JP2002053340A - 無機ｅｌディスプレイガラス基板 - Google Patents
無機ｅｌディスプレイガラス基板Info
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- JP2002053340A JP2002053340A JP2000240835A JP2000240835A JP2002053340A JP 2002053340 A JP2002053340 A JP 2002053340A JP 2000240835 A JP2000240835 A JP 2000240835A JP 2000240835 A JP2000240835 A JP 2000240835A JP 2002053340 A JP2002053340 A JP 2002053340A
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- glass substrate
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ６５０〜７００℃で焼成されても熱変形が起
こらず、またソーダライムガラス基板に比べて体積電気
抵抗率が高く、軽量化、大型化が可能で背面基板として
好適な無機ＥＬディスプレイガラス基板を提供すること
である。 【構成】 質量百分率で、ＳｉＯ2 ４５〜８５％、Ａ
ｌ2Ｏ3 ３．５〜１１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ ０〜７．５
％、ＭｇＯ ０〜４．７％、ＣａＯ ０〜６％、ＳｒＯ
０〜１５％、ＢａＯ ０〜１５％、Ｌｉ2Ｏ ０〜２
％、Ｎａ2Ｏ ０〜１５％、Ｋ2Ｏ ０〜２０％、ＺｒＯ
2 ０〜１０％、ＴｉＯ2 ０〜５％、の組成を有し、歪
点が５２０℃以上であることを特徴とする。
こらず、またソーダライムガラス基板に比べて体積電気
抵抗率が高く、軽量化、大型化が可能で背面基板として
好適な無機ＥＬディスプレイガラス基板を提供すること
である。 【構成】 質量百分率で、ＳｉＯ2 ４５〜８５％、Ａ
ｌ2Ｏ3 ３．５〜１１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ ０〜７．５
％、ＭｇＯ ０〜４．７％、ＣａＯ ０〜６％、ＳｒＯ
０〜１５％、ＢａＯ ０〜１５％、Ｌｉ2Ｏ ０〜２
％、Ｎａ2Ｏ ０〜１５％、Ｋ2Ｏ ０〜２０％、ＺｒＯ
2 ０〜１０％、ＴｉＯ2 ０〜５％、の組成を有し、歪
点が５２０℃以上であることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、無機ＥＬ（エレクトロ
ルミネッセンス）ディスプレイガラス基板に関するもの
である。
ルミネッセンス）ディスプレイガラス基板に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】無機ＥＬディスプレイは、薄型軽量で表
示が鮮明であり、画像の微細化が容易であるため高品位
画像が実現でき、フルカラー化が可能であるなど、多く
の利点を有するため、今後表示装置として益々普及する
傾向にある。
示が鮮明であり、画像の微細化が容易であるため高品位
画像が実現でき、フルカラー化が可能であるなど、多く
の利点を有するため、今後表示装置として益々普及する
傾向にある。
【０００３】無機ＥＬディスプレイは、例えば図１に示
すように、背面基板１０上に金属電極１１、第１の誘電
体層１２、無機ＥＬ発光体層１３、第２の誘電体層１
４、ＩＴＯ電極１５、ＲＧＢカラーフィルター１６、前
面基板１７が順番に積層された構造を有している。
すように、背面基板１０上に金属電極１１、第１の誘電
体層１２、無機ＥＬ発光体層１３、第２の誘電体層１
４、ＩＴＯ電極１５、ＲＧＢカラーフィルター１６、前
面基板１７が順番に積層された構造を有している。
【０００４】このような構造を有する無機ＥＬディスプ
レイは、金属電極１１とＩＴＯ電極１５に電圧を印加し
て無機ＥＬ発光体層１３を励起することにより光を発生
させ、これをＲＧＢカラーフィルター１６で色変換する
ようになっている。
レイは、金属電極１１とＩＴＯ電極１５に電圧を印加し
て無機ＥＬ発光体層１３を励起することにより光を発生
させ、これをＲＧＢカラーフィルター１６で色変換する
ようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年、無機ＥＬディス
プレイは、家庭用テレビ等に利用することが試みられて
おり、大型ディスプレイ用として、４０〜６０型程度の
大きさの基板が要求されている。また１２型以下の小型
ディスプレイを作製する場合でも、１枚毎に背面基板を
作製するよりも、一旦大型基板を作製してから、それを
複数枚に分割切断する方が、遙かに生産効率が高いた
め、この点からも基板の大型化が望まれている。
プレイは、家庭用テレビ等に利用することが試みられて
おり、大型ディスプレイ用として、４０〜６０型程度の
大きさの基板が要求されている。また１２型以下の小型
ディスプレイを作製する場合でも、１枚毎に背面基板を
作製するよりも、一旦大型基板を作製してから、それを
複数枚に分割切断する方が、遙かに生産効率が高いた
め、この点からも基板の大型化が望まれている。
【０００６】従来より無機ＥＬディスプレイの製造工程
において、背面基板に誘電体層や蛍光体層を形成するに
は、これらの材料をペースト法等で背面基板に塗布し、
乾燥した後、約８００℃で焼成する方法が採られてい
