JP2002151805A

JP2002151805A - 多数個取りセラミック配線基板

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Publication number: JP2002151805A
Application number: JP2000344480A
Authority: JP
Inventors: Koji Kinomura; 浩司木野村
Original assignee: Kyocera Corp
Current assignee: Kyocera Corp
Priority date: 2000-11-10
Filing date: 2000-11-10
Publication date: 2002-05-24
Anticipated expiration: 2020-11-10
Also published as: JP4511013B2

Abstract

(57)【要約】【課題】電子部品装置の生産効率が向上し、セラミック
母基板を各配線基板毎に分割した際に試験用の電子部品
装置と製品用の電子部品装置とを容易かつ正確に区別で
きるようにすること。【解決手段】セラミック母基板１の主面に配線基板領域
２が縦横の並びに複数配列形成されて成るとともに、配
線基板領域２の上下面にメタライズ配線層４が形成され
かつ上下面の少なくとも一方に電子部品５を載置する載
置部が設けられており、配線基板領域２は、電子部品５
の載置部およびメタライズ配線層４に対する搭載接続条
件を予め設定するための試験用のものと、上下面のメタ
ライズ配線層４を接続する接続導体３が形成され、かつ
搭載接続条件に基づいて電子部品５が載置部に搭載およ
びメタライズ配線層４に接続される実装用のものとから
成る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子や水
晶振動子等の電子部品を搭載するための小型の配線基板
となる配線基板領域を厚みが薄く広面積のセラミック母
基板に縦横の並びに多数個配列形成して成る多数個取り
セラミック配線基板に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ＩＣ，ＬＳＩ等の半導体素子や水
晶振動子等の電子部品を載置し搭載するための小型のセ
ラミック配線基板は、例えば、上面の中央部に電子部品
が載置される載置部を有する略四角形状のセラミック基
板と、このセラミック基板の載置部から内部または側面
を介して下面に導出されるメタライズ配線層とから構成
されている。そして、このセラミック配線基板は、セラ
ミック基板の載置部に電子部品を載置固定するととも
に、この電子部品の各電極をセラミック基板上面のメタ
ライズ配線層に電気的に接続し、しかる後、セラミック
基板上面および電子部品の上に例えばエポキシ樹脂等の
熱硬化性樹脂から成る封止樹脂を電子部品を覆って封止
するように塗布し硬化させることによって、製品として
の電子部品装置となる。また、例えば、メタライズ配線
層のうちセラミック基板の下面に導出された部位を、外
部電気回路基板の配線導体に半田等の導電性接合材を介
して接合することにより、電子部品が外部電気回路に電
気的に接続される。

【０００３】ところで、このようなセラミック配線基板
は近時における電子部品装置の小型化の要求に伴い、そ
の大きさは、平面視における外形寸法が０．５ｍｍ×
０．５ｍｍ〜１０ｍｍ×１０ｍｍ程度、厚みが０．１〜
０．２５ｍｍ程度と極めて小さく薄いものとなってきて
いる。そして、このような小型化および薄型化したセラ
ミック配線基板は、その取り扱いを容易とするために、
またセラミック配線基板および電子部品装置の製作を効
率よくするために、多数個のセラミック配線基板を１枚
の広面積のセラミック母基板から同時集約的に得るよう
に成した、いわゆる多数個取りセラミック配線基板の形
態で製作されている。

【０００４】このような多数個取りセラミック配線基板
は、略平板状で広面積のセラミック母基板の主面の中央
部に、それぞれが上面に電子部品を載置するための載置
部を有するセラミック配線基板となる分割線で区切られ
た多数の配線基板領域を、縦横の並びに一体的に配列形
成して成る。また、このセラミック母基板の主面の外周
部は、セラミックグリーンシートとメタライズ配線層を
形成するための金属ペーストとの焼成収縮率の相違に起
因して大きな反りが発生しやすいため、捨て代領域とし
ている。

【０００５】また、各配線基板領域内または各配線基板
領域の境界には、メタライズ配線層を各配線基板領域の
上面から下面に導出させるための貫通孔が形成されてお
り、この貫通孔を介して各配線基板領域の上面から下面
にかけてメタライズ配線層が被着形成されることとな
る。

【０００６】そして、各配線基板領域の上面に電子部品
を載置固定するとともにその電子部品の電極を各配線基
板領域上面のメタライズ配線層に電気的に接続し、しか
る後、セラミック母基板上に各電子部品を封止するよう
に封止樹脂を塗布し硬化させ、最後に、このセラミック
母基板を各配線基板領域毎に分割することによって多数
の電子部品装置が同時集約的に製造される。

