JP2002050469A - 有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】バリア性が不十分で長寿命化が困難であった高
分子樹脂基材を用いて、長寿命な有機エレクトロルミネ
ッセンス素子を提供する。 【解決手段】透明な基材上に、少なくとも透明な第１電
極、有機層、第２電極をこの順に形成する有機エレクト
ロルミネッセンス素子において、該基材が、少なくとも
高分子樹脂基材層、帯電防止層、ガスバリア層を有する
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子を
提供する。また、上記帯電防止層とガスバリア層の間に
応力緩衝層を付加した有機エレクトロルミネッセンス素
子を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は面発光光源から高情
報量のディスプレイまでの広範囲の用途に適した、薄型
・軽量で割れることがなく、長寿命な有機エレクトロル
ミネッセンス素子に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】有機エレクトロルミネッセンス素子は通
常、前面基板、第１電極、有機層、第２電極、背面基板
をこの順に形成した構成をとっている。この有機層は正
孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入
層などの積層構造とすることも可能である。有機エレク
トロルミネッセンス素子では、該第１電極、第２電極間
に電流を流すことにより、有機層で発光を生じさせ、少
なくとも一方の電極を透明にしておくことで、外部に光
を取り出すという仕組みで発光させている。

【０００３】有機層に使用される化合物としては、正孔
輸送層にＮ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジ
フェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン
やポリ（３，４−エチレンジオキシ）チオフェン／ポリ
スチレンスルフォネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、発光
層にトリス（８−キノリノール）アルミニウムやポリ
（パラ−フェニレンビニレン）などといった、低分子量
のものから高分子量のものまで多様な材料が挙げられ
る。

【０００４】従来、第１電極を透明電極とすると、前面
基板にはガラス基板が使用されることが多いが、衝撃で
割れてしまう可能性があること、モジュール重量の大部
分をガラス基板が占めているため、さらなる軽量化、薄
型化が困難であること等の問題があった。そこでガラス
基板の代わりに高分子樹脂基材を使用することが提案さ
れている。これにより、上記の問題が解決できるだけで
なく、さらに、巻き取り可能な基材の場合は有機層形成
などの各プロセス（ウェットコーティング・巻き取り蒸
着）をロール・ツー・ロールで行うことが可能になり、
有機エレクトロルミネッセンス素子を安価に提供するこ
とが可能となる。

【０００５】しかしながら、ポリエステルやポリプロピ
レンといった通常の透明な高分子樹脂基材ではガスバリ
ア性が弱く、素子が水分・酸素、特に水分により劣化し
てダークスポットの発生・拡大から素子寿命が低下して
しまう。これを解決するために、最近では無機酸化物な
どをガスバリア層として高分子樹脂基材上に設けた透明
なバリア性基材を用いた有機エレクトロルミネッセンス
素子が開発されている。そのためのガスバリア性透明基
材としては、上述の金属酸化物などの無機化合物を高分
子樹脂基材に積層したもの（特公昭５３−１２９５３号
公報、特公昭６２−４９８５６号公報）、密着性の向上
や剥離防止等をねらって、ガスバリア層の下あるいは上
に樹脂層を形成したもの（特開平２−５０８３７号公
報、特開平６−１７５１４３号公報）などが報告されて
いる。

【０００６】これらのバリア性基材の使用により、高分
子樹脂基材を用いた高分子系有機層を有する有機エレク
トロルミネッセンス素子の寿命は改善したものの、ここ
で使用されたバリア性基材は有機エレクトロルミネッセ
ンス素子用のバリア性基材としては、そのバリア性能が
不十分で、さらなるバリア性能の向上による長寿命な有
機エレクトロルミネッセンス素子が望まれていた。

