JPH111342A - プラズマディスプレイ装置用前面ガラス基板 - Google Patents
プラズマディスプレイ装置用前面ガラス基板Info
- Publication number
- JPH111342A JPH111342A JP10073500A JP7350098A JPH111342A JP H111342 A JPH111342 A JP H111342A JP 10073500 A JP10073500 A JP 10073500A JP 7350098 A JP7350098 A JP 7350098A JP H111342 A JPH111342 A JP H111342A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- plasma display
- glass substrate
- front glass
- ppm
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマディスプレイ装置の内部から光が放
出された際、前面ガラス基板の内表面で散乱した光が、
隣接する画素に混入する量を低減し、ハレーションを抑
えることが可能なプラズマディスプレイ装置用前面ガラ
ス基板を提供することを目的とするものである。 【解決手段】 ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＲＯ−Ｒ2 Ｏ系
基本ガラスに対し、ＣｏＯを２０〜５００ｐｐｍ、Ｎｉ
Ｏを１５０〜２０００ｐｐｍ含有せしめたガラスから形
成されてなることを特徴とする。
出された際、前面ガラス基板の内表面で散乱した光が、
隣接する画素に混入する量を低減し、ハレーションを抑
えることが可能なプラズマディスプレイ装置用前面ガラ
ス基板を提供することを目的とするものである。 【解決手段】 ＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＲＯ−Ｒ2 Ｏ系
基本ガラスに対し、ＣｏＯを２０〜５００ｐｐｍ、Ｎｉ
Ｏを１５０〜２０００ｐｐｍ含有せしめたガラスから形
成されてなることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フラットパネルデ
ィスプレイ装置の一種であるプラズマディスプレイ装置
の前面ガラス基板に関するものである。
ィスプレイ装置の一種であるプラズマディスプレイ装置
の前面ガラス基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】現在、プラズマディスプレイ装置には、
ＤＣ型とＡＣ型の２種類が存在する。
ＤＣ型とＡＣ型の２種類が存在する。
【０００３】図１は、ＤＣ型プラズマディスプレイ装置
を示す部分断面図である。ＤＣ型プラズマディスプレイ
装置１０は、映像が映し出される前面ガラス基板１１
と、この前面ガラス基板１１と一定の間隔をおいて対向
して設けられた背面ガラス基板１２を備えている。
を示す部分断面図である。ＤＣ型プラズマディスプレイ
装置１０は、映像が映し出される前面ガラス基板１１
と、この前面ガラス基板１１と一定の間隔をおいて対向
して設けられた背面ガラス基板１２を備えている。
【０００４】前面ガラス基板１１は内側面にカソード
（陰極）１３が形成され、一方、背面ガラス基板１２の
内側面にはアノード（陽極）１４と補助アノード１５が
形成されており、絶縁体１６を介して蛍光体１７を備え
たリブ１８が立設されている。そして前面ガラス基板１
１と背面ガラス基板１２で囲まれた内部には、希ガス１
９が封入されている。なお、２０は抵抗を示し、２１は
アノード母線を示している。
（陰極）１３が形成され、一方、背面ガラス基板１２の
内側面にはアノード（陽極）１４と補助アノード１５が
形成されており、絶縁体１６を介して蛍光体１７を備え
たリブ１８が立設されている。そして前面ガラス基板１
１と背面ガラス基板１２で囲まれた内部には、希ガス１
９が封入されている。なお、２０は抵抗を示し、２１は
アノード母線を示している。
【０００５】また図２は、ＡＣ型プラズマディスプレイ
装置を示す部分断面図である。このＡＣ型プラズマディ
スプレイ装置２２も、映像が映し出される前面ガラス基
