JP2002252505A - 高周波用配線基板 - Google Patents

高周波用配線基板

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JP2002252505A
JP2002252505A JP2001051005A JP2001051005A JP2002252505A JP 2002252505 A JP2002252505 A JP 2002252505A JP 2001051005 A JP2001051005 A JP 2001051005A JP 2001051005 A JP2001051005 A JP 2001051005A JP 2002252505 A JP2002252505 A JP 2002252505A
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frequency
conductor
ground conductor
wiring board
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Hisayoshi Wada
久義 和田
Katsuyuki Yoshida
克亨 吉田
Takayuki Shirasaki
隆行 白崎
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Original Assignee
Kyocera Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L2924/1903Structure including wave guides

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 コプレーナ線路構造を有する高周波配線基板
において、信号線路と貫通導体との間の不要なキャパシ
タンス成分により、信号線路の特性インピーダンスが低
下してその不整合を生じ、高周波信号の反射損失および
伝送特性が劣化するという問題点があった。 【解決手段】 単層以上の誘電体層から成る誘電体基板
2の下面及び/又は誘電体層間に形成された接地導体3
と、誘電体基板2の上面の信号線路4と、信号線路4の
両側及び周囲に所定の間隔をもって形成された同一面接
地導体5と、接地導体3及び同一面接地導体5を電気的
に接続する貫通導体6とを具備し、信号線路4と接地導
体3との最小間隔をH、信号線路4と同一面接地導体5
との間隔をS、同一面接地導体5の信号線路4側の端と
貫通導体6との間隔をLとした場合、H>SかつH−S
<L<λ/4(λは高周波信号の波長)である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、GHz帯域等の高
周波帯域で使用されるIC,LSI等の高周波回路部
品,高周波回路装置と駆動回路,制御回路等との間にあ
ってそれらを接続するための高周波用配線基板に関し、
特に高周波信号の伝送特性を改善したコプレーナ線路構
造を有する高周波用配線基板に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、高周波回路部品実装用の高周波用
配線基板としては、IC,LSI等の高周波回路部品に
おける動作速度の高速化、高周波化に伴い、高周波信号
の反射損失及び伝送損失が少ない配線基板が求められて
いる。
【0003】従来、高周波の電気信号を伝送する配線基
板としては、マイクロストリップ線路構造及びコプレー
ナ線路構造が多く用いられている。特に、低反射損失、
低伝送損失を求められていることから、コプレーナ線路
構造を有する高周波用配線基板を用いることが一般的で
ある。コプレーナ線路構造を有する高周波用配線基板と
は、誘電体基板の上面に信号線路を形成し、その両側に
所定の間隔だけはなして同一面接地導体を形成したもの
である。また、コプレーナ構造を有する高周波用配線基
板の下面側にも接地導体を形成し、上下面の同一面接地
導体と接地導体とを貫通導体で電気的に接続した下面
(裏面)接地導体付きコプレーナ線路もよく用いられ、
導電性接続部材を介して高周波回路部品や高周波回路装
置に接続される。このコプレーナ線路構造は、マイクロ
ストリップ線路構造に比べて反射損失及び伝送損失が小
さいため、30GHz以上のミリ波のような高周波帯で
多用されるようになってきたが、反射損失及び伝送損失
がまだ十分小さいとは言い得ないのが現状である。
【0004】このような従来のコプレーナ線路構造を有
する高周波用配線基板を図9に示す。同図の高周波用配