【０００７】なお、このような多数個取りセラミック基
板は、セラミック母基板用のセラミックグリーンシート
を準備し、このセラミックグリーンシートの上面および
下面にメタライズ配線層となる金属ペーストを印刷塗布
し、しかる後、このセラミックグリーンシートおよび金
属ペーストを高温で同時焼成することによって製作され
る。

【０００８】この各配線基板領域の上面に電子部品を載
置して、電子部品の電極を各配線基板領域上面のメタラ
イズ配線層に良好に接続させるための各実装装置の搭載
接続条件の初期設定が、予め実装試験をすることにより
行なわれる。そして、この実装試験は、各配線基板領域
上面に形成されたメタライズ配線層と同形状のものが形
成され、セラミック母基板の外周部の全周に形成された
捨て代領域の配線基板領域に対して行われる。

【０００９】なお、実装試験は、メタライズ配線層のパ
ターンの電極パッドに対するボンディングワイヤの接合
位置、即ちボンディング装置のキャピラリの停止位置の
調整、キャピラリの電極パッドに対する押圧力の調整等
を行なうための試験である。

【００１０】そこで、上記の捨て代領域は、セラミック
グリーンシートと金属ペーストとの焼成収縮率の相違に
起因して反りが発生しやすいため、セラミック母基板の
中央部の配線基板領域の上下面に形成されたメタライズ
配線層と同形状のものを、捨て代領域の配線基板領域の
下面または上下面に形成することにより、その反りを小
さくしている。

【００１１】そして、セラミック母基板を各配線基板領
域毎に分割するには、セラミック母基板の上下面に各セ
ラミック母基板領域を区切るように形成された分割溝に
沿って撓折する方法や、セラミック母基板をダイヤモン
ドカッターやレーザーカッターを使用して各配線基板領
域毎に分割する方法が採用される。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
従来の多数個取りセラミック配線基板においては、セラ
ミック母基板を各配線基板領域毎に分割することによっ
て多数個の電子部品が同時集約的に製作されており、各
電子部品の実装中に問題が出たり実装装置の故障が発生
した時は、再度実装試験を行って搭載接続条件の初期設
定をし直し、その後実装を再開させる必要がある。そし
て、この実装試験は、セラミック母基板の外周部の全周
に形成された捨て代領域の配線基板領域のメタライズ配
線層を使用して実施することとなるが、上記のような搭
載接続条件の初期設定の修正が多いと捨て代領域のセラ
ミック母基板に占める割合が大きくなり、さらに分割後
に捨て代領域全体を捨てることとなるため、電子部品装
置の生産数が少なくなり生産効率が低下するという問題
点があった。

【００１３】そこで、電子部品装置の生産数を低下させ
ないために、捨て代領域の配線基板領域も含めて電子部
品を搭載し、実装試験を行ったもののみを分割後に不良
品として排除することも考えらえるが、この場合、各配
線基板領域の上下面に形成されているメタライズ配線層
は全て同一形状のため、分割後の外観検査では試験用の
電子部品装置（不良品）と製品用の電子部品装置（良
品）との区別ができないという問題点を有していた。

【００１４】本発明は、かかる従来の問題点に鑑み案出
されたものであり、その目的は、生産性良く製造できる
とともに、試験用の電子部品装置と製品用の電子部品装
置を正確に区別できるものとすることにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の多数個取りセ
ラミック配線基板は、セラミック母基板の主面に配線基
板領域が縦横の並びに複数配列形成されて成るととも
に、前記配線基板領域の上下面に配線導体層が形成され
かつ前記上下面の少なくとも一方に電子部品を載置する
載置部が設けられた多数個取りセラミック配線基板であ
って、前記配線基板領域は、前記電子部品の前記載置部
および前記配線導体層に対する搭載接続条件を予め設定
するための試験用のものと、前記上下面の前記配線導体
層を接続する接続導体が形成され、かつ前記搭載接続条
件に基づいて電子部品が前記載置部に搭載および前記配
線導体層に接続される実装用のものとから成ることを特
徴とする。