る。そのため、背面基板としては、耐熱性の高いアルミ
ナ基板が主に使用されている。
において、背面基板に誘電体層や蛍光体層を形成するに
は、これらの材料をペースト法等で背面基板に塗布し、
乾燥した後、約８００℃で焼成する方法が採られてい
る。そのため、背面基板としては、耐熱性の高いアルミ
ナ基板が主に使用されている。
【０００７】ところがアルミナから大型基板を作製する
ことは非常に困難であり、コストが極めて高くなるとい
う問題がある。しかもアルミナ基板は、密度が４ｇ／ｃ
ｍ3程度と大きいため、無機ＥＬディスプレイの軽量化
を図る際の大きな障害となっている。
ことは非常に困難であり、コストが極めて高くなるとい
う問題がある。しかもアルミナ基板は、密度が４ｇ／ｃ
ｍ3程度と大きいため、無機ＥＬディスプレイの軽量化
を図る際の大きな障害となっている。
【０００８】このような事情から、ガラス基板を背面基
板として用いることが検討されている。そこで、まず、
無機ＥＬディスプレイの前面基板に使用されているソー
ダライムガラス基板を背面基板として用いることが検討
された。このガラス基板は、安価であり、また、大板状
に成形可能で、密度も低いという特徴を有している。し
かしながら、ソーダライムガラス基板は耐熱性が低く、
これを８００℃の高温で焼成すると、熱変形を起こすた
め、背面基板としては使用できない。
板として用いることが検討されている。そこで、まず、
無機ＥＬディスプレイの前面基板に使用されているソー
ダライムガラス基板を背面基板として用いることが検討
された。このガラス基板は、安価であり、また、大板状
に成形可能で、密度も低いという特徴を有している。し
かしながら、ソーダライムガラス基板は耐熱性が低く、
これを８００℃の高温で焼成すると、熱変形を起こすた
め、背面基板としては使用できない。
【０００９】近年、無機ＥＬディスプレイの生産コスト
を下げるため、焼成温度の低温化が図られ、現在では６
５０〜７００℃程度の温度で均一な誘電体層や発光体層
を形成する技術が開発され、満足な色純度のディスプレ
イを作製できるようになってきているが、このような焼
成条件であっても、背面基板としてソーダライムガラス
基板を使用すると、やはり熱変形を起こす。
を下げるため、焼成温度の低温化が図られ、現在では６
５０〜７００℃程度の温度で均一な誘電体層や発光体層
を形成する技術が開発され、満足な色純度のディスプレ
イを作製できるようになってきているが、このような焼
成条件であっても、背面基板としてソーダライムガラス
基板を使用すると、やはり熱変形を起こす。
【００１０】従ってソーダライムガラス基板を背面基板
に用いようとすると、誘電体層と発光体層の焼成を６５
０℃以下の温度、すなわちガラス基板が熱変形しない温
度で行う必要があるが、このような低温焼成では、均一
な誘電体層や発光体層が得られず、無機ＥＬディスプレ
イの色純度が著しく悪くなり、使用に耐えなくなる。
に用いようとすると、誘電体層と発光体層の焼成を６５
０℃以下の温度、すなわちガラス基板が熱変形しない温
度で行う必要があるが、このような低温焼成では、均一
な誘電体層や発光体層が得られず、無機ＥＬディスプレ
イの色純度が著しく悪くなり、使用に耐えなくなる。
【００１１】さらにソーダライムガラスは、１５０℃で
の体積電気抵抗率（ｌｏｇ ρ）が８．４Ω・ｃｍと低
く、ガラス中のアルカリ成分の移動度が大きいため、こ
れを無機ＥＬディスプレイの背面基板として用いると、
ガラス中のアルカリ成分が金属電極と反応し、電極材料
の電気抵抗を変化させるという問題もある。
の体積電気抵抗率（ｌｏｇ ρ）が８．４Ω・ｃｍと低
く、ガラス中のアルカリ成分の移動度が大きいため、こ
れを無機ＥＬディスプレイの背面基板として用いると、
ガラス中のアルカリ成分が金属電極と反応し、電極材料
の電気抵抗を変化させるという問題もある。
【００１２】本発明の目的は、上記事情に鑑みなされた
ものであり、６５０〜７００℃で焼成されても熱変形が
起こらず、またソーダライムガラス基板に比べて体積電
気抵抗率が高く、軽量化、大型化が可能で背面基板とし
て好適な無機ＥＬディスプレイガラス基板を提供するこ
とである。
ものであり、６５０〜７００℃で焼成されても熱変形が
起こらず、またソーダライムガラス基板に比べて体積電
気抵抗率が高く、軽量化、大型化が可能で背面基板とし
て好適な無機ＥＬディスプレイガラス基板を提供するこ
とである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成すべく種々の実験を繰り返した結果、６５０〜７
００℃の焼成工程で熱変形を起こさないためには、ガラ
スの歪点が５２０℃以上以上であれば良いことを見いだ
し、本発明を提案するに至った。
を達成すべく種々の実験を繰り返した結果、６５０〜７
００℃の焼成工程で熱変形を起こさないためには、ガラ
スの歪点が５２０℃以上以上であれば良いことを見いだ
し、本発明を提案するに至った。
【００１４】すなわち本発明の無機ＥＬディスプレイガ
ラス基板は、質量百分率で、ＳｉＯ 2 ４５〜８５％、
Ａｌ2Ｏ3 ３．５〜１１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ ０〜７．
５％、ＭｇＯ ０〜４．７％、ＣａＯ ０〜６％、Ｓｒ
Ｏ ０〜１５％、ＢａＯ ０〜１５％、Ｌｉ2Ｏ ０〜
２％、Ｎａ2Ｏ ０〜１５％、Ｋ2Ｏ ０〜２０％、Ｚｒ
Ｏ2 ０〜１０％、ＴｉＯ2 ０〜５％、の組成を有し、
歪点が５２０℃以上であることを特徴とする。