線基板11においては、30GHz以上のミリ波帯にな
ると、信号線路14に沿って信号線路14の両側に形成
された同一面接地導体15と接地導体13とを電気的に
接続する貫通導体16間の間隔L2、または、信号線路
14の両側に形成された貫通導体16間の間隔L3によ
る共振が生じ、反射損失及び伝送損失が大きくなるとい
う問題点があった。
【0005】そこで、高周波用配線基板11において信
号線路14両側に形成される貫通導体16間の間隔L3
による共振を無くす技術として、例えば、間隔L3を信
号線路14を伝送する高周波信号の波長の2分の1より
小さくすることにより、貫通導体16間の間隔による共
振をなくすことができ、コプレーナ線路構造のミリ波帯
における伝送損失を改善できるものが提案されている
(特開平2000−216603号公報参照)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図9に
示した従来のコプレーナ線路構造を有する高周波用配線
基板11においては、周波数が高くなるにつれて、信号
線路14の両側に形成される貫通導体16間の間隔L3
を短かくする必要があるが、そうすると信号線路14と
貫通導体16との間に不要なキャパシタンス成分が発生
し、信号線路14の特性インピーダンスが下がってしま
い、特性インピーダンスの不整合を生じるという問題が
あった。
【0007】また、間隔L3を短かくするに伴い、信号
線路14と同一面接地導体15の間隔が狭まってしま
い、信号線路14の両側とそれに対向する同一面接地導
体15の端に電界が集中してしまい、高周波抵抗が増加
する。その結果、高周波信号の反射損失及び伝送損失が
増大し、伝送特性が劣化するという問題点があった。ま
た、間隔L3が短かすぎると、誘電体基板12自身の強
度が低下し、クラックを起こし易いという問題もあっ
た。
【0008】従って、本発明は、上記問題点に鑑みて案
出されたものであり、その目的は、コプレーナ線路構造
を有する高周波用配線基板において、誘電体基板の強度
を保持して、信号線路と貫通導体との間に不要なキャパ
シタンス成分が生じるのをなくし、信号線路の特性イン
ピーダンスを整合させ、また信号線路の両側に電界が集
中するのを防いで高周波信号の反射損失及び伝送損失を
低減することである。そして、マイクロ波帯からミリ波
帯にわたって高周波信号の伝送特性を良好とした高周波
用配線基板を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の高周波用配線基
板は、単層の誘電体層から成るかまたは複数の誘電体層
を積層して成る誘電体基板の下面および/または前記誘
電体層間に形成された接地導体と、前記誘電体基板の上
面に形成された高周波信号伝送用の信号線路と、該信号
線路の両側および周囲に所定の間隔をもって形成された
同一面接地導体と、前記接地導体および前記同一面接地
導体を電気的に接続する貫通導体とを具備した高周波用
配線基板において、前記信号線路と前記接地導体との最
小間隔をH、前記信号線路と前記同一面接地導体との間
隔をS、前記同一面接地導体の前記信号線路側の端と前
記貫通導体との間隔をLとした場合、H>SかつH−S
<L<λ/4(λは信号線路を伝送する高周波信号の波
長)であることを特徴とする。
【0010】本発明は、上記の構成により、誘電体基板
の強度を保持できるためクラック等が生じることがな
く、また信号線路と貫通導体との間に不要なキャパシタ
ンス成分が生じるの防いで特性インピーダンスを整合さ
せ、その結果高周波信号の反射損失及び伝送損失を低減
できる。従って、マイクロ波帯からミリ波帯にわたって
高周波信号の伝送特性が良好とされた高周波用配線基板
となる。
【0011】本発明の高周波配線基板において、好まし
くは、H/2<S<λ/4であることを特徴とする。
【0012】このような構成により、信号線路の両側に
電界が集中することなくなり、高周波信号の反射損失及
び伝送損失を低減できる。その結果、マイクロ波帯から
ミリ波帯にわたってさらに高周波信号の伝送特性が良好
な高周波用配線基板となる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の高周波用配線基板
を図面に基づいて説明する。図1〜図3は、本発明の高
周波用配線基板の実施の形態の一例を示す斜視図、平面
図および断面図である。これらの図において、1は高周
波用配線基板、2は単層の誘電体層から成るかまたは複
数の誘電体層を積層して成る誘電体基板であり、下面お
よび/または内層に接地導体3を有している。また、4
は信号線路、5は信号線路4の両側に所定の間隔をもっ