【００１６】本発明は、上記構成により、電子部品の搭
載接続条件を初期設定するための試験用の配線基板領域
と、搭載接続条件に基づいて電子部品が搭載および接続
されるとともに上下面の配線導体層を接続する接続導体
が形成された実装用の配線基板領域とが設けられている
ことから、この多数個取りセラミック配線基板に電子部
品を実装する場合、実装中に問題が出たり実装装置の故
障が発生した時は、試験用の配線基板領域に対して実装
試験を行ない、分割後には試験用のもののみを不良品と
して排除すればよいことになる。即ち、試験用の配線基
板領域は数個あれば十分であり、セラミック母基板の外
周部の全周に設けるようなことは不要であることから、
従来のようにセラミック母基板の外周部の全周に設けら
れた捨て代領域全体を排除することがなくなり、電子部
品装置の生産効率が向上する。

【００１７】また、セラミック母基板を各配線基板毎に
分割した際に、接続導体の有無による導通チェックから
試験用の電子部品装置と製品用の電子部品装置とを容易
かつ正確に区別できる。

【００１８】本発明において、好ましくは、前記セラミ
ック母基板の主面の中央領域に実装用の配線基板領域が
形成され、外周領域に試験用の配線基板領域が形成され
ていることを特徴とする。

【００１９】本発明は、上記の構成により、セラミック
母基板の主面の中央領域に実装用の配線基板領域が形成
され、外周領域に試験用の配線基板領域が形成されてい
ることから、実装中に問題が出たり実装装置の故障が発
生した場合に、最も近くの試験用の配線基板領域を使用
して実装試験が行えるため、電子部品の実装時間を短縮
して生産効率を高めることができる。

【００２０】

【発明の実施の形態】本発明の多数個取りセラミック
配線基板について以下に詳細に説明する。図１は、本発
明の多数個取りセラミック配線基板について実施の形態
の一例を示す断面図であり、１はセラミック母基板、２
は配線基板領域である。

【００２１】セラミック母基板１は、例えば酸化アルミ
ニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）質焼結体，窒化アルミニウム（Ａｌ
Ｎ）質焼結体，ムライト（３Ａｌ₂Ｏ₃・２ＳｉＯ₂）質
焼結体，窒化珪素（Ｓｉ₃Ｎ₄）質焼結体，炭化珪素（Ｓ
ｉＣ）質焼結体，ガラスセラミックス等のセラミックス
材料から成り、一辺の長さが２０〜２００ｍｍで厚みが
０．１〜０．２５ｍｍの略四角形で単板の平板であり、
小型のセラミック配線基板を多数個同時集約的に製作す
るための母材である。

【００２２】そして、このセラミック母基板１の中央部
には、各々が小型のセラミック配線基板となる一辺の長
さが０．５〜１０ｍｍ程度の略四角形状の多数の配線基
板領域２が縦横の並びに一体的に配列形成されている。
なお、このセラミック母基板１は、その１辺の長さが２
０ｍｍ未満では多数個の配線基板を効率的に製作するこ
とが困難となり、他方、２００ｍｍを越えるとセラミッ
ク母基板１の反りを２００μｍ以下とすることが困難と
なる。したがって、セラミック母基板１の各辺の長さは
２０〜２００ｍｍの範囲が好ましい。

【００２３】また、セラミック母基板１は、その厚みが
０．１ｍｍ未満であると、外力等によりセラミック母基
板１に割れやクラックが発生しやすくなり、他方、０．
２５ｍｍを超えると、得られる電子部品装置の薄型化が
困難となる。したがって、セラミック母基板１の厚みは
０．１〜０．２５ｍｍの範囲が好ましい。

【００２４】このようなセラミック母基板１は、一辺の
長さが２０〜２５０ｍｍ程度で厚みが０．１５〜０．３
５ｍｍ程度の一枚のセラミックグリーンシートを準備
し、これにメタライズ配線層用の金属ペーストを印刷塗
布し、その後高温で焼成することによって製作される。
そして、セラミック母基板１用のセラミックグリーンシ
ートは、セラミック母基板１が例えば酸化アルミニウム
質焼結体から成る場合、酸化アルミニウム，酸化珪素
（ＳｉＯ₂），酸化マグネシウム（ＭｇＯ），酸化カル
シウム（ＣａＯ）等のセラミック原料粉末に、適当な有
機バインダおよび溶剤，可塑剤，分散剤等を添加混合し
て得たセラミックスラリーを、従来周知のドクターブレ
ード法を採用してシート状に成形することにより製作さ
れる。

【００２５】また、このセラミックグリーンシートに印
刷塗布される、配線導体層としてのメタライズ配線層４
形成用の金属ペーストは、タングステン（Ｗ）やモリブ
デン（Ｍｏ）等の高融点金属粉末に適当な有機バインダ
ー，溶剤，可塑剤等を添加混合して適当な粘度に調整す
ることによって得られ、公知のスクリーン印刷法により
セラミック母基板１用のセラミックグリーンシートに印
刷塗布される。

