JP2002053341A

JP2002053341A - 無機ｅｌディスプレイガラス基板

Info

Publication number: JP2002053341A
Application number: JP2000242061A
Authority: JP
Inventors: Hiroki Yamazaki; 博樹山崎; Tomohiro Nagakane; 知浩永金
Original assignee: Nippon Electric Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Electric Glass Co Ltd
Priority date: 2000-08-10
Filing date: 2000-08-10
Publication date: 2002-02-19
Also published as: WO2002014234A1; KR20020053819A; EP1310464A1; US20020147102A1; CA2384781A1

Abstract

(57)【要約】【目的】背面基板として用い、６５０〜７００℃で焼
成されても熱変形が起こらず、またソーダライムガラス
基板に比べて体積電気抵抗率が高く、軽量化、大型化が
可能な無機ＥＬディスプレイガラス基板を提供すること
である。【構成】アルミノシリケート系ガラスであって、Ｃａ
Ｏ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｒＯ₂の含有量が質量百分率
で、ＣａＯ０〜１３％、ＳｒＯ０〜１３％、ＢａＯ
０〜１３％、ＺｒＯ₂ ０〜１０％、ＣａＯ＋ＳｒＯ
＋ＢａＯ＋ＺｒＯ₂０〜１３％の範囲にあり、歪点が５
２０℃以上であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、無機ＥＬ（エレクトロ
ルミネッセンス）ディスプレイガラス基板に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】無機ＥＬディスプレイは、薄型軽量で表
示が鮮明であり、画像の微細化が容易であるため高品位
画像が実現でき、フルカラー化が可能であるなど、多く
の利点を有するため、今後表示装置として益々普及する
傾向にある。

【０００３】無機ＥＬディスプレイは、例えば図１に示
すように、背面基板１０上に金属電極１１、第１の誘電
体層１２、無機ＥＬ発光体層１３、第２の誘電体層１
４、ＩＴＯ電極１５、ＲＧＢカラーフィルター１６、前
面基板１７が順番に積層された構造を有している。

【０００４】このような構造を有する無機ＥＬディスプ
レイは、金属電極１１とＩＴＯ電極１５に電圧を印加し
て無機ＥＬ発光体層１３を励起することにより光を発生
させ、これをＲＧＢカラーフィルター１６で色変換する
ようになっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】近年、無機ＥＬディス
プレイは、家庭用テレビ等に利用することが試みられて
おり、大型ディスプレイ用として、４０〜６０型程度の
大きさの基板が要求されている。また１２型以下の小型
ディスプレイを作製する場合でも、１枚毎に背面基板を
作製するよりも、一旦大型基板を作製してから、それを
複数枚に分割切断する方が、遙かに生産効率が高いた
め、この点からも基板の大型化が望まれている。

【０００６】従来より無機ＥＬディスプレイの製造工程
において、背面基板に誘電体層や蛍光体層を形成するに
は、これらの材料をペースト法等で背面基板に塗布し、
乾燥した後、約８００℃で焼成する方法が採られてい
る。そのため、背面基板としては、耐熱性の高いアルミ
ナ基板が主に使用されている。

【０００７】ところがアルミナから大型基板を作製する
ことは非常に困難であり、コストが極めて高くなるとい
う問題がある。しかもアルミナ基板は、密度が４ｇ／ｃ
ｍ³程度と大きいため、無機ＥＬディスプレイの軽量化
を図る際の大きな障害となっている。

【０００８】このような事情から、ガラス基板を背面基
板として用いることが検討されている。そこで、まず、
無機ＥＬディスプレイの前面基板に使用されているソー
ダライムガラス基板を用いることが検討された。このガ
ラス基板は、安価であり、また、大板状に成形可能で、
密度も低いという特徴を有している。しかしながら、ソ
ーダライムガラス基板は耐熱性が低く、これを８００℃
の高温で焼成すると、熱変形を起こすため、背面基板と
しては使用できない。

【０００９】近年、無機ＥＬディスプレイの生産コスト
を下げるため、焼成温度の低温化が図られ、現在では６
５０〜７００℃程度の温度で均一な誘電体層や発光体層
を形成する技術が開発され、満足な色純度のディスプレ
イを作製できるようになってきているが、このような焼
成条件であっても、背面基板としてソーダライムガラス
基板を使用すると、やはり熱変形を起こす。

