JP2002175901A - 抵抗器 - Google Patents
抵抗器Info
- Publication number
- JP2002175901A JP2002175901A JP2000370615A JP2000370615A JP2002175901A JP 2002175901 A JP2002175901 A JP 2002175901A JP 2000370615 A JP2000370615 A JP 2000370615A JP 2000370615 A JP2000370615 A JP 2000370615A JP 2002175901 A JP2002175901 A JP 2002175901A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper
- nickel
- alloy
- acid
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 60
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 60
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 51
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 51
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 50
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 48
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 47
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 25
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 7
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 14
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 11
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 9
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract 2
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 21
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 21
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 17
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 14
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 13
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 12
- 229910000570 Cupronickel Inorganic materials 0.000 description 10
- YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N copper nickel Chemical compound [Ni].[Cu] YOCUPQPZWBBYIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910000914 Mn alloy Inorganic materials 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- UTICYDQJEHVLJZ-UHFFFAOYSA-N copper manganese nickel Chemical compound [Mn].[Ni].[Cu] UTICYDQJEHVLJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 pimelic acid Saturated dicarboxylic acid Chemical class 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 3
- HPDFFVBPXCTEDN-UHFFFAOYSA-N copper manganese Chemical compound [Mn].[Cu] HPDFFVBPXCTEDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 4-oxopentanoic acid Chemical group CC(=O)CCC(O)=O JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical group OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000896 Manganin Inorganic materials 0.000 description 2
- PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N Niacin Chemical group OC(=O)C1=CC=CN=C1 PVNIIMVLHYAWGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004841 bisphenol A epoxy resin Substances 0.000 description 2