【００２６】また、セラミック母基板１に配列形成され
た各配線基板領域２は、各配線基板領域２毎に分割され
て各々が小型のセラミック配線基板となる領域であり、
その上面および下面には厚みが１０〜２０μｍ程度のメ
タライズ配線層４が被着される。このメタライズ配線層
４の表面にニッケル（Ｎｉ）や金（Ａｕ）等を、例えば
無電解めっき法により０．１〜２０μｍ程度の厚みに被
着させておくと、メタライズ配線層４が酸化腐食するの
を有効に防止することができる。

【００２７】また、メタライズ配線層４は、各配線基板
領域２に載置された電子部品５の電極を外部電気回路に
接続するための導電路として機能し、各配線基板領域２
の上面のメタライズ配線層４の電極パッド部に電子部品
５の電極がボンディングワイヤ６等の電気的接続手段を
介して電気的に接続される。また、接続導体３により上
面のメタライズ配線層４と導通され、かつ各配線基板領
域２の下面に形成されたメタライズ配線層４の電極パッ
ド部は、外部電気回路基板の配線導体に半田等の導電性
接合材を介して電気的に接続される。

【００２８】なお、接続導体３は、セラミック母基板１
において配線基板領域２内に接続導体３形成用の貫通孔
が形成される場合、ビアホール，スルーホール等の貫通
導体となる。また、セラミック母基板１において配線基
板領域２の外周部の分割線上に接続導体３形成用の貫通
孔が形成される場合、分割後の配線基板ではその側面に
形成されたキャスタレーション導体等となる。

【００２９】本発明のメタライズ配線層４は、例えばＷ
メタライズ層から成る場合、Ｗ粉末に適当な有機バイン
ダ，溶剤，可塑剤，分散剤等を添加混合して得た金属ペ
ーストを、セラミック母基板１用のセラミックグリーン
シートに、従来周知のスクリーン印刷法により厚みが１
２〜２５μｍ程度の所定のパターンに印刷塗布する。金
属ペーストをセラミックグリーンシートとともに焼成す
ることによって、セラミック母基板１の各配線基板領域
２の上面から接続導体３を介して下面にかけて導出する
ように、メタライズ配線層４が被着される。

【００３０】なお、メタライズ配線層４は、例えば各配
線基板領域２の上面側では、図２に上面図で示すよう
に、中央部から接続導体３にかけて延びる略帯状であ
り、他方、各配線基板領域２の下面側では図３に下面図
で示すように、接続導体３の周囲に配置された島状であ
る。また、配線導体層として、メタライズ配線層４の代
わりに、スパッタリング法，蒸着法，ＣＶＤ法等の薄膜
形成法によって形成された薄膜配線層等を用いてもよ
い。

【００３１】そして、配線基板領域２は、ボンディング
ワイヤ６の接合位置や電子部品５の載置位置等を調整す
る実装試験を行なうための試験領域９（図１）と、接続
導体３を介してメタライズ配線層４が上下面で導通し電
子部品５が実装される実装領域８（図１）とに、それぞ
れ設けられる。試験領域９をセラミック母基板１の一部
に形成することで、従来、外周部の全周に形成されてい
た捨て代領域をなくすことができ、その結果実装領域８
が大きくなり電子部品装置の生産効率が向上する。

【００３２】なお、電子部品の実装試験は、上記のよう
な電子部品がボンディングワイヤで接続されるものでは
なく例えばフリップチップ接続されるものの場合、電子
部品の下面の載置部に対する接続位置の調整等を行なう
ものであってもよい。

【００３３】本発明において、試験領域９に設けられる
配線基板領域２は２個または３個でよい。それは、１個
の配線基板領域２で実装試験を行なった後、ボンディン
グ装置等の実装装置が故障して再度実装試験を行なうこ
とは実際には稀であるからである。このように、試験領
域９に設けられる配線基板領域２の数がきわめて少なく
なり、セラミック母基板１の大部分を実装領域８として
使用することができる。

【００３４】また、実装領域８の配線基板領域２の接続
導体３が、配線基板領域２の分割線に触れないように中
心部に形成される場合、試験領域９の接続導体３のない
配線基板領域２に形成されるメタライズ配線層４は上下
面の導通がとれないこととなる。従って、分割後の導通
チェックにより、導通可のものは製品用の電子部品装置
であり、導通不可のものは試験用の電子部品装置である
として、容易かつ正確に区別することができる。

