JPH0340933A - 基板用ガラス組成物 - Google Patents
基板用ガラス組成物Info
- Publication number
- JPH0340933A JPH0340933A JP17308589A JP17308589A JPH0340933A JP H0340933 A JPH0340933 A JP H0340933A JP 17308589 A JP17308589 A JP 17308589A JP 17308589 A JP17308589 A JP 17308589A JP H0340933 A JPH0340933 A JP H0340933A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- cao
- composition
- thermal expansion
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 8
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 abstract description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N Arsenious Acid Chemical compound O1[As]2O[As]1O2 GOLCXWYRSKYTSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 2
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sb+3].[Sb+3] GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 abstract 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 abstract 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract 1
- KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N oxo(oxolanthaniooxy)lanthanum Chemical compound O=[La]O[La]=O KTUFCUMIWABKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 101100348017 Drosophila melanogaster Nazo gene Proteins 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000008395 clarifying agent Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はガラス組成物に関し、特に蛍光表示管、プラズ
マデイスプレー、液晶表示管等のデイスプレー用基板お
よび厚膜回路形成用基板に用いるガラス基板組成物に関
する。
マデイスプレー、液晶表示管等のデイスプレー用基板お
よび厚膜回路形成用基板に用いるガラス基板組成物に関
する。
[従来の技術]
例えば、PDP用ガラス基板などは、一般建築用ガラス
基板板(軟化点;730〜740℃)が用いられる。こ
の基板にA1又はNi電極;絶縁ベースト等を500〜
600℃の温度で焼き付は回路が形成される。さらに後
工程にて同温度域でフリットシールすることによりデイ
スプレーパルプが造られている。この工程内でガラス基
板に要求されるスペックに精度および歩留りの点で50
0〜600℃で熱変形しないこと並びに絶縁ペーストあ
るいはシーリングフリットの熱膨張係数と基板のそれが
整合して反りが発生しないこと等の要求スペックがある
。この熱膨張係数としては75〜90X 10−’/”
C程度のものが用いられる。
基板板(軟化点;730〜740℃)が用いられる。こ
の基板にA1又はNi電極;絶縁ベースト等を500〜
600℃の温度で焼き付は回路が形成される。さらに後
工程にて同温度域でフリットシールすることによりデイ
スプレーパルプが造られている。この工程内でガラス基
板に要求されるスペックに精度および歩留りの点で50
0〜600℃で熱変形しないこと並びに絶縁ペーストあ
るいはシーリングフリットの熱膨張係数と基板のそれが
整合して反りが発生しないこと等の要求スペックがある
。この熱膨張係数としては75〜90X 10−’/”
C程度のものが用いられる。
ここで従来用いられている一般建築用ソーダライムガラ
スでは、例えば570〜600℃の温度で熱処理すると
熱変形が大きいため基板厚みを2〜3 mmとしなけれ
ばならない。しかるに一方デイスプレーの軽量化の要求
もあり、薄板化する必要がある。これらの要求に対し、
基本的に高耐熱ガラスが必要となる。
スでは、例えば570〜600℃の温度で熱処理すると
熱変形が大きいため基板厚みを2〜3 mmとしなけれ
ばならない。しかるに一方デイスプレーの軽量化の要求
もあり、薄板化する必要がある。これらの要求に対し、
基本的に高耐熱ガラスが必要となる。
【発明の解決しようとする課題]
本発明は従来のソーダライムガラスが有していた上記課
題を解消し、前記したような熱変形が小さい、いわゆる
高耐熱性ガラス基板用組成物であり、且つ、絶縁ペース
トおよびシーリングフリットとの熱膨張係数が整合して
いる組成物の提供を目的とする。
題を解消し、前記したような熱変形が小さい、いわゆる
高耐熱性ガラス基板用組成物であり、且つ、絶縁ペース
トおよびシーリングフリットとの熱膨張係数が整合して
いる組成物の提供を目的とする。
さらに従前のソーダライムガラスに比しアルカリ成分を
低減することにより、アルカリマクグレージョンの抑制
、化学的耐久性の機能が向上するガラス基板用組成物の
提供を目的とする。
低減することにより、アルカリマクグレージョンの抑制
、化学的耐久性の機能が向上するガラス基板用組成物の
提供を目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明は重量%で実質的に
SL0□ 55〜65 %A1.