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GAWAYYRQGQZKCR-REOHCLBHSA-N (S)-2-chloropropanoic acid Chemical group C[C@H](Cl)C(O)=O GAWAYYRQGQZKCR-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDFQSFOGKVZWKF-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical group OCC(C)(C)C(O)=O RDFQSFOGKVZWKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 229910001006 Constantan Inorganic materials 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N Heptanedioic acid Natural products OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Chemical group 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940040102 levulinic acid Drugs 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000001968 nicotinic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011664 nicotinic acid Chemical group 0.000 description 1
- 229960003512 nicotinic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 150000004671 saturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000003441 saturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 229940005605 valeric acid Drugs 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/10—Heating elements characterised by the composition or nature of the materials or by the arrangement of the conductor
- H05B3/12—Heating elements characterised by the composition or nature of the materials or by the arrangement of the conductor characterised by the composition or nature of the conductive material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/06—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/22—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming
- H01C17/24—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material
- H01C17/2416—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material by chemical etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C7/00—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
- H01C7/06—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material including means to minimise changes in resistance with changes in temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Details Of Resistors (AREA)
- Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
Abstract
絶縁耐力に優れた高精度の電流検出用抵抗器の提供。 【解決手段】 電気抵抗用合金板と放熱用金属板とが樹
脂絶縁層を介して積層構造となっている電気用抵抗器に
おいて、その電気抵抗用合金板は、ニッケルと銅とを含
む合金で形成され、その合金の結晶粒界を凹状にエッチ
ングすることによって樹脂絶縁層と接着されていること
を特徴とする抵抗器。
Description
電力変換装置における電流検出用抵抗器に属する。
されたパワーモジュール等の電力変換機では、数A〜4
00A程度までの大電流を精度よく検出するため0.1
mΩ〜100mΩ程度の高精度の電気用抵抗器が用いら
れる。電力変換機は大電流のため抵抗器で発生する電力
も大きく、放熱が必要である。この放熱の手段として、
図1に示すような抵抗用合金板2と放熱用金属板4を樹
脂絶縁層3を介し積層した構造の抵抗器が用いられる。
このような3層の積層構造からなる抵抗器は特公平3−
16799号や特開平10−149901号公報に示さ
れている。
めに抵抗率の大きい、銅・マンガン系合金、銅・マンガ
ン・ニッケル系合金、または銅・ニッケル系合金が用い
られる。そのような銅・マンガン・ニッケル系合金とし
ては、たとえばマンガニンが知られている。また、銅・
ニッケル系合金としては、コンスタンタン等の他に、少
量のMn、Fe、Siを含有するアドバンス、アイデア
ル等の商品名で知られている。
層タイプの抵抗器では次に示す課題があった。
合金であるマンガニン(銅85%、マンガン12%、ニ
ッケル2%および鉄1%の合金)と銅・ニッケル系合金
(銅55%、ニッケル44%、マンガン2%の合金)の
各温度における抵抗温度係数を示す。従来から比較的一
般的に用いられてきた銅・マンガン系合金もしくは銅・
マンガン・ニッケル系合金の抵抗温度係数は周囲温度が
常温〜60℃の場合は、絶対値が10ppm/℃以下の
範囲できわめて小さいが、その範囲外の高温領域や低温
領域では周囲温度とともに大きくなる。それに対して、
