JPH09249430A - 基板用のガラス組成物 - Google Patents
基板用のガラス組成物Info
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- JPH09249430A JPH09249430A JP5795396A JP5795396A JPH09249430A JP H09249430 A JPH09249430 A JP H09249430A JP 5795396 A JP5795396 A JP 5795396A JP 5795396 A JP5795396 A JP 5795396A JP H09249430 A JPH09249430 A JP H09249430A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】割れにくく、耐熱性の高い、プラズマディスプ
レイ用基板等に好適なガラス組成物を得る。 【解決手段】重量％表示で実質的に、ＳｉＯ2 ：５６〜
６５、Ａｌ2 Ｏ3 ：１５超〜２３、ＭｇＯ：０〜７、Ｃ
ａＯ：０〜８、ＭｇＯ＋ＣａＯ：４〜１５、Ｎａ2 Ｏ：
０〜９、Ｋ2 Ｏ：０〜１１、Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：８〜１
２、ＺｒＯ2 ：０〜２からなる。
レイ用基板等に好適なガラス組成物を得る。 【解決手段】重量％表示で実質的に、ＳｉＯ2 ：５６〜
６５、Ａｌ2 Ｏ3 ：１５超〜２３、ＭｇＯ：０〜７、Ｃ
ａＯ：０〜８、ＭｇＯ＋ＣａＯ：４〜１５、Ｎａ2 Ｏ：
０〜９、Ｋ2 Ｏ：０〜１１、Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：８〜１
２、ＺｒＯ2 ：０〜２からなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フラットディスプ
レイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）用基
板ガラスとして有益な基板用ガラス組成物に関する。
レイ、特にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）用基
板ガラスとして有益な基板用ガラス組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＰＤＰは一般的に、基板ガラス上に金属
電極、絶縁ペースト、リブペースト等を５５０〜６００
℃程度の最高温度で焼成した後、対向板と周囲をフリッ
トシールすることにより製造される。従来、このための
基板ガラスとして建築用または自動車用として広く用い
られるソーダ石灰ガラスが一般的に用いられてきた。
電極、絶縁ペースト、リブペースト等を５５０〜６００
℃程度の最高温度で焼成した後、対向板と周囲をフリッ
トシールすることにより製造される。従来、このための
基板ガラスとして建築用または自動車用として広く用い
られるソーダ石灰ガラスが一般的に用いられてきた。
【０００３】しかし、ソーダ石灰ガラスのガラス転移点
は５３０〜５６０℃であるため、上記の最高温度で熱処
理を受けると基板ガラスが変形または収縮し、寸法が著
しく変化するため、対向板との電極位置合わせを精度良
く実現しがたいという課題があった。特に、生産性の高
いベルト炉のような連続式の焼成炉を使用して製造する
場合、焼成中にガラス板の先端と後端で温度差がつき、
ガラス板が前後に非対称な寸法変化を起こすという問題
があった。このような問題は、パネルの大きさが例えば
４０インチのような大型なものになるとより顕著にな
り、耐熱性のより高い基板ガラスが必要となる。
は５３０〜５６０℃であるため、上記の最高温度で熱処
理を受けると基板ガラスが変形または収縮し、寸法が著
しく変化するため、対向板との電極位置合わせを精度良
く実現しがたいという課題があった。特に、生産性の高
いベルト炉のような連続式の焼成炉を使用して製造する
場合、焼成中にガラス板の先端と後端で温度差がつき、