【０００７】バリア性が不十分であることの原因として
は、以下のようなものが挙げられる。無機化合物からな
るガスバリア層の高分子樹脂基材への製膜は、生産性な
ども考慮すると、電子線加熱方式の巻き取り式真空蒸着
による製膜が適しているとされている。不純物の混入が
少なく、高速巻き取り蒸着が可能なためである。しか
し、電子線加熱方式では蒸着源やその容器から２次電子
が発生し、それが酸化アルミニウムおよび／または酸化
ケイ素のような導電性のないガスバリア材に帯電する。
これにより、蒸着雰囲気中の塵埃・蒸着物の塊がガスバ
リア層に付着し、さらに、付着物が巻き取り搬送系でガ
スバリア層と多数のロールとの間で擦られることによ
り、重大な損傷がガスバリア層に生じる。また、巻き取
り搬送中、ガスバリア層とロールが剥離する際に放電
し、ガスバリア層を貫通する損傷を生じるといった問題
があり、高いバリア性を得られなかった。

【０００８】さらに、無機酸化膜を蒸着する際の巻き取
り式真空蒸着および、巻き取り印刷、コーティング、ラ
ミネート、ヒートシールなどを行う際の後工程、および
素子の完成後に、引っ張りや押圧等の応力が加わった
り、バリア層表面が擦れたりすることにより、ガスバリ
ア層に割れ（クラック）や傷などの重大な損傷が発生
し、バリア性能低下の原因になっていた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、こ
れまでバリア性能が不十分で長寿命化が困難であった高
分子樹脂基材を用いて、長寿命な有機エレクトロルミネ
ッセンス素子を提供することを目的とした。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の第１の発明は、透明な基材上に、少なく
とも透明な第１電極、有機層、第２電極をこの順に形成
する有機エレクトロルミネッセンス素子において、該基
材が、高分子樹脂基材層、帯電防止層、ガスバリア層か
らなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス
素子である。

【００１１】本発明の第２の発明は、上記帯電防止層と
ガスバリア層の間に応力緩衝層を付加したことを特徴と
する請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素
子である。

【００１２】本発明の第３の発明は、上記基材のガスバ
リア層側に、保護層を付加したことを特徴とする請求項
２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子である。

【００１３】本発明の第４の発明は、上記帯電防止層
が、酸化スズ、酸化インジウム、スズをドープした酸化
インジウム、または酸化亜鉛のうち少なくとも一つを含
むことを特徴とする請求項１から３のいづれか一つに記
載の有機エレクトロルミネッセンス素子である。

【００１４】本発明の第５の発明は、上記帯電防止層
が、導電性高分子からなることを特徴とする請求項１か
ら３のいづれか一つに記載の有機エレクトロルミネッセ
ンス素子である。

【００１５】本発明の第６の発明は、上記ガスバリア層
が、酸化アルミニウム、酸化ケイ素のうち少なくとも一
つを含むことを特徴とする請求項１から５のいづれか一
つに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子である。

【００１６】本発明の第７の発明は、上記応力緩衝層お
よび、または上記保護層が、電子線あるいは紫外線硬化
型樹脂からなることを特徴とする請求項２から６のいづ
れか一つに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子で
ある。

【００１７】有機エレクトロルミネッセンス素子の基材
を、高分子樹脂基材層／帯電防止層／ガスバリア層を含
む構造とすることにより、電子線加熱方式の巻き取り式
真空蒸着によってガスバリア層を形成する際に発生する
ガスバリア層の電荷を帯電防止層が逃がす役割を果たす
ことになる。これによって、ガスバリア層への塵埃など
の付着や、ガスバリア層とロールが剥離する際の放電を
防止することができる。また、応力緩衝層および、また
は保護層は、ガスバリア層を蒸着する際の巻き取り式真
空蒸着および、巻き取り印刷、コーティング、ラミネー
ト、ヒートシールなどを行う際の後工程、および素子の
完成後に、引っ張りや押圧等の応力が加わったりした場
合のガスバリア層の割れや傷などを防ぐ役割を果たす。
したがって、高いガスバリア性能を発現できる前面基材
を、有機エレクトロルミネッセンス素子に応用できるこ
とになり、長寿命な素子を安価に得ることが可能になっ
た。

【発明の実施の形態】

【００１８】以下、図面を利用して本発明の有機エレク
トロルミネッセンス素子の一実施形態について説明す
る。図１は本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子
の構造の一実施例を示す説明図である。

【００１９】高分子樹脂基材層１としては、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプ
ロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポ
リエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポ
リカーボネートなどを好適に用いることができる。

