JP4462782B2 - 高周波用配線基板 - Google Patents
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Description
【発明が属する技術分野】
本発明は、高周波帯域で使用されるIC,LSI等の高周波集積回路素子または高周波回路装置を接続し搭載するための高周波用配線基板に関し、特に高周波信号の伝送特性を改善した信号伝送用の貫通導体を有する高周波用配線基板に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、高性能で高集積のIC,LSI等の高周波集積回路素子を搭載するための高周波用配線基板には、絶縁性および放熱性に優れ、高周波信号を高速に伝送でき、かつ入出力端子を多端子化および狭ピッチ化することが可能であることが要求されてきている。このような要求特性を満足する高周波用配線基板として、例えばセラミック配線基板が知られている。
【0003】
このセラミック配線基板は、一般に、多層セラミック基板との同時焼結により形成された内部導体層を用いた信号線路が設けられている。この内部導体層を同時焼結法で形成するには、まずセラミックグリーンシートに配線パターン間を上下方向で接続するための貫通導体に応じてスルーホールを形成し、このスルーホール内にタングステン(W)やモリブデン(Mo)等の高融点金属を含む導電性ペーストを充填すると共に、セラミックグリーンシート上にも配線パターンに応じて導電性ペーストを印刷する。このセラミックグリーンシートを必要枚数重ね、一定の圧力で圧着し積層した後、セラミックグリーンシートと導体ペーストの同時焼成および脱脂を行う。このようにしてセラミックス配線基板から成る高周波用配線基板が得られる。
【0004】
ところで、近年、高周波集積回路素子の高性能化や高集積化に伴って、入出力信号数が増加する傾向にある。そこで、高周波集積回路素子を搭載する高周波用配線基板には、入出力信号数の増加に対応するために、内部信号配線となる内部導体層の配線密度を高密度化することが求められている。さらに、高周波集積回路素子の動作周波数は、動作速度の高速化を図るために漸次高周波化しており、このためセラミック配線基板には高周波信号の伝送特性の向上が求められている。
【0005】
しかしながら、上記の同時焼結による内部導体層を信号線路として用いたセラミック配線基板から成る高周波用配線基板の場合、WやMoから成る内部導体層自体の電気抵抗が比較的大きいことから、配線密度の増大を図るために配線幅を狭くすると、信号線路の電気抵抗がさらに増大し伝送損失が増大するという問題を招いてしまう。即ち、配線密度を高めるために信号線路の幅を狭くした場合、一般的に厚さも薄くなるため、信号線路の断面積が大幅に減少してしまい、配線抵抗が急増することとなる。そこで、信号線路の断面積を確保する構成として、信号線路を厚く形成して断面の縦横比(アスペクト比)を増大させることが考えられるが、スクリーン印刷法等の印刷法による場合単純に縦横比を増大させることは困難であり、また信号線路が厚くなるとセラミック層が層間で剥離し易くなり、高周波用配線基板の積層信頼性も低下してしまう。
【0006】
さらに、動作周波数を高周波化していくと、信号線路表面のみを高周波信号が伝送する表皮効果により信号線路の抵抗が増大することから、抵抗増大による問題が顕著になる。また、表皮効果による信号線路の抵抗およびインダクタンスの増加は、伝送特性の劣化のみならず、高周波集積回路素子の誤動作等の発生原因となる。
【0007】
このようなことから、従来の高周波用配線基板においては、信号線路の高密度化を行なったうえで、抵抗やインダクタンスの増大を抑制することが課題とされてきた。
【0008】
そこで、上記の課題を解決する高周波用配線基板として、例えば図11に示す高周波用配線基板21が提案されている(特許2822811号公報参照)。これは、複数の誘電体層が積層された誘電体基板22の内部信号線路23は、隣接する少なくとも2本以上で形成され、それぞれの内部信号線路23を信号用貫通導体25で電気的に接続するものである。これにより、並列接続された信号線路となり、信号線路のトータルの抵抗およびインダクタンスが低減される。また図12に示すような構成とすることもでき、この場合、隣接する内部信号線路23を複数の信号用貫通導体25で接続することにより、さらに信号線路のトータルの抵抗およびインダクタンスが低減される。このようにして高周波信号の伝送特性が改善できる。
【0009】