ガラス板が前後に非対称な寸法変化を起こすという問題
があった。このような問題は、パネルの大きさが例えば
４０インチのような大型なものになるとより顕著にな
り、耐熱性のより高い基板ガラスが必要となる。
【０００４】このガラス基板の熱変形または熱収縮の問
題を解決するため、熱膨張係数がソーダ石灰ガラスと近
く、ガラス転移点、歪点が高いガラスが知られている
（特開平３−４０９３３、特開平７−２５７９３７）。
このようなガラスを用いると、連続式の焼成炉でＰＤＰ
製造の熱処理を行っても、ソーダ石灰ガラスで問題とな
るような前後に非対称な寸法変化を起こしにくいため、
高い精度でパネルを焼成できる。
題を解決するため、熱膨張係数がソーダ石灰ガラスと近
く、ガラス転移点、歪点が高いガラスが知られている
（特開平３−４０９３３、特開平７−２５７９３７）。
このようなガラスを用いると、連続式の焼成炉でＰＤＰ
製造の熱処理を行っても、ソーダ石灰ガラスで問題とな
るような前後に非対称な寸法変化を起こしにくいため、
高い精度でパネルを焼成できる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、近年のＰＤＰ
の大型化により、製造工程でのハンドリングがますます
困難になってきている。特に、大型基板は自重により大
きな曲げ応力を受けることが多いため、わずかな傷の存
在が、製造工程での割れにつながる。また、すでに提案
されている組成は、いずれも比重が２．６以上であり、
部材の軽量化が困難であるという問題もある。
の大型化により、製造工程でのハンドリングがますます
困難になってきている。特に、大型基板は自重により大
きな曲げ応力を受けることが多いため、わずかな傷の存
在が、製造工程での割れにつながる。また、すでに提案
されている組成は、いずれも比重が２．６以上であり、
部材の軽量化が困難であるという問題もある。
【０００６】本発明の目的は、上記欠点を解決し、割れ
にくく、大型ＰＤＰの製造に適するように高いガラス転
移点を有する基板用ガラス組成物を提供することにあ
る。
にくく、大型ＰＤＰの製造に適するように高いガラス転
移点を有する基板用ガラス組成物を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、重量％表示で
実質的に、 ＳｉＯ2 ５６〜６５、 Ａｌ2 Ｏ3 １５超〜２３、 ＭｇＯ ０〜 ７、 ＣａＯ ０〜 ８、 ＭｇＯ＋ＣａＯ ４〜１５、 Ｎａ2 Ｏ ０〜 ９、 Ｋ2 Ｏ ０〜１１、 Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ ８〜１２未満、 ＺｒＯ2 ０〜 ２、 からなる基板用のガラス組成物である。
実質的に、 ＳｉＯ2 ５６〜６５、 Ａｌ2 Ｏ3 １５超〜２３、 ＭｇＯ ０〜 ７、 ＣａＯ ０〜 ８、 ＭｇＯ＋ＣａＯ ４〜１５、 Ｎａ2 Ｏ ０〜 ９、 Ｋ2 Ｏ ０〜１１、 Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ ８〜１２未満、 ＺｒＯ2 ０〜 ２、 からなる基板用のガラス組成物である。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明による組成の限定理由は以
下の通りである。 ＳｉＯ2 :ガラスの骨格を形成する成分で、５６重量％
（以下単に％と記載する）未満では、ガラスの耐熱性が
悪くなり、またガラスの脆さが増大するおそれがある。
他方、６５％超では熱膨張係数が低下する。ＳｉＯ2
は、５８〜６３％の範囲がより好ましい。
下の通りである。 ＳｉＯ2 :ガラスの骨格を形成する成分で、５６重量％
（以下単に％と記載する）未満では、ガラスの耐熱性が
悪くなり、またガラスの脆さが増大するおそれがある。
他方、６５％超では熱膨張係数が低下する。ＳｉＯ2
は、５８〜６３％の範囲がより好ましい。
【０００９】Ａｌ2 Ｏ3 ：ガラス転移点を上げ、耐熱性
を向上させる効果があるが、１５％以下ではこの効果が
少ない。他方、２３％超ではガラスの熔解性が低下す
