JP2004002062A - フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 - Google Patents
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Abstract
【構成】歪点が570℃以上、30〜380℃における平均線熱膨張係数が65〜90×10−7/℃、比ヤング率が28.0GPa/(g・cm−3)以上のガラスからなり、厚みが1.0〜2.5mmである。
Description
【産業上の利用分野】
本発明は、各種フラットパネルディスプレイ装置に用いられるガラス基板に関し、特にプラズマディスプレイ装置の前面ガラス基板として好適なガラス基板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
一般にプラズマディスプレイ装置を製造する場合、まず前面ガラス基板と背面ガラス基板を準備し、これらのガラス基板上に金属ペーストや絶縁ペーストを塗布・焼成することによって、金属膜、ITO膜、ネサ膜等からなる透明電極、誘電体層、隔壁、蛍光体等を形成する。次いで前面ガラス基板と背面ガラス基板を約100μmの間隔を保つように対向させてから、その周囲に低融点ガラスフリットを塗布・焼成することによってシールし、さらに内部に希ガスを封入し、気密封止する方法が採られる。尚、上記の金属ペースト、絶縁ペースト及び低融点ガラスフリットの焼成は、600℃近い温度で行われる。
【0003】
従来より、この種のガラス基板としては、建築窓や自動車窓として広く用いられているソーダ石灰ガラス(熱膨張係数:約84×10−7/℃)が使用されてきた。
【0004】
ところが、ソーダ石灰ガラスは、歪点が約500℃と低いため、600℃付近の高温で熱処理すると、熱変形や熱収縮により、その寸法が著しく変化するため、前面ガラス基板と背面ガラス基板を対向させる際、電極の位置合わせを精度良く行うことが困難となる。この問題は、特に大型高精細のプラズマディスプレイ装置を作製する際に顕著である。
【0005】
またソーダ石灰ガラスは、150℃での体積電気抵抗率(logρ)が8.4Ω・cmと低く、ガラス中のアルカリ成分の移動度が大きいため、このアルカリ成分がITO膜やネサ膜等の薄膜電極と反応し、電極材料の電気抵抗値を変化させるという問題も有している。
【0006】
これらの事情から、現在では、ガラス基板の熱変形や熱収縮が少なく、高い体積電気抵抗率を有する高歪点ガラス基板が、プラズマディスプレイ装置のガラス基板として使用されるようになってきている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
プラズマディスプレイ装置の発光原理は、次の通りである。プラズマディスプレイ装置を起動させると、電極間に放電が起こり、希ガスから紫外線が放出され、この紫外線が背面ガラス基板上に形成された蛍光体に当たることにより、赤色、緑色、青色が発光する。
【0008】
このような原理で発光するプラズマディスプレイ装置は、ブラウン管では達成することのできない大画面化、薄型化が可能であり、画像表示のちらつきも少ないという長所がある。
【0009】
しかしながらプラズマディスプレイ装置は、自己発光型表示装置であるため、バックライトと呼ばれる発光体を備えた液晶ディスプレイ装置に比べて、画像表示の輝度が低く、画面が暗いという短所がある。そのためプラズマディスプレイ装置の開発にあっては、画像表示の輝度を向上させることが重要課題の一つとなっている。
【0010】
またプラズマディスプレイ装置に用いられるソーダ石灰ガラス基板や高歪点ガラス基板は、一般にフロート法で板状(厚み:約2.8mm)に成形されるが、これらのガラス基板は若干の着色を帯びている。そのためガラス基板が、可視光の波長を吸収することになり、これがプラズマディスプレイ装置の画像表示の輝度を向上する上で大きな障害となっている。
【0011】
プラズマディスプレイ装置に用いられるガラス基板の厚みを小さくすれば、その画像表示の輝度を向上させることができるが、ガラス基板は薄肉化するほど、その自重でたわみやすくなる。特に、高歪点ガラス基板は、ソーダ石灰ガラス基板に比べて、たわみが大きく、しかもクラックが発生しやすいため、これを薄肉化すると、次のような問題が発生しやすくなる。
【0012】