【００３５】一方、実装領域８の配線基板領域２の接続
導体３がその配線基板領域２の外周部の分割線上に形成
され、かつ試験領域９の配線基板領域２がセラミック母
基板１の外周領域に設けられる場合（図１〜図３）、実
装領域８および試験領域９の配線基板領域２ともに上下
面の導通がとれることとなる。従って、分割後の外観検
査により試験用のものと実装用のものとを区別できる。
即ち、実装領域８の配線基板領域２の接続導体３がその
配線基板領域２の外周部の分割線上に形成される場合、
試験領域９の配線基板領域２がセラミック母基板１の外
周領域に設けられていればよく、その場合分割後の試験
領域９の配線基板には接続導体３が形成されない端面が
少なくとも１面形成されることとなることから、外観検
査により容易に区別できる。

【００３６】本発明において、セラミック母基板１の主
面の中央領域に実装用の配線基板領域２が形成され、外
周領域に試験用の配線基板領域２が形成されていること
がよく、その場合、反りや変形の比較的大きい外周領域
を試験用とすることで、製品用の配線基板の形状精度を
高くすることができる。

【００３７】また、セラミック母基板１が大きいものの
場合、実装試験および実装の効率を上げるために、セラ
ミック母基板１の外周領域に実装領域８を取り囲むよう
に試験領域９を形成することができる。例えば、試験領
域９をセラミック母基板１の四隅に形成した構成、試験
領域９をセラミック母基板１の四辺の中央部に形成した
構成等とすることにより、実装中に問題が出たり実装装
置の故障が発生した場合に、故障が発生した実装領域８
内の配線基板領域２からセラミック母基板１の外周領域
の最も近くの試験領域９で実装試験が行えるため、電子
部品５の実装時間を短縮することができる。また、試験
領域９の配線基板領域２に形成された試験用のメタライ
ズ配線層１０（図１）は、それがない場合と比較する
と、セラミックグリーンシート及びメタライズ配線層４
を形成する金属ペーストとの焼成収縮率の相違に起因す
るセラミック母基板１の反りを有効に抑制するように機
能する。

【００３８】さらに、本発明において、セラミック母基
板１の主面の中心付近に試験領域９を設けてもよく、そ
の場合にも、実装中に問題が出たり実装装置の故障が発
生した場合に、故障が発生した実装領域８内の配線基板
領域２から試験領域９までの距離は、最大でもセラミッ
ク母基板１の対角線の略１／２以下になり、電子部品５
の実装時間を短縮することができる。さらには、セラミ
ック母基板１の主面の中心付近と外周領域に試験領域９
を設けてもよい。

【００３９】なお、図４の（ａ）〜（ｈ）は、セラミッ
ク母基板１の主面に形成される試験領域９の配置の各種
形態を示す概略的な平面図である。

【００４０】図４の（ａ）は、セラミック母基板１の主
面の一隅に試験領域９を設けた構成であり、実装領域８
の面積を大きくとることができる。

【００４１】（ｂ）は、セラミック母基板１の主面の四
隅に試験領域９を設けた構成であり、試験領域９と実装
領域８内の配線基板領域２との距離が、実装領域８内の
いずれの箇所でも満遍なく短くなり、実装時間を短縮化
できる。この場合、試験領域９をセラミック母基板１の
主面の対角位置の二隅に設けてもよい。

【００４２】（ｃ）は、セラミック母基板１の主面の四
辺の中央部に試験領域９を設けた構成であり、（ｂ）と
同様の効果を有する。この場合、対向する二辺に試験領
域９を設けてもよい。

【００４３】（ｄ）は、セラミック母基板１の主面の中
央付近に試験領域９を設けた構成であり、この場合に試
験領域９と実装領域８内の配線基板領域２との距離が、
最大でも対角線の略１／２以下となり実装時間を短縮化
できる。

【００４４】（ｅ）は、セラミック母基板１の主面の中
央付近および四辺の中央部に試験領域９を設けた構成で
あり、この場合さらに実装時間を短縮化できる。

【００４５】（ｆ）は、セラミック母基板１が長方形で
あってその主面の中央付近および短辺の中央部にそれぞ
れ試験領域９を設けた構成であり、長方形の場合はこの
ような構成において試験領域９と実装領域８内の配線基
板領域２との距離が満遍なく短くなる。