板２３と、この前面ガラス基板２３と一定の間隔をおい
て対向して設けられた背面ガラス基板２４を備えてい
る。
装置を示す部分断面図である。このＡＣ型プラズマディ
スプレイ装置２２も、映像が映し出される前面ガラス基
板２３と、この前面ガラス基板２３と一定の間隔をおい
て対向して設けられた背面ガラス基板２４を備えてい
る。
【０００６】前面ガラス基板２３は内側面に表示電極２
５を備え、この表示電極２５は誘電体層２６によって埋
設され、この誘電体層２６の表面にはＭｇＯ膜２７が形
成されている。また背面ガラス基板２４の内側面にはア
ドレス電極２８が形成されている。前面ガラス基板２３
の内側面のＭｇＯ膜２７と、背面ガラス基板２４の内側
面との間には、背面ガラス基板２４から立設したリブ２
９が形成されている。このリブ２９は表面に蛍光体３０
を備えている。前面ガラス基板２３と背面ガラス基板２
４で囲まれた内部には、希ガス３１が封入されている。
５を備え、この表示電極２５は誘電体層２６によって埋
設され、この誘電体層２６の表面にはＭｇＯ膜２７が形
成されている。また背面ガラス基板２４の内側面にはア
ドレス電極２８が形成されている。前面ガラス基板２３
の内側面のＭｇＯ膜２７と、背面ガラス基板２４の内側
面との間には、背面ガラス基板２４から立設したリブ２
９が形成されている。このリブ２９は表面に蛍光体３０
を備えている。前面ガラス基板２３と背面ガラス基板２
４で囲まれた内部には、希ガス３１が封入されている。
【０００７】一般に上記の前面ガラス基板１１、２３及
び背面ガラス基板１２、２４の厚みは、２．６〜３．０
ｍｍ程度であり、ソーダライムガラスや歪点が５７０℃
以上の高歪点ガラスから形成されている。
び背面ガラス基板１２、２４の厚みは、２．６〜３．０
ｍｍ程度であり、ソーダライムガラスや歪点が５７０℃
以上の高歪点ガラスから形成されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】プラズマディスプレイ
装置を起動させると、電極間に放電が起こり、希ガスか
ら紫外線が放出され、この紫外線によって蛍光体が発光
することになる。この光は主に上記した前面ガラス基板
を透過する。この時、赤、緑、青の各蛍光体の発光の波
長域は赤：６２０ｎｍ、緑：５５０ｎｍ、青：４６０ｎ
ｍである。一部は前面ガラス基板の内表面で散乱し、こ
のガラス基板の内外表面で反射を繰り返すことによっ
て、隔壁を越えて隣接する画素に混入し、映像がぼやけ
るという現象が発生する。このような現象は一般にハレ
ーションと呼ばれるが、特に前面ガラス基板の内表面に
誘電体層が形成されるＡＣ型プラズマディスプレイ装置
において、光が散乱しやすく、ハレーションが多く発生
する。
装置を起動させると、電極間に放電が起こり、希ガスか
ら紫外線が放出され、この紫外線によって蛍光体が発光
することになる。この光は主に上記した前面ガラス基板
を透過する。この時、赤、緑、青の各蛍光体の発光の波
長域は赤：６２０ｎｍ、緑：５５０ｎｍ、青：４６０ｎ
ｍである。一部は前面ガラス基板の内表面で散乱し、こ
のガラス基板の内外表面で反射を繰り返すことによっ
て、隔壁を越えて隣接する画素に混入し、映像がぼやけ
るという現象が発生する。このような現象は一般にハレ
ーションと呼ばれるが、特に前面ガラス基板の内表面に
誘電体層が形成されるＡＣ型プラズマディスプレイ装置
において、光が散乱しやすく、ハレーションが多く発生
する。
【０００９】本発明の目的は、ハレーションを抑えるこ
とが可能なプラズマディスプレイ装置の前面ガラス基板
を提供することである。
とが可能なプラズマディスプレイ装置の前面ガラス基板
を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレイ装置用前面ガラス基板は、ＣｏＯを２０〜５００
ｐｐｍ、及びＮｉＯを１０〜２０００ｐｐｍ含有するＳ
ｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＲＯ−Ｒ2 Ｏ系ガラスからなるこ
とを特徴とする。
プレイ装置用前面ガラス基板は、ＣｏＯを２０〜５００
ｐｐｍ、及びＮｉＯを１０〜２０００ｐｐｍ含有するＳ
ｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＲＯ−Ｒ2 Ｏ系ガラスからなるこ
とを特徴とする。
【００１１】
【作用】一般にガラス中にＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｆｅ2 Ｏ
3 、Ｃｒ2 Ｏ3 等の着色剤を含有させると、光の吸収性
が向上することが知られているが、従来からプラズマデ
ィスプレイ装置の前面ガラス基板材料として用いられて
いるソーダライムガラスや高歪点ガラスには本質的に着
色成分は含まれていない。また不純物として着色成分が
混入することもあり得るが、この場合は極めて微量であ
るため、前面ガラス基板の内表面で散乱する光を十分に
吸収することは不可能である。
3 、Ｃｒ2 Ｏ3 等の着色剤を含有させると、光の吸収性
が向上することが知られているが、従来からプラズマデ
ィスプレイ装置の前面ガラス基板材料として用いられて
いるソーダライムガラスや高歪点ガラスには本質的に着
色成分は含まれていない。また不純物として着色成分が
混入することもあり得るが、この場合は極めて微量であ
るため、前面ガラス基板の内表面で散乱する光を十分に
吸収することは不可能である。
【００１２】これに対して本発明の前面ガラス基板は、
ＣｏＯとＮｉＯを併用し、且つその含有量を厳密に調整
したガラスから形成される。ＣｏＯは可視領域である４
４０〜６６０ｎｍの波長域で光線吸収能を有しており、
その吸収能の大きさは長波長側ほど大きく、短波長側ほ
ど小さい。またＮｉＯも可視領域で光線吸収能を有して
おり、その吸収能の大きさは短波長側ほど大きく、長波
長側ほど小さい。よってＣｏＯとＮｉＯの含有量を調整
することによって可視領域において所望の光線吸収能を
得ることができる。
ＣｏＯとＮｉＯを併用し、且つその含有量を厳密に調整
したガラスから形成される。ＣｏＯは可視領域である４
４０〜６６０ｎｍの波長域で光線吸収能を有しており、
その吸収能の大きさは長波長側ほど大きく、短波長側ほ
ど小さい。またＮｉＯも可視領域で光線吸収能を有して
おり、その吸収能の大きさは短波長側ほど大きく、長波
長側ほど小さい。よってＣｏＯとＮｉＯの含有量を調整
することによって可視領域において所望の光線吸収能を
得ることができる。
【００１３】本発明においては、ハレーションの抑制に
必要な光線吸収性能を得るために、ガラス中にＣｏＯを
２０〜５００ｐｐｍ、及びＮｉＯを１０〜２０００ｐｐ
ｍ含有する。ＣｏＯ及びＮｉＯの含有量をこのように規
定することにより、前面ガラス基板の内表面で散乱した
光が前面ガラス基板の内外表面で反射を繰り返す間に徐
々にガラス中に吸収され、隣接する画素に混入する光の
量が少なくなり、ハレーションを抑制することができ
る。なおＣｏＯとＮｉＯによってガラスが着色されるた
め、ハレーションの抑制に加え、コントラストの向上も
期待できる。
必要な光線吸収性能を得るために、ガラス中にＣｏＯを
２０〜５００ｐｐｍ、及びＮｉＯを１０〜２０００ｐｐ
ｍ含有する。ＣｏＯ及びＮｉＯの含有量をこのように規
定することにより、前面ガラス基板の内表面で散乱した
光が前面ガラス基板の内外表面で反射を繰り返す間に徐
々にガラス中に吸収され、隣接する画素に混入する光の
量が少なくなり、ハレーションを抑制することができ
る。なおＣｏＯとＮｉＯによってガラスが着色されるた
め、ハレーションの抑制に加え、コントラストの向上も
期待できる。
【００１４】ところでカラープラズマディスプレイ装置
の場合、青色蛍光体の発光効率が他の蛍光体に比べて低
いという短所がある。このため基板ガラスの可視波長域
の透過率を一様に低下させると、青色蛍光体から発する
光も他の蛍光体から発する光と同様に吸収されるため、
画像の輝度が低下するという好ましくない結果を生じる
ことがあり、青の蛍光体の発光色に対応する波長の光の
透過率を赤や緑のそれより高くすることが要求される場
合がある。この場合、ＮｉＯの含有量の上限を１５０ｐ
ｐｍ以下に制限することによって、青の蛍光体の発光色
に対応する波長の光の吸収を少なくし、赤や緑の波長の
光よりも高い透過率を得ることができる。
の場合、青色蛍光体の発光効率が他の蛍光体に比べて低