プラズマディスプレイ装置のガラスメーカーやパネルメーカーの製造工程において、ガラス基板は、一時保管用のカセットに幾度も出し入れされる。このカセットは、その内周部に複数段の棚が形成された形態を有しており、ガラス基板は、その対向する2辺、或いは3辺のみがカセットの棚上に載置するようにして水平方向に保持される。ところが特に大型(例えば50インチ以上)のガラス基板の場合はたわみ量が大きくなるため、ガラス基板をカセットに入れる際に、ガラス基板の一部がカセットや他のガラス基板に接触してクラックや破損が生じたり、カセットの棚からガラス基板を取り出す際に、大きく揺動して不安定になりやすく、ハンドリング性が悪くなる。またガラス基板を治具を用いて搬送する工程においても、搬送中の振動によってガラス基板が揺動し、搬送装置に接触して破損することがある。
【0013】
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、特にプラズマディスプレイ装置の前面ガラス基板として用いた時、従来の前面ガラス基板に比べて厚みが小さいため、表示画像の輝度向上を図ることができ、また薄肉でありながら、たわみが小さいため、製造工程での破損が少ないフラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、プラズマディスプレイ装置に用いられる高歪点ガラス基板について考察を繰り返した結果、前面ガラス基板の厚みを2.5mm以下にすると、プラズマディスプレイ装置の輝度向上について一定の効果が見られること、この時、ガラス基板の比ヤング率を28.0GPa/(g・cm−3)以上にすることで、ガラス基板の薄肉化に伴うたわみ量の増大を抑えることができ、実際の製造工程において、ガラス基板のたわみに起因する破損が起こらないことを見いだし、本発明を提案するに至った。
【0015】
すなわち本発明のフラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板は、歪点が570℃以上、30〜380℃における平均線熱膨張係数が65〜90×10−7/℃、比ヤング率が28.0GPa/(g・cm−3)以上のガラスからなり、厚みが1.0〜2.5mmであることを特徴とする。
【0016】
また本発明のフラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板は、質量%で、SiO2 55〜74%、Al2O3 1〜14%、MgO 0〜15%、CaO 0〜10%、SrO 0〜15%、BaO 0〜7%、MgO+CaO+SrO+BaO 7〜25%、Na2O 0〜8%、K2O 2〜18%、Na2O+K2O 6〜20%、ZrO2 0〜7%の組成を有することを特徴とし、さらに400〜700nmにおける分光透過率が86%以上であることを特徴とする。
【0017】
【発明の実施の形態】
本発明のフラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板は、歪点が570℃以上のガラスからなるため、プラズマディスプレイパネルの製造工程で熱処理しても、熱変形や熱収縮が小さく、問題となるような寸法変化が発生し難い。より耐熱性を向上させるためには、歪点を580℃以上、より好ましくは、600℃以上とすることが望ましい。
【0018】
また本発明のガラス基板は、30〜380℃における平均線熱膨張係数が、65〜90×10−7/℃のガラスからなり、プラズマディスプレイ装置の周辺部材である低融点ガラスフリットや誘電体材料等の熱膨張係数と整合しているため、プラズマディスプレイ装置を製造する際に変形等の不具合が発生し難い。平均線熱膨張係数の好ましい範囲は、70〜88×10−7/℃である。
【0019】
さらに本発明のガラス基板は、厚みが1.0〜2.5mmであるため、従来のプラズマディスプレイ装置用ガラス基板(厚み:2.8mm)に比べて、分光透過率が高く、これをプラズマディスプレイ装置の前面ガラス基板として使用すると、画像表示の輝度を向上させることができる。
【0020】
また一般にガラス基板を薄肉化すると、たわみ量が増大するが、本発明のガラス基板は、比ヤング率(ヤング率/密度)が28.0GPa/(g・cm−3)以上のガラスからなるため、たわみが小さく、その厚みを2.5mm以下にしても、プラズマディスプレイ装置の製造工程において、ガラス基板のたわみに起因する破損を抑えることが可能となる。
【0021】
尚、ガラス基板のたわみ量を一定の値に抑えるためには、その厚みが小さくなるほど、比ヤング率が大きくなるように設計する必要がある。しかしながら、この種の高歪点ガラスは、組成上の制約から、比ヤング率を32.0GPa/(g・cm−3)以上にすることは極めて困難である。よってガラス基板の比ヤング率を高くすることによって、ガラス基板のたわみを抑えることには自ずと限界がある。つまりガラス基板の厚みが極端に小さくなると、たわみ量が大きくなり、破損しやすくなる。ガラス基板のたわみに起因する破損を防止するためには、その厚みは1.0mm以上にする必要がある。ガラス基板の厚みは、好ましくは1.1〜2.1mm、より好ましくは1.1〜1.8mmである。また比ヤング率は、好ましくは28.5GPa/(g・cm−3)以上、さらに好ましくは29.0GPa/(g・cm−3)以上である。