る。Ａｌ2 Ｏ3 は、上記範囲中１７〜２０％の範囲がよ
り好ましい。
を向上させる効果があるが、１５％以下ではこの効果が
少ない。他方、２３％超ではガラスの熔解性が低下す
る。Ａｌ2 Ｏ3 は、上記範囲中１７〜２０％の範囲がよ
り好ましい。
【００１０】ＭｇＯ：必須成分ではないが、ガラスの熔
解時の粘性を下げ、熔解を促進する作用があるので含有
させうる。しかし、７％超ではガラスの熱膨張係数や脆
さが大きくなりすぎる傾向があり、かつ失透温度が高く
なる。ＭｇＯは、上記範囲中１〜５％の範囲がより好ま
しい。
解時の粘性を下げ、熔解を促進する作用があるので含有
させうる。しかし、７％超ではガラスの熱膨張係数や脆
さが大きくなりすぎる傾向があり、かつ失透温度が高く
なる。ＭｇＯは、上記範囲中１〜５％の範囲がより好ま
しい。
【００１１】ＣａＯ：必須成分ではないが、ガラスの熔
解温度での粘性を下げ、熔解を促進する効果があるので
含有させうる。しかし、８％超ではガラスの熱膨張係数
や脆さが大きくなりすぎる傾向があり、かつ失透温度が
高くなる。ＣａＯは、上記範囲中１〜６％の範囲がより
好ましい。
解温度での粘性を下げ、熔解を促進する効果があるので
含有させうる。しかし、８％超ではガラスの熱膨張係数
や脆さが大きくなりすぎる傾向があり、かつ失透温度が
高くなる。ＣａＯは、上記範囲中１〜６％の範囲がより
好ましい。
【００１２】ＭｇＯ＋ＣａＯ：ガラスの熔解温度での粘
性を下げ、熔解しやすくするため、少なくとも一方を合
量で４％以上含有する。他方、合量で１５％超ではガラ
スの熱膨張係数や脆さが大きくなりすぎる傾向があり、
かつ失透温度が高くなる。上記範囲中８〜１３％の範囲
がより好ましい。
性を下げ、熔解しやすくするため、少なくとも一方を合
量で４％以上含有する。他方、合量で１５％超ではガラ
スの熱膨張係数や脆さが大きくなりすぎる傾向があり、
かつ失透温度が高くなる。上記範囲中８〜１３％の範囲
がより好ましい。
【００１３】Ｎａ2 Ｏ：必須成分ではないが、ガラスの
熔解時の粘性を下げ、熔解を促進する作用があるので含
有させうる。しかし、９％超では熱膨張係数が大きくな
りすぎ、ガラスの化学的耐久性が劣化し、また、電気抵
抗が小さくなるため、ＰＤＰの電極の寿命が短くなるお
それがある。Ｎａ2 Ｏは、上記範囲中１〜７％の範囲が
より好ましい。
熔解時の粘性を下げ、熔解を促進する作用があるので含
有させうる。しかし、９％超では熱膨張係数が大きくな
りすぎ、ガラスの化学的耐久性が劣化し、また、電気抵
抗が小さくなるため、ＰＤＰの電極の寿命が短くなるお
それがある。Ｎａ2 Ｏは、上記範囲中１〜７％の範囲が
より好ましい。
【００１４】Ｋ2 Ｏ：必須成分ではないが、ガラスの熔
解時の粘性を下げ、熔解を促進する作用があるので含有
させうる。しかし、１１％超では熱膨張係数が大きくな
りすぎ、ガラスの化学的耐久性がが低下する傾向があ
る。Ｋ2 Ｏは、上記範囲中２〜９％の範囲がより好まし
い。
解時の粘性を下げ、熔解を促進する作用があるので含有
させうる。しかし、１１％超では熱膨張係数が大きくな
りすぎ、ガラスの化学的耐久性がが低下する傾向があ
る。Ｋ2 Ｏは、上記範囲中２〜９％の範囲がより好まし
い。
【００１５】Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ：ガラスの熔解温度での
粘性を下げ、熔解しやすくするため、少なくとも一方を
合量で８％以上含有する。他方、合量で１２％以上にな
るとガラスの熱膨張係数が大きくなりすぎる傾向があ
り、かつ化学的耐久性が低下し、電気抵抗が小さくなる
おそれがある。上記範囲中９〜１２％未満の範囲がより
好ましい。
粘性を下げ、熔解しやすくするため、少なくとも一方を
合量で８％以上含有する。他方、合量で１２％以上にな
るとガラスの熱膨張係数が大きくなりすぎる傾向があ
り、かつ化学的耐久性が低下し、電気抵抗が小さくなる
おそれがある。上記範囲中９〜１２％未満の範囲がより
好ましい。
【００１６】ＺｒＯ2 ：ガラスのガラス転移点を上げる
ために、必須ではないが、含有させうる。しかし、２％
