JP2002239352A - 水素透過構造体およびその製造方法 - Google Patents
水素透過構造体およびその製造方法Info
- Publication number
- JP2002239352A JP2002239352A JP2001039745A JP2001039745A JP2002239352A JP 2002239352 A JP2002239352 A JP 2002239352A JP 2001039745 A JP2001039745 A JP 2001039745A JP 2001039745 A JP2001039745 A JP 2001039745A JP 2002239352 A JP2002239352 A JP 2002239352A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrogen
- metal
- permeable structure
- film
- permeable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/50—Fuel cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Fuel Cell (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れた水素透過性能を有し、かつ耐久性のあ
るコンパクトな水素透過構造体およびその製造方法を提
供する。 【解決手段】 本発明の水素透過構造体は、金属材料か
らなる多孔質の基材１と、その基材１表面の孔１ａ内に
埋込まれ、かつ金属およびセラミックスの少なくともい
ずれかの微粒子よりなる埋込材３と、埋込材３で埋込ま
れた基材１の表面上に形成され、かつパラジウムを含有
する水素透過性膜２とを備えている。
るコンパクトな水素透過構造体およびその製造方法を提
供する。 【解決手段】 本発明の水素透過構造体は、金属材料か
らなる多孔質の基材１と、その基材１表面の孔１ａ内に
埋込まれ、かつ金属およびセラミックスの少なくともい
ずれかの微粒子よりなる埋込材３と、埋込材３で埋込ま
れた基材１の表面上に形成され、かつパラジウムを含有
する水素透過性膜２とを備えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般的な水素透過
構造体およびその製造方法に関し、より特定的には多孔
質の基材に水素透過性膜が形成された水素透過構造体お
よびその製造方法に関するものである。
構造体およびその製造方法に関し、より特定的には多孔
質の基材に水素透過性膜が形成された水素透過構造体お
よびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】水素ガスは燃料電池用の燃料などに用い
られ、ガス体燃料の変成法などによって工業的に製造さ
れる。たとえば、ガス体燃料の変成法によれば、水蒸気
を改質することによって水素ガスが製造されるが、改質
ガスには主成分としての水素以外に副成分として一酸化
炭素、二酸化炭素などが含まれている。この改質ガスを
たとえば燃料電池用の燃料にそのまま用いると電池の性
能が劣化する。このため、水素ガス以外の副成分を除去
し、高純度の水素ガスを得るために改質ガスを精製する
必要がある。その精製法の１つとして、水素透過性膜が
水素のみを選択的に透過させる特性を利用した方法があ
る。この水素透過性膜は多孔質の支持体または基材の上
に形成することによって用いられる。
られ、ガス体燃料の変成法などによって工業的に製造さ
れる。たとえば、ガス体燃料の変成法によれば、水蒸気
を改質することによって水素ガスが製造されるが、改質
ガスには主成分としての水素以外に副成分として一酸化
炭素、二酸化炭素などが含まれている。この改質ガスを
たとえば燃料電池用の燃料にそのまま用いると電池の性
能が劣化する。このため、水素ガス以外の副成分を除去
し、高純度の水素ガスを得るために改質ガスを精製する
必要がある。その精製法の１つとして、水素透過性膜が
水素のみを選択的に透過させる特性を利用した方法があ
る。この水素透過性膜は多孔質の支持体または基材の上
に形成することによって用いられる。
【０００３】たとえば、特開平１１−２６７４７７号公
報（以下、文献１と称する）には、多孔質支持体の表面
に水素透過性金属膜を有する水素透過膜であって、その
水素透過性金属膜が多孔質支持体の表面に対してイオン
プレーティング法により形成される水素透過膜およびそ
の作製方法が提案されている。また文献１には、多孔質
支持体としてステンレス鋼製またはセラミックス製のも
のが用いられており、セラミックスにはアルミナなどの
酸化物系、窒化珪素などの窒化物系、炭化珪素などの炭
化物系などの各種を適宜選定して用いることが記載され
ている。
報（以下、文献１と称する）には、多孔質支持体の表面
に水素透過性金属膜を有する水素透過膜であって、その
水素透過性金属膜が多孔質支持体の表面に対してイオン
プレーティング法により形成される水素透過膜およびそ
の作製方法が提案されている。また文献１には、多孔質
支持体としてステンレス鋼製またはセラミックス製のも
のが用いられており、セラミックスにはアルミナなどの
酸化物系、窒化珪素などの窒化物系、炭化珪素などの炭
化物系などの各種を適宜選定して用いることが記載され
ている。
【０００４】また、A. Li et al.,“Characterisation
and permeation of palladium／stainless steel compo
site membranes” Journal of Membrane Science 149
（1998），pp.259−268（以下、文献２と称する）にも
水素透過構造体が提案されている。この水素透過構造体
においては、ステンレス多孔質支持体の表面に、パラジ
ウム（Ｐｄ）膜がめっき法で成膜されている。またこの
パラジウム膜の厚みは１０μｍと記載されており、その
水素透過量は２０ｍｌ／ｍｉｎ／ｃｍ2以下であると記
載されている。
and permeation of palladium／stainless steel compo
site membranes” Journal of Membrane Science 149
（1998），pp.259−268（以下、文献２と称する）にも
水素透過構造体が提案されている。この水素透過構造体
においては、ステンレス多孔質支持体の表面に、パラジ
ウム（Ｐｄ）膜がめっき法で成膜されている。またこの
パラジウム膜の厚みは１０μｍと記載されており、その
水素透過量は２０ｍｌ／ｍｉｎ／ｃｍ2以下であると記