【0022】
また本発明のフラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板は、質量%で、SiO2 55〜74%、Al2O3 1〜14%、MgO 0〜15%、CaO 0〜10%、SrO 0〜15%、BaO 0〜7%、MgO+CaO+SrO+BaO 7〜25%、Na2O 0〜8%、K2O 2〜18%、Na2O+K2O 6〜20%、ZrO2 0〜7%の組成を有することが好ましく、各ガラス成分の割合を限定した理由は以下のとおりである。
【0023】
SiO2は、ガラスのネットワークフォーマーであるが、55%より少ないと、ガラスの歪点が低下し、熱変形や熱収縮が大きくなる。一方、74%より多いと、ガラスの溶融性が低下する。SiO2の含有量は、好ましくは56〜70%、より好ましくは56〜69%である。
【0024】
Al2O3は、ガラスの歪点を高める成分であるが、1%より少ないと、歪点を高める効果に乏しくなり、14%より多いと、ガラスの高温粘度が高くなり、失透傾向が増大し、成形が困難となる。Al2O3の含有量は、好ましくは1〜12%、より好ましくは1〜11%である。
【0025】
MgO、CaO、SrO、BaOは、いずれもガラスの高温粘度を低下させてガラスの成形性や溶融性を高めると共に、ガラスの歪点とヤング率を高める成分である。しかしながらMgOが15%より多くなったり、CaOが10%より多くなると、ガラスが失透したり、ガラスが割れやすくなる。またSrOが15%より多くなったり、BaOが7%より多くなると、ガラスの密度が高くなり、比ヤング率を28.0GPa/(g・cm−3)以上にすることが困難となる。MgOの含有量は、好ましくは2〜13%、より好ましくは3〜12%である。CaOの含有量は、好ましくは、0〜9%、より好ましくは0〜8%である。SrOの含有量は、好ましくは0〜14%、より好ましくは0〜13%である。BaOの含有量は、好ましくは0〜5%、より好ましくは0〜3%である。
【0026】
またMgO、CaO、SrO、BaOの合量が7%より少ないと、ガラスの溶融性が低下し、25%より多いと、ガラスの密度が高くなり、比ヤング率を28.0GPa/(g・cm−3)以上にすることが困難となる。MgO、CaO、SrO、BaOの合量は、好ましくは8〜23%、より好ましくは8〜21%である。
【0027】
Na2Oは、ガラスの線熱膨張係数を制御すると共に、溶融性を向上する成分であるが、8%より多いと、ガラスの歪点が低下する。Na2Oの含有量は、好ましくは0〜6%、より好ましくは0〜4である。
【0028】
K2Oも、Na2Oと同様、ガラスの線熱膨張係数を制御すると共に、溶融性を向上する成分であるが、2%より少ないと、ガラスの溶融性が損なわれる。一方、18%より多いと、ガラスの歪点が低下する。K2Oの含有量は、好ましくは4〜15%、より好ましくは5〜15%である。
【0029】
またNa2O、K2Oの合量が6%より少ないと、ガラスの溶融性が低下し、20%より多いと、線熱膨張係数が大きくなりすぎる。Na2O、K2Oの合量は、好ましくは7〜18%、より好ましくは9〜18%である。
【0030】
ZrO2は、ガラスの歪点を高める成分であるが、7%より多くなると、失透傾向が増大すると共にガラスが割れやすくなる。ZrO2の含有量は好ましくは0〜6%、より好ましくは0〜5%である。
【0031】
また本発明のガラス基板は、上記成分以外にも、特性を損なわない範囲で、種々の成分を含有させることができる。例えば紫外線によるガラスの着色を防止する目的でTiO2を5%まで含有できる。またガラスの液相温度を下げ、成形性を向上させる目的でY2O3、La2O3、Nb2O3を各々3%まで、割れやすさを改善する目的でB2O3、P2O5を各々4%まで含有できる。さらにAs2O3、Sb2O3、SO3、Cl、SnO2等の清澄剤を合量で2%まで含有したり、Fe2O3、CoO、NiO、Cr2O3、CeO2等の着色剤を各々1%まで含有できる。
【0032】
また本発明のガラス基板は、厚みが2.5mm以下であるため、400〜700nmにおける分光透過率を86%以上とすることができ、組成を厳密に規制することによって87%以上、さらには88%以上とすることも可能である。このような分光透過率を有するガラス基板をプラズマディスプレイ装置の前面基板として用いると、画像表示の輝度を向上させることが可能となる。尚、このガラス基板は、ガラス中に不純物として混入する鉄酸化物の量が多くなるほど着色し、分光透過率が低下するため、Fe2O3換算で0.5質量%以下(好ましくは0.2質量%以下)に規制することが望ましい。