て形成された同一面接地導体、6は、同一面接地導体5
と接地導体3とを接続する貫通導体である。これによ
り、信号線路4と同一面接地導体5と接地導体3とでコ
プレーナ線路を構成する。
【0014】そして、本発明の高周波用配線基板1にお
いては、図1〜図3に示すように、信号線路4と接地導
体3との最小間隔Hと、信号線路4と同一面接地導体5
との間隔Sと、同一面接地導体5の信号線路4側の端と
貫通導体6との最小間隔Lとが、H>SかつH−S<L
<λ/4である。
【0015】H<Sの場合、信号線路4と同一面接地導
体5および貫通導体6との間のキャパシタンス成分より
も、信号線路4とその直下にある接地導体3との間のキ
ャパシタンス成分の方が大きく支配的となる。その結
果、信号線路4の特性インピーダンスは、信号線路4の
伝送方向に垂直な断面において貫通導体6の有る部分と
無い部分での差が殆ど生じず、伝送特性が劣化しない。
【0016】しかし、近年の高密度配線化に対応するた
めに、信号線路4と同一面接地導体5との間隔Sを狭く
すると信号線路4と接地導体3との最小間隔Hすなわち
誘電体基板2の厚みが薄くなり、その結果、製造が非常
に困難になる。
【0017】H>Sの場合、信号線路4とその直下にあ
る接地導体3との間のキャパシタンス成分よりも、信号
線路4と同一面接地導体5および貫通導体6との間のキ
ャパシタンス成分の方が大きく支配的となる。その結
果、高周波信号が伝送される信号線路4の伝送方向に垂
直な断面において貫通導体6の有る部分と無い部分で特
性インピーダンスに差が生じ、伝送特性が劣化し易くな
る。しかし、信号線路4と接地導体3との最小間隔Hと
信号線路4と同一面接地導体5との間隔Sとの差である
H−Sが、同一面接地導体5の信号線路4側の端と貫通
導体6との最小間隔L程度よりも小さい、すなわち、H
−S<Lとすると、上記のような特性インピーダンスの
差が生じず、伝送特性が劣化しない。
【0018】さらに、H>Sであるため、近年の高密度
配線化に対応するために、信号線路4と同一面接地導体
5との間隔Sを狭くしても、信号線路4と接地導体3と
の最小間隔Hすなわち誘電体基板2の厚みを薄くする必
要が無く、その結果、容易に製造が可能となる。
【0019】また、同一面接地導体5の信号線路4側の
端と貫通導体6との最小間隔Lは、信号線路4を伝送す
る高周波信号の波長の4分の1より小さくしないとスタ
ブによる共振が生じてしまう。従って、高密度配線化に
対応し、かつ、良好な高周波信号の伝送特性を得るに
は、H−S<L<λ/4とする必要がある。
【0020】さらに伝送特性を向上させるには、信号線
路4と接地導体3との最小間隔Hと、信号線路4と同一
面接地導体5との間隔Sとが、H/2<S<λ/4の関
係となるように設定するのが好ましい。信号線路4と同
一面接地導体5との間隔Sを信号線路4と接地導体3と
の最小間隔Hの2分の1より大きくすることにより、信
号線路4の両側に電界が集中することがなく、高周波信
号の反射損失及び伝送損失を低減出来る。また、信号線
路4と同一面接地導体5との間隔Sは、信号線路4を伝
送する高周波信号の波長の4分の1より小さくしないと
放射による共振が生じてしまう。よって、良好な高周波
信号の伝送特性を得るには、H/2<S<λ/4とする
必要がある。
【0021】次に、図4〜図6に、本発明の高周波用配
線基板について実施の形態の他の例を平面図で示す。こ
れらの図において、図3と同様の箇所には同じ符号を付
しており、1は高周波用配線基板、2は誘電体基板、4
は誘電体基板2の上面に形成された信号線路、5は信号
線路4の両側に所定間隔をもって形成された同一面接地
導体、6は同一面接地導体5と接地導体3(図示せず)
とを電気的に接続する貫通導体である。信号線路4と同
一面接地導体5とで形成されたコプレーナ線路部により
高周波回路部品や高周波回路装置との接続が行われる。
【0022】図4の高周波配線基板1では、同一面接地
導体5を信号線路4の周囲を取り囲むように形成し、接
地導体3と同一面接地導体5とを接続する貫通導体6も
同一面接地導体5と同様に信号線路4の周囲に取り囲む
ように形成されている。
【0023】そして、上記の構成により、貫通導体6を
信号線路4の周囲に取り囲むように形成していることに
より、信号線路4からの電磁波の放射が抑制され、コプ
レーナ線路部での良好な高周波信号の伝送特性が実現で
きる。
【0024】図5の高周波配線基板1では、同一面接地
導体5を信号線路4の周囲に取り囲むように形成し、接
地導体3と同一面接地導体5とを接続する貫通導体6も
同一面接地導体5と同様に信号線路4の周囲を取り囲む
ように形成されている。さらに、貫通導体6は、信号線