銅・ニッケル系合金の場合は抵抗温度係数が周囲温度に
関わらず、絶対値が15ppm/℃以下で一定である。
したがって、周囲温度が100℃まで上昇する電力変換
機器では、高温領域において抵抗温度係数が小さい銅・
ニッケル系合金を用いることが要望されている。
ル熱が発生する。電力変換機用抵抗器では電流を正確に
測定するために、および発生熱で電力変換機内の内気温
度を上昇させないためにも抵抗用合金板2の温度上昇は
低くおさえる必要がある。積層タイプの抵抗器では、発
生熱を樹脂絶縁層3を介し放散させ冷却させる。したが
って樹脂絶縁層3の熱伝導率はできるだけ高いことが望
まれる。
が多いほど有利である。しかしながら、従来の積層タイ
プの抵抗器で用いられている樹脂材料中の無機充填材の
添加量が多くても70重量%であり、熱伝導率が低く熱
抵抗が高いために、冷却性が十分でない。ここで放熱性
を向上させるために、無機充填材の添加量が80〜90
重量%程度の高充填の樹脂材料を用いると、充填材と金
属面との接触が多くなり、抵抗用合金板2との接着性が
低下することが知られている。接着性を向上させるため
に、通常、接着面を凹凸にする粗化処理が行われる。プ
リント基板に用いられる電解銅箔等は5〜15μmの凹
凸が形成されており無機充填材の添加量が80〜90重
量%程度の高充填の樹脂材料でもアンカー効果は強い。
圧延銅箔の場合は表面が平滑であるので通常黒化処理と
呼ばれる酸化銅の針状結晶を表面に成長させ凹凸を形成
する。また最近は銅表面に数μmの凹凸を形成するマイ
クロエッチングと呼ばれる粗化処理が施されるようにな
ってきた。
抗用合金板2は圧延板であるので、その表面は平滑であ
る。したがって圧延箔のように粗化処理を施さないと凹
凸は形成できない。前述の銅・マンガン系合金もしくは
銅・マンガン・ニッケル系合金は銅の組成比が82%〜
85%と多く含まれるので、圧延銅箔のように黒化処理
やマイクロエッチング処理が施しやすい。それに対し
て、抵抗温度係数が広い温度範囲で低くかつ一定である
銅・ニッケル系合金は、本来酸化されにくい材料であ
り、銅・マンガン系合金もしくは銅・マンガン・ニッケ
ル系合金のように粗化処理を行なうのが極めて困難であ
った。
接パワーモジュールのアース電位となる金属板に搭載す
る場合、絶縁樹脂層3には電力変換機の回路電圧が加わ
りその値は、最大で1000Vp(ピーク電圧)程度に
なる場合がある。したがって、絶縁樹脂層3には、高い
絶縁耐力を有すること、およびその絶縁耐力を長期にわ
たって維持することが必要である。
金板と熱伝導性樹脂材の接着強度が高く、低熱抵抗で冷
却性に優れ、かつ絶縁性に優れた電力変換装置用の抵抗
器を提供することにある。
範囲で小さく、精度の高い電流検出ができ、抵抗板と熱
伝導性樹脂材の接着強度が高く、高熱伝導で冷却性が優
れ、かつ絶縁性に優れた電力変換装置用の抵抗器を提供
することにある。
熱用金属板4が樹脂絶縁層3を介して積層構造となって
いる電気用抵抗器において、上記抵抗合金板は、全重量
を基準として42.0〜48.0質量%のニッケル、
0.3〜2.5質量%のマンガン、銅を含み、銅、ニッ
ケルおよびマンガンの含有量の合計が98質量%以上で
ある合金で形成され、厚みが0.1mm以上からなる板
状であり、その結晶粒界を凹状にエッチングすることに
よって樹脂絶縁層と接着されていることを特徴とする抵
抗器に係わるものである。
ニッケル系合金は、合金の全重量を基準としてニッケル
を40〜50質量%、および銅を60〜50質量%を含
む合金である。より好ましくは、ニッケルを42.0〜
48.0質量%、および銅を58.0〜52.0質量%
含む。銅・ニッケル系合金は、銅およびニッケルから主
として構成されるが、その抵抗温度係数の絶対値を増加
させないことを条件として、少量の他の金属(Mn、F
e、Si等)をさらに含有してもよい。たとえば、本発
明の銅・ニッケル系合金は、合金の全重量を基準とし
て、42.0〜48.0質量%のニッケル、0.3〜
2.5質量%のマンガン、銅を含み、銅、ニッケルおよ
びマンガンの含有量の合計が98質量%以上であること
ができる。上記の組成を有する銅・ニッケル系合金は、
−50℃から200℃の範囲内の温度において、±20
ppm/℃の範囲内、好ましくは−15〜+15ppm
/℃の範囲内の抵抗温度係数を有する。
形成される電気抵抗用合金板2は、0.1mm以上の厚
さを有し、好ましくは0.1mm〜0.5mmの厚さを
有する。
る電気抵抗用合金板2は、好ましくは有機酸系エッチン
グ剤を用いて粗化処理を受ける。本発明の有機酸系エッ
チング剤に用いることができる有機酸は、ギ酸、酢酸、
プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸等の飽和脂肪
酸、アクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸等の不飽
和脂肪酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル
酸、アジピン酸、ピメリン酸等の脂肪族飽和ジカルボン
酸、マレイン酸などの脂肪族不飽和ジカルボン酸、安息
香酸、フタル酸、桂皮酸等の芳香族カルボン酸、グリコ
ール酸、乳酸、リンゴ酸、クエン酸等のオキシカルボン
酸、スルファミン酸、β−クロロプロピオン酸、ニコチ
ン酸、アスコルビン酸、ヒドロキシピバリン酸、レブリ
ン酸等の置換基を有するカルボン酸、およびそれらの誘
導体を含む。これら有機酸は、単独または2種以上の併
用で用いることができる。本発明において好ましいもの
は、ギ酸ベースの有機酸系エッチング剤である。有機酸
系エッチング剤は、必要に応じて添加剤(第2銅イオン
源、ハロゲンイオン源など)を含有することができる。
本発明において好ましい有機酸系エッチング剤は、有機
酸、第2銅イオン源およびハロゲンイオン源を組み合わ
せたものを10〜20質量%含有し、3.0〜3.5の
pHを有する水溶液である。
の種類および濃度に依存するが、一般的に30秒〜3分
間にわたって行われる。また、粗化処理は、通常25℃
〜40℃の範囲内の温度において、より好ましくは30
〜40℃の範囲内の温度において、スプレー圧0.15
〜0.2MPaでエッチング剤を吹き付けることにより
行うことができる。
金の結晶粒界に沿って深さ数μmの凹状の谷が形成され
る。すなわち、銅・ニッケル系合金の表面が粗面化さ
れ、引き続いて行われる絶縁樹脂層3との接着性が向上
する。
は、無機充填材を含有するエポキシ樹脂から構成され
