JP2002090532A

JP2002090532A - 光学異方体および液晶表示装置

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Publication number: JP2002090532A
Application number: JP2000279628A
Authority: JP
Inventors: Nobuo Kubo; 伸夫久保; Noriyasu Kuzuhara; 憲康葛原; Nobuyuki Takiyama; 信行滝山; Hironori Umeda; 博紀梅田; Masayuki Tasaka; 公志田坂
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2000-09-14
Filing date: 2000-09-14
Publication date: 2002-03-27
Anticipated expiration: 2020-09-14
Also published as: JP4147736B2

Abstract

(57)【要約】【課題】透明支持体上に、液晶化合物を塗設すること
により形成した光学異方層を備えた光学フィルムによ
り、従来にない視野角特性の改善ができる光学異方体、
およびそれらを備えた液晶表示装置を得ることにある。【解決手段】透明支持体上に光配向層及び液晶化合物
の配向が固定化された光学異方層を有する光学異方体に
おいて、該支持体の光学特性が４１ｎｍ≦Ｒｏ≦９５ｎ
ｍを満たし、かつ０．８≦（Ｒｔ／Ｒｏ）≦１．４を満
たすことを特徴とする光学異方体。Ｒｏ、Ｒｔは透明支
持体のリターデーション値（Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×
ｄ、Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ）。ｎｘ
は透明支持体の面内での最大屈折率方向、ｎｙはｘ方向
に垂直な該支持体面内の方向（ｙ方向）の主屈折率、ｎ
ｚは厚み方向の屈折率であり、ｄは支持体の厚み（ｎ
ｍ）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は樹脂フィルム上に液
晶化合物を塗設することにより形成した光学異方層を備
えた、従来にない視野角特性の改善できる光学異方体、
およびそれらを備えた液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】パーソナルコンピューターのマルチメデ
ィア化が進み、ラップトップ型パーソナルコンピュータ
ーに於いても、カラー表示が一般的になってきた。ラッ
プトップ型コンピューターでは、ＳＴＮ液晶ディスプレ
イやＴＦＴ液晶ディスプレイが主に使用されている。近
年、液晶ディスプレイは大型化が進み、視野角特性の高
度な改善が求められている。それゆえ、従来より高度な
補償性能を有する光学異方体が要望されている。

【０００３】ＳＴＮ液晶ディスプレイは、複屈折モード
を利用した表示素子であるため、液晶で生じる位相差に
より着色し、白黒表示やカラー表示が不可能であるとい
う大きな問題があった。このような問題を解決するため
に、Ｄ−ＳＴＮ方式（補償用液晶セルを用いる方式）が
試みられたが、この方式では、液晶ディスプレイの特徴
である「薄くて、軽い」という点で、時代の要求と逆行
しており、補償用液晶セルの製造にも、高い精度が要求
され、歩留りが悪いという問題があった。

【０００４】これらの問題を解決する方法として、各種
の提案がなされ、例えば、特開昭６３−１４９６２４号
公報には、延伸樹脂フィルムを用いるＦ−ＳＴＮ方式が
提案され、又、特開平３−８７７２０号公報、特開平４
−３３３０１９号公報には、Ｄ−ＳＴＮ方式の補償性能
を維持して、その質量と肉厚を軽減する目的で、液晶性
高分子をねじれ配向させたフィルムを使って色補償を行
う方法が提案されている。この液晶ディスプレイの位相
差補償板は、透光性基板とこの基板の上に形成された配
向膜、及び、この配向膜の上にねじれ配向状態に固定し
た液晶高分子層とから構成されている。

【０００５】さらに、最近では、ＴＦＴ−ＴＮ液晶ディ
スプレイの視野角補償として、特開平７−１９１２１７
号公報に開示されているように、ディスコチック液晶の
フィルムを液晶セルの上面と下面に配置して、液晶セル
の視野角特性を改善する試みがなされている。該ＴＮ型
液晶ディスプレイ用補償フィルムは、上述の特開平３−
８７７２０号公報、特開平４−３３３０１９号公報に記
載されている液晶ディスプレイの位相差補償板と同様
に、光学的にほぼ等方性の樹脂フィルム上に液晶化合物
が配向した光学異方層で構成されている。

【０００６】しかしながら、未だ視野角特性の改善は十
分ではなく、新しい光学異方体の開発が求められてい
る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上述
のような問題点を解決するものであって、新規な樹脂フ
ィルムを延伸することにより作製した光学フィルムから
なる透明支持体上に、液晶化合物を塗設することにより
形成した光学異方層を備えた光学フィルムにより、該光
学フィルム及び該光学異方層の光学特性が調和した光学
異方体を用いることで、従来にない視野角特性の改善が
できる光学異方体の提供、およびそれらを備えた液晶表
示装置の提供にある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は以下の手段によ
り達成される。

【０００９】１．透明支持体の上に光配向層、および光
配向層に隣接しかつ液晶化合物の配向が固定化された光
学異方層を有する光学異方体において、該支持体の光学
特性が４１ｎｍ≦Ｒｏ≦９５ｎｍ、０．８≦（Ｒｔ／Ｒ
ｏ）≦１．４、かつｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚを満たすことを特
徴とする光学異方体。ここで、ＲｏおよびＲｔは透明支
持体のリターデーション値を示す。

【００１０】Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄＲｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄｎｘは透明支持体の面内での最大屈折率方向であるｘ方
向の屈折率、ｎｙはｘ方向に垂直な該支持体面内の方向
であるｙ方向の屈折率、ｎｚは厚み方向での該支持体の
屈折率であり、ｄは該支持体の厚み（ｎｍ）である。

【００１１】２．透明支持体が溶媒を含む樹脂溶液をベ
ルトまたはドラム上で流延製膜し、溶媒が残存した状態
でベルトまたはドラムから剥離され、その後乾燥しなが
らフィルムを延伸する製造方法によって作製され、かつ
該透明支持体の流延方向の屈折率がｎｘに実質的に等し
い屈折率であり、流延方向に垂直な該支持体面内の方向
の屈折率が実質的にｎｙに等しい屈折率であることを特
徴とする前記１記載の光学異方体。

【００１２】３．透明支持体がセルロースエステル樹脂
である前記１又は２記載の光学異方体。

【００１３】４．前記セルロースエステル樹脂のアセチ
ル基の置換度が２．５０以上２．８６以下であることを
特徴とする前記３記載の光学異方体。

【００１４】５．前記セルロースエステル樹脂のアセチ
ル基の置換度が２．４０以上３．００以下のセルロース
エステルを少なくとも２種以上混合し、混合後の平均ア
セチル基置換度が２．５０以上２．８６以下であること
を特徴とする前記３記載の光学異方体。

【００１５】６．前記セルロースエステル樹脂のアセチ
ル基の置換度が２．６０以上３．００以下のセルロース
エステルを少なくとも１種とアセチル基の置換度が２．
４０以上２．６０未満のセルロースエステルを少なくと
も１種とを混合し、混合後の平均アセチル基置換度が
２．５０以上２．８６以下であることを特徴とする前記
３記載の光学異方体。

【００１６】７．前記セルロースエステル樹脂のアセチ
ル基置換度をＡ、プロピオニル基置換度をＢとしたとき
下記の条件式を満たすことを特徴とする前記３記載の光
学異方体。

【００１７】（Ｉ）２．０≦（Ａ＋Ｂ）≦３．０（II）Ａ＜２．４８．前記セルロースエステル樹脂のアセチル基置換度を
Ａ、プロピオニル基置換度をＢとしたとき下記の条件式
を満たすことを特徴とする前記３記載の光学異方体。

【００１８】（III）２．４≦（Ａ＋Ｂ）≦２．８（IV）１．４≦Ａ≦２．０９．前記透明支持体を構成する樹脂に対して可塑剤が２
以上１５質量％以下および紫外線吸収剤が０．０１以上
３質量％以下であることを特徴とする前記１〜８の何れ
か１項記載の光学異方体。

【００１９】１０．前記紫外線吸収剤がベンゾトリアゾ
ール誘導体またはベンゾフェノン誘導体であることを特
徴とする前記９記載の光学異方体。

【００２０】１１．前記液晶化合物が正の複屈折性を示
す高分子液晶化合物であり、かつ該液晶化合物のガラス
転移温度以上の温度で処理し配向させた後、ガラス転移
温度以下に降温して液晶化合物由来の配向を固定化した
ことを特徴とする前記１〜１０の何れか１項記載の光学
異方体。

【００２１】１２．前記液晶化合物が正の複屈折性を示
す重合性低分子液晶化合物であり、かつ液晶転移温度以
上の温度で処理することにより配向処理を行った後、活
性線の照射による硬化反応により液晶化合物由来の配向
を固定化したことを特徴とする前記１〜１０の何れか１
項記載の光学異方体。

【００２２】１３．前記活性線が紫外線であり、かつ紫
外線開始剤を併用して硬化反応を行うことを特徴とする
前記１２記載の光学異方体。

【００２３】１４．前記液晶化合物を有機溶媒に溶解し
た溶液を調製し、これを塗布乾燥することで層を設置す
ることを特徴とする前記１〜１３のいずれか１項記載の
光学異方体。

【００２４】１５．前記光学異方層が、前記透明支持体
面に対する光学異方層の平均傾斜角度が１５°以上５０
°以下であることを特徴とする前記１〜１４の何れか１
項記載の光学異方体。

【００２５】１６．光学異方層を構成する液晶化合物の
傾斜角度が厚さ方向に対して変化し、該傾斜角度が配向
層側から増加または減少することを特徴とする前記１５
記載の光学異方体。

【００２６】１７．前記光学異方層の最大屈折率方向を
透明支持体面に投影した方向が、前記透明支持体のｎｙ
方向と実質的に等しいことを特徴とする前記１〜１６の
何れか１項記載の光学異方体。

【００２７】１８．透明支持体と前記配向層との間に溶
出ブロック層を少なくとも１層有することを特徴とする
前記１〜１７の何れか１項記載の光学異方体。

【００２８】１９．透明支持体の溶出ブロック層塗設面
がプラズマ処理されるかあるいは有機酸基含有ポリマー
が塗設され、その上に３０質量％以上の水と少なくとも
１種の有機溶媒で構成される混合溶媒に溶解するノニオ
ン性ポリマーで構成される前記溶出ブロック層が塗設さ
れたことを特徴とする前記１８記載の光学異方体。

【００２９】２０．前記溶出ブロック層が活性線硬化樹
脂で構成され、該硬化樹脂を該活性線の照射により硬化
させた溶出ブロック層であることを特徴とする前記１８
記載の光学異方体。

【００３０】２１．前記光配向層に偏光紫外線を照射す
ることを特徴とする前記１〜２０の何れか１項記載の光
学異方体。

【００３１】２２．前記光配向層を構成する材料が偏光
紫外線照射により光二量化反応することを特徴とする前
記２１記載の光学異方体。

【００３２】２３．長尺状であって、該光学異方体の透
明支持体が溶液流延され乾燥しながら延伸される工程に
おいて巻き取られながら製造されること、該透明支持体
に塗設される層が搬送されながら塗布液を塗布、乾燥し
製造されることおよび光配向層が塗布乾燥後に搬送され
ながら紫外線照射して製造されることを特徴とする前記
１〜２２の何れか１項記載の光学異方体。

【００３３】２４．前記１〜２３の何れか１項記載の光
学異方体を備えたことを特徴とする液晶表示装置。

【００３４】２５．前記２４記載の液晶表示装置が電極
を備えた一対の透明基板とネマティック液晶で構成され
る駆動用液晶セルで構成され、該基板の上下に配置され
た上側偏光子と下側偏光子を備えたツイステッドネマテ
ィック型液晶表示装置であって、該基板と上側もしくは
下側偏光子のどちらか一方の間、または該基板と上側お
よび下側偏光子のそれぞれの間に前記１〜２３の何れか
１項記載の光学異方体を少なくとも１枚備えたことを特
徴とする液晶表示装置。

【００３５】２６．前記液晶セルに最も近い基板に前記
光学異方体の透明支持体面が接触する方向に液晶セルの
上側および下側に各々１枚ずつ光学異方体を配置し、か
つ光学異方体の透明支持体の最大屈折率方向が前記液晶
セルに最も近い基板のラビング方向と実質的に直交した
方向に配置することを特徴とする前記２５記載の液晶表
示装置。

【００３６】以下、本発明を詳細に説明する。本発明で
いう光学異方層とは、液晶化合物を含む層であり、該液
晶化合物が光配向層に隣接することで配向された状態で
温度差または化学反応で固定化されたものである。

【００３７】前記光学異方層と透明支持体を含み、ある
いは前記光学異方層と透明支持体の間に光配向層および
少なくとも１つの溶出ブロック層を含むことによって形
成されたものを本発明の光学異方体とする。

【００３８】液晶化合物を塗設して光学異方性を得る場
合、光配向膜を透明支持体上に設置して偏光紫外線照射
により配向方向を決定しておき、その上に液晶化合物を
塗布して配向させることができる。

【００３９】本発明の光配向層の作製に用いられる光配
向材料としては、一般に公知の光配向材料を用いること
ができる。例えば、光分解型、光二量化型、光異性化型
等が挙げられ、長谷川、液晶Ｖｏｌ．３（１），３−
１６（１９９９）の総説を参考にすることができる。本
発明では特に偏光紫外線照射によって配向性が付与され
る光二量化型配向材料を用いることが生産性の観点から
好ましい。

【００４０】上記記載の光二量化型配向材料としては、
例えば、特開平８−３０４８２８号、同７−１３８３０
８号、同６−０９５０６６号、同５−２３２４７３号、
同８−０１５６８１号、同９−２２２６０５号、同６−
２８７４５３号、同６−２８９３７４号、特表平１０−
５０６４２０号、特開平１０−３２４６９０号、同１０
−３１０６１３号等に記載されている。

【００４１】これらの手法で光配向層に偏光紫外線を照
射することにより、液晶に配向性を付与することができ
る。光照射装置としての光源は超高圧水銀灯、キセノン
灯、蛍光灯、レーザなどを用いることができる。これに
偏光子を組み合わせて直線偏光を照射することができ
る。照射装置としては、例えば、特開平１０−９０６８
４号に開示されている装置を用いることができる。