ラス基板は、質量百分率で、ＳｉＯ 2 ４５〜８５％、
Ａｌ2Ｏ3 ３．５〜１１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ ０〜７．
５％、ＭｇＯ ０〜４．７％、ＣａＯ ０〜６％、Ｓｒ
Ｏ ０〜１５％、ＢａＯ ０〜１５％、Ｌｉ2Ｏ ０〜
２％、Ｎａ2Ｏ ０〜１５％、Ｋ2Ｏ ０〜２０％、Ｚｒ
Ｏ2 ０〜１０％、ＴｉＯ2 ０〜５％、の組成を有し、
歪点が５２０℃以上であることを特徴とする。
【００１５】また、本発明の無機ＥＬディスプレイガラ
ス基板は、３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係
数が５０〜１００×１０-7／℃からなることを特徴とす
る。
ス基板は、３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係
数が５０〜１００×１０-7／℃からなることを特徴とす
る。
【００１６】
【作用】本発明の無機ＥＬディスプレイガラス基板は、
質量百分率で、ＳｉＯ2 ４５〜８５％、Ａｌ2Ｏ3
３．５〜１１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ ０〜７．５％、Ｍｇ
Ｏ０〜４．７％、ＣａＯ ０〜６％、ＳｒＯ ０〜１５
％、ＢａＯ ０〜１５％、Ｌｉ2Ｏ ０〜２％、Ｎａ2Ｏ
０〜１５％、Ｋ2Ｏ ０〜２０％、ＺｒＯ2 ０〜１０
％、ＴｉＯ2 ０〜５％の組成を有し、歪点が５２０℃
以上（好ましくは５５０℃以上、より好ましくは５７０
℃以上）であるため、背面基板として使用し、６５０〜
７００℃で焼成されても熱変形を起こすことがなく、し
かもソーダライムガラス基板に比べて、体積電気抵抗率
が高いため、無機ＥＬディスプレイの電極材料の電気抵
抗値が変化し難い。
質量百分率で、ＳｉＯ2 ４５〜８５％、Ａｌ2Ｏ3
３．５〜１１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ ０〜７．５％、Ｍｇ
Ｏ０〜４．７％、ＣａＯ ０〜６％、ＳｒＯ ０〜１５
％、ＢａＯ ０〜１５％、Ｌｉ2Ｏ ０〜２％、Ｎａ2Ｏ
０〜１５％、Ｋ2Ｏ ０〜２０％、ＺｒＯ2 ０〜１０
％、ＴｉＯ2 ０〜５％の組成を有し、歪点が５２０℃
以上（好ましくは５５０℃以上、より好ましくは５７０
℃以上）であるため、背面基板として使用し、６５０〜
７００℃で焼成されても熱変形を起こすことがなく、し
かもソーダライムガラス基板に比べて、体積電気抵抗率
が高いため、無機ＥＬディスプレイの電極材料の電気抵
抗値が変化し難い。
【００１７】また、一般にアルミノシリケート系ガラス
は、ソーダライム系ガラスに比べて失透しやすく、成形
性が悪いという欠点があるが、本発明の無機ＥＬディス
プレイガラス基板は、失透性を増大させる成分であるＭ
ｇＯとＣａＯとの合量を７．５％以下にし、しかも、Ｍ
ｇＯを４．７％以下、ＣａＯを６％以下に制限すること
で、失透性を改善することができる。
は、ソーダライム系ガラスに比べて失透しやすく、成形
性が悪いという欠点があるが、本発明の無機ＥＬディス
プレイガラス基板は、失透性を増大させる成分であるＭ
ｇＯとＣａＯとの合量を７．５％以下にし、しかも、Ｍ
ｇＯを４．７％以下、ＣａＯを６％以下に制限すること
で、失透性を改善することができる。
【００１８】さらに本発明においては、基板の熱膨張係
数を、３０〜３８０℃の温度範囲において５０〜１００
×１０-7／℃（好ましくは、６０〜９０×１０-7／℃）
とし、前面基板や誘電体層の熱膨張係数に近似させる
と、前面基板や誘電体材料との間で熱応力が発生するこ
ともないため、より好ましい。
数を、３０〜３８０℃の温度範囲において５０〜１００
×１０-7／℃（好ましくは、６０〜９０×１０-7／℃）
とし、前面基板や誘電体層の熱膨張係数に近似させる
と、前面基板や誘電体材料との間で熱応力が発生するこ
ともないため、より好ましい。
【００１９】また、本発明のガラス基板は、大板状に成
形可能であるため、４０〜６０型の大型ディスプレイ基
板を安価に作製することができ、しかも一旦、大板ガラ
スを作製してから、それを複数枚に分割切断することに
よって、１２型以下の小型ディスプレイ基板を安価に作
製することも可能である。
形可能であるため、４０〜６０型の大型ディスプレイ基
板を安価に作製することができ、しかも一旦、大板ガラ
スを作製してから、それを複数枚に分割切断することに
よって、１２型以下の小型ディスプレイ基板を安価に作
製することも可能である。
【００２０】本発明のガラス基板は、周知の板ガラス成
形法、すなわちフロート法、ロールアウト法、スロット
ダウンドロー法、オーバーフローダウンドロー法等によ
って作製することができ、これらの方法によって大型の
基板状に成形することが可能である。
形法、すなわちフロート法、ロールアウト法、スロット
ダウンドロー法、オーバーフローダウンドロー法等によ
って作製することができ、これらの方法によって大型の
基板状に成形することが可能である。
【００２１】本発明の無機ＥＬディスプレイガラス基板
の組成を上記のように限定した理由は、次の通りであ
る。
の組成を上記のように限定した理由は、次の通りであ
る。
【００２２】ＳｉＯ2は、ガラスの歪点を高める成分で
あり、その含有量は、４５〜８５％である。４５％より
少ないと、ガラスの歪点が低下し、熱変形が起こりやす
くなる。一方、８５％より多いと、熱膨張係数が低くな
りすぎるため好ましくない。ＳｉＯ2の好ましい含有量