【００１０】従ってソーダライムガラス基板を背面基板
に用いようとすると、誘電体層と発光体層の焼成を６５
０℃以下の温度、すなわちガラス基板が熱変形しない温
度で行う必要があるが、このような低温焼成では、均一
な誘電体層や発光体層が得られず、無機ＥＬディスプレ
イの色純度が著しく悪くなり、使用に耐えなくなる。

【００１１】さらにソーダライムガラスは、１５０℃で
の体積電気抵抗率（ｌｏｇ ρ）が８．４Ω・ｃｍと低
く、ガラス中のアルカリ成分の移動度が大きいため、こ
れを無機ＥＬディスプレイの背面基板として用いると、
ガラス中のアルカリ成分が金属電極と反応し、電極材料
の電気抵抗を変化させるという問題もある。

【００１２】本発明の目的は、上記事情に鑑みなされた
ものであり、６５０〜７００℃で焼成されても熱変形が
起こらず、またソーダライムガラス基板に比べて体積電
気抵抗率が高く、軽量化、大型化が可能で背面基板とし
て好適な無機ＥＬディスプレイガラス基板を提供するこ
とである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成すべく種々の実験を繰り返した結果、６５０〜７
００℃の焼成工程で熱変形を起こさないためには、ガラ
スの歪点が５２０℃以上以上であれば良いことを見いだ
し、本発明を提案するに至った。

【００１４】すなわち本発明の無機ＥＬディスプレイガ
ラス基板は、アルミノシリケート系ガラスであって、Ｃ
ａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｒＯ₂の含有量が質量百分率
で、ＣａＯ０〜１３％、ＳｒＯ０〜１３％、ＢａＯ
０〜１３％、ＺｒＯ₂ ０〜１０％、ＣａＯ＋ＳｒＯ
＋ＢａＯ＋ＺｒＯ₂ ０〜１３％の範囲にあり、歪点が
５２０℃以上であることを特徴とする。

【００１５】また本発明の無機ＥＬディスプレイガラス
基板は、３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係数
が５０〜１００×１０^-7／℃からなることを特徴とす
る。

【００１６】

【作用】本発明の無機ＥＬディスプレイガラス基板は、
歪点が５２０℃以上（好ましくは５５０℃以上、より好
ましくは５７０℃以上）であるため、背面基板として使
用し、６５０〜７００℃で焼成されても熱変形を起こす
ことがない。しかも、アルミノシリケート系ガラスはソ
ーダライムガラスに比べて、体積電気抵抗率が高いた
め、無機ＥＬディスプレイの電極材料の電気抵抗値が変
化し難い。

【００１７】また、一般にアルミノシリケートガラス基
板は、ソーダライムガラス基板に比べて割れやすいとい
う欠点があるが、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｒＯ₂が
ガラスの耐クラック性を悪化させる成分であることを見
いだし、これら成分の合量を１３％以下に制限している
ため、本発明の無機ＥＬディスプレイガラス基板は、耐
クラック性が高く、割れにくい。

【００１８】さらに本発明においては、基板の熱膨張係
数を、３０〜３８０℃の温度範囲において５０〜１００
×１０^-7／℃（好ましくは、６０〜９０×１０^-7／℃）
とし、前面基板や誘電体層の熱膨張係数に近似させる
と、前面基板や誘電体材料との間で熱応力が発生するこ
ともないため、より好ましい。

【００１９】また、本発明のガラス基板は、大板状に成
形可能であるため、４０〜６０型の大型ディスプレイ基
板を安価に作製することができ、しかも一旦、大板ガラ
スを作製してから、それを複数枚に分割切断することに
よって、１２型以下の小型ディスプレイ基板を安価に作
製することも可能である。

【００２０】本発明のガラス基板は、周知の板ガラス成
形法、すなわちフロート法、ロールアウト法、スロット
ダウンドロー法、オーバーフローダウンドロー法等によ
って作製することができ、これらの方法によって大型の
基板状に成形することが可能である。

【００２１】本発明の無機ＥＬディスプレイガラス基板
の具体的組成は、ＳｉＯ₂ ４５〜８５％、Ａｌ₂Ｏ₃
１〜２０％、ＭｇＯ０〜１５％、ＣａＯ０〜１３
％、ＳｒＯ０〜１３％、ＢａＯ０〜１３％、Ｌｉ₂
Ｏ０〜２％、Ｎａ₂Ｏ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ０〜２０
％、ＺｒＯ₂ ０〜１０％、ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋
ＺｒＯ₂ ０〜１３％である。