O,s〜15 % CaO3〜12 % MgO+ CaO+ SrO+ Ba0 1
7〜25 %LLaO+ NaJ + Ka
o 6〜12 %ZrO2035〜
6 % SOs + AS*O* + 5biOa
O〜0.5 %5nOa + Ti0
i O〜 3 %La
□0. 0〜5
%からなる基板用ガラス組成物である。
O,s〜15 % CaO3〜12 % MgO+ CaO+ SrO+ Ba0 1
7〜25 %LLaO+ NaJ + Ka
o 6〜12 %ZrO2035〜
6 % SOs + AS*O* + 5biOa
O〜0.5 %5nOa + Ti0
i O〜 3 %La
□0. 0〜5
%からなる基板用ガラス組成物である。
本発明による組成物の限定理由は以下のとおりである。
SiO□ ・
ガラスのネットワークフォーマ−である。
5insが55%未満ではガラスの軟化点が低すぎ、高
耐熱化が望めない。65%より多いとガラスの熱膨張が
小さくなりすぎ、反り等の歪を生じ好ましくない。望ま
しくは57〜63%である。
耐熱化が望めない。65%より多いとガラスの熱膨張が
小さくなりすぎ、反り等の歪を生じ好ましくない。望ま
しくは57〜63%である。
AlaOs ;
高耐熱化および耐薬品性を付与するために必須であり、
5%より少ないと耐薬品性が悪くなる。15%より多い
と高軟化化は実現できるが熱膨張が小さくなり好ましく
ない。望ましくは6〜13%である。
5%より少ないと耐薬品性が悪くなる。15%より多い
と高軟化化は実現できるが熱膨張が小さくなり好ましく
ない。望ましくは6〜13%である。
CaO・
3%未満では熱膨張係数が小さくなり過ぎ、他方12%
を越えると失透が生成し易くなるのでいずれも好ましく
ない。
を越えると失透が生成し易くなるのでいずれも好ましく
ない。
MgO+ CaO+ SrO+ BaO;高融点且つ高
膨張化のために必須である。
膨張化のために必須である。
その含量が17%よりも少ないと所望の熱膨張が得られ
ない。一方、25%より多いとガラスの失透温度が高く
なり過ぎ製板が困難になる。望ましくは19〜23%で
ある。
ない。一方、25%より多いとガラスの失透温度が高く
なり過ぎ製板が困難になる。望ましくは19〜23%で
ある。
LizO+NazO+KzO;
軟化点および熱膨張係数さらに耐薬品性向上に必須。含
量で6%より少ないと熱膨弓長率が小さすぎる。12%
より多いと軟化点が低くなりすぎ、耐熱性が低下するの
で好ましくない。望ましくは含量で8〜11%である。
量で6%より少ないと熱膨弓長率が小さすぎる。12%
より多いと軟化点が低くなりすぎ、耐熱性が低下するの
で好ましくない。望ましくは含量で8〜11%である。
ZrL ;
化学的特性向上に必須である。0.5%より少ないとそ
の効果はない。6%より多いと熱膨張率が低くなりすぎ
る。望ましくは1〜5%である。
の効果はない。6%より多いと熱膨張率が低くなりすぎ
る。望ましくは1〜5%である。