いという短所がある。このため基板ガラスの可視波長域
の透過率を一様に低下させると、青色蛍光体から発する
光も他の蛍光体から発する光と同様に吸収されるため、
画像の輝度が低下するという好ましくない結果を生じる
ことがあり、青の蛍光体の発光色に対応する波長の光の
透過率を赤や緑のそれより高くすることが要求される場
合がある。この場合、ＮｉＯの含有量の上限を１５０ｐ
ｐｍ以下に制限することによって、青の蛍光体の発光色
に対応する波長の光の吸収を少なくし、赤や緑の波長の
光よりも高い透過率を得ることができる。
【００１５】ＣｏＯとＮｉＯの含有量を上記のように限
定した理由を次に述べる。ＣｏＯが２０ｐｐｍ未満では
可視領域における光線吸収能が小さくなりすぎ、一方、
５００ｐｐｍより多いと光線の吸収が大きくなりすぎて
蛍光体から発せられた光が吸収され、輝度が著しく低下
するため好ましくない。またＮｉＯが１０ｐｐｍ未満で
は可視領域における光線吸収能が小さくなりすぎ、一
方、１５０ｐｐｍを超えると青色の光線の吸収が大きく
なって輝度が低下しやすくなり、２０００ｐｐｍを超え
ると光線の吸収が大きくなりすぎて輝度が著しく低下す
る。ＣｏＯ及びＮｉＯの含有量の最も好適な範囲はそれ
ぞれ２０〜２００ｐｐｍ、及び６０〜１４０ｐｐｍであ
る。
定した理由を次に述べる。ＣｏＯが２０ｐｐｍ未満では
可視領域における光線吸収能が小さくなりすぎ、一方、
５００ｐｐｍより多いと光線の吸収が大きくなりすぎて
蛍光体から発せられた光が吸収され、輝度が著しく低下
するため好ましくない。またＮｉＯが１０ｐｐｍ未満で
は可視領域における光線吸収能が小さくなりすぎ、一
方、１５０ｐｐｍを超えると青色の光線の吸収が大きく
なって輝度が低下しやすくなり、２０００ｐｐｍを超え
ると光線の吸収が大きくなりすぎて輝度が著しく低下す
る。ＣｏＯ及びＮｉＯの含有量の最も好適な範囲はそれ
ぞれ２０〜２００ｐｐｍ、及び６０〜１４０ｐｐｍであ
る。
【００１６】また本発明における前面ガラス基板は、ガ
ラスの特性を損なわない範囲でＣｏＯやＮｉＯ以外の着
色成分を少量含有していても差し支えなく、例えば基礎
ガラスに対し、Ｆｅ2 Ｏ3 を１００００ｐｐｍ以下、Ｃ
ｒ2 Ｏ3 を５００ｐｐｍ以下含有させることが可能であ
る。
ラスの特性を損なわない範囲でＣｏＯやＮｉＯ以外の着
色成分を少量含有していても差し支えなく、例えば基礎
ガラスに対し、Ｆｅ2 Ｏ3 を１００００ｐｐｍ以下、Ｃ
ｒ2 Ｏ3 を５００ｐｐｍ以下含有させることが可能であ
る。
【００１７】本発明において、ＣｏＯ及びＮｉＯが含有
されるＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＲＯ−Ｒ2 Ｏ系の基礎ガ
ラスには、建築窓ガラスとして用いられているソーダラ
イムガラスを用いても良いが、重量百分率で、ＳｉＯ2
５０〜７０％、Ａｌ2 Ｏ3０．５〜１５％、ＭｇＯ＋
ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １０〜２７％、Ｌｉ2 Ｏ＋Ｎ
ａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ ７〜１５％、ＺｒＯ2 ０〜９％、Ｔ
ｉＯ2 ０〜５％、Ａｓ2 Ｏ3 ０〜１％、Ｓｂ2 Ｏ3
０〜１％の組成を有する高歪点ガラスを用いることが
望ましい。
されるＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ3 −ＲＯ−Ｒ2 Ｏ系の基礎ガ
ラスには、建築窓ガラスとして用いられているソーダラ
イムガラスを用いても良いが、重量百分率で、ＳｉＯ2
５０〜７０％、Ａｌ2 Ｏ3０．５〜１５％、ＭｇＯ＋
ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １０〜２７％、Ｌｉ2 Ｏ＋Ｎ
ａ2 Ｏ＋Ｋ2 Ｏ ７〜１５％、ＺｒＯ2 ０〜９％、Ｔ
ｉＯ2 ０〜５％、Ａｓ2 Ｏ3 ０〜１％、Ｓｂ2 Ｏ3
０〜１％の組成を有する高歪点ガラスを用いることが
望ましい。
【００１８】即ち、ソーダライムガラスは、プラズマデ
ィスプレイ装置に用いられる絶縁ペーストや封着ガラス
の熱膨張係数に整合する熱膨張係数（約８９×１０-7／