【００２２】上記の組成範囲の中でも、特に、以下の２
つの組成を有するものが好ましい。ＳｉＯ₂ ４５〜８
５％（好ましくは５０〜７０％）、Ａｌ₂Ｏ₃ １〜２０
％（好ましくは１〜１５％）、ＭｇＯ０〜１５％（好
ましくは１〜７％）、ＣａＯ０〜１３％（好ましくは
１〜１０％）、ＳｒＯ０〜１３％（好ましくは０〜８
％）、ＢａＯ０〜１３％（好ましくは０〜８％）、Ｌ
ｉ₂Ｏ０〜２％（好ましくは０〜１％）、Ｎａ₂Ｏ０
〜１０％（好ましくは０〜６％）、Ｋ₂Ｏ０〜２０％
（好ましくは４〜１５％）、ＺｒＯ₂ ０〜１０％（好
ましくは０〜７％）、ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｒＯ
₂ ７〜１３％（好ましくは８〜１２％）からなる組成
を有するもの。

【００２３】若しくは、ＳｉＯ₂ ４５〜８５％（好ま
しくは５０〜７０％）、Ａｌ₂Ｏ₃１〜２０％（好ましく
は１〜１５％）、ＭｇＯ０〜１５％（好ましくは１〜
７％）、ＣａＯ０〜６％（好ましくは１〜５％）、Ｓ
ｒＯ０〜１３％（好ましくは０〜８％）、ＢａＯ０
〜１３％（好ましくは０〜８％）、Ｌｉ₂Ｏ０〜２％
（好ましくは０〜１％）、Ｎａ₂Ｏ０〜１０％（好ま
しくは０〜６％）、Ｋ₂Ｏ０〜２０％（好ましくは４
〜１５％）、ＺｒＯ₂ ０〜１０％（好ましくは０〜７
％）、ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｒＯ₂ ０〜１３％
（好ましくは６〜１２％）からなる組成を有するもの。

【００２４】尚、前者のガラスの組成範囲を上記のよう
に限定した理由は、次の通りである。

【００２５】ＳｉＯ₂は、ガラスの歪点を高める成分で
ある。ＳｉＯ₂が４５％より少ないと、ガラスの歪点が
低下し、熱変形が起こりやすくなる。一方、８５％より
多いと、熱膨張係数が低くなりすぎるため好ましくな
い。

【００２６】Ａｌ₂Ｏ₃もガラスの歪点を高める成分であ
る。Ａｌ₂Ｏ₃が１％より少ないと、ガラスの歪点が低下
し、熱変形が起こりやすくなる。一方、Ａｌ₂Ｏ₃が２０
％より多いと、ガラスの溶融性が低下するため好ましく
ない。

【００２７】ＭｇＯは、ガラスの熱膨張係数を制御した
り、溶融性を向上させる成分である。ＭｇＯが１５％よ
り多いと、失透しやすくなるため好ましくない。

【００２８】ＣａＯは、ガラスの溶融性及び体積電気抵
抗率を向上させる成分である。ＣａＯが１３％より多い
と、ガラスが失透しやすくなるため好ましくない。

【００２９】ＳｒＯは、ガラスの溶融性及び体積電気抵
抗率を高める成分である。ＳｒＯが１３％より多いと、
ガラスの密度が上昇して基板の重量が重くなりすぎるた
め好ましくない。

【００３０】ＢａＯは、ＳｒＯと同様、ガラスの溶融性
及び体積電気抵抗率を高める成分である。ＢａＯが１３
％より多いと、ガラスの密度が上昇して基板の重量が重
くなりすぎるため好ましくない。

【００３１】Ｌｉ₂Ｏは、ガラスの熱膨張係数を制御し
たり、溶融性を高める成分である。Ｌｉ₂Ｏが２％より
多いと、ガラスの歪点が低下するため好ましくない。

【００３２】Ｎａ₂Ｏは、Ｌｉ₂Ｏと同様、ガラスの熱膨
張係数を制御したり、溶融性を高める成分である。Ｎａ
₂Ｏが１０％より多いと、ガラスの歪点が低下するため
好ましくない。