S03+^sJ* + 5btOs :必須成分ではな
いが清澄剤として用いることができる。含量で0.5%
を越えると着色等の欠点を生じ易くなるので好ましくな
い。
いが清澄剤として用いることができる。含量で0.5%
を越えると着色等の欠点を生じ易くなるので好ましくな
い。
Snug + Ti0i ;
必須成分ではないが、化学的耐久性向上が目的である。
含量で3%を越えるとガラスが着色するので好ましくな
い。
い。
La1es ;
必須成分ではないが、熱膨張、化学的耐久性あるいは軟
化点の微調整剤として使用される。しかしその含有量が
5%を越えても効果の向上は認められない。
化点の微調整剤として使用される。しかしその含有量が
5%を越えても効果の向上は認められない。
[実施例]
本発明によるガラスは、例えば次のように製造する。目
標組成になるように各原料を調合し、これを1450〜
1520℃の温度にて溶解し、製板する。かくして得ら
れたガラス板について、歪点、軟化点、熱膨張係数、熱
変形量および電気抵抗を測定し、その結果を表1に示し
た。同表には従来使用されている一般建築用のソーダラ
イムガラスとを対比させて示す。
標組成になるように各原料を調合し、これを1450〜
1520℃の温度にて溶解し、製板する。かくして得ら
れたガラス板について、歪点、軟化点、熱膨張係数、熱
変形量および電気抵抗を測定し、その結果を表1に示し
た。同表には従来使用されている一般建築用のソーダラ
イムガラスとを対比させて示す。
なお、熱変形量は厚さ2 mmのガラス板をスパン20
0 mmで二点支持を行ない、600℃で10分間保持
した場合のたわみ量である。
0 mmで二点支持を行ない、600℃で10分間保持
した場合のたわみ量である。
同表より明らかなように、本発明によるガラス組成物は
、熱変形量が極めて少なく、耐熱性に優れ、熱膨張係数
が75〜90X 10−’/’Cの範囲にある。
、熱変形量が極めて少なく、耐熱性に優れ、熱膨張係数
が75〜90X 10−’/’Cの範囲にある。
[発明の効果]
本発明によるガラス基板は、600 ℃前後の熱処理
工程において、従前のガラスが5〜10”熱変形するの
に対し、0.1″1以下と殆んど変形のない高耐熱性ガ
ラスであって、従前のガラスと同等の熱膨張係数を有す
るため、他部材の変更なく、高精細度且つ歩留まり改善
に大きな効果を実現し得る。
工程において、従前のガラスが5〜10”熱変形するの
に対し、0.1″1以下と殆んど変形のない高耐熱性ガ
ラスであって、従前のガラスと同等の熱膨張係数を有す
るため、他部材の変更なく、高精細度且つ歩留まり改善
に大きな効果を実現し得る。
Claims (1)
- (1)実質的に重量%表示で SiO_2 55〜65% Al_2O_3 5〜15% CaO 3〜12% MgO+CaO+SrO+BaO 17〜25%Li_
2O+Na_2O+K_2O 6〜12%ZrO_2
0.5〜6% SO_3+As_2O_3+Sb_2O_3 0〜0.