【００４２】また、本発明に係る光配向層は、光配向性
材料を含有する塗布溶液を用いて透明支持体上に塗布、
乾燥し塗膜を形成しても良く、特に生産性の観点から、
光配向層を搬送しながら塗設する長尺状フィルム、およ
び搬送しながら配向方向を決めるために前記偏光紫外線
を照射した長尺状フィルムであることが好ましい。一般
に行われているラビング処理した配向膜は、ラビングに
よって生産時に粉塵発生の除去やラビング布の劣化によ
るラビング状態の安定管理が必要となり安定生産に十分
な注意を払うことになる。しかしながら光配向技術では
このような問題は発生しない。また、長尺の光学異方体
を生産する場合、本発明の光学異方体を構成する透明支
持体の面内における最大屈折率（ｎｘ）方向が長尺状フ
ィルムの搬送方向と一致する場合、本発明の光学異方体
では光学異方層の液晶化合物の配向方向を、該透明支持
体の最大屈折率（ｎｘ）方向とフィルム面内で実質的に
直交させる（すなわちｎｙの方向と一致させる）ことが
有効である。実質的に直交させるとは９０°±２°の範
囲であり好ましくは９０°である（ｎｙの方向と一致さ
せるとは±２°の範囲でｎｙの方向と光学異方層の液晶
化合物の配向方向のズレがおさまることであり、やはり
好ましくは一致することである。）。このとき一般的な
配向層を設置して、長尺状フィルムの搬送方向に対して
直交した方向でラビング処理することは実質的に困難で
ある。しかしながら、光配向技術は、該搬送方向に直交
した方向に液晶化合物を配向させる場合においても、照
射する偏光方向を調節するのみでよく生産上適した方法
である。

【００４３】光配向技術の中で光二量化型は、光分解型
と比較して紫外線エネルギーが比較的低くても液晶に配
向性を付与することができる。特に紫外線の直線偏光を
照射して光二量化反応を実施した場合、偏光方向に選択
して光二量化反応が進行し、これが液晶の配向に寄与す
る。

【００４４】光二量化型のポリビニルシンナメート誘導
体は、該光配向層上に設置する液晶化合物が偏光紫外線
の偏光方向と直角に配向するため、液晶化合物にプレチ
ルトを与える場合、１回目の照射した偏光方向と異なっ
た偏光方向および異なった角度の露光が２回以上必要で
ある。一方、高分子中にクマリン分子単位或いはカルコ
ン単位を有する化合物に代表されるように、光配向層に
照射する偏光紫外線の偏光方向と平行に該光配向層上に
設置した液晶化合物が配向する系は、液晶化合物にプレ
チルトを与える場合、偏光紫外線は１回の決められた方
向の露光のみでよく、生産効率の観点から好ましい。

【００４５】特開平１０−９０６８４号に開示されてい
るような偏光分離機能として、石英板のブリュースター
角を利用した装置を使用した場合、消光比を著しく高く
した場合、例えば消光比５０：１以上とした場合には、
石英板の枚数が多くなりすぎ装置が大きくなってしまう
ことがあり必要以上の消光比は特に必要とされない。偏
光紫外線の消光比は２：１以上あれば、液晶化合物の配
向方向が決定できるが、好ましくは消光比は５：１以
上、より好ましくは９：１以上かつ２１：１以下であ
る。ここで消光比とは、（必要な偏光）：（不要な方向
の光）のエネルギー比である。

【００４６】次に本発明に用いる液晶化合物について説
明する。本発明における液晶化合物は、配向層上で液晶
化合物が配向できるものであれば特に限定されるもので
はなく、該配向によって可視光領域で光散乱することな
く光学的に異方性を付与することが求められる。

【００４７】本発明における液晶化合物が高分子液晶で
ある場合、例えば日本特許登録２５９２６９４号、同２
６８７０３５号、同２７１１５８５号、同２６６０６０
１、特開平１０−１８６３５６号、同１０−２０６６３
７号、同１０−３３３１３４号記載の構造の化合物を用
いることができ、特に光学的に正の複屈折性を有するも
のが好ましい。

【００４８】本発明における高分子液晶以外の液晶化合
物としては、一般に棒状の液晶化合物が挙げられ、光学
的に正の複屈折性を示す液晶化合物が好ましい。より好
ましくは不飽和エチレン性基を有する正の複屈折性の液
晶化合物が配向の固定化の観点から好ましく、例えば特
開平９−２８１４８０号、同９−２８１４８１号記載の
構造の化合物を用いることができるが特に限定されるも
のではない。

【００４９】本発明における液晶化合物の構造は特に限
定されるものではないが、光学異方性を発現させるため
に液晶分子を配向させた状態で化学反応させるまたは温
度差によって配向を固定化する等、液晶化合物の配向が
固定化された状態で用いることが求められる。前述のよ
うな配向膜を透明樹脂基板上に設置しその上に液晶化合
物を塗設して配向させることができる。液晶化合物の配
向処理は、液晶転移温度以上に加熱することが求めら
れ、該温度は透明樹脂基板を変質させない温度以下で処
理することが好ましい。

【００５０】また、液晶化合物を溶媒で希釈して塗設す
る場合には、液晶転移温度以上に加熱しなくても該温度
以下で液晶化合物の配向処理をすることもできる。

【００５１】本発明に用いる液晶化合物が液晶性高分子
である場合、その化合構造としては主鎖型の液晶性高分
子、例えばポリエステル、ポリイミド、ポリアミド、ポ
リエステル、ポリカーボネート、ポリエステルイミド等
が挙げられる。又、側鎖型の液晶性高分子、例えばポリ
アクリレート、ポリメタクリレート、ポリシロキサン、
ポリマロネート等を用いてもよい。

【００５２】液晶化合物、配向材料、有機酸基含有ポリ
マー、溶出ブロック層を構成する材料を塗布する方法と
しては、有機溶媒により液晶化合物または配向膜材料等
を溶解した溶液を、カーテンコーティング、押し出しコ
ーティング、ロールコーティング、ディップコーティン
グ、スピンコーティング、印刷コーティング、スプレー
コーティング、ワイヤーバーコーティング及びスライド
コーティングなどで実施することができるがこれらに限
定される訳ではない。

【００５３】液晶化合物を含む溶液を塗布した場合、塗
布後、溶媒を乾燥して除去し、膜厚が均一な液晶層を得
ることができる。液晶層は、熱または光エネルギーの作
用、または熱と光エネルギーの併用で化学反応によっ
て、液晶の配向を固定化することができる。特に高分子
液晶化合物ではないモノメリックな液晶化合物は一般に
粘度が低く、熱的な外因によって液晶の配向が変化しや
すいため、光重合性開始剤を用いて、重合性液晶化合物
を光ラジカル反応等で硬化反応を実施して固定化するこ
とができる。

【００５４】本発明において、液晶化合物の配向を固定
化するため、重合性基としてエチレン性不飽和基を用い
た場合、光重合開始剤を使用することにより反応の活性
を上げることができ製造時の硬化時間を短縮できること
で優れている。ラジカルの発生のためには、電子線、紫
外線、可視光線、赤外線（熱線）を必要に応じて用いる
ことができるが、一般的には、紫外線が好ましい。紫外
線の光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光
ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ
（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）及びショー
トアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンラン
プ、水銀キセノンランプ）を挙げることができる。例え
ば、高圧水銀ランプやメタルハライドランプなどの近紫
外線を発生するものが好ましく、光重合開始剤としても
近紫外線を強く吸収できるものが好ましく、３６０ｎｍ
〜４５０ｎｍの光に対するモル吸光係数の最大値が１０
０以上、更には５００以上のものが好ましい。

【００５５】一方、エチレン性不飽和基の重合反応のた
めのラジカル重合開始剤は、例えばアゾビス化合物、パ
ーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、レドックス触
媒など、例えば過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、
ｔｅｒｔ−ブチルパーオクトエート、ベンゾイルパーオ
キサイド、イソプロピルパーカーボネート、２，４−ジ
クロルベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトン
パーオキサイド、クメンハイドロパーキサイド、ジクミ
ルパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル、２，
２′−アゾビス（２−アミジノプロパン）ハイドロクロ
ライド或いはベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベ
ンゾイン類、チオキサントン類等を挙げることができ
る。これらの詳細については「紫外線硬化システム」総
合技術センター、６３頁〜１４７頁、１９８９年等に記
載されている。

【００５６】又、エポキシ基を有する化合物の重合に
は、紫外線活性化カチオン触媒として、アリルジアゾニ
ウム塩（ヘキサフルオロフォスフェート、テトラフルオ
ロボラート）、ジアリルヨードニウム塩、VIａ族アリロ
ニウム塩（ＰＦ₆、ＡｓＦ₆、ＳｂＦ₆のようなアニオン
をもつアリルスルホニウム塩）が一般的に用いられる。

【００５７】また、ラジカル反応を用いて硬化反応を行
う場合、空気中の酸素の存在による重合反応の遅れをさ
けるために窒素雰囲気下で上記活性線を照射すること
が、反応時間の短縮化と少ない光量で硬化できる点で好
ましい。

【００５８】これらの反応を利用して、液晶化合物を硬
化させるためには、液晶化合物においても反応性基を導
入した高分子液晶化合物ではないモノメリックな液晶化
合物を選択するすることが重要である。この硬化反応に
より液晶の配向が固定化できるものである。

【００５９】一方、液晶化合物が高分子液晶である場
合、上記化学反応による硬化反応を実施して液晶の配向
を固定しなくてもよい。これは、透明樹脂基板が熱によ
って変質しない温度範囲、例えば９０℃以上に、高分子
液晶化合物のガラス転移温度があって、かつ液晶転移温
度がある場合、配向膜上に高分子液晶を塗布して設置し
た後、液晶転移温度範囲内に加熱し配向させた後、ガラ
ス転移温度よりも低い、例えば室温で放冷することによ
って液晶の配向が維持される。

【００６０】また、高分子液晶のガラス転移温度が支持
体の耐熱温度よりも高い場合は、耐熱性支持体上に前記
配向膜を設置し高分子液晶を塗設後、高分子液晶のガラ
ス転移温度以上に加熱し配向させることができる。これ
を室温に放冷し高分子液晶の配向を固定化したのち本発
明の支持体に接着剤を用いて転写して光学異方体を作製
することができる。

【００６１】本発明の光学異方体の光学異方層は、液晶
ディスプレイの視角特性を改良するため、光学異方層の
厚さはそれを構成する液晶化合物の複屈折の大きさ、お
よび液晶化合物の配向状態によって異なるが膜厚は０．
２μｍ以上５μｍ以下、好ましくは０．４μｍ以上３μ
ｍ以下である。これよりも光学異方層の厚さが薄いと目
的とする光学異方性が得られにくくなり、一方前述の範
囲よりも光学異方層が厚いと必要以上の光学異方性がか
えって視野角特性を劣化させやすくしたり、別の課題と
しては光学異方体がカールしやすくなることが多い。

【００６２】本発明における光学異方層は、透明支持体
に対して少なくとも１層設けることができる。液晶ディ
スプレイのモードが多種、製品化されておりこれを光学
的に補償できる光学異方体として、ディスプレイに適し
た光学特性を設計することができる。１つの透明支持体
に対して光学異方層を複数層設置することもでき、光学
異方層の含まれる液晶化合物が配向した状態もしくは液
晶化合物の配向が固定化された状態で構成されるとき配
向方向は適宜ディスプレイに適合した光学特性に設計で
きる。光学異方層が２層以上透明支持体上に設置される
場合、透明支持体より遠い方向の順に配向層、光学異方
層を複数層繰り返して設置できる。これは前記配向方向
が配向膜によって決定されるために、配向膜と液晶層は
隣接していることが必要となるためである。これらが複
数層設置されるとき、配向膜上に塗設された液晶層の上
に配向膜を直接塗設または他の公知の樹脂層で構成され
る中間層を設置してその上に配向膜を塗設し、複数層目
の配向層上に液晶層を設置することができる。

【００６３】本発明においては透明支持体に光学異方性
があるため、該支持体上に塗設する液晶層は１層である
ことができ低コスト化、生産性の観点から好ましい。

【００６４】液晶表示装置に本発明の光学異方体を設置
する場合、駆動用液晶セルの両側に位置する一対の基板
の上下には、通常上側偏光子と下側偏光子が配置された
構成とされるが、このとき該基板と上側もしくは下側偏
光子のどちらか一方の間、または該基板と上側および下
側偏光子のそれぞれの間に本発明の光学異方体が少なく
とも１枚設置されるが、低コスト化の観点と本発明の目
的を効果的に発現させるためには、該上側、該下側のそ
れぞれの間に本発明の光学異方体を１枚ずつ設置するこ
とが好ましい。

【００６５】液晶表示装置が特にツイステッドネマティ
ック型（ＴＮ型）液晶表示装置である場合、ＴＮ型液晶
セルに最も近い基板に前記光学異方体の透明支持体面が
接触する方向に光学異方体を配置し、かつ光学異方体の
透明支持体面内の最大屈折率方向が前記液晶セルに最も
近い基板のネマティック液晶の配向方向と実質的に直交
した方向に配置することが本発明の目的を効果的に発現
できる。実質的に直交とは、９０°±５°の範囲である
が、９０°にすることが好ましい。

【００６６】本発明における光学異方層は、平均傾斜角
度は、光学異方層の断面方向から観察した場合、斜めで
あることがよく、傾斜角度は光学異方層の厚さ方向に対
して一定であってもよく、厚さ方向に対して配向角度が
変化してもよい。平均傾斜角度はディスプレイの視野角
を補償するため、ディスプレイの設計により異なるが１
５°以上５０°以下であることが特にＴＮ型液晶表示装
置において好ましい。

【００６７】光学異方層を構成する液晶化合物の傾斜角
度は、より好ましくは厚さ方向に対して変化し、該傾斜
角度が配向膜側から増加または減少して変化することが
本発明においてはより効果的である。

【００６８】本発明に係る溶出ブロック層について説明
する。本発明の透明支持体と光学異方層の配向のための
配向層との接着性を向上させるために、溶出ブロック層
が設けられることが好ましい。

【００６９】溶出ブロック層とは、配向材料や液晶化合
物を塗設し、配向層および光学異方層を形成する際、有
機溶媒溶液として塗布すると、有機溶媒の存在により透
明支持体から配向層あるいは液晶化合物が存在する光学
異方層へ、透明支持体を構成する化合物の何れかが溶出
するのを抑制することを意味する。薄膜として配向層や
液晶化合物の層を設置する場合、これらの化合物の有機
溶媒溶液を調製して塗布することは好ましい手法であ
る。しかしながら、特にセルロースエステルフィルム支
持体等の透明支持体は、樹脂で構成され、可塑剤を含む
ことが多く、配向層としての樹脂や液晶化合物を溶解し
た塗布液を支持体に塗設する際に該塗布液中の有機溶媒
によって樹脂あるいは可塑剤が拡散し、成分の層間の混
溶がおこることが容易に推察できる。

【００７０】この間に前述の有機溶媒に不溶もしくは溶
けにくい溶媒に溶解する樹脂を設置することにより、前
述の塗設時の層間拡散、層間混溶を抑制することが可能
となる。また、樹脂あるいは可塑剤を溶解する有機溶媒
に溶解する化合物であっても、活性線硬化性の樹脂をモ
ノマーの状態で透明基板上に塗設し硬化反応を行うこと
は、単に樹脂を塗設することと異なり架橋構造が多い層
が設置でき、配向層としての樹脂や液晶化合物を溶解す
るとき、塗設によって層間の拡散、コンタミネーション
を抑制することができる。これにより光学異方層を構成
する液晶化合物の配向がより安定に作製できる。