路4に対して内側と外側に略2重に配列されているとと
もに、内側と外側のそれぞれの側が相手側のピッチ間隔
の略中心の位置に形成されている。
【0025】そして、上記の構成により、高周波信号の
放射をより抑えるために貫通導体6を1重構造にしてピ
ッチ間隔を狭くする必要がなくなり、高周波配線基板1
の強度の低下を防ぐことができる。よって、図5のよう
な貫通導体6の位置により、高周波用配線基板1の強度
を保ったまま、電磁波の放射がさらに抑制される。その
結果、コプレーナ線路部での良好な高周波信号の伝送特
性が実現される。
【0026】図6の高周波配線基板1では、貫通導体6
の一部を、高周波配線基板1の入出力端部の誘電体基板
2側面に上下面を貫通する切欠部を形成し、その切欠部
にメタライズ層等の導体層を形成したキャスタレーショ
ン導体を形成したものとした構成である。このように、
貫通導体6は、断面が円形等の貫通孔に限らず、誘電体
基板2の上下面を貫通するように側面を切り欠き、その
切欠部の内面に導体層を形成したものでもよい。また、
同一面接地導体5内に信号線路4の線路方向に略平行な
方向に配列するように他の貫通導体6を形成している。
【0027】そして、上記の構成により、キャスタレー
ション導体から成る貫通孔6が、他の貫通導体6よりも
径が小さい貫通導体20,21を形成した場合と同様の
効果を奏する。即ち、貫通導体20,21により高周波
配線基板1の入出力部におけるインピーダンス制御を高
精度に行うことと同様の効果を得られる。また径の小さ
な貫通導体20,21を入出力部といった狭い領域に形
成することは、高周波配線基板1の強度を保持する上で
困難であることから、図6の構成により、高周波用配線
基板1の強度を保持して高精度のインピーダンス制御を
行うことができる。よって、高周波用配線基板1の強度
を保ったまま、高周波用配線基板1の入出力部近傍での
特性インピーダンスの精密な整合ができる。
【0028】また、誘電体基板2側面に形成された貫通
導体6は、幅を容易に調整することができ、例えば幅を
大きくして導体抵抗およびインダクタンス成分を低減す
ることができる。その結果、コプレーナ線路部での良好
な高周波信号の伝送特性が実現できる。
【0029】本発明の誘電体基板2としては、例えばア
ルミナセラミックスやムライトセラミックス等のセラミ
ックス材料やガラスセラミックス等の無機系材料、ある
いは四ふっ化エチレン樹脂(ポリテトラフルオロエチレ
ン;PTFE),四ふっ化エチレン−エチレン共重合樹
脂(テトラフルオロエチレン−エチレン共重合樹脂;E
TFE),四ふっ化エチレン−パーフルオロアルコキシ
エチレン共重合樹脂(テトラフルオロエチレン−パーフ
ルテロアルキルビニルエーテル共重合樹脂;PFA)等
のフッ素樹脂,ガラスエポキシ樹脂,ポリイミド等の樹
脂系材料などが用いられる。これら誘電体基板2の形
状、寸法(厚みや幅、長さ)は、使用される高周波信号
の周波数や特性インピーダンスなどに応じて設定され
る。
【0030】本発明の信号線路4は高周波信号伝送用の
金属材料の導体層、例えばCu層、Mo−Mnのメタラ
イズ層上にNiメッキ層およびAuメッキ層を被着させ
たもの、Wのメタライズ層上にNiメッキ層およびAu
メッキ層を被着させたもの、Cr−Cu合金層、Cr−
Cu合金層上にNiメッキ層およびAuメッキ層を被着
させたもの、Ta2N層上にNi−Cr合金層およびA
uメッキ層を被着させたもの、Ti層上にPt層および
Auメッキ層を被着させたもの、またはNi−Cr合金
層上にPt層およびAuメッキ層を被着させたもの等を
用いて、厚膜印刷法あるいは各種の薄膜形成方法やメッ
キ法などにより形成される。その厚みや幅も伝送される
高周波信号の周波数や特性インピーダンスなどに応じて
設定される。
【0031】また、同一面接地導体5は信号線路4と同
様の材料で同様の方法により形成すればよく、信号線路
4と同一面接地導体5との間隔は伝送される高周波信号
の周波数や特性インピーダンスなどに応じて設定され
る。
【0032】接地導体3は、信号線路4や同一面接地導
体5と同様の材料を用いて同様の方法により被着形成す
ればよい。なお、導体層として形成する場合の他に、他
の導電性部材、例えば金属板や金属ブロックを取着する
ことにより形成してもよい。
【0033】また、貫通導体6は、例えばスルーホール
導体やビアホール導体を形成することにより、あるいは
金属板,金属棒,金属パイプ等を埋設することにより形
成すればよい。
【0034】本発明の高周波用配線基板1の作製にあた
っては、例えば誘電体基板2がアルミナセラミックスか
らなる場合であれば、まず誘電体基板2となるアルミナ