℃）を有するため、これを基板として用いても反りは発
生しないが、電極や絶縁ペーストを焼き付ける際の高温
処理時に熱収縮しやすく、また体積抵抗率が低いため、
電極材料の電気抵抗値が変化しやすいという欠点を有し
ている。しかしながら上記のような組成を有する高歪点
ガラスは、７５〜９５×１０-7／℃の熱膨張係数を有
し、５７０℃以上の温度で熱処理しても熱収縮が小さ
く、しかもソーダライムガラスに比べて体積抵抗率が高
いためである。
ィスプレイ装置に用いられる絶縁ペーストや封着ガラス
の熱膨張係数に整合する熱膨張係数（約８９×１０-7／
℃）を有するため、これを基板として用いても反りは発
生しないが、電極や絶縁ペーストを焼き付ける際の高温
処理時に熱収縮しやすく、また体積抵抗率が低いため、
電極材料の電気抵抗値が変化しやすいという欠点を有し
ている。しかしながら上記のような組成を有する高歪点
ガラスは、７５〜９５×１０-7／℃の熱膨張係数を有
し、５７０℃以上の温度で熱処理しても熱収縮が小さ
く、しかもソーダライムガラスに比べて体積抵抗率が高
いためである。
【００１９】高歪点ガラスの組成を上記のように限定し
た理由は、以下の通りである。
た理由は、以下の通りである。
【００２０】ＳｉＯ2 は、ガラスのネットワークフォー
マーであるが、５０％より少ないと、ガラスの歪点が低
くなるため、熱収縮しやすくなり、７０％より多いと、
熱膨張係数が小さくなりすぎるため好ましくない。
マーであるが、５０％より少ないと、ガラスの歪点が低
くなるため、熱収縮しやすくなり、７０％より多いと、
熱膨張係数が小さくなりすぎるため好ましくない。
【００２１】Ａｌ2 Ｏ3 は、ガラスの歪点を高めるため
の成分であるが、０．５％より少ないと、上記効果が得
られず、１５％より多いと、熱膨張係数が小さくなりす
ぎる。
の成分であるが、０．５％より少ないと、上記効果が得
られず、１５％より多いと、熱膨張係数が小さくなりす
ぎる。
【００２２】ＲＯで表示したＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及
びＢａＯは、いずれもガラスを溶融しやすくすると共に
熱膨張係数を制御するための成分であるが、これらの合
量が１０％より少ないと、熱膨張係数が小さくなりやす
く、２７％より多いと、ガラスが失透しやすく、成形が
困難となる。すなわちガラスが失透しやすいと、失透物
の発生を抑えるため溶融温度を高くする必要があるが、
溶融温度を高くすると、成形時のガラスが軟らかくな
る。その結果、ガラス板の表面にうねりが発生したり、
寸法精度が低下しやすくなり、高い表面精度や寸法精度
が要求されるプラズマディスプレイ装置の基板として使
用することが困難となる。
びＢａＯは、いずれもガラスを溶融しやすくすると共に
熱膨張係数を制御するための成分であるが、これらの合
量が１０％より少ないと、熱膨張係数が小さくなりやす
く、２７％より多いと、ガラスが失透しやすく、成形が
困難となる。すなわちガラスが失透しやすいと、失透物
の発生を抑えるため溶融温度を高くする必要があるが、
溶融温度を高くすると、成形時のガラスが軟らかくな
る。その結果、ガラス板の表面にうねりが発生したり、
寸法精度が低下しやすくなり、高い表面精度や寸法精度
が要求されるプラズマディスプレイ装置の基板として使
用することが困難となる。
【００２３】Ｒ2 Ｏで表示したＬｉ2 Ｏ、Ｎａ2 Ｏ及び
Ｋ2 Ｏは、いずれも熱膨張係数を制御するための成分で
あるが、これらの合量が７％より少ないと、熱膨張係数
が小さくなりやすく、１５％より多いと、歪点が低くな
りやすくなる。
Ｋ2 Ｏは、いずれも熱膨張係数を制御するための成分で
あるが、これらの合量が７％より少ないと、熱膨張係数
が小さくなりやすく、１５％より多いと、歪点が低くな
りやすくなる。
【００２４】ＺｒＯ2 は、ガラスの化学的耐久性を向上
させる効果を有するが、９％より多くなると、熱膨張係
数が小さくなりすぎると共に、ガラスの溶融時に失透物
が生成しやすく成形が困難となる。
させる効果を有するが、９％より多くなると、熱膨張係
数が小さくなりすぎると共に、ガラスの溶融時に失透物
が生成しやすく成形が困難となる。
【００２５】ＴｉＯ2 は、ガラスの紫外線による着色を