5%SnO_2+TiO_2 0〜3% La_2O_3 0〜5% からなる基板用ガラス組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1173085A JP2738036B2 (ja) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | 基板用ガラス組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1173085A JP2738036B2 (ja) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | 基板用ガラス組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0340933A true JPH0340933A (ja) | 1991-02-21 |
JP2738036B2 JP2738036B2 (ja) | 1998-04-08 |
Family
ID=15953927
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1173085A Expired - Lifetime JP2738036B2 (ja) | 1989-07-06 | 1989-07-06 | 基板用ガラス組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2738036B2 (ja) |
Cited By (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5599754A (en) * | 1994-10-14 | 1997-02-04 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate, and substrate for plasma display made thereof |
US5631195A (en) * | 1994-09-14 | 1997-05-20 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition and substrate for plasma display |
EP0795522A1 (en) * | 1996-03-14 | 1997-09-17 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate |
WO1998001399A1 (fr) * | 1995-04-14 | 1998-01-15 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Substrat en verre et ecran d'affichage au plasma fabrique au moyen de ce substrat |
WO1998001400A1 (fr) * | 1995-04-14 | 1998-01-15 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Substrat en verre et ecran d'affichage au plasma fabrique au moyen de ce substrat |
US5747396A (en) * | 1996-02-29 | 1998-05-05 | Tdk Corporation | Glass and ceramic substrate using the same |
US5776844A (en) * | 1994-10-13 | 1998-07-07 | Saint-Gobain Vitrage | Compositions of silico-sodo-calcic glasses and their applications |
US5780371A (en) * | 1994-10-13 | 1998-07-14 | Saint-Gobain Vitrage S.A. | Reinforced glass substrate |
EP0854117A1 (fr) * | 1997-01-17 | 1998-07-22 | Saint-Gobain Vitrage | Compositions de verre silico-sodo-calcique et leurs applications |
DE19721738C1 (de) * | 1997-05-24 | 1998-11-05 | Schott Glas | Aluminosilicatglas für flache Anzeigevorrichtungen und Verwendungen |
US5854152A (en) * | 1997-12-10 | 1998-12-29 | Corning Incorporated | Glasses for display panels |
US5854153A (en) * | 1997-01-09 | 1998-12-29 | Corning Incorporated | Glasses for display panels |
JPH11503403A (ja) * | 1996-02-07 | 1999-03-26 | サン−ゴバン ビトラージュ | ガラス基材の処理方法 |
US5900296A (en) * | 1995-04-20 | 1999-05-04 | Ag Technology Co., Ltd. | Glass substrate for magnetic disk |
US5908794A (en) * | 1996-03-15 | 1999-06-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate |
US5925583A (en) * | 1996-09-27 | 1999-07-20 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Heat-resistant glass composition |
US5932503A (en) * | 1996-12-05 | 1999-08-03 | Samsung Corning Co., Ltd. | Glass composition for plasma display panel |
JP2000143282A (ja) * | 1998-09-11 | 2000-05-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス組成物、それを用いた情報記録媒体用基板および情報記録媒体 |
US6162750A (en) * | 1995-04-14 | 2000-12-19 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Substrate glass and plasma display made by using the same |
US6268304B1 (en) | 1998-04-28 | 2001-07-31 | Asahi Glass Company Ltd. | Plate glass and substrate glass for electronics |
US6297182B1 (en) | 1998-08-11 | 2001-10-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass for a substrate |
US6303528B1 (en) * | 1998-01-27 | 2001-10-16 | Schott Glas | Glass for rigid disk substrates |
US6306786B1 (en) * | 1998-04-17 | 2001-10-23 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass composition and process for producing the same |