また、図13に示すような、高周波集積回路素子を搭載した高周波用パッケージ31が提案されており、この高周波用パッケージ31においては、誘電体基板22の上面と下面に信号線路23が形成され、側面と内部に2つの信号用貫通導体25が形成されており、上下面の信号線路23は信号用貫通導体25を介して電気的に接続されている。この構成によれば、信号用貫通導体25を2つ形成し、それぞれ信号線路23に対して並列接続した構造となり、高周波信号を伝送する信号線路のトータルの抵抗およびインダクタンスを低減できる。この構成により、さらに伝送特性が改善できる(特開平7−50362号公報参照)。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図13に示した上記従来の高周波用配線基板31においては、高周波化されるにつれて、信号用貫通導体25の長さと信号用貫通導体25間の間隔による共振により、電磁波の漏洩が生じてしまう。その結果、高周波信号の伝送特性が劣化するという問題点があった。
【0011】
また、図11,図12の高周波用配線基板21においては、信号線路のトータルの抵抗およびインダクタンスは低減されるが、高周波化するにつれて2本以上の内部信号線路23間の間隔による共振及び信号用貫通導体25の間隔による共振により、電磁波の漏洩が生じてしまう。その結果、高周波信号の伝送特性が劣化するという問題点があった。
【0012】
従って、本発明は上記問題点に鑑み完成されたものであり、その目的は、信号用貫通導体の長さと信号用貫通導体間の間隔による共振をなくし、また高周波信号を伝送する信号用の貫通導体の抵抗およびインダクタンスを低減させて特性インピーダンスを整合させることにより、電磁波の漏洩を抑制することである。その結果、マイクロ波帯からミリ波帯にわたって高周波信号の伝送特性を良好なものとした高周波用配線基板を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明の高周波用配線基板は、複数の誘電体層を積層して成る誘電体基板と、該誘電体基板における一つの前記誘電体層の主面に形成され、一端が前記一つの誘電体層の主面内に存在する第1の線路導体と、前記誘電体基板における他の前記誘電体層の主面に形成され、一端が前記第1の線路導体の一端と上下方向で重なり前記第1の線路導体と略平行に一直線上に位置する第2の線路導体と、前記第1の線路導体の一端および前記第2の線路導体の一端を電気的に接続するとともに線路方向にずらして配置された2本の貫通導体と、互いに異なる前記誘電体層の主面にそれぞれ形成された接地導体層と、該接地導体層同士を電気的に接続する接地貫通導体とを具備し、前記貫通導体の長さをL1、前記2本の貫通導体間の距離をL2、前記第1の線路導体、前記貫通導体および前記第2の線路導体を伝送する高周波信号の波長をλとしたとき、前記L1と前記L2との和であるLが、L<λ/2であることを特徴とする。
【0014】
本発明は、L1とL2との和であるLをL<λ/2とすることにより、貫通導体間での高周波信号の共振の発生を防ぎ、また高周波信号を伝送する信号用の貫通導体の抵抗およびインダクタンスを低減させて特性インピーダンスを整合させることで電磁波の放射を抑制することができる。その結果、広帯域にわたって伝送特性の良好な高周波用配線基板となる。
【0015】
【発明の実施の形態】
本発明の高周波用配線基板について以下に詳細に説明する。図1、図2は、本発明の高周波用配線基板について実施の形態の一例を示す断面図および平面図である。これらの図において、1は高周波用配線基板、2は複数の誘電体層を積層して成るセラミックス等から成る誘電体基板であり、例えば誘電体基板2の上下の主面に接地導体層6が形成され、上下の主面の接地導体層6は複数の接地貫通導体7で電気的に接続される。また、3は第1の線路導体、4は第2の線路導体であり、第1の線路導体3および第2の線路導体4間が、線路方向でずらせて配置された2本の信号用の貫通導体5で電気的に接続される。これにより、第1の線路導体3、第2の線路導体4および接地導体層6とによって、2本の貫通導体5で一端同士が接続されたストリップ線路を構成する。
【0016】
そして、本発明の高周波用配線基板1の基本構成は、誘電体基板2の一つの誘電体層の主面に一端がその主面内に存在するように形成された第1の線路導体3と、他の誘電体層の主面に一端を第1の線路導体3の一端と上下方向で重ねて第1の線路導体3と略平行に上方からみて一直線上に形成された第2の線路導体4と、第1の線路導体3の一端および第2の線路導体4の一端を電気的に接続するとともに線路方向にずらせて配置された複数の貫通導体5と、異なる誘電体層の主面にそれぞれ形成された接地導体層6と、接地導体層6同士を電気的に接続する接地貫通導体7とを具備したものである。