防止する成分である。すなわちプラズマディスプレイ装
置の場合、放電時に紫外線が発生するが、前面ガラス基
板が紫外線によって着色すると、長期間使用している間
に徐々に表示画面が見づらくなるが、ＴｉＯ2 を含有さ
せることによってこの種の着色を防止できる。しかしな
がらＴｉＯ2 が５％より多くなると、ガラスが失透しや
すく、成形が困難となるため好ましくない。
防止する成分である。すなわちプラズマディスプレイ装
置の場合、放電時に紫外線が発生するが、前面ガラス基
板が紫外線によって着色すると、長期間使用している間
に徐々に表示画面が見づらくなるが、ＴｉＯ2 を含有さ
せることによってこの種の着色を防止できる。しかしな
がらＴｉＯ2 が５％より多くなると、ガラスが失透しや
すく、成形が困難となるため好ましくない。
【００２６】Ａｓ2 Ｏ3 とＳｂ2 Ｏ3 は、いずれも清澄
剤として使用する成分であるが、各成分が１％より多く
なると、ガラスが失透しやすくなり、成形が困難となる
ため好ましくない。
剤として使用する成分であるが、各成分が１％より多く
なると、ガラスが失透しやすくなり、成形が困難となる
ため好ましくない。
【００２７】
【実施例】以下、本発明のプラズマディスプレイ装置用
前面ガラス基板を実施例及び比較例に基づいて詳細に説
明する。
前面ガラス基板を実施例及び比較例に基づいて詳細に説
明する。
【００２８】表１及び表２は、実施例のガラス基板（試
料Ｎｏ．１〜１０）と、比較例のガラス基板（試料Ｎ
ｏ．１１、１２）を示すものである。なお試料Ｎｏ．１
２は一般の建築窓用ソーダライムガラスである。
料Ｎｏ．１〜１０）と、比較例のガラス基板（試料Ｎ
ｏ．１１、１２）を示すものである。なお試料Ｎｏ．１
２は一般の建築窓用ソーダライムガラスである。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【表２】
【００３１】各試料は次のようにして調製した。
【００３２】まず表中のガラス組成となるように原料を
調合し、これを白金坩堝に入れた後、電気炉中で１４５
０〜１５５０℃の温度で４時間溶融してから、この溶融
ガラスをカーボン板上に流し出して板状に成形し、これ
を両面研磨した後、得られた板ガラスを２００ｍｍ角の
大きさに切断加工することによって試料を作製した。
調合し、これを白金坩堝に入れた後、電気炉中で１４５
０〜１５５０℃の温度で４時間溶融してから、この溶融
ガラスをカーボン板上に流し出して板状に成形し、これ
を両面研磨した後、得られた板ガラスを２００ｍｍ角の
大きさに切断加工することによって試料を作製した。
【００３３】こうして得られた各試料について、歪点、
液相温度、熱膨張係数、体積抵抗率及び可視光透過率を
測定し、表に示した。
液相温度、熱膨張係数、体積抵抗率及び可視光透過率を
測定し、表に示した。
【００３４】表から明らかなように、実施例であるＮ
ｏ．１〜１０の試料は、歪点が５７１〜５８２℃、液相
温度が１０１５〜１０５０℃、熱膨張係数が８１〜８８
×１０-7／℃、１５０℃における体積抵抗率が１１．４
〜１２．８Ω・ｃｍであり、ソーダライムガラスからな
る試料Ｎｏ．１２に比べて歪点、液相温度及び体積抵抗
率が高かった。またＮｏ．７〜１０の試料は、波長４６
０ｎｍ（青）における可視光透過率が７７〜８１％、波
長５５０ｎｍ（緑）における透過率が７６〜７９％、波
長６２０ｎｍ（赤）における透過率が７３〜７５％であ
り、各試料とも波長４６０ｎｍにおける可視光透過率が
波長６２０ｎｍ及び波長５５０ｎｍにおけるそれより高
かった。
ｏ．１〜１０の試料は、歪点が５７１〜５８２℃、液相
温度が１０１５〜１０５０℃、熱膨張係数が８１〜８８
×１０-7／℃、１５０℃における体積抵抗率が１１．４
〜１２．８Ω・ｃｍであり、ソーダライムガラスからな
る試料Ｎｏ．１２に比べて歪点、液相温度及び体積抵抗
率が高かった。またＮｏ．７〜１０の試料は、波長４６
０ｎｍ（青）における可視光透過率が７７〜８１％、波
長５５０ｎｍ（緑）における透過率が７６〜７９％、波
長６２０ｎｍ（赤）における透過率が７３〜７５％であ
り、各試料とも波長４６０ｎｍにおける可視光透過率が
波長６２０ｎｍ及び波長５５０ｎｍにおけるそれより高
かった。