は、５０〜７０％である。
あり、その含有量は、４５〜８５％である。４５％より
少ないと、ガラスの歪点が低下し、熱変形が起こりやす
くなる。一方、８５％より多いと、熱膨張係数が低くな
りすぎるため好ましくない。ＳｉＯ2の好ましい含有量
は、５０〜７０％である。
【００２３】Ａｌ2Ｏ3もガラスの歪点を高める成分であ
り、その含有量は、３．５〜１５％である。３．５％よ
り少ないと、ガラスの歪点が低下し、熱変形が起こりや
すくなる。一方、１１％より多いと、ガラスの溶融性が
低下するため好ましくない。Ａｌ2Ｏ3の好ましい含有量
は、５〜１０％である。
り、その含有量は、３．５〜１５％である。３．５％よ
り少ないと、ガラスの歪点が低下し、熱変形が起こりや
すくなる。一方、１１％より多いと、ガラスの溶融性が
低下するため好ましくない。Ａｌ2Ｏ3の好ましい含有量
は、５〜１０％である。
【００２４】ＭｇＯとＣａＯは、ガラスの熱膨張係数を
制御したり、溶融性を向上させる成分であり、これら成
分の合量は、０〜７．５％である。これが成分の合量が
７．５％より多いと、ガラスが著しく失透するため好ま
しくない。これら成分の好ましい範囲は０〜６．５％で
ある。
制御したり、溶融性を向上させる成分であり、これら成
分の合量は、０〜７．５％である。これが成分の合量が
７．５％より多いと、ガラスが著しく失透するため好ま
しくない。これら成分の好ましい範囲は０〜６．５％で
ある。
【００２５】尚、ＭｇＯとＣａＯの合量が７．５％以下
であっても、ＭｇＯの含有量が４．７％より多かった
り、ＣａＯの含有量が６％より多い場合は、失透しやす
くなるため好ましくない。ＭｇＯの好ましい含有量は、
１〜４％である。また、ＣａＯの好ましい含有量は、０
〜３％であり、さらに好ましくは、０．５〜２．５％で
ある。
であっても、ＭｇＯの含有量が４．７％より多かった
り、ＣａＯの含有量が６％より多い場合は、失透しやす
くなるため好ましくない。ＭｇＯの好ましい含有量は、
１〜４％である。また、ＣａＯの好ましい含有量は、０
〜３％であり、さらに好ましくは、０．５〜２．５％で
ある。
【００２６】ＳｒＯは、ガラスの溶融性及び体積電気抵
抗率を高める成分であり、その含有量は、０〜１５％で
ある。１５％より多いと、ガラスの密度が上昇して基板
の重量が重くなりすぎるため好ましくない。ＳｒＯの好
ましい含有量は、０〜８％である。
抗率を高める成分であり、その含有量は、０〜１５％で
ある。１５％より多いと、ガラスの密度が上昇して基板
の重量が重くなりすぎるため好ましくない。ＳｒＯの好
ましい含有量は、０〜８％である。
【００２７】ＢａＯは、ＳｒＯと同様、ガラスの溶融性
及び体積電気抵抗率を高める成分であり、その含有量
は、０〜１５％である。１５％より多いと、ガラスの密
度が上昇して基板の重量が重くなりすぎるため好ましく
ない。ＢａＯの好ましい含有量は、０〜８％である。
及び体積電気抵抗率を高める成分であり、その含有量
は、０〜１５％である。１５％より多いと、ガラスの密
度が上昇して基板の重量が重くなりすぎるため好ましく
ない。ＢａＯの好ましい含有量は、０〜８％である。
【００２８】Ｌｉ2Ｏは、ガラスの熱膨張係数を制御し
たり、溶融性を高める成分であり、その含有量は、０〜
２％である。２％より多いと、ガラスの歪点が低下する
ため好ましくない。Ｌｉ2Ｏの好ましい含有量は、０〜
１％である。
たり、溶融性を高める成分であり、その含有量は、０〜
２％である。２％より多いと、ガラスの歪点が低下する
ため好ましくない。Ｌｉ2Ｏの好ましい含有量は、０〜
１％である。
【００２９】Ｎａ2Ｏは、Ｌｉ2Ｏと同様、ガラスの熱膨
張係数を制御したり、溶融性を高める成分であり、その
含有量は、０〜１５％である。１５％より多いと、ガラ
スの歪点が低下するため好ましくない。Ｎａ2Ｏの好ま
しい含有量は、０〜１０％である。
張係数を制御したり、溶融性を高める成分であり、その
含有量は、０〜１５％である。１５％より多いと、ガラ
スの歪点が低下するため好ましくない。Ｎａ2Ｏの好ま
しい含有量は、０〜１０％である。
【００３０】Ｋ2Ｏも、Ｌｉ2ＯやＮａ2Ｏと同様、ガラ
スの熱膨張係数を制御したり、溶融性を高める成分であ
り、その含有量は、０〜２０％である。２０％より多い
と、ガラスの歪点が低下するため好ましくない。Ｋ2Ｏ
の好ましい含有量は、４〜１５％である。
スの熱膨張係数を制御したり、溶融性を高める成分であ
り、その含有量は、０〜２０％である。２０％より多い
と、ガラスの歪点が低下するため好ましくない。Ｋ2Ｏ
の好ましい含有量は、４〜１５％である。
【００３１】但し、ガラス中に多量のＮａ2ＯとＫ2Ｏが
含まれていると、焼成時にガラス中のアルカリイオンが
誘電体層等に拡散し、特性の劣化を招きやすいため、Ｎ
ａ2ＯとＫ2Ｏの合量を２０％以下に抑えることが望まし
い。
含まれていると、焼成時にガラス中のアルカリイオンが
誘電体層等に拡散し、特性の劣化を招きやすいため、Ｎ
ａ2ＯとＫ2Ｏの合量を２０％以下に抑えることが望まし
い。
【００３２】ＺｒＯ2は、ガラスの歪点を高める成分で
あり、その含有量は、０〜１０％である。１０％より多
いと、ガラスの密度が高くなり、基板の重量が大きくな
るため好ましくない。ＺｒＯ2の好ましい含有量は、０
〜６％である。
あり、その含有量は、０〜１０％である。１０％より多
いと、ガラスの密度が高くなり、基板の重量が大きくな
るため好ましくない。ＺｒＯ2の好ましい含有量は、０
〜６％である。
【００３３】ＴｉＯ2は、ガラスの化学的耐久性を向上
