JP2002030042A - ポリマー、液晶性化合物、その製造方法、それを含有する組成物、顔料および塗料、およびそれの使用 - Google Patents
ポリマー、液晶性化合物、その製造方法、それを含有する組成物、顔料および塗料、およびそれの使用Info
- Publication number
- JP2002030042A JP2002030042A JP2001105108A JP2001105108A JP2002030042A JP 2002030042 A JP2002030042 A JP 2002030042A JP 2001105108 A JP2001105108 A JP 2001105108A JP 2001105108 A JP2001105108 A JP 2001105108A JP 2002030042 A JP2002030042 A JP 2002030042A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- group
- mol
- same
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
- C09K19/10—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings
- C09K19/20—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings linked by a chain containing carbon and oxygen atoms as chain links, e.g. esters or ethers
- C09K19/2007—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing at least two benzene rings linked by a chain containing carbon and oxygen atoms as chain links, e.g. esters or ethers the chain containing -COO- or -OCO- groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/38—Polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K2019/0444—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group
- C09K2019/0448—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group the end chain group being a polymerizable end group, e.g. -Sp-P or acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】高い架橋密度を有する液晶性ポリマーの製造を
可能にするような、改善された架橋性アキラル液晶性モ
ノマーを提供する。 【解決手段】本発明による重合性の液晶性化合物は一般
式（Ｉ） 【化１】 ［式中Ａ１およびＡ２は同じかまたは異なり、それぞれ
架橋性基を表し；基Ｘは同じかまたは異なり、それぞれ
単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−、
−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−
ＮＲ−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ、−ＮＲ−
ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ
を表し、ここでＲはＨまたはＣ１〜Ｃ４アルキルを表
し；およびＭはメソーゲン基を表す］の化合物である。
可能にするような、改善された架橋性アキラル液晶性モ
ノマーを提供する。 【解決手段】本発明による重合性の液晶性化合物は一般
式（Ｉ） 【化１】 ［式中Ａ１およびＡ２は同じかまたは異なり、それぞれ
架橋性基を表し；基Ｘは同じかまたは異なり、それぞれ
単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−、
−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−
ＮＲ−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ、−ＮＲ−
ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ
を表し、ここでＲはＨまたはＣ１〜Ｃ４アルキルを表
し；およびＭはメソーゲン基を表す］の化合物である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規重合性の液晶
性化合物、その製造方法、これらの化合物を含有する組
成物、ならびに種々の使用目的のための、これらの化合
物を基礎とする塗料および顔料に関する。
性化合物、その製造方法、これらの化合物を含有する組
成物、ならびに種々の使用目的のための、これらの化合
物を基礎とする塗料および顔料に関する。
【０００２】配向された低分子量の液晶は、ＵＶ重合に
より永久的に固定することができる、それというのもＵ
Ｖ重合は、配向された液晶の緩和が可能でない程度に急
速に進行するからである。架橋性コレステリック液晶ま
たはネマチック液晶およびキラルドーピング物質からな
る架橋性混合物を使用する場合、ＵＶ重合により、コレ
ステリックメソフェーズの特徴ある光学的性質を示すコ
レステリック網状構造が得られる。このような網状構造
のの構成により、カラーフロップ効果、つまり観察角度
次第で異なる色に見えるコレステリック液晶の性質を安
定にすることに成功することがとくに重要である。これ
により、コレステリック効果顔料またはカラーフロップ
顔料の製造が著しく簡単になる。
より永久的に固定することができる、それというのもＵ
Ｖ重合は、配向された液晶の緩和が可能でない程度に急
速に進行するからである。架橋性コレステリック液晶ま
たはネマチック液晶およびキラルドーピング物質からな
る架橋性混合物を使用する場合、ＵＶ重合により、コレ
ステリックメソフェーズの特徴ある光学的性質を示すコ
レステリック網状構造が得られる。このような網状構造
のの構成により、カラーフロップ効果、つまり観察角度
次第で異なる色に見えるコレステリック液晶の性質を安
定にすることに成功することがとくに重要である。これ
により、コレステリック効果顔料またはカラーフロップ
顔料の製造が著しく簡単になる。
【０００３】コレステリック顔料は、光架橋性のコレス
テリック出発混合物から数工程を経て製造される形状異
方性の薄片状粒子である。この出発混合物は、そのメソ
フェーズに配向されたフィルムに変え、引き続くＵＶ重
合により固定しなければならない。同時に、この工程に
おいて薄片状粒子の厚さも決定される。生じるコレステ
リック網状構造を、次いで他の工程において顔料粒子に
粉砕しなければばらない。
テリック出発混合物から数工程を経て製造される形状異
方性の薄片状粒子である。この出発混合物は、そのメソ
フェーズに配向されたフィルムに変え、引き続くＵＶ重
合により固定しなければならない。同時に、この工程に
おいて薄片状粒子の厚さも決定される。生じるコレステ
リック網状構造を、次いで他の工程において顔料粒子に
粉砕しなければばらない。
【０００４】異なる組成のコレステリックカラーフロッ
プ顔料は、既に公知である。シロキサンを基礎とするカ
ラーフロップ顔料はたとえばＥＰ−Ａ０６０１４８３号
に記載される。このために、キラルならびにメソーゲン
側位基を有する環状シロキサンを、メソーゲン側位基に
存在するアクリレート単位またはメタクリレート単位に
より架橋させ、顔料に加工された。
プ顔料は、既に公知である。シロキサンを基礎とするカ
ラーフロップ顔料はたとえばＥＰ−Ａ０６０１４８３号
に記載される。このために、キラルならびにメソーゲン
側位基を有する環状シロキサンを、メソーゲン側位基に
存在するアクリレート単位またはメタクリレート単位に
より架橋させ、顔料に加工された。
【０００５】ＷＯ−Ａ９７／２７２５２号から、キラル
液晶性の重合性モノマー、アキラル液晶性の重合性モノ
マーおよびキラル化合物、およびポリマー結合剤および
／またはモノマーの重合性化合物および／または分散助
剤からなる混合物の重合により得られるカラーフロップ
顔料は公知である。カラーフロップ顔料の改善された製
造方法ならびに多数の異なる型の架橋性のコレステリッ
ク混合物は、ＷＯ−Ａ９９／１１７３３号に記載されて
いる。その際、適当なアキラル液晶性の重合性モノマー
は、一般式 Ｚ−Ｙ−Ａ−Ｙ−Ｍ−Ｙ−Ａ−Ｙ−Ｚ ［式中Ｍはメソーゲン基を表し、Ａはスペーサー基を表
し、Ｙは種々の橋梁基を表しおよびＺは重合性末端基を
表す］を有する。その際好ましい基Ｚはアクリレート基
である。その際、それぞれのモノマーは好ましくは２個
の重合性基Ｚを有する。
液晶性の重合性モノマー、アキラル液晶性の重合性モノ
マーおよびキラル化合物、およびポリマー結合剤および
／またはモノマーの重合性化合物および／または分散助
剤からなる混合物の重合により得られるカラーフロップ
顔料は公知である。カラーフロップ顔料の改善された製
造方法ならびに多数の異なる型の架橋性のコレステリッ
