JPH0340933A - 基板用ガラス組成物 - Google Patents

基板用ガラス組成物

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JPH0340933A JP17308589A JP17308589A JPH0340933A JP H0340933 A JPH0340933 A JP H0340933A JP 17308589 A JP17308589 A JP 17308589A JP 17308589 A JP17308589 A JP 17308589A JP H0340933 A JPH0340933 A JP H0340933A
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/083Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
    • C03C3/085Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
    • C03C3/087Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はガラス組成物に関し、特に蛍光表示管、プラズ
マデイスプレー、液晶表示管等のデイスプレー用基板お
よび厚膜回路形成用基板に用いるガラス基板組成物に関
する。
[従来の技術] 例えば、PDP用ガラス基板などは、一般建築用ガラス
基板板(軟化点;730〜740℃)が用いられる。こ
の基板にA1又はNi電極;絶縁ベースト等を500〜
600℃の温度で焼き付は回路が形成される。さらに後
工程にて同温度域でフリットシールすることによりデイ
スプレーパルプが造られている。この工程内でガラス基
板に要求されるスペックに精度および歩留りの点で50
0〜600℃で熱変形しないこと並びに絶縁ペーストあ
るいはシーリングフリットの熱膨張係数と基板のそれが
整合して反りが発生しないこと等の要求スペックがある
。この熱膨張係数としては75〜90X 10−’/”
C程度のものが用いられる。
ここで従来用いられている一般建築用ソーダライムガラ
スでは、例えば570〜600℃の温度で熱処理すると
熱変形が大きいため基板厚みを2〜3 mmとしなけれ
ばならない。しかるに一方デイスプレーの軽量化の要求
もあり、薄板化する必要がある。これらの要求に対し、
基本的に高耐熱ガラスが必要となる。
【発明の解決しようとする課題] 本発明は従来のソーダライムガラスが有していた上記課
題を解消し、前記したような熱変形が小さい、いわゆる
高耐熱性ガラス基板用組成物であり、且つ、絶縁ペース
トおよびシーリングフリットとの熱膨張係数が整合して
いる組成物の提供を目的とする。
さらに従前のソーダライムガラスに比しアルカリ成分を
低減することにより、アルカリマクグレージョンの抑制
、化学的耐久性の機能が向上するガラス基板用組成物の
提供を目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明は重量%で実質的に SL0□          55〜65  %A1.
O,s〜15  % CaO3〜12  % MgO+  CaO+  SrO+  Ba0   1
7〜25   %LLaO+  NaJ  +  Ka
o        6〜12   %ZrO2035〜
 6   % SOs  +  AS*O*  +  5biOa  
     O〜0.5  %5nOa  +  Ti0
i              O〜 3   %La
□0.                 0〜5  
%からなる基板用ガラス組成物である。
本発明による組成物の限定理由は以下のとおりである。
SiO□ ・ ガラスのネットワークフォーマ−である。
5insが55%未満ではガラスの軟化点が低すぎ、高
耐熱化が望めない。65%より多いとガラスの熱膨張が
小さくなりすぎ、反り等の歪を生じ好ましくない。望ま
しくは57〜63%である。
AlaOs ; 高耐熱化および耐薬品性を付与するために必須であり、
5%より少ないと耐薬品性が悪くなる。15%より多い
と高軟化化は実現できるが熱膨張が小さくなり好ましく
ない。望ましくは6〜13%である。
CaO・ 3%未満では熱膨張係数が小さくなり過ぎ、他方12%
を越えると失透が生成し易くなるのでいずれも好ましく
ない。
MgO+ CaO+ SrO+ BaO;高融点且つ高
膨張化のために必須である。
その含量が17%よりも少ないと所望の熱膨張が得られ
ない。一方、25%より多いとガラスの失透温度が高く
なり過ぎ製板が困難になる。望ましくは19〜23%で
ある。
LizO+NazO+KzO; 軟化点および熱膨張係数さらに耐薬品性向上に必須。含
量で6%より少ないと熱膨弓長率が小さすぎる。12%
より多いと軟化点が低くなりすぎ、耐熱性が低下するの
で好ましくない。望ましくは含量で8〜11%である。
ZrL  ; 化学的特性向上に必須である。0.5%より少ないとそ
の効果はない。6%より多いと熱膨張率が低くなりすぎ
る。望ましくは1〜5%である。
S03+^sJ* + 5btOs :必須成分ではな
いが清澄剤として用いることができる。含量で0.5%
を越えると着色等の欠点を生じ易くなるので好ましくな
い。
Snug + Ti0i ; 必須成分ではないが、化学的耐久性向上が目的である。
含量で3%を越えるとガラスが着色するので好ましくな
い。
La1es ; 必須成分ではないが、熱膨張、化学的耐久性あるいは軟
化点の微調整剤として使用される。しかしその含有量が
5%を越えても効果の向上は認められない。
[実施例] 本発明によるガラスは、例えば次のように製造する。目
標組成になるように各原料を調合し、これを1450〜
1520℃の温度にて溶解し、製板する。かくして得ら
れたガラス板について、歪点、軟化点、熱膨張係数、熱
変形量および電気抵抗を測定し、その結果を表1に示し
た。同表には従来使用されている一般建築用のソーダラ
イムガラスとを対比させて示す。
なお、熱変形量は厚さ2 mmのガラス板をスパン20
0 mmで二点支持を行ない、600℃で10分間保持
した場合のたわみ量である。
同表より明らかなように、本発明によるガラス組成物は
、熱変形量が極めて少なく、耐熱性に優れ、熱膨張係数
が75〜90X 10−’/’Cの範囲にある。
[発明の効果] 本発明によるガラス基板は、600  ℃前後の熱処理
工程において、従前のガラスが5〜10”熱変形するの
に対し、0.1″1以下と殆んど変形のない高耐熱性ガ
ラスであって、従前のガラスと同等の熱膨張係数を有す
るため、他部材の変更なく、高精細度且つ歩留まり改善
に大きな効果を実現し得る。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)実質的に重量%表示で SiO_2 55〜65% Al_2O_3 5〜15% CaO 3〜12% MgO+CaO+SrO+BaO 17〜25%Li_
    2O+Na_2O+K_2O 6〜12%ZrO_2 
    0.5〜6% SO_3+As_2O_3+Sb_2O_3 0〜0.
    5%SnO_2+TiO_2 0〜3% La_2O_3 0〜5% からなる基板用ガラス組成物。
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