥水膜の被着形成によってもガス分離効
率の低下を小さくすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のガス分離フィルタの一例を示す模式図
である。

【図２】本発明のガス分離フィルタを備えたガス分離モ
ジュールの一例を示す概略断面図である。

【符号の説明】

１ガス分離フィルタ２多孔質支持体３ガス分離膜４撥水膜５他の撥水膜２ａ、３ａ、４ａ細孔

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】多孔質支持体の表面に、特定のガスのみを
選択的に透過しうる多数の細孔を有するガス分離膜を被
着形成するとともに、該ガス分離膜の表面に撥水性を有
し、かつ前記ガス分離膜の平均細孔径より大きい平均細
孔径を有する撥水膜を被着形成したことを特徴とするガ
ス分離フィルタ。
【請求項２】前記撥水膜がゲル膜からなることを特徴と
する請求項１記載のガス分離フィルタ。
【請求項３】前記撥水膜がシリコンおよびフッ素を含有
することを特徴とする請求項１または２記載のガス分離
フィルタ。
【請求項４】前記撥水膜がフッ素を含有するシリコンア
ルコキシド溶液を用いて作製されたものであることを特
徴とする請求項３記載のガス分離フィルタ。
【請求項５】前記ガス分離膜の平均細孔径（ｒ₁）と前
記撥水膜の平均細孔径（ｒ₂）との比（ｒ₂／ｒ₁）が
１．１〜５であることを特徴とする請求項１乃至４のい
ずれか記載のガス分離フィルタ。
【請求項６】前記撥水膜が５０〜３００℃にて熱処理さ
れたものであることを特徴とする請求項１乃至５のいず
れか記載のガス分離フィルタ。
【請求項７】前記ガス分離膜がシリコンを含有する非晶
質体からなることを特徴とする請求項１乃至６のいずれ
か記載のガス分離フィルタ。
【請求項８】さらに、前記多孔質支持体の前記ガス分離
膜形成面の反対側に他の撥水膜を形成したことを特徴と
する請求項１乃至７のいずれかのガス分離フィルタ。