【００７１】この溶出ブロック層は、透明支持体からの
可塑剤、紫外線吸収剤などの添加剤の溶出を防止する目
的の他に、当該支持体と光学異方層または配向層との密
着性を向上させて剥離するのを防止する機能も求められ
る。当該目的のためには、透明樹脂基板において、水溶
性ポリマー、例えば有機酸基含有ポリマーを含有する層
を設けることは、透明支持体と溶出ブロック層との接着
性向上の観点から、製造上メリットが大きく効果的であ
る。

【００７２】有機酸基含有ポリマーは、ポリマー側鎖に
有機酸基を有する構造が挙げられるが特に限定されな
い。有機酸基としては、例えば−ＣＯＯＨ基が挙げられ
る。このような化合物例としては特に限定されることは
ないが、例えば特開平７−３３３４３６号記載の一般式
［１］または一般式［２］で示される構造が挙げられ
る。−ＣＯＯＨ基の水素は、アンモニウムカチオン、ア
ルカリ金属カチオン（ナトリウムカチオン、リチウムカ
チオン等）で置換されていてもよい。有機酸基をもつポ
リマーを構成するモノマー単位としては、アクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸など
が挙げられる。また、無水マレイン酸を共重合モノマー
として高分子量化したのち、酸無水物を形成している環
を開環させて有機酸基を得てもよい。有機酸基含有ポリ
マーは透明支持体とその上に設置する層の接着性を付与
することに有効である。

【００７３】本発明における溶出ブロック層の一形態と
して活性線硬化樹脂層の設置がある。

【００７４】活性線硬化性樹脂は、重合可能なビニル
基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、イ
ソプロペニル基、エポキシ基等の重合性基を二つ以上有
するもので、活性エネルギー線に照射により架橋構造ま
たは網目構造を形成するものが好ましい。これら活性基
のうちアクリロイル基、メタクリロイル基またはエポキ
シ基が重合速度、反応性の面から好ましく多官能モノマ
ーまたはオリゴマーが好ましい。例として紫外線硬化型
のアクリウルレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート
系樹脂、エポキシアクリレート系樹脂、ポリオールアク
リレート系樹脂が好ましく用いられる。

【００７５】活性線は紫外線が光源や材料の入手のしや
すさから好ましく、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹
脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫
外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型
ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポ
キシ樹脂等を挙げることが出来る。

【００７６】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物
に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタ
クリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表
示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水
酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させるこ
とによって容易に得ることが出来る（例えば特開昭５９
−１５１１１０号）。

【００７７】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキ
シエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系
のモノマーを反応させることによって容易に得ることが
出来る（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。

【００７８】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマー
とし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反
応させたものを挙げることが出来る（例えば、特開平１
−１０５７３８号）。この光反応開始剤としては、ベン
ゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾフェノン
誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、１種もし
くは２種以上を選択して使用することが出来る。

【００７９】また、紫外線硬化型ポリオールアクリレー
ト系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパント
リアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタ
エリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出
来る。これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に使用さ
れる。また上記光反応開始剤も光増感剤としても使用出
来る。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、
ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−ア
ミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘
導体を挙げることが出来る。また、エポキシアクリレー
ト系樹脂の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルア
ミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いる
ことが出来る。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた
紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤または
光増感剤は該組成物の０．５〜５質量％であることが特
に好ましい。

【００８０】紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法
としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイ
ヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコータ
ー、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方
法を用いることが出来る。紫外線を含む活性線硬化樹脂
層の硬化後の膜厚は０．０５μｍ以上３０μｍ以下が適
当で、好ましくは、０．１〜１５μｍである。この乾燥
膜厚が薄すぎると溶出ブロック性が低下し、また乾燥膜
厚が厚すぎると光学異方体がフィルム上であるときカー
ルしてしまうことがある。

【００８１】溶出ブロック層の塗布溶媒について説明す
る。透明支持体を構成する樹脂あるいは可塑剤を溶解す
る有機溶媒よりも、むしろ、それらが溶解しにくいか、
または、不溶な溶媒を溶出ブロック層の塗布溶媒として
選択することが本発明の目的にとって好ましい。

【００８２】この場合の塗布溶媒は水を３０質量％以上
含む少なくとも１種以上の有機溶媒との混合溶媒である
ことがよく、好ましくは水を３３質量％以上含む少なく
とも１種以上の有機溶媒との混合溶媒であることがより
効果的に本発明の目的が実現できる。本発明の溶出ブロ
ック層を塗設するための溶媒は上記水とともに用いる有
機溶媒としては、アルコール類、ケトン類、エステル
類、グリコールエーテル類、その他の溶媒を混合して使
用することができる。

【００８３】好ましくは水に溶解できる有機溶媒を選択
することが好ましいが、少量であれば水に溶けない有機
溶媒を用いて、もう１種以上の水に溶解する有機溶媒と
併用して混合溶媒が３成分以上で溶解した混合溶媒を用
いてもよい。ここでアルコール類としては、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プ
ロピルアルコール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、
ｔｅｒｔ−ブタノール、ペンタノール、２−メチル−２
−ブタノール、シクロヘキサノール等が挙げられ、ケト
ン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノ
ン等が挙げられ、エステル類としては、蟻酸メチル、蟻
酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピ
ル、酢酸アミル、乳酸エチル、乳酸メチル等が挙げら
れ、グリコールエーテル（Ｃ１〜Ｃ４）類としては、メ
チルセルソルブ、エチルセルソルブ、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリ
コールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ
−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノイ
ソプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチル
エーテル、又はプロピレングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ
４）アルキルエーテルエステル類としては、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、その他の溶
媒としてメチレンクロライド、Ｎ−メチルピロリドンな
どがあげられる。特にこれらに限定されるものではな
い。

【００８４】溶出ブロック層の樹脂としては、ノニオン
性のポリマーが上記混合溶媒の溶解性と本発明の目的に
対して好ましい。

【００８５】このような混合溶媒に対して溶ける樹脂を
溶出ブロック層の樹脂として選択することができる。溶
出ブロック層の樹脂の構造は特に限定されないが、例え
ば、天然ポリマーあるいは半合成的な水溶性ポリマーな
どを用いることができる。

【００８６】また、合成ポリマーを用いることは天然物
とは異なり分子設計上ノニオン性とすることが容易に可
能である。このような化合物としては、ポリビニルアル
コール、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−
Ｎ−ビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾール、ポリ
ビニルピラゾール等の単一あるいは、共重合体の如き多
種の合成高分子を用いることができる。

【００８７】また、溶出ブロック層として用いる合成ポ
リマーとしては下記のモノマー単位を単独もしくは共重
合体として上記混合溶媒に溶解する特性を有するものを
用いてもよい。ポリマーを構成するモノマーの具体例と
しては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、
アクリルアミド類、メタクリルアミド類、クロトン酸エ
ステル、ビニルエステル、マレイン酸エステル、フマル
酸エステル、イタコン酸エステル、オレフィン類、スチ
レン類等が挙げられる。これらのモノマーについて更に
具体的に示すと、アクリル酸エステル誘導体、これらの
エステル置換化合物の置換基として以下のものが挙げら
れる。メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、アミル基、
ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、オクチル基、ｔｅ
ｒｔ−オクチル基、ドデシル基、２−クロロエチル基、
２−ブロモエチル基、４−クロロブチル基、シアノエチ
ル基、２−アセトキシエチル基、ジメチルアミノエチル
基、ベンジル基、メトキシベンジル基、２−クロロシク
ロヘキシル基、シクロヘキシル基、フルフリル基、テト
ラヒドロフルフリル基、フェニル基、５−ヒドロキシペ
ンチル基、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル
基、２−メトキシエチル基、グリシジル基、アセトアセ
トキシエチル基、３−メトキシブチル基、２−エトキシ
エチル基、２−ｉｓｏ−プロポキシ基、２−ブトキシエ
チル基、２−（２−メトキシエトキシ）エチル基、２−
（２−ブトキシエトキシ）エチル基、ω−メトキシオリ
ゴオキシエチレン基（オキシエチレン繰り返し単位数：
ｎ＝７、９、１１等）、ω−ヒドロキシオリゴオキシエ
チレン基（オキシエチレン繰り返し単位数：ｎ＝７、
９、１１等）、１−ブロモ−２−メトキシエチル基、
１，１−ジクロロ−２−エトキシエチル基などがあり、
これらの置換基によって構成されるアクリル酸エステル
およびメタクリル酸エステルが挙げられる。

【００８８】また、アクリルアミド誘導体やメタクリル
アミド誘導体としては、無置換のアクリルアミドおよび
メタクリルアミドがあり、これらの置換アミドの置換基
としては以下のものが挙げられる。メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基、ｎ−オクチル基、ドデシル基、シクロヘキシル基、
ベンジル基、ヒドロキシメチル基、メトキシエチル基、
ジメチルアミノプロピル基、フェニル基、アセトアセト
キシプロピル基、シアノエチル基等のＮ−モノ置換誘導
体が挙げられる。Ｎ，Ｎ−ジ置換誘導体としては、Ｎ，
Ｎ−ジメチル基あるいはＮ，Ｎ−ジエチル基を有するア
クリルアミド誘導体あるいはメタクリルアミド誘導体が
挙げられる。

【００８９】ビニルエステル類の例としては、ビニルア
セテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、
ビニルイソブチレート、ビニルカプレート、ビニルクロ
ロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルフェ
ニルアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニルな
どが挙げられる。

【００９０】またオレフィン類の例としては、ジシクロ
ペンタジエン、エチレン、プロピレン、１−ブテン、塩
化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロプレ
ン、ブタジエン、２，３−ジメチルブタジエン等が挙げ
られる。

【００９１】スチレン類としては、例えば、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロロメ
チルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ビニル安息香酸メチルエステルなどが挙げられる。

【００９２】クロトン酸エステルとしては、クロトン酸
ブチル、クロトン酸ヘキシルなどが挙げられる。

【００９３】また、イタコン酸エステル類としては、イ
タコン酸モノメチルエステル、イタコン酸ジメチル、イ
タコン酸モノブチルエステル、イタコン酸ジエチル、イ
タコン酸ジブチルなどが挙げられる。

【００９４】マレイン酸エステルとしては、例えばフマ
ル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジブチルな
どが挙げられる。

【００９５】その他のモノマーの例としては、次のもの
が挙げられる。ビニルケトン類、例えばメチルビニルケ
トン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケ
トンなどが挙げられる。

【００９６】ヘテロ環含有ビニルモノマーとしては、Ｎ
−ビニルピリジンおよび２−および４−ビニルピリジ
ン、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニル
トリアゾール、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げ
られる。

【００９７】不飽和ニトリル類としては、アクリロニト
リル、メタクリロニトリルなどが挙げられる。

【００９８】上述のポリマーにおいて接着性の改良のた
めに高分子側鎖に不飽和エチレン性基やエポキシ基等の
化学反応性基を含んでもよい。

【００９９】上述のポリマーは水を３０質量％以上、好
ましくは４５質量％以上を含む少なくとも１種以上の有
機溶媒との混合溶媒に溶解できることが本発明において
求められる。このような溶解性を示すポリマーで構成さ
れる溶出ブロック層の樹脂としては、高分子側鎖にヘテ
ロ原子を含む環構造を含むコポリマーが好ましく、より
好ましくはＮ−ビニル−２−ピロリドンを６０質量％以
上含むコポリマー、特に好ましくはＮ−ビニル−２−ピ
ロリドンのホモポリマーである。また、ポリビニルアル
コールも好ましく用いられる。

【０１００】溶出ブロック層の樹脂の分子量は高い方が
配向層や液晶層への拡散がし難い観点から好ましく、数
平均分子量が８０万以上であることが好ましい。これら
の樹脂の平均分子量測定はＧＰＣ法等公知の方法により
測定できる。

【０１０１】また、上記ポリマーを溶出ブロック層とし
て用いた場合、溶出ブロック層は透明樹脂基板上に乾燥
膜厚で０．１μｍ以上１５μｍ以下であることが好まし
い。この乾燥膜厚が薄すぎると溶出ブロック性が低下す
ることがあり、また乾燥膜厚が厚すぎると光学異方体が
フィルム状であるときにカールしてしまうことがある。

【０１０２】透明樹脂基板上に有機酸基含有ポリマー
層、溶出ブロック層（活性線硬化モノマーの硬化した
層、水を含む上記混合溶媒に溶解する樹脂層）、配向
層、光学異方層（液晶層）等を塗設するために塗布する
方法は、ドクターコート、エクストルージョンコート、
スライドコート、ロールコート、グラビアコート、ワイ
ヤバーコート、リバースコート、カーテンコート、押し
出しコートあるいは米国特許第２，６８１，２９４号に
記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート方
法等により０．１〜１０μｍの乾燥膜厚となるように塗
布することができる。目的に応じて乾燥膜厚を調整する
ことができる。

【０１０３】この溶出ブロック層は、透明支持体からの
可塑剤、紫外線吸収剤などの添加剤の溶出を防止する目
的の他に、当該支持体と光学異方層または配向層との密
着性を向上させて剥離するのを防止する機能も求められ
る。当該目的のためには、透明樹脂基板において、前記
の有機酸基含有ポリマー層を塗設するほか、プラズマ処
理を行うことが効果的である。透明樹脂基板を搬送しな
がらプラズマ処理を行うことは、連続的に処理が可能で
あり好ましい。特に真空にすることなく大気圧下で、反
応性のガス雰囲気下で該処理を行うことは更に好まし
い。

【０１０４】反応性のガスとしては特に限定されるもの
ではないが、酸素、水素、一酸化炭素、二酸化炭素、一
酸化窒素、二酸化窒素、過酸化水素、オゾン等が挙げら
れる。本発明においてプラズマ処理とは、プラズマ放電
を利用することであり、放電によりプラズマ状態を発生
させることである。好ましくは、少なくとも２つの対向
する電極に電圧を印加することによって行なう。

【０１０５】本発明において処理系とは、前記反応性ガ
ス存在下プラズマ放電を行なう処理空間のことであり、
具体的には壁等で仕切りを設けて隔離した処理室のこと
である。前記処理室の気圧を真空に近い０．００７ｈＰ
ａ〜２７ｈＰａで行なう真空プラズマ放電処理の場合に
は、反応性ガスの導入を調整する必要がある。処理速度
を増加させるためには、電極に印加する電圧を高くする
必要があるが、電界強度を上げすぎると被処理体にダメ
ージを与える場合があり、注意が必要である。