【0017】
そして、本発明の高周波用配線基板1においては、図1、図2に示すように、第1の線路導体3の貫通導体5との接続部のうち最も第2の線路導体4の一端側にある接続部Aと第2の線路導体4の貫通導体5との接続部のうち最も第1の線路導体3の一端側にある接続部Bとの信号伝送経路における距離をL、第1の線路導体3と貫通導体5および第2の線路導体4を伝送する高周波信号の波長をλとしたとき、L<λ/2である。なお、距離Lは、貫通導体5の長さL1と2本の貫通導体5間の距離L2の和になる。
【0018】
そして、上記の構成により、マイクロ波帯さらにはミリ波帯という高い周波数帯域で問題になる貫通導体5の抵抗およびインダクタンスを低減することができ、特性インピーダンスの整合がとれ、かつ、貫通導体5の長さと貫通導体5間の距離によって生じる高周波信号の共振をなくすことができる。その結果、貫通導体5を有する線路部での良好な高周波信号の伝送特性が実現できる。
【0019】
次に、図3〜図8に、本発明の高周波用配線基板1について実施の形態の他の例を断面図および平面図で示す。なお、図3〜図8において、図1および図2と同様の箇所には同じ符号を付してある。これらの図において、1は高周波用配線基板、2は誘電体基板、3は第1の線路導体、4は第2の線路導体、5は第1の線路導体3と第2の線路導体4を電気的に接続する貫通導体、6は誘電体基板2の上下の主面や内部に形成される接地導体層、7は接地導体層6間を電気的に接続する接地貫通導体である。
【0020】
図3、図4の高周波配線基板1は、第1の線路導体3が誘電体基板2の層間に、第2の線路導体4が誘電体基板2の下側主面にそれぞれ形成され、また誘電体基板2の上下の主面および内部に接地導体層6が形成され、誘電体基板2の下側主面では第2の線路導体4の周囲を取り囲むように接地導体層6が形成されている。接地導体層6間を電気的に接続する接地貫通導体7も接地導体層6と同様に第2の線路導体4の周囲を取り囲むように形成されている。2本の貫通導体5は、誘電体基板2の内部と下面にそれぞれ形成された第1の線路導体3と第2の線路導体4を電気的に接続する。
【0021】
そして、上記の構成により、第1の線路導体3と第2の線路導体4を貫通導体5で電気的に接続する貫通導体5の長さL1と貫通導体5間の距離L2による高周波信号の共振をなくし、高周波信号が伝送する貫通導体5の抵抗およびインダクタンスを低減させ、特性インピーダンスの整合がとれる。また、第2の線路導体4を接地導体層6と接地貫通導体7とで取り囲むように形成することによりコプレーナ線路を構成しており、これにより電磁波の放射が抑制される。従って、貫通導体5で接続されたストリップ線路部とコプレーナ線路部によって、良好な高周波信号の伝送特性が実現できる。
【0022】
図5、図6の高周波配線基板1は、第1の線路導体3が誘電体基板2の上側主面に、第2の線路導体4が誘電体基板2の下側主面にそれぞれ形成され、また誘電体基板2の上下の主面の接地導体層6が第1,第2の線路導体3,4の周囲を取り囲むように形成され、接地導体層6間を電気的に接続する接地貫通導体7も接地導体層6と同様に第1の線路導体3および第2の線路導体4の周囲を取り囲むように形成されている。第1の線路導体3と第2の線路導体4を接続する2本の貫通導体5は、誘電体基板2の上下の主面に形成された第1の線路導体3と第2の線路導体4を電気的に接続する。
【0023】
そして、上記の構成により、第1の線路導体3と第2の線路導体4を接続する貫通導体5の長さL1と貫通導体5間の距離L2によって生じる高周波信号の共振をなくし、高周波信号を伝送する貫通導体5の抵抗およびインダクタンスを低減させ、特性インピーダンスの整合がとれる。また、第1の線路導体3および第2の線路導体4を接地導体層6と接地貫通導体7で取り囲むように形成することによりコプレーナ線路を構成しており、これにより電磁波の放射が抑制される。従って、貫通導体5で接続されたコプレーナ線路部によって、良好な高周波信号の伝送特性が実現できる。
【0024】
図7、図8の高周波配線基板1は、第1の線路導体3が誘電体基板2の層間に、第2の線路導体4が誘電体基板2の下側主面にそれぞれ形成され、また接地導体層6が第2の線路導体4の周囲を取り囲むように形成され、接地導体層6間を接続する接地貫通導体7も接地導体層6と同様に第1,第2の線路導体3,4の周囲を取り囲むように形成されている。2本の貫通導体5は、第1の線路導体3と第2の線路導体4を電気的に接続する。第1の線路導体3の上層側には誘電体層が積層されている。
【0025】