る。絶縁樹脂層3は、電気抵抗用合金板2から放熱用金
属板4への伝熱を効率よく行う必要性があるので、高い
熱伝導性(低い熱抵抗)を有する必要がある。その高い
熱伝導性を実現するために、本発明の絶縁樹脂層3は、
71質量%〜95質量%(絶縁樹脂層総重量を基準とし
て)、好ましくは71質量%〜90質量%(絶縁樹脂層
総重量を基準として)の無機充填材を含有する。
は、ビスフェノールA系エポキシ樹脂、またはビスフェ
ノールA系エポキシ樹脂とフェノールノボラック系エポ
キシ樹脂との混合物を含む。また、本発明において用い
られる無機充填材は、SiO2,Al2O3,BN,Al
N,MgO、およびそれらの混合物からなるものを含
む。
液の形態で調製し、電気抵抗用合金板2または放熱用金
属板4に塗工することができる。溶剤としては、メチル
エチルケトンまたはトルエンを用いることができる。
電位となる金属板に本発明の抵抗器を直接搭載する場
合、絶縁樹脂層3に対して、最大で1000Vp(ピー
ク電圧)程度の電圧が印加される可能性がある。したが
って、絶縁樹脂層3は、高い絶縁耐力を有し、それを長
期にわたって維持することが求められる。また、絶縁樹
脂層3は、電気抵抗用合金板2および放熱用金属板4に
対して、良好な接着性を有することが求められる。それ
らの特性を満足させるために、絶縁樹脂層3は、50μ
m〜200μmの範囲内の厚さ、好ましくは50μm〜
150μmの範囲内の厚さを有する。また、上記の組成
および厚さを有して作成される本発明の絶縁樹脂層3
は、5kVrms(平方自乗平均電圧)以上、好ましく
は6kVrms以上の絶縁耐力を有する。上記範囲の絶
縁耐力を有するので、本発明の抵抗器は、パワーモジュ
ールのアース電位となる金属板に直接搭載された場合に
おいても、長期にわたって絶縁破壊を起こすことがな
い。
て、その高い熱伝導性により、銅またはアルミニウムか
らなる金属板を用いることが好ましい。放熱用金属板4
の絶縁樹脂層3との接着面は、抵抗用合金板2と同様
に、熱伝導性樹脂(絶縁樹脂層3)との接着力を得るた
めに粗化処理が必要である。いずれの材料を用いる場合
にも一般的な処理を用いることができる。銅を用いる場
合には、黒化処理と呼ばれる針状結晶を形成する酸化処
理を行ない、表面を凹凸にすることができる。アルミニ
ウムを用いる場合には、アルマイト処理を行ない凹凸を
形成することができる。また、放熱用金属板4の絶縁樹
脂層3とは反対側の面に、フィンないし小柱を設けて、
表面積を増大させ、それによって放熱効率を向上させる
ことができる。
着、および絶縁樹脂層3と放熱用金属板4との接着は、
加熱プレスによって行うことができる。絶縁樹脂層3を
放熱用金属板4に塗工し、樹脂が半硬化した状態に乾燥
させたものを、電気抵抗用合金板2に積層して加熱プレ
ス中で接着を行うことができる。あるいはまた、絶縁樹
脂層3を電気抵抗用合金板2に塗工し、樹脂が半硬化し
た状態に乾燥させたものを、放熱用金属板4に積層して
加熱プレス中で接着を行ってもよい。さらに別法とし
て、絶縁樹脂層3をPET等の一時的支持体上に塗工
し、樹脂が半硬化した状態に乾燥させた絶縁樹脂層供与
シートを用いることができる。この場合には、電気抵抗
用合金板2または放熱用金属板4のいずれかに対して、
絶縁樹脂層3が密着するように絶縁樹脂層供与シートを
載置し、熱の印加などにより絶縁樹脂層3と電気抵抗用
合金板2または放熱用金属板4とを仮接着させ、引き続
いて一時的支持体を剥離することによって、絶縁樹脂層
3と電気抵抗用合金板2または放熱用金属板4との積層
体を形成することができる。該積層体に対して、放熱用
金属板4または電気抵抗用合金板2を積層し、加熱プレ
ス中において接着を行うことで本発明の抵抗器を形成す
ることができる。加熱プレス中での接着は、60分間に
わたって、180℃の温度および4.9MPa(50k
gf/cm2)の圧力を印加することによって実施され
る。
ッケル板は塩化第二鉄,塩化銅などの薬品でエッチング
処理され、所定のパターンに形成される。形成された各
パターンを、プレス加工もしくはVカット加工により分
割し、単体の抵抗器を形成する。
43.7質量%、およびマンガン1.8質量%の組成を
有し、かつ0.2mmの厚さを有する銅・ニッケル系合
金板を用いて、その表面の粗化処理を検討した。各種の
方法による粗化処理の結果を、図3〜図8のSEM写真
(2000倍)によって示す。
表面のSEM写真である。圧延加工により銅・ニッケル
系合金板表面は平滑である。
したサンプル1の表面のSEM写真である。筋状の傷が
若干増えているが、凹凸は形成されていない。
したサンプル2の表面のSEM写真である。同様に、銅
・ニッケル系合金板の表面は凹凸が形成されていない。
を行なったサンプル3の表面のSEM写真である。若干
凹凸が形成されている。
を行なったサンプル4の表面のSEM写真である。凹凸
は形成されていない。
スの有機酸系のエッチング剤をスプレー圧0.15MP
aで吹き付けることにより、粗化処理を行なったサンプ
ル5の表面のSEM写真である。銅・ニッケル系合金の
結晶粒界に沿って深さ数μmの谷が形成されている。
金は、従来法であるクロム酸による電解研磨、硝酸系お
よび塩酸系のエッチング剤による処理では、その表面を
充分に粗面化することができなかった。しかし、本発明
にしたがって有機酸系のエッチング剤による銅・ニッケ
ル系合金の粗化処理を行うことによって、銅・ニッケル
系合金の結晶粒界を凹状態にエッチングできることが明
らかとなった。
m,長さ500mm,厚み0.2mmの銅・ニッケル系
合金板を、SiO2フィラー充填エポキシ樹脂絶縁材を
介して厚さ2mmのアルミ板と積層した。該絶縁材は、
80質量%のSiO2フィラーを含有し、エポキシ樹脂
はビスフェノールA系であった。加熱プレス機を用い
て、60分間にわたって、180℃の温度および4.9
MPaの圧力を印加して接着を行った。絶縁層の厚みは
125μmであった。絶縁層の硬化が完了した後に、積
層板の銅・ニッケル系合金板を、10×10mmの大き
さに塩化第二鉄でエッチング加工した。
をはんだ付けし、引張強度を引張試験装置で評価した。
その結果を表1に示す。サンプル1〜3までは接着強度
が160N/cm2以下と得られなかったが、サンプル
5では654N/cm2と高い値が得られた。
おいて、その絶縁樹脂層3の厚さを変化させて、絶縁破
壊電圧を測定した。結果を表2に示す。表2に示される
ように、絶縁樹脂層3が50μm以上の厚さを有する際
に、抵抗器に必要とされる絶縁耐力(絶縁破壊電圧)を
実現できることが分かった。