【０１０６】また、別の様態として、前記処理室の気圧
を大気圧もしくは大気圧近傍で行なう大気圧プラズマ処
理の場合には、処理室に導入する気体として、前記反応
性ガス以外に不活性ガスを導入することが、安定な放電
を発生させる上で好ましい。大気圧もしくは大気圧近傍
とは、１３３〜１０６４ｈＰａの圧力下のことであり、
好ましくは９３１〜１０３７ｈＰａの範囲である。

【０１０７】不活性ガスはプラズマ放電により反応を起
こさせない気体のことであり、アルゴンガス、ヘリウム
ガス、キセノンガス、クリプトンガスがある。この中で
好ましいガスはアルゴンガスとヘリウムガスである。大
気圧プラズマ処理時に処理室に導入する不活性ガスは６
０圧力％以上と反応性ガスよりも割合を多くする放電を
安定に発生させることができて好ましい。印加する電圧
を高くすると処理速度を上げることができるが、電界強
度を上げすぎると被処理体にダメージを与えることにな
るので注意が必要である。

【０１０８】しかし、前記大気圧プラズマ処理であって
も、パルス化された電界でプラズマを発生させる場合に
は、不活性ガスは必ずしも必要でなく、処理系における
反応性ガスの濃度を上げることが可能となり、生産効率
を上げることができる。

【０１０９】この時のパルス波形は特に限定されず、特
開平１０−１３０８５１号公報の図１（ａ）〜（ｄ）の
パルス波形であってもよい。

【０１１０】パルス電界の周波数は、１ｋＨｚ〜１００
ｋＨｚの範囲が好ましい。１つのパルス電界が印加され
る時間は１μｓ〜１０００μｓであることが好ましい。

【０１１１】電極に印加する電圧の大きさは、電界強度
が１〜１００ｋＶ／ｃｍとなる範囲が好ましく、大きい
処理速度は増加するが上げ過ぎると被処理体にダメージ
を与えるのは同様である。

【０１１２】また、大気圧プラズマ処理に用いる少なく
とも２つの対向する電極は、固体誘電体をその対向面側
に設けることが好ましい。固体誘電体としては、焼結セ
ラミックスを用いることが好ましく、その体積固有抵抗
値は１０⁸Ω・ｃｍ以上が好ましい。

【０１１３】本発明で用いる光学異方体の透明支持体と
は、可視域の透過率が８０％以上の特性を有するもので
あり、セルロースエステル誘導体、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリス
ルフォンなどが挙げられる。上記記載の中でも、目的の
光学特性を得るための生産性の観点から好ましくは、セ
ルロースエステル誘導体である。

【０１１４】本発明における透明支持体の光学特性は、
該支持体の光学特性が４１ｎｍ≦Ｒｏ≦９５ｎｍ、０．
８≦（Ｒｔ／Ｒｏ）≦１．４、かつｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚを
満たすことが求められる。ここで、ＲｏおよびＲｔは透
明支持体のリターデーション値を示す。

【０１１５】Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄＲｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄここで、ｎｘ、ｎｙは透明支持体の面内での最大屈折率
方向であるｘ方向、およびこれと直交する方向であるｙ
方向の屈折率である。ｎｚは厚み方向でのフィルムの屈
折率、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）である。

【０１１６】ｎｙ＝ｎｚの場合、従来の一軸延伸位相差
板となりこれに光学異方層を設置しても十分な視野角拡
大効果は得られない。本発明の光学異方体の透明支持体
は、ｎｚがｎｘ，ｎｙよりも低い値であるので、この透
明支持体と光学異方層を組み合わせることで、液晶表示
装置の駆動用液晶セル特有の複屈折性を光学的に補償す
ることができる。

【０１１７】透明支持体の生産性の観点から好ましい製
造方法は、透明支持体の溶媒を含む樹脂溶液をベルトま
たはドラム上で流延製膜し、溶媒が残存した状態でベル
トまたはドラムから剥離され、その後乾燥しながらフィ
ルムを延伸する製造方法である。それゆえ、透明支持体
の流延方向の屈折率がｎｘに実質的に等しい屈折率であ
り、流延方向に垂直な方向（幅方向）の屈折率がｎｙに
実質的に等しい屈折率である場合、より効率的に透明支
持体が生産できる。ここで実質的に等しいとは、±４°
の範囲に、好ましくは±２°の範囲に支持体の流延方向
とｎｘすなわち最大屈折率を示す方向との角度がおさま
ることであり、それぞれの方向が一致することが最も好
ましい。

【０１１８】支持体の全体の屈折率の測定は、通常の屈
折率計を用いることができる。全体の屈折率を測定した
後、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機
器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下
で、波長が５９０ｎｍにおいて、３次元屈折率測定を行
い、屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出し、かつフィルムの
厚さを測定してリターデーションＲｏ、Ｒｔを求めるこ
とができる。

【０１１９】このような特性を満たす樹脂として、セル
ロースエステル誘導体が好ましく用いられる。特に０．
５≦（Ｒｔ／Ｒｏ）≦２．０を効果的に満たすために
は、セルロースエステルのアセチル基置換度が２．５以
上２．８６以下が好ましい。

【０１２０】本発明の別の形態としては、セルロースエ
ステルのアセチル基置換度が、２．４０以上３．００以
下のセルロースエステルを少なくとも２種以上用いる。
この場合のアセチル基の置換度としては、混合後の平均
アセチル基置換度が２．５０以上２．８６以下のセルロ
ースエステルであることが本発明の目的に好ましい。

【０１２１】本発明のさらに別の形態としては、光学異
方体に用いるセルロースエステルのアセチル基置換度
が、２．６０以上、３．００以下のセルロースエステル
を少なくとも１種とアセチル基置換度が２．４０以上
２．６０未満のセルロースエステルを少なくとも１種を
混合し、混合後の平均アセチル基置換度が２．５以上
２．８６以下のセルロースエステルを用いることが本発
明の目的に好ましい。

【０１２２】アセチル基置換度または平均アセチル基置
換度が２．５以上２．８６以下のセルロースエステルを
フィルムとした支持体は、フィルム面の屈折率の平均に
対する厚さ方向の屈折率との差が高い光学特性を与え
る。置換度をやや低く抑えたセルロースエステルフィル
ムを用いることで、これらのセルロースエステルフィル
ムを用いた時に、高いアセチル基置換度のセルロースト
リアセテートフィルムを用いたときよりも、同じ光学特
性を得る場合に、薄膜化することができる。視野角特性
に優れた光学異方体は、ディスプレイの種類により求め
られる光学補償能は異なるが適宜液晶層と支持体の光学
特性を調整して設計することができる。本発明の支持体
のアセチル基置換度または平均アセチル基置換度の好ま
しい範囲は、２．５５〜２．７０である。アセチル基の
置換度が小さすぎると耐湿熱性に劣る場合がある。これ
らのセルロースエステルは、例えば、特開平１０−４５
８０４号公報に記載の方法で合成することが出来る。ア
セチル基の置換度の測定方法もＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９
６により測定することが出来る。

【０１２３】前記アセチル基の置換度が２．５０以上
２．８６以下のセルロースエステル、アセチル基の置換
度が２．６０以上３．００以下のセルロースエステル、
アセチル基の置換度が２．４０以上２．６０未満のセル
ロースエステルとは、アセチル基でセルロースの水酸基
を常法により所定の置換度に置換したものである。本発
明のこれらのセルロースエステルの数平均分子量は、好
ましい機械的強度を得るためには、７００００〜３００
０００が好ましく、更に８００００〜２０００００が好
ましい。

【０１２４】セルロースエステル樹脂としては、上記ア
セチル基置換度を制御したセルロースエステル樹脂を用
いることが好ましいが、一方アセチル基およびプロピオ
ニル基を有するセルロースエステル樹脂を用いることが
極めて効果的である。

【０１２５】本発明に係るセルロースエステルフィルム
作製に用いられるセルロースエステルの一例として、ア
セチル基とプロピオニル基を置換基として有しており、
下記式（Ｉ）及び（II）を同時に満足するものが好まし
い。

【０１２６】（Ｉ）２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０（II）Ａ＜２．４ここで、Ａはアセチル基の置換度、Ｂはプロピオニル基
の置換度を表す。

【０１２７】更に、本発明においては、下記式（III）
及び（IV）を同時に満たすセルロースエステルフィルム
がより好ましく用いられる。

【０１２８】（III）２．４≦Ａ＋Ｂ≦２．８（IV）１．４≦Ａ≦２．０これらのアシル基は、グルコース単位の２位、３位、６
位に平均的に置換していても良いし、例えば６位に高い
比率で置換するなどの分布をもった置換がなされていて
も良い。

【０１２９】ここで、置換度とはセルロース分子中の全
ての水酸基の数（３ｎヶ）が幾つ置換されたか、それを
グルコピラノーズ単位で表すものであり、理論的には０
〜３．０の値となる。ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９１（セル
ロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の
測定および計算に従い算出される数値である。アシル基
の置換度の測定法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に従って
測定できる。

【０１３０】特に、Ａのアセチル基の平均置換度が２．
０未満であると延伸時の位相差のばらつきが少ないため
特に好ましい。

【０１３１】また、機械的強度に優れた透明支持体を得
る観点から、本発明に用いられるアセチル基とプロピオ
ニル基の両者を含むセルロースエステル樹脂の数平均分
子量は７００００〜３０００００、好ましくは８０００
０〜２０００００である。

【０１３２】本発明に用いられる、セルロースの混合脂
肪酸エステルは、アシル化剤として酸無水物や酸塩化物
を用いて合成できる。アシル化剤が酸無水物である場合
は、反応溶媒として有機酸（例、酢酸）や塩化メチレン
が使用される。触媒としては、硫酸のような酸性触媒が
用いられる。アシル化剤が酸塩化物である場合は、触媒
として塩基性化合物が用いられる。工業的に最も一般的
な合成方法では、セルロースをアセチル基およびプロピ
オニル基に対応する有機酸（酢酸、プロピオン酸）およ
びそれらの酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸）を
含む混合有機酸成分でエステル化してセルロースエステ
ルを合成する。アセチル化剤とプロピオニル化剤の使用
量は、合成するエステルが前述した置換度の範囲となる
ように調整する。反応溶媒の使用量は、セルロース１０
０質量部に対して、１００〜１０００質量部であること
が好ましく、２００〜６００質量部であることがさらに
好ましい。酸性触媒の試料量は、セルロース１００質量
部に対して、０．１〜２０質量部であることが好まし
く、更に好ましくは、０．４〜１０質量部である。

【０１３３】反応温度は、１０〜１２０℃であることが
好ましく、２０〜８０℃であることがさらに好ましい。
また、アシル化反応が終了してから、必要に応じて加水
分解（ケン化）して、置換度を調整してもよい。反応終
了後、反応混合物を沈澱のような慣用の手段を用いて分
離し、洗浄、乾燥することによりセルロースの混合脂肪
酸エステル（セルロースアセテートプロピオネート）が
得られる。

【０１３４】本発明に用いられるセルロースエステルは
綿花リンターから合成されたセルローストリアセテート
と木材パルプから合成されたセルローストリアセテート
のどちらかを単独あるいは混合して用いることができ
る。ベルトやドラムからの剥離性が良い綿花リンターか
ら合成されたセルロースエステルを多く使用した方が生
産効率が高く好ましい。綿花リンターから合成されたセ
ルロースエステルの比率が６０質量％以上で、剥離性の
効果が顕著になるため６０質量％以上が好ましく、より
好ましくは８５質量％以上、更には単独で使用すること
が最も好ましい。

【０１３５】本発明においてセルロースエステルは綿花
リンターから合成されたセルロースエステルと木材パル
プから合成されたセルロースエステルのどちらかを単独
あるいは混合して用いることができる。ベルトやドラム
からの剥離性が良い綿花リンターから合成されたセルロ
ースエステルを多く使用した方が生産性効率が高く好ま
しい。綿花リンターから合成されたセルロースエステル
の比率が６０質量％以上で、剥離性の効果が顕著になる
ため６０質量％以上が好ましく、より好ましくは８５質
量％以上、更には、単独で使用することが最も好まし
い。

【０１３６】本発明の光学異方体に用いる透明支持体の
厚さは、液晶ディスプレイの視角特性を改良するための
光学特性を保有すれば良く、延伸倍率と透明の支持体の
厚さにより制御することができる。該透明支持体の厚さ
は、好ましくは３５μｍ以上２５０μｍ以下であるが、
より好ましくは６０μｍ以上１４０μｍ以下である。こ
の範囲よりも該透明支持体が薄いと目的の光学特性が得
難くくなり、一方該範囲よりも厚いと必要以上の光学特
性となり、かえって液晶ディスプレイ視角特性を劣化す
る場合が多くなる。

【０１３７】本発明において、前記光学異方体を偏光板
用保護フィルムとして用いる場合、または光学異方体を
保護フィルム付偏光子に張り付けて用いる場合、光学異
方体は液晶セルと偏光子との間に設置することができ
る。

【０１３８】偏光子は、従来から公知のものを用いるこ
とが出来る。例えば、ポリビニルアルコールの如きの親
水性ポリマーからなるフィルムを、沃素の如き二色性染
料で処理して延伸したもの等を用いることが出来る。

【０１３９】次に本発明の透明支持体がセルロースエス
テルの場合、そのフィルムの製造方法について述べる。

【０１４０】先ず、セルロースエステルを有機溶媒に溶
解してドープを形成する。ドープ中のセルロースエステ
ルの濃度は１０〜３５質量％程度である。

【０１４１】有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，
３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサ
ノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノー
ル、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノー
ル、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，
１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プ
ロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ
−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフル
オロ−１−プロパノール、ニトロエタン等の非塩素系の
有機溶媒が使用できる。また、塩化メチレンも使用でき
る。メタノール、エタノール、ブタノールなどの低級ア
ルコールを併用するとセルロースエステルの有機溶媒へ
の溶解性が向上したりドープ粘度を低減できるので好ま
しい。特に沸点が低く、毒性の少ないエタノールが好ま
しい。

【０１４２】ドープ中には、前記可塑剤、紫外線吸収
剤、マット剤などの添加剤を加えてもよい。そして、得
られたドープを回転するベルトやドラムの支持体上に流
廷し、剥離可能になるまで乾燥し、そしてフィルムを剥
離する。剥離したフィルムは生乾きの状態で延伸され、
更に乾燥しフィルム中の有機溶媒をほぼ完全に蒸発させ
ることができるが、乾燥後延伸してもよい。フィルム中
の有機溶媒の含有量としては、良好なフィルムの寸法安
定性を得るために２質量％以下、更に０．４質量％以下
が好ましい。