そして、上記の構成により、第1の線路導体3と第2の線路導体4を接続する貫通導体5の長さL1と貫通導体5間の距離L2によって生じる高周波信号の共振をなくし、高周波信号を伝送する貫通導体5の抵抗およびインダクタンスを低減させ、特性インピーダンスの整合がとれる。また、第1の線路導体3および第2の線路導体4を接地導体層6と接地貫通導体7で取り囲むように形成することによりコプレーナ線路を構成しており、かつ第1の線路導体3の上層側に誘電体層が積層されているので、さらに電磁波の放射が抑制される。従って、貫通導体5で接続されたコプレーナ線路部によって、良好な高周波信号の伝送特性が実現できる。
【0026】
このように、第1の線路導体3、第2の線路導体4、貫通導体5、誘電体基板2、接地導体層6および接地貫通導体7の配置、形状は様々に形成することができる。
【0027】
本発明の高周波用配線基板における誘電体基板2の材料としては、アルミナ(Al2O3)セラミックスやムライト(3Al2O3・2SiO2)セラミックス等のセラミックス材料やガラスセラミックス等の無機系材料、四ふっ化エチレン樹脂(ポリテトラフルオロエチレン;PTFE),四ふっ化エチレン−エチレン共重合樹脂(テトラフルオロエチレン−エチレン共重合樹脂;ETFE),四ふっ化エチレン−パーフルオロアルコキシエチレン共重合樹脂(テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂;PFA)等のフッ素樹脂,ガラスエポキシ樹脂,ポリフェニレンエーテル樹脂,液晶ポリエステル,ポリイミド等の樹脂系材料などが用いられる。また、誘電体基板2の形状、寸法(厚み、幅、長さ)は、使用される高周波信号の周波数や特性インピーダンスなどに応じて設定される。
【0028】
本発明の第1の線路導体3および第2の線路導体4は、高周波信号伝送用として適した金属材料の導体層から成り、例えばCu層、Mo−Mn層、W層、Mo−Mnメタライズ層上にNiメッキ層およびAuメッキ層を被着させたもの、Wメタライズ層上にNiメッキ層およびAuメッキ層を被着させたもの、Cr−Cu合金層、Cr−Cu合金層上にNiメッキ層およびAuメッキ層を被着させたもの、Ta2N層上にNi−Cr合金層およびAuメッキ層を被着させたもの、Ti層上にPt層およびAuメッキ層を被着させたもの、またはNi−Cr合金層上にPt層およびAuメッキ層を被着させたものから成り、厚膜印刷法あるいは各種の薄膜形成法やメッキ処理法などにより形成される。その厚みや幅も伝送される高周波信号の周波数や特性インピーダンスなどに応じて設定される。
【0029】
また、接地導体層6は第1の線路導体3および第2の線路導体4と同様の材料で同様の方法により形成すればよく、第1の線路導体3および第2の線路導体4と接地導体層6との上下方向での間隔は、伝送される高周波信号の周波数や特性インピーダンスなどに応じて設定される。また、接地貫通導体7は接地導体層6同士を接続するように形成され、例えばスルーホール導体やビアホール導体を形成することにより、あるいは金属板、金属棒または金属パイプ等を埋設することにより設けることができる。また、複数の貫通導体5は、第1の線路導体3と第2の線路導体4とを電気的に接続するように形成され、例えばスルーホール導体やビアホール導体を形成することにより、あるいは金属板、金属棒または金属パイプ等を埋設することにより設けることができる。
【0030】
なお、複数の貫通導体5の本数は2〜4本が好ましい。4本より多くなると、貫通導体5の形成領域である第1の線路導体3と第2の線路導体との接続部の面積が大きくなり、誘電体基板2の面積も大きくなり、その結果高周波集積回路素子や高周波回路装置の小型化が困難になる。1本では、貫通導体5の導体抵抗およびインダクタンスが大きくなるため、インピーダンスの不整合が生じる。
【0031】
本発明の高周波用配線基板1の作製は以下のように行なう。例えば誘電体基板2がアルミナセラミックスからなる場合、まず誘電体基板2となるアルミナセラミックスのグリーンシートを準備し、これに所定の打ち抜き加工を施して貫通導体5および接地貫通導体7となる貫通孔を形成する。その後、スクリーン印刷法によりWやMoなどの導体ペーストを貫通孔に充填するとともに、第1の線路導体3と第2の線路導体4となる導体パターン、およびその他の導体層の導体パターンを印刷塗布する。次に、1600℃で焼成を行い、最後に各導体層上にNiメッキおよびAuメッキを施す。
【0032】
本発明において、高周波信号の周波数は30GHz程度以上がよく、その場合に上記本発明の効果が得られ易いものとなる。
【0033】
【実施例】
本発明の高周波用配線基板の実施例を以下に説明する。
【0034】
