JP6851608B2 - 排水処理装置 - Google Patents

Description

本明細書は、微生物を利用する排水処理に関する。

従来から、微生物を利用して排水処理が行われている。そのような排水処理を行う排水処理装置としては、例えば、沈殿分離槽と、沈殿分離槽の下流側に接続された接触曝気槽と、を備える装置が利用されている。ここで、沈殿分離槽と接触曝気槽とを仕切る隔壁に、液面の高さに移流口を設ける技術が提案されている。接触曝気槽の液面に浮遊する剥離汚泥は、開口を通って沈殿分離槽へ返送され得る。

実公平６−２８２３９号公報

ところが、水面の近傍に設けられた開口を通じて固形物が上流側に移動することを促進する点については、十分な工夫がなされていないのが実情であった。

本明細書は、水面の近傍に設けられた開口を通じて固形物が上流側に移動することを促進できる技術を開示する。

本明細書は、例えば、以下の態様または適用例を開示する。
［態様］
排水処理装置であって、
第１処理槽と、前記第１処理槽の下流側に設けられた第２処理槽と、を含む複数の処理槽と、
前記第１処理槽と前記第２処理槽との間を仕切る仕切壁と、
前記第２処理槽に設けられた散気装置と、
を備え、
前記仕切壁は、前記第１処理槽と前記第２処理槽とを連通する複数の開口であって、１以上の第１開口と１以上の第２開口とを含む複数の開口を有し、
前記１以上の第１開口のそれぞれは、予め決められた基準水位であって、前記排水処理装置への排水の流入が無い状態での安定した水位である前記基準水位よりも低い位置に配置された下端と、前記基準水位以上の高さの位置に配置された上端と、を有し、
前記１以上の第２開口は、
前記基準水位以下の高さの位置であって、前記１以上の第１開口のそれぞれの前記上端のいずれよりも低い位置に配置された上端を有する開口である低開口と、
前記１以上の第１開口のそれぞれの前記下端のいずれよりも低い位置から、前記基準水位よりも高い位置まで拡がっており、前記基準水位の高さにおける開口の幅が、前記基準水位の高さにおける前記１以上の第１開口のそれぞれの幅のいずれよりも小さい開口である狭開口と、
の少なくとも一方を含み、
前記基準水位と、前記１以上の第１開口のそれぞれの前記下端と、前記１以上の第２開口のそれぞれの下端とは、前記散気装置よりも高い位置に配置されている、
排水処理装置。

［適用例１］
排水処理装置であって、
第１処理槽と、前記第１処理槽の下流側に設けられた第２処理槽と、を含む複数の処理槽と、
前記第１処理槽と前記第２処理槽との間を仕切る仕切壁と、
前記第２処理槽に設けられた散気装置と、
を備え、
前記仕切壁は、前記第１処理槽と前記第２処理槽とを連通する複数の開口であって、１以上の第１開口と１以上の第２開口とを含む複数の開口を有し、
前記１以上の第１開口のそれぞれは、予め決められた基準水位よりも低い位置に配置された下端と、前記基準水位以上の高さの位置に配置された上端と、を有し、
前記１以上の第２開口は、
前記基準水位以下の高さの位置であって、前記１以上の第１開口のそれぞれの前記上端のいずれよりも低い位置に配置された上端を有する開口である低開口と、
前記１以上の第１開口のそれぞれの前記下端のいずれよりも低い位置から、前記基準水位よりも高い位置まで拡がっており、前記基準水位の高さにおける開口の幅が、前記基準水位の高さにおける前記１以上の第１開口のそれぞれの幅のいずれよりも小さい開口である狭開口と、
の少なくとも一方を含む、
排水処理装置。

この構成によれば、第２処理槽では、散気装置による散気によって、上向きの水流が生じる。上向きに流れる水は、水面に到達すると、水面に沿って水平な方向に移動する。第１開口の下端は、基準水位よりも低い位置に配置され、第１開口の上端は、基準水位以上の高さの位置に配置されているので、水面に沿って流れる水は、第１開口を通じて、第１処理槽へ流入し得る。また、１以上の第２開口は、「基準水位以下の高さの位置であって、１以上の第１開口のそれぞれの上端のいずれよりも低い位置に配置された上端を有する開口である低開口」と、「１以上の第１開口のそれぞれの下端のいずれよりも低い位置から、基準水位よりも高い位置まで拡がっており、基準水位の高さにおける開口の幅が、基準水位の高さにおける１以上の第１開口のそれぞれの幅のいずれよりも小さい開口である狭開口」と、の少なくとも一方を含んでいる。従って、水面に沿って流れる水は、第１開口と比べて、第２開口からは、第１処理槽へ移動しにくい。これにより、水が、第２処理槽から第１開口を通じて第１処理槽へ流れ、そして、第１処理槽から第２開口を通じて第２処理槽へ流れる、という循環が生じ得る。このような水の流れによって、第２処理槽内の固形物は、第２処理槽から第１開口を通じて、第１処理槽へ移動し得る。第１処理槽では、散気されている第２処理槽と比べて水の流れが緩やかであるので、第１処理槽へ移動した固形物は、第２処理槽へ戻らずに、第１処理槽の底部に沈殿し得る。このように、第１開口を通じて固形物が第２処理槽から第１処理槽へ移動することを促進できる。そして、第２処理槽内の固形物の量が多くなることを抑制できる。

［適用例２］
適用例１に記載の排水処理装置であって、
前記１以上の第１開口は、前記基準水位よりも高い位置に配置された上端を有する１以上の開口を含み、
前記１以上の第２開口は、前記基準水位よりも低い位置に配置された上端を有する１以上の開口を含む、
排水処理装置。

この構成によれば、第１開口を通じた固形物の移動をさらに促進できる。また、第２処理槽内の固形物の量が多くなることを適切に抑制できる。

［適用例３］
適用例１または２に記載の排水処理装置であって、
前記１以上の第１開口のうちの１以上の特定の第１開口のそれぞれの形状と、前記１以上の第２開口のうちの１以上の特定の第２開口のそれぞれの形状とは、同じ内径の円形状であり、
前記１以上の特定の第２開口のそれぞれの中心は、前記１以上の特定の第１開口のそれぞれの中心のいずれよりも低い位置に配置されている、
排水処理装置。

この構成によれば、第１開口を通じた固形物の移動を促進可能な第１開口と第２開口とを、容易に形成できる。

［適用例４］
適用例１から３のいずれかに記載の排水処理装置であって、
前記複数の開口は、前記基準水位よりも低い位置に配置された下端と、前記基準水位以上の高さの位置に配置された上端と、を有する開口である１以上の水位開口を含み、
前記１以上の第１開口は、前記１以上の水位開口のうち、前記基準水位の高さにおける開口の幅が最も広い１以上の開口である、
排水処理装置。

この構成によれば、第１開口と第２開口とを用いて、適切に、固形物を移送できる。

［適用例５］
適用例１から４のいずれかに記載の排水処理装置であって、
前記第１処理槽内の前記１以上の第１開口のそれぞれの下端と前記１以上の第２開口のそれぞれの下端とのうちの最も低い下端よりも低い位置に配置された部分を含む吸込口を有するとともに、前記第１処理槽内の水を、前記複数の処理槽のうちの前記第１処理槽と前記第２処理槽とは異なる別の処理槽へ移送する第１移送ポンプを備える、
排水処理装置。

この構成によれば、第１処理槽内の固形物は、第１移送ポンプによって、別の処理槽へ移送され得るので、第２処理槽から第１開口を通じて第１処理槽へ固形物が移動する場合であっても、第１処理槽内の固形物の量が多くなることを抑制できる。

［適用例６］
適用例１から５のいずれかに記載の排水処理装置であって、
前記第１処理槽は、
前記第１処理槽内の前記１以上の第１開口のそれぞれの下端と前記１以上の第２開口のそれぞれの下端とのうちの最も低い下端よりも低い位置に配置された部分を含む第３開口を形成するとともに、前記第３開口と、前記第１開口および前記第２開口と、を連通するバッフルと、
前記第１処理槽へ流入する水を前記第１処理槽へ導く導入部であって、前記導入部の下端が前記第３開口の上端よりも高い位置に配置された、前記導入部と、
を備える、
排水処理装置。

この構成によれば、第１処理槽では、水は、導入部から、第３開口へ、下向きに流れ、そして、バッフル内を、第３開口から、第１開口および第２開口へ、上向きに流れる。従って、第１処理槽は、第１処理槽で生じた汚泥を、第１処理槽の底部で貯留できる。そして、第１処理槽は、第２処理槽から第１開口を通じて第１処理槽へ移動した固形物も、第１処理槽の底部に貯留できる。

［適用例７］
適用例１から６のいずれかに記載の排水処理装置であって、
前記複数の処理槽は、前記第２処理槽の下流側の処理槽である第３処理槽を含み、
前記排水処理装置は、
前記第２処理槽と前記第３処理槽とを連通する連通部であって、前記１以上の第１開口のそれぞれの下端と前記１以上の第２開口のそれぞれの下端とのうちの最も低い下端よりも低い流路を形成する部分を含む、前記連通部と、
前記第３処理槽内の水を、前記複数の処理槽のうちの前記第１処理槽と前記第２処理槽と前記第３処理槽とは異なる別の処理槽へ移送する第２移送ポンプと、
を備える、排水処理装置。

この構成によれば、第２処理槽内の第１開口と第２開口とよりも低い位置に移動した固形物が、第３処理槽へ移動し得る。そして、第３処理槽内の固形物は、第２移送ポンプによって、別の処理槽へ移送され得る。このように、第２処理槽内の固形物は、第３処理槽と第２移送ポンプとを通じて別の処理槽へ移送されるので、第２処理槽内の固形物の量が多くなることを抑制できる。

なお、本明細書に開示の技術は、種々の態様で実現することが可能であり、例えば、排水処理装置、その排水処理装置とブロワとを有する排水処理システム、等の形態で実現することができる。

排水処理システム９００の概略構成を示す説明図である。 横を向いて見た排水処理装置８００の概略図である。 下方を向いて見た排水処理装置８００の概略図と、ガスの流路の概略図である。 図３（Ａ）中のＶ−Ｖ断面から接触濾床槽８３０側を向いて見た排水処理装置８００の概略図である。 汚泥移送のメカニズムを説明図である。 試験槽１０００の概略図である。 試験結果を示すグラフである。 開口２００、３００の変形例を示す概略図である。 開口の変形例を示す概略図である。

Ａ．第１実施例：
Ａ１．排水処理装置８００の構成：
図１は、排水処理システム９００の概略構成を示す説明図である。排水処理システム９００は、排水処理装置８００と、排水処理装置８００に接続されたブロワ５００と、を有している。本実施例の排水処理装置８００は、一般家庭等からの排水（原水とも呼ばれる）の浄化処理を行う（このような装置は「浄化槽」とも呼ばれる）。排水処理装置８００は、複数のステップを経て浄化処理を行うために、上流側（図１の左側）から順番に、沈殿分離槽８１０、嫌気濾床槽８２０、接触濾床槽８３０、処理水槽８４０、消毒槽８５０を、有している。流入口８０２を通じて排水処理装置８００に流入した排水は、沈殿分離槽８１０、嫌気濾床槽８２０、接触濾床槽８３０、処理水槽８４０、消毒槽８５０で順次処理された後に、放流口８０４を通じて排水処理装置８００の外部に放流される。以下、各水処理槽を流れる水を「被処理水」あるいは、単に「水」と呼ぶ。ブロワ５００は、酸素を含むガス（ここでは、空気）を、排水処理装置８００に供給する。排水処理装置８００は、ブロワ５００からのガスを利用して、浄化処理を進行する。