超ではガラスの脆さの増大をもたらすおそれがある。こ
の観点では、ＺｒＯ2 は０．５％未満とされることが好
ましい。
ために、必須ではないが、含有させうる。しかし、２％
超ではガラスの脆さの増大をもたらすおそれがある。こ
の観点では、ＺｒＯ2 は０．５％未満とされることが好
ましい。
【００１７】以上の成分の他、ＳＯ3 、Ａｓ2 Ｏ3 、Ｓ
ｂ2 Ｏ3 等の清澄剤、Ｆｅ2 Ｏ3 、ＮｉＯ、ＣｏＯ、Ｔ
ｉＯ2 、Ｓｅ、ＣｅＯ2 等の着色剤等を適宜使用でき
る。また、ＣａＯ、ＭｇＯと同様の効果を得るために、
ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯを添加できる。具体的には、Ｓ
ｒＯおよびＺｎＯはそれぞれ２％以下、ＢａＯは添加に
よる脆さの増大が大きいため１％以下、ＳｒＯ、Ｂａ
Ｏ、ＺｎＯの合量で２％以下添加できる。
ｂ2 Ｏ3 等の清澄剤、Ｆｅ2 Ｏ3 、ＮｉＯ、ＣｏＯ、Ｔ
ｉＯ2 、Ｓｅ、ＣｅＯ2 等の着色剤等を適宜使用でき
る。また、ＣａＯ、ＭｇＯと同様の効果を得るために、
ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯを添加できる。具体的には、Ｓ
ｒＯおよびＺｎＯはそれぞれ２％以下、ＢａＯは添加に
よる脆さの増大が大きいため１％以下、ＳｒＯ、Ｂａ
Ｏ、ＺｎＯの合量で２％以下添加できる。
【００１８】さらに、Ｎａ2 Ｏ、Ｋ2 Ｏと同様の効果を
得るために、Ｌｉ2 Ｏを１％以下添加できる。ただし過
度のＬｉ2 Ｏ添加は、ガラス転移点の低下をもたらすお
それがある。さらに、溶解性を向上するためにＢ2 Ｏ3
を添加できる。ただし、過度の添加は、熱膨張係数を低
下させるので１．５％未満とすることが好ましい。
得るために、Ｌｉ2 Ｏを１％以下添加できる。ただし過
度のＬｉ2 Ｏ添加は、ガラス転移点の低下をもたらすお
それがある。さらに、溶解性を向上するためにＢ2 Ｏ3
を添加できる。ただし、過度の添加は、熱膨張係数を低
下させるので１．５％未満とすることが好ましい。
【００１９】また、本発明の基板用ガラス組成物は、比
重が２．６未満であることが好ましい。より好ましく
は、２．５５以下、もっとも好ましくは２．５以下であ
る。
重が２．６未満であることが好ましい。より好ましく
は、２．５５以下、もっとも好ましくは２．５以下であ
る。
【００２０】本発明の基板用ガラス組成物は、典型的に
は、５０〜３５０℃の平均熱膨張係数が６０×１０-7〜
７５×１０-7／℃の範囲にあるので、アルミナセラミッ
クス基板用のフリット材料を用いて、ＰＤＰを組み立て
ることができる。
は、５０〜３５０℃の平均熱膨張係数が６０×１０-7〜
７５×１０-7／℃の範囲にあるので、アルミナセラミッ
クス基板用のフリット材料を用いて、ＰＤＰを組み立て
ることができる。
【００２１】また、本発明の基板用ガラス組成物のガラ
ス転移点は６６０℃以上であることが好ましい。より歪
みの少ないディスプレイを製造しやすくするという観点
では、ガラス転移点が６９０℃以上であることがより好
ましい。
ス転移点は６６０℃以上であることが好ましい。より歪
みの少ないディスプレイを製造しやすくするという観点
では、ガラス転移点が６９０℃以上であることがより好
ましい。
【００２２】特に、本発明によるガラスは脆さ指標値が
７４００ｍ-1/2以下であることが好ましく、より好まし
くは、７３００ｍ-1/2以下である。
７４００ｍ-1/2以下であることが好ましく、より好まし
くは、７３００ｍ-1/2以下である。
【００２３】なお、本発明において、ガラスの脆さ指標
値としてはローンらによって提案された脆さ指標値Ｂを
使用する（B.R.Lawn and D.B.Marshall,J.Am. Ceram.So
c.,62[7-8]347-350(1979) ）。ここで、脆さ指標値Ｂは
材料のビッカース硬さＨV と破壊靭性値ＫC から式
（１）により定義される。
値としてはローンらによって提案された脆さ指標値Ｂを
使用する（B.R.Lawn and D.B.Marshall,J.Am. Ceram.So