載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】水素透過性膜の水素透
過性能はその膜厚に反比例するため、水素透過量を高め
るためには水素透過性膜の厚みをできるだけ薄くする必
要がある。しかしながら、文献１において、多孔質支持
体の表面にイオンプレーティング法によって１μｍ以下
の厚みの水素透過性金属膜を形成した場合、ピンホール
のない緻密な膜を形成することができなかった。このた
め、水素透過性能を十分に高めた水素透過性金属膜を作
製することができなかった。
過性能はその膜厚に反比例するため、水素透過量を高め
るためには水素透過性膜の厚みをできるだけ薄くする必
要がある。しかしながら、文献１において、多孔質支持
体の表面にイオンプレーティング法によって１μｍ以下
の厚みの水素透過性金属膜を形成した場合、ピンホール
のない緻密な膜を形成することができなかった。このた
め、水素透過性能を十分に高めた水素透過性金属膜を作
製することができなかった。
【０００６】また、文献２においても、めっき法により
水素透過性膜となるパラジウム膜が形成されるため、そ
の膜厚を１０μｍ程度にまで厚くしないと欠陥を低減す
ることができなかった。それゆえ、文献２における水素
透過構造体においても、水素透過膜の膜厚を薄くした場
合、水素透過量が小さくなるという問題があった。
水素透過性膜となるパラジウム膜が形成されるため、そ
の膜厚を１０μｍ程度にまで厚くしないと欠陥を低減す
ることができなかった。それゆえ、文献２における水素
透過構造体においても、水素透過膜の膜厚を薄くした場
合、水素透過量が小さくなるという問題があった。
【０００７】また、セラミックスよりなる多孔質支持体
と水素透過性金属膜との組合せからなる水素透過構造体
では、種々の条件の雰囲気下で用いた場合、水素透過性
膜が剥離し、耐久性の点で問題があった。
と水素透過性金属膜との組合せからなる水素透過構造体
では、種々の条件の雰囲気下で用いた場合、水素透過性
膜が剥離し、耐久性の点で問題があった。
【０００８】それゆえ、本発明の目的は、優れた水素透
過性能を有し、かつ耐久性のあるコンパクトな水素透過
構造体およびその製造方法を提供することである。
過性能を有し、かつ耐久性のあるコンパクトな水素透過
構造体およびその製造方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本願発明者らは、上記課
題に鑑みて種々検討した結果、多孔質の基材表面の孔を
所定の微粒子によって埋込んだ後に水素透過性膜を形成
することによって、ピンホールのない緻密な膜を製造で
きるとともに耐久性に優れた水素透過構造体が得られる
ことを見出した。この知見に基づいて以下に記述する本
発明の水素透過構造体およびその製造方法がなされてい
る。
題に鑑みて種々検討した結果、多孔質の基材表面の孔を
所定の微粒子によって埋込んだ後に水素透過性膜を形成
することによって、ピンホールのない緻密な膜を製造で
きるとともに耐久性に優れた水素透過構造体が得られる
ことを見出した。この知見に基づいて以下に記述する本
発明の水素透過構造体およびその製造方法がなされてい
る。
【００１０】本発明の水素透過構造体は、金属材料から
なる多孔質の基材と、基材表面の孔内に埋込まれた金属
およびセラミックスの少なくともいずれかの微粒子より
なる埋込材と、埋込材で埋込まれた基材表面上に形成さ
れかつパラジウムを含有する水素透過性膜とを備える。
なる多孔質の基材と、基材表面の孔内に埋込まれた金属
およびセラミックスの少なくともいずれかの微粒子より
なる埋込材と、埋込材で埋込まれた基材表面上に形成さ
れかつパラジウムを含有する水素透過性膜とを備える。
【００１１】本発明の水素透過構造体は、基材表面の孔
が埋込材により埋込まれることにより比較的平坦になっ
ているため、厚みが１μｍ以下の水素透過性膜を基材表
面上にピンホールのない緻密な状態で形成することがで
きる。これにより、ピンホールの発生を防止できるとと
もに優れた水素透過性能を実現することができる。
が埋込材により埋込まれることにより比較的平坦になっ
ているため、厚みが１μｍ以下の水素透過性膜を基材表
面上にピンホールのない緻密な状態で形成することがで
きる。これにより、ピンホールの発生を防止できるとと
もに優れた水素透過性能を実現することができる。
【００１２】また、水素透過性膜の厚みを薄くすること
ができるため、コストの高い貴金属であるパラジウムの
使用量を減少させることができる。また、単位面積当た
りの水素ガス透過能力は膜厚に反比例するため、水素透
過能力に優れる水素透過構造体となり、必要水素量一定
と考えるとより面積が少なくコンパクトになるメリット
がある。
ができるため、コストの高い貴金属であるパラジウムの
使用量を減少させることができる。また、単位面積当た
りの水素ガス透過能力は膜厚に反比例するため、水素透
過能力に優れる水素透過構造体となり、必要水素量一定
と考えるとより面積が少なくコンパクトになるメリット
がある。
【００１３】また、本願発明者らは、従来例において剥
離が生じるのは、多孔質支持体と水素透過性膜との熱膨
張率差とともに、水素吸収に伴う金属膜の格子膨張によ
る圧縮応力が主因であることを指示する結果を得た。つ
まり、パラジウムを含有した金属膜は水素吸収によりパ
ラジウム格子の膨張を引き起こし、これがセラミックス
の基材との熱膨張率差と相俟って、基材と水素透過性膜
との界面に剪断応力を生じさせるために膜の剥離、亀裂
などの物理的劣化が生じる。
離が生じるのは、多孔質支持体と水素透過性膜との熱膨
張率差とともに、水素吸収に伴う金属膜の格子膨張によ
る圧縮応力が主因であることを指示する結果を得た。つ
まり、パラジウムを含有した金属膜は水素吸収によりパ
ラジウム格子の膨張を引き起こし、これがセラミックス
の基材との熱膨張率差と相俟って、基材と水素透過性膜
との界面に剪断応力を生じさせるために膜の剥離、亀裂
などの物理的劣化が生じる。
【００１４】これに対して本発明では、多孔質の基材を
セラミックスではなく金属材料から形成したことによ
り、パラジウムを含有する水素透過性膜との熱膨張率差
を小さくすることができる。それにより、多孔質の基材
から水素透過性膜が剥離することを抑制でき、耐久性を
向上させることが可能となる。
セラミックスではなく金属材料から形成したことによ
り、パラジウムを含有する水素透過性膜との熱膨張率差
を小さくすることができる。それにより、多孔質の基材
から水素透過性膜が剥離することを抑制でき、耐久性を
向上させることが可能となる。
【００１５】上記局面において好ましくは、微粒子の材