すると共に、紫外線によるガラスの着色を防止する成分
であり、その含有量は、０〜５％である。５％より多い
と、ガラスの密度が高くなり、基板の重量が大きくなり
すぎる。ＴｉＯ2の好ましい含有量は、０〜１％であ
る。
すると共に、紫外線によるガラスの着色を防止する成分
であり、その含有量は、０〜５％である。５％より多い
と、ガラスの密度が高くなり、基板の重量が大きくなり
すぎる。ＴｉＯ2の好ましい含有量は、０〜１％であ
る。
【００３４】尚、本発明においては、上記成分以外に
も、以下の成分を添加してもよい。
も、以下の成分を添加してもよい。
【００３５】ガラス基板の耐クラック性を向上させるた
めに、Ｐ2Ｏ5を１０％まで、好ましくは、５％まで添加
してもよい。尚、添加量が増加すると、ガラスの体積電
気抵抗率が低下する傾向にあるため、添加量を１０％以
下に抑えることが望ましい。
めに、Ｐ2Ｏ5を１０％まで、好ましくは、５％まで添加
してもよい。尚、添加量が増加すると、ガラスの体積電
気抵抗率が低下する傾向にあるため、添加量を１０％以
下に抑えることが望ましい。
【００３６】ガラスの溶融性を向上させるために、Ｂ2
Ｏ3を５％まで、好ましくは、２％まで添加してもよ
い。尚、添加量が増加すると、ガラスの歪点が低下する
傾向にあるため、添加量を５％以下に抑えることが望ま
しい。
Ｏ3を５％まで、好ましくは、２％まで添加してもよ
い。尚、添加量が増加すると、ガラスの歪点が低下する
傾向にあるため、添加量を５％以下に抑えることが望ま
しい。
【００３７】また、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳＯ3、Ｃｌ
等の清澄剤を合量で１％まで、Ｆｅ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｎｉ
Ｏ、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｅＯ2等の着色剤を各々１％まで含有
させることができる。ただし環境面を考えると、有害な
Ａｓ2Ｏ3の添加は避けるべきである。
等の清澄剤を合量で１％まで、Ｆｅ2Ｏ3、ＣｏＯ、Ｎｉ
Ｏ、Ｃｒ2Ｏ3、ＣｅＯ2等の着色剤を各々１％まで含有
させることができる。ただし環境面を考えると、有害な
Ａｓ2Ｏ3の添加は避けるべきである。
【００３８】さらに本発明では、ガラス基板の密度が低
くなるほど、無機ＥＬディスプレイの軽量化が図れるた
め好ましく、具体的には、密度を３．０ｇ／ｃｍ3以下
（好ましくは、２．８ｇ／ｃｍ3以下）にすることが望
ましい。
くなるほど、無機ＥＬディスプレイの軽量化が図れるた
め好ましく、具体的には、密度を３．０ｇ／ｃｍ3以下
（好ましくは、２．８ｇ／ｃｍ3以下）にすることが望
ましい。
【００３９】
【実施例】以下、本発明の無機ＥＬディスプレイガラス
基板を実施例に基づいて詳細に説明する。
基板を実施例に基づいて詳細に説明する。
【００４０】表１、２は、本発明の無機ＥＬディスプレ
イガラス基板の実施例（試料Ｎｏ．１〜９）と比較例
（試料Ｎｏ．１０〜１３）を示すものである。尚、比較
例であるＮｏ．１３の試料は、建築用窓板ガラスとして
市販されているソーダライムガラス基板である。
イガラス基板の実施例（試料Ｎｏ．１〜９）と比較例
（試料Ｎｏ．１０〜１３）を示すものである。尚、比較
例であるＮｏ．１３の試料は、建築用窓板ガラスとして
市販されているソーダライムガラス基板である。
【００４１】
【表１】
【００４２】
【表２】
【００４３】表中のＮｏ．１〜１２の各試料は、次のよ
うにして作製した。
うにして作製した。
【００４４】表の各ガラス組成となるようにガラス原料
を調合し、白金ポットで１５５０℃で５時間溶融した
後、カーボン板上に流し出すことによってガラス基板を
作製した。
を調合し、白金ポットで１５５０℃で５時間溶融した
後、カーボン板上に流し出すことによってガラス基板を
作製した。
【００４５】こうして得られた各試料について、各種の
特性を評価し、その結果を表に示した。
特性を評価し、その結果を表に示した。
【００４６】表から明らかなように、実施例であるＮ
ｏ．１〜９の各試料は、歪点が５６５℃以上、体積電気
抵抗率が１０．７以上、熱膨張係数が７０〜８９×１０
-7／℃であり、密度は２．８０ｇ／ｃｍ3以下と低く、
無機ＥＬディスプレイの背面基板として適したものであ
った。しかも、これらの各試料は、液相温度が１１２０
℃以下と低いため、失透しにくく成形性に優れている。
ｏ．１〜９の各試料は、歪点が５６５℃以上、体積電気
抵抗率が１０．７以上、熱膨張係数が７０〜８９×１０
-7／℃であり、密度は２．８０ｇ／ｃｍ3以下と低く、
無機ＥＬディスプレイの背面基板として適したものであ
った。しかも、これらの各試料は、液相温度が１１２０
℃以下と低いため、失透しにくく成形性に優れている。
【００４７】それに対し、比較例であるＮｏ．１０〜１
２の試料は、液相温度が１１６０℃以上と高いため、失
透しやすく成形性に劣ると思われる。
２の試料は、液相温度が１１６０℃以上と高いため、失
透しやすく成形性に劣ると思われる。
【００４８】またＮｏ．１３の試料は、歪点が低いた
め、これを無機ＥＬディスプレイの背面基板として用
い、６５０〜７００℃で焼成すると、熱変形が起こるも
のと思われる。また体積電気抵抗率も８．５と低いた
め、電極材料の電気抵抗値を変化させることが懸念され
る。
め、これを無機ＥＬディスプレイの背面基板として用
い、６５０〜７００℃で焼成すると、熱変形が起こるも