【0033】
さらに本発明のガラス基板は、ロールアウト法、オーバーフローダウンドロー法、スロットダウンドロー法等で板状に成形することが可能であるが、フロート法で成形すると、大面積で、平滑性に優れたガラス基板を得やすいため最も好ましい。
【0034】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。
【0035】
表1は、本発明の実施例(試料No.1〜5)及び比較例(試料No.6)を示すものである。尚、試料No.6は、プラズマディスプレイ装置に用いられる高歪点ガラス基板の市販品である。
【0036】
【表1】
【0037】
表1の各ガラス試料は、次のようにして作製した。
【0038】
まず表中のガラス組成となるように調合した原料を白金ルツボに投入し、1450〜1600℃で4時間溶融した。次いでこの溶融ガラスを金型に流し出し、板状に成形し、徐冷した後、その両面を表に示す厚みとなるように研磨した。その後、それらのガラス板を200mm角の大きさに切断加工した。尚、表中のR’Oは、MgO、CaO、SrO、BaOといったアルカリ土類金属酸化物を示し、またR2Oは、Na2O、K2Oといったアルカリ金属酸化物を示している。
【0039】
こうして得られた各ガラス試料について、線熱膨張係数、歪点、密度、比ヤング率を測定し、それらの値を表1に示した。
【0040】
表から明らかなように、実施例である試料No.1〜5は、線熱膨張係数が72〜80×10−7/℃であるため、プラズマディスプレイ装置の周辺部材との整合がとれており、また歪点が610℃以上であるため、熱変形や熱収縮が小さい。さらに比ヤング率が28.1GPa/(g・cm−3)以上であるため、ガラス基板のたわみを抑える効果が大きい。またこれらのガラス基板は、厚みが2.1mm以下であるため、可視光の吸収が少なく、これらの400〜700nmにおける分光透過率を分光光度計を用いて1nm間隔で測定したところ、全ての波長で87%以上であり、特に試料No.1、2は、90%以上であった。
【0041】
これに対し、比較例である試料No.6は、比ヤング率が低いため、ガラス基板のたわみを抑える効果に乏しく、ガラス基板の薄肉化を図ると、たわみ量が大きくなり、製造工程で破損しやすくなると判断される。またこのガラス基板は、厚みが2.8mmであり、その400〜700nmにおける分光透過率を測定したところ、700nmの透過率は約85%であった。
【0042】
尚、表中の線熱膨張係数は、ディラトメーターで30〜380℃における平均線熱膨張係数を測定したものであり、歪点は、ASTM C336−71に準じて測定した。また密度は、周知のアルキメデス法で測定し、比ヤング率は、ヤング率を共振法によって測定し、ヤング率と密度の値から求めた。
【0043】
【発明の効果】
以上のように本発明のフラットパネルディスプレイ装置は、厚みが1.0〜2.5mmでありながら、たわみが小さいため、これをプラズマディスプレイ装置の前面ガラス基板として使用すると、輝度の向上を図ることができ、しかも製造工程における破損を低減することが可能である。
【0044】
また本発明のガラス基板は、歪点が570℃以上で、線熱膨張係数が65〜90×10−7/℃であるため、プラズマディスプレイ装置のガラス基板として好適であるが、その他のフラットパネルディスプレイ、例えば自己発光型表示装置である有機ELや無機EL(エレクトロ・ルミネッセンス)、FED(フィールド・エミッション・ディスプレイ)等に用いられるガラス基板としても適している。
Claims (3)
- 歪点が570℃以上、30〜380℃における平均線熱膨張係数が65〜90×10−7/℃、比ヤング率が28.0GPa/(g・cm−3)以上のガラスからなり、厚みが1.0〜2.5mmであることを特徴とするフラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板。
- 質量%で、SiO2 55〜74%、Al2O3 1〜14%、MgO 0〜15%、CaO 0〜10%、SrO 0〜15%、BaO 0〜7%、MgO+CaO+SrO+BaO 7〜25%、Na2O 0〜8%、K2O 2〜18%、Na2O+K2O 6〜20%、ZrO2 0〜7%の組成を有することを特徴とする請求項1記載のフラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板。
- 400〜700nmにおける分光透過率が86%以上であることを特徴とする請求項1又は2記載のフラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板。
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