合金からなる電気抵抗用合金板を用いることにより、イ
ンバータ装置等の電力変換装置に用いることができる、
温度変化による抵抗値の変化が少なく、高精度の電流検
出用抵抗器を得ることが可能となる。また、有機酸系の
エッチング剤を用いて銅・ニッケル系合金の表面の粗面
化を行い、該合金と無機充填材を多く含有する絶縁樹脂
層との間の接着強度を高めることができる。さらに、無
機充填材を多く含有する絶縁樹脂層を用いることによ
り、放熱特性に優れ、かつ絶縁耐力に優れた抵抗器を得
ることができる。
の周囲温度と抵抗温度係数との関係を示したグラフであ
る。
EM写真である。
械的に研磨した場合のSEM写真である。
た場合のSEM写真である。
で粗化処理した場合のSEM写真である。
で粗化処理した場合のSEM写真である。
剤で粗化処理した場合のSEM写真である。
Claims (6)
- 【請求項1】 全重量を基準として42.0〜48.0
質量%のニッケル、0.3〜2.5質量%のマンガン、
および銅を含み、銅、ニッケルおよびマンガンの含有量
の合計が98質量%以上である合金で形成され、および
前記合金の結晶粒界を凹状にエッチングされている電気
抵抗用合金板と、 前記電気抵抗用合金板に積層されている樹脂絶縁層と、 前記樹脂絶縁層の、前記電気抵抗用合金板とは反対側の
面に積層されている放熱用金属板とを備えたことを特徴
とする電気用抵抗器。 - 【請求項2】 上記電気抵抗用合金板は、0.1mm以
上の厚さを有する板状であることを特徴とする請求項1
に記載の電気用抵抗器。 - 【請求項3】 前記エッチングは、有機酸系エッチング
剤を用いて実施されていることを特徴とする請求項1ま
たは2に記載の電気用抵抗器。 - 【請求項4】 前記樹脂絶縁層は、無機充填剤を71質
量%から95質量%含有する高熱伝導性のエポキシ樹脂
であることを特徴とする請求項1または2に記載の電気
用抵抗器。 - 【請求項5】 前記樹脂絶縁層は、50μm〜200μ
mの範囲の厚さと、5kVrms以上の絶縁破壊電圧を
有していることを特徴とする請求項1または2に記載の
電気用抵抗器。 - 【請求項6】 前記放熱用金属板は、銅またはアルミニ
ウムからなることを特徴とする請求項1または2に記載
の電気用抵抗器。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000370615A JP3803025B2 (ja) | 2000-12-05 | 2000-12-05 | 抵抗器 |
US10/005,209 US6528860B2 (en) | 2000-12-05 | 2001-12-05 | Resistor with resistance alloy plate having roughened interface surface |
DE10159587A DE10159587B4 (de) | 2000-12-05 | 2001-12-05 | Widerstand und Verfahren zu seiner Herstellung |
CNB011435038A CN1256736C (zh) | 2000-12-05 | 2001-12-05 | 电阻器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000370615A JP3803025B2 (ja) | 2000-12-05 | 2000-12-05 | 抵抗器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002175901A true JP2002175901A (ja) | 2002-06-21 |
JP3803025B2 JP3803025B2 (ja) | 2006-08-02 |
Family
ID=18840478
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000370615A Expired - Lifetime JP3803025B2 (ja) | 2000-12-05 | 2000-12-05 | 抵抗器 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6528860B2 (ja) |
JP (1) | JP3803025B2 (ja) |
CN (1) | CN1256736C (ja) |
DE (1) | DE10159587B4 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011228669A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-11-10 | Koa Corp | 抵抗体、抵抗器、およびその製造方法 |
JP2012248870A (ja) * | 2006-09-27 | 2012-12-13 | Vishay Dale Electronics Inc | 熱的に安定な抵抗をもつインダクター |
JP2017079159A (ja) * | 2015-10-21 | 2017-04-27 | 株式会社ダイヘン | 側路開閉器 |
WO2019142939A1 (ja) * | 2018-01-22 | 2019-07-25 | 三菱マテリアル株式会社 | サーミスタ及びその製造方法並びにサーミスタセンサ |
KR20190127013A (ko) * | 2018-05-03 | 2019-11-13 | 이재훈 | 전류 검출용 저항기 및 그 제조방법 |
WO2021024394A1 (ja) | 2019-08-06 | 2021-02-11 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 電力変換システム |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7102484B2 (en) * | 2003-05-20 | 2006-09-05 | Vishay Dale Electronics, Inc. | High power resistor having an improved operating temperature range |
CN102881387B (zh) * | 2011-07-14 | 2015-07-08 | 乾坤科技股份有限公司 | 运用压合胶贴合的微电阻产品及其制造方法 |