【００２０】帯電防止層２は、真空蒸着やスパッタリン
グ、塗布法などの従来公知の方法で製膜できる。帯電防
止層２を設けることにより、製膜プロセス中での塵埃の
付着を防ぎ、巻き取り搬送中での擦れや放電による損傷
を低減することができる。帯電防止層は透明で有機エレ
クトロルミネッセンス素子からの発光の取り出しを阻害
しない透明な導電性を有する材料からなる必要がある。
これには、アルミニウムや金、銀などの金属が半透明状
に蒸着されたものや、金属酸化物といった無機物から、
Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アルキルアミン
やグリセリン脂肪酸エステルのような非イオン系帯電防
止剤、アルキルスルホン酸塩のようなアニオン系帯電防
止剤、テトラアルキルアンモニウム塩のようなカチオン
系帯電防止剤、アルキルベタインのような両性帯電防止
剤、導電性高分子といった有機物まで、多様な材料から
選択することができるが、その中で特に酸化スズ、酸化
インジウム、スズをドープした酸化インジウム（以下Ｉ
ＴＯという）、酸化亜鉛といった金属酸化物と、ポリア
ニリン、ポリチオフェンといった導電性高分子が導電
性、透明性の面から適している。導電性高分子を使用す
る場合には、導電性を上げるために、導電性高分子にヨ
ウ素やポリスチレンスルホン酸等をドープしても良い。

【００２１】前記金属酸化物は真空蒸着・スパッタリン
グ法で製膜することが望ましいが、中でも望ましくは緻
密な膜を形成でき、さらなるバリア性能の向上が見られ
るマグネトロンスパッタリング法により製膜することで
ある。また、材料によっては湿式塗布法も可能であり、
この場合はより簡便なプロセスとなり、安価に生産が可
能となる。導電性高分子に関しては湿式塗布法が簡便で
かつ安価であるため、望ましい。また、帯電防止層の膜
厚は、導電性、透明性を考慮し、０．００１μｍ〜１μ
ｍが望ましい。

【００２２】ガスバリア層４としてはポリ塩化ビニルや
ポリ塩化ビニリデン、ポリクロロトリフロロエチレンな
どの有機薄膜、あるいは酸化アルミニウム、酸化ケイ素
などの無機薄膜、および、それらの複合膜・積層膜まで
使用することが可能であるが、その中でも特に酸化アル
ミニウムや酸化ケイ素などの無機酸化物からなる無機薄
膜が酸素透過性・水蒸気透過性が低くて望ましい。上述
の無機薄膜を形成する場合、生産性なども考慮すると、
電子線加熱方式の巻き取り式真空蒸着により製膜するこ
とが望ましい。また、ガスバリア層の膜厚は、酸素透過
性・水蒸気透過性を考慮し、０．０１μｍ〜１００μｍ
が望ましい。

【００２３】帯電防止層とガスバリア層が双方共に無機
物で構成されている場合、これらを積層することで、膜
厚増加に伴う内部応力増加によってクラックが発生しや
すくなるが、両者の間に応力緩衝層を設けると、内部応
力を緩和し、引っ張り等の応力に対するガスバリア性の
低下を著しく低減できる。応力緩衝層３には高分子樹脂
を含む材料が望ましく、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹
脂、電子線硬化型樹脂などが挙げられるが、特に紫外線
硬化型樹脂および電子線硬化型樹脂は熱硬化型樹脂に比
べ、硬化速度が速く生産性に優れより望ましい。特に望
ましくは、電子線硬化型樹脂で、溶剤や重合開始材が不
要で、コスト・環境問題の点からも好ましい。本発明で
使用する具体的な電子線硬化型樹脂としては、エポキシ
アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルア
クリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルア
クリレート、不飽和ポリエステルのアクリレートやメタ
クリレートなどが適しているが、これに限定されるもの
ではない。応力緩衝層の膜厚は、０．０１μｍ〜１００
μｍが望ましい。