ク混合物は、ＷＯ−Ａ９９／１１７３３号に記載されて
いる。その際、適当なアキラル液晶性の重合性モノマー
は、一般式 Ｚ−Ｙ−Ａ−Ｙ−Ｍ−Ｙ−Ａ−Ｙ−Ｚ ［式中Ｍはメソーゲン基を表し、Ａはスペーサー基を表
し、Ｙは種々の橋梁基を表しおよびＺは重合性末端基を
表す］を有する。その際好ましい基Ｚはアクリレート基
である。その際、それぞれのモノマーは好ましくは２個
の重合性基Ｚを有する。
【０００６】ＥＰ−Ａ０６７５１８６号から、１分子に
つき４個の架橋性基を含有する光架橋性液晶は公知であ
る。化合物は次の一般式を有する：
つき４個の架橋性基を含有する光架橋性液晶は公知であ
る。化合物は次の一般式を有する：
【０００７】
【化７】
【０００８】［式中メソーゲンは線状構成の三核の基を
表し、Ｂは双方のメソーゲンを結合する橋梁を表し、Ｒ
はそれぞれ架橋性基を表す］を有する。メソーゲンは、
好ましくは３個の橋かけｐ−フェニレン基を包含し、架
橋性基Ｒはそれぞれ末端のｐ−位に配置されている。こ
れらの化合物は、光学的構成素子の製造のために使用さ
れる。その架橋コレステリック効果顔料の製造のための
有用性は、試みられていなかった。これらの化合物で
は、メソーゲン単位１個あたり得られる架橋密度が小さ
いことが不利である。
表し、Ｂは双方のメソーゲンを結合する橋梁を表し、Ｒ
はそれぞれ架橋性基を表す］を有する。メソーゲンは、
好ましくは３個の橋かけｐ−フェニレン基を包含し、架
橋性基Ｒはそれぞれ末端のｐ−位に配置されている。こ
れらの化合物は、光学的構成素子の製造のために使用さ
れる。その架橋コレステリック効果顔料の製造のための
有用性は、試みられていなかった。これらの化合物で
は、メソーゲン単位１個あたり得られる架橋密度が小さ
いことが不利である。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、改善された架橋性アキラル液晶、殊に高い架橋密度
を有する液晶性ポリマーの製造を可能にするようなモノ
マーの提供である。この課題は、意外にも式（Ｉ）
は、改善された架橋性アキラル液晶、殊に高い架橋密度
を有する液晶性ポリマーの製造を可能にするようなモノ
マーの提供である。この課題は、意外にも式（Ｉ）
【００１０】
【化８】
【００１１】［ 式中Ａ１およびＡ２は同じかまたは異
なり、それぞれ架橋性基を表し；基Ｘは同じかまたは異
なり、とくに同じであり、それぞれ単結合、−ｏ−、−
Ｓ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ
−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−Ｎ
Ｒ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ
２−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲを表し、ここでＲは
ＨまたはＣ１〜Ｃ４アルキルを表し；およびＭはメソー
ゲン基を表す］の液晶性化合物の提供により解決され
た。
なり、それぞれ架橋性基を表し；基Ｘは同じかまたは異
なり、とくに同じであり、それぞれ単結合、−ｏ−、−
Ｓ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ
−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−Ｎ
Ｒ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ
２−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲを表し、ここでＲは
ＨまたはＣ１〜Ｃ４アルキルを表し；およびＭはメソー
ゲン基を表す］の液晶性化合物の提供により解決され
た。
【００１２】式Ｉの本発明による化合物は、一方で液晶
相を構成できおよび架橋性基の高い分量に基づき、とく
に良好および持続的に安定化できることにより優れてい
る。
相を構成できおよび架橋性基の高い分量に基づき、とく
に良好および持続的に安定化できることにより優れてい
る。
【００１３】本発明の好ましい対象は、式中Ａ２がそれ
ぞれＡ１に対しオルト位に存在する一般式Ｉの化合物に
関する。
ぞれＡ１に対しオルト位に存在する一般式Ｉの化合物に
関する。
【００１４】さらに、式中Ａ１およびＡ２が互いに独立
にそれぞれ式 Ｚ−Ｘ−（Ｓｐ）ｎ ［式中Ｚは架橋性基を表し；Ｘは上記に記載した意味の
いずれかを有し；Ｓｐは１〜３０個のＣ原子を包含する
スペーサーを表し、その際炭素鎖は場合によりエーテル
官能部中の酸素、チオエーテル官能部中の硫黄または非
隣接イミノ基またはＣ１〜Ｃ４アルキルイミノ基により
中断されており；およびｎは０または１を表す］の基を