のと思われる。また体積電気抵抗率も８．５と低いた
め、電極材料の電気抵抗値を変化させることが懸念され
る。
【００４９】尚、表中の歪点は、ＡＳＴＭ Ｃ３３６−
７１に基づいて測定し、体積電気抵抗率は、ＡＳＴＭ
Ｃ６５７−７８に基づいて１５０℃における値を測定し
た。
７１に基づいて測定し、体積電気抵抗率は、ＡＳＴＭ
Ｃ６５７−７８に基づいて１５０℃における値を測定し
た。
【００５０】また、熱膨張係数は、ディラトメーターを
用いて、３０〜３８０℃における平均熱膨張係数を測定
した。密度は、周知のアルキメデス法によって測定し
た。
用いて、３０〜３８０℃における平均熱膨張係数を測定
した。密度は、周知のアルキメデス法によって測定し
た。
【００５１】液相温度については、以下の要領で測定し
た。まず、各試料をそれぞれ２９７〜５００μｍの大き
さに粉砕、混合し、これを白金製のボートに入れて９０
０〜１２００℃の温度勾配炉に移して４８時間保持し、
温度勾配炉より白金製のボートを取り出した。その後、
白金製のボートからガラスを取り出し、このようにして
得られたサンプルを偏光顕微鏡で観察し、結晶の析出点
を測定した。尚、液相温度が低いということは、失透し
にくく、成形性に優れていることを表す。
た。まず、各試料をそれぞれ２９７〜５００μｍの大き
さに粉砕、混合し、これを白金製のボートに入れて９０
０〜１２００℃の温度勾配炉に移して４８時間保持し、
温度勾配炉より白金製のボートを取り出した。その後、
白金製のボートからガラスを取り出し、このようにして
得られたサンプルを偏光顕微鏡で観察し、結晶の析出点
を測定した。尚、液相温度が低いということは、失透し
にくく、成形性に優れていることを表す。
【００５２】
【発明の効果】以上のように本発明の無機ＥＬディスプ
レイガラス基板は、歪点が５６５℃以上と高く、且つ、
体積電気抵抗率が高いため、無機ＥＬディスプレイの背
面基板として好適である。
レイガラス基板は、歪点が５６５℃以上と高く、且つ、
体積電気抵抗率が高いため、無機ＥＬディスプレイの背
面基板として好適である。
【００５３】また本発明の無機ＥＬディスプレイガラス
基板は、低密度であるため軽量化を図ることができ、し
かも、液相温度が低く成形性に優れているため、大型基
板を安価に作製することができ、４０〜６０型の大型の
家庭用テレビ等の製造が可能となり、また小型ディスプ
レイに用いられる際には、生産性の大幅な向上が図られ
る。
基板は、低密度であるため軽量化を図ることができ、し
かも、液相温度が低く成形性に優れているため、大型基
板を安価に作製することができ、４０〜６０型の大型の
家庭用テレビ等の製造が可能となり、また小型ディスプ
レイに用いられる際には、生産性の大幅な向上が図られ
る。
【００５４】さらに本発明の無機ＥＬディスプレイガラ
ス基板の熱膨張係数を、３０〜３８０℃の温度範囲で５
０〜１００×１０-7／℃にすると、前面基板や誘電体材
料との間で熱応力が発生し難いという利点も得られる。
ス基板の熱膨張係数を、３０〜３８０℃の温度範囲で５
０〜１００×１０-7／℃にすると、前面基板や誘電体材
料との間で熱応力が発生し難いという利点も得られる。
【図１】無機ＥＬディスプレイの構造を示す説明図であ
る。
る。
１０ 背面基板 １１ 金属電極 １２ 第１の誘電体層 １３ 無機ＥＬ発光体層 １４ 第２の誘電体層 １５ ＩＴＯ電極 １６ ＲＧＢカラーフィルター １７ 前面基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G062 AA03 BB01 BB03 DA05 DA06 DA07 DB03 DB04 DC01 DD01 DE01 DF01 EA01 EA02 EA03 EA10 EB01 EB02 EB03 EB04 EC01 EC02 EC03 EC04 ED01 ED02 ED03 EE01 EE02 EE03 EF01 EF02 EF03 EF04 EG01 EG02 EG03 EG04 FA01 FA10 FB01 FB02 FB03 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM25 NN24 NN29 NN31
Claims (2)
- 【請求項１】 質量百分率で、ＳｉＯ2 ４５〜８５
％、Ａｌ2Ｏ3 ３．５〜１１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ ０〜
７．５％、ＭｇＯ ０〜４．７％、ＣａＯ ０〜６％、
ＳｒＯ ０〜１５％、ＢａＯ ０〜１５％、Ｌｉ2Ｏ
０〜２％、Ｎａ2Ｏ ０〜１５％、Ｋ2Ｏ ０〜２０％、
ＺｒＯ2 ０〜１０％、ＴｉＯ2 ０〜５％、の組成を有
し、歪点が５２０℃以上であることを特徴とする無機Ｅ
Ｌディスプレイガラス基板。 - 【請求項２】 ３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨
張係数が５０〜１００×１０-7／℃であることを特徴と
する請求項１記載の無機ＥＬディスプレイガラス基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000240835A JP2002053340A (ja) | 2000-08-09 | 2000-08-09 | 無機ｅｌディスプレイガラス基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000240835A JP2002053340A (ja) | 2000-08-09 | 2000-08-09 | 無機ｅｌディスプレイガラス基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002053340A true JP2002053340A (ja) | 2002-02-19 |