図２は、横を向いて見た排水処理装置８００の概略図である。図３（Ａ）は、下方を向いて見た排水処理装置８００の概略図である。これらの図中において、基準水位ＷＬは、排水処理装置８００に予め対応付けられた、正常な動作の基準となる水位である（以下、基準水位ＷＬの水面を、水面ＷＬとも呼ぶ）。基準水位ＷＬは、排水処理装置の機種毎に、予め決められる。このような基準水位ＷＬは、例えば、排水処理装置８００が正常に動作し、排水処理装置８００への排水の流入が無い状態での安定した水位を示している。実際の水位は、排水処理装置８００へ排水が流入した時に、基準水位ＷＬから一時的に上昇し得る。排水処理装置８００への排水の流入が停止すると、実際の水位は、基準水位ＷＬまで低下する。また、Ｚ方向は、鉛直方向の下方から上方へ向かう方向を示し、Ｘ方向は、排水処理装置８００の長手方向（水平な方向）を示し、Ｙ方向は、Ｘ方向とＺ方向とのそれぞれと直交する方向（水平な方向）を示している。以下、Ｘ方向側を「＋Ｘ側」とも呼び、Ｘ方向の反対方向側を「−Ｘ側」とも呼ぶ。Ｙ方向、Ｚ方向についても、同様である。図２は、排水処理装置８００の長手方向に垂直なＹ方向を向いて見た概略図である。

沈殿分離槽８１０（図１）は、排水中の固形物を分離する水処理槽である。沈殿分離槽８１０には、流入バッフル８１２（図２、図３（Ａ））が設けられている。沈殿分離槽８１０の＋Ｘ側には、沈殿分離槽８１０と嫌気濾床槽８２０とを仕切る仕切壁８１９が設けられている。本実施例では、仕切壁８１９は、排水処理装置８００の外壁８０１（槽本体８０１とも呼ぶ）に接続されており、槽本体８０１によって形成される内部空間（特に、基準水位ＷＬ以下の部分）を、Ｘ方向に対して垂直に、２つに仕切っている。この仕切壁８１９には、沈殿分離槽８１０と嫌気濾床槽８２０とを連通する移流開口８１４が、形成されている。移流開口８１４は、基準水位ＷＬよりも低く、かつ、移流開口８１４と沈殿分離槽８１０の底との最短距離よりも移流開口８１４と基準水位ＷＬとの最短距離の方が近くなるに近い位置に、形成されている。

本実施例では、流入バッフル８１２は、底が塞がれ、側面に開口８１１を有する箱状の処理部である。流入口８０２からの排水（汚水とも呼ばれる）は、流入バッフル８１２に流入する。流入バッフル８１２に流入した水は、開口８１１を通じて沈殿分離槽８１０の内部に移動し、移流開口８１４を通じて、嫌気濾床槽８２０へ移流する。水が、流入バッフル８１２の開口８１１から移流開口８１４へ移動する間に、水に含まれる固形物は、沈殿分離槽８１０の底部に沈降して、分離される。沈降した固形物は、沈殿分離槽８１０の底部に堆積して、貯留される（堆積汚泥とも呼ばれる）。また、流入バッフル８１２の開口８１１が、流入バッフル８１２の底ではなく側面に形成されているので、水は、開口８１１から、下方向ではなく水平に近い方向に流出する。これにより、沈殿分離槽８１０の底部に沈殿した固形物が、開口８１１からの水流によって意図せずに巻き上がることを抑制できる。ただし、流入バッフル８１２の開口８１１は、流入バッフル８１２の底に設けられていてもよい。

嫌気濾床槽８２０（図１）は、嫌気性微生物による嫌気処理を行う水処理槽である。図２、図３（Ａ）に示すように、嫌気濾床槽８２０には、濾材８２６と、移流バッフル８２３と、が設けられている。濾材８２６には、嫌気性微生物が付着し得る。濾材８２６に付着した嫌気性微生物によって、嫌気処理が進行する。濾材８２６は、嫌気濾床槽８２０の底よりも高く、移流開口８１４よりも低い位置に、配置されている。濾材８２６としては、網状の部分を含む部材や、板状の部分を含む部材など、微生物を保持可能な種々の部材を採用可能である。

嫌気濾床槽８２０の＋Ｘ側には、嫌気濾床槽８２０と接触濾床槽８３０とを仕切る仕切壁８２９が設けられている。本実施例では、仕切壁８２９は、槽本体８０１に接続されており、槽本体８０１の内部空間（特に、基準水位ＷＬ以下の部分）を、Ｘ方向に対して垂直に、２つに仕切っている。

移流バッフル８２３は、仕切壁８２９の嫌気濾床槽８２０側の面（ここでは、−Ｘ側の面）に固定されている。図３（Ａ）に示すように、移流バッフル８２３の水平な（すなわち、Ｚ方向に垂直な）断面形状は、−Ｘ側に凸な略Ｕ字状である。図２に示すように、移流バッフル８２３は、基準水位ＷＬよりも低い位置（具体的には、濾材８２６の下端８２６ｂ以下の高さ、かつ、嫌気濾床槽８２０の底より高い位置）から、基準水位ＷＬよりも高い位置まで、Ｚ方向に延びるアーチ状の部材である。移流バッフル８２３の−Ｚ側の端部は、下開口８２４を形成し、移流バッフル８２３の＋Ｚ側の端部は、基準水位ＷＬよりも＋Ｚ側に設けられている。嫌気濾床槽８２０は、移流バッフル８２３の外の部分である第１部分８２１と、移流バッフル８２３の内の部分である第２部分８２２と、に区分される。濾材８２６は、第１部分８２１に設けられている。

仕切壁８２９には、嫌気濾床槽８２０と接触濾床槽８３０とを連通する開口２００、３００が、形成されている。本実施例では、開口２００、３００は、仕切壁８２９のうちの移流バッフル８２３に覆われた部分に形成されており、嫌気濾床槽８２０の第２部分８２２と接触濾床槽８３０とを連通する。

図２に示すように、移流開口８１４から嫌気濾床槽８２０に流入した水は、濾材８２６を有する第１部分８２１を下方に向かって流れ、そして、移流バッフル８２３の下開口８２４から第２部分８２２に移動し、第２部分８２２を上方に向かって流れ、開口２００、３００を通じて、接触濾床槽８３０に移流する。

嫌気濾床槽８２０では、濾材８２６に付着した嫌気性微生物による嫌気処理によって、被処理水中の有機物が分解される。また、後述するように、嫌気濾床槽８２０には、接触濾床槽８３０で好気処理された水（硝酸イオンを含む水（硝化液とも呼ばれる））が、循環エアリフトポンプ９２０と沈殿分離槽８１０とを通じて、流入する。嫌気濾床槽８２０では、嫌気性微生物に含まれる脱窒菌の働きにより、硝酸イオンが還元されて窒素ガスが生成され、生成された窒素ガスが空気中に放出される（いわゆる脱窒）。また、濾材８２６は、被処理水中の浮遊物を捕捉し得る。

図２、図３（Ａ）に示すように、移流バッフル８２３内には、汚泥移送エアリフトポンプ９１０が設けられている。図２に示すように、汚泥移送エアリフトポンプ９１０の吸込口９１１は、移流バッフル８２３の下開口８２４よりも低く嫌気濾床槽８２０の底よりも高い位置、すなわち、嫌気濾床槽８２０の底部（本実施例では、濾材８２６の下端８２６ｂよりも低い位置）に配置されている。汚泥移送エアリフトポンプ９１０の流出口９１２は、沈殿分離槽８１０の上方（本実施例では、流入バッフル８１２の上方）に配置されている。汚泥移送エアリフトポンプ９１０には、ブロワ５００からのガスが供給される。汚泥移送エアリフトポンプ９１０は、ブロワ５００からのガスを利用して、嫌気濾床槽８２０の底部に堆積した固形物（例えば、汚泥）を、沈殿分離槽８１０へ移送可能である。

接触濾床槽８３０（図１）は、好気性微生物による好気処理を行う水処理槽である。図２、図３（Ａ）に示すように、接触濾床槽８３０には、接触材８３６と、散気装置８３８ａ、８３８ｂと、が設けられている。

接触材８３６は、接触濾床槽８３０の底よりも高く、開口２００、３００よりも低い位置に、配置されている。散気装置８３８ａ、８３８ｂは、接触材８３２の下方に配置されている。図３（Ａ）に示すように、第１散気装置８３８ａは、接触濾床槽８３０の＋Ｙ側に配置され、第２散気装置８３８ｂは、接触濾床槽８３０の−Ｙ側に配置されている。これらの散気装置８３８ａ、８３８ｂは、それぞれ、下面に形成された複数の貫通孔を有するパイプで形成されている。散気装置８３８ａ、８３８ｂには、ブロワ５００からの酸素を含むガスが供給される。酸素を含むガスは、散気装置８３８ａ、８３８ｂの複数の貫通孔から水中に吐出される。吐出されたガスによる多数の気泡は、接触材８３６の内部を通過して、水面ＷＬに到達する。気泡の移動によって水流が生じ、接触濾床槽８３０内の水が撹拌される。また、接触材８３６には、好気性微生物が保持される。好気性微生物は、気泡に含まれる酸素を利用して、好気処理を行う。例えば、好気性微生物は、被処理水中の有機物を分解する。また、好気性微生物に含まれる硝化菌の働きにより、被処理水に含まれるアンモニウムイオンが酸化されて、亜硝酸イオン、そして、硝酸イオンが生成される（硝化）。硝酸イオンを含む水（硝化液）は、後述する循環エアリフトポンプ９２０によって、沈殿分離槽８１０に移送される。なお、接触材８３６としては、網状の部分を含む部材や、板状の部分を含む部材など、微生物を保持可能な種々の部材を採用可能である。

接触濾床槽８３０の＋Ｘ側には、接触濾床槽８３０と処理水槽８４０とを仕切る仕切壁８３９が設けられている。本実施例では、仕切壁８３９は、槽本体８０１に接続されており、槽本体８０１の内部空間（特に、基準水位ＷＬ以下の部分）を、Ｘ方向に対して垂直に、２つに仕切っている。図２に示すように、仕切壁８３９の下端の少なくとも一部は、槽本体８０１の底から＋Ｚ側に離れた位置に配置され、移流開口８３４を形成している。移流開口８３４は、接触濾床槽８３０と処理水槽８４０とを連通している。