質は金属である。これにより、微粒子と基材または水素
透過性膜との熱膨張差も小さくすることができる。
質は金属である。これにより、微粒子と基材または水素
透過性膜との熱膨張差も小さくすることができる。
【００１６】上記局面において好ましくは、微粒子の平
均粒径は２μｍ以下である。このように微粒子の粒径を
小さくすることにより、孔を埋め込んだ後の微粒子同士
の隙間を小さくできるため、水素以外のガスリークの少
ない水素透過構造体を得ることができる。
均粒径は２μｍ以下である。このように微粒子の粒径を
小さくすることにより、孔を埋め込んだ後の微粒子同士
の隙間を小さくできるため、水素以外のガスリークの少
ない水素透過構造体を得ることができる。
【００１７】また、微粒子の粒径を小さくすることによ
り、微粒子を埋込んだ状態での基材表面の表面粗さをさ
らに小さくすることができる。このため、この微粒子に
より埋込まれた基材表面上に形成される水素透過性膜に
ピンホールが生じることをさらに抑制することができ
る。
り、微粒子を埋込んだ状態での基材表面の表面粗さをさ
らに小さくすることができる。このため、この微粒子に
より埋込まれた基材表面上に形成される水素透過性膜に
ピンホールが生じることをさらに抑制することができ
る。
【００１８】上記局面において好ましくは、微粒子は酸
化した金属の粉末である。これにより耐久性をさらに向
上させることができる。
化した金属の粉末である。これにより耐久性をさらに向
上させることができる。
【００１９】本発明の水素透過構造体の製造方法は、パ
ラジウムを含有させた水素透過性膜を多孔質の基材上に
有する水素透過構造体の製造方法であって、金属材料か
らなる多孔質の基材表面に、少なくとも金属成分を含む
物質を分散させたスラリーを塗布した後に焼結する工程
を備えたことを特徴とするものである。
ラジウムを含有させた水素透過性膜を多孔質の基材上に
有する水素透過構造体の製造方法であって、金属材料か
らなる多孔質の基材表面に、少なくとも金属成分を含む
物質を分散させたスラリーを塗布した後に焼結する工程
を備えたことを特徴とするものである。
【００２０】本発明の水素透過構造体の製造方法によれ
ば、基材表面の孔が埋込材により埋込まれることにより
比較的平坦になっているため、厚みが１μｍ以下の水素
透過性膜を基材表面上にピンホールのない緻密な状態で
形成することができる。これにより、ピンホールの発生
を防止できるとともに優れた水素透過性能を実現するこ
とができる。
ば、基材表面の孔が埋込材により埋込まれることにより
比較的平坦になっているため、厚みが１μｍ以下の水素
透過性膜を基材表面上にピンホールのない緻密な状態で
形成することができる。これにより、ピンホールの発生
を防止できるとともに優れた水素透過性能を実現するこ
とができる。
【００２１】また、水素透過性膜の厚みを薄くすること
ができるため、コストの高い貴金属であるパラジウムの
使用量を減少させることができる。また、単位面積当た
りの水素ガス透過能力は膜厚に反比例するため、水素透
過能力に優れる水素透過構造体となり、必要水素量一定
と考えるとより面積が少なくコンパクトになるメリット
がある。
ができるため、コストの高い貴金属であるパラジウムの
使用量を減少させることができる。また、単位面積当た
りの水素ガス透過能力は膜厚に反比例するため、水素透
過能力に優れる水素透過構造体となり、必要水素量一定
と考えるとより面積が少なくコンパクトになるメリット
がある。
【００２２】多孔質の基材の孔に微粒子が埋込まれるこ
とにより、各微粒子間の隙間により孔の微細化を実現す
ることができる。
とにより、各微粒子間の隙間により孔の微細化を実現す
ることができる。
【００２３】上記においてスラリーを塗布した後であっ
て焼結前に、基材表面が露出するまでスラリーを除去し
て、スラリーが基材表面の孔内にのみ残存される。
て焼結前に、基材表面が露出するまでスラリーを除去し
て、スラリーが基材表面の孔内にのみ残存される。
【００２４】このようにスラリーを除去して基材表面を
露出させることにより、その上に形成される水素透過性
膜との界面が強固な金属結合となる。このため、水素透
過性膜の水素吸収または膨張によって水素透過性膜と支
持体との界面に剪断応力がかかる場合でも、膜の剥離、
亀裂などの物理的劣化を抑制することができる。
露出させることにより、その上に形成される水素透過性
膜との界面が強固な金属結合となる。このため、水素透
過性膜の水素吸収または膨張によって水素透過性膜と支
持体との界面に剪断応力がかかる場合でも、膜の剥離、
亀裂などの物理的劣化を抑制することができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図に基づいて説明する。
て図に基づいて説明する。
【００２６】図１は、本発明の一実施の形態における水
素透過構造体の構成を概略的に示す断面図であり、図２
は図１の領域Ｐを拡大して示す断面図である。
素透過構造体の構成を概略的に示す断面図であり、図２
は図１の領域Ｐを拡大して示す断面図である。
【００２７】図１および図２を参照して、本実施の形態
の水素透過構造体は、基材１と、水素透過性膜２と、埋
込材３とを有している。基材１は、金属材料からなり、
複数の孔１ａを有する多孔質である。埋込材３は、基材
１表面の孔１ａ内に埋込まれている。水素透過性膜２
は、埋込材３によって埋込まれた基材１の表面上に形成
され、かつパラジウムを含有している。
の水素透過構造体は、基材１と、水素透過性膜２と、埋
込材３とを有している。基材１は、金属材料からなり、
複数の孔１ａを有する多孔質である。埋込材３は、基材
１表面の孔１ａ内に埋込まれている。水素透過性膜２
は、埋込材３によって埋込まれた基材１の表面上に形成
され、かつパラジウムを含有している。
【００２８】多孔質の基材１の材質としては、たとえば
ＳＵＳ３１６などの、鉄（Ｆｅ）、クロム（Ｃｒ）、ニ
ッケル（Ｎｉ）の少なくとも１種を含有した金属が望ま
しい。また基材１の表面における孔１ａの径は、ガス透
過の際の圧力損失を考えると５μｍ以上であることが望
ましい。
ＳＵＳ３１６などの、鉄（Ｆｅ）、クロム（Ｃｒ）、ニ
ッケル（Ｎｉ）の少なくとも１種を含有した金属が望ま
しい。また基材１の表面における孔１ａの径は、ガス透
過の際の圧力損失を考えると５μｍ以上であることが望
ましい。
【００２９】また埋込材３の充填微粒子の材質はどのよ
うな材質でもよいが、耐久性の観点からは、鉄、ＳＵ
Ｓ、ニッケルなどの金属、あるいは酸化鉄、アルミナ
（Ａｌ2Ｏ3）などの各種酸化物（酸化した金属の粉末）
などが望ましい。充填微粒子３の径は、水素透過性膜２