(実施例)
図1、図2に示した本発明の高周波用配線基板1として、比誘電率が8.6のアルミナセラミックスからなり、厚みが0.8mmの誘電体基板2の上下の主面のほぼ全面に、Wメタライズ層上にNiメッキ層およびAuメッキ層を被着させて成る接地導体層6を形成した。誘電体基板2の異なる誘電体層の主面、即ち内部の異なる層間に、第1の線路導体3および第2の線路導体4として0.1mmの線幅のWメタライズから成る線路導体をそれぞれ形成した。
【0035】
第1の線路導体3の一端と第2の線路導体4の一端とを接続する2本の貫通導体5は、Wメタライズから成り、横断面形状が直径0.1mmの略円形であり、長さL1は0.4mmであった。また、2本の貫通導体5間の距離L2は0.3mmとした。即ち、第1の線路導体3の接続部のうち最も第2の線路導体4の一端側にある接続部Aと第2の線路導体4の接続部のうち最も第1の線路導体3の一端側にある接続部Bとの信号伝送経路における距離Lは0.7mmであった。これにより、本発明の高周波用配線基板1の試料Aを得た。
【0036】
一方、比較例として、図10の構成のものを、試料Aと同様にして誘電体基板12、第1の線路導体13、第2の線路導体14、貫通導体15、接地導体層16を形成した。ただし、2本の貫通導体15間の距離L2は1.6mmとした。即ち、第1の線路導体3の接続部Aと第2の線路導体4の接続部Bとの信号伝送経路における距離Lは2mmであった。これにより、比較例の高周波用配線基板11である試料Bを得た。
【0037】
本発明および比較例の高周波配線基板1,11の試料A,Bのそれぞれについて、ネットワークアナライザを用いて高周波信号に対する伝送損失の測定を行った。その結果を図9に示す。図9は、試料A,Bにおける伝送損失を示すグラフであり、横軸は周波数(GHz)、縦軸は伝送損失(dB)を表わしている。また、特性曲線のうち実線は試料A、破線は試料Bの伝送損失の周波数特性を示している。これらの結果より、試料Bにおいては、25GHz、50GHz付近で伝送損失が劣化し、その値は−3dBを超えているが、試料Aにおいては、図示した周波数範囲で上記のような特性劣化は見られず、良好な特性が得られた。
【0038】
これにより、本発明の高周波用配線基板1によれば、第1の線路導体3の接続部Aと第2の線路導体4の接続部Bとの信号伝送経路における距離Lと、第1の線路導体3、第2の線路導体4および貫通導体5を伝送する高周波信号の波長λとの関係をL<λ/2、例えばLを30〜80GHzで1.7〜0.64mmに設定したことにより、マイクロ波帯さらにはミリ波帯という高い周波数帯域で問題になる貫通導体5の抵抗およびインダクタンスを低減することができ、特性インピーダンスの整合がとれる。また、貫通導体5の長さと貫通導体5間の距離によって生じる高周波信号の共振をなくし、貫通導体5を有する線路部での良好な高周波信号の伝送特性が実現できることを確認できた。
【0039】
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更を行っても差し支えない。例えば、上記実施例では貫通導体5を2本形成した例を示したが、接続部Aと接続部Bとの距離LがL<λ/2であれば貫通導体5が3本以上であっても良い。
【0040】
【発明の効果】
本発明は、貫通導体の長さをL1、2本の貫通導体間の距離をL2、第1の線路導体、貫通導体および第2の線路導体を伝送する高周波信号の波長をλとしたとき、L1とL2との和であるLが、L<λ/2であることにより、貫通導体の長さおよび貫通導体間の距離によって生じる高周波信号の共振の発生を防ぎ、また高周波信号を伝送する貫通導体の抵抗およびインダクタンスを低減させて特性インピーダンスを整合させることで電磁波の損失を抑制することができる。その結果、広帯域にわたって伝送特性の良好な高周波用配線基板となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の高周波用配線基板について実施の形態の例を示す断面図である。
【図2】本発明の高周波用配線基板について実施の形態の例を示す平面図である。
【図3】本発明の高周波用配線基板について実施の形態の他の例を示す断面図である。
【図4】本発明の高周波用配線基板について実施の形態の他の例を示す平面図である。
【図5】本発明の高周波用配線基板について実施の形態の他の例を示す断面図である。
【図6】本発明の高周波用配線基板について実施の形態の他の例を示す平面図である。
【図7】本発明の高周波用配線基板について実施の形態の他の例を示す断面図である。
【図8】本発明の高周波用配線基板について実施の形態の他の例を示す平面図である。