開口２００、３００から接触濾床槽８３０に流入した水は、接触濾床槽８３０で好気処理された後、移流開口８３４を通じて処理水槽８４０に移流する。

処理水槽８４０（図１）は、接触濾床槽８３０から移流した水を一時的に滞留して、水中の固形物（例えば、汚泥や浮遊物質等）を沈降・分離する水処理槽である。図２に示すように、処理水槽８４０の上部には、消毒槽８５０が配置されている。消毒槽８５０の流入口８５２は、基準水位ＷＬの高さに配置されている。移流開口８３４から処理水槽８４０に流入した水は、処理水槽８４０内を＋Ｚ方向に向かって移動し、流入口８５２に至る。水に含まれる固形物は、処理水槽８４０の底部に沈降して、分離される。処理水槽８４０の水面ＷＬ近傍の水（固形物が分離された水）は、流入口８５２から消毒槽８５０に流入する。

処理水槽８４０には、循環エアリフトポンプ９２０が設けられている。図２に示すように、循環エアリフトポンプ９２０の吸込口９２１は、処理水槽８４０の底部（本実施例では、散気装置８３８ａ、８３８ｂの複数の貫通孔よりも低い位置）に配置されている。循環エアリフトポンプ９２０の流出口９２２は、沈殿分離槽８１０の上方（本実施例では、流入バッフル８１２の上方）に配置されている。循環エアリフトポンプ９２０には、ブロワ５００からのガスが供給される。循環エアリフトポンプ９２０は、ブロワ５００からのガスを利用して、処理水槽８４０の底部に堆積した固形物（例えば、汚泥）を、沈殿分離槽８１０へ移送可能である。

消毒槽８５０（図２、図３（Ａ））は、消毒剤（例えば、固形塩素剤）が充填された薬剤筒８５６を有している。流入口８５２から消毒槽８５０に流入した水は、消毒剤と接触して消毒される。消毒された水は、放流口８０４を通じて、排水処理装置８００の外部へ放流される。

排水が流入口８０２を通じて排水処理装置８００へ流入すると、流入した水量と同じ量の水が、沈殿分離槽８１０から移流開口８１４を通じて嫌気濾床槽８２０へ移流する。さらに、同量の水が、嫌気濾床槽８２０から開口２００、３００を通じて接触濾床槽８３０へ移流し、接触濾床槽８３０から移流開口８３４を通じて処理水槽８４０へ移流し、処理水槽８４０から流入口８５２を通じて消毒槽８５０へ移流し、消毒槽８５０から放流口８０４を通じて排水処理装置８００の外に流出する。このように、本実施例では、いわゆる流量調整機能（ピークカット機能とも呼ばれる）は、省略されている。流量調整機能は、単位時間当たりの流入水量の変動に応じて、排水処理装置内の少なくとも一部の処理槽で水位を積極的に変動させることによって、流入水量の変動が水質に与える影響を緩和する機能である。

図３（Ｂ）は、ガスの流路の概略図である。排水処理装置８００の槽本体８０１には、送気口８０７が固定されている。槽本体８０１の外部では、送気口８０７に、パイプを介して、ブロワ５００が接続されている。槽本体８０１の内部では、送気口８０７に、送気管１００が接続され、送気管１００は、３つの管１１０〜１３０に分岐している。

第１管１１０は、三方バルブ８３８ｖ（分配バルブ８３８ｖとも呼ぶ）を介して２つの管１１１、１１２に分岐している。２つの管１１１、１１２は、２つの散気装置８３８ａ、８３８ｂに、それぞれ接続されている。第２管１２０は、調整バルブ９１０ｖ（移送バルブ９１０ｖとも呼ぶ）を介して、汚泥移送エアリフトポンプ９１０に接続されている。第３管１３０は、調整バルブ９２０ｖ（循環バルブ９２０ｖとも呼ぶ）を介して、循環エアリフトポンプ９２０に接続されている。

移送バルブ９１０ｖは、汚泥移送エアリフトポンプ９１０による単位時間当たりの移送量（汚泥移送水量とも呼ぶ）を、調整可能である。本実施例では、汚泥移送水量の適切な範囲は、予め決められている。ユーザ（例えば、排水処理装置８００の管理者）は、汚泥移送エアリフトポンプ９１０（図２）の流出口９１２から沈殿分離槽８１０へ移送される水の実際の単位時間当たりの量が、適切な範囲内となるように、移送バルブ９１０ｖを調整することが好ましい。

循環バルブ９２０ｖは、循環エアリフトポンプ９２０による単位時間当たりの移送量（循環水量とも呼ぶ）を、調整可能である。本実施例では、循環水量の適切な範囲は、予め決められている。例えば、循環水量の適切な範囲は、その循環水量が一日継続された場合の１日分の循環水量の合計が、日平均汚水量の２倍以上、４倍以下の範囲内となるような量である。ユーザは、循環エアリフトポンプ９２０（図２）の流出口９２２から沈殿分離槽８１０へ移送される水の実際の単位時間当たりの量が、適切な範囲内となるように、循環バルブ９２０ｖを調整することが好ましい。

分配バルブ８３８ｖは、２つの散気装置８３８ａ、８３８ｂの間の散気の偏りを緩和可能である。排水処理装置８００が傾いて設置された場合、散気装置８３８ａ、８３８ｂのうちの一方から、他方よりも強く散気が行われ得る。ユーザは、散気装置８３８ａ、８３８ｂによる散気がおおよそ均等になるように、分配バルブ８３８ｖを調整することが好ましい。

ブロワ５００からのガスは、バルブ９１０ｖ、９２０ｖ、８３８ｖに応じて、３つの管１１０、１２０、１３０に分配される。なお、本実施例では、ブロワ５００は、連続的にガスを排水処理装置８００に供給する。従って、ブロワ５００から、タイマや電磁弁などのブロワ５００の動作を制御する装置を省略できる。

Ａ２．開口２００、３００の構成：
図４は、図３（Ａ）中のＶ−Ｖ断面から接触濾床槽８３０側（ここでは、＋Ｘ側）を向いて見た排水処理装置８００の概略図である。図中には、仕切壁８２９に形成された第１開口２００と第２開口３００とが示されている。図中の下部には、仕切壁８２９のうちの第１開口２００と第２開口３００とを含む部分の拡大図が示されている。

本実施例の排水処理装置８００では、第１開口２００と第２開口３００とは、それぞれ、円形状の開口である。第１開口２００の中心２００ｃは、水面ＷＬと同じ高さに配置され、第１開口２００の上端２００ｕは、水面ＷＬよりも高い位置に配置され、第１開口２００の下端２００ｄは、水面ＷＬよりも低い位置に配置されている。なお、第１開口２００の上端２００ｕは、第１開口２００の縁のうちの最も高い部分である。第１開口２００の下端２００ｄは、第１開口２００の縁のうち最も低い部分である。他の開口の上端と下端も、同様に特定される。第２開口３００の中心３００ｃは、水面ＷＬよりも低い位置に配置され、第２開口３００の上端３００ｕは、水面ＷＬ以下の高さの位置に配置され、第２開口３００の下端３００ｄは、水面ＷＬよりも低い位置に配置されている。本実施例では、第２開口３００の下端３００ｄは、第１開口２００の下端２００ｄよりも低い位置に配置されている。

図中の内径Ｄ２０は、第１開口２００の内径であり、内径Ｄ３０は、第２開口３００の内径である。本実施例では、Ｄ２０＝Ｄ３０である。第１距離Ｄ１は、第１開口２００の中心２００ｃから、第２開口３００の中心３００ｃまでの、鉛直下方向（−Ｚ方向）の距離である。第２距離Ｄ２は、水面ＷＬから第２開口３００の上端３００ｕまでの、鉛直下方向（−Ｚ方向）の距離である。

図示するように、本実施例では、第２開口３００は、第１開口２００よりも低い位置に配置されている。具体的には、第１開口２００は、基準水位ＷＬよりも低い位置から基準水位ＷＬよりも高い位置まで拡がっている。すなわち、第１開口２００は、水面ＷＬと重なっている。第２開口３００は、第２開口３００の全体が基準水位ＷＬ以下の高さとなるように、配置されている。このように、第１開口２００と第２開口３００との間で高さが異なる理由は、接触濾床槽８３０から嫌気濾床槽８２０への固形物（例えば、汚泥）の移送を促進するためである。

図５は、汚泥移送のメカニズムを説明図である。図中には、簡略化された嫌気濾床槽８２０と接触濾床槽８３０とが示されている。図中では、図を見やすくするために、第２開口３００の全体が、第１開口２００の下端２００ｄよりも低い位置に示され、また、濾材８２６と接触材８３６との図示が省略されている。図中の実線の矢印は、水の流れを示し、点線の矢印は、固形物ＳＳの流れを示している。

接触濾床槽８３０では、散気装置８３８ａ、８３８ｂから吐出される気泡Ｇ２によって、上向流ＵＦが生じる。上向きに流れる水は、水面ＷＬに到達する。水面ＷＬに到達した水は、水面ＷＬに沿って水平な方向に移動する（矢印ＨＦ）。接触濾床槽８３０のうち、散気の弱い部分（例えば、下方向（−Ｚ方向）を向いて見る場合に、散気装置８３８ａ、８３８ｂと重ならない部分）では、下向流ＤＦが生じる。水面ＷＬに沿って移動する水の一部は、第１開口２００に到達する。第１開口２００は、水面ＷＬよりも低い位置から水面ＷＬよりも高い位置まで拡がっているので、第１開口２００に到達した水は、第１開口２００を通じて嫌気濾床槽８２０へ移動し得る。このような接触濾床槽８３０から上流側の嫌気濾床槽８２０への水の移動は、排水が排水処理装置８００へ流入していない時に、生じ易い。接触濾床槽８３０内の固形物ＳＳは、このような水の流れによって、第１開口２００を通じて嫌気濾床槽８２０（本実施例では、第１開口２００に連通する第２部分８２２）へ移動し得る。

本実施例では、第２開口３００は、水面ＷＬ以下の位置に配置されている。従って、水面ＷＬに沿って流れる水は、第１開口２００と比べて、第２開口３００を通りにくい。すなわち、水面ＷＬに沿って流れる水は、第１開口２００から嫌気濾床槽８２０へ移流しやすく、第２開口３００から嫌気濾床槽８２０へは移流しにくい。これにより、第１開口２００から嫌気濾床槽８２０へ移動した水は、第２開口３００を通じて接触濾床槽８３０へ戻り得る。高さが異なる第１開口２００と第２開口３００を用いることによって、第１開口２００と第２開口３００を上記のように流れる水の循環を、定常的に生じさせることができる。

嫌気濾床槽８２０では散気が行われていないので、嫌気濾床槽８２０での水の流れは、接触濾床槽８３０での水の流れと比べて、緩やかである。特に、開口２００、３００に連通する第２部分８２２において、散気が行われていないので、開口２００、３００の嫌気濾床槽８２０側での水の流れが緩やかである。従って、第１開口２００から嫌気濾床槽８２０へ移動した固形物ＳＳは、第１開口２００から嫌気濾床槽８２０へ移動した水が第２開口３００へ移動する間に沈降し、第２開口３００から接触濾床槽８３０へ戻らずに、嫌気濾床槽８２０の底部に沈殿し得る。このように、第１開口２００を通じて、接触濾床槽８３０から嫌気濾床槽８２０へ固形物ＳＳを移送できる。上述したように、嫌気濾床槽８２０の底部に堆積した固形物は、汚泥移送エアリフトポンプ９１０（図２）によって、沈殿分離槽８１０へ移送される。汚泥移送エアリフトポンプ９１０は、嫌気濾床槽８２０で生じた汚泥に加えて、接触濾床槽８３０で生じた汚泥も、沈殿分離槽８１０へ移送できる。