US6333286B1 (en) * | 1998-09-11 | 2001-12-25 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass composition and substrate for information recording media comprising the same |
US6376403B1 (en) | 1998-04-17 | 2002-04-23 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass composition and process for producing the same |
DE10214449A1 (de) * | 2002-03-30 | 2003-10-23 | Schott Glas | Verfahren zur Herstellung von alkalifreien Aluminosilicatgläsern |
JP2004002062A (ja) * | 2002-05-29 | 2004-01-08 | Nippon Electric Glass Co Ltd | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 |
KR100431727B1 (ko) * | 1997-09-29 | 2004-09-04 | 삼성코닝 주식회사 | 프라즈마영상표시판넬용기판유리조성물 |
JP2005015328A (ja) * | 2003-06-06 | 2005-01-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ジルコニウムを含むガラス組成物、化学強化ガラス物品、磁気記録媒体用ガラス基板、およびガラス板の製造方法 |
JP2005207887A (ja) * | 2004-01-22 | 2005-08-04 | Dkk Toa Corp | 電極支持部材及び電気化学式センサ |
WO2007066603A1 (ja) * | 2005-12-07 | 2007-06-14 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | 外部電極蛍光ランプ用外套容器 |
WO2009096611A1 (ja) * | 2008-02-27 | 2009-08-06 | Asahi Glass Company, Limited | 基板用ガラス組成物 |
JP2010052979A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Nec Lighting Ltd | 照明用ガラス組成物および蛍光ランプ |
US7892999B2 (en) | 2006-05-10 | 2011-02-22 | Asahi Glass Company, Limited | Float glass for display substrate and method for producing it |
WO2011035889A1 (de) * | 2009-09-25 | 2011-03-31 | Schott Ag | Alumosilikatgläser mit hoher thermischer beständigkeit und niedriger verarbeitungstemperatur |
JP2011195450A (ja) * | 2011-07-01 | 2011-10-06 | Hoya Corp | 携帯型液晶ディスプレイ用のガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いた携帯型液晶ディスプレイ |
JP2012087040A (ja) * | 2008-06-27 | 2012-05-10 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 強化ガラス及びその製造方法 |
JP2012229154A (ja) * | 2012-06-11 | 2012-11-22 | Hoya Corp | ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ |
CN112521007A (zh) * | 2020-12-27 | 2021-03-19 | 西安赛尔电子材料科技有限公司 | 振动加速度传感器用封接玻璃材料的制备方法和封接工艺 |
-
1989
- 1989-07-06 JP JP1173085A patent/JP2738036B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (57)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5631195A (en) * | 1994-09-14 | 1997-05-20 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition and substrate for plasma display |
US5780373A (en) * | 1994-09-14 | 1998-07-14 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition and substrate for plasma display |
US5776844A (en) * | 1994-10-13 | 1998-07-07 | Saint-Gobain Vitrage | Compositions of silico-sodo-calcic glasses and their applications |
US5958812A (en) * | 1994-10-13 | 1999-09-28 | Saint-Gobain Vitrage | Compositions of silico-sodo-calcic glasses and their applications |
US5780371A (en) * | 1994-10-13 | 1998-07-14 | Saint-Gobain Vitrage S.A. | Reinforced glass substrate |
EP0769481A1 (en) | 1994-10-14 | 1997-04-23 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate, and substrate for plasma display made thereof |
US5599754A (en) * | 1994-10-14 | 1997-02-04 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate, and substrate for plasma display made thereof |
WO1998001400A1 (fr) * | 1995-04-14 | 1998-01-15 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Substrat en verre et ecran d'affichage au plasma fabrique au moyen de ce substrat |
WO1998001399A1 (fr) * | 1995-04-14 | 1998-01-15 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Substrat en verre et ecran d'affichage au plasma fabrique au moyen de ce substrat |
US6162750A (en) * | 1995-04-14 | 2000-12-19 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Substrate glass and plasma display made by using the same |