の欠陥を少なくすることを考えると平均径で２μｍ以下
であることが好ましい。
うな材質でもよいが、耐久性の観点からは、鉄、ＳＵ
Ｓ、ニッケルなどの金属、あるいは酸化鉄、アルミナ
（Ａｌ2Ｏ3）などの各種酸化物（酸化した金属の粉末）
などが望ましい。充填微粒子３の径は、水素透過性膜２
の欠陥を少なくすることを考えると平均径で２μｍ以下
であることが好ましい。
【００３０】水素透過性膜２としてのパラジウム膜は優
れた水素透過性能を有するが、パラジウムの（１００）
面での水素透過性能は他の結晶面に比べて低い。このた
め、（１１１）配向したパラジウム膜では配向していな
いパラジウム膜に比べて、良好な水素透過性能が得られ
る。本実施の形態では、電圧差を印加して形成したパラ
ジウム膜は（１１１）配向しており、これにより良好な
水素透過性能が得られる。
れた水素透過性能を有するが、パラジウムの（１００）
面での水素透過性能は他の結晶面に比べて低い。このた
め、（１１１）配向したパラジウム膜では配向していな
いパラジウム膜に比べて、良好な水素透過性能が得られ
る。本実施の形態では、電圧差を印加して形成したパラ
ジウム膜は（１１１）配向しており、これにより良好な
水素透過性能が得られる。
【００３１】なお、図１および図２においては説明の便
宜上、孔１ａの形状を単純化して直線状で示している
が、実際には孔１ａはより複雑な形状を有している。こ
れは、後述する図３および図４のついても同様である。
宜上、孔１ａの形状を単純化して直線状で示している
が、実際には孔１ａはより複雑な形状を有している。こ
れは、後述する図３および図４のついても同様である。
【００３２】次に、本実施の形態の製造方法について説
明する。図３および図４は、本発明の一実施の形態にお
ける水素透過構造体の製造方法を工程順に示す概略断面
図である。まず図３を参照して、たとえば径が５μｍ以
上の孔１ａを多数有する多孔性の基材１の表面上に、水
あるいは有機溶媒にポリビニルアルコールやカルボキシ
ルメチルセルロースなどの増粘剤や界面活性剤とともに
酸化金属あるいは金属の微粒子を入れてよく混合した微
粒子分散スラリー３ａがディップ法やスクリーン印刷法
で塗布される。これにより、微粒子分散スラリー３ａ中
の微粒子が基材１の孔１ａ内を埋込む。
明する。図３および図４は、本発明の一実施の形態にお
ける水素透過構造体の製造方法を工程順に示す概略断面
図である。まず図３を参照して、たとえば径が５μｍ以
上の孔１ａを多数有する多孔性の基材１の表面上に、水
あるいは有機溶媒にポリビニルアルコールやカルボキシ
ルメチルセルロースなどの増粘剤や界面活性剤とともに
酸化金属あるいは金属の微粒子を入れてよく混合した微
粒子分散スラリー３ａがディップ法やスクリーン印刷法
で塗布される。これにより、微粒子分散スラリー３ａ中
の微粒子が基材１の孔１ａ内を埋込む。
【００３３】この後、微粒子分散スラリー３ａ中の微粒
子が金属であれば水素などの還元雰囲気中で、また微粒
子が酸化物などのセラミックスであれば酸化雰囲気中
で、焼結が行なわれる。この焼結工程で、孔１ａ内の微
粒子同士の隙間により孔１ａの微細化が実現する。
子が金属であれば水素などの還元雰囲気中で、また微粒
子が酸化物などのセラミックスであれば酸化雰囲気中
で、焼結が行なわれる。この焼結工程で、孔１ａ内の微
粒子同士の隙間により孔１ａの微細化が実現する。
【００３４】なお、微粒子分散スラリー３ａを塗布した
後であって焼結前に、図４に示すように多孔質の基材１
の表面が露出するまで微粒子分散スラリー３ａをゴムベ
ラあるいは布で拭き取ることにより、微粒子分散スラリ
ー３ａを孔１ａ内にのみ残存させることが望ましい。上
記焼結後に、図１に示すようにパラジウムを含有した水
素透過性膜２が形成されるが、水素透過性膜２は基材１
に直接接して形成されるため、両者の界面は強固な金属
接合となる。これにより、水素透過性膜２の基材１への
密着特性を向上することができる。
後であって焼結前に、図４に示すように多孔質の基材１
の表面が露出するまで微粒子分散スラリー３ａをゴムベ
ラあるいは布で拭き取ることにより、微粒子分散スラリ
ー３ａを孔１ａ内にのみ残存させることが望ましい。上
記焼結後に、図１に示すようにパラジウムを含有した水
素透過性膜２が形成されるが、水素透過性膜２は基材１
に直接接して形成されるため、両者の界面は強固な金属
接合となる。これにより、水素透過性膜２の基材１への
密着特性を向上することができる。
【００３５】なお、微粒子分散スラリー３ａ中の微粒子
の径を１μｍとした場合、孔１ａ内を埋込む微粒子同士
の隙間は１μｍ程度もしくはそれ以下となるため、膜厚
が１μｍという薄い水素透過性膜２を設けるだけで、水
素以外のガスリークの少ない水素透過構造体を実現する
ことができる。
の径を１μｍとした場合、孔１ａ内を埋込む微粒子同士
の隙間は１μｍ程度もしくはそれ以下となるため、膜厚
が１μｍという薄い水素透過性膜２を設けるだけで、水
素以外のガスリークの少ない水素透過構造体を実現する
ことができる。
【００３６】水素透過性膜２の膜厚を薄くできることで
コストの高い貴金属であるパラジウムの使用量を減少さ
せることができる。また単位面積当りの水素ガス透過能
力は膜厚に反比例するため、水素透過能力に優れる水素
透過構造体が得られる。これにより、必要水素量を一定
と考えると、より面積が少なくコンパクトな水素透過構
造体が得られる。
コストの高い貴金属であるパラジウムの使用量を減少さ
せることができる。また単位面積当りの水素ガス透過能
力は膜厚に反比例するため、水素透過能力に優れる水素
透過構造体が得られる。これにより、必要水素量を一定
と考えると、より面積が少なくコンパクトな水素透過構
造体が得られる。
【００３７】また本実施の形態におけるパラジウムを含
有した水素透過性膜は水素吸収によりパラジウム格子の
膨張を引起す。セラミックス支持体との組合せで考える
と、水素透過性膜への水素吸収ひいては膜の膨張により
支持体との界面に剪断応力がかかり、膜の剥離、亀裂な
どの物理的劣化を生じやすいが、本実施の形態では、基
材１が金属材料であり基材１と水素透過性膜２との界面
は強固な金属結合となるため、このような物理的劣化も
生じにくい。
有した水素透過性膜は水素吸収によりパラジウム格子の
膨張を引起す。セラミックス支持体との組合せで考える
と、水素透過性膜への水素吸収ひいては膜の膨張により
支持体との界面に剪断応力がかかり、膜の剥離、亀裂な
どの物理的劣化を生じやすいが、本実施の形態では、基
材１が金属材料であり基材１と水素透過性膜２との界面
は強固な金属結合となるため、このような物理的劣化も
生じにくい。
【００３８】パラジウムを含有する水素透過性膜２の成