【図9】本発明の実施例および比較例の高周波用配線基板について高周波信号の伝送損失を示すグラフである。
【図10】従来の高周波用配線基板の例を示す断面図である。
【図11】従来の高周波用配線基板の例を示す断面図である。
【図12】従来の高周波用配線基板の例を示す断面図である。
【図13】従来の高周波用配線基板の例を示す断面図である。
【符号の説明】
1:高周波用配線基板
2:誘電体基板
3:第1の線路導体
4:第2の線路導体
5:貫通導体
6:接地導体層
7:接地貫通導体
Claims (1)
- 複数の誘電体層を積層して成る誘電体基板と、該誘電体基板における一つの前記誘電体層の主面に形成され、一端が前記一つの誘電体層の主面内に存在する第1の線路導体と、前記誘電体基板における他の前記誘電体層の主面に形成され、一端が前記第1の線路導体の一端と上下方向で重なり前記第1の線路導体と略平行に一直線上に位置する第2の線路導体と、前記第1の線路導体の一端および前記第2の線路導体の一端を電気的に接続するとともに線路方向にずらして配置された2本の貫通導体と、互いに異なる前記誘電体層の主面にそれぞれ形成された接地導体層と、該接地導体層同士を電気的に接続する接地貫通導体とを具備した高周波用配線基板であって、
前記貫通導体の長さをL1、前記2本の貫通導体間の距離をL2、前記第1の線路導体、前記貫通導体および前記第2の線路導体を伝送する高周波信号の波長をλとしたとき、前記L1と前記L2との和であるLが、L<λ/2であることを特徴とする高周波用配線基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001129801A JP4462782B2 (ja) | 2001-04-26 | 2001-04-26 | 高周波用配線基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001129801A JP4462782B2 (ja) | 2001-04-26 | 2001-04-26 | 高周波用配線基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002325004A JP2002325004A (ja) | 2002-11-08 |
JP4462782B2 true JP4462782B2 (ja) | 2010-05-12 |
Family
ID=18978279
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001129801A Expired - Fee Related JP4462782B2 (ja) | 2001-04-26 | 2001-04-26 | 高周波用配線基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4462782B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100544559C (zh) * | 2004-03-09 | 2009-09-23 | 日本电气株式会社 | 用于多层印刷电路板的通孔传输线 |
JP4990021B2 (ja) * | 2007-05-14 | 2012-08-01 | 三菱電機株式会社 | 高周波伝送線路 |
US20100254094A1 (en) * | 2007-10-25 | 2010-10-07 | Risato Ohhira | High-Frequency Wiring Board and High-Frequency Module That Uses the High-Frequency Wiring Board |
JP2011216957A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 高周波回路基板 |
JP7136884B2 (ja) * | 2018-03-08 | 2022-09-13 | 京セラ株式会社 | 発光素子搭載用基板および発光装置 |
-
2001
- 2001-04-26 JP JP2001129801A patent/JP4462782B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002325004A (ja) | 2002-11-08 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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