【００２４】高分子樹脂基材層上に帯電防止層、応力緩
衝層、ガスバリア層を形成した後、有機エレクトロルミ
ネッセンス素子を作製する後工程や、素子の完成後に摩
擦などにより表面に損傷を受けてバリア性が低下しない
ように、あるいは、この後に形成する第１電極が後工程
の応力によりクラックなどの損傷を受けてシート抵抗が
大きくならないように、ガスバリア層上に保護層を形成
するとさらにガスバリア性、可撓性を向上させることが
可能である。保護層５としては、応力緩衝層と同じく高
分子樹脂を含む材料が望ましく、熱硬化型樹脂、紫外線
硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂などが挙げられる。な
お、図１では保護層５の上に電極や有機層を形成してい
るが、保護層５が完成した素子の最外面、つまり、図２
のようになることを考慮して、ハードコート層と兼ねる
こともできる。保護層の膜厚は、０．０１μｍ〜１００
μｍが望ましい。

【００２５】透明な第１電極６としては、インジウムと
スズあるいはインジウムと亜鉛の複合酸化物を用いるこ
とができ、前記多層構造の基材上に蒸着またはスパッタ
リング法により製膜することができる。また、オクチル
酸インジウムやアセトンインジウムなどの前駆体を基材
上に塗布後、熱分解により酸化物を形成する塗布熱分解
法などにより形成することもできる。あるいは、アルミ
ニウム、金、銀などの金属が半透明状に蒸着されたもの
を用いることができる。第１電極の厚さは、０．０１μ
ｍ〜１μｍ程度が望ましい。

【００２６】有機層は、従来の技術で述べた通り、単層
構造でも積層構造でもよく、材料も低分子量のものから
高分子量のものまで使用できる。有機層の膜厚は、単
層、積層のいずれの場合においても１μｍ以下であり、
好ましくは０．０５〜０．１５μｍである。有機層の形
成方法は、材料に応じて、真空蒸着法や、スピンコー
ト、スプレーコート、フレキソ、グラビア、マイクログ
ラビア、凹版オフセットなどのコーティング法、印刷法
を用いることができる。生産性を考慮すると低分子量の
場合は巻き取り蒸着、高分子量の場合は湿式塗布が望ま
しい。

【００２７】図１の実施例では、有機層は正孔注入層７
と発光層８の２層だけとしたが、この場合は正孔注入層
７は正孔輸送層としての機能を、発光層８は電子注入層
と電子輸送層としての機能をそれぞれ併せ持つ形になっ
ている。また、有機層を５層構造にする場合は、第１電
極６側から順に正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子
輸送層、電子注入層を積層する構造をとる。ところで、
図１では、発光層８の右端を第１電極６に挿入して、第
１電極６を分断し絶縁しているが、別途絶縁体を埋め込
む構造としても良い。

【００２８】積層する正孔注入層および正孔輸送層の材
料の例としては、銅フタロシアニン、テトラ（ｔ−ブチ
ル）銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン類および
無金属フタロシアニン類、キナクリドン化合物、１，１
−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘ
キサン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−
メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−
ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−
ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミ
ン等の芳香族アミン系材料のような低分子材料や、芳香
族アミン系ポリマー、ポリチオフェン、ポリアニリンポ
リビニルカルバゾール、ポリ（３，４−エチレンジオキ
シチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物の
ような高分子材料や高分子材料とドーパントの混合物、
あるいはポリチオフェンオリゴマーのようなオリゴマー
材料などが挙げられ、さらにその他既存の正孔注入輸送
材料の中から選ぶことができる。