【００３３】Ｋ₂Ｏも、Ｌｉ₂ＯやＮａ₂Ｏと同様、ガラ
スの熱膨張係数を制御したり、溶融性を高める成分であ
る。Ｋ₂Ｏが２０％より多いと、ガラスの歪点が低下す
るため好ましくない。

【００３４】但し、ガラス中に多量のＮａ₂ＯとＫ₂Ｏが
含まれていると、焼成時にガラス中のアルカリイオンが
誘電体層等に拡散し、特性の劣化を招きやすいため、Ｎ
ａ₂ＯとＫ₂Ｏの合量を２０％以下に抑えることが望まし
い。

【００３５】ＺｒＯ₂は、ガラスの歪点を高める成分で
ある。ＺｒＯ₂が１０％より多いと、ガラスの密度が高
くなり、基板の重量が大きくなるため好ましくない。

【００３６】ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｒＯ₂の合量
は、７〜１３％以下に制限される。これら成分の合量が
１３％より多いと、ガラスの耐クラック性が著しく低下
し、７％より少ないと、ガラスの歪点が低下するため好
ましくない。

【００３７】また、後者のガラスの組成範囲を上記のよ
うに限定した理由は、次の通りである。

【００３８】ＳｉＯ₂は、ガラスの歪点を高める成分で
ある。ＳｉＯ₂が４５％より少ないと、ガラスの歪点が
低下し、熱変形が起こりやすくなる。一方、８５％より
多いと、熱膨張係数が低くなりすぎるため好ましくな
い。

【００３９】Ａｌ₂Ｏ₃もガラスの歪点を高める成分であ
る。Ａｌ₂Ｏ₃が１％より少ないと、ガラスの歪点が低下
し、熱変形が起こりやすくなる。一方、Ａｌ₂Ｏ₃が２０
％より多いと、ガラスの溶融性が低下するため好ましく
ない。

【００４０】ＭｇＯは、ガラスの熱膨張係数を制御した
り、溶融性を向上させる成分である。ＭｇＯが１５％よ
り多いと、失透しやすくなるため好ましくない。

【００４１】ＣａＯは、ガラスの溶融性及び体積電気抵
抗率を向上させる成分である。ＣａＯが６％より多い
と、耐クラック性が低下するため好ましくない。

【００４２】ＳｒＯは、ガラスの溶融性及び体積電気抵
抗率を高める成分である。ＳｒＯが１３％より多いと、
ガラスの密度が上昇して基板の重量が重くなりすぎるた
め好ましくない。

【００４３】ＢａＯは、ＳｒＯと同様、ガラスの溶融性
及び体積電気抵抗率を高める成分である。ＢａＯが１３
％より多いと、ガラスの密度が上昇して基板の重量が重
くなりすぎるため好ましくない。

【００４４】Ｌｉ₂Ｏは、ガラスの熱膨張係数を制御し
たり、溶融性を高める成分である。Ｌｉ₂Ｏが２％より
多いと、ガラスの歪点が低下するため好ましくない。

【００４５】Ｎａ₂Ｏは、Ｌｉ₂Ｏと同様、ガラスの熱膨
張係数を制御したり、溶融性を高める成分である。Ｎａ
₂Ｏが１０％より多いと、ガラスの歪点が低下するため
好ましくない。

【００４６】Ｋ₂Ｏも、Ｌｉ₂ＯやＮａ₂Ｏと同様、ガラ
スの熱膨張係数を制御したり、溶融性を高める成分であ
る。Ｋ₂Ｏが２０％より多いと、ガラスの歪点が低下す
るため好ましくない。

【００４７】但し、ガラス中に多量のＮａ₂ＯとＫ₂Ｏが
含まれていると、焼成時にガラス中のアルカリイオンが
誘電体層等に拡散し、特性の劣化を招きやすいため、Ｎ
ａ₂ＯとＫ₂Ｏの合量を２０％以下に抑えることが望まし
い。

【００４８】ＺｒＯ₂は、ガラスの歪点を高める成分で
ある。ＺｒＯ₂が１０％より多いと、ガラスの密度が高
くなり、基板の重量が大きくなるため好ましくない。

【００４９】ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｒＯ₂の合量
は、上記したように１３％以下に制限される。これら成
分の合量が１３％より多いと、ガラスの耐クラック性が
著しく低下するため好ましくない。