Family
ID=18732127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000240835A Pending JP2002053340A (ja) | 2000-08-09 | 2000-08-09 | 無機ｅｌディスプレイガラス基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002053340A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005089286A (ja) * | 2003-08-12 | 2005-04-07 | Nippon Electric Glass Co Ltd | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 |
| JP2007210839A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Central Glass Co Ltd | ディスプレイ装置用基板ガラス |
| JP2007246365A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ディスプレイ用ガラス基板 |
| JP2008308375A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Central Glass Co Ltd | ディスプレイ装置用基板ガラス |
| US8445394B2 (en) | 2008-10-06 | 2013-05-21 | Corning Incorporated | Intermediate thermal expansion coefficient glass |
| US8623776B2 (en) | 2008-02-26 | 2014-01-07 | Corning Incorporated | Silicate glasses having low seed concentration |
| US8647995B2 (en) | 2009-07-24 | 2014-02-11 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable silica and sodium containing glasses |
| US8975199B2 (en) | 2011-08-12 | 2015-03-10 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass |
| JP2015171994A (ja) * | 2009-05-29 | 2015-10-01 | コルサム テクノロジーズ エルエルシーＣｏｒｓａｍ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｌｌｃ | フュージョン成形可能なナトリウム含有ガラス |
| US9371247B2 (en) | 2009-05-29 | 2016-06-21 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable sodium free glass |
| US9512030B2 (en) | 2012-02-29 | 2016-12-06 | Corning Incorporated | High CTE potassium borosilicate core glasses and glass articles comprising the same |
| US9701567B2 (en) | 2013-04-29 | 2017-07-11 | Corning Incorporated | Photovoltaic module package |
| US10683231B2 (en) | 2015-03-26 | 2020-06-16 | Pilkington Group Limited | Glasses |
-
2000
- 2000-08-09 JP JP2000240835A patent/JP2002053340A/ja active Pending
Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005089286A (ja) * | 2003-08-12 | 2005-04-07 | Nippon Electric Glass Co Ltd | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 |
| JP2007210839A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Central Glass Co Ltd | ディスプレイ装置用基板ガラス |
| JP2007246365A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ディスプレイ用ガラス基板 |
