JP5897334B2 - シリカ膜の製造方法 - Google Patents
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Description
[3] 前記多孔質基材が筒状であり、その多孔質基材を縦方向に配置し、前記多孔質基材の上部から前記風を送風することにより前記シリカゾルを乾燥させる前記[1]又は[2]に記載のシリカ膜の製造方法。
[4] 前記多孔質基材上に前記シリカゾルを付着させた後、30秒以内に前記風を送風することにより前記シリカゾルを乾燥させる前記[1]〜[3]のいずれかに記載のシリカ膜の製造方法。
[5] 前記シリカゾルは、シリカを0.3〜2質量%含む前記[1]〜[3]のいずれかに記載のシリカ膜の製造方法。
[6] 前記シリカ膜の成膜回数が3回以下で、分離係数が2000以上の前記シリカ膜を製造する前記[1]〜[5]のいずれかに記載のシリカ膜の製造方法。
(1)多孔質基材
平均細孔径が10nmのチタニアのUF膜が形成されているモノリス形状(外径180mm,セル内径3mm×2000セル,長さ1000mm)の基材(多孔質基材11)を用いた。尚、基材両端部はガラスにてシールした。
テトラエトシキシランを硝酸の存在下で加水分解し、シリカゾル液を得た。上記シリカゾル液をエタノールで希釈し、シリカ換算で0.7質量%となるように調整しコーティング液(成膜用シリカゾル液)40とした。
多孔質基材11の外周面をマスキングテープ41でマスクした。多孔質基材11を流下製膜装置に固定した。流下製膜装置のタンクに成膜用シリカゾル液40を溜め、基材上部から成膜用シリカゾル液40を流し込みセル23内を通過させた。その後基材上部から風速5m/sの風を送り、余剰なシリカゾルを除去した。なお、この成膜工程により、内側壁の全体に成膜されることを確認した。
成膜用シリカゾル液40を流し込んでシリカゾルを付着させた多孔質基材11のセル23内を、30秒以内に除湿送風機30を用いて室温の風を通過させて30分間乾燥させた。なお、風速は、5〜20m/s、風露点は、−70〜0℃とした。また、比較例1〜2は、風露点が0℃より高い風を用いて乾燥させた。
多孔質基材11の外周面のマスキングテープを取り外し、電気炉で25℃/hrにて昇温し、500℃で1時間保持した後、25℃/hrで降温した。尚、上記(3)〜(5)の操作を2回繰り返して実施例の試料を得た。
水−エタノールの分離試験を行った。具体的には、12L/minの送液速度でシリカ膜1が形成されたモノリス(多孔質基材11)のセル23内を、温度70℃、エタノール濃度90質量%、水10質量%の水溶液を流通させた。このとき、基材側面から約2〜5Paの真空度で減圧し、基材側面からの透過液を液体窒素トラップで捕集した。トラップで捕集した透過液と透過前の原液のエタノール濃度から分離係数を算出した。また、分離係数及び透過流束を表1に示す。
Claims (6)
- 多孔質基材上にシリカゾルを付着させ、
露点が−70〜0℃の風を風速5〜20m/sで前記シリカゾルに送風することにより前記シリカゾルを乾燥させ、
その後焼成することによりシリカ膜を製造するシリカ膜の製造方法。 - 前記シリカゾルを流し込みにより付着させる請求項1に記載のシリカ膜の製造方法。
- 前記多孔質基材が筒状であり、その多孔質基材を縦方向に配置し、前記多孔質基材の上部から前記風を送風することにより前記シリカゾルを乾燥させる請求項1又は2に記載のシリカ膜の製造方法。
- 前記多孔質基材上に前記シリカゾルを付着させた後、30秒以内に前記風を送風することにより前記シリカゾルを乾燥させる請求項1〜3のいずれか1項に記載のシリカ膜の製造方法。
- 前記シリカゾルは、シリカを0.3〜2質量%含む請求項1〜4のいずれか1項に記載のシリカ膜の製造方法。
- 前記シリカ膜の成膜回数が3回以下で、分離係数が2000以上の前記シリカ膜を製造する請求項1〜5のいずれか1項に記載のシリカ膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011541427A JP5897334B2 (ja) | 2010-03-24 | 2011-01-28 | シリカ膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010067812 | 2010-03-24 | ||
JP2010067812 | 2010-03-24 | ||
PCT/JP2011/051718 WO2011118252A1 (ja) | 2010-03-24 | 2011-01-28 | シリカ膜の製造方法 |
JP2011541427A JP5897334B2 (ja) | 2010-03-24 | 2011-01-28 | シリカ膜の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011118252A1 JPWO2011118252A1 (ja) | 2013-07-04 |
JP5897334B2 true JP5897334B2 (ja) | 2016-03-30 |
Family
ID=44672830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011541427A Active JP5897334B2 (ja) | 2010-03-24 | 2011-01-28 | シリカ膜の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9403130B2 (ja) |
EP (1) | EP2556882B1 (ja) |
JP (1) | JP5897334B2 (ja) |
WO (1) | WO2011118252A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5829902B2 (ja) * | 2011-12-21 | 2015-12-09 | 日本碍子株式会社 | フィルタおよびその製造方法 |
WO2013145857A1 (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-03 | 日本碍子株式会社 | 分離膜の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5048371B2 (ja) | 2007-03-29 | 2012-10-17 | 日本碍子株式会社 | セラミック多孔質膜の製造方法及びセラミックフィルタの製造方法 |
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-
2011
- 2011-01-28 WO PCT/JP2011/051718 patent/WO2011118252A1/ja active Application Filing
- 2011-01-28 JP JP2011541427A patent/JP5897334B2/ja active Active
- 2011-01-28 EP EP11758358.3A patent/EP2556882B1/en active Active
- 2011-09-23 US US13/242,552 patent/US9403130B2/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9403130B2 (en) | 2016-08-02 |
EP2556882B1 (en) | 2022-11-09 |
EP2556882A1 (en) | 2013-02-13 |
EP2556882A4 (en) | 2017-04-05 |
US20120009346A1 (en) | 2012-01-12 |
WO2011118252A1 (ja) | 2011-09-29 |
JPWO2011118252A1 (ja) | 2013-07-04 |
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