表す。
にそれぞれ式 Ｚ−Ｘ−（Ｓｐ）ｎ ［式中Ｚは架橋性基を表し；Ｘは上記に記載した意味の
いずれかを有し；Ｓｐは１〜３０個のＣ原子を包含する
スペーサーを表し、その際炭素鎖は場合によりエーテル
官能部中の酸素、チオエーテル官能部中の硫黄または非
隣接イミノ基またはＣ１〜Ｃ４アルキルイミノ基により
中断されており；およびｎは０または１を表す］の基を
表す。
【００１５】とくに、Ａ１およびＡ２は同じ意味を有す
る。
る。
【００１６】好ましい実施形により、Ｚは下記：
【００１７】
【化９】
【００１８】のうちから選択されていて、その際基Ｒは
互いに独立にたとえばメチル、エチル、ｎ−プロピルま
たはｉ−プロピルまたはｎ−ブチル、ｉ−ブチルまたは
ｔ−ブチルを表す。
互いに独立にたとえばメチル、エチル、ｎ−プロピルま
たはｉ−プロピルまたはｎ−ブチル、ｉ−ブチルまたは
ｔ−ブチルを表す。
【００１９】他の好ましい実施形により、Ｓｐは下記：
【００２０】
【化１０】
【００２１】のうちから選択されていて、その際ｍは１
〜３を表し、ｐは１〜１２を表す。
〜３を表し、ｐは１〜１２を表す。
【００２２】他の好ましい実施形により、Ｍは一般式Ｉ
Ｉ：
Ｉ：
【００２３】
【化１１】
【００２４】［式中Ｘは上記の意味を有し、およびＱは
たとえば線状または枝分かれＣ１〜Ｃ１２アルキレンの
ような場合により置換されたアルキレンまたは場合によ
り置換された芳香族橋梁基を表す］の基のうちから選択
されている。
たとえば線状または枝分かれＣ１〜Ｃ１２アルキレンの
ような場合により置換されたアルキレンまたは場合によ
り置換された芳香族橋梁基を表す］の基のうちから選択
されている。
【００２５】好ましい芳香族橋梁基は、下記の基：
【００２６】
【化１２】
【００２７】およびその置換類似体のうちから選択され
ている。これらの橋梁基の置換類似体は、芳香族環１個
につき１〜４個の同じかまたは異なる置換基、とくに環
または橋梁基１個につき１個または２個の置換基を有す
ることができる。適当な置換基は、上記の定義によるＣ
１〜Ｃ４アルキル、ニトロ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのよう
なハロゲン、フェニルまたはＣ１〜Ｃ４アルコキシのう
ちから選択されていて、その際アルキル基は上記のよう
に定義されている。
ている。これらの橋梁基の置換類似体は、芳香族環１個
につき１〜４個の同じかまたは異なる置換基、とくに環
または橋梁基１個につき１個または２個の置換基を有す
ることができる。適当な置換基は、上記の定義によるＣ
１〜Ｃ４アルキル、ニトロ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのよう
なハロゲン、フェニルまたはＣ１〜Ｃ４アルコキシのう
ちから選択されていて、その際アルキル基は上記のよう
に定義されている。
【００２８】本発明は、また式ＩＩＩ
【００２９】
【化１３】
【００３０】［式中Ａ１およびＡ２は上記の意味を有
し、Ｘ′は反応性側位基を表わす］の化合物を一般式Ｉ
Ｖ Ｘ″−Ｍ−ｘ″ （ＩＶ） ［式中Ｍは上記の意味を有し、Ｘ″は反応性側鎖基を表
す］のメソゲン化合物と反応させる一般式Ｉの化合物の
製造方法にも関し、その際Ｘ′およびＸ″は、それらが
一緒に基Ｘを構成しうるように選択されている。
し、Ｘ′は反応性側位基を表わす］の化合物を一般式Ｉ
Ｖ Ｘ″−Ｍ−ｘ″ （ＩＶ） ［式中Ｍは上記の意味を有し、Ｘ″は反応性側鎖基を表
す］のメソゲン化合物と反応させる一般式Ｉの化合物の
製造方法にも関し、その際Ｘ′およびＸ″は、それらが
一緒に基Ｘを構成しうるように選択されている。
【００３１】本発明は殊に、式ＩＶ（式中Ｘ″がＯＨを
表す）のメソーゲンを式ＩＩＩ（式中 Ｘ′は−ＣＯＯ
Ｈまたは−ＣＯ−Ｈａｌを表し、Ｈａｌ＝Ｆ、Ｃｌ、Ｂ
ｒまたはＩである）の化合物と反応させる方法に関す
る。
表す）のメソーゲンを式ＩＩＩ（式中 Ｘ′は−ＣＯＯ
Ｈまたは−ＣＯ−Ｈａｌを表し、Ｈａｌ＝Ｆ、Ｃｌ、Ｂ
ｒまたはＩである）の化合物と反応させる方法に関す
る。
【００３２】さらに本発明は、式Ｉの少なくとも１種の
化合物および場合により、場合により架橋性のコレステ
リック化合物、無機顔料、着色剤、光開始剤、流展助
剤、ＵＶ安定剤、結合剤および場合により重合性希釈
剤、または担体のうちから選択された他の成分を含有す
る組成物に関する。
化合物および場合により、場合により架橋性のコレステ
リック化合物、無機顔料、着色剤、光開始剤、流展助
剤、ＵＶ安定剤、結合剤および場合により重合性希釈
剤、または担体のうちから選択された他の成分を含有す
る組成物に関する。
【００３３】好んで使用されるコレステリック化合物
は、たとえば一般式Ｘａ、ｂ、ｃおよびｄ （Ｚ−Ｘ５)ｎCh （Ｘa）, （Ｚ−Ｘ２−Ｓp−