また、図３に示すように、鉛直下方向を向いて見る場合に、第１開口２００と第２開口３００とは、互いに離れている。従って、第１開口２００から第２開口３００へ水が移動する際に、水に含まれる固形物は、第２開口３００へ到達せずに沈降し得る。ここで、固形物の沈降を促進するためには、第１開口２００と第２開口３００との水平方向の距離が遠いことが好ましい。

Ａ３．評価試験：
次に、試験槽を用いた試験とその結果とについて説明する。図６は、試験槽１０００の概略図である。試験槽１０００は、嫌気濾床槽８２０の第２部分８２２と、接触濾床槽８３０と、第１開口２００と第２開口３００と、を実現したものである。試験槽１０００は、透明な樹脂を用いて形成された。図示を省略するが、試験槽１０００の接触濾床槽８３０内には、接触材８３６に相当する接触材と、散気装置８３８ａ、８３８ｂに相当する散気装置と、も設けられている。以下、試験槽の要素の符号として、上記実施例の排水処理装置８００の対応する要素の符号と同じ符号を用いる。

図６（Ａ）は、−Ｚ方向を向いて見た試験槽１０００の概略図であり、図６（Ｂ）は、−Ｙ方向を向いて見た試験槽１０００の概略図であり、図６（Ｃ）は、＋Ｘ方向を向いて見た試験槽１０００の概略図であり、図６（Ｄ）は、図７（Ａ）中のＤ−Ｄ断面から嫌気濾床槽８２０側（ここでは、−Ｘ側）を向いて見た仕切壁８２９の概略図である。図６（Ａ）に示すように、接触濾床槽８３０の水平な断面形状は、矩形である。接触濾床槽８３０の形状は、この水平な断面形状を底面とする略四角柱である。なお、底部の角は、丸められている。また、図６（Ａ）に示すように、嫌気濾床槽８２０の第２部分８２２の水平な断面形状は、−Ｘ側に向かって徐々にＹ方向の幅が小さくなる台形である。第２部分８２２の形状は、この水平な断面形状を底面とする略四角柱である。第２部分８２２の底と、接触濾床槽８３０の底とは、同じ高さに配置されている。図示を省略するが、接触濾床槽８３０と第２部分８２２とのそれぞれの下部には、水抜き用のバルブが設けられている。

図中の幅Ｗ１ａは、第２部分８２２の台形の−Ｘ側の底の長さ（Ｙ方向の幅）であり、幅Ｗ１ｂは、第２部分８２２の台形の＋Ｘ側の底の長さ（Ｙ方向の幅）である。幅Ｗ２は、接触濾床槽８３０のＹ方向の幅である。長さＬ１は、第２部分８２２のＸ方向の長さであり、長さＬ２は、接触濾床槽８３０のＸ方向の長さである。水深Ｈは、試験槽１０００の底（ここでは、第２部分８２２と接触濾床槽８３０の底と同じ）からの、基準水位ＷＬの高さである。本試験で用いられた試験槽１０００では、Ｗ１ａ＝４５８ｍｍ、Ｗ１ｂ＝３００ｍｍ、Ｗ２＝１０００ｍｍ、Ｌ１＝１８６ｍｍ、Ｌ２＝３５０ｍｍ、Ｈ＝１２００ｍｍであった。

本試験で用いられた試験槽１０００の第１開口２００と第２開口３００との構成（図４）については、以下の通りである。Ｄ２０＝Ｄ３０＝７７ｍｍであった。第１距離Ｄ１に関しては、０ｍｍ、５０ｍｍ、１００ｍｍの３つの値が、試験された。すなわち、第２距離Ｄ２に関しては、−３８．５ｍｍ、１１．５ｍｍ、６１．５ｍｍの３つの値が試験された。なお、Ｄ１＝０ｍｍは、第１開口２００と第２開口３００とが同じ高さに配置されていることを、示している。

試験方法は、以下の通りである。まず、接触濾床槽８３０と第２部分８２２とに水を張り、開口２００、３００を蓋で閉じた状態で、予め決められた量のトイレットペーパーの粉砕物を、固形物として、接触濾床槽８３０に投入した。そして、接触濾床槽８３０での散気を行って、接触濾床槽８３０内を撹拌した。これにより、接触濾床槽８３０内で、固形物の分布は、おおよそ均等になった。この状態で、接触濾床槽８３０内の水を採水して、浮遊物質（ＳＳ（suspended solid）とも呼ばれる）の濃度を測定した。浮遊物質濃度は、ＳＳとも呼ばれる（以下、ＳＳ濃度とも呼ぶ）。次に、接触濾床槽８３０での散気を行った状態で、開口２００、３００の蓋を取り外した。これにより、接触濾床槽８３０内の固形物の一部が、第１開口２００を通じて第２部分８２２へ移動した。蓋を取り外した後、３０分が経過する毎に接触濾床槽８３０内の水を採水してＳＳ濃度を測定した。蓋を取り外してから１８０分が経過した段階で、散気を停止した。そして、散気を停止した後に、第２部分８２２内の水を採水し、第２部分８２２内のＳＳ濃度を測定し、第２部分８２２内の固形物総量を算出した。

図７は、試験結果を示すグラフである。図７（Ａ）のグラフでは、横軸は、蓋を取り外してからの経過時間（単位は、分）を示し、縦軸は、濃度割合（単位は、％）を示している。濃度割合は、蓋を取り外す前のＳＳ濃度に対する、経過時間でのＳＳ濃度の割合である。図示するように、０ｍｍ、５０ｍｍ、１００ｍｍのいずれの第１距離Ｄ１に関しても、時間の経過とともに、接触濾床槽８３０内の濃度割合は、低下した。

蓋を取り外し、散気した状態の接触濾床槽８３０を観察すると、粉砕された固形物が移動する様子、すなわち、接触濾床槽８３０内での水の流れを、確認できた。水面ＷＬに近い表層部分と、表層部分よりも深い部分と、の間では、水の流れる方向に差異がみられた。深い部分では、散気で吐出された気泡が上昇することに応じて、上昇する流れが観察され、また、気泡が少ない部分では、下降する流れが観察された。このように、水面ＷＬから下方向に離れた部分では、鉛直方向に平行な双方向の流れが観察された。水面ＷＬの近傍では、水面ＷＬに沿った流れ、すなわち、水平な方向の流れが多く観察された。この理由は、上昇する水が水面ＷＬに到達すると、水は水面ＷＬよりも高い位置には移動できないので、水が水平方向に移動せざるを得ないからだと推定される。

水面ＷＬに沿って移動する水の一部は、上記の深い部分の下降する流れに沿って、下方向に移動した。第１開口２００の近傍では、水面ＷＬに沿って移動する水が、第１開口２００を通り抜けて、第２部分８２２へ移動した。これにより、接触濾床槽８３０内の固形物が第１開口２００を通じて第２部分８２２へ移動した。第２部分８２２へ移動した固形物の一部は、接触濾床槽８３０へは戻らずに、第２部分８２２の底部へ沈降した。この観察結果は、図７（Ａ）のグラフにおいて、時間の経過に応じて接触濾床槽８３０内のＳＳ濃度の割合が減少したことと、整合している。

第１距離Ｄ１がゼロよりも大きい場合、すなわち、第１開口２００と第２開口３００との間で高さが異なる場合、第１開口２００では、水は、定常的に、接触濾床槽８３０から第２部分８２２へ流れ、第２開口３００では、水は、定常的に、第２部分８２２から接触濾床槽８３０へ流れた。この理由は、図５で説明したように、水面ＷＬに沿って流れる水は、第１開口２００から第２部分８２２へ移流しやすく、第２開口３００から第２部分８２２へは移流しにくいからだと推定される。

一方、第１距離Ｄ１がゼロである場合、すなわち、第１開口２００と第２開口３００との間で高さが同じである場合、第１開口２００と第２開口３００との双方において、接触濾床槽８３０から第２部分８２２への水の流れと、第２部分８２２から接触濾床槽８３０への水の流れとが、不規則に生じた。この理由は、第１開口２００と第２開口３００との双方において、水面ＷＬに沿って流れる水が、第２部分８２２へ移流しやすいからだと推定される。

これらの観察結果は、図７（Ａ）のグラフにおいて、第１距離Ｄ１がゼロである場合と比べて、第１距離Ｄ１がゼロよりも大きい場合に、濃度割合が大幅に小さくなることと、整合している。具体的には、Ｄ１＝０ｍｍ（Ｄ２＝−３８．５ｍｍ）の場合には、１８０分の経過時間での濃度割合は、２０％を超えていたが、Ｄ１≧５０ｍｍ（Ｄ２≧１１．５ｍｍ）の場合には、１８０分の経過時間での濃度割合は、１５％以下まで改善した。

図７（Ｂ）のグラフは、０ｍｍ、５０ｍｍ、１００ｍｍのそれぞれの第１距離Ｄ１の返送率（単位は％）を示している。ここで、返送率は、接触濾床槽８３０に投入された固形物総量に対する、１８０分の試験の後の第２部分８２２内の固形物総量の割合である。図示するように、第１距離Ｄ１がゼロである場合と比べて、第１距離Ｄ１がゼロよりも大きい場合に、返送率は大幅に向上した。具体的には、Ｄ１＝０ｍｍ（Ｄ２＝−３８．５ｍｍ）の場合には、返送率は７０％未満であったが、Ｄ１≧５０ｍｍ（Ｄ２≧１１．５ｍｍ）の場合には、返送率は、７５％を超えた。この測定結果は、図７（Ａ）のグラフにおいて、第１距離Ｄ１がゼロである場合と比べて、第１距離Ｄ１がゼロよりも大きい場合に、濃度割合が大幅に小さくなることと、整合している。なお、図７（Ａ）の１８０分の経過時間での濃度割合と、図７（Ｂ）の返送率との合計が、１００％よりも小さい理由は、固形物の一部が接触濾床槽８３０の接触材に付着したからである。