CN102854223A (zh) * | 2012-07-30 | 2013-01-02 | 中国人民公安大学 | 黑色字迹鉴别仪 |
DE112014003013B4 (de) * | 2013-06-25 | 2023-08-31 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Klopfsensor |
CN103714926A (zh) * | 2013-12-31 | 2014-04-09 | 中航电测仪器股份有限公司 | 一种箔式精密电阻及其制造方法 |
US10083781B2 (en) | 2015-10-30 | 2018-09-25 | Vishay Dale Electronics, Llc | Surface mount resistors and methods of manufacturing same |
CN106098684B (zh) * | 2016-08-16 | 2019-04-26 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种静电防护电路 |
EP3309800B1 (de) * | 2016-10-11 | 2019-03-20 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Verfahren zur herstellung eines schichtaufbaus unter verwendung einer paste auf basis einer widerstandslegierung |
CN106384633B (zh) * | 2016-11-17 | 2019-02-05 | 南京萨特科技发展有限公司 | 高功率电流侦测器 |
US10438729B2 (en) | 2017-11-10 | 2019-10-08 | Vishay Dale Electronics, Llc | Resistor with upper surface heat dissipation |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4677413A (en) * | 1984-11-20 | 1987-06-30 | Vishay Intertechnology, Inc. | Precision power resistor with very low temperature coefficient of resistance |
JP3016799B2 (ja) * | 1989-11-09 | 2000-03-06 | 沖電気工業株式会社 | データベース問い合わせ処理装置 |
KR100223504B1 (ko) * | 1992-08-28 | 1999-10-15 | 다카노 야스아키 | 혼성 집적 회로 장치 |
DE4339551C1 (de) | 1993-11-19 | 1994-10-13 | Heusler Isabellenhuette | Widerstand in SMD-Bauweise und Verfahren zu seiner Herstellung sowie Leiterplatte mit solchem Widerstand |
DE19646441A1 (de) | 1996-11-11 | 1998-05-14 | Heusler Isabellenhuette | Elektrischer Widerstand und Verfahren zu seiner Herstellung |
US5990780A (en) * | 1998-02-06 | 1999-11-23 | Caddock Electronics, Inc. | Low-resistance, high-power resistor having a tight resistance tolerance despite variations in the circuit connections to the contacts |
DE19818375A1 (de) * | 1998-04-24 | 1999-11-04 | Dornier Gmbh | PTCR-Widerstand |
US5945905A (en) * | 1998-12-21 | 1999-08-31 | Emc Technology Llc | High power resistor |
-
2000
- 2000-12-05 JP JP2000370615A patent/JP3803025B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-12-05 CN CNB011435038A patent/CN1256736C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-12-05 DE DE10159587A patent/DE10159587B4/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-12-05 US US10/005,209 patent/US6528860B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012248870A (ja) * | 2006-09-27 | 2012-12-13 | Vishay Dale Electronics Inc | 熱的に安定な抵抗をもつインダクター |
JP2011228669A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-11-10 | Koa Corp | 抵抗体、抵抗器、およびその製造方法 |
JP2017079159A (ja) * | 2015-10-21 | 2017-04-27 | 株式会社ダイヘン | 側路開閉器 |
WO2019142939A1 (ja) * | 2018-01-22 | 2019-07-25 | 三菱マテリアル株式会社 | サーミスタ及びその製造方法並びにサーミスタセンサ |
JP2019129185A (ja) * | 2018-01-22 | 2019-08-01 | 三菱マテリアル株式会社 | サーミスタ及びその製造方法並びにサーミスタセンサ |
CN111344819A (zh) * | 2018-01-22 | 2020-06-26 | 三菱综合材料株式会社 | 热敏电阻及其制造方法和热敏电阻传感器 |