セラミックスのグリーンシートを準備し、これに所定の
打ち抜き加工を施して貫通導体6となる貫通孔を形成し
た後、スクリーン印刷法によりWやMoなどの導体ペー
ストを貫通孔に充填するとともに、所定の信号線路4の
パターン、およびその他の導体層のパターンを印刷塗布
する。次に、1600℃で焼成を行い、最後に各導体層
上にNiメッキおよびAuメッキを施す。
【0035】本発明の高周波用配線基板1は、信号線路
4と同一面接地導体5とを、高周波回路部品および高周
波回路装置と接続して使用されるものであり、例えば外
部の駆動回路,制御回路等と、高周波回路部品および高
周波回路装置とのインピーダンス整合用として機能す
る。
【0036】かくして、本発明は、広帯域において良好
な高周波伝送ができるという作用効果を有する。
【0037】
【実施例】本発明の高周波用配線基板の実施例について
以下に説明する。
【0038】(実施例)図1〜図3に示した本発明の高
周波用配線基板1として、比誘電率が8.6のアルミナ
セラミックスからなり、厚みがそれぞれ0.4mmの2
層の誘電体層を積層して成る誘電体基板2を用いた。こ
の誘電体基板2の内層にはWメタライズ層からなる接地
導体3、また誘電体基板2の下面のほぼ全面にはWメタ
ライズ層上にNiメッキ層およびAuメッキ層を順次被
着させたものからなる接地導体3をそれぞれ形成した。
誘電体基板2の上面には信号線路4として、0.15m
mの線幅のWメタライズ層上にNiメッキ層およびAu
メッキ層を順次被着させたものからなる線路導体を形成
した。信号線路4の長さは10mmとした。
【0039】信号線路4の両側に0.1mmの間隔をも
って同一面接地導体5を形成した。貫通導体6はWメタ
ライズからなり、断面形状が直径0.1mmの円形で、
高周波信号の伝送方向に平行に左右に並べて配列形成し
た。同一面接地導体5の信号線路4側の端と貫通導体6
との最小間隔Lは0.35mmとした。これにより、本発
明の高周波用配線基板1の試料A1を得た。
【0040】また、試料A1と同様に、比誘電率が8.
6のアルミナセラミックスからなり、厚みがそれぞれ
0.2mmの2層の誘電体層を積層した誘電体基板2を
用い、その内層にはWメタライズ層からなる接地導体
3、またその下面のほぼ全面にはWメタライズ層,Ni
メッキ層およびAuメッキ層を順次被着させた接地導体
3をそれぞれ形成した。誘電体基板2の上面には信号線
路4として、0.15mmの線幅のWメタライズ層上に
Niメッキ層およびAuメッキ層を順次被着させたもの
からなる線路導体を形成した。信号線路4の長さは、1
0mmとした。
【0041】信号線路4の両側に0.18mmの間隔を
もって同一面接地導体5を形成した。貫通導体6はWメ
タライズからなり、断面形状が直径0.1mmの円形
で、高周波信号の伝送方向に平行に左右に並べて配列形
成した。同一面接地導体5の信号線路4側の端と貫通導
体6との最小間隔Lは0.35mmに配置した。これによ
り、本発明の高周波用配線基板1の試料A2を得た。
【0042】一方、比較例として、図9に示すものを以
下のようにして構成した。試料A1と同様にして、誘電
体基板12,信号線路14,接地導体13,同一面接地
導体15を形成した。貫通導体16はWメタライズから
なり、断面形状が0.1mmの直径を有する円形である
ものとした。同一面接地導体15の信号線路14側の端
と貫通導体16との最小間隔Lは0.10mmとし、試料
Bを作製した。
【0043】これらの試料A1と試料A2および試料B
について、ウェハプローブを用いてネットワークアナラ
イザに接続し、各試料について高周波信号に対する反射
損失及び伝送損失の測定を行った。反射損失の結果を図
7に示し、伝送損失の結果を図8に示す。
【0044】図7は、試料A1および試料Bにおける反
射損失を示すグラフであり、横軸は周波数(GHz)
を、縦軸は反射損失(dB)を表わしている。また、特
性曲線のうち実線は試料A1、破線は試料Bの反射損失
の周波数特性をそれぞれ示している。
【0045】図7の結果より、本発明の試料A1は、周
波数70GHzまでの全帯域で反射損失が−20dB以
下と低損失を実現している。比較例の試料Bは、70G
Hzまでの全帯域で反射損失が大きくなっており、その
値は−20dBを超えている。従って、本発明の試料A
は、図7の全帯域において反射損失の劣化は見られず、
良好な特性が得られた。
【0046】また、図8は、試料A1,A2における伝
送損失を示すグラフであり、横軸は周波数(GHz)
を、縦軸は伝送損失(dB)を表わしている。また、特
性曲線のうち実線は試料A2、破線は試料A1の伝送損