Ｘ５)ｎCh （Ｘb）,（Ｐ１−Ｘ５)ｎCh （Ｘc）,
（Ｚ−Ｘ２−Ｓp−Ｘ３−M−Ｘ４)ｎＸ （Ｘd） ［式中Ｚは上記の意味を有し、Ｓｐは上記の定義による
スペーサーを表し、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は互いに独立
に化学的単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ
Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ
−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−ま
たは−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲを表し、その際基Ｘ３およびＸ
４の少なくとも１つは−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−
ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ
−を表し、ＲはＣ１〜Ｃ４アルキルを表し；Ｘ５は
Ｘ２、Ｘ３およびＸ４につき記載した意味を有するかま
たは−ＣＨ２Ｏ−，−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−
Ｎ＝ＣＨ−または−Ｎ≡Ｎ−を表し、Ｍは上記の定義に
よるメソーゲン基を表し、Ｐ１は、水素、場合により１
〜３個のＣ１〜Ｃ６アルキルにより置換されたＣ１〜Ｃ
３０アルキル、Ｃ１〜３０アシル、Ｃ３〜Ｃ８シクロア
ルキルのうちから選択された基（その際アルキル基、ア
シル基およびシクロアルキル基はエーテル官能基中の酸
素、チオエーテル官能基中の硫黄または非隣接イミノ基
またはＣ１〜Ｃ４アルキルイミノ基により中断されてい
てもよい）を表し、ｎは１〜６の数を表しおよびＣｈは
ｎ価のキラル基である］のキラル化合物である。
は、たとえば一般式Ｘａ、ｂ、ｃおよびｄ （Ｚ−Ｘ５)ｎCh （Ｘa）, （Ｚ−Ｘ２−Ｓp−
Ｘ５)ｎCh （Ｘb）,（Ｐ１−Ｘ５)ｎCh （Ｘc）,
（Ｚ−Ｘ２−Ｓp−Ｘ３−M−Ｘ４)ｎＸ （Ｘd） ［式中Ｚは上記の意味を有し、Ｓｐは上記の定義による
スペーサーを表し、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４は互いに独立
に化学的単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ
Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ
−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−ま
たは−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲを表し、その際基Ｘ３およびＸ
４の少なくとも１つは−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−
ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ
−を表し、ＲはＣ１〜Ｃ４アルキルを表し；Ｘ５は
Ｘ２、Ｘ３およびＸ４につき記載した意味を有するかま
たは−ＣＨ２Ｏ−，−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−
Ｎ＝ＣＨ−または−Ｎ≡Ｎ−を表し、Ｍは上記の定義に
よるメソーゲン基を表し、Ｐ１は、水素、場合により１
〜３個のＣ１〜Ｃ６アルキルにより置換されたＣ１〜Ｃ
３０アルキル、Ｃ１〜３０アシル、Ｃ３〜Ｃ８シクロア
ルキルのうちから選択された基（その際アルキル基、ア
シル基およびシクロアルキル基はエーテル官能基中の酸
素、チオエーテル官能基中の硫黄または非隣接イミノ基
またはＣ１〜Ｃ４アルキルイミノ基により中断されてい
てもよい）を表し、ｎは１〜６の数を表しおよびＣｈは
ｎ価のキラル基である］のキラル化合物である。
【００３４】基Ｃｈはたとえば下記：
【００３５】
【化１４】
【００３６】
【化１５】
【００３７】
【化１６】
【００３８】のものであり、その際ＬはＣ１〜Ｃ４アル
キル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、ハロゲン、ＣＯＯＲ、Ｏ
ＣＯＲ、ＣＯＮＨＲまたはＮＨＣＯＲであり、ＲはＣ１
〜Ｃ４アルキルを表す。
キル、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ、ハロゲン、ＣＯＯＲ、Ｏ
ＣＯＲ、ＣＯＮＨＲまたはＮＨＣＯＲであり、ＲはＣ１
〜Ｃ４アルキルを表す。