【０１４３】また、本発明の支持体の製造、特に塗設に
おいてすべり性を改善するために、これら透明樹脂フィ
ルムを製造する際のドープ中に、例えば二酸化ケイ素、
二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、
炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシ
ウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケ
イ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や
架橋高分子などのマット剤を含有させることが好まし
い。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さくで
きるので好ましい。微粒子は、２次粒子の平均粒径が
０．０１〜１．０μｍ、含有量が、セルロースエステル
に対して０．００５〜０．３質量％が好ましい。

【０１４４】二酸化ケイ素のような微粒子は有機物によ
って表面処理されていることが、フィルムのヘイズを低
下できるため好ましい。表面処理で好ましい有機物とし
ては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、
シロキサンなどがあげられる。微粒子の平均粒径は、後
述のアンチカール処理に用いる微粒子と同じものが用い
られる。

【０１４５】本発明の光学異方体は、支持体に光学異方
層等の塗設物を有することからカールしてしまうことが
多い。従ってカールを防止することにより、カールによ
る不都合を解消し、光学異方体としての機能を損なわな
いようにするため、光学異方層を塗設した反対側の面に
アンチカール層を設けることが出来る。すなわち、アン
チカール層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質
をもたせることにより、カールの度合いをバランスさせ
るものである。なお、アンチカール層は好ましくはブロ
ッキング層を兼ねて塗設され、その場合、塗布組成物に
はブロッキング防止機能を持たせるための無機微粒子及
び／又は有機微粒子を含有させることができる。例え
ば、無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チタン、酸化
アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫
酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム等を挙
げることができ、また有機微粒子としては、ポリメタア
クリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレ
ン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シ
リコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカー
ボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラ
ミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエス
テル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系
樹脂粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を挙
げることができ、アンチカール層塗布組成物に加えるこ
とが出来る。二酸化ケイ素のような微粒子は有機物によ
って表面処理されていることが、フィルムのヘイズを低
下できるため好ましい。表面処理で好ましい有機物とし
ては、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、
シロキサンなどがあげられる。

【０１４６】二酸化ケイ素の微粒子としては日本アエロ
ジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬ２００、２００Ｖ、３０
０、Ｒ９７２、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２、ＯＸ５
０、ＴＴ６００などが挙げられ、好ましくはＡＥＲＯＳ
ＩＬＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ９７４Ｖ、
Ｒ２０２、Ｒ８１２などが挙げられる。

【０１４７】これらの粒子は、体積平均粒径０．００５
〜０．１μｍの粒子を樹脂組成物１００質量部に対して
０．１〜５質量部が好ましく添加される。これの微粒子
の配合はフィルムのヘイズが０．６％以下、光学異方体
の表裏面の間の動摩擦係数が０．５以下となるように配
合することが好ましい。

【０１４８】前記微粒子はとジアセチルセルロースのよ
うな樹脂を含む層を設置することができる。このような
層はイソシアネート誘導体のような架橋剤を用いて強度
を向上させることもできる。

【０１４９】アンチカール機能の付与は、樹脂フィルム
基材を溶解させる溶媒又は膨潤させる溶媒を含む組成物
を塗布することによって行われる。用いる溶媒として
は、溶解させる溶媒又は膨潤させる溶媒の混合物の他、
さらに溶解させない溶媒を含む場合もあり、これらを樹
脂フィルムのカール度合や樹脂の種類によって適宜の割
合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。カール防
止機能を強めたい場合は、用いる溶媒組成を溶解させる
溶媒又は膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、溶解さ
せない溶媒の比率を小さくするのが効果的である。この
混合比率は好ましくは（溶解させる溶媒又は膨潤させる
溶媒）：（溶解させない溶媒）＝１０：０〜１：９で用
いられる。このような混合組成物に含まれる、樹脂フィ
ルム基材を溶解又は膨潤させる溶媒としては、例えば、
ベンゼン、トルエン、キシレン、ジオキサン、アセト
ン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロ
エタン、トリクロロエタン、クロロホルムなどがある。
溶解させない溶媒としては、例えば、メタノール、エタ
ノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコ
ール、ｎ−ブタノールなどがある。

【０１５０】これらの塗布組成物をグラビアコーター、
ディップコーター、リバースコーター、押し出しコータ
ー等を用いて樹脂フィルムの表面にウェット膜厚１〜１
００μｍ塗布するのが好ましいが、特に５〜３０μｍで
あると良い。ここで用いられる樹脂としては、例えば塩
化ビニル／酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸
ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合
体、部分加水分解した塩化ビニル／酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル／塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
／アクリロニトリル共重合体、エチレン／ビニルアルコ
ール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン／塩化
ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体等のビ
ニル系重合体あるいは共重合体、ニトロセルロース、セ
ルロースアセテートプロピオネート、ジアセチルセルロ
ース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロ
ースエステル系樹脂、マレイン酸および／またはアクリ
ル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリ
ロニトリル／スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、
アクリロニトリル／塩素化ポリエチレン／スチレン共重
合体、メチルメタクリレート／ブタジエン／スチレン共
重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポ
リビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹
脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネート
ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹
脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン／ブタジエ
ン樹脂、ブタジエン／アクリロニトリル樹脂等のゴム系
樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げること
ができるが、これらに限定されるものではない。特に好
ましくはジアセチルセルロースのようなセルロース系樹
脂層である。

【０１５１】アンチカール層を塗設する順番は樹脂フィ
ルム基材の反対側に光学異方層を塗設する前でも後でも
構わないが、アンチカール層がブロッキング防止層を兼
ねる場合は先に塗設することが望ましい。

【０１５２】本発明の光学異方体の支持体において物性
を改良する目的として可塑剤を用いることができる。具
体的な可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン
酸エステルが好ましく用いられる。リン酸エステルとし
ては、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびト
リクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、ビフェニル−ジフ
ェニルホスフェート、ジメチル−エチルホスフェートが
含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エス
テルおよびクエン酸エステルが代表的なものである。フ
タル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭ
Ｐ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレ
ート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）およ
びジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、エチルフ
タリルエチルグリコレート等が用いられる。クエン酸エ
ステルとしては、クエン酸アセチルトリエチル（ＯＡＣ
ＴＥ）およびクエン酸アセチルトリブチル（ＯＡＣＴ
Ｂ）が用いられる。その他のカルボン酸エステルの例に
は、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、
セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが
含まれる。リン酸エステル系可塑剤（ＴＰＰ、ＴＣＰ、
ビフェニル−ジフェニルホスフェート、ジメチルエチル
ホスフェート）、フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、
ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いら
れる。

【０１５３】又、この中でもトリフェニルフォスフェー
ト（ＴＰＰ）およびエチルフタリルエチルグリコールが
特に好ましく用いられる。

【０１５４】可塑剤は透明樹脂への耐水性付与、あるい
はその透湿性改善のため、重要な素材であるが、添加量
が多すぎると塗布層への悪影響が拡大する問題がある。

【０１５５】可塑剤の添加量は透明樹脂中に通常２〜１
５質量％で添加することが好ましい。

【０１５６】透明樹脂に紫外線吸収剤を含有させること
によって、耐光性に優れた光学異方体を得ることが出来
る。本発明に有用な紫外線吸収剤としては、サリチル酸
誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾール誘
導体、安息香酸誘導体又は有機金属錯塩等がある。具体
例として特に限定されることはないが、例えば、サリチ
ル酸誘導体としてはサリチル酸フェニル、４−ｔ−ブチ
ルフェニルサリチル酸等を、ベンゾフェノン誘導体とし
ては、２−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ
シ−４−メトキシベンゾフェノン等を、ベンゾトリアゾ
ール誘導体としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−
メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２′−
ヒドロキシ−３′−５′−ジ−ブチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール等を、安息香酸誘導体として
は、レゾルシノール−モノベンゾエート、２′，４′−
ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンゾエート等を、有機錯塩誘導体としては、
ニッケルビス−オクチルフェニルサルファミド、エチル
−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルリ
ン酸のニッケル塩等を挙げることができる。本発明にお
いてはこれら紫外線吸収剤の１種以上を用いていること
が好ましく、異なる２種以上の紫外線吸収剤を含有して
もよい。また高分子紫外線吸収剤、例えば特開平６−１
４８４３０号に記載されたようなものを用いてもよい。
本発明において好ましい紫外線吸収剤は、紫外線の吸収
形状や保存性の観点から、液晶の劣化防止の点より波長
３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液
晶表示性の点より波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が
可及的に少ないものが好ましく用いられる。特に、波長
３７０ｎｍでの透過率が、１０％以下である必要があ
り、好ましくは５％以下、より好ましくは２％以下であ
る。このような観点からベンゾトリアゾール誘導体また
はベンゾフェノン誘導体が好ましく用いられる。

【０１５７】紫外線吸収剤の添加方法はアルコールやメ
チレンクロライド、ジオキソランなどの有機溶媒に紫外
線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直
接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有
機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエス
テル中にデゾルバやサンドミルを使用し、分散してから
ドープに添加する。

【０１５８】本発明の光学異方体の液晶層の上には、傷
などの光学的変質をさけるために保護層を設けてもよ
い。液晶層が複数層の場合は中間層を設けてもよい。保
護層または中間層の材料としては、ポリメチルメタクリ
レート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン
／無水マレイミド共重合体、ポリビニルアルコール、ポ
リ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、スチレン／ビニ
ルトルエン共重合体、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニ
ル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミ
ド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸
ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、及び
ポリカーボネート、またはアクリレート、メタクリレー
ト等のポリマー及びこれらの誘導体を挙げる事ができ
る。これらの材料を上記塗布方法より、溶液を調製して
塗布、乾燥によって設置することができる。

【０１５９】光学異方体の透明支持体上に層を設置する
場合、構成する材料を溶媒を用いて溶解した溶液を調製
し塗布することができる。このことは塗設した層の均一
性の観点から好ましい製造方法である。用いる溶媒は単
独で使用してもよく、また塗設する際の乾燥性を制御す
るために２種以上の溶媒を混合して用いてもよい。塗設
するための前記溶液の溶媒は有機溶媒が好ましい。例え
ばアルコール類としては、メタノール、エタノール、ｎ
−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピルアルコール、
ｎ−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノー
ル、ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、シク
ロヘキサノール等が挙げられ、ケトン類としては、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられ、エ
ステル類としては、蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸アミル、乳酸
エチル、乳酸メチル等が挙げられ、グリコールエーテル
（Ｃ１〜Ｃ４）類としては、メチルセルソルブ、エチル
セルソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル
（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテ
ル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、
プロピレングリコールモノブチルエーテル、又はプロピ
レングリコールモノ（Ｃ１〜Ｃ４）アルキルエーテルエ
ステル類としては、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、その他の溶媒としてメチレンクロラ
イド、Ｎ−メチルピロリドンなどがあげられる。特にこ
れらに限定されるものではない。

【０１６０】本発明に用いられるセルロースエステルフ
ィルム支持体の製造方法についてさらに詳しく説明す
る。

【０１６１】セルロースエステルフィルム支持体の製造
方法としては、ドープ液を支持体上に流延、製膜し、得
られたフィルムを支持体から剥ぎ取り、その後、張力を
かけて乾燥ゾーン中を搬送させながら乾燥する、溶液流
延製膜法が好ましい。下記に溶液流延製膜法について述
べる。

【０１６２】（１）溶解工程：セルロースエステルのフ
レークに対する良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜中で
該フレークを攪拌しながら溶解し、セルロースエステル
溶液（ドープ）を形成する工程である。溶解には、常圧
で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸
点以上で加圧して行う方法、Ｊ．Ｍ．Ｇ．Ｃｏｗｉｅ等
によるＭａｋｒｏｍｏｌ．ｃｈｅｍ．１４３巻、１０５
頁（１９７１）に記載されたような、又特開平９−９５
５４４号及び同９−９５５５７号公報に記載された様な
低温で溶解する冷却溶解法、高圧で行う方法等種々の溶
解方法がある。溶解後ドープを濾材で濾過し、脱泡して
ポンプで次工程に送る。

【０１６３】（２）流延工程：ドープを加圧型定量ギヤ
ポンプを通して加圧ダイに送液し、流延位置において、
無限に移送する無端の金属ベルトあるいは回転する金属
ドラムの流延用支持体（以降、単に支持体ということも
ある）上に加圧ダイからドープを流延する工程である。
流延用支持体の表面は鏡面となっている。その他の流延
方法としては流延されたドープ膜をブレードによって膜
厚を調節するドクターブレード法、あるいは逆回転する
ロールで調節するリバースロールコーターによる方法等
があるが、口金部分のスリット形状を調製出来、膜厚を
均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コー
トハンガーダイやＴダイ等があるが、何れも好ましく用
いられる。製膜速度を上げるために加圧ダイを流延用支
持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層しても
よい。

【０１６４】（３）溶媒蒸発工程：ウェブ（流延用支持
体上にドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェ
ブとする）を流延用支持体上で加熱し溶媒を蒸発させる
工程である。溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を
吹かせる方法及び／または支持体の裏面から液体により
伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等
があるが、裏面液体伝熱の方法が乾燥効率がよく好まし
い。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。

【０１６５】（４）剥離工程：支持体上で溶媒が蒸発し
たウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離され
たウェブは次工程に送られる。剥離する時点でのウェブ
の残留溶媒量（下記式）があまり大き過ぎると剥離し難
かったり、逆に支持体上で充分に乾燥させてから剥離す
ると、途中でウェブの一部が剥がれたりする。

【０１６６】製膜速度を上げる方法（残留溶媒量ができ
るだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げることが
できる）として、残留溶媒が多くとも剥離出来るゲル流
延法（ゲルキャスティング）がある（残留溶媒量が出来
るだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げることが
出来る）。それは、ドープ中にセルロースエステルに対
する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方法、
支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。また、
ドープ中に金属塩を加える方法もある。支持体上でゲル
化させ膜を強くすることによって、剥離を早め製膜速度
を上げることが出来る。残留溶媒量がより多い時点で剥
離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損
なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易く、
経済速度と品質との兼ね合いで剥離残留溶媒量を決めら
れる。

【０１６７】（５）乾燥工程：ウェブを千鳥状に配置し
たロールに交互に通して搬送する乾燥装置及び／または
クリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンタ
ー装置を用いてウェブを乾燥する工程である。乾燥の手
段はウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的である
が、風の代わりにマイクロウエーブを当てて加熱する手
段もある。あまり急激な乾燥は出来上がりのフィルムの
平面性を損ね易い。高温による乾燥は残留溶媒が８質量
％以下くらいから行うのがよい。全体を通して、通常乾
燥温度は４０〜２５０℃で、７０〜１８０℃が好まし
い。使用する溶媒によって、乾燥温度、乾燥風量及び乾
燥時間が異なり、使用溶媒の種類、組合せに応じて乾燥
条件を適宜選べばよい。