c.,62[7-8]347-350(1979) ）。ここで、脆さ指標値Ｂは
材料のビッカース硬さＨV と破壊靭性値ＫC から式
（１）により定義される。
【００２４】
【数１】
【００２５】本発明のガラスは、プラズマディスプレイ
用基板として好適である。その分光透過率は４２５〜４
７５ｎｍ、５１０〜５６０ｎｍ、６００〜６５０ｎｍの
範囲でそれぞれ８５％以上となっていることが好まし
い。これらの波長範囲での発光が効率的に表示に利用で
きるからである。
用基板として好適である。その分光透過率は４２５〜４
７５ｎｍ、５１０〜５６０ｎｍ、６００〜６５０ｎｍの
範囲でそれぞれ８５％以上となっていることが好まし
い。これらの波長範囲での発光が効率的に表示に利用で
きるからである。
【００２６】本発明のガラスは、例えば次のような方法
で製造できる。通常使用される各成分の原料を目標組成
になるように調合し、これを熔解炉に連続的に投入し、
１５００〜１６５０℃に加熱して溶融する。この溶融ガ
ラスをフロート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切
断する。
で製造できる。通常使用される各成分の原料を目標組成
になるように調合し、これを熔解炉に連続的に投入し、
１５００〜１６５０℃に加熱して溶融する。この溶融ガ
ラスをフロート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切
断する。
【００２７】
【実施例】各成分の原料を目標組成になるように調合
し、白金坩堝を用いて、１５５０〜１６５０℃の温度で
４時間加熱し熔解した。熔解にあたっては、白金スター
ラを挿入し２時間撹拌しガラスの均質化を行った。次い
で熔解ガラスを流し出し、板状に成形後徐冷した。
し、白金坩堝を用いて、１５５０〜１６５０℃の温度で
４時間加熱し熔解した。熔解にあたっては、白金スター
ラを挿入し２時間撹拌しガラスの均質化を行った。次い
で熔解ガラスを流し出し、板状に成形後徐冷した。
【００２８】こうして得られたガラスの比重、平均熱膨
脹係数α、ガラス転移点Ｔg 、脆さ指標値Ｂを下記の方
法で測定し、表１〜表３にガラス組成とともに示した。
脹係数α、ガラス転移点Ｔg 、脆さ指標値Ｂを下記の方
法で測定し、表１〜表３にガラス組成とともに示した。
【００２９】このうち、例１５〜例２０は比較例であ
り、例１５はソーダ石灰ガラスの例、例１６は特開平３
−４０９３３記載の組成物の例、例１７〜例２０は特開
平７−２５７９３７記載の組成物の例である。以下に各
特性の測定方法を述べる。
り、例１５はソーダ石灰ガラスの例、例１６は特開平３
−４０９３３記載の組成物の例、例１７〜例２０は特開
平７−２５７９３７記載の組成物の例である。以下に各
特性の測定方法を述べる。
【００３０】比重：アルキメデス法による。 平均熱膨脹係数α（単位：×１０-7／℃）：示差熱膨張
計を用い、石英ガラスを参照試料として５℃／分で昇温
しながら、室温〜屈伏点までの膨張曲線を測定し、５０
〜３５０℃の平均熱膨張係数を読み取り、記録した。 ガラス転移点Ｔg （単位：℃）：熱膨脹係数測定時の熱
膨張係数曲線の最初の屈曲点の前後で接線を引き、その
交点に相当する温度をガラス転移点として記録した。 脆さ指標値Ｂ（単位：ｍ-1/2）：脆さの指標をガラスに
適用する際の大きな問題は破壊靭性値ＫC が正確に評価
しにくいことである。しかしながら、本出願人は、いく
つかの手法を検討した結果、ビッカース圧子を押し込ん
だときにガラス表面に残る圧子の痕の大きさと痕の四隅
から発生するクラックの長さとの関係から脆さを定量的
に評価できることを見いだしている。
計を用い、石英ガラスを参照試料として５℃／分で昇温
しながら、室温〜屈伏点までの膨張曲線を測定し、５０
〜３５０℃の平均熱膨張係数を読み取り、記録した。 ガラス転移点Ｔg （単位：℃）：熱膨脹係数測定時の熱
膨張係数曲線の最初の屈曲点の前後で接線を引き、その
交点に相当する温度をガラス転移点として記録した。 脆さ指標値Ｂ（単位：ｍ-1/2）：脆さの指標をガラスに