【００３５】なお、表中の歪点はＡＳＴＭ Ｃ３３６−
７１の方法に基づいて測定し、液相温度は白金ボートに
２９７〜５００μｍの粒径を有するガラス粉末を入れ、
温度勾配炉に４８時間保持した後の失透観察によって求
めたものである。熱膨張係数はディラトメーターによっ
て３０〜３８０℃における平均熱膨張係数を測定したも
のである。体積抵抗率はＡＳＴＭ Ｃ６５７−７８に基
づいて１５０℃における値を測定したものである。可視
光透過率はガラス基板から小片を切り出し、研磨剤とし
て酸化セリウムを用いて鏡面研磨することによって、
２．８ｍｍの厚みにした後、４６０ｎｍ（青色）、５５
０ｎｍ（緑色）、６２０ｎｍ（赤色）の各波長における
透過率を分光光度計で測定したものである。
７１の方法に基づいて測定し、液相温度は白金ボートに
２９７〜５００μｍの粒径を有するガラス粉末を入れ、
温度勾配炉に４８時間保持した後の失透観察によって求
めたものである。熱膨張係数はディラトメーターによっ
て３０〜３８０℃における平均熱膨張係数を測定したも
のである。体積抵抗率はＡＳＴＭ Ｃ６５７−７８に基
づいて１５０℃における値を測定したものである。可視
光透過率はガラス基板から小片を切り出し、研磨剤とし
て酸化セリウムを用いて鏡面研磨することによって、
２．８ｍｍの厚みにした後、４６０ｎｍ（青色）、５５
０ｎｍ（緑色）、６２０ｎｍ（赤色）の各波長における
透過率を分光光度計で測定したものである。
【００３６】次に、所定の大きさに切断加工した各試料
を、プラズマディスプレイ装置の前面ガラス基板及び背
面ガラス基板用として２枚ずつ用意した。次いで各ガラ
ス基板上に電極を焼き付け、誘電体層、隔壁及び蛍光体
を形成した。続いてこれらのガラス基板を低融点封着ガ
ラスでシールした後、その内部にキセノンと主放電ガス
のネオンとの混合ガスを封入し気密封止することによっ
てＡＣ型プラズマディスプレイ装置を作製した。
を、プラズマディスプレイ装置の前面ガラス基板及び背
面ガラス基板用として２枚ずつ用意した。次いで各ガラ
ス基板上に電極を焼き付け、誘電体層、隔壁及び蛍光体
を形成した。続いてこれらのガラス基板を低融点封着ガ
ラスでシールした後、その内部にキセノンと主放電ガス
のネオンとの混合ガスを封入し気密封止することによっ
てＡＣ型プラズマディスプレイ装置を作製した。
【００３７】こうして作製されたＡＣ型プラズマディス
プレイ装置を起動させたところ、試料Ｎｏ．１〜１０の
前面ガラス基板を用いた装置は、いずれも鮮明な映像が
映し出され、ハレーションは全く認められず、しかも試
料Ｎｏ．７〜１０のガラス基板を用いた装置は輝度も高
かった。一方、試料Ｎｏ．１１及び１２の前面ガラス基
板を用いた装置は、部分的に若干ぼやけた映像が映し出
され、ハレーションが起こることが確認された。
プレイ装置を起動させたところ、試料Ｎｏ．１〜１０の
前面ガラス基板を用いた装置は、いずれも鮮明な映像が
映し出され、ハレーションは全く認められず、しかも試
料Ｎｏ．７〜１０のガラス基板を用いた装置は輝度も高
かった。一方、試料Ｎｏ．１１及び１２の前面ガラス基
板を用いた装置は、部分的に若干ぼやけた映像が映し出
され、ハレーションが起こることが確認された。
【００３８】
【発明の効果】以上のように本発明の前面ガラス基板を
用いれば、その内表面で散乱する光を吸収するため、ハ
レーションを低減することが可能であり、これを用いた
プラズマディスプレイ装置は鮮明な映像が得られる。ま
たＮｉＯの含有量を１５０ｐｐｍ以下に制限すれば、よ
り高輝度のプラズマディスプレイ装置を得ることができ
る。
用いれば、その内表面で散乱する光を吸収するため、ハ
レーションを低減することが可能であり、これを用いた
プラズマディスプレイ装置は鮮明な映像が得られる。ま
たＮｉＯの含有量を１５０ｐｐｍ以下に制限すれば、よ
り高輝度のプラズマディスプレイ装置を得ることができ
る。
【図１】ＤＣ型プラズマディスプレイ装置を示す部分断
面図である。
面図である。
【図２】ＡＣ型プラズマディスプレイ装置を示す部分断
面図である。
面図である。
１０ ＤＣ型プラズマディスプレイ装置 １１、２３ 前面ガラス基板 １２、２４ 背面ガラス基板 １３ カソード １４ アノード １７、３０ 蛍光体 ２２ ＡＣ型プラズマディスプレイ装置 ２５ 表示装置 ２８ アドレス電極