膜方法は何でもよいが、イオンプレーティング法、スパ
ッタ法などの１３．３３Ｐａ以下の真空度で真空成膜す
る手法がよく用いられる。その際、基材１（あるいは基
材ホルダ）と蒸着原料（ターゲット）との間に４００Ｖ
以上の電位差を設けることが好ましい。電位差を設ける
ことにより、蒸発原料が基材１に付着するときのエネル
ギが増大し、密着性の改善が見られる。
膜方法は何でもよいが、イオンプレーティング法、スパ
ッタ法などの１３．３３Ｐａ以下の真空度で真空成膜す
る手法がよく用いられる。その際、基材１（あるいは基
材ホルダ）と蒸着原料（ターゲット）との間に４００Ｖ
以上の電位差を設けることが好ましい。電位差を設ける
ことにより、蒸発原料が基材１に付着するときのエネル
ギが増大し、密着性の改善が見られる。
【００３９】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【００４０】（実施例１）φ２２×１ｍｍｔの円板型の
金属材料よりなる多孔質の基材（以下、多孔質メタルと
称する）を材質ＳＵＳ３１６で準備し、その上に平均径
１．２μｍの微細鉄粉９５質量％およびポリビニルアル
コール５質量％を溶解分散したスラリーをディッピング
により塗布した。この後、多孔質メタル表面に付着した
スラリーをゴムベラあるいは布で拭き取ることにより多
孔質メタルの凹部（孔）以外の部位で多孔質メタルを露
出させた。その後、水素雰囲気中で７００℃×１時間の
熱処理を行なった。この表面処理基材をアセトンで超音
波洗浄し乾燥した。基材上に水素透過性金属膜を形成す
る装置として、アークイオンプレーティング装置を使用
した。ターゲットとしてパラジウム金属をセットし、基
材とターゲット間の距離を３００ｍｍとした。真空引き
により容器内圧力を２．６６６×１０-3Ｐａとした後、
バイアス電圧値を−１０００Ｖ、アーク電流値を８０Ａ
として、１０分間パラジウムの成膜を行ない、多孔質メ
タル上に厚さ０．３μｍのパラジウム膜を形成した。
金属材料よりなる多孔質の基材（以下、多孔質メタルと
称する）を材質ＳＵＳ３１６で準備し、その上に平均径
１．２μｍの微細鉄粉９５質量％およびポリビニルアル
コール５質量％を溶解分散したスラリーをディッピング
により塗布した。この後、多孔質メタル表面に付着した
スラリーをゴムベラあるいは布で拭き取ることにより多
孔質メタルの凹部（孔）以外の部位で多孔質メタルを露
出させた。その後、水素雰囲気中で７００℃×１時間の
熱処理を行なった。この表面処理基材をアセトンで超音
波洗浄し乾燥した。基材上に水素透過性金属膜を形成す
る装置として、アークイオンプレーティング装置を使用
した。ターゲットとしてパラジウム金属をセットし、基
材とターゲット間の距離を３００ｍｍとした。真空引き
により容器内圧力を２．６６６×１０-3Ｐａとした後、
バイアス電圧値を−１０００Ｖ、アーク電流値を８０Ａ
として、１０分間パラジウムの成膜を行ない、多孔質メ
タル上に厚さ０．３μｍのパラジウム膜を形成した。
【００４１】このようにして形成した水素透過構造体に
ついて、４００℃で、水素５０％、窒素５０％の混合ガ
スで１気圧差での水素透過性能を測定した。その結果、
水素が５０ｍｌ／ｍｉｎ／ｃｍ2、窒素０．０５ｍｌ／
ｍｉｎ／ｃｍ2の透過量であり、ほとんど水素ガスのみ
が選択透過することを確認した。
ついて、４００℃で、水素５０％、窒素５０％の混合ガ
スで１気圧差での水素透過性能を測定した。その結果、
水素が５０ｍｌ／ｍｉｎ／ｃｍ2、窒素０．０５ｍｌ／
ｍｉｎ／ｃｍ2の透過量であり、ほとんど水素ガスのみ
が選択透過することを確認した。
【００４２】水素１気圧中で４００℃と室温とのヒート
サイクル試験を２０サイクル行なった。試験後、目視に
よる剥離検査や電子顕微鏡観察による膜の亀裂検査を行
なったが、全くそのような劣化は観測されなかった。ま
た電子顕微鏡観察による膜の亀裂検査を行なったが、全
くそのような劣化は観測されなかった。
サイクル試験を２０サイクル行なった。試験後、目視に
よる剥離検査や電子顕微鏡観察による膜の亀裂検査を行
なったが、全くそのような劣化は観測されなかった。ま
た電子顕微鏡観察による膜の亀裂検査を行なったが、全
くそのような劣化は観測されなかった。
【００４３】（実施例２）φ２２×１ｍｍｔの円板型の
多孔質メタル（材質ＳＵＳ３１６）上に、平均径０．５
μｍ以下の微細酸化鉄紛および分散剤をフェノール水溶
液に溶解分散したスラリーをディッピングにより塗布し
た。この後、多孔質メタル表面に付着したスラリーをゴ
ムベラあるいは布で拭き取ることにより多孔質メタルの
凹部（孔）以外の部位で多孔質メタルを露出させた。そ
の後、大気雰囲気中で６００℃×１時間の熱処理を行な
った。この表面処理基材をアセトンで超音波洗浄し乾燥
した。基材上に水素透過性金属膜を形成する装置とし
て、アークイオンプレーティング装置を使用した。ター
ゲットとしてパラジウム金属をセットし、基材とターゲ
ット間の距離を３００ｍｍとした。真空引きにより容器
内圧力を２．６６６×１０-3Ｐａとした後、バイアス電
圧値を−１０００Ｖ、アーク電流値を８０Ａとして、１
０分間パラジウムの成膜を行ない、多孔質メタル上に厚
さ０．３μｍのパラジウム膜を形成した。
多孔質メタル（材質ＳＵＳ３１６）上に、平均径０．５
μｍ以下の微細酸化鉄紛および分散剤をフェノール水溶
液に溶解分散したスラリーをディッピングにより塗布し
た。この後、多孔質メタル表面に付着したスラリーをゴ
ムベラあるいは布で拭き取ることにより多孔質メタルの
凹部（孔）以外の部位で多孔質メタルを露出させた。そ
の後、大気雰囲気中で６００℃×１時間の熱処理を行な
った。この表面処理基材をアセトンで超音波洗浄し乾燥
した。基材上に水素透過性金属膜を形成する装置とし
て、アークイオンプレーティング装置を使用した。ター
ゲットとしてパラジウム金属をセットし、基材とターゲ
ット間の距離を３００ｍｍとした。真空引きにより容器
内圧力を２．６６６×１０-3Ｐａとした後、バイアス電
圧値を−１０００Ｖ、アーク電流値を８０Ａとして、１
０分間パラジウムの成膜を行ない、多孔質メタル上に厚
さ０．３μｍのパラジウム膜を形成した。
【００４４】このようにして形成した水素透過構造体に
ついて、４００℃で、水素５０％、窒素５０％の混合ガ
スで１気圧差での水素透過性能を測定した。その結果、
水素４０ｍｌ／分、窒素０．０３ｍｌ／分の透過量であ
り、ほとんど水素ガスのみが選択透過することを確認し
た。
ついて、４００℃で、水素５０％、窒素５０％の混合ガ
スで１気圧差での水素透過性能を測定した。その結果、
水素４０ｍｌ／分、窒素０．０３ｍｌ／分の透過量であ
り、ほとんど水素ガスのみが選択透過することを確認し