以上のように、第１開口２００（図４）の下端２００ｄが、水面ＷＬよりも低い位置に配置され、第１開口２００の上端２００ｕが、水面ＷＬよりも高い位置に配置されている場合には、接触濾床槽８３０の固形物は、容易に、第１開口２００を通じて、第２部分８２２（すなわち、嫌気濾床槽８２０）へ移動できる。そして、嫌気濾床槽８２０へ移動した固形物の少なくとも一部は、接触濾床槽８３０へ戻らずに嫌気濾床槽８２０の底部に沈降する。従って、エアリフトポンプなどの移送装置を用いずに、接触濾床槽８３０から嫌気濾床槽８２０へ固形物を移送できる。特に、本実施例では、嫌気濾床槽８２０には、散気装置は設けられておらず、接触濾床槽８３０には、散気装置が設けられている。従って、接触濾床槽８３０から第１開口２００を通じて嫌気濾床槽８２０へ移動する水流を、容易に実現できる。さらに、第２開口３００の上端３００ｕが、水面ＷＬよりも低い位置に配置されている場合には、第１開口２００から嫌気濾床槽８２０への水の流れやすさと、第２開口３００から嫌気濾床槽８２０への水の流れやすさと、の間に適切に差を設けることができる。この結果、接触濾床槽８３０から第１開口２００を通じて嫌気濾床槽８２０へ流れ、嫌気濾床槽８２０から第２開口３００を通じて接触濾床槽８３０へ流れる、という水の流れを、定常的に生じさせることができる。これにより、２つの開口２００、３００が同じ高さに配置されている場合と比べて、接触濾床槽８３０から第１開口２００を通じて嫌気濾床槽８２０への固形物の移送を促進できる。そして、接触濾床槽８３０内の固形物の量が多くなることを抑制できる。この結果、接触濾床槽８３０の閉塞を抑制できる。また、排水処理装置８００の適切な運転に必要な接触濾床槽８３０の逆洗の頻度を低減できる。また、接触濾床槽８３０の負荷が大きくなることを抑制できる。これにより、接触濾床槽８３０を小型化できる。なお、接触濾床槽８３０の逆洗は、例えば、第１散気装置８３８ａと第２散気装置８３８ｂとのうちの一方が散気を行い他方が散気を停止するように分配バルブ８３８ｖを調整することによって、実現可能である。ユーザは、このような逆洗を、排水処理装置８００の点検時に行うことが好ましい。

また、図６の試験槽１０００のように、第１開口２００の形状と、第２開口３００の形状とが、同じ内径の円形状である場合、第１開口２００と第２開口３００とを、容易に形成できる。例えば、同じ外径のホールソーを用いて、開口２００、３００を容易に形成できる。また、第２開口３００の中心３００ｃは、第１開口２００の中心２００ｃよりも低い位置に配置されている。従って、第１開口２００を通じた固形物の移動を促進可能な第１開口２００と第２開口３００とを、容易に形成できる。

また、図２、図３で説明したように、本実施例の嫌気濾床槽８２０は、移流バッフル８２３を備えている。本実施例では、移流バッフル８２３の下側の下開口８２４の全体が、第１開口２００の下端２００ｄと第２開口３００の下端３００ｄとのいずれよりも低い位置に配置されている。そして、移流バッフル８２３は、下開口８２４と、開口２００、３００と、を連通している。従って、嫌気濾床槽８２０から開口２００、３００を通じて接触濾床槽８３０へ水が移流する場合には、水は、嫌気濾床槽８２０のうちの移流バッフル８２３の下開口８２４以下の高さの部分を移動した後に、開口２００、３００まで上昇する。この際、水に含まれる固形物は、開口２００、３００まで上昇せずに、嫌気濾床槽８２０の底部に沈降し得る。この結果、嫌気濾床槽８２０は、固形物を底部（特に、下開口８２４の下端８２４ｄよりも低い部分）に貯留できる。また、嫌気濾床槽８２０は、接触濾床槽８３０から第１開口２００を通じて嫌気濾床槽８２０へ移動した固形物も、底部に貯留できる。なお、本実施例では、下開口８２４は、鉛直方向に垂直な（すなわち、水平な）開口である。従って、下開口８２４の全体（より具体的には、下開口８２４の縁の全体）が、下開口８２４の下端８２４ｄに対応する。

また、図２、図３で説明したように、本実施例の排水処理装置８００は、汚泥移送エアリフトポンプ９１０を備えている。汚泥移送エアリフトポンプ９１０の吸込口９１１は、嫌気濾床槽８２０の底部に配置され、汚泥移送エアリフトポンプ９１０の流出口９１２は、沈殿分離槽８１０に配置されている。従って、汚泥移送エアリフトポンプ９１０は、嫌気濾床槽８２０内の水（ひいては、汚泥などの固形物）を、排水処理装置８００の複数の処理槽８１０〜８５０のうちの嫌気濾床槽８２０と接触濾床槽８３０とのいずれとも異なる別の沈殿分離槽８１０へ移送できる。この結果、接触濾床槽８３０から開口２００通じて嫌気濾床槽８２０へ固形物が移動する場合であっても、嫌気濾床槽８２０内の固形物の量が多くなることを抑制できる。

特に、本実施例では、汚泥移送エアリフトポンプ９１０の吸込口９１１の全体が、嫌気濾床槽８２０内の第１開口２００の下端２００ｄと第２開口３００の下端３００ｄとのいずれよりも低い位置に配置されている。従って、汚泥移送エアリフトポンプ９１０は、嫌気濾床槽８２０の底部に堆積した固形物を、適切に移送できる。また、本実施例では、吸込口９１１の全体が、移流バッフル８２３の下開口８２４の下端８２４ｄよりも低い位置に配置されている。従って、汚泥移送エアリフトポンプ９１０は、下開口８２４の下端８２４ｄよりも低い位置に堆積した固形物を、適切に、嫌気濾床槽８２０の外に移送できる。

また、嫌気濾床槽８２０（図２）へ流入する水は、移流開口８１４によって嫌気濾床槽８２０へ導入される（以下、移流開口８１４を、導入部８１４とも呼ぶ）。本実施例では、移流開口８１４の下端８１４ｄは、移流バッフル８２３の下開口８２４の上端８２４ｕよりも高い位置に配置されている。従って、移流開口８１４から嫌気濾床槽８２０へ導入された水は、移流開口８１４から移流バッフル８２３の下開口８２４へ下向きに流れる。この結果、水に含まれる固形物の沈降を、促進できる。なお、上述したように、移流バッフル８２３の下開口８２４は水平な開口であるので、下開口８２４の全体（より具体的には、下開口８２４の縁の全体）が、下開口８２４の上端８２４ｕに対応する。

また、排水処理装置８００には、接触濾床槽８３０と処理水槽８４０とを連通する移流開口８３４が設けられている（以下、連通部８３４とも呼ぶ）。本実施例では、移流開口８３４の全体が、第１開口２００の下端２００ｄと第２開口３００の下端３００ｄとのいずれよりも低い位置に配置されている。従って、接触濾床槽８３０内において嫌気濾床槽８２０に移動せずに開口２００、３００よりも低い位置に移動した固形物は、移流開口８３４を通じて、処理水槽８４０へ移動可能である。また、排水処理装置８００は、循環エアリフトポンプ９２０を備えている。循環エアリフトポンプ９２０は、処理水槽８４０内の水を、処理槽８２０、８３０、８４０とは異なる別の処理槽である沈殿分離槽８１０へ移送する。これにより、接触濾床槽８３０から処理水槽８４０に移動した固形物は、循環エアリフトポンプ９２０によって別の処理槽（本実施例では、沈殿分離槽８１０）へ移送され得る。このように、接触濾床槽８３０内の固形物は、処理水槽８４０と循環エアリフトポンプ９２０とを通じて別の処理槽へ移送されるので、接触濾床槽８３０内の固形物の量が多くなることを抑制できる。

特に、本実施例では、接触濾床槽８３０の上流側に汚泥移送エアリフトポンプ９１０が設けられ、接触濾床槽８３０の下流側に循環エアリフトポンプ９２０が設けられている。そして、接触濾床槽８３０内の固形物は、嫌気濾床槽８２０に移動して汚泥移送エアリフトポンプ９１０によって移送され得る。また、接触濾床槽８３０内の固形物は、処理水槽８４０に移動して循環エアリフトポンプ９２０によって移送され得る。このように、接触濾床槽８３０内の固形物は、上流側の汚泥移送エアリフトポンプ９１０と、下流側の循環エアリフトポンプ９２０との、双方によって、移送され得る。従って、接触濾床槽８３０内の固形物の量が過剰になることを抑制できる。

また、接触濾床槽８３０（図２）のうち、上流側の汚泥移送エアリフトポンプ９１０へ向かう水が接触濾床槽８３０から流出する領域は、開口２００、３００の領域である。また、接触濾床槽８３０のうち、下流側の循環エアリフトポンプ９２０へ向かう水が接触濾床槽８３０から流出する領域は、移流開口８３４の領域である。本実施例では、移流開口８３４の全体が、開口２００、３００の下端２００ｄ、３００ｄのいずれよりも低い位置に配置されている。従って、接触濾床槽８３０のうちの比較的高い部分に存在する固形物は、比較的高い位置の開口２００から除去される。接触濾床槽８３０のうちの比較的低い部分に存在する固形物は、比較的低い位置の移流開口８３４から除去される。このように、接触濾床槽８３０のうちの比較的高い領域（ここでは、開口２００、３００）と比較的低い領域（ここでは、移流開口８３４）との両方から固形物が除去されるので、接触濾床槽８３０内での固形物濃度が大きく偏ることを抑制できる。

Ｂ．変形例：
（１）開口２００、３００の構成は、上述した構成に代えて、他の種々の構成であってよい。例えば、第２開口３００の内径Ｄ３０が、第１開口２００の内径Ｄ２０と異なっていてもよい。また、第１開口２００と第２開口３００との少なくとも一方の形状は、円形状とは異なる形状であってもよい（例えば、矩形状、楕円形状）。また、図４、図８、図９の実施例において、第１開口２００の中心２００ｃの位置は、基準水位ＷＬよりも高い位置であってもよく、基準水位ＷＬよりも低い位置であってもよい。

また、上述したように、試験槽１０００の観察結果によれば、水面ＷＬの近傍で、水は、水面ＷＬに沿って流れ易い。水面ＷＬに沿って流れる水が第１開口２００を通過するためには、第１開口２００の下端２００ｄが、基準水位ＷＬよりも低い位置に配置され、第１開口２００の上端２００ｕが、基準水位ＷＬ以上の高さの位置に配置されていることが好ましい。この構成によれば、水面ＷＬに沿って流れる水は、容易に第１開口２００を通過できるので、この水の流れによって、第１開口２００を通じて固形物を移送できる。

また、第２開口３００の上端３００ｕは、基準水位ＷＬ以下の高さの位置であって、第１開口２００の上端２００ｕよりも低い位置に配置されていることが好ましい。この構成によれば、水は、接触濾床槽８３０から第１開口２００を通じて嫌気濾床槽８２０へ、比較的、流れ易く、接触濾床槽８３０から第２開口３００を通じて嫌気濾床槽８２０へは、比較的、流れにくくなる。従って、水は、定常的に、接触濾床槽８３０から第１開口２００を通じて嫌気濾床槽８２０へ流れ、嫌気濾床槽８２０から第２開口３００を通じて接触濾床槽８３０へ流れることができる。この結果、接触濾床槽８３０から第１開口２００を通じて嫌気濾床槽８２０への固形物の移送を促進できる。例えば、第１開口２００の上端２００ｕが基準水位ＷＬよりも高く、第２開口３００の上端３００ｕが基準水位ＷＬと同じ高さに配置されてもよい。また、水面ＷＬに沿って流れる水が第２開口３００へ流入することを抑制するためには、第２開口３００の上端３００ｕは、基準水位ＷＬよりも低い位置に配置されていることが好ましい。例えば、第１開口２００の上端２００ｕが基準水位ＷＬと同じ高さに配置され、第２開口３００の上端３００ｕが基準水位ＷＬよりも低い位置に配置されてもよい。