失の周波数特性をそれぞれ示している。
【0047】図8の結果より、本発明の試料A2は、周
波数70GHzまでの全帯域で約−1.2dBよりも伝
送損失が小さかった。試料A1は、周波数約55GHz
までの帯域で約−1.2dBよりも伝送損失が小さく、
約55GHzを超えると伝送損失が大きくなった。
【0048】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の
変更を行っても差し支えない。例えば、上記実施例では
2層の誘電体層から成る誘電体基板2を有する高周波配
線基板1を示したが、誘電体基板2は単層または3層以
上であってもよく、接地導体3も同様である。
【0049】
【発明の効果】本発明は、単層の誘電体層から成るかま
たは複数の誘電体層を積層して成る誘電体基板の下面お
よび/または誘電体層間に形成された接地導体と、誘電
体基板の上面に形成された高周波信号伝送用の信号線路
と、信号線路の両側および周囲に所定の間隔をもって形
成された同一面接地導体と、接地導体および同一面接地
導体を電気的に接続する貫通導体とを具備し、信号線路
と接地導体との最小間隔をH、信号線路と同一面接地導
体との間隔をS、同一面接地導体の信号線路側の端と貫
通導体との間隔をLとした場合、H>SかつH−S<L
<λ/4(λは信号線路を伝送する高周波信号の波長)
であることにより、誘電体基板の強度を保持できるため
クラック等が生じることがなく、また信号線路と貫通導
体との間に不要なキャパシタンス成分が生じるの防いで
特性インピーダンスを整合させ、その結果高周波信号の
反射損失及び伝送損失を低減できる。従って、マイクロ
波帯からミリ波帯にわたって高周波信号の伝送特性が良
好とされた高周波用配線基板となる。
【0050】また本発明は、好ましくはH/2<S<λ
/4であることにより、信号線路の両側に電界が集中す
ることなくなり、高周波信号の反射損失及び伝送損失を
低減できる。その結果、マイクロ波帯からミリ波帯にわ
たってさらに高周波信号の伝送特性が良好な高周波用配
線基板となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の高周波用配線基板について実施の形態
の例を示す斜視図である。
【図2】図1の高周波用配線基板の平面図である。
【図3】図1の高周波用配線基板の断面図である。
【図4】本発明の高周波用配線基板について実施の形態
の他の例を示す平面図である。
【図5】本発明の高周波用配線基板について実施の形態
の他の例を示す平面図である。
【図6】本発明の高周波用配線基板について実施の形態
の他の例を示す平面図である。
【図7】本発明の高周波用配線基板と従来の高周波用配
線基板の反射損失をそれぞれ示すグラフである。
【図8】本発明の高周波用配線基板における伝送損失を
示すグラフである。
【図9】従来の高周波用配線基板の例を示す斜視図であ
る。
【符号の説明】
1:高周波用配線基板 2:誘電体基板 3:接地導体 4:信号線路 5:同一面接地導体 6:貫通導体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E338 AA03 AA18 BB13 BB23 CC06 CD13 EE11 5E346 AA13 AA42 AA52 BB03 BB04 BB06 CC17 CC21 CC36 CC37 CC38 DD22 HH03 HH06

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 単層の誘電体層から成るかまたは複数の
    誘電体層を積層して成る誘電体基板の下面および/また
    は前記誘電体層間に形成された接地導体と、前記誘電体
    基板の上面に形成された高周波信号伝送用の信号線路
    と、該信号線路の両側および周囲に所定の間隔をもって
    形成された同一面接地導体と、前記接地導体および前記
    同一面接地導体を電気的に接続する貫通導体とを具備し
    た高周波用配線基板において、前記信号線路と前記接地
    導体との最小間隔をH、前記信号線路と前記同一面接地
    導体との間隔をS、前記同一面接地導体の前記信号線路
    側の端と前記貫通導体との最小間隔をLとした場合、H
    >SかつH−S<L<λ/4(λは信号線路を伝送する
    高周波信号の波長)であることを特徴とする高周波用配
    線基板。
  2. 【請求項2】 H/2<S<λ/4であることを特徴と
    する請求項1記載の高周波用配線基板。
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