【００３９】（記載した式中の末端位の線は遊離原子価
を示す）。
を示す）。
【００４０】たとえば下記：
【００４１】
【化１７】
【００４２】がとくに好ましい。
【００４３】これらおよび他の好ましいキラル成分は、
たとえばＲＥ−Ａ４３４２２８０号および先願のドイツ
国特許出願１９５２０６６０．６号および１９５２０７
０４．１号に挙げられている。
たとえばＲＥ−Ａ４３４２２８０号および先願のドイツ
国特許出願１９５２０６６０．６号および１９５２０７
０４．１号に挙げられている。
【００４４】他の好んで使用される基は、式Ｘｂまたは
Ｘｄ［式中ｎは２に等しく、Ｚ１はＨ２Ｃ＝ＣＨ−を表
しおよびＣｈは式
Ｘｄ［式中ｎは２に等しく、Ｚ１はＨ２Ｃ＝ＣＨ−を表
しおよびＣｈは式
【００４５】
【化１８】
【００４６】のキラル基を表しおよびＳｐ、Ｘ２、
Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５およびＭは上記のように定義されてい
る］のキラル化合物を包含する。
Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５およびＭは上記のように定義されてい
る］のキラル化合物を包含する。
【００４７】とくに好ましいキラル成分は次の化合物
（Ａ）〜（Ｇ）である：
（Ａ）〜（Ｇ）である：
【００４８】
【化１９】
【００４９】
【化２０】
【００５０】式Ｉの非キラル化合物を上記のキラル化合
物と組合せて使用する場合、式Ｉの非キラル化合物対式
Ｘａ、ｂ、ｃまたはｄのキラル化合物のモル比は、約
１：０．０１〜１：０．３、殊に１：０．０１〜１：
０．２５の範囲内にある。
物と組合せて使用する場合、式Ｉの非キラル化合物対式
Ｘａ、ｂ、ｃまたはｄのキラル化合物のモル比は、約
１：０．０１〜１：０．３、殊に１：０．０１〜１：
０．２５の範囲内にある。
【００５１】本発明による化合物または液晶組成物を重
合させる場合、液晶の配列状態を固定することができ
る。重合は、重合性基に応じたとえば熱的または光化学
的に行うことができる。その際、本発明による化合物ま
たは液晶組成物と一緒に他のモノマーも共重合させるこ
とができる。これらのモノマーは、同様に好ましくは共
有結合により重合導入される他の重合性の液晶化合物、
キラル化合物、または多重原子価のアクリレート、ビニ
ル化合物またはエポキシドのような通常の架橋剤であっ
てもよい。とくに、重合性液晶化合物としてイソシアネ
ート、イソチオシアネートまたはエポキシドの場合に
は、架橋剤は好ましくは多重原子価のアルコールである
ので、たとえばウレタンを形成させることができる。架
橋剤は、その量を重合比に適合させて、一方で満足させ
る機械的安定性が達成され、他方で液晶の相挙動は損な
われないようにしなければならない。従って、架橋剤の
量は重合体の特殊な用途に依存する。顔料の製造のため
には大量の架橋剤が有利であり、熱可塑性層の製造のた
めまたはたとえばディスプレー配向層に対しては少量の
架橋剤が必要である。架橋剤の量は、少数の予備試験に
より確かめることができる。
合させる場合、液晶の配列状態を固定することができ
る。重合は、重合性基に応じたとえば熱的または光化学
的に行うことができる。その際、本発明による化合物ま
たは液晶組成物と一緒に他のモノマーも共重合させるこ
とができる。これらのモノマーは、同様に好ましくは共
有結合により重合導入される他の重合性の液晶化合物、
キラル化合物、または多重原子価のアクリレート、ビニ
ル化合物またはエポキシドのような通常の架橋剤であっ
てもよい。とくに、重合性液晶化合物としてイソシアネ
ート、イソチオシアネートまたはエポキシドの場合に
は、架橋剤は好ましくは多重原子価のアルコールである
ので、たとえばウレタンを形成させることができる。架
橋剤は、その量を重合比に適合させて、一方で満足させ
る機械的安定性が達成され、他方で液晶の相挙動は損な
われないようにしなければならない。従って、架橋剤の
量は重合体の特殊な用途に依存する。顔料の製造のため
には大量の架橋剤が有利であり、熱可塑性層の製造のた
めまたはたとえばディスプレー配向層に対しては少量の
架橋剤が必要である。架橋剤の量は、少数の予備試験に
より確かめることができる。
【００５２】本発明による化合物または液晶組成物から
製造される重合生成物の他の改質は、重合前にポリマー
補助物質の添加により可能である。このような補助物質
は、とくに出発混合物または出発混合物と相容性の有機
溶剤に可溶であるべきである。このようなポリマー補助
物質の典型的な代表例は、たとえばポリエステル、セル
ロースエステル、ポリウレタンならびにポリエーテル変
性またはポリエステル変性シリコーンまたは未変性シリ
コーンである。所望の目的のため場合により添加すべき
ポリマー補助物質の量、その化学的種類ならびにできれ