US5900296A (en) * | 1995-04-20 | 1999-05-04 | Ag Technology Co., Ltd. | Glass substrate for magnetic disk |
JPH11503403A (ja) * | 1996-02-07 | 1999-03-26 | サン−ゴバン ビトラージュ | ガラス基材の処理方法 |
US5747396A (en) * | 1996-02-29 | 1998-05-05 | Tdk Corporation | Glass and ceramic substrate using the same |
EP0795522A1 (en) * | 1996-03-14 | 1997-09-17 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate |
US5858897A (en) * | 1996-03-14 | 1999-01-12 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate |
KR100474779B1 (ko) * | 1996-03-15 | 2005-08-23 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 기판용유리조성물 |
US5908794A (en) * | 1996-03-15 | 1999-06-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass composition for a substrate |
KR100320627B1 (ko) * | 1996-07-10 | 2002-03-08 | 모리 데쯔지 | 기판용유리와이를이용한플라즈마디스플레이장치 |
US5925583A (en) * | 1996-09-27 | 1999-07-20 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Heat-resistant glass composition |
KR100472804B1 (ko) * | 1996-09-27 | 2005-08-31 | 닛폰 이타가라스 가부시키가이샤 | 내열성유리조성물 |
US5932503A (en) * | 1996-12-05 | 1999-08-03 | Samsung Corning Co., Ltd. | Glass composition for plasma display panel |
US5854153A (en) * | 1997-01-09 | 1998-12-29 | Corning Incorporated | Glasses for display panels |
FR2758550A1 (fr) * | 1997-01-17 | 1998-07-24 | Saint Gobain Vitrage | Compositions de verre silico-sodo-calcique et leurs applications |
EP0854117A1 (fr) * | 1997-01-17 | 1998-07-22 | Saint-Gobain Vitrage | Compositions de verre silico-sodo-calcique et leurs applications |
EP0879800A1 (de) * | 1997-05-24 | 1998-11-25 | Schott Glas | Aluminosilicatglas für flache Anzeigenvorrichtungen |
US6087284A (en) * | 1997-05-24 | 2000-07-11 | Schott Glas | Aluminosilicate glass for flat display devices |
DE19721738C1 (de) * | 1997-05-24 | 1998-11-05 | Schott Glas | Aluminosilicatglas für flache Anzeigevorrichtungen und Verwendungen |
KR100431727B1 (ko) * | 1997-09-29 | 2004-09-04 | 삼성코닝 주식회사 | 프라즈마영상표시판넬용기판유리조성물 |
US5854152A (en) * | 1997-12-10 | 1998-12-29 | Corning Incorporated | Glasses for display panels |
US6303528B1 (en) * | 1998-01-27 | 2001-10-16 | Schott Glas | Glass for rigid disk substrates |
US6306786B1 (en) * | 1998-04-17 | 2001-10-23 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass composition and process for producing the same |
US6376403B1 (en) | 1998-04-17 | 2002-04-23 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass composition and process for producing the same |
US6268304B1 (en) | 1998-04-28 | 2001-07-31 | Asahi Glass Company Ltd. | Plate glass and substrate glass for electronics |
US6297182B1 (en) | 1998-08-11 | 2001-10-02 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass for a substrate |
US6333286B1 (en) * | 1998-09-11 | 2001-12-25 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Glass composition and substrate for information recording media comprising the same |
JP2000143282A (ja) * | 1998-09-11 | 2000-05-23 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス組成物、それを用いた情報記録媒体用基板および情報記録媒体 |
DE10214449B4 (de) * | 2002-03-30 | 2005-03-24 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung von alkalifreien Aluminosilicatgläsern |
US7137278B2 (en) | 2002-03-30 | 2006-11-21 | Schott Ag | Process for producing alkali-free aluminosilicate glass |
DE10214449A1 (de) * | 2002-03-30 | 2003-10-23 | Schott Glas | Verfahren zur Herstellung von alkalifreien Aluminosilicatgläsern |
JP2004002062A (ja) * | 2002-05-29 | 2004-01-08 | Nippon Electric Glass Co Ltd | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 |
JP4692915B2 (ja) * | 2002-05-29 | 2011-06-01 | 日本電気硝子株式会社 | プラズマディスプレイ装置用前面ガラス基板。 |