適用する際の大きな問題は破壊靭性値ＫC が正確に評価
しにくいことである。しかしながら、本出願人は、いく
つかの手法を検討した結果、ビッカース圧子を押し込ん
だときにガラス表面に残る圧子の痕の大きさと痕の四隅
から発生するクラックの長さとの関係から脆さを定量的
に評価できることを見いだしている。
【００３１】その関係は式（２）により定義される。こ
こで、Ｐはビッカース圧子の押し込み荷重であり、ａ、
ｃはそれぞれ、ビッカース圧痕の対角長および四隅から
発生するクラックの長さ（圧子の痕を含む対称な２つの
クラックの全長）である。各種ガラスの表面に打ち込ん
だビッカース圧痕の寸法と式（２）を用いて、脆さ指標
値を評価した。
こで、Ｐはビッカース圧子の押し込み荷重であり、ａ、
ｃはそれぞれ、ビッカース圧痕の対角長および四隅から
発生するクラックの長さ（圧子の痕を含む対称な２つの
クラックの全長）である。各種ガラスの表面に打ち込ん
だビッカース圧痕の寸法と式（２）を用いて、脆さ指標
値を評価した。
【００３２】
【数２】
【００３３】表１〜表３より明らかなように、本発明の
実施例によるガラスは、脆さ指標値が７４００ｍ-1/2以
下であり、製造工程などにおける割れのおそれが少な
い。
実施例によるガラスは、脆さ指標値が７４００ｍ-1/2以
下であり、製造工程などにおける割れのおそれが少な
い。
【００３４】平均熱膨張係数は、６０×１０-7〜７５×
１０-7／℃の範囲にあり、アルミナセラミックス基板用
のフリット材料を用いて、ＰＤＰを組み立てうる。ま
た、ガラス転移点はいずれも６６０℃以上であり、大型
ＰＤＰの製造においてガラスが変形したり収縮したりす
る等の問題がない。また、比重が２．６未満であり、フ
ラットパネル用基板として用いた場合の軽量化が容易で
ある。
１０-7／℃の範囲にあり、アルミナセラミックス基板用
のフリット材料を用いて、ＰＤＰを組み立てうる。ま
た、ガラス転移点はいずれも６６０℃以上であり、大型
ＰＤＰの製造においてガラスが変形したり収縮したりす
る等の問題がない。また、比重が２．６未満であり、フ
ラットパネル用基板として用いた場合の軽量化が容易で
ある。
【００３５】一方、例１５はガラス転移点が５５０℃で
あるため、ＰＤＰ製造工程でのガラスの変形や収縮が問
題となるおそれがある。例１６〜２０は脆さ指標値が７
４００ｍ-1/2を超えており、製造過程などで割れを生じ
やすい。また、ガラスの比重がいずれも２．６以上で、
部材の軽量化が困難である。
あるため、ＰＤＰ製造工程でのガラスの変形や収縮が問
題となるおそれがある。例１６〜２０は脆さ指標値が７
４００ｍ-1/2を超えており、製造過程などで割れを生じ
やすい。また、ガラスの比重がいずれも２．６以上で、
部材の軽量化が困難である。
【００３６】
【表１】
【００３７】
【表２】
【００３８】
【表３】
【００３９】
【発明の効果】本発明によるガラスは、割れにくく、耐
熱性が高いため、プラズマディスプレイ用基板等、かか
る特性を要求する用途に好適である。また、比重が小さ
いため、パネルの大型化にともなうＰＤＰ基板ガラスの
軽量化を実現できる。また、熱膨張係数がソーダライム
ガラスより小さいため、製造中の熱処理工程で熱割れし
にくく、生産性が高い。さらに本発明によるガラスは、
フロート法による生産にも適する。
熱性が高いため、プラズマディスプレイ用基板等、かか
る特性を要求する用途に好適である。また、比重が小さ
いため、パネルの大型化にともなうＰＤＰ基板ガラスの
軽量化を実現できる。また、熱膨張係数がソーダライム
ガラスより小さいため、製造中の熱処理工程で熱割れし
にくく、生産性が高い。さらに本発明によるガラスは、
フロート法による生産にも適する。
Claims (5)
- 【請求項１】重量％表示で実質的に、 ＳｉＯ2 ５６〜６５、 Ａｌ2 Ｏ3 １５超〜２３、 ＭｇＯ ０〜 ７、 ＣａＯ ０〜 ８、 ＭｇＯ＋ＣａＯ ４〜１５、 Ｎａ2 Ｏ ０〜 ９、 Ｋ2 Ｏ ０〜１１、 Ｎａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ ８〜１２未満、 ＺｒＯ2 ０〜 ２、 からなる基板用のガラス組成物。