ばなお溶剤の量および種類は、当業者に通例周知である
かまたは同様に実験的に小数の予備試験により確かめる
ことができる。
製造される重合生成物の他の改質は、重合前にポリマー
補助物質の添加により可能である。このような補助物質
は、とくに出発混合物または出発混合物と相容性の有機
溶剤に可溶であるべきである。このようなポリマー補助
物質の典型的な代表例は、たとえばポリエステル、セル
ロースエステル、ポリウレタンならびにポリエーテル変
性またはポリエステル変性シリコーンまたは未変性シリ
コーンである。所望の目的のため場合により添加すべき
ポリマー補助物質の量、その化学的種類ならびにできれ
ばなお溶剤の量および種類は、当業者に通例周知である
かまたは同様に実験的に小数の予備試験により確かめる
ことができる。
【００５３】式ＩおよびＸａ〜ｄの化合物の外になお、
非共有結合的にポリマーの網状構造中に組込まれる他の
化合物を混入することができる。これは、たとえば商業
上入手できるネマチック液晶であってもよい。
非共有結合的にポリマーの網状構造中に組込まれる他の
化合物を混入することができる。これは、たとえば商業
上入手できるネマチック液晶であってもよい。
【００５４】他の添加物は、顔料、染料、充填剤、殊に
ＵＶ安定剤のような安定剤、流展助剤、光開始剤、分散
剤等であってもよい。
ＵＶ安定剤のような安定剤、流展助剤、光開始剤、分散
剤等であってもよい。
【００５５】顔料の場合、これはたとえば鉄酸化物、酸
化チタンおよびカーボンブラックのような無機化合物で
あってもよく、有機化合物の場合にはたとえばモノアゾ
顔料、モノアゾ染料ならびにその金属塩、ジスアゾ顔
料、縮合ジスアゾ顔料、イソインドリン誘導体、ナフタ
リンテトラカルボン酸またはペリレンテトラカルボン酸
の誘導体、アントラキノン顔料、チオインジゴ誘導体、
アゾメチン誘導体、キナクリドン、ジオキサジン、ピラ
ゾロキナゾロン、フタロシアニン顔料またはトリアリー
ルメタン染料およびその塩のような塩基性染料の部類か
らの顔料または染料であってもよい。
化チタンおよびカーボンブラックのような無機化合物で
あってもよく、有機化合物の場合にはたとえばモノアゾ
顔料、モノアゾ染料ならびにその金属塩、ジスアゾ顔
料、縮合ジスアゾ顔料、イソインドリン誘導体、ナフタ
リンテトラカルボン酸またはペリレンテトラカルボン酸
の誘導体、アントラキノン顔料、チオインジゴ誘導体、
アゾメチン誘導体、キナクリドン、ジオキサジン、ピラ
ゾロキナゾロン、フタロシアニン顔料またはトリアリー
ルメタン染料およびその塩のような塩基性染料の部類か
らの顔料または染料であってもよい。
【００５６】本発明の他の対象は、式Ｉの少なくとも１
種の化合物を架橋された形で含有する顔料に関する。式
Ｉの本発明による化合物は、慣例のキラル化合物、殊に
上記の式Ｘａ〜ｄの化合物と組合せて、自体公知の方法
でコレステリック効果顔料に加工することができる。こ
のために、自体公知の方法でこれらの化合物の架橋性混
合物を担体上に、たとえば吹き付け、ロール塗り、ナイ
フ塗布、ロール作業、プリントまたは流延（Ｇｉｅｓｓ
ｅｎ）によって設け、コレステリック相を構成、つまり
配向し、架橋しおよび場合により乾燥する。次いで、こ
うして形成したコレステリック効果層は自体公知の方法
で担体から取り除くととができ、その際生じるフロック
は場合によりさらに粉砕し、分級する。好ましくは、流
延できる混合物を流延装置中で、たとえばＷＯ−Ａ９９
／１１７３３号に記載されているような条件下に加工す
る、これはこれにより明瞭に引用する。
種の化合物を架橋された形で含有する顔料に関する。式
Ｉの本発明による化合物は、慣例のキラル化合物、殊に
上記の式Ｘａ〜ｄの化合物と組合せて、自体公知の方法
でコレステリック効果顔料に加工することができる。こ
のために、自体公知の方法でこれらの化合物の架橋性混
合物を担体上に、たとえば吹き付け、ロール塗り、ナイ
フ塗布、ロール作業、プリントまたは流延（Ｇｉｅｓｓ
ｅｎ）によって設け、コレステリック相を構成、つまり
配向し、架橋しおよび場合により乾燥する。次いで、こ
うして形成したコレステリック効果層は自体公知の方法
で担体から取り除くととができ、その際生じるフロック
は場合によりさらに粉砕し、分級する。好ましくは、流
延できる混合物を流延装置中で、たとえばＷＯ−Ａ９９
／１１７３３号に記載されているような条件下に加工す
る、これはこれにより明瞭に引用する。
【００５７】その際、薄片状顔料の層厚は、０．５〜２
０μｍ，殊に０．５〜１０μｍ、たとえば０．５〜３μ
ｍである。
０μｍ，殊に０．５〜１０μｍ、たとえば０．５〜３μ
ｍである。
【００５８】本発明による顔料の直径は、約１〜５００
μｍ、殊に約３〜１００μｍまたは３〜３０μｍおよび
顔料厚さのほぼ２〜２０倍である。
μｍ、殊に約３〜１００μｍまたは３〜３０μｍおよび