なお、図７の試験結果で説明したように、Ｄ１＝５０ｍｍ、１００ｍｍ（すなわち、Ｄ２＝１１．５ｍｍ、６１．５ｍｍ）のいずれの場合も、良好な濃度割合と返送率とを実現した。従って、水面ＷＬ（図４）から第２開口３００の上端３００ｕまでの第２距離Ｄ２の好ましい範囲としては、１１．５ｍｍ以上、６１．５ｍｍ以下の範囲を採用可能である。また、ゼロに近い第２距離Ｄ２（１１．５ｍｍ）が、良好な濃度割合と返送率とを実現したので、ゼロ以上１１．５ｍｍ未満の種々の第２距離Ｄ２が、良好な濃度割合と返送率とを実現できると推定される。また、ゼロと比べて十分に大きな第２距離Ｄ２（６１．５ｍｍ）が、良好な濃度割合と返送率とを実現した。そして、第２距離Ｄ２が更に大きいことは、開口２００、３００による固形物の移送を抑制する要因とはならないと推定される。従って、６１．５ｍｍ以上の種々の第２距離Ｄ２も、良好な濃度割合と返送率とを実現できると推定される。

なお、第１開口２００の下端２００ｄは、第２開口３００の下端３００ｄよりも高い位置に配置されていることが好ましい。この構成によれば、第１開口２００を通じて嫌気濾床槽８２０へ移動した固形物が、第１開口２００の下端２００ｄよりも低い位置に沈降する前に、第１開口２００を通じて接触濾床槽８３０へ戻ることを抑制できる。

また、第１開口２００の上端２００ｕと、第２開口３００の上端３００ｕと、の両方が、基準水位ＷＬ以上の高さの位置に配置されていてもよい。すなわち、第１開口２００と第２開口３００とは、それぞれ、基準水位ＷＬよりも低い位置から基準水位ＷＬよりも高い位置まで拡がっていてもよい。図８は、開口２００、３００の変形例を示す概略図である。図４に示す実施例との差異は、第２開口３００が、水面ＷＬと重なる位置に配置されている点だけである。図８の変形例では、第２開口３００の上端３００ｕは、基準水位ＷＬよりも高く、第２開口３００の下端３００ｄは、基準水位ＷＬよりも低い。また、第２開口３００の中心３００ｃは、第１開口２００の中心２００ｃよりも低い。また、第２開口３００の中心３００ｃは、基準水位ＷＬよりも低い。また、第２開口３００の下端３００ｄは、第１開口２００の下端２００ｄよりも低い。

図中の第１幅Ｗ２０は、基準水位ＷＬの高さにおける第１開口２００の幅である。第２幅Ｗ３０は、基準水位ＷＬの高さにおける第２開口３００の幅である。図８の変形例では、第１幅Ｗ２０は、第２幅Ｗ３０よりも広い。この構成によれば、水面ＷＬに沿って流れる水は、接触濾床槽８３０から第１開口２００を通じて嫌気濾床槽８２０へ移流しやすく、接触濾床槽８３０から第２開口３００を通じて嫌気濾床槽８２０へは移流しにくい。従って、第１開口２００を通じて適切に固形物を移送できると推定される。

なお、第１開口２００の第１幅Ｗ２０は、第１開口２００のループ状の縁のうち基準水位ＷＬの高さの２つの部分Ｐ２ａ、Ｐ２ｂの間の最短距離によって表される。同様に、第２開口３００の第２幅Ｗ３０は、第２開口３００のループ状の縁のうち基準水位ＷＬの高さの２つの部分Ｐ３ａ、Ｐ３ｂの間の最短距離によって表される。

また、第１開口の総数は、２以上であってもよい。また、第２開口の総数は、２以上であってもよい。図９は、仕切壁に形成された開口の変形例を示す概略図である。図４に示す実施例との差異は、２個の第１開口２００と、２個の第２開口３００と、が設けられている点である。図９の２個の第１開口２００のそれぞれの高さは、図４の第１開口２００の高さと同じである。図９の２個の第２開口３００のそれぞれの高さは、図４の第２開口３００の高さと同じである。図９の変形例では、第１開口２００と第２開口３００とは、水平な方向（ここでは、Ｙ方向）に沿って、交互に並んでいる。処理対象人員が多い場合（例えば、処理対象人員が１４人以上である場合）、嫌気濾床槽８２０から下流側の接触濾床槽８３０へ移流する水の量が多くなり得る。このような場合に、第１開口の総数と第２開口の総数との少なくとも一方が２以上であれば、嫌気濾床槽８２０から下流側の接触濾床槽８３０への水のスムーズな移流を実現できる。なお、複数の第２開口の間で、大きさ（例えば、内径Ｄ３０）と高さと形状との少なくとも１つが異なっていてもよい。例えば、図４の高さの第２開口３００と、図８の高さの第２開口３００とが、１つの仕切壁に形成されていてもよい。同様に、複数の第１開口の間で、大きさ（例えば、内径Ｄ２０）と高さと形状との少なくとも１つが異なっていてもよい。さらに、第１開口と第２開口との間で、大きさと形状との少なくとも１つが異なっていてもよい。

いずれの場合も、仕切壁には、基準水位ＷＬよりも低い位置の下端と基準水位ＷＬ以上の高さの位置の上端とを有する１以上の第１開口が設けられていてよい。そして、仕切壁には、１以上の第２開口が設けられていてよい。ここで、１以上の第２開口は、以下のような開口であることが好ましい。すなわち、水面ＷＬに沿って流れる水が接触濾床槽８３０から開口を通じて上流側の嫌気濾床槽８２０へ移流する容易さに関し、第２開口の移流の容易さは、１以上の第１開口のいずれの移流の容易さよりも、低い。

このような第１開口と第２開口とのそれぞれの構成としては、種々の構成を採用可能である。例えば、仕切壁に設けられた１以上の第１開口としては、予め決められた基準水位よりも低い位置に配置された下端と、基準水位以上の高さの位置に配置された上端と、を有する種々の開口を採用可能である。水面に沿って流れる水は、このような第１開口を通じて、容易に、下流側の処理槽から、上流側の処理槽へ移動できる。従って、このような第１開口は、固形物を、下流側の処理槽から上流側の処理槽へ、容易に移送できる。そして、仕切壁に設けられた１以上の第２開口は、以下の２種類の開口の少なくとも一方を含むことが好ましい。
（Ａ）基準水位以下の高さの位置であって、１以上の第１開口のそれぞれの上端のいずれよりも低い位置に配置された上端を有する開口である低開口
（Ｂ）１以上の第１開口のそれぞれの下端のいずれよりも低い位置から、基準水位よりも高い位置まで拡がっており、基準水位の高さにおける開口の幅が、基準水位の高さにおける１以上の第１開口のそれぞれの幅のいずれよりも小さい開口である狭開口
水面に沿って流れる水は、第１開口と比べて、このような第２開口からは、上流側の処理槽へは流れにくい。これにより、水が、下流側の処理槽から第１開口を通じて上流側の処理槽へ流れ、そして、上流側の処理槽から第２開口を通じて下流側の処理槽へ流れる、という循環が生じ得る。このような水の流れによって、固形物は、下流側の処理槽から、第１開口を通じて、上流側の処理槽へ、移動できる。

仕切壁に、基準水位ＷＬよりも低い位置の下端と、基準水位ＷＬ以上の高さの上端と、を有する複数の開口が形成されている場合には、それらの複数の開口のうちの、基準水位の高さにおける開口の幅が最も広い開口を、第１開口として採用すればよい。すなわち、仕切壁に設けられた複数の開口（具体的には、仕切壁の上流側の処理槽（図２の例では、嫌気濾床槽８２０）と下流側の処理槽（図２の例では、接触濾床槽８３０）とを連通する複数の開口）が、予め決められた基準水位よりも低い位置に配置された下端と、基準水位以上の高さの位置に配置された上端と、を有する１以上の開口（水位開口と呼ぶ）を含む場合に、１以上の第１開口は、１以上の水位開口のうち、基準水位の高さにおける開口の幅が最も広い１以上の開口であってよい。ここで、開口の上端の高さが基準水位の高さと同じである場合には、開口の幅として上端の幅を採用すればよい。そして、仕切壁に設けられた複数の開口のうち、この最広の第１開口を基準として用いて、上記の低開口に対応する開口と、上記の狭開口に対応する開口とを、第２開口として採用してよい。このような構成によれば、第１開口と第２開口とを用いて、適切に、固形物を移送できる。図９の変形例では、２個の開口２００のそれぞれが、最広の第１開口に対応し、２個の開口３００のそれぞれが、低開口（すなわち、第２開口）に対応する。また、図９の変形例において、１個の開口３００の高さが、図８の第２開口３００の高さと同じであり、別の１個の開口３００の高さが、図４、図９の第２開口３００の高さと同じであってもよい。この場合、図８の高さの開口３００は、狭開口に対応し、図４、図９の高さの開口３００は、低開口に対応する。そして、２個の開口２００のそれぞれが、最広の第１開口に対応する。

最広の第１開口を基準として用いる場合に、低開口と狭開口とのいずれにも対応していない開口は、第１開口と第２開口とを用いた固形物の移送に対する影響が小さい開口であると推定される。そのような開口は、第１開口と第２開口とのいずれにも該当しない開口として、扱ってよい。このように、１以上の第２開口は、低開口と狭開口との少なくとも一方で構成されてよい。

また、仕切壁に設けられた１以上の第１開口は、基準水位ＷＬよりも高い位置に配置された上端を有する１以上の開口を含み、さらに、仕切壁に設けられた１以上の第２開口は、基準水位ＷＬよりも低い位置に配置された上端を有する１以上の開口を含んでいてもよい。この構成によれば、第１開口を通じた固形物の移動を、促進できる。なお、基準水位ＷＬよりも高い上端を有する１以上の第１開口は、仕切壁に設けられた１以上の第１開口のうちの、一部であってもよく、全部であってもよい。また、基準水位ＷＬよりも低い上端を有する１以上の第２開口は、仕切壁に設けられた１以上の第２開口のうちの、一部であってもよく、全部であってもよい。

また、仕切壁に設けられた１以上の第１開口のうちの１以上の特定の第１開口のそれぞれの形状と、仕切壁に設けられた１以上の第２開口のうちの１以上の特定の第２開口のそれぞれの形状とは、同じ内径の円形状であり、１以上の特定の第２開口のそれぞれの中心は、１以上の特定の第１開口のそれぞれの中心のいずれよりも低い位置に配置されてもよい。この構成によれば、第１開口を通じた固形物の移送を促進可能な第１開口と第２開口とを、容易に形成できる。なお、１以上の特定の第２開口の間で、中心の高さが異なっていてもよい。また、１以上の特定の第１開口は、仕切壁に設けられた１以上の第１開口のうちの、一部であってもよく、全部であってもよい。また、１以上の特定の第２開口は、仕切壁に設けられた１以上の第２開口のうちの、一部であってもよく、全部であってもよい。そして、１以上の特定の第１開口のそれぞれの上端が、基準水位ＷＬよりも高い位置に配置されていてもよく、１以上の特定の第１開口の少なくとも１つの第１開口の上端が、基準水位ＷＬと同じ高さの位置に配置されていてもよい。また、１以上の特定の第２開口のそれぞれの上端が、基準水位ＷＬよりも低い位置に配置されていてもよく、１以上の特定の第２開口の少なくとも１つの第２開口の上端が、基準水位ＷＬ以上の高さの位置に配置されていてもよい。