【００５０】尚、本発明においては、上記成分以外に
も、以下の成分を添加してもよい。

【００５１】ガラス基板の耐クラック性を向上させるた
めに、Ｐ₂Ｏ₅を１０％まで、好ましくは、５％まで添加
してもよい。尚、Ｐ₂Ｏ₅が増加すると、ガラスの体積電
気抵抗率が低下する傾向にあるため、添加量を１０％以
下に抑えることが望ましい。

【００５２】ガラスの化学的耐久性を向上すると共に、
紫外線によるガラスの着色を防止するために、ＴｉＯ₂
を５％まで、好ましくは、１％まで添加してもよい。
尚、ＴｉＯ₂が増加すると、ガラスの密度が高くなる傾
向にあるため、添加量を５％以下に抑えることが望まし
い。

【００５３】ガラスの溶融性を向上させるために、Ｂ₂
Ｏ₃を５％まで、好ましくは、２％まで添加してもよ
い。尚、Ｂ₂Ｏ₃が増加すると、ガラスの歪点が低下する
傾向にあるため、添加量を５％以下に抑えることが望ま
しい。

【００５４】また、Ａｓ₂Ｏ₃、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＳＯ₃、Ｃｌ
等の清澄剤を合量で１％まで、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、Ｎｉ
Ｏ、Ｃｒ₂Ｏ₃、ＣｅＯ₂等の着色剤を各々１％まで含有
させることができる。ただし環境面を考えると、有害な
Ａｓ₂Ｏ₃の添加は避けるべきである。

【００５５】さらに本発明では、ガラス基板の密度が低
くなるほど、無機ＥＬディスプレイの軽量化が図れるた
め好ましく、具体的には、密度を３．０ｇ／ｃｍ³以下
（好ましくは、２．８ｇ／ｃｍ³以下）にすることが望
ましい。

【００５６】

【実施例】以下、本発明の無機ＥＬディスプレイガラス
基板を実施例に基づいて詳細に説明する。

【００５７】表１、２は、本発明の無機ＥＬディスプレ
イガラス基板の実施例（試料Ｎｏ．１〜１０）と比較例
（試料Ｎｏ．１１、１２）を示すものである。尚、比較
例であるＮｏ．１２の試料は、建築用窓板ガラスとして
市販されているソーダライムガラス基板である。

【００５８】

【表１】

【００５９】

【表２】

【００６０】表中のＮｏ．１〜１１の各試料は、次のよ
うにして作製した。

【００６１】表の各ガラス組成となるようにガラス原料
を調合し、白金ポットで１５５０℃で５時間溶融した
後、カーボン板上に流し出すことによってガラス基板を
作製した。

【００６２】こうして得られた各試料について、各種の
特性を評価し、その結果を表に示した。

【００６３】表から明らかなように、実施例であるＮ
ｏ．１〜１０の各試料は、歪点が５３３℃以上、体積電
気抵抗率が１０．６以上、熱膨張係数が７１〜８５×１
０^-7／℃であり、無機ＥＬディスプレイの背面基板とし
て適したものであった。また、密度が２．５５ｇ／ｃｍ
^-3以下であるため軽量化を図ることができる。しかも、
これらの各試料は、クラック抵抗が６８０ｍＮ以上と高
いため、製造工程で割れが発生しにくいと思われる。

【００６４】それに対し、比較例であるＮｏ．１１の試
料は、クラック抵抗が４９０ｍＮと低いため、製造工程
で割れが発生しやすいと思われる。

【００６５】またＮｏ．１２の試料は、歪点が低いた
め、これを無機ＥＬディスプレイの背面基板として用
い、６５０〜７００℃で焼成すると、熱変形が起こるも
のと思われる。また体積電気抵抗率も８．５と低いた
め、電極材料の電気抵抗値を変化させることが懸念され
る。