【０１６８】流延用支持体面から剥離した後の乾燥工程
では、溶媒の蒸発によってウェブは巾方向に収縮しよう
とする。高温度で急激に乾燥するほど収縮が大きくな
る。この収縮を可能な限り抑制しながら乾燥すること
が、出来上がったフィルムの平面性を良好にする上で好
ましい。この観点から、例えば、特開昭６２−４６６２
５号公報に示されているような乾燥全工程あるいは一部
の工程を巾方向にクリップでウェブの巾両端を巾保持し
つつ乾燥させる方法（テンター方式）が好ましい。

【０１６９】（６）巻き取り工程：ウェブを残留溶媒量
が質量で２％以下となってからフィルムとして巻き取る
工程である。残留溶媒量を０．４％以下にすることによ
り寸法安定性の良好なフィルムを得ることが出来る。巻
き取り方法は、一般に使用されているものを用いればよ
く、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション
法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール
法等があり、それらを使いわければよい。

【０１７０】脂肪酸セルロースエステルフィルムの膜厚
の調節には所望の厚さになるように、ドープ濃度、ポン
プの送液量、ダイの口金のスリット間隙、ダイの押し出
し圧力、流延用支持体の速度をコントロールするのがよ
い。又、膜厚を均一にする手段として、膜厚検出手段を
用いて、プログラムされたフィードバック情報を上記各
装置にフィードバックさせて調節するのが好ましい。

【０１７１】溶液流延製膜法を通しての流延直後からの
乾燥までの工程において、乾燥装置内の雰囲気を、空気
とするのもよいが、窒素ガスや炭酸ガス等の不活性ガス
雰囲気で行ってもよい。ただ、乾燥雰囲気中の蒸発溶媒
の爆発限界の危険性は常に考慮されなければならないこ
とは勿論のことである。

【０１７２】本発明に係るセルロースエステルフィルム
支持体は延伸操作を行う方法ことが好ましい。以下、そ
の延伸方法について説明する。

【０１７３】本発明のセルロースエステルフィルム支持
体の製造において、セルロースエステル溶解ドープ液を
流延用支持体に流延後、次いで、流延用支持体から剥離
したウェブ（フィルム）を、ウェブ中の残留溶媒量が１
０〜１００質量％の範囲にある間に、少なくとも１方向
に０．５〜４．０倍延伸することが好ましい。

【０１７４】なお、残留溶媒量は下記の式で表せる。残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００ここで、Ｍはウェブの任意時点での質量、ＮはＭを１１
０℃で３時間乾燥させた時の質量である。

【０１７５】ウェブ中の残留溶媒量が多すぎると延伸の
効果が得られず、また、少なすぎると延伸が著しく困難
となり、ウェブの破断が発生してしまう場合がある。ウ
ェブ中の残留溶媒量の更に好ましい範囲は１０質量％〜
５０質量％、特に２０質量％〜４０質量％が最も好まし
い。また、延伸倍率が小さすぎると十分な位相差が得ら
れず、大きすぎると延伸が困難となり破断が発生してし
まう場合がある。延伸倍率の更に好ましい範囲は１．０
倍〜２．５倍の範囲である。

【０１７６】本発明に係るセルロースエステルを用いて
溶液流延製膜したものは、特定の範囲の残留溶媒量であ
れば高温に加熱しなくても延伸可能であるが、乾燥と延
伸を兼ねると、工程が短くてすむので好ましい。しか
し、ウェブの温度が高すぎると、可塑剤が揮散するの
で、１５℃〜１６０℃以下の範囲が好ましい。

【０１７７】また、互いに直交する２軸方向に延伸する
ことは、フィルムの屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを本発明の
範囲に入れるために有効な方法である。例えば流延方向
に延伸した場合、巾方向の収縮が大きすぎると、ｎｚの
値が大きくなりすぎてしまう。この場合、フィルムの巾
収縮を抑制あるいは、巾方向にも延伸することで改善で
きる。巾方向に延伸する場合、巾手で屈折率に分布が生
じる場合がある。これは、テンター法を用いた場合にみ
られることがあるが、巾方向に延伸したことで、フィル
ム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていること
により生じる現象で、いわゆるボーイング現象と呼ばれ
るものと考えられる。この場合でも、流延方向に延伸す
ることで、ボーイング現象を抑制でき、巾手の位相差の
分布を少なく改善できるのである。

【０１７８】更に、互いに直行する２軸方向に延伸する
ことにより、得られるフィルムの膜厚変動が減少でき
る。セルロースエステルフィルム支持体の膜厚変動が大
き過ぎると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイに用
いたとき着色等の問題が生じることがある。セルロース
エステルフィルム支持体の膜厚変動は、±３％、更に±
１％の範囲とすることが好ましい。以上の様な目的にお
いて、互いに直交する２軸方向に延伸する方法は有効で
あり、互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ
流延方向に０．８〜４．０倍、巾方向に０．４〜１．２
倍の範囲とすることが好ましい。

【０１７９】ウェブを延伸する方法には特に限定はな
い。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロ
ール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの
両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔
を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方
向に広げて横方向に延伸する方法、あるいは縦横同時に
広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。も
ちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。ま
た、いわゆるテンター法の場合、リニアドライブ方式で
クリップ部分を駆動すると滑らかな延伸を行うことがで
き、破断等の危険性が減少できるので好ましい。

【０１８０】以上のようにして得られたフィルムは、最
終仕上がりフィルムの残留溶媒量で２質量％以下、さら
に０．４質量％以下であることが、寸度安定性が良好な
フィルムを得る上で好ましい。

【０１８１】本発明の光学異方体の透明支持体として求
められる光学特性を得るためには、フィルムを乾燥した
後、フィルム樹脂のガラス転移温度以上に加熱し延伸し
該温度以下に放冷する方法、また該ガラス転移以上の温
度に加熱しなくてもフィルムを膨潤させるような溶媒、
例えば水／アセトン＝１／１（質量比）を用いてフィル
ムを溶媒で膨潤させた状態で延伸することもできる。し
かしながらこれらの延伸方法はガラス転移温度以上にす
るとフィルム中に存在する可塑剤がフィルム表面に溶出
すること、一方膨潤させた状態で延伸する方法は、膨潤
させる溶液の種類によって可塑剤がフィルムから溶出す
ることが懸念されるため注意が必要である。それゆえ、
溶液流延法でフィルム製膜時に溶媒が残存する状態で乾
燥させながら延伸することが最も好ましい。

【０１８２】また延伸を与える場合フィルム製膜時の搬
送方向にフィルム面内の最大屈折率、すなわちｎｘの方
向が実質的に一致することが製造上好ましく、光学特性
を考慮するとフィルムの搬送方向とｎｘの方向が１°の
範囲以内とすることがより好ましい。

【０１８３】本発明の光学異方体の好ましい配置形態に
ついて、図１を用いて説明する。本発明の光学補償フィ
ルムの配置形態としては、駆動用液晶セルのガラス基板
又はプラスチック基板と偏光子の間であればＴＮ型ＴＦ
Ｔ液晶装置に様々な形態で配置して使用することが可能
である。

【０１８４】本発明の光学異方体は当該液晶パネルの両
面の各々の偏光子とセルのガラスまたはプラステック基
板の間に配置され、透過型パネルの場合における入射光
側または出射光側のいずれの側にも配置することができ
る。または片面に同様に光学異方体を１枚または２枚以
上に配置しても差し支えはない。

【０１８５】また、本発明の目的をより効果的に発現さ
せる光学異方体の配置方法は、前記駆動用液晶セルに最
も近い基板のラビング方向に前記光学異方体の透明支持
体面が接触する方向に光学異方体を配置し、かつ光学異
方体の透明支持体の最大屈折率方向が前記液晶セルに最
も近い基板に接しているラビング方向に実質的に直交し
た方向が好ましい。実質的に直交とは、当該各々の基準
方向とのなす角が８０°から１００°の範囲であり、好
ましくは８７°以上９３°以下、さらに好ましくは８９
°以上９１°以下であるが、本質的に９０°であること
が好ましい。

【０１８６】図１は本発明の光学異方体の配置された液
晶表示装置の一例を示す概念図である。

【０１８７】図１において、液晶セル７の上下に光学異
方体９、９′が配置され、偏光子１、１′が搭載され
る。８、８′は液晶セルのラビング方向およびチルト方
向を示す。４、４′は、光学異方層の液晶化合物の配向
方向を示す。４ａ、４ｂは光学異方層の液晶化合物のチ
ルト方向の概念図である。特に光学異方体の透明支持体
側のチルト角が光学異方層作製時の空気界面のチルト角
よりも高く、４ａ、４ｂの液晶化合物の概念図に示すよ
うな厚さ方向に対してチルト角が連続的に変化すること
がより効果的である。光学異方体の配置は、透明支持体
側を液晶セル基板側とすることがさらに効果的であり図
１の如くである。

【０１８８】４、４′の光学異方層の液晶化合物の配向
方向は、液晶化合物を支持体面に投影した方向であり、
これらの方向と、近接する透明支持体の面内における最
大屈折率方向６、６′も各々実質的に直交することが求
められる。実質的に直交とは前述同様である。光学異方
体には溶出ブロック層、光配向層、透明支持体のプラズ
マ処理、有機酸基含有ポリマー層等が適宜設置されるが
図１では省略してある。光学異方体の層構成は実施例に
詳細に示す。本発明の目的は、図１の構成が最も効果的
に発現できる形態である。

【０１８９】本発明の光学異方体は、図１のごとく偏光
子と駆動用セルの間に設置される。偏光子にかえて、偏
光子に偏光板保護フィルムとしてＴＡＣフィルムが両面
に添付された偏光板を用い上述の位置に設置されてもよ
く、または偏光板保護フィルムの駆動用セル側に、偏光
板保護フィルムに代えて本発明の光学異方体を用いても
よい。

【０１９０】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が本発明はこれにより限定されるものではない。

【０１９１】実施例１以下の製造方法１，２および３により、又セルロース樹
脂を下記に示すセルロース樹脂１〜６（詳細な内容は下
記に記載）にかえ表１に示すような透明樹脂フィルム支
持体１〜１１を作製した。

【０１９２】製造方法１セルロース樹脂（詳細な内容は下記に記載）を１００質
量部、エチルフタリルエチルグリコレート５質量部、ト
リフェニルフォスフェイト３質量部、塩化メチレン２９
０質量部、エタノール６０質量部を密閉容器に入れ、混
合物をゆっくり攪拌しながら６０分かけて４５℃まで徐
々に昇温し溶解した。容器内は１．２気圧となった。こ
のドープを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を
使用して濾過した後、２４時間静置しドープ中の泡を除
いた。また、これとは別に、上記セルロース樹脂５質量
部、チヌビン３２６（チバ・スペシャルティ・ケミカル
ズ（株）製）６質量部、チヌビン１０９（チバ・スペシ
ャルティ・ケミカルズ（株）製）４質量部、チヌビン１
７１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）及
びＡＥＲＯＳＩＬＲ９７２Ｖ（日本アエロジル（株）
製）をそれぞれ１質量部を塩化メチレン９４質量部とエ
タノール８質量部を混合し撹拌溶解し、紫外線吸収剤溶
液１を調製した。上記ドープ１００質量部に対して前記
紫外線吸収剤溶液１を２質量部の割合で加え、スタチッ
クミキサーにより十分混合した後、ダイからステンレス
ベルト上にドープ温度３０℃で流延した。ステンレスベ
ルトの裏面から２５℃の温度の温水を接触させて温度制
御されたステンレスベルト上で１分間乾燥した後、更に
ステンレスベルトの裏面に、１５℃の冷水を接触させて
１５秒間保持した後、ステンレスベルトから剥離した。
剥離時のウェブ中の残留溶媒量は１００質量％であっ
た。次いで同時二軸延伸テンターを用いて剥離したウェ
ブの両端をクリップで掴み、クリップ間隔を巾方向と流
延方向（長さ方向）に同時に変化させることで、１２０
℃で巾方向に１．０５倍、流延方向（長さ方向）に１．
１５倍延伸した。延伸終了後、一旦、フィルム温度を８
０℃まで冷却した後、周速の異なるローラーを用いて１
３０℃で長さ方向に１．０５倍延伸した。更にローラー
搬送しながら１３０℃で１０分間乾燥させて、膜厚１０
０μｍのセルロースエステルフィルムを得た。

【０１９３】このセルロースエステルフィルムは、コア
径２００ｍｍのガラス繊維強化樹脂製のコアに巾１ｍ、
長さ１０００ｍのフィルムロール状にテーパーテンショ
ン法で巻き取った。この際、フィルム端部に温度２５０
℃のエンボスリングを押し当て、厚みだし加工を施し
て、フィルム同士の密着を防止した。

【０１９４】製造方法２セルロース樹脂（詳細な内容は下記に記載）を１００質
量部、エチルフタリルエチルグリコレート５質量部、ト
リフェニルフォスフェイト３質量部、塩化メチレン２９
０質量部、エタノール６０質量部を密閉容器に入れ、混
合物をゆっくり攪拌しながら６０分かけて４５℃まで徐
々に昇温し溶解した。容器内は１．２気圧となった。

【０１９５】このドープを安積濾紙（株）製の安積濾紙
Ｎｏ．２４４を使用して濾過した後、２４時間静置しド
ープ中の泡を除いた。また、これとは別に、上記セルロ
ース樹脂３質量部、チヌビン３２６（チバ・スペシャル
ティ・ケミカルズ（株）製）３質量部、チヌビン１０９
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）４質量
部、チヌビン１７１（チバ・スペシャルティ・ケミカル
ズ（株）製）５質量部を塩化メチレン９０質量部とエタ
ノール１０質量部を混合し撹拌溶解し、紫外線吸収剤溶
液２を調製した。

【０１９６】上記ドープ１００質量部に対して上記紫外
線吸収剤溶液２を２質量部の割合で加え、スタチックミ
キサーにより十分混合した後、ダイからステンレスベル
ト上にドープ温度３５℃で流延した。ステンレスベルト
の裏面から３５℃の温度の温水を接触させて温度制御さ
れたステンレスベルト上で１分間乾燥した後、更にステ
ンレスベルトの裏面に、１５℃の冷水を接触させて１５
秒間保持した後、ステンレスベルトから剥離した。剥離
時のウェブ中の残留溶媒量は７０質量％であった。

【０１９７】次いで、１２０℃のオーブン内でロール搬
送しながら、オーブン入り口直後のロール周速に対して
オーブン出口直前のロール周速を１．１５倍になるよう
にして、流延方向（フィルムの長尺方向）に１．１５倍
延伸した。延伸後、直ちに６０℃まで冷却した。更にテ
ンターを用いてウェブの両端をクリップで掴み、クリッ
プ間隔を固定のまま、１４０℃で５分乾燥させ、膜厚８
０μｍのセルロースエステルフィルムを得た。