【００２９】発光層の材料の例としては、９，１０−ジ
アリールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリ
レン、ルブレン、１，１，４，４−テトラフェニルブタ
ジエン、トリス（８−キノリノラート）アルミニウム錯
体、トリス（４−メチル−８−キノリノラート）アルミ
ニウム錯体、ビス（８−キノリノラート）亜鉛錯体、ト
リス（４−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノ
リノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−
５−シアノ−８−キノリノラート）アルミニウム錯体、
ビス（２−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノ
リノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラー
ト］アルミニウム錯体、ビス（２−メチル−５−シアノ
−８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）
フェノラート］アルミニウム錯体、トリス（８−キノリ
ノラート）スカンジウム錯体、ビス〔８−（パラ−トシ
ル）アミノキノリン〕亜鉛錯体及びカドミウム錯体、
１，２，３，４−テトラフェニルシクロペンタジエン、
ペンタフェニルシクロペンタジエン、ポリ−２，５−ジ
ヘプチルオキシ−パラ−フェニレンビニレン、クマリン
系蛍光体、ペリレン系蛍光体、ピラン系蛍光体、アンス
ロン系蛍光体、ポルフィリン系蛍光体、キナクリドン系
蛍光体、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系蛍光
体、ナフタルイミド系蛍光体、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置
換ピロロピロール系蛍光体等の低分子材料や、ポリフル
オレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン
などの高分子材料、また、ポリビニルカルバゾール等の
蛍光性高分子材料やポリメチルメタクリレート等の非蛍
光性高分子材料中に蛍光性材料を分散したものなど、そ
の他既存の発光材料を用いることができる。

【００３０】電子注入層および電子輸送層の材料の例と
しては、２−（４−ビフィニルイル）−５−（４−ｔ−
ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、
２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジ
アゾール、およびオキサジアゾール誘導体やビス（１０
−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリノラート）ベリリウム
錯体、トリアゾール化合物等が挙げられる。

【００３１】陰極としての第２電極９の材料としては、
電子注入効率の高い物質を用いる。具体的にはＭｇ、Ａ
ｌ、Ｙｂ等の金属単体を用いたり、発光媒体と接する界
面にＬｉや酸化Ｌｉ、ＬｉＦ等の化合物を０．００１μ
ｍ程度挟んで、安定性・導電性の高いＡｌやＣｕを積層
して用いる。また、電子注入効率と安定性を両立させる
ため、仕事関数が低いＬｉ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｌａ、
Ｃｅ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｓｃ、Ｙ、Ｙｂ等の金属１種以上
と、安定なＡｇ、Ａｌ、Ｃｕ等の金属元素との合金系が
用いられる。具体的にはＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ、ＣｕＬｉ
等の合金が使用できる。陰極の形成方法は、材料に応じ
て、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着
法、イオンプレーティング法、スパッタリング法を用い
ることができる。陰極の厚さは、０．０１μｍ〜１μｍ
程度が望ましい。

【００３２】以上のように作製した有機エレクトロルミ
ネッセンス素子の第２電極９側には外部からの水分と酸
素による素子劣化を防ぐために、金属やガラスの封止容
器を用いることも可能であるが、フレキシブルな前面基
材の利点を生かすために、フレキシブルなガスバリア膜
を封止フィルム１０として用いて封止を行うのが望まし
い。この封止フィルムは不透明で構わない。封止フィル
ム１０としては、高分子樹脂基材上にアルミニウム箔な
どのガスバリア性の高い層を積層し、最表面には接着性
を有する熱可塑性高分子樹脂のシーラント層を形成した
ような既存のフィルムを用いることができ、接着法とし
てはヒートシール等の方法を使用することができる。
尚、図１では、第２電極９と封止フィルム１１の間に窒
素１０が存在するが、これは水分と酸素による素子劣化
を防ぐために、窒素が充填された容器内で封止を行うた
めであり、真空であっても構わない。

【００３３】以下、有機エレクトロルミネッセンス素子
の実施例を用いて、本発明をより具体的に説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。また、各実
施例は保護層の有無以外は図１に示した構造と同じもの
である。

【００３４】

【実施例】＜実施例１＞高分子樹脂基材層１として５０
μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムを真空連
続製膜装置の巻きだしロールに装着し、速度０．５ｍ／
分でフィルムを搬送しながら、ＩＴＯ（ジャパンエナジ
ー（株）製 酸化スズ含有量１０％）のスパッタリング
を行った。これにより高分子樹脂基材層１上に厚み０．
０１μｍのＩＴＯ帯電防止層２を形成した。

【００３５】上記で得られた帯電防止層２の上にアクリ
レート（共栄社化学（株）製３ＥＧ−Ａ）の樹脂モノマ
ーを蒸着後、電子線を照射して硬化させた。これにより
ＩＴＯ帯電防止層２上に厚み０．１μｍの応力緩衝層３
を形成した。

【００３６】続いて応力緩衝層３の上に、電子線加熱方
式により酸化アルミニウム層を蒸着するために、酸素を
酸化剤として供給しながら、蒸着材料であるアルミニウ
ムに電子線を照射して、蒸発したアルミニウムと酸素を
反応させながら蒸着した。これにより応力緩衝層３上に
厚み０．１μｍのガスバリア層４を形成した。

【００３７】このようにして作製した基材用フィルムの
酸素透過度と水蒸気透過度を測定した。また、後工程で
ある素子作製時の巻き取りなどにより、引っ張りによる
ある程度の応力がかかるものとして、３％引っ張り後に
おける前面基材用フィルムの酸素透過度と水蒸気透過度
を測定した。結果を表１に示す。尚、表中の酸素透過度
の単位は、ｃｃ／ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ、水蒸気透過度
の単位はｇ／ｍ²・ｄａｙである。

【００３８】上記のように作製された基材用フィルム上
に、続けて巻き取り式の真空製膜装置により、第１電極
６として再びＩＴＯをスパッタリングした。

【００３９】その後、第１電極６上に正孔注入層７とし
てＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（バイエル社製Ｂａｙｔｒｏｎ
Ｐ ＴＰ ＡＩ４０８３）と、発光層８としてポリ（２
―メトキシ−５（３’，７’−ジメチルオクチロキシ）
−１，４−フェニレンビニレン）をこの順でダイレクト
グラビア印刷法にてパターン印刷した。これにより０．
０５μｍの正孔注入層７と０．１μｍの発光層８を形成
し、積層型の有機層とすることができた。

【００４０】これを、有機層のパターンに併せて断裁
し、真空蒸着法にて第２電極９として厚さ０．１μｍの
イッテルビウムをマスク蒸着した後、封止フィルムをヒ
ートシール法にて接着した。封止フィルムはポリエチレ
ンテレフタレート１２μｍ、アルミニウム箔２０μｍ、
プロピレンの酸変性物（三井化学 ＱＥ０５０）３０μ
ｍを順にドライラミネート及び押し出しラミネートした
ものを使用した。

【００４１】作製した素子の輝度半減寿命を初期輝度２
００ｃｄ／ｍ²から測定した。その結果を表１に示す。
尚、寿命の単位はｈｏｕｒである。

【００４２】＜実施例２＞実施例１と同様にガスバリア
層まで形成した上に、アクリレート（共栄社化学（株）
製３ＥＧ−Ａ）の樹脂モノマーを蒸着後、電子線を照射
して硬化させた。これによりガスバリア層に厚み１μｍ
の保護層５が形成された。このように作製した基材用フ
ィルムを実施例１と同様に評価した。

【００４３】上記のように作製された基材用フィルム上
に、実施例１と同様に有機エレクトロルミネッセンス素
子を作製した。このように作製した有機エレクトロルミ
ネッセンス素子を実施例１と同様に評価した。

【００４４】＜実施例３＞高分子樹脂基材層として５０
μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムをグラビ
ア印刷機の巻きだしロールに取り付け、３０ｍ／分で走
行させながら、帯電防止層としてＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ
（バイエル社製Ｂａｙｔｒｏｎ Ｐ ＴＰＡＩ４０８
３）をダイレクトグラビア印刷法にて塗布した。これに
より、０．０５μｍの厚みの帯電防止層を形成した。

【００４５】上記で得られた帯電防止層の上に、実施例
１と同様にガスバリア層を、さらにその上に実施例２と
同様に保護層まで形成して基材用フィルムとした。この
ように作製した基材用フィルムを実施例１と同様に評価
した。

【００４６】上記のように作製された基材用フィルム上
に、実施例１と同様に有機エレクトロルミネッセンス素
子を作製した。このように作製した有機エレクトロルミ
ネッセンス素子を実施例１と同様に評価した。

【００４７】＜比較例１＞帯電防止層、応力緩衝層を設
けない以外は実施例１と同様に、基材用フィルムを作製
した。このように作製した基材用フィルムを実施例１と
同様に評価した。

【００４８】上記のように作製された基材用フィルム上
に実施例１と同様に有機エレクトロルミネッセンス素子
を作製した。このように作製した有機エレクトロルミネ
ッセンス素子を実施例１と同様に評価した。

【００４９】

【表１】

【００５０】

【発明の効果】本発明の第１の発明によると、高分子樹
脂基材層と帯電防止層とガスバリア層からなる基材を用
いているため、ガスバリア層形成時の帯電による塵埃付
着の防止が可能となり、本来のガスバリア性能が発揮で
きるという効果がある。また、本発明の第２の発明によ
ると、帯電防止層とガスバリア層の間に応力緩衝層を付
加することにより、多層構成の基材内部の応力を緩和
し、引っ張り等の応力に対するガスバリア性の低下を著
しく低減できるという効果がある。また、本発明の第３
の発明によると、基材の最外層のどちらか一方に保護層
を付加することにより、より一層のガスバリア性の向上
が可能となる。

【００５１】また、本発明の第４および第５の発明によ
ると、帯電防止層の透明性と導電性が充分に確保でき
る。また、本発明の第６の発明によると、ガスバリア層
の酸素透過性と水蒸気透過性を薄膜で充分に低くでき
る。また、本発明の第７の発明によると、応力緩衝層と
保護層を形成する際の硬化速度が早く、生産性に優れ、
特に電子線硬化型樹脂を用いれば、溶剤や重合開始材が
不要なため、コストを抑えられ、環境問題の発生も少な
くできる。以上のような発明の効果から、薄型・軽量で
割れることがないフィルム基材を基材として用いた有機
エレクトロルミネッセンス素子の高ガスバリア性基材に
よる長寿命化と、ロール・ツー・ロール生産による安価
な素子の提供が可能となった。

【００５２】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の
構造の一実施例を示す説明図である。

【図２】本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の
構造の他の実施例を示す説明図である。

【符号の説明】

１：高分子樹脂基材層 ２：帯電防止層 ３：応力緩衝層 ４：ガスバリア層 ５：保護層 ６：第１電極 ７：正孔注入層（有機層） ８：発光層（有機層） ９：第２電極 １０：窒素 １１：封止フィルム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3K007 AB11 AB13 AB15 AB18 BA07 BB00 CA06 CB01 DA01 DB03 EA01 EB00 FA01 FA02 4F100 AA17B AA19B AA20B AA25B AA28B AK01A AK01C AK01D AK01E AR00B AR00C AR00D AR00E BA05 BA07 BA10A BA10E GB41 JB14D JB14E JD02C JG01C JG03B JK11D JL00E JN13

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明な基材上に、少なくとも透明な第１電
   極、有機層、第２電極をこの順に形成する有機エレクト
   ロルミネッセンス素子において、該基材が、少なくとも
   高分子樹脂基材層、帯電防止層、ガスバリア層を有する
   ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
2. 【請求項２】上記帯電防止層とガスバリア層の間に応力
   緩衝層を付加したことを特徴とする請求項１に記載の有
   機エレクトロルミネッセンス素子。
3. 【請求項３】上記基材のガスバリア層側に、保護層を付
   加したことを特徴とする請求項２に記載の有機エレクト
   ロルミネッセンス素子。
4. 【請求項４】上記帯電防止層が、酸化スズ、酸化インジ
   ウム、スズをドープした酸化インジウム、または酸化亜
   鉛のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項
   １から３のいづれか一つに記載の有機エレクトロルミネ
   ッセンス素子。
5. 【請求項５】上記帯電防止層が、導電性高分子からなる
   ことを特徴とする請求項１から３のいづれか一つに記載
   の有機エレクトロルミネッセンス素子。
6. 【請求項６】上記ガスバリア層が、酸化アルミニウム、
   酸化ケイ素のうち少なくとも一つを含むことを特徴とす
   る請求項１から５のいづれか一つに記載の有機エレクト
   ロルミネッセンス素子。
7. 【請求項７】上記応力緩衝層および、または上記保護層
   が、電子線あるいは紫外線硬化型樹脂からなることを特
   徴とする請求項２から６のいづれか一つに記載の有機エ
   レクトロルミネッセンス素子。