た。
【００４５】水素１気圧中で４００℃と室温とのヒート
サイクル試験を２０サイクル行なった。試験後、目視に
よる剥離検査や電子顕微鏡観察による膜の亀裂検査を行
なったが、全くそのような劣化は観測されなかった。ま
た、電子顕微鏡観察による膜の亀裂検査を行なったが、
全くそのような劣化は観測されなかった。
サイクル試験を２０サイクル行なった。試験後、目視に
よる剥離検査や電子顕微鏡観察による膜の亀裂検査を行
なったが、全くそのような劣化は観測されなかった。ま
た、電子顕微鏡観察による膜の亀裂検査を行なったが、
全くそのような劣化は観測されなかった。
【００４６】（実施例３）φ２２×１ｍｍｔの円板型の
多孔質メタル（材質ＳＵＳ３１６）上に、平均径１．２
μｍの微細鉄粉９５質量％およびポリビニルアルコール
５質量％を溶解分散したスラリーをディッピングにより
塗布した。この後、多孔質メタル表面に付着したスラリ
ーをゴムベラあるいは布で拭き取ることにより多孔質メ
タルの凹部（孔）以外の部位で多孔質メタルを露出させ
た。その後、水素雰囲気中で７００℃×１時間の熱処理
を行なった。この表面処理基材をアセトンで超音波洗浄
し乾燥した。基材上に水素透過性金属膜を形成する装置
として、アークイオンプレーティング装置を使用した。
ターゲットとして、パラジウム９０質量％、白金１０質
量％の合金をセットし、基材とターゲットとの間の距離
を３００ｍｍとした。真空引きにより容器内圧力を２．
６６６×１０-3Ｐａとした後、バイアス電圧値を−１０
００Ｖ、アーク電流値を８０Ａとして、１０分間、パラ
ジウム−白金合金の成膜を行ない、多孔質メタル上に厚
さ０．３μｍのパラジウム−白金膜を形成した。
多孔質メタル（材質ＳＵＳ３１６）上に、平均径１．２
μｍの微細鉄粉９５質量％およびポリビニルアルコール
５質量％を溶解分散したスラリーをディッピングにより
塗布した。この後、多孔質メタル表面に付着したスラリ
ーをゴムベラあるいは布で拭き取ることにより多孔質メ
タルの凹部（孔）以外の部位で多孔質メタルを露出させ
た。その後、水素雰囲気中で７００℃×１時間の熱処理
を行なった。この表面処理基材をアセトンで超音波洗浄
し乾燥した。基材上に水素透過性金属膜を形成する装置
として、アークイオンプレーティング装置を使用した。
ターゲットとして、パラジウム９０質量％、白金１０質
量％の合金をセットし、基材とターゲットとの間の距離
を３００ｍｍとした。真空引きにより容器内圧力を２．
６６６×１０-3Ｐａとした後、バイアス電圧値を−１０
００Ｖ、アーク電流値を８０Ａとして、１０分間、パラ
ジウム−白金合金の成膜を行ない、多孔質メタル上に厚
さ０．３μｍのパラジウム−白金膜を形成した。
【００４７】このようにして形成した水素透過構造体に
ついて、４００℃で、水素５０％、窒素５０％の混合ガ
スで１気圧差での水素透過性能を測定した。その結果、
水素８０ｍｌ／ｍｉｎ／ｃｍ2、窒素０．０５ｍｌ／ｍ
ｉｎ／ｃｍ2の透過量であり、ほとんど水素ガスのみが
選択透過することを確認した。
ついて、４００℃で、水素５０％、窒素５０％の混合ガ
スで１気圧差での水素透過性能を測定した。その結果、
水素８０ｍｌ／ｍｉｎ／ｃｍ2、窒素０．０５ｍｌ／ｍ
ｉｎ／ｃｍ2の透過量であり、ほとんど水素ガスのみが
選択透過することを確認した。
【００４８】水素１気圧中で４００℃と室温のヒートサ
イクル試験を２０サイクル行なった。試験後、目視によ
る剥離検査や電子顕微鏡観察による膜の亀裂検査を行な
ったが、全くそのような劣化は観測されなかった。また
電子顕微鏡観察による膜の亀裂検査を行なったが全くそ
のような劣化は観測されなかった。
イクル試験を２０サイクル行なった。試験後、目視によ
る剥離検査や電子顕微鏡観察による膜の亀裂検査を行な
ったが、全くそのような劣化は観測されなかった。また
電子顕微鏡観察による膜の亀裂検査を行なったが全くそ
のような劣化は観測されなかった。
【００４９】今回開示された実施の形態および実施例は
すべての点で例示であって制限的なものではないと考え
られるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではな
くて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と
均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれるこ
とが意図される。
すべての点で例示であって制限的なものではないと考え
られるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではな
くて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と
均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれるこ
とが意図される。
【００５０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高い水素透過性能を有し、かつ耐久性のあるコンパクト
な水素透過構造体を低コストで製造することができる。
高い水素透過性能を有し、かつ耐久性のあるコンパクト
な水素透過構造体を低コストで製造することができる。
【図１】 本発明の一実施の形態における水素透過構造
体の構成を概略的に示す断面図である。
体の構成を概略的に示す断面図である。
【図２】 図１の領域Ｐを拡大して示す断面図である。
【図３】 本発明の一実施の形態における水素透過構造
体の製造方法の第１工程を示す概略断面図である。
体の製造方法の第１工程を示す概略断面図である。
【図４】 本発明の一実施の形態における水素透過構造
体の製造方法の第２工程を示す概略断面図である。
体の製造方法の第２工程を示す概略断面図である。
１ 多孔質の基材、１ａ 孔、２ パラジウムを含有す
る水素透過性膜、３微粒子よりなる埋込材、３ａ 微粒
子分散スラリー。
る水素透過性膜、３微粒子よりなる埋込材、３ａ 微粒
子分散スラリー。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥田 伸之 兵庫県伊丹市昆陽北一丁目１番１号 住友 電気工業株式会社伊丹製作所内 (72)発明者 日方 威 兵庫県伊丹市昆陽北一丁目１番１号 住友 電気工業株式会社伊丹製作所内 Ｆターム(参考） 4D006 GA41 MA03 MA07 MA09 MA22 MA31 MB04 MC02 MC02X NA31 NA49 PA01 PB20 PB63 PC80 5H027 AA02 BA01 BA16
Claims (6)