いずれの場合も、複数の第１開口が仕切壁に設けられる場合には、水平な方向の位置に関して、任意の２個の第１開口が１以上の第２開口を挟むように、複数の第１開口と１以上の第２開口とが配置されていることが好ましい。ここで、水平な方向の位置に関して２個の第１開口が第２開口を挟むことは、第２開口の水平方向の位置（特に、仕切壁に平行な水平方向の位置。例えば、図９の変形例では、Ｙ方向の位置）が、２個の第１開口それぞれの水平方向の位置の間にあることを意味している。この構成によれば、１個の第１開口を通じて上流側へ移動した固形物が、隣の第１開口を通じて下流側へ戻ることを抑制できる。ただし、２個の第１開口が、第２開口を挟まずに水平方向に並ぶように、配置されてもよい。

また、いずれの場合も、１以上の第１開口のそれぞれの形状は、円形状に限らず、種々の形状であってよい。同様に、１以上の第２開口のそれぞれの形状も、円形状に限らず、種々の形状であってよい。例えば、円、楕円、多角形（例えば、三角形、四角形、Ｎ角形（Ｎは３以上の整数））から任意に選択された形状を採用してもよい。また、複数の第１開口の間で形状が異なっていてもよく、複数の第２開口の間で形状が異なっていてもよい。また、少なくとも１つの第１開口と少なくとも１つの第２開口との間で、形状が異なっていてもよい。一般的には、第１開口の縁は、直線状の縁部分を形成する直線部分と、曲線状の縁部分を形成する曲線部分と、の少なくとも一方を含んでよい。また、第１開口の縁は、第１開口の外側から内側に向かって凸な部分を含まずに、第１開口の内側から外側に向かって凸な部分を含むことが好ましい。同様に、第２開口の縁は、直線状の縁部分を形成する直線部分と、曲線状の縁部分を形成する曲線部分と、の少なくとも一方を含んでよい。また、第２開口の縁は、第２開口の外側から内側に向かって凸な部分を含まずに、第２開口の内側から外側に向かって凸な部分を含むことが好ましい。

（２）鉛直下方向を向いて見る場合に、第２開口３００の少なくとも一部が、第１開口２００と重なっていてもよい。また、開口２００、３００を通じた水の循環（図５）を適切に生じさせるためには、開口２００、３００の間の基準水位ＷＬ以下の部分の面積の差が小さいことが好ましい。例えば、第１開口２００の基準水位ＷＬ以下の部分の面積と第２開口３００の基準水位ＷＬ以下の部分の面積とのうち、大きい方の面積が小さい方の面積の３００％以下であることが好ましく、大きい方の面積が小さい方の面積の２００％以下であることが特に好ましい。第１開口２００の総数と第２開口３００の総数との少なくとも一方が２以上である場合、１以上の第１開口２００のそれぞれの基準水位ＷＬ以下の部分の合計面積と、１以上の第２開口３００のそれぞれの基準水位ＷＬ以下の部分の合計面積と、のうち、大きい方の面積が小さい方の面積の３００％以下であることが好ましく、大きい方の面積が小さい方の面積の２００％以下であることが特に好ましい。

（３）排水処理装置の構成は、上記の排水処理装置８００の構成に変えて、他の種々の構成であってよい。例えば、沈殿分離槽８１０に代えて、濾材を有する嫌気濾床槽が設けられていてもよい。また、嫌気濾床槽８２０に代えて、濾材が省略された沈殿分離槽が設けられてもよい。また、接触濾床槽８３０に代えて、粒状担体が流動する担体流動槽が設けられていてもよい。

一般的には、排水処理装置は、第１処理槽と、第１処理槽の下流側に設けられた第２処理槽と、を含む複数の処理槽を備え、第２処理槽に散気装置が設けられ、第１処理槽と第２処理槽との間を仕切る仕切壁に、固形物を第２処理槽から第１処理槽へ移動させるための１以上の開口２００と１以上の開口３００とが設けられることが好ましい。

第１処理槽は、例えば、種々の嫌気処理槽であってよい。例えば、濾材が省略された沈殿分離槽を採用してもよい。また、第１処理槽の水を、第１処理槽と第２処理槽とは異なる別の処理槽へ移送する第１移送ポンプの構成は、上述の汚泥移送エアリフトポンプ９１０の構成に代えて、他の種々構成であってよい。例えば、エアリフトポンプに代えて、他の種類のポンプ（例えば、電気モータを用いて水を移送する電動ポンプ）を採用してもよい。また、第１移送ポンプの吸込口（例えば、汚泥移送エアリフトポンプ９１０の吸込口９１１）の少なくとも一部が、仕切壁に設けられた１以上の第１開口２００のそれぞれの下端２００ｄと、仕切壁に設けられた１以上の第２開口３００のそれぞれの下端３００ｄとのうちの最も低い下端（「最低下端」と呼ぶ）よりも高い位置に配置されていてもよい。例えば、図４、図８、図９の実施例では、第２開口３００の下端３００ｄが、最低下端に対応する。一般的には、第１移送ポンプの吸込口は、１以上の第１開口２００のそれぞれの下端２００ｄと１以上の第２開口３００のそれぞれの下端３００ｄとのうちの最低下端よりも低い部分を含むことが好ましい。この構成によれば、第１移送ポンプは、開口２００、３００よりも低い位置に沈降した固形物を、容易に移送できる。なお、吸込口の縁が、最低下端よりも低い部分を含む場合に、吸込口は、下端２００ｄ、３００ｄのいずれよりも低い部分を含んでいるということができる。なお、第１処理槽の水を他の処理槽へ移送する第１移送ポンプが、省略されてもよい。

第１処理槽に設けられる移流バッフルの構成は、上記の移流バッフル８２３の構成に代えて、他の種々の構成であってよい。例えば、下開口８２４の少なくとも一部が、１以上の第１開口２００のそれぞれの下端２００ｄと１以上の第２開口３００のそれぞれの下端３００ｄとのうちの最も低い最低下端よりも高い位置に配置されていてもよい。一般的には、下開口８２４は、１以上の第１開口２００のそれぞれの下端２００ｄと１以上の第２開口３００のそれぞれの下端３００ｄとのうちの最低下端よりも低い部分を含むことが好ましい。この構成によれば、第１処理槽内の固形物が、第１処理槽の底部に沈降せずに、下開口８２４から移流バッフル８２３内に移動して、開口２００、３００から第２処理槽へ流出することを、抑制できる。また、移流バッフル８２３の下開口８２４は、水平な開口ではなく、比較的低い位置から比較的高い位置まで拡がっていてもよい。例えば、移流バッフル８２３の底が塞がれて、移流バッフル８２３の側面に下開口８２４が形成されていてもよい。なお、下開口８２４の縁が、最低下端よりも低い部分を含む場合に、下開口８２４は、下端２００ｄ、３００ｄのいずれよりも低い部分を含んでいるということができる。なお、移流バッフルが省略されてもよい。

第１処理槽へ流入する水を第１処理槽へ導く導入部の構成は、上記の移流開口８１４の構成に代えて、他の種々の構成であってよい。例えば、パイプを通じて第１処理槽へ水が導入されてもよい。この場合、パイプの流出口が、導入部に対応する。一般的には、導入部の下端が、移流バッフル８２３の下開口８２４の上端８２４ｕよりも高い位置に配置されていることが好ましい。この構成によれば、水は、導入部から移流バッフル８２３の下開口８２４へ下側に向かって流れるので、第１処理槽内の固形物を、第１処理槽の底部で容易に貯留できる。ただし、導入部の下端が、移流バッフル８２３の下開口８２４の上端８２４ｕよりも低い位置に配置されてもよい。

第２処理槽は、例えば、種々の好気処理槽であってよい。また、第２処理槽の散気装置は、連続的に散気するためのものであってもよく、代わりに、間欠的に散気するためのものであってもよい。また、第２処理槽は、好気処理槽とは異なる処理槽であってもよい（例えば、嫌気処理槽）。第２処理槽が嫌気処理槽である場合、第２処理槽の散気装置は、嫌気処理槽内を間欠的に撹拌するためのものであってよい。ブロワ５００には、特定の配管に間欠的にガスを供給するための装置（例えば、電磁弁とタイマなど）を設けてもよい。例えば、第２処理装置に逆洗用の散気装置を設け、ブロワ５００は、逆洗用の散気装置に間欠的にガスを供給してもよい。

第２処理槽に設けられる散気装置としては、パイプに複数の孔を設けたものに代えて、気泡を生成可能な任意の部材を採用可能である。例えば、多孔質散気装置、ディスクディフューザ、などを採用可能である。多孔質散気装置としては、例えば、焼結型散気装置、メンブレン型散気装置、などを採用可能である。また、第２処理槽に設けられる散気装置の総数は、１以上の任意の数であってよい。複数の散気装置が設けられる場合には、複数の散気装置は、鉛直下方向を向いて見る場合に、第２処理槽内の互いに異なる位置に配置されていることが好ましい。そして、複数の散気装置には、複数の散気装置の間の散気のバランスを調整するための分配バルブが接続されていることが好ましい。そして、ブロワからのガスは、この分配バルブを介して、複数の散気装置に供給されることが好ましい。これにより、複数の散気装置の間の散気の偏りを緩和できる。

開口２００、３００を形成する仕切壁は、図３（Ａ）の仕切壁８２９のように、排水処理装置の外壁（例えば、図３（Ａ）の外壁８０１）に接続された仕切壁に代えて、種々の仕切壁であってよい。例えば、排水処理装置の外壁と他の仕切壁との両方に接続された仕切壁に、開口２００、３００が形成されてもよい。また、排水処理装置の外壁には接続されずに他の仕切壁に接続された仕切壁に、開口２００、３００が形成されてもよい。なお、仕切壁には、第１開口２００と第２開口３００とに加えて、他の開口が形成されてもよい。但し、開口２００、３００による固形物の移送に対する他の開口の影響が小さいことが好ましい。

また、第２処理槽の下流側に第３処理槽が設けられてもよい。第３処理槽は、処理水槽８４０に代えて、任意の処理槽であってよい。例えば、好気処理槽が設けられてもよい。

第２処理槽と第３処理槽とを連通する連通部の構成は、上記の接触濾床槽８３０と処理水槽８４０との間を仕切る仕切壁８３９によって形成される開口８３４の構成に代えて、他の種々の構成であってよい。例えば、第２処理槽の底から鉛直上方向に離れた位置に、連通部が配置されていてもよい。また、連通部は、パイプによって形成されてもよい。いずれの場合も、連通部によって形成される水が流れる領域が、仕切壁に設けられた１以上の第１開口２００のそれぞれの下端２００ｄと、仕切壁に設けられた１以上の第２開口３００のそれぞれの下端３００ｄとのうちの最も低い最低下端よりも低い流路を含む（すなわち、連通部は、最低下端よりも低い流路を形成する部分を含む）ことが好ましい。この構成によれば、第２処理槽内で下端２００ｄ、３００ｄのいずれよりも低い位置に沈降した固形物は、連通部を通じて、第３処理槽へ移動できる。従って、第２処理槽内の固形物の量が過剰となることを抑制できる。例えば、図２の実施例のように、移流開口８３４の全体が、最低下端（ここでは、下端３００ｄ）よりも低い場合、移流開口８３４によって形成される水が流れる領域（ここでは、移流開口８３４の内の部分）の全体が、下端２００ｄ、３００ｄのいずれよりも低い流路を形成している。ここで、連通部が、第２処理槽の底から連通部を経て第３処理槽の底まで、底の高さが変化しない流路を形成することが好ましい。この構成によれば、第２処理槽から連通部を通じて第３処理槽への固形物の移動を促進できる。なお、連通部の底が、最低下端よりも高い位置に配置されていてもよい。

