JP2002066586A - 深槽曝気槽の硝化担体循環方法 - Google Patents
深槽曝気槽の硝化担体循環方法Info
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Abstract
させ、硝化反応に有効に寄与させる深槽曝気槽の硝化担
体循環方法を提供する。 【解決手段】槽本体1の中央に垂直にバッフル板2を設
けるとともに、その片側の中段付近に散気装置3を配置
する。バッフル板2と槽壁との間の散気装置3の一部を
含む槽壁側から0.2m〜2mの位置に、垂直に仕切り
板4を設けることにより仕切り板4と槽壁の間に上昇流
を生じさせ、その上昇流に乗せて硝化担体を循環させる
ようにした。仕切り板4と槽壁との間を区画板により区
画すれば、更に効果が高まる。
Description
物を含む有機性排水を処理する深槽曝気槽に添加された
硝化担体の循環方法に関する。
曝気槽により生物処理する際に、硝化菌を担持させた硝
化担体を曝気槽内に添加して処理応力を高めることが知
られている。この硝化担体は1.02〜1.06程度の
比重を持つものであるが、曝気槽が通常の深槽曝気槽で
ある場合には、添加した硝化担体のかなりの部分が槽内
の旋回流に乗りきれないことがあり、乱流部或いは停滞
部に流れ込む。これらの硝化担体は槽底部に沈降して散
気装置下側の槽壁側隅に堆積し、硝化反応に有効に寄与
しない。
の構成を示すもので、深槽曝気槽の槽本体1の中央に被
処理水の流下方向に沿ってバッフル板2が垂直に設けら
れ、バッフル板2で仕切られた槽本体1の片側の中段付
近に複数の散気装置3が設けられている。このような従
来の深槽曝気槽においては、バッフル板2で仕切られた
散気装置3の設置側では曝気による上昇流が生じるが、
通常槽幅は10m程度と広いためバッフル板2の整流効
果が薄れ、部分的に乱流や下降流などが生じる。このた
め、槽内に添加された硝化担体は上昇流に乗って槽内を
循環するが、乱流部や下降流部などに入り込んだ一部の
硝化担体は沈降して、散気装置の下の底部や槽壁側隅に
堆積し、硝化反応に有効に寄与しないこととなる。
の問題点を解決して、深槽曝気槽に添加した硝化担体を
槽内に均一に循環させ、硝化反応に有効に寄与させるこ
とができる深槽曝気槽の硝化担体循環方法を提供するた
めになされたものである。
めになされた第1の発明は、槽中央に垂直に設置された
バッフル板の片側の中段付近に散気装置を配置するとと
もに、槽壁側から0.2m〜2mの散気装置の一部を含
む位置に垂直に仕切り板を設けることによりこの仕切り
板と槽壁の間に整流された上昇流を生じさせ、槽内に添
加された硝化担体をこの上昇流に乗せて循環させること
を特徴とするものである。また同一の課題を解決するた
めになされた第2の発明は、槽中央に垂直に設置された
バッフル板の片側の中段付近に散気装置を配置するとと
もに、槽壁側から0.2m〜2mの散気装置の一部を含
む位置に垂直に仕切り板を設け、更に仕切り板と槽壁と
の間に区画板を設けることにより各区画内に整流された
上昇流を生じさせ、槽内に添加された硝化担体をこの上
昇流に乗せて循環させることを特徴とするものである。
いずれの発明においても、仕切り板の上端を、散気装置
の0.5m上方からバッフル板上端までの位置とし、仕
切り板の下端を槽底面から0.5〜2mの位置とするこ
とが好ましい。
担体循環方法について、図1及び図2を参照しながら説
明する。図1及び図2において、1は深槽曝気槽の槽本
体であって、そのほぼ中央部には被処理水の流下方向に
沿って垂直にバッフル板2が設置されており、その片側
の中段付近には多数の散気装置3が設けられている。4
はバッフル板2と並行に散気装置設置側に設けられた仕
切り板であって、槽壁側から0.2m〜2mの散気装置
3の一部を含む位置に垂直に設けられている。この深槽
曝気槽内には、従来と同様に1.02〜1.06程度の
比重を持つ硝化担体が投入されている。
の片側の中段付近に設置された散気装置3からの散気に
伴って発生する上昇流により、槽内全体に矢印のように
循環流が発生し、硝化担体もこの循環流とともに槽内を
循環する。しかし仕切り板4のない従来の深槽曝気槽の
場合、硝化担体の一部がバッフル板2から離れた底部や
槽壁隅側に堆積する。これに対して、仕切り板4を設置
すると仕切り板4と槽壁との間にも散気装置3によって
整流された上昇流が発生するため、槽壁付近の硝化担体
はこの上昇流に乗って上昇し、槽内全体を循環するよう
になる。
び通気率により変化するものであって、仕切り板4と槽
壁との距離が長くなると整流効果が低下し、硝化担体の
循環率が低下する。図3は、通気率を下水硝化の場合の
標準的通気率とした場合の、仕切り板4と槽壁との距離
と硝化担体の循環率との関係を実験により求めた結果を
示したものである。仕切り板4と槽壁との距離が2mを
越えると担体の循環率が極端に低下することが判る。こ
の距離を0.2m未満とすると散気装置3の設置が難し
くなるから、仕切り板の設置位置は散気装置側の槽壁か
ら0.2〜2mにする。
し、通気率と硝化担体の循環率との関係を求めた結果を
示すものである。通気率を通常のBOD及びSS除去の
場合に必要とされる0.5〜1.0m3Air/m3・Hrとした
場合には硝化担体の循環率はやや低いものの、通気率を