Claims (2)
- 【請求項１】 ＣｏＯを２０〜５００ｐｐｍ、及びＮｉ
Ｏを１０〜２０００ｐｐｍ含有するＳｉＯ2 −Ａｌ2 Ｏ
3 −ＲＯ−Ｒ2 Ｏ系ガラスからなることを特徴とするプ
ラズマディスプレイ装置用前面ガラス基板。 - 【請求項２】 ＮｉＯの含有量が１０〜１５０ｐｐｍで
あることを特徴とする請求項１のプラズマディスプレイ
装置用前面ガラス基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10073500A JPH111342A (ja) | 1997-04-15 | 1998-03-06 | プラズマディスプレイ装置用前面ガラス基板 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-114346 | 1997-04-15 | ||
| JP11434697 | 1997-04-15 | ||
| JP10073500A JPH111342A (ja) | 1997-04-15 | 1998-03-06 | プラズマディスプレイ装置用前面ガラス基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH111342A true JPH111342A (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=26414645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10073500A Pending JPH111342A (ja) | 1997-04-15 | 1998-03-06 | プラズマディスプレイ装置用前面ガラス基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH111342A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004002062A (ja) * | 2002-05-29 | 2004-01-08 | Nippon Electric Glass Co Ltd | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 |
| US7576490B2 (en) | 2006-03-20 | 2009-08-18 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Plasma display panel |
| JP5234213B1 (ja) * | 2012-09-14 | 2013-07-10 | 旭硝子株式会社 | 化学強化用ガラス及びその製造方法、並びに化学強化ガラス及びその製造方法 |
-
1998
- 1998-03-06 JP JP10073500A patent/JPH111342A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004002062A (ja) * | 2002-05-29 | 2004-01-08 | Nippon Electric Glass Co Ltd | フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板 |
| JP4692915B2 (ja) * | 2002-05-29 | 2011-06-01 | 日本電気硝子株式会社 | プラズマディスプレイ装置用前面ガラス基板。 |
| US7576490B2 (en) | 2006-03-20 | 2009-08-18 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Plasma display panel |
| JP5234213B1 (ja) * | 2012-09-14 | 2013-07-10 | 旭硝子株式会社 | 化学強化用ガラス及びその製造方法、並びに化学強化ガラス及びその製造方法 |
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