- 【請求項２】脆さ指標値が７４００ｍ-1/2以下である請
求項１の基板用のガラス組成物。 - 【請求項３】比重が２．６未満である請求項１または２
の基板用のガラス組成物。 - 【請求項４】５０〜３５０℃の平均熱膨張係数が６０×
１０-7〜７５×１０-7／℃の範囲にある請求項１、２ま
たは３の基板用のガラス組成物。 - 【請求項５】ガラス転移点が６６０℃以上である請求項
１、２、３または４の基板用のガラス組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5795396A JP3800656B2 (ja) | 1996-03-14 | 1996-03-14 | 基板用のガラス組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5795396A JP3800656B2 (ja) | 1996-03-14 | 1996-03-14 | 基板用のガラス組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09249430A true JPH09249430A (ja) | 1997-09-22 |
| JP3800656B2 JP3800656B2 (ja) | 2006-07-26 |
Family
ID=13070405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5795396A Expired - Lifetime JP3800656B2 (ja) | 1996-03-14 | 1996-03-14 | 基板用のガラス組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3800656B2 (ja) |
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- 1996-03-14 JP JP5795396A patent/JP3800656B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3800656B2 (ja) | 2006-07-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050120 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Written amendment |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090512 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100512 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100512 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110512 Year of fee payment: 5 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
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|
| R371 | Transfer withdrawn |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| S531 | Written request for registration of change of domicile |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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