硝化に必要とされる2.5〜3.5m3Air/m3・Hrとする
と、高い硝化担体循環率が得られる。
示すもので、槽本体1にバッフル板2、散気装置3、仕
切り板4が設けられていることは請求項1の発明と同様
であるが、仕切り板4と対向する槽壁との間に両端を仕
切り板4及び槽壁に接続した区画板5を設けている。こ
の区画板5はライザーパイプ6の設置区画毎に散気装置
3を1または複数に区画にするもので、図6では被処理
水の流入側ではライザーパイプ6の設置区画全体を1区
画とした例を示しており、被処理水の流出側では散気装
置3の1台ごとに区画した例を示している。この区画板
5は仕切り板4と対向する槽壁との間の整流効果をより
確実にするものである。
と槽壁との距離と硝化担体循環率との関係を図7に示
す。ただし通気率は図3と同一の条件とし、ライザーパ
イプ6の設置区画毎の区画を1区画とした。図3に示す
請求項1の発明と比較して、硝化担体循環率がさらに向
上していることが判る。
循環率との関係を実験により求めた結果を示すものであ
る。この場合、仕切り板4の位置は槽壁から1mとし、
仕切り板4の上端の位置はバッフル板の上端と同一とし
ている。仕切り板4の下端の位置が槽底から0.5m未
満の場合には入り口が絞られるために硝化担体循環率が
低下し、また、2mを越えると入り口付近で乱流が発生
するために循環率が低下する。従って、仕切り板の下端
の設置高さは、槽底から0.5〜2mにするのが望まし
い。
による乱流がおさまり上昇流として整流される、散気装
置上0.5mからバッフル板の上端と同等の高さにする
のがよい。仕切り板4の上端をこの位置とすれば、持ち
上げられた硝化担体は散気装置上に放出されても旋回流
に乗り、槽内を循環することになる。請求項2の発明に
ついても、区画板5は仕切り板4と一体化していること
から、その設置高さは請求項1の発明と同様である。
気槽において、通気率を3m3Air/m3・Hrとしとし、硝化
担体の添加量を容積比10%、散気水深を4.5m、バ
ッフル板設置位置を散気装置設置側槽壁から5m、バッ
フル板上端位置を水面から2m下方、バッフル板下端位
置を槽底から1.5m上方にそれぞれ定めた条件で、従
来法、請求項1の方法、請求項2の方法による実験を行
い、硝化担体循環率を求めた。
設けない従来の方法の場合、硝化担体の循環率は42.
5%であった。これに対し、散気装置設置側の槽壁から
1mの位置に仕切り板を設け、仕切り板上端位置を水面
から2m下方、仕切り板下端位置を槽底から0.5m上
方にした請求項1の発明によれば、硝化担体循環率は9
1.7%になった。さらに、仕切り板に加えライザーパ
イプ毎に区画板を設け、区画板の上端及び下端の位置を
仕切り板と同一とした請求項2の発明によれば、硝化担
体循環率は94.3%になった。
気槽の硝化担体循環方法によれば、硝化担体の循環率を
大幅に高めることができ、硝化担体の無駄をなくして硝
化速度を高めることができる。また、硝化担体が堆積す
ることがなく、硝化担体の堆積による槽低部付近の無酸
素化などの弊害を生じない。さらに、仕切り板若しくは
仕切り板と区画板を設置するだけで担体循環率の改善が
可能であり、別途循環装置を設置する必要がないため経
済的である等の優れた利点がある。
ある。
る。
離と硝化担体循環率との関係を示すグラフである。
率との関係を示すグラフである。
ある。
る。
離と硝化担体循環率との関係を示すグラフである。
を示すグラフである。
り板、5 区画板、6ライザーパイプ
Claims (3)
- 【請求項1】槽中央に垂直に設置されたバッフル板の片
側の中段付近に散気装置を配置するとともに、槽壁側か
ら0.2m〜2mの散気装置の一部を含む位置に垂直に
仕切り板を設けることによりこの仕切り板と槽壁の間に
整流された上昇流を生じさせ、槽内に添加された硝化担
体をこの上昇流に乗せて循環させることを特徴とする深
槽曝気槽の硝化担体循環方法。 - 【請求項2】槽中央に垂直に設置されたバッフル板の片
側の中段付近に散気装置を配置するとともに、槽壁側か
ら0.2m〜2mの散気装置の一部を含む位置に垂直に
仕切り板を設け、更に仕切り板と槽壁との間に区画板を
設けることにより各区画内に整流された上昇流を生じさ
せ、槽内に添加された硝化担体をこの上昇流に乗せて循
環させることを特徴とする深槽曝気槽の硝化担体循環方
法。 - 【請求項3】仕切り板の上端を、散気装置の0.5m上
方からバッフル板上端までの位置とし、仕切り板の下端
を槽底面から0.5〜2mの位置としたことを特徴とす
る請求項1または2に記載の深槽曝気槽の硝化担体循環
方法。
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JP2000260165A JP4257024B2 (ja) | 2000-08-30 | 2000-08-30 | 深槽曝気槽の硝化担体循環方法 |
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-
2000
- 2000-08-30 JP JP2000260165A patent/JP4257024B2/ja not_active Expired - Lifetime
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