【００６６】尚、表中の歪点は、ＡＳＴＭＣ３３６−
７１に基づいて測定し、体積電気抵抗値は、ＡＳＴＭ
Ｃ６５７−７８に基づいて１５０℃における値を測定し
た。

【００６７】また耐クラック性は、和田らが提案した方
法（Ｍ．Ｗａｄａｅｔａｌ．Ｐｒｏｃ．，ｔｈｅ
ＸｔｈＩＣＧ，ｖｏｌ．１１，Ｃｅｒａｍ．Ｓｏ
ｃ．，Ｊａｐａｎ，Ｋｙｏｔｏ，１９７４，ｐ３９）を
用いた。この方法は、ビッカース硬度計のステージに試
料ガラスを置き、試料ガラスの表面に菱形状のダイヤモ
ンド圧子を種々の荷重で１５秒間押しつける。そして、
除荷後、１５秒までに圧痕の四隅から発生するクラック
数をカウントし、最大発生しうるクラック数（４ケ）に
対する割合を求め、クラック数をカウントし、最大発生
しうるクラック数（４ケ）に対する割合を求め、クラッ
ク発生率とする。また、クラック発生率が５０％になる
ときの荷重を「クラック抵抗」とする。クラック抵抗が
大きいということは、高い荷重でもクラックが発生しに
くい、つまり耐クラック性に優れているということにな
る。尚、クラック発生率の測定は、同一荷重で２０回測
定し、その平均値を求めた。測定条件は、気温２５℃、
湿度３０％の条件で行った。

【００６８】さらに、熱膨張係数は、ディラトメーター
を用いて、３０〜３８０℃における平均熱膨張係数を測
定した。密度は、周知のアルキメデス法によって測定し
た。

【００６９】

【発明の効果】以上のように本発明の無機ＥＬディスプ
レイガラス基板は、歪点が５２０℃以上と高く、且つ、
体積電気抵抗率とクラック抵抗が高いため、無機ＥＬデ
ィスプレイの背面基板として好適である。

【００７０】また本発明の無機ＥＬディスプレイガラス
基板は、低密度であるため軽量化を図ることができ、し
かも大型基板を安価に作製することが可能であるため、
４０〜６０型の大型の家庭用テレビ等の製造が可能とな
り、また小型ディスプレイに用いられる際には、生産性
の大幅な向上が図られる。

【００７１】さらに本発明の無機ＥＬディスプレイガラ
ス基板の熱膨張係数を、３０〜３８０℃の温度範囲で５
０〜１００×１０^-7／℃にすると、前面基板や誘電体材
料との間で熱応力が発生し難いという利点も得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】無機ＥＬディスプレイの構造を示す説明図であ
る。

【符号の説明】

１０背面基板１１金属電極１２第１の誘電体層１３無機ＥＬ発光体層１４第２の誘電体層１５ＩＴＯ電極１６ＲＧＢカラーフィルター１７前面基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4G062 AA03 BB01 BB03 BB06 DA05 DA06 DA07 DB03 DB04 DC01 DD01 DE01 DF01 EA01 EA02 EA03 EA10 EB01 EB02 EB03 EC01 EC02 EC03 EC04 ED01 ED02 ED03 ED04 EE01 EE02 EE03 EE04 EF01 EF02 EF03 EF04 EG01 EG02 EG03 EG04 FA01 FA10 FB01 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM25 NN29 NN31

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】アルミノシリケート系ガラスであって、
ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｒＯ₂の含有量が質量百分
率で、ＣａＯ０〜１３％、ＳｒＯ０〜１３％、Ｂａ
Ｏ０〜１３％、ＺｒＯ₂ ０〜１０％、ＣａＯ＋Ｓｒ
Ｏ＋ＢａＯ＋ＺｒＯ₂ ０〜１３％の範囲にあり、歪点
が５２０℃以上であることを特徴とする無機ＥＬディス
プレイガラス基板。
【請求項２】ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｒＯ₂の含
有量が質量百分率で、ＣａＯ０〜１３％、ＳｒＯ０
〜１３％、ＢａＯ０〜１３％、ＺｒＯ₂０〜１０％、
ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｒＯ₂ ７〜１３％の範囲
にあることを特徴とする請求項１記載の無機ＥＬディス
プレイガラス基板。
【請求項３】ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｒＯ₂の含
有量が質量百分率で、ＣａＯ０〜６％、ＳｒＯ０〜
１３％、ＢａＯ０〜１３％、ＺｒＯ₂ ０〜１０％、
ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｒＯ₂ ０〜１３％の範囲
にあることを特徴とする請求項１記載の無機ＥＬディス
プレイガラス基板。
【請求項４】３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨
張係数が５０〜１００×１０^-7／℃であることを特徴と
する請求項１〜３記載の無機ＥＬディスプレイガラス基
板。