KR20190127013A (ko) * | 2018-05-03 | 2019-11-13 | 이재훈 | 전류 검출용 저항기 및 그 제조방법 |
KR102071137B1 (ko) * | 2018-05-03 | 2020-03-02 | 이재훈 | 전류 검출용 저항기 및 그 제조방법 |
WO2021024394A1 (ja) | 2019-08-06 | 2021-02-11 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 電力変換システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6528860B2 (en) | 2003-03-04 |
CN1359111A (zh) | 2002-07-17 |
JP3803025B2 (ja) | 2006-08-02 |
CN1256736C (zh) | 2006-05-17 |
US20020140038A1 (en) | 2002-10-03 |
DE10159587B4 (de) | 2007-07-26 |
DE10159587A1 (de) | 2002-06-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2002175901A (ja) | 抵抗器 | |
TW595304B (en) | Multi-layer structure and method for forming a thermal interface with low contact resistance between a microelectronic component package and heat sink | |
TW543351B (en) | Substrate adhesion enhancement to film | |
JP2010192661A (ja) | 放熱部品とその製造方法、およびこれを用いた放熱装置と放熱方法 | |
JPS611088A (ja) | 導電回路の形成法 | |
JP2010045325A (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
JP2007208132A (ja) | 積層体の検査方法及びヒートスプレッダモジュールの検査方法 | |
JP2005203735A (ja) | 熱伝導性複合シート | |
JPH04255254A (ja) | 金属基板 | |
JP4225945B2 (ja) | 熱伝導性シート | |
JP2000349400A (ja) | 回路基板 | |
JP2000064084A (ja) | 電子部品の放熱板用めっき材 | |
JPH0159755B2 (ja) | ||
JP2003324296A (ja) | 電食防止金属製放熱器 | |
JP3615968B2 (ja) | プリント基板用金属板材および金属ベースプリント基板 | |
JPH0246312B2 (ja) | ||
JPH0745849Y2 (ja) | 自動装着用熱伝導性電気絶縁シート | |
TWI260957B (en) | Circuit board with high heat-dissipation capability and low noise | |
JPH02138791A (ja) | 回路基板 | |
JPH1022629A (ja) | 保護フィルム付金属ベース基板の製造方法 | |
JPH02165690A (ja) | 基板と電気回路装置 | |
JPS62105646A (ja) | サ−マルヘツド | |
JPH0927664A (ja) | 金属ベースプリント配線基板 | |
JP2571117Y2 (ja) | ヒートシンクを有する回路装置 | |
KR100934171B1 (ko) | 방열 구조체 및 이의 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051213 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060213 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060213 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060421 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060501 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3803025 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090512 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090512 Year of fee payment: 3 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090512 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090512 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100512 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110512 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110512 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120512 Year of fee payment: 6 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120512 Year of fee payment: 6 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130512 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140512 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |