JP2002043219A - レーザ装置管理システム - Google Patents

レーザ装置管理システム

Info

Publication number
JP2002043219A
JP2002043219A JP2001126047A JP2001126047A JP2002043219A JP 2002043219 A JP2002043219 A JP 2002043219A JP 2001126047 A JP2001126047 A JP 2001126047A JP 2001126047 A JP2001126047 A JP 2001126047A JP 2002043219 A JP2002043219 A JP 2002043219A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser device
laser
program
terminal
management system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001126047A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Inventor
Shoichi Sakanishi
昇一 坂西
Takashi Kurihara
栗原　　隆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Gigaphoton Inc
Original Assignee
Gigaphoton Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gigaphoton Inc filed Critical Gigaphoton Inc
Publication of JP2002043219A publication Critical patent/JP2002043219A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/0014—Monitoring arrangements not otherwise provided for
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04B—TRANSMISSION
    • H04B10/00—Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/50—Transmitters
    • H04B10/501—Structural aspects
    • H04B10/503—Laser transmitters
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/0014—Measuring characteristics or properties thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Optical Communication System (AREA)
  • Selective Calling Equipment (AREA)
JP2001126047A 2000-04-25 2001-04-24 レーザ装置管理システム Pending JP2002043219A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/557,789 US6697695B1 (en) 2000-04-25 2000-04-25 Laser device management system
US09/557789 2000-04-25

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011256587A Division JP2012080112A (ja) 2000-04-25 2011-11-24 レーザ装置管理システム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002043219A true JP2002043219A (ja) 2002-02-08

Family

ID=24226882

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001126047A Pending JP2002043219A (ja) 2000-04-25 2001-04-24 レーザ装置管理システム
JP2011256587A Pending JP2012080112A (ja) 2000-04-25 2011-11-24 レーザ装置管理システム
JP2012190116A Expired - Fee Related JP5454978B2 (ja) 2000-04-25 2012-08-30 レーザ装置管理システム

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011256587A Pending JP2012080112A (ja) 2000-04-25 2011-11-24 レーザ装置管理システム
JP2012190116A Expired - Fee Related JP5454978B2 (ja) 2000-04-25 2012-08-30 レーザ装置管理システム

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6697695B1 (fr)
EP (1) EP1150401B1 (fr)
JP (3) JP2002043219A (fr)

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005346702A (ja) * 2004-05-04 2005-12-15 Heidelberger Druckmas Ag 識別表示装置を備える診断システム
JP2006024765A (ja) * 2004-07-08 2006-01-26 Komatsu Ltd レーザ装置管理システム
JPWO2004107071A1 (ja) * 2003-05-29 2006-07-20 松下電器産業株式会社 異常処理システム
JP2006324557A (ja) * 2005-05-20 2006-11-30 Hikari Physics Kenkyusho:Kk レーザ装置の不具合診断方法および不具合修理方法
JP2007088946A (ja) * 2005-09-22 2007-04-05 Hitachi Kokusai Electric Inc 通信ネットワークシステム
JP2009078132A (ja) * 2007-08-03 2009-04-16 Nintendo Co Ltd 携帯無線ゲーム機サーバー、携帯無線ゲーム機クライアント、およびこれらを使用するシステム
JP2010212301A (ja) * 2009-03-06 2010-09-24 Canon Inc 情報処理システム、情報処理方法およびプログラム
JP2013211584A (ja) * 2006-03-22 2013-10-10 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置及びその表示方法並びに半導体装置の製造方法
WO2014017562A1 (fr) * 2012-07-26 2014-01-30 ギガフォトン株式会社 Dispositif laser et procédé de commande de dispositif laser
US9490603B2 (en) 2012-09-07 2016-11-08 Gigaphoton Inc. Laser apparatus and method of controlling laser apparatus
WO2017068619A1 (fr) * 2015-10-19 2017-04-27 ギガフォトン株式会社 Système de gestion de dispositif laser
US9841684B2 (en) 2012-08-23 2017-12-12 Gigaphoton Inc. Light source apparatus and data processing method
WO2018229823A1 (fr) * 2017-06-12 2018-12-20 ギガフォトン株式会社 Dispositif laser, système de gestion de dispositif laser et procédé de gestion de dispositif laser
CN113261166A (zh) * 2019-02-07 2021-08-13 极光先进雷射株式会社 机器学习方法、消耗品管理装置和计算机可读介质
JPWO2021161416A1 (fr) * 2020-02-12 2021-08-19
JP2023507067A (ja) * 2019-12-18 2023-02-21 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー ガス放電光源における予測装置

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2001238036A1 (en) * 2000-02-16 2001-08-27 Cymer, Inc. Process monitoring system for lithography lasers
CN100373357C (zh) * 2000-10-18 2008-03-05 索尼公司 信息处理装置及信息处理方法、维护信息管理系统、以及记录媒体
JP4280003B2 (ja) * 2001-05-31 2009-06-17 株式会社日立製作所 遠隔保守方法および産業用機器
US6700916B1 (en) 2001-09-26 2004-03-02 Lambda Physik Ag E-diagnostic, laser simulator, automated testing and deconvolution of spectra for lithographic exposure radiation generating systems such as excimer or molecular fluorine laser or EUV source systems
JP2003208210A (ja) * 2002-01-16 2003-07-25 Fuji Mach Mfg Co Ltd 生産機械
DE102004015888A1 (de) * 2004-03-31 2005-11-03 Siemens Ag Störmeldesystem und Verfahren zur Übertragung von Störmeldungen
EP1884222A1 (fr) * 2006-07-31 2008-02-06 WaveLight AG Méthode et système de contrôle et de diagnostique d'erreure d'un appareil de traitement ophtalmologique
KR101392915B1 (ko) * 2007-01-18 2014-05-12 엘지전자 주식회사 이벤트를 이용한 장치관리
WO2008088125A1 (fr) * 2007-01-18 2008-07-24 Lg Electronics Inc. Gestion de dispositif au moyen d'un événement
KR100856579B1 (ko) * 2007-01-18 2008-09-04 홍운식 웨이퍼의 노광 에너지 정보를 축적하는 시스템에 의해 누적된 웨이퍼의 노광 에너지 정보를 이용한 노광용 마스크의 관리방법
EP2772025A4 (fr) * 2011-10-24 2015-12-23 Schneider Electric Ind Sas Systèmes et procédés de communication à distance
CN103519890B (zh) * 2013-08-22 2015-08-05 浙江工业大学 一种在线式激光美容祛斑仪控制系统
JP6275737B2 (ja) * 2013-11-05 2018-02-07 ギガフォトン株式会社 レーザ装置及び非一過性のコンピュータ読み取り可能な記録媒体
JP2017167310A (ja) * 2016-03-16 2017-09-21 株式会社ニコン 評価装置及び評価方法、表示装置及び表示方法、露光装置及び露光方法、露光システム、デバイス製造装置、並びに、コンピュータプログラム
CN108746999B (zh) * 2018-05-21 2020-08-28 广汽本田汽车有限公司 一种激光头聚焦透镜保护镜片表面洁净度的监测方法
CN112384859B (zh) 2018-08-08 2023-11-21 极光先进雷射株式会社 光刻系统的维护管理方法、维护管理装置和计算机可读介质
CN109793572A (zh) * 2019-03-29 2019-05-24 丁云凤 一种基于核光四联的祛斑系统
CN115702526A (zh) * 2020-07-20 2023-02-14 极光先进雷射株式会社 训练数据生成方法、机器学习方法、消耗品管理装置和计算机可读介质
JP2021005109A (ja) * 2020-10-01 2021-01-14 株式会社ニコン 評価装置及び評価方法、表示装置及び表示方法、露光装置及び露光方法、露光システム、デバイス製造装置、並びに、コンピュータプログラム
CN116021160B (zh) * 2022-12-29 2023-10-27 中国电力科学研究院有限公司 通过计量现场手持设备控制激光蚀刻设备的方法及系统
CN116506009B (zh) * 2023-06-21 2023-09-19 深圳市知酷信息技术有限公司 一种基于5g网络的激光光纤通信用的性能监测系统

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63269588A (ja) * 1987-04-28 1988-11-07 Toshiba Corp レ−ザビ−ムのモニタリング装置
JPH02166899A (ja) * 1988-12-20 1990-06-27 Komatsu Ltd ローカルエリアネットワークの異常検出装置
JPH05291649A (ja) * 1992-04-13 1993-11-05 Fanuc Ltd レーザ発振器の制御装置
JPH07142801A (ja) * 1993-11-12 1995-06-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd レーザ装置
JPH09223833A (ja) * 1996-02-12 1997-08-26 Cymer Inc 部品の耐用期間の終焉を予測可能なレーザーシステム及びその予測方法
JPH10275951A (ja) * 1997-03-28 1998-10-13 Nikon Corp レーザ光源の寿命判定方法
JP2000100720A (ja) * 1999-07-14 2000-04-07 Nikon Corp リソグラフィシステム、露光装置、及びこれらを利用した半導体デバイス製造方泡並びにマシンコントローラ

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61133681A (ja) * 1984-12-04 1986-06-20 Amada Co Ltd 気体レ−ザ光出力制御装置のモニタ−装置
JP2536900B2 (ja) * 1988-04-22 1996-09-25 ファナック株式会社 Ｎｃレ―ザ装置
JPH02241071A (ja) * 1989-03-15 1990-09-25 Fanuc Ltd Ｎｃレーザ装置
US5005180A (en) * 1989-09-01 1991-04-02 Schneider (Usa) Inc. Laser catheter system
JP3336436B2 (ja) * 1991-04-02 2002-10-21 株式会社ニコン リソグラフィシステム、情報収集装置、露光装置、及び半導体デバイス製造方法
US5463650A (en) * 1992-07-17 1995-10-31 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Apparatus for controlling output of an excimer laser device
US5377215A (en) * 1992-11-13 1994-12-27 Cymer Laser Technologies Excimer laser
JP2631080B2 (ja) * 1993-10-05 1997-07-16 株式会社小松製作所 レーザ装置の出力制御装置
US5663076A (en) * 1995-08-08 1997-09-02 Lsi Logic Corporation Automating photolithography in the fabrication of integrated circuits
DE69617254T2 (de) * 1995-09-27 2002-07-04 Komatsu Mfg Co Ltd Laservorrichtung
US5764505A (en) * 1996-01-23 1998-06-09 Cymer, Inc. Gas discharge laser control systems using multiple CPU's with shared memory on a common bus
US5657334A (en) * 1996-02-15 1997-08-12 Cymer, Inc. External high voltage control for a laser system
JP3745822B2 (ja) * 1996-03-07 2006-02-15 忠弘 大見 エキシマレーザー発振装置及びステッパ装置
US5805442A (en) * 1996-05-30 1998-09-08 Control Technology Corporation Distributed interface architecture for programmable industrial control systems
US5779799A (en) * 1996-06-21 1998-07-14 Micron Technology, Inc. Substrate coating apparatus
JP3919294B2 (ja) * 1997-06-24 2007-05-23 キヤノン株式会社 産業用機器の遠隔保守システムおよび方法
JPH10161707A (ja) * 1996-11-29 1998-06-19 Sukiyan Technol:Kk Ｆａシステムの制御方法
US5991324A (en) * 1998-03-11 1999-11-23 Cymer, Inc. Reliable. modular, production quality narrow-band KRF excimer laser
JP3578886B2 (ja) * 1997-05-02 2004-10-20 東京エレクトロン株式会社 プロセス制御システムとそのプロセスデータ転送制御方法
US6282454B1 (en) * 1997-09-10 2001-08-28 Schneider Automation Inc. Web interface to a programmable controller
KR19990065486A (ko) * 1998-01-14 1999-08-05 윤종용 반도체 제조설비 관리시스템의 공정조건 관리방법
US6199018B1 (en) * 1998-03-04 2001-03-06 Emerson Electric Co. Distributed diagnostic system
US6201996B1 (en) * 1998-05-29 2001-03-13 Control Technology Corporationa Object-oriented programmable industrial controller with distributed interface architecture
JP3039531B2 (ja) * 1998-08-17 2000-05-08 株式会社ニコン 回路パターンの製造方法
JP4139015B2 (ja) * 1999-09-21 2008-08-27 株式会社小松製作所 パルスレーザ制御システム
JP2003523091A (ja) * 2000-02-11 2003-07-29 ラムダ フィジーク アーゲー 安定化した平均パルスエネルギーを有するガス放電レーザー
US6408260B1 (en) * 2000-02-16 2002-06-18 Cymer, Inc. Laser lithography quality alarm system
AU2001238036A1 (en) * 2000-02-16 2001-08-27 Cymer, Inc. Process monitoring system for lithography lasers
US6564171B1 (en) * 2000-09-14 2003-05-13 Advanced Micro Devices Inc. Method and apparatus for parsing event logs to determine tool operability

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63269588A (ja) * 1987-04-28 1988-11-07 Toshiba Corp レ−ザビ−ムのモニタリング装置
JPH02166899A (ja) * 1988-12-20 1990-06-27 Komatsu Ltd ローカルエリアネットワークの異常検出装置
JPH05291649A (ja) * 1992-04-13 1993-11-05 Fanuc Ltd レーザ発振器の制御装置
JPH07142801A (ja) * 1993-11-12 1995-06-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd レーザ装置
JPH09223833A (ja) * 1996-02-12 1997-08-26 Cymer Inc 部品の耐用期間の終焉を予測可能なレーザーシステム及びその予測方法
JPH10275951A (ja) * 1997-03-28 1998-10-13 Nikon Corp レーザ光源の寿命判定方法
JP2000100720A (ja) * 1999-07-14 2000-04-07 Nikon Corp リソグラフィシステム、露光装置、及びこれらを利用した半導体デバイス製造方泡並びにマシンコントローラ

Cited By (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2004107071A1 (ja) * 2003-05-29 2006-07-20 松下電器産業株式会社 異常処理システム
US8019571B2 (en) 2003-05-29 2011-09-13 Panasonic Corporation Abnormality processing system
JP2005346702A (ja) * 2004-05-04 2005-12-15 Heidelberger Druckmas Ag 識別表示装置を備える診断システム
US7950063B2 (en) 2004-05-04 2011-05-24 Heidelberger Druckmaschinen Ag Diagnosis system with identification display device
JP2006024765A (ja) * 2004-07-08 2006-01-26 Komatsu Ltd レーザ装置管理システム
JP2006324557A (ja) * 2005-05-20 2006-11-30 Hikari Physics Kenkyusho:Kk レーザ装置の不具合診断方法および不具合修理方法
KR101335546B1 (ko) * 2005-05-20 2013-12-02 사이버 레이저 가부시끼가이샤 레이저 장치의 문제 진단방법 및 문제 수리방법
JP2007088946A (ja) * 2005-09-22 2007-04-05 Hitachi Kokusai Electric Inc 通信ネットワークシステム
JP2013211584A (ja) * 2006-03-22 2013-10-10 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置及びその表示方法並びに半導体装置の製造方法
JP2009078132A (ja) * 2007-08-03 2009-04-16 Nintendo Co Ltd 携帯無線ゲーム機サーバー、携帯無線ゲーム機クライアント、およびこれらを使用するシステム
US8484284B2 (en) 2007-08-03 2013-07-09 Nintendo Co., Ltd. Handheld wireless game device server, handheld wireless device client, and system using same
JP2010212301A (ja) * 2009-03-06 2010-09-24 Canon Inc 情報処理システム、情報処理方法およびプログラム
US9647415B2 (en) 2012-07-26 2017-05-09 Gigaphoton Inc. Laser apparatus and method of controlling laser apparatus
WO2014017562A1 (fr) * 2012-07-26 2014-01-30 ギガフォトン株式会社 Dispositif laser et procédé de commande de dispositif laser
JPWO2014017562A1 (ja) * 2012-07-26 2016-07-11 ギガフォトン株式会社 レーザ装置及びレーザ装置の制御方法
US9841684B2 (en) 2012-08-23 2017-12-12 Gigaphoton Inc. Light source apparatus and data processing method
US9490603B2 (en) 2012-09-07 2016-11-08 Gigaphoton Inc. Laser apparatus and method of controlling laser apparatus
US10394133B2 (en) 2015-10-19 2019-08-27 Gigaphoton Inc. Laser unit management system
WO2017068619A1 (fr) * 2015-10-19 2017-04-27 ギガフォトン株式会社 Système de gestion de dispositif laser
JPWO2017068619A1 (ja) * 2015-10-19 2018-08-16 ギガフォトン株式会社 レーザ装置管理システム
JPWO2018229823A1 (ja) * 2017-06-12 2020-04-16 ギガフォトン株式会社 レーザ装置、及びレーザ装置管理システム、並びにレーザ装置の管理方法
JP7150711B2 (ja) 2017-06-12 2022-10-11 ギガフォトン株式会社 レーザ装置、及びレーザ装置管理システム、並びにレーザ装置の管理方法
US11502478B2 (en) 2017-06-12 2022-11-15 Gigaphoton Inc. Laser apparatus, laser apparatus management system, and laser apparatus management method
WO2018229823A1 (fr) * 2017-06-12 2018-12-20 ギガフォトン株式会社 Dispositif laser, système de gestion de dispositif laser et procédé de gestion de dispositif laser
CN113261166B (zh) * 2019-02-07 2023-07-14 极光先进雷射株式会社 机器学习方法、消耗品管理装置和计算机可读介质
CN113261166A (zh) * 2019-02-07 2021-08-13 极光先进雷射株式会社 机器学习方法、消耗品管理装置和计算机可读介质
JP7428667B2 (ja) 2019-02-07 2024-02-06 ギガフォトン株式会社 機械学習方法、消耗品管理装置、及びコンピュータ可読媒体
US11822324B2 (en) 2019-02-07 2023-11-21 Gigaphoton Inc. Machine learning method, consumable management apparatus, and computer readable medium
JPWO2020161865A1 (ja) * 2019-02-07 2021-12-09 ギガフォトン株式会社 機械学習方法、消耗品管理装置、及びコンピュータ可読媒体
JP2023507067A (ja) * 2019-12-18 2023-02-21 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー ガス放電光源における予測装置
JP7358642B2 (ja) 2019-12-18 2023-10-10 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー ガス放電光源における予測装置
WO2021161416A1 (fr) * 2020-02-12 2021-08-19 ギガフォトン株式会社 Dispositif de traitement d'informations, procédé de traitement d'informations et système de fabrication de semi-conducteur
JPWO2021161416A1 (fr) * 2020-02-12 2021-08-19
JP7447158B2 (ja) 2020-02-12 2024-03-11 ギガフォトン株式会社 情報処理装置、情報処理方法、及び半導体製造システム

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012253383A (ja) 2012-12-20
EP1150401B1 (fr) 2010-11-03
US6697695B1 (en) 2004-02-24
EP1150401A3 (fr) 2005-07-13
JP2012080112A (ja) 2012-04-19
JP5454978B2 (ja) 2014-03-26
EP1150401A2 (fr) 2001-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5454978B2 (ja) レーザ装置管理システム
US11642183B2 (en) Systems and methods for fleet management of robotic surgical systems
JP3689767B2 (ja) 火力発電プラント保守サービス提供方法
JP3919294B2 (ja) 産業用機器の遠隔保守システムおよび方法
US20070242815A1 (en) Method for exchanging information between devices in case of a change in network configuration and home network system therefore
US20090076874A1 (en) Method and Tool for Optimized System Maintenance
WO2004079503A2 (fr) Distribution de notifications dans une installation de traitement
KR100477578B1 (ko) 홈네트워크의 정보 단말기 원격 관리 시스템 및 그 방법
JP2005165402A (ja) 設備管理装置および遠隔設備管理システム
EP2093510B1 (fr) Système climatiseur et commande de climatisation et appareil de surveillance
KR20110001774A (ko) 원격 검침 시스템에서 전력량계 및 그 관리 방법
JP2001195119A (ja) 家庭内機器のリモートメンテナンスシステム
JP2003259468A (ja) 設備機器の監視装置及び監視システム
CN116155687A (zh) 一种远程运维管系统
JP2004029904A (ja) 設備監視システムおよび設備情報管理装置
JP2005044355A (ja) リモート装置管理ソフトウエアオンリーソリューション
JP7225958B2 (ja) 制御装置および制御システム
KR100285735B1 (ko) 무선통신시스템의옥외기지국환경관리장치
KR20130110442A (ko) Ｓｎｍｐ를 이용한 중앙 집중형 ｐｌｃ 관리 시스템 및 방법
WO2020138176A1 (fr) Système de surveillance, procédé de surveillance et programme de surveillance
JP2012048556A (ja) リモートセキュリティ診断システム
WO2009110069A1 (fr) Contrôleur et programme de commande
JP2020010089A (ja) 無線通信機器及び通信システム
JP2006024765A (ja) レーザ装置管理システム
JP2004023571A (ja) 監視装置、監視対象装置、ネットワーク管理システムおよびメッセージ送信抑止制御方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080222

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100819

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100831

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101020

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110301

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110426

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20110823

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20111122

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20111124

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111124

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111124

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20120123

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20120309