- 【請求項１】 金属材料からなる多孔質の基材と、 前記基材表面の孔内に埋込まれた金属およびセラミック
スの少なくともいずれかの微粒子よりなる埋込材と、 前記埋込材で埋込まれた前記基材表面上に形成され、か
つパラジウムを含有する水素透過性膜とを備えた、水素
透過構造体。 - 【請求項２】 前記微粒子の材質は金属であることを特
徴とする、請求項１に記載の水素透過構造体。 - 【請求項３】 前記微粒子の平均粒径が２μｍ以下であ
ることを特徴とする、請求項１または２に記載の水素透
過構造体。 - 【請求項４】 前記微粒子は酸化した金属の粉末である
ことを特徴とする、請求項３に記載の水素透過構造体。 - 【請求項５】 パラジウムを含有させた水素透過性膜を
多孔質の基材上に有する水素透過構造体の製造方法であ
って、 金属材料からなる多孔質の前記基材表面に、少なくとも
金属成分を含む物質を分散させたスラリーを塗布した後
に焼結する工程を備えたことを特徴とする、水素透過構
造体の製造方法。 - 【請求項６】 前記スラリーを塗布した後であって前記
焼結前に、前記基材表面が露出するまで前記スラリーを
除去して、前記基材表面の孔内にのみ残存させることを
特徴とする、請求項５に記載の水素透過構造体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001039745A JP2002239352A (ja) | 2001-02-16 | 2001-02-16 | 水素透過構造体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001039745A JP2002239352A (ja) | 2001-02-16 | 2001-02-16 | 水素透過構造体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002239352A true JP2002239352A (ja) | 2002-08-27 |
Family
ID=18902465
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001039745A Withdrawn JP2002239352A (ja) | 2001-02-16 | 2001-02-16 | 水素透過構造体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002239352A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004337833A (ja) * | 2003-01-17 | 2004-12-02 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 気体分離部材 |
| JP2006012467A (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-12 | Toyota Motor Corp | 燃料電池用電解質膜の製造方法および燃料電池 |
| JP2006059586A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Toyota Motor Corp | 膜電極接合体、燃料電池 |
| JP2007000858A (ja) * | 2005-05-23 | 2007-01-11 | Kobe Steel Ltd | 水素透過部材およびその製造方法 |
| JP2007069207A (ja) * | 2005-08-12 | 2007-03-22 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 水素分離複合体及びその製造方法 |
| JP2008507395A (ja) * | 2004-07-21 | 2008-03-13 | ウスター ポリテクニック インスティチュート | 均一なバインダー金属分布を持つ粒子の層を有する複合ガス分離モジュール |
| JP2008237977A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 水素透過金属膜の製造方法 |
| JP2008289948A (ja) * | 2007-05-22 | 2008-12-04 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Ｐｄ系水素透過金属膜の製造方法 |
| WO2008155992A1 (ja) * | 2007-06-20 | 2008-12-24 | Nissan Motor Co., Ltd. | 水素分離装置及びその製造方法 |
| WO2014119927A1 (ko) * | 2013-01-29 | 2014-08-07 | 지브이퓨얼셀 주식회사 | 연료전지용 셀 제조방법 |
| JP6014920B1 (ja) * | 2015-08-19 | 2016-10-26 | 株式会社山王 | 金属複合水素透過膜とその製造方法 |
| JP2017062119A (ja) * | 2015-09-22 | 2017-03-30 | 株式会社日本自動車部品総合研究所 | 水素圧力計測装置 |
| DE102021121641A1 (de) | 2021-08-20 | 2023-02-23 | Infineon Technologies Ag | Differentieller gassensor mit zwei sensorbauelementen und verwendung für die detektion von gasen |
-
2001
- 2001-02-16 JP JP2001039745A patent/JP2002239352A/ja not_active Withdrawn
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004337833A (ja) * | 2003-01-17 | 2004-12-02 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 気体分離部材 |
| JP4661102B2 (ja) * | 2004-06-23 | 2011-03-30 | トヨタ自動車株式会社 | 燃料電池用電解質膜の製造方法および燃料電池 |
| JP2006012467A (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-12 | Toyota Motor Corp | 燃料電池用電解質膜の製造方法および燃料電池 |