JP4656863B2 (ja) * | 2003-06-06 | 2011-03-23 | Hoya株式会社 | ジルコニウムを含むガラス組成物、化学強化ガラス物品、磁気記録媒体用ガラス基板、およびガラス板の製造方法 |
JP2005015328A (ja) * | 2003-06-06 | 2005-01-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ジルコニウムを含むガラス組成物、化学強化ガラス物品、磁気記録媒体用ガラス基板、およびガラス板の製造方法 |
JP2005207887A (ja) * | 2004-01-22 | 2005-08-04 | Dkk Toa Corp | 電極支持部材及び電気化学式センサ |
WO2007066603A1 (ja) * | 2005-12-07 | 2007-06-14 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | 外部電極蛍光ランプ用外套容器 |
US7892999B2 (en) | 2006-05-10 | 2011-02-22 | Asahi Glass Company, Limited | Float glass for display substrate and method for producing it |
WO2009096611A1 (ja) * | 2008-02-27 | 2009-08-06 | Asahi Glass Company, Limited | 基板用ガラス組成物 |
US8349751B2 (en) | 2008-02-27 | 2013-01-08 | Asahi Glass Company, Limited | Glass composition for substrates |
JP5392096B2 (ja) * | 2008-02-27 | 2014-01-22 | 旭硝子株式会社 | 基板用ガラス組成物 |
JP2012087040A (ja) * | 2008-06-27 | 2012-05-10 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 強化ガラス及びその製造方法 |
JP2010052979A (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-11 | Nec Lighting Ltd | 照明用ガラス組成物および蛍光ランプ |
WO2011035889A1 (de) * | 2009-09-25 | 2011-03-31 | Schott Ag | Alumosilikatgläser mit hoher thermischer beständigkeit und niedriger verarbeitungstemperatur |
JP2013505889A (ja) * | 2009-09-25 | 2013-02-21 | ショット アクチエンゲゼルシャフト | 高い耐熱性と低い作業温度を有するアルミノケイ酸塩ガラス |
US8828897B2 (en) | 2009-09-25 | 2014-09-09 | Schott Ag | Alumino-silicate glass having high thermal stability and low processing temperature |
JP2011195450A (ja) * | 2011-07-01 | 2011-10-06 | Hoya Corp | 携帯型液晶ディスプレイ用のガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いた携帯型液晶ディスプレイ |
JP2012229154A (ja) * | 2012-06-11 | 2012-11-22 | Hoya Corp | ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ |
CN112521007A (zh) * | 2020-12-27 | 2021-03-19 | 西安赛尔电子材料科技有限公司 | 振动加速度传感器用封接玻璃材料的制备方法和封接工艺 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2738036B2 (ja) | 1998-04-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0340933A (ja) | 基板用ガラス組成物 | |
EP0769481B1 (en) | Glass composition for a substrate, and substrate for plasma display made thereof | |
US5854153A (en) | Glasses for display panels | |
JP3666054B2 (ja) | 基板用ガラス | |
US5854152A (en) | Glasses for display panels | |
EP0782552A1 (en) | Substrate glasses for plasma displays | |
JPH08165138A (ja) | 基板用ガラス組成物とそれを用いたプラズマディスプレイ用基板 | |
JP2001226138A (ja) | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 | |
JPH09255354A (ja) | 基板用ガラス組成物 | |
JP3460298B2 (ja) | 基板用ガラス組成物 | |
JP2002193635A (ja) | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 | |
JPH08290939A (ja) | 基板用ガラス | |
JPH09255356A (ja) | 基板用ガラス組成物 | |
JP2926800B2 (ja) | ガラス組成物 | |
JP2000072472A (ja) | 耐熱性ガラス組成物およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル | |
WO1998001400A1 (fr) | Substrat en verre et ecran d'affichage au plasma fabrique au moyen de ce substrat | |
JPH09255355A (ja) | 基板用ガラス組成物 | |
JPH1025130A (ja) | 基板用ガラス | |
KR100320627B1 (ko) | 기판용유리와이를이용한플라즈마디스플레이장치 | |
JP4756428B2 (ja) | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 | |
JP2001247332A (ja) | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 | |
WO2008007596A1 (fr) | VERRE SANS PLOMB à bas point de fusion | |
US4246034A (en) | Devitrifying solder sealing glasses | |
JPS5860638A (ja) | 螢光灯用ガラス | |
KR20020006822A (ko) | 무 알칼리 유리 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080116 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090116 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100116 Year of fee payment: 12 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100116 Year of fee payment: 12 |