また、第３処理槽内の水を、第１と第２と第３の処理槽とは異なる別の処理槽へ移送する第２移送ポンプの構成は、上述の循環エアリフトポンプ９２０の構成に代えて、他の種々の構成であってよい。例えば、エアリフトポンプに代えて、他の種類のポンプ（例えば、電気モータを用いて水を移送する電動ポンプ）を採用してもよい。いずれの場合も、第２移送ポンプの吸込口（例えば、循環エアリフトポンプ９２０の吸込口９２１）は、第３処理槽の底部に配置されていることが好ましい。この構成によれば、第２移送ポンプは、第３処理槽の底部に堆積した固形物を、第３処理槽の外に移送できる。一般的には、移送ポンプの吸込口は、１以上の第１開口２００のそれぞれの下端２００ｄと１以上の第２開口３００のそれぞれの下端３００ｄとのうちの最も低い最低下端よりも低い部分を含むことが好ましい。この構成によれば、第２移送ポンプは、第３処理槽内において、開口２００、３００よりも低い位置に存在する固形物を、容易に移送できる。ただし、第３処理槽の水を他の処理槽へ移送する第２移送ポンプが、省略されてもよい。

また、排水処理装置の複数の処理槽のうちの少なくとも１つの処理槽の水位が、排水処理装置に流入する排水の単位時間当たりの量の変化に応じて変化するように、排水処理装置が構成されていてもよい。例えば、図１、図２の実施例において、沈殿分離槽８１０と嫌気濾床槽８２０とを連通する移流開口８１４の内径を小さくしてもよい。この構成によれば、沈殿分離槽８１０から嫌気濾床槽８２０へ移流し得る水の単位時間当たりの量の上限が小さくなる。従って、排水処理装置８００に短時間に多量の排水が流入した場合には、沈殿分離槽８１０の水位が一時的に上昇する。これにより、沈殿分離槽８１０よりも下流側の処理槽８２０〜８５０の負荷が上昇することを抑制できる。

以上、実施例、変形例に基づき本発明について説明してきたが、上記した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨並びに特許請求の範囲を逸脱することなく、変更、改良され得ると共に、本発明にはその等価物が含まれる。

１００...送気管、１１０...第１管、１１１、１１２...管、１２０...第２管、１３０...第３管、２００...第１開口、２００ｃ...中心、２００ｄ...下端、２００ｕ...上端、３００...第２開口、３００ｃ...中心、３００ｄ...下端、３００ｕ...上端、５００...ブロワ、８００...排水処理装置、８０１...外壁（槽本体）、８０２...流入口、８０４...放流口、８０７...送気口、８１０...沈殿分離槽、８１１...開口、８１２...流入バッフル、８１４...移流開口（導入部）、８１４ｄ...下端、８１９...仕切壁、８２０...嫌気濾床槽、８２１...第１部分、８２２...第２部分、８２３...移流バッフル、８２４...下開口、８２４ｄ...下端、８２４ｕ...上端、８２５...上開口、８２６...濾材、８２６ｂ...下端、８２９...仕切壁、８３０...接触濾床槽、８３２...接触材、８３４...移流開口（連通部）、８３６...接触材、８３８ａ...第１散気装置、８３８ｂ...第２散気装置、８３８ｖ...三方バルブ（分配バルブ）、８３９...仕切壁、８４０...処理水槽、８５０...消毒槽、８５２...流入口、８５６...薬剤筒、９００...排水処理システム、９１０...汚泥移送エアリフトポンプ、９１０ｖ...調整バルブ（移送バルブ）、９１１...吸込口、９１２...流出口、９２０...循環エアリフトポンプ、９２０ｖ...調整バルブ（循環バルブ）、９２１...吸込口、９２２...流出口、１０００...試験槽、Ｈ...水深、Ｇ１、Ｇ２...気泡、Ｄ１...第１距離、Ｄ２...第２距離、Ｗ２...幅、ＵＦ...上向流、ＤＦ...下向流、ＷＬ...基準水位（水面）、ＳＳ...固形物、Ｄ２０、Ｄ３０...内径、Ｗ１ａ、Ｗ１ｂ...幅

Claims (8)

1. 排水処理装置であって、
   第１処理槽と、前記第１処理槽の下流側に設けられた第２処理槽と、を含む複数の処理槽と、
   前記第１処理槽と前記第２処理槽との間を仕切る仕切壁と、
   前記第２処理槽に設けられた散気装置と、
   を備え、
   前記仕切壁は、前記第１処理槽と前記第２処理槽とを連通する複数の開口であって、１以上の第１開口と１以上の第２開口とを含む複数の開口を有し、
   前記１以上の第１開口のそれぞれは、予め決められた基準水位であって、前記排水処理装置への排水の流入が無い状態での安定した水位である前記基準水位よりも低い位置に配置された下端と、前記基準水位以上の高さの位置に配置された上端と、を有し、
   前記１以上の第２開口は、
   前記基準水位以下の高さの位置であって、前記１以上の第１開口のそれぞれの前記上端のいずれよりも低い位置に配置された上端を有する開口である低開口と、
   前記１以上の第１開口のそれぞれの前記下端のいずれよりも低い位置から、前記基準水位よりも高い位置まで拡がっており、前記基準水位の高さにおける開口の幅が、前記基準水位の高さにおける前記１以上の第１開口のそれぞれの幅のいずれよりも小さい開口である狭開口と、
   の少なくとも一方を含み、
   前記基準水位と、前記１以上の第１開口のそれぞれの前記下端と、前記１以上の第２開口のそれぞれの下端とは、前記散気装置よりも高い位置に配置されており、
   前記１以上の第１開口は、前記基準水位よりも高い位置に配置された上端を有する１以上の開口を含み、
   前記１以上の第２開口は、前記基準水位よりも低い位置に配置された上端を有する１以上の開口を含む、
   排水処理装置。
2. 請求項１に記載の排水処理装置であって、
   前記１以上の第１開口のうちの１以上の特定の第１開口のそれぞれの形状と、前記１以上の第２開口のうちの１以上の特定の第２開口のそれぞれの形状とは、同じ内径の円形状であり、
   前記１以上の特定の第２開口のそれぞれの中心は、前記１以上の特定の第１開口のそれぞれの中心のいずれよりも低い位置に配置されている、
   排水処理装置。
3. 排水処理装置であって、
   第１処理槽と、前記第１処理槽の下流側に設けられた第２処理槽と、を含む複数の処理槽と、
   前記第１処理槽と前記第２処理槽との間を仕切る仕切壁と、
   前記第２処理槽に設けられた散気装置と、
   を備え、
   前記仕切壁は、前記第１処理槽と前記第２処理槽とを連通する複数の開口であって、１以上の第１開口と１以上の第２開口とを含む複数の開口を有し、
   前記１以上の第１開口のそれぞれは、予め決められた基準水位であって、前記排水処理装置への排水の流入が無い状態での安定した水位である前記基準水位よりも低い位置に配置された下端と、前記基準水位以上の高さの位置に配置された上端と、を有し、
   前記１以上の第２開口は、
   前記基準水位以下の高さの位置であって、前記１以上の第１開口のそれぞれの前記上端のいずれよりも低い位置に配置された上端を有する開口である低開口と、
   前記１以上の第１開口のそれぞれの前記下端のいずれよりも低い位置から、前記基準水位よりも高い位置まで拡がっており、前記基準水位の高さにおける開口の幅が、前記基準水位の高さにおける前記１以上の第１開口のそれぞれの幅のいずれよりも小さい開口である狭開口と、
   の少なくとも一方を含み、
   前記基準水位と、前記１以上の第１開口のそれぞれの前記下端と、前記１以上の第２開口のそれぞれの下端とは、前記散気装置よりも高い位置に配置されており、
   前記１以上の第１開口のうちの１以上の特定の第１開口のそれぞれの形状と、前記１以上の第２開口のうちの１以上の特定の第２開口のそれぞれの形状とは、同じ内径の円形状であり、
   前記１以上の特定の第２開口のそれぞれの中心は、前記１以上の特定の第１開口のそれぞれの中心のいずれよりも低い位置に配置されている、
   排水処理装置。
4. 請求項１から３のいずれかに記載の排水処理装置であって、
   前記複数の開口は、前記基準水位よりも低い位置に配置された下端と、前記基準水位以上の高さの位置に配置された上端と、を有する開口である１以上の水位開口を含み、
   前記１以上の第１開口は、前記１以上の水位開口のうち、前記基準水位の高さにおける開口の幅が最も広い１以上の開口である、
   排水処理装置。
5. 請求項１から４のいずれかに記載の排水処理装置であって、
   前記第１処理槽内の前記１以上の第１開口のそれぞれの下端と前記１以上の第２開口のそれぞれの下端とのうちの最も低い下端よりも低い位置に配置された部分を含む吸込口を有するとともに、前記第１処理槽内の水を、前記複数の処理槽のうちの前記第１処理槽と前記第２処理槽とは異なる別の処理槽へ移送する第１移送ポンプを備える、
   排水処理装置。
6. 請求項１から５のいずれかに記載の排水処理装置であって、
   前記第１処理槽は、
   前記第１処理槽内の前記１以上の第１開口のそれぞれの下端と前記１以上の第２開口のそれぞれの下端とのうちの最も低い下端よりも低い位置に配置された部分を含む第３開口を形成するとともに、前記第３開口と、前記第１開口および前記第２開口と、を連通するバッフルと、
   前記第１処理槽へ流入する水を前記第１処理槽へ導く導入部であって、前記導入部の下端が前記第３開口の上端よりも高い位置に配置された、前記導入部と、
   を備える、
   排水処理装置。
7. 請求項１から６のいずれかに記載の排水処理装置であって、
   前記複数の処理槽は、前記第２処理槽の下流側の処理槽である第３処理槽を含み、
   前記排水処理装置は、
   前記第２処理槽と前記第３処理槽とを連通する連通部であって、前記１以上の第１開口のそれぞれの下端と前記１以上の第２開口のそれぞれの下端とのうちの最も低い下端よりも低い流路を形成する部分を含む、前記連通部と、
   前記第３処理槽内の水を、前記複数の処理槽のうちの前記第１処理槽と前記第２処理槽と前記第３処理槽とは異なる別の処理槽へ移送する第２移送ポンプと、
   を備える、排水処理装置。
8. 請求項１から７のいずれかに記載の排水処理装置であって、
   前記第２処理槽に設けられ、微生物を保持するための部材である保持材を備え、
   前記基準水位と、前記１以上の第１開口のそれぞれの前記下端と、前記１以上の第２開口のそれぞれの前記下端とは、前記保持材よりも高い位置に配置されている、
   排水処理装置。

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