| JP2008507395A (ja) * | 2004-07-21 | 2008-03-13 | ウスター ポリテクニック インスティチュート | 均一なバインダー金属分布を持つ粒子の層を有する複合ガス分離モジュール |
| JP2006059586A (ja) * | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Toyota Motor Corp | 膜電極接合体、燃料電池 |
| JP4645095B2 (ja) * | 2004-08-18 | 2011-03-09 | トヨタ自動車株式会社 | 膜電極接合体、燃料電池 |
| JP2007000858A (ja) * | 2005-05-23 | 2007-01-11 | Kobe Steel Ltd | 水素透過部材およびその製造方法 |
| JP2007069207A (ja) * | 2005-08-12 | 2007-03-22 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 水素分離複合体及びその製造方法 |
| JP2008237977A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 水素透過金属膜の製造方法 |
| JP2008289948A (ja) * | 2007-05-22 | 2008-12-04 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | Ｐｄ系水素透過金属膜の製造方法 |
| WO2008155992A1 (ja) * | 2007-06-20 | 2008-12-24 | Nissan Motor Co., Ltd. | 水素分離装置及びその製造方法 |
| US8834612B2 (en) | 2007-06-20 | 2014-09-16 | Nissan Motor Co., Ltd. | Hydrogen separation apparatus and process for manufacturing the same |
| WO2014119927A1 (ko) * | 2013-01-29 | 2014-08-07 | 지브이퓨얼셀 주식회사 | 연료전지용 셀 제조방법 |
| JP6014920B1 (ja) * | 2015-08-19 | 2016-10-26 | 株式会社山王 | 金属複合水素透過膜とその製造方法 |
| JP2017062119A (ja) * | 2015-09-22 | 2017-03-30 | 株式会社日本自動車部品総合研究所 | 水素圧力計測装置 |
| DE102021121641A1 (de) | 2021-08-20 | 2023-02-23 | Infineon Technologies Ag | Differentieller gassensor mit zwei sensorbauelementen und verwendung für die detektion von gasen |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4216803B2 (ja) | 金属膜の酸化によってナノポーラス基板上に形成されたサブミクロン電解質薄膜 | |
| Huang et al. | Preparation and characterization of composite palladium membranes on sinter-metal supports with a ceramic barrier against intermetallic diffusion | |
| JP2002239352A (ja) | 水素透過構造体およびその製造方法 | |
| KR100547527B1 (ko) | 수소투과 구조체와 그의 제조방법 | |
| US20020020298A1 (en) | Supported metal membrane, a process for its preparation and use | |
| US7125440B2 (en) | Composite structure for high efficiency hydrogen separation and its associated methods of manufacture and use | |
| JP5399962B2 (ja) | 固体酸化物形燃料電池及びその製造方法 | |
| JP2007000858A (ja) | 水素透過部材およびその製造方法 | |
| JP4347129B2 (ja) | 水素製造用反応筒及び反応板 | |
| JP2006286537A (ja) | 水素透過構造体、及びその製造方法 | |
| JP2006314877A (ja) | 水素分離装置 | |
| JP2006314876A (ja) | 水素分離装置 | |
| JP2008547165A (ja) | 固体酸化物‐機能膜用の金属性支持構造を有する高温型燃料電池 | |
| JP2004188347A (ja) | 水素分離構造体およびその製造方法 | |
| JP5223240B2 (ja) | 水素透過膜およびその製造方法 | |
| JP2007038095A (ja) | 水素分離膜及びその製造方法 | |
| US6171712B1 (en) | Palladium and palladium/copper thin flat membranes | |
| JP4232614B2 (ja) | 固体電解質型燃料電池 | |
| JPH08213028A (ja) | 固体電解質型燃料電池の燃料電極とその成膜方法 | |
| JP2009028670A (ja) | スタンプ式製膜法 | |
| JPH0751552A (ja) | 水素分離膜 | |
| JP2008212795A (ja) | 酸素分離膜の補修方法、酸素分離膜の再生方法、酸素分離膜、膜式酸素分離装置、及び膜型反応器 | |
| JP4946721B2 (ja) | 水素透過膜およびその製造方法 | |
| RU2644640C2 (ru) | Способ изготовления композиционных мембран на основе тонких пленок металлов | |
| JP5867502B2 (ja) | 水素分離膜及び水素分離装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080513 |