【０１９８】このセルロースエステルフィルムは、コア
径２００ｍｍのガラス繊維強化樹脂製のコアに巾１ｍ、
長さ１０００ｍのフィルムロール状にテーパーテンショ
ン法で巻き取った。この際、フィルム端部に温度２７０
℃のエンボスリングを押し当て、１０μｍの厚みだし加
工を施して、フィルム同士の密着を防止した。

【０１９９】製造方法３製造方法１と同様に行った。但し、延伸条件は以下のよ
うに変更した。同時二軸延伸テンターを用いて剥離した
ウェブの両端をクリップで掴み、クリップ間隔を巾方向
と流延方向（長さ方向）に同時に変化させることで、１
２０℃で巾方向に１．０５倍、流延方向（長さ方向）に
１．４倍延伸した。延伸終了後、一旦、フィルム温度を
８０℃まで冷却した後、周速の異なるローラーを用いて
１３０℃で長さ方向に１．１倍延伸した。

【０２００】《セルロース樹脂》セルロース樹脂１：アセチル基置換度２．６５のセルロ
ースアセテート（数平均分子量１７００００）セルロース樹脂２：アセチル基置換度２．９２のセルロ
ースアセテート（数平均分子量２０００００）とアセチ
ル基置換度２．４５のセルロースアセテート（数平均分
子量１０００００）を混合し、混合後の平均アセチル基
置換度が２．６５となるように調整した。

【０２０１】セルロース樹脂３：アセチル基置換度２．
５１のセルロースアセテート（数平均分子量１５０００
０）とアセチル基置換度２．８６のセルロースアセテー
ト（数平均分子量１８００００）を混合し、混合後の平
均アセチル基置換度が２．６５となるように調整した。

【０２０２】セルロース樹脂４：アセチル基置換度２．
１０、プロピオニル基置換度０．８０（数平均分子量１
２００００）セルロース樹脂５：アセチル基置換度１．８０、プロピ
オニル基置換度０．９０（数平均分子量１２００００）セルロース樹脂６：アセチル基置換度２．９２のセルロ
ースアセテート（数平均分子量２０００００）セルロースエステルの数平均分子量は、高速液体クロマ
トグラフィーを用い測定した。測定条件は以下の通りで
ある。

【０２０３】溶媒：メチレンクロライドカラム：ＳｈｏｄｅｘＫ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した。）カラム温度：２５℃ 試料濃度：０．１質量％検出器：ＲＩＭｏｄｅｌ５０４（ＧＬサイエンス社製）ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）流量：１．０ｍｌ／ｌｍｉｎ校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫｓｔａｎｄａｒｄポリスチレン（東ソー（株）製）の数種の分子量を用意
し校正曲線を作成してセルロースエステルの数平均分子
量に換算した。

【０２０４】《支持体のリターデーション（Ｒｏ（ｎ
ｍ）、Ｒｔ（ｎｍ）、Ｒｔ／Ｒｏ）測定》自動複屈折計
ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用
いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下での、波長が５９０
ｎｍにおけるリターデーションの角度特性測定より値を
得た。

【０２０５】

【表１】

【０２０６】表２に示す構成とし光学異方体を作製する
ため、表１の透明樹脂フィルム支持体試料に必要に応じ
以下の様にプラズマ処理を行った。又別の試料には必要
に応じ、プラズマ処理に代わり下記に示す様に有機酸含
有ポリマー層を塗設した。

【０２０７】〈プラズマ処理〉装置：連続大気圧プラズマ放電処理装置（図２に示すも
の）電源：ハイデン研究社製ＰＨＦ−４Ｋ電源周波数：１０ｋＨｚ電源出力：４００Ｗ／ｍ² 処理ガス：アルゴン：酸素：水素＝１０：１：０．３８
（圧力比）の割合となるようにマスフローコントローラ
で流量を制御し、ミキサーで混合したものを処理室へ導
入した。処理時間は６０秒とした。

【０２０８】〈有機酸基含有ポリマー層の塗設〉酢酸ビ
ニル：無水マレイン酸：マレイン酸＝２：１：１（モル
比）の共重合体５０ｇを無水アセトン５００ｇと酢酸エ
チル５００ｇ中に溶解し、透明支持体に乾燥膜厚が１０
０ｎｍとなるようにワイヤーバーで搬送しながら塗布
し、１００℃２分間乾燥ゾーンで処理して乾燥した。そ
して搬送されたフィルムを巻き取った。

【０２０９】さらに以下に示す溶出ブロック層１或いは
２を表２に従い塗設した。〈溶出ブロック層１の作製〉長尺ロール上の透明支持体
上に下記活性線硬化層用塗布組成物を搬送しながら、ワ
イヤーバー塗布を行い、乾燥し、窒素雰囲気下２００ｍ
Ｊ／ｃｍ²（３６５ｎｍの光量）の紫外線を照射して硬
化して、搬送されたフィルムを巻き取った。硬化後の溶
出ブロック層の膜厚は３μｍであった。

【０２１０】（活性線硬化層用塗布組成物）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体７０ｇジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体１５ｇジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分１５ｇジエトキシベンゾフェノン（光反応開始剤）４ｇプロピレングリコールモノメチルエーテル７５ｇメチルエチルケトン７５ｇ〈溶出ブロック層２の作製〉透明支持体上に下記ポリマ
ー塗布液を調製し、乾燥膜厚が０．２μｍとなるように
ワイヤーバー塗布して乾燥した。

【０２１１】ポリビニルピロリドン（数平均分子量１１０万）１ｇ溶媒（水：メタノール：プロプレングリコールモノメチルエーテル＝５０：４５：５（質量比））２００ｇさらに溶出ブロック層の上に下記の配向層を塗設した。

【０２１２】〈配向層の塗設および偏光紫外線の照射〉
２質量％のＰＡ−１のメチルエチルケトン溶液を調製
し、透明支持体上に塗設された溶出ブロック層上に乾燥
膜厚が５０ｎｍとなるように搬送しながら押し出しコー
ティング機で塗布し、乾燥後１１０℃で９０秒間搬送し
ながら熱処理した。これに２５０ｍＷの高圧水銀灯で石
英凸レンズを用いて出射光を平行として、ポラロイド社
製紫外線用偏光フィルム（ＨＮＰ’Ｂ）を透過して偏光
とした。透明支持体上に対する３００ｎｍ〜３３０ｎｍ
の波長域の偏光照射光量として光学異方層にＬＣ−１を
用いるときは２５ｍＪ／ｃｍ²、光学異方層にＬＣ−２
を用いるときは１２ｍＪ／ｃｍ²となるように行い、露
光後搬送されてフィルムを巻き取った。このとき、透明
支持体の面内の最大屈折率方向が搬送方向と一致してお
り、光配向層に照射する紫外線の偏光方向は搬送方向と
直交し、かつ照射面法線から該直交方向を含む方向に２
０°傾斜した角度で照射した。

【０２１３】

【化１】

【０２１４】次いで以下の様に液晶化合物を塗布し配向
させ光学異方層（液晶層１或いは２）を形成した。

【０２１５】〈光学異方層（液晶層１）の塗設〉透明支
持体上に塗設された偏光照射処理済みの長尺フィルムの
配向膜上に、ＬＣ−１（５ｇ）を４５ｇのクロロホルム
に溶解させ１０質量％の溶液を印刷法により塗布した。
１１０℃の乾燥ゾーン内に搬送しながら乾燥し、配向の
ために１１０℃で累積時間が３分間となるように処理し
た後、２０℃のゾーンで累積時間が９０秒間となるよう
にフィルムを放冷して、ＬＣ−１を配向固定化した。こ
れを室温下で搬送してフィルムを巻き取った。ＬＣ−１
のガラス転移温度は９０℃である。液晶層の膜厚は１．
５μｍであった。

【０２１６】

【化２】

【０２１７】〈光学異方層（液晶層２）の塗設〉透明支
持体上に塗設された偏光照射処理済みの長尺フィルムの
配向膜上に、ＬＣ−２を１．６ｇ、フェノキシジエチレ
ングリコールアクリレート（Ｍ１０１；東亜合成（株）
製）０．４ｇ、及び光重合開始剤（イルガキュア９０
７；チバ・ガイギー社製）０．０１ｇを、３．６５ｇの
メチルエチルケトンに溶解して得られた塗布液を押し出
しコーティング機で塗布した。

【０２１８】乾燥と配向のために１２０℃の乾燥ゾーン
に累積時間が３分間となるように加熱し、液晶化合物を
配向させた。次に２０℃かつ窒素雰囲気のゾーンに搬送
し、高圧水銀灯を用いて照度５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外
線を照射し、架橋反応により配向を固定化した。搬送さ
れたフィルムを室温下で巻き取った。液晶層の膜厚は
１．２μｍであった。

【０２１９】

【化３】

【０２２０】以上のように、表２に示す光学異方体Ａ〜
Ｏを得た。

【０２２１】

【表２】

【０２２２】得られた光学異方体試料Ａ〜Ｏを用いて、
以下の測定を行った。《光学異方層の平均チルト角測定》自動複屈折率計ＫＯ
ＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用い
て、光学異方体および光学異方体に用いた透明支持体の
みのリターデーションの角度依存性（−４０°〜＋４０
°の範囲、測定は１０°毎）を測定した。光学異方体
は、光学異方層の最大屈折率を含む方向の測定を実施し
た。光学異方体全体のリターデーションの角度依存性に
対して、対応する透明支持体の各角度成分のリターデー
ションの差を求めた。測定角度に依存するリターデーシ
ョンの最大値を与える観測角度を光学異方層を構成する
液晶化合物の平均チルト角とし表３に示した。

【０２２３】本実施例では、試料の面に対する法線方向
（０°）から最大値を与える観測角度がずれており、光
学異方層の液晶分子が傾いていることを確認した。ま
た、リターデーション値の最小値は、０でないため、液
晶分子は厚さ方向に関して角度が変化していることを確
認した。

【０２２４】《光学異方層の配向膜側のチルト角測定》
実施例の透明支持体の代わりに１．５ｃｍ×２．５ｃｍ
の透明ガラス基板を用いて、ＰＡ−１のメチルエチルケ
トン溶液を用いて乾燥膜厚が５０ｎｍとなるように塗布
し前記と同様に偏光紫外線照射してそれぞれＬＣ−１
用、ＬＣ−２用に配向膜を塗設したガラス基板をそれぞ
れ２枚ずつ用意し、１枚の上にＬＣ−１またはＬＣ−２
の液晶化合物と５μｍの球形スペーサーを液晶化合物の
等方性温度雰囲気下で配向膜上に塗設した。互いに配向
方向が逆向きかつ平行となるようにもう一枚の配向済み
ガラス基板を液晶と接するように圧着し厚さが均一とな
るように調節して、周囲をシリコン樹脂で封止し硬化さ
せた。これにより液晶化合物を含むガラスセルを作製し
た。前記光学異方体の作製と同様に作製したガラスセル
を熱処理した。ＬＣ−１を含むガラスセルはそのまま室
温に放冷した。一方、ＬＣ−２を含むガラスセルは紫外
線硬化後、室温に放冷した。

【０２２５】前記同様にリターデーションの角度依存性
を測定したところ、平均チルト角は光学異方体より求め
た表３に示す平均チルト角よりも対応する試料は全て高
い値であり、５０°以上であることを確認した。これよ
り、光学異方体を構成する液晶化合物の厚さ方向のチル
ト角変化は、配向膜側に接するチルト角は高く、配向膜
とは逆（空気界面）側ではチルト角が小さいかもしくは
０°であることを確認した。この結果を基に図１に示す
ように４ａ、４ｂの液晶化合物のチルト角方向の概念を
推察した。

【０２２６】《視野角の評価》ＮＥＣ製ＬＡ−１５２９
ＨＭ型のＴＦＴ−ＴＮ液晶パネルの偏光板を剥がしたの
ち、図１の構成に準じ（偏光子そのものの代わりに偏光
板を用いた構成となる）、作製した光学異方体をそれぞ
れ駆動用液晶セルに角度を合わせて配置し、剥がした偏
光板を同じ角度で再配置した。各々の試料についてパソ
コンでモニターを駆動し、白色／黒色表示時のコントラ
スト比をＥＬＤＩＭ社のＥｚ−Ｃｏｎｔｒａｓｔを用い
て測定し、上下左右について、コントラストが１０以上
を示す液晶パネルの法線方向からの角度をそれぞれ測定
し視野角とした。

【０２２７】

【表３】

【０２２８】本発明の光学異方体は、本発明内の透明支
持体と光学異方層を含むことにより、液晶ディスプレイ
の視野角特性を従来にない程著しく改良できることは明
白である。

【０２２９】実施例２実施例１の光学異方体Ａにおいてプラズマ処理を行わな
いで、それ以外は同様にＡ′を作製した。光学特性は全
く同じであった。

【０２３０】実施例１のＫにおいて有機酸基含有ポリマ
ー層を設置しないで、それ以外は同様にＫ′を作製し
た。光学特性は全く同じであった。

【０２３１】これらの試料Ａ、Ａ′Ｋ、Ｋ′について、
以下の密着性試験を行った。ＪＩＳＫ５４００に準拠
した碁盤目試験を行い密着性について試験を行った。具
体的には塗布面上に１ｍｍ間隔で縦、横に１１本の切れ
目をいれ、１ｍｍ角の碁盤目を１００個つくった。この
上にセロハンテープを貼り付け、９０度の角度で素早く
剥がし、剥がれずに残った碁盤目の数をｍとした。

【０２３２】 ○ ０≦ｍ≦３０密着性が高く優れている。 △ ３１≦ｍ≦５０若干剥離するが実用上問題
がないレベル。

【０２３３】 × ５１≦ｍ≦１００剥離が目立ち実用上問題が
ある。試料Ｎｏ．ＡＡ′ ＫＫ′ 密着性 ○ △ ○ △ 以上の結果より、透明支持体上にプラズマ処理を施すこ
と、あるいは有機酸基含有ポリマー層を設置することに
より本発明の光学異方体の密着性が向上することは明ら
かである。

【０２３４】実施例１の他の試料においてもプラズマ処
理あるいは有機酸基含有ポリマー層の設置の効果を同様
に比較を行ったところ、密着性の向上が認められた。

【０２３５】実施例３支持体４の製造において、エチルフタリルエチルグリコ
レート５質量部およびトリフェニルフォスフェイト３質
量部を添加せずにそれ以外は支持体４と同様に製造方法
１に従い支持体４′を作製した。これに、表２のＨと同
様な層構成を有する光学異方体Ｈ′を作製した。光学異
方体ＨとＨ′を１ｍ×５０ｃｍのサイズに裁断し８０℃
９０％ＲＨ雰囲気下で５０時間劣化試験を行った。光学
異方体における透明支持体の面内の最大屈折率を与える
方向の寸法変化を上記劣化処理前後で比較を行った。