【００４６】（ｇ）は、セラミック母基板１が正方形で
あってその主面の中央付近および対向する二隅に試験領
域９を設けた構成であり、正方形の場合はこのような構
成において試験領域９と実装領域８内の配線基板領域２
との距離が満遍なく短くなる。

【００４７】（ｈ）は、セラミック母基板１が正方形で
あってその主面の中央付近および対向する二辺の中央部
に試験領域９を設けた構成であり、正方形の場合はこの
ような構成においても試験領域９と実装領域８内の配線
基板領域２との距離が満遍なく短くなる。

【００４８】また、セラミック母基板１の外周領域に試
験領域９を形成した場合、試験領域９に、ボンディング
装置等の実装装置の位置決め手段やセラミック母基板１
を搬送移動させるステージ等の搬送装置の搬送手段を当
接させて取り扱うことが好ましく、この場合実装領域８
に位置決め手段や搬送手段が当接して損傷させたり汚染
するといったことがなくなり、取り扱いが容易になり作
業性が向上する。

【００４９】かくして、本発明は、電子部品を実装する
際に実装に問題が出たり実装装置の故障が発生したと
き、試験用の配線基板領域に対して再度実装試験を行な
い、分割後には試験用のもののみを不良品として排除で
き、生産効率が向上する。

【００５０】なお、本発明は上述の実施の形態に限定さ
れるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で
あれば種々の変更を行っても差し支えない。

【００５１】

【発明の効果】本発明は、配線基板領域は、電子部品
の載置部および配線導体層に対する搭載接続条件を予め
設定するための試験用のものと、上下面の配線導体層を
接続する接続導体が形成され、かつ搭載接続条件に基づ
いて電子部品が載置部に搭載および配線導体層に接続さ
れる実装用のものとから成ることにより、多数個取りセ
ラミック配線基板に電子部品を実装する場合、実装中に
問題が出たり実装装置の故障が発生したとき、試験用の
配線基板領域に対して再度実装試験を行ない、分割後に
は試験用のもののみを不良品として排除すればよいこと
になる。即ち、試験用の配線基板領域は数個あれば十分
であり、セラミック母基板の外周部の全周に設けるよう
なことは不要であることから、従来のようにセラミック
母基板の外周部の全周に設けられた捨て代領域全体を排
除することがなくなり、電子部品装置の生産効率が向上
する。

【００５２】また、セラミック母基板を各配線基板毎に
分割した際に、接続導体の有無による導通チェックから
試験用の電子部品装置と製品用の電子部品装置とを容易
かつ正確に区別できる。

【００５３】さらに、セラミック母基板の主面の全面に
各配線基板領域に同じ配線導体層が形成されていること
から、セラミック母基板の反りを有効に抑制することが
できる。

【００５４】本発明は、好ましくは、セラミック母基板
の主面の中央領域に実装用の配線基板領域が形成され、
外周領域に試験用の配線基板領域が形成されていること
により、実装中に問題が出たり実装装置の故障が発生し
た場合に、最も近くの試験用の配線基板領域を使用して
実装試験が行えるため、電子部品の実装時間を短縮して
生産効率を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の多数個取りセラミック配線基板につい
て実施の形態の一例を示す断面図である。

【図２】図１の多数個取りセラミック配線基板の配線基
板領域の上面図である。

【図３】図１の多数個取りセラミック配線基板の配線基
板領域の下面図である。

【図４】（ａ）〜（ｈ）は本発明の各種実施の形態であ
り、セラミック母基板の主面に形成される試験領域の配
置の各種形態を示す概略的な平面図である。

【符号の説明】

１：セラミック母基板２：配線基板領域３：貫通孔４：メタライズ配線層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】セラミック母基板の主面に配線基板領域が
縦横の並びに複数配列形成されて成るとともに、前記配
線基板領域の上下面に配線導体層が形成されかつ前記上
下面の少なくとも一方に電子部品を載置する載置部が設
けられた多数個取りセラミック配線基板であって、前記
配線基板領域は、前記電子部品の前記載置部および前記
配線導体層に対する搭載接続条件を予め設定するための
試験用のものと、前記上下面の前記配線導体層を接続す
る接続導体が形成され、かつ前記搭載接続条件に基づい
て電子部品が前記載置部に搭載および前記配線導体層に
接続される実装用のものとから成ることを特徴とする多
数個取りセラミック配線基板。
【請求項２】前記セラミック母基板の主面の中央領域に
実装用の配線基板領域が形成され、外周領域に試験用の
配線基板領域が形成されていることを特徴とする請求項
１記載の多数個取りセラミック配線基板。