| JP2008308375A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Central Glass Co Ltd | ディスプレイ装置用基板ガラス |
| US9073779B2 (en) | 2008-02-26 | 2015-07-07 | Corning Incorporated | Fining agents for silicate glasses |
| US10626042B2 (en) | 2008-02-26 | 2020-04-21 | Corning Incorporated | Fining agents for silicate glasses |
| US8623776B2 (en) | 2008-02-26 | 2014-01-07 | Corning Incorporated | Silicate glasses having low seed concentration |
| US10040715B2 (en) | 2008-02-26 | 2018-08-07 | Corning Incorporated | Silicate glasses having low seed concentration |
| US9266769B2 (en) | 2008-10-06 | 2016-02-23 | Corsam Technologies Llc | Intermediate thermal expansion coefficient glass |
| US8445394B2 (en) | 2008-10-06 | 2013-05-21 | Corning Incorporated | Intermediate thermal expansion coefficient glass |
| US10196297B2 (en) | 2008-10-06 | 2019-02-05 | Corning, Incorporated | Intermediate thermal expansion coefficient glass |
| US9371247B2 (en) | 2009-05-29 | 2016-06-21 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable sodium free glass |
| US9637408B2 (en) | 2009-05-29 | 2017-05-02 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable sodium containing glass |
| JP2015171994A (ja) * | 2009-05-29 | 2015-10-01 | コルサム テクノロジーズ エルエルシーＣｏｒｓａｍ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｌｌｃ | フュージョン成形可能なナトリウム含有ガラス |
| US10173919B2 (en) | 2009-05-29 | 2019-01-08 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable sodium free glass |
| US8647995B2 (en) | 2009-07-24 | 2014-02-11 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable silica and sodium containing glasses |
| US9530910B2 (en) | 2009-07-24 | 2016-12-27 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable silica and sodium containing glasses |
| US9643883B2 (en) | 2011-08-12 | 2017-05-09 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass |
| US8975199B2 (en) | 2011-08-12 | 2015-03-10 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass |
| US9512030B2 (en) | 2012-02-29 | 2016-12-06 | Corning Incorporated | High CTE potassium borosilicate core glasses and glass articles comprising the same |
| US9701567B2 (en) | 2013-04-29 | 2017-07-11 | Corning Incorporated | Photovoltaic module package |
| US10407338B2 (en) | 2013-04-29 | 2019-09-10 | Corning Incorporated | Photovoltaic module package |
| US10683231B2 (en) | 2015-03-26 | 2020-06-16 | Pilkington Group Limited | Glasses |
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