【０２３６】寸法変化（％）＝（劣化試験後の長さ／劣
化試験前の長さ−１）×１００以上の結果より、透明支持体への可塑剤添加は寸法変化
が軽減できる点でより好ましい。特に光学特性が重要な
液晶表示装置に光学異方体を用いる場合は、寸法変化に
よる光学特性の変化が小さいことが望ましいことは明ら
かである。

【０２３７】実施例１の他の試料でも同様に試料を作製
し評価したところ全ての試料において寸法変化が軽減で
きた。

【０２３８】実施例４以下の方法により偏光板保護フィルムを作製した。

【０２３９】〈樹脂フィルム１の作製〉セルローストリアセテート１００質量部エチルフタリルエチルグリコレート２質量部トリフェニルフォスフェート８．５質量部メチレンクロライド４３０質量部メタノール９０質量部超微粒子シリカ（アエロジル２００）（日本アエロジル（株）製）０．０１質量部上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で８０℃に保温
し撹伴しながら完全に溶解してドープ組成物を得た。次
にこのドープ組成物を濾過し、冷却して３５℃に保ちス
テンレスバンド上に均一に流延し、剥離が可能になるま
で溶媒を蒸発させたところで、ステンレスバンド上から
剥離した。剥離後の残留溶媒量５０質量％〜５質量％の
間の乾燥ゾーン内でテンターによって幅保持しながら乾
燥を進行させ、さらに、多数のロールで搬送させながら
残留溶媒量１質量％以下となるまで乾燥させ、膜厚８０
μｍのフィルムを得た。

【０２４０】《偏光板の作製》厚さ１２０μｍのポリビ
ニルアルコールフィルムを沃素１質量部、ホウ酸４質量
部を含む水溶液１００質量部に浸漬し、５０℃で４倍に
延伸して偏光子を作製した。この偏光子の両面に６０℃
で２モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液中に２分間浸漬
し水洗した後１００℃で１０分間乾燥した８０μｍの上
記偏光板保護フィルムを完全鹸化型ポリビニルアルコー
ル５％水溶液の粘着剤を用いて貼り合わせ偏光板を作製
した。

【０２４１】実施例１で作製した各々の光学異方体と上
記偏光板を、偏光板の透過軸に対して光学異方体の透明
支持体の面内最大屈折率を与える方向が平行になり、か
つ光学異方層が偏光板保護フィルム側になるようにアク
リル系接着剤を用いて貼合した。

【０２４２】一方、実施例１で作製した透明支持体の紫
外線吸収剤であるチヌビン３２６（チバ・スペシャルテ
ィ・ケミカルズ（株）製）、チヌビン１０９（チバ・ス
ペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、チヌビン１７１
（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）にかえ
て２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン
を２質量部添加して同様に光学異方体を作製し上記偏光
板と同様に貼合した。

【０２４３】また、紫外線吸収剤を添加しない以外同様
にして光学異方体を作製し上記偏光板と同様に貼合し
た。

【０２４４】これらの光学異方体を貼合した偏光板を、
光学異方体を配置した側からフィルム面の法線方向より
キセノンロングライフウェザーメーターで照度７万ルク
ス、４０℃で５００時間強制劣化を行った。これらの光
学異方体を貼合した偏光板を実施例１と同様の構成にな
る様に液晶ディスプレイに設置した。劣化試験前は全て
の試料で液晶ディスプレイの白表示、および黒表示であ
った。

【０２４５】光学異方体の透明支持体にチヌビン３２
６、チヌビン１０９、チヌビン１７１を含む試料、およ
び２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン
を含む試料は、劣化試験後でも白黒表示に変化は認めら
れなかった。また実施例１と同様な視野角特性を示し
た。しかしながら、光学異方体の透明支持体に紫外線吸
収剤を含まない試料は、劣化試験により白黒表示がやや
劣化し、特に黒表示時に光が若干漏れるためにコントラ
ストの低下が認められた。

【０２４６】このことより、光学異方体の透明支持体に
紫外線吸収剤を含むことは耐久性を向上する点でより好
ましいことが判明した。

【０２４７】実施例５実施例４で作製した偏光子に偏光板保護フィルムを貼合
した偏光板について、液晶セル側となる偏光板保護フィ
ルムを本発明実施例１で作製した光学異方体Ｄ、Ｌ、Ｍ
にかえて偏光板を作製した。すなわち光学異方体Ｄ、
Ｌ、Ｍをそれぞれ２モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液
に６０℃で２分間浸漬し水洗を行った後、１００℃で１
０分間乾燥し、次いで、光学異方体の異方層を有する側
が偏光子側になるようにアクリル系接着剤を用いて、偏
光子の透過軸が光学異方体の支持体の最大屈折率を与え
る方向と一致するようにして、貼合し、それぞれ偏光板
とした。

【０２４８】これらの光学異方体Ｄ、Ｌ、Ｍを用い作製
した偏光板を用い実施例１と同様にして、ＮＥＣ製ＬＡ
−１５２９ＨＭのＴＦＴ−ＴＮ液晶パネルの偏光板を剥
がした後、これに代えて上記光学異方体Ｄ、Ｌ、Ｍを用
い作製した偏光板を光学異方体と液晶セルのラビング方
向をあわせて組み込んだ。実施例１および実施例４と同
様に液晶ディスプレイの白色／黒色表示時のコントラス
ト比、上下左右の視野角について評価したところ本発明
の効果が確認された。

【０２４９】

【発明の効果】液晶ディスプレイに用いられる視野角特
性の高度な補償性能を備えた光学異方体およびそれらを
備えた液晶表示装置が提供できた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学異方体を配置した液晶表示装置の
一例を示す概念図。

【図２】連続大気圧プラズマ放電処理装置。

【符号の説明】

１、１′ 偏光子２、２′ 偏光子の透過軸３、３′ 光学異方層４、４′ 液晶化合物の配向方向４ａ、４ｂ液晶化合物のチルト方向の概念図５、５′ 透明支持体６、６′ 透明支持体の面内における最大屈折率方向７液晶セル８液晶セルの上部基板のラビング（チルト）方向８′ 液晶セルの下部基板のラビング（チルト）方向９、９′ 光学異方体１０透明樹脂基板１１前室１２反応室１３、１４電極１５電源１６アース１７ニップロール１８処理ガスの導入口１９処理ガスの排出口２０、２１、２２搬送ロールＬ電極間隔

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０８Ｋ 5/3475 Ｃ０８Ｋ 5/3475 5/43 5/43 5/521 5/521 Ｃ０８Ｌ 1/12 Ｃ０８Ｌ 1/12 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０ 1/13363 1/13363 // Ｂ２９Ｋ 1:00 Ｂ２９Ｋ 1:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 (72)発明者梅田博紀東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会社内 (72)発明者田坂公志東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会社内Ｆターム(参考） 2H049 BA06 BA27 BA42 BB13 BB33 BB43 BB49 BB63 BC03 BC04 BC05 BC09 BC22 2H091 FA11X FA11Z FA41Z FB02 FC07 GA13 HA07 HA10 4F071 AA09 AC07 AC10 AC13 AC15 AE04 AE05 AF31Y BB02 BC01 4F210 AA01 AG01 AH33 AH73 QA02 QC07 QD01 QG01 QG18 4J002 AB02 EE037 EH076 EH096 EH127 EH146 EU127 EU177 EV267 EW046 FD026 FD057

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明支持体の上に光配向層、および光配
向層に隣接しかつ液晶化合物の配向が固定化された光学
異方層を有する光学異方体において、該支持体の光学特
性が４１ｎｍ≦Ｒｏ≦９５ｎｍ、０．８≦（Ｒｔ／Ｒ
ｏ）≦１．４、かつｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚを満たすことを特
徴とする光学異方体。ここで、ＲｏおよびＲｔは透明支
持体のリターデーション値を示す。Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄＲｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ（ｎｘは透明支持体の面内での最大屈折率方向であるｘ
方向の屈折率、ｎｙはｘ方向に垂直な該支持体面内の方
向であるｙ方向の屈折率、ｎｚは厚み方向での該支持体
の屈折率であり、ｄは該支持体の厚み（ｎｍ）であ
る。）
【請求項２】透明支持体が溶媒を含む樹脂溶液をベル
トまたはドラム上で流延製膜し、溶媒が残存した状態で
ベルトまたはドラムから剥離され、その後乾燥しながら
フィルムを延伸する製造方法によって作製され、かつ該
透明支持体の流延方向の屈折率がｎｘに実質的に等しい
屈折率であり、流延方向に垂直な該支持体面内の方向の
屈折率が実質的にｎｙに等しい屈折率であることを特徴
とする請求項１記載の光学異方体。
【請求項３】透明支持体がセルロースエステル樹脂で
ある請求項１又は２記載の光学異方体。
【請求項４】前記セルロースエステル樹脂のアセチル
基の置換度が２．５０以上２．８６以下であることを特
徴とする請求項３記載の光学異方体。
【請求項５】前記セルロースエステル樹脂のアセチル
基の置換度が２．４０以上３．００以下のセルロースエ
ステルを少なくとも２種以上混合し、混合後の平均アセ
チル基置換度が２．５０以上２．８６以下であることを
特徴とする請求項３記載の光学異方体。
【請求項６】前記セルロースエステル樹脂のアセチル
基の置換度が２．６０以上３．００以下のセルロースエ
ステルを少なくとも１種とアセチル基の置換度が２．４
０以上２．６０未満のセルロースエステルを少なくとも
１種とを混合し、混合後の平均アセチル基置換度が２．
５０以上２．８６以下であることを特徴とする請求項３
記載の光学異方体。
【請求項７】前記セルロースエステル樹脂のアセチル
基置換度をＡ、プロピオニル基置換度をＢとしたとき下
記の条件式を満たすことを特徴とする請求項３記載の光
学異方体。（Ｉ）２．０≦（Ａ＋Ｂ）≦３．０（II）Ａ＜２．４
【請求項８】前記セルロースエステル樹脂のアセチル
基置換度をＡ、プロピオニル基置換度をＢとしたとき下
記の条件式を満たすことを特徴とする請求項３記載の光
学異方体。（III）２．４≦（Ａ＋Ｂ）≦２．８（IV）１．４≦Ａ≦２．０
【請求項９】前記透明支持体を構成する樹脂に対して
可塑剤が２以上１５質量％以下および紫外線吸収剤が
０．０１以上３質量％以下であることを特徴とする請求
項１〜８の何れか１項記載の光学異方体。
【請求項１０】前記紫外線吸収剤がベンゾトリアゾー
ル誘導体またはベンゾフェノン誘導体であることを特徴
とする請求項９記載の光学異方体。
【請求項１１】前記液晶化合物が正の複屈折性を示す
高分子液晶化合物であり、かつ該液晶化合物のガラス転
移温度以上の温度で処理し配向させた後、ガラス転移温
度以下に降温して液晶化合物由来の配向を固定化したこ
とを特徴とする請求項１〜１０の何れか１項記載の光学
異方体。
【請求項１２】前記液晶化合物が正の複屈折性を示す
重合性低分子液晶化合物であり、かつ液晶転移温度以上
の温度で処理することにより配向処理を行った後、活性
線の照射による硬化反応により液晶化合物由来の配向を
固定化したことを特徴とする請求項１〜１０の何れか１
項記載の光学異方体。
【請求項１３】前記活性線が紫外線であり、かつ紫外
線開始剤を併用して硬化反応を行うことを特徴とする請
求項１２記載の光学異方体。
【請求項１４】前記液晶化合物を有機溶媒に溶解した
溶液を調製し、これを塗布乾燥することで層を設置する
ことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項記載の
光学異方体。
【請求項１５】前記光学異方層が、前記透明支持体面
に対する光学異方層の平均傾斜角度が１５°以上５０°
以下であることを特徴とする請求項１〜１４の何れか１
項記載の光学異方体。
【請求項１６】光学異方層を構成する液晶化合物の傾
斜角度が厚さ方向に対して変化し、該傾斜角度が配向層
側から増加または減少することを特徴とする請求項１５
記載の光学異方体。
【請求項１７】前記光学異方層の最大屈折率方向を透
明支持体面に投影した方向が、前記透明支持体のｎｙ方
向と実質的に等しいことを特徴とする請求項１〜１６の
何れか１項記載の光学異方体。
【請求項１８】透明支持体と前記配向層との間に溶出
ブロック層を少なくとも１層有することを特徴とする請
求項１〜１７の何れか１項記載の光学異方体。
【請求項１９】透明支持体の溶出ブロック層塗設面が
プラズマ処理されるかあるいは有機酸基含有ポリマーが
塗設され、その上に３０質量％以上の水と少なくとも１
種の有機溶媒で構成される混合溶媒に溶解するノニオン
性ポリマーで構成される前記溶出ブロック層が塗設され
たことを特徴とする請求項１８記載の光学異方体。
【請求項２０】前記溶出ブロック層が活性線硬化樹脂
で構成され、該硬化樹脂を該活性線の照射により硬化さ
せた溶出ブロック層であることを特徴とする請求項１８
記載の光学異方体。
【請求項２１】前記光配向層に偏光紫外線を照射する
ことを特徴とする請求項１〜２０の何れか１項記載の光
学異方体。
【請求項２２】前記光配向層を構成する材料が偏光紫
外線照射により光二量化反応することを特徴とする請求
項２１記載の光学異方体。
【請求項２３】長尺状であって、該光学異方体の透明
支持体が溶液流延され乾燥しながら延伸される工程にお
いて巻き取られながら製造されること、該透明支持体に
塗設される層が搬送されながら塗布液を塗布、乾燥し製
造されることおよび光配向層が塗布乾燥後に搬送されな
がら紫外線照射して製造されることを特徴とする請求項
１〜２２の何れか１項記載の光学異方体。
【請求項２４】請求項１〜２３の何れか１項記載の光
学異方体を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２５】請求項２４記載の液晶表示装置が電極
を備えた一対の透明基板とネマティック液晶で構成され
る駆動用液晶セルで構成され、該基板の上下に配置され
た上側偏光子と下側偏光子を備えたツイステッドネマテ
ィック型液晶表示装置であって、該基板と上側もしくは
下側偏光子のどちらか一方の間、または該基板と上側お
よび下側偏光子のそれぞれの間に請求項１〜２３の何れ
か１項記載の光学異方体を少なくとも１枚備えたことを
特徴とする液晶表示装置。
【請求項２６】前記液晶セルに最も近い基板に前記光
学異方体の透明支持体面が接触する方向に液晶セルの上
側および下側に各々１枚ずつ光学異方体を配置し、かつ
光学異方体の透明支持体の最大屈折率方向が前記液晶セ
ルに最も近い基板のラビング方向と実質的に直交した方
向に配置することを特徴とする請求項２５記載の液晶表
示装置。