顔料厚さのほぼ２〜２０倍である。
【００５９】顔料は、１個以上のコレステリック層、１
個以上の吸収剤層または１個以上の顔料着色吸収剤層を
有する多層顔料として構成されていてもよい。これらの
顔料は、たとえばＷＯ−Ａ９９／１１７１９号、ＷＯ−
Ａ９９／１１７３３号またはＰＣＴ／ＥＰ９９／０３１
０６号に記載された方法により入手できる、これはこれ
により明瞭に引用する。
個以上の吸収剤層または１個以上の顔料着色吸収剤層を
有する多層顔料として構成されていてもよい。これらの
顔料は、たとえばＷＯ−Ａ９９／１１７１９号、ＷＯ−
Ａ９９／１１７３３号またはＰＣＴ／ＥＰ９９／０３１
０６号に記載された方法により入手できる、これはこれ
により明瞭に引用する。
【００６０】本発明のもう１つの対象は、上記の定義に
よる組成物または顔料を含有する塗料に関する。好まし
い塗料は殊に、本発明による顔料または組成物の外に通
常着色剤およびラッカー中に使用される添加物、殊にポ
リマーの結合剤、分散剤および希釈剤を含有する着色剤
およびラッカーである。適当な添加物は当業者に公知で
あり、たとえばＷＯ−Ａ９９／１１７３３号に記載され
ている、これはこれにより明瞭に引用する。
よる組成物または顔料を含有する塗料に関する。好まし
い塗料は殊に、本発明による顔料または組成物の外に通
常着色剤およびラッカー中に使用される添加物、殊にポ
リマーの結合剤、分散剤および希釈剤を含有する着色剤
およびラッカーである。適当な添加物は当業者に公知で
あり、たとえばＷＯ−Ａ９９／１１７３３号に記載され
ている、これはこれにより明瞭に引用する。
【００６１】本発明は、殊にフィルターおよび偏光板の
ような光学素子、塗料、効果シート、化粧品および１層
または多層のコレステリック効果顔料の製造のための本
発明による化合物の使用に関する。
ような光学素子、塗料、効果シート、化粧品および１層
または多層のコレステリック効果顔料の製造のための本
発明による化合物の使用に関する。
【００６２】本発明の意味での光学素子としては、ネマ
チック液晶および／またはコレステリック液晶の光学的
性質を利用するすべての商品が考えられている。、詳細
には、これは選択的に遅延シート、ノッチ−フィルタ
ー、ディスプレー用カラーフィルター、偏光板、しかし
簡単に装飾目的のためのミラーであってもよい。光学素
子の三次元的形態は、平面、しかしまた凹面または凸面
に湾曲していてもよい。特別な実施形として、重合した
フィルムを顔料に粉砕し、通常の結合剤に混入した後、
吹付け、ロール塗り、噴霧、ナイフ塗布またはプリント
のような通常の塗布方法により担体上に設けることがで
きる。光学素子の好ましい実施形は平面の形である。
チック液晶および／またはコレステリック液晶の光学的
性質を利用するすべての商品が考えられている。、詳細
には、これは選択的に遅延シート、ノッチ−フィルタ
ー、ディスプレー用カラーフィルター、偏光板、しかし
簡単に装飾目的のためのミラーであってもよい。光学素
子の三次元的形態は、平面、しかしまた凹面または凸面
に湾曲していてもよい。特別な実施形として、重合した
フィルムを顔料に粉砕し、通常の結合剤に混入した後、
吹付け、ロール塗り、噴霧、ナイフ塗布またはプリント
のような通常の塗布方法により担体上に設けることがで
きる。光学素子の好ましい実施形は平面の形である。
【００６３】光学素子の品質にとり重要なのは、一般式
Ｉの化合物ないしは一般式Ｉの化合物を含有する混合物
の適用である、それというのも適用法により層の光学的
品質が決定されるからである。適用法としては、一般に
吹付け、ロール塗り、ロール作業、流延、ナイフ塗布お
よびプリントが適当である。
Ｉの化合物ないしは一般式Ｉの化合物を含有する混合物
の適用である、それというのも適用法により層の光学的
品質が決定されるからである。適用法としては、一般に
吹付け、ロール塗り、ロール作業、流延、ナイフ塗布お
よびプリントが適当である。
【００６４】この場合、好ましい１実施形は、場合によ
り必要な添加剤と組合せて液晶材料を易揮発性溶剤中に
溶解することである。この場合、溶剤としてはＴＨＦ、
ＭＥＫ、トルエン、酢酸エチル、酢酸ブチルが問題にな
る。添加剤としては、重合抑制剤ないしは重合開始剤、
流展助剤、空気抜き剤、付着剤等を使用することができ
る。等方性溶液は、通常の塗布装置により支持体上に転
写される。乾燥路を通過した後（その際溶剤は除去され
る）、湿ったフィルムをＵＶ光線により固定することが
できる。得られたフィルムは、非常に高い反射能を示
す。このフィルムは、ＬＣディスプレーにおける偏光板
として卓越して適当である。１実施形においては、この
ために貼合せ方法によりこのようなフィルムの数層を重
ねて貼合せ、選択したフィルムの選択波長を適当に選択
することにより、可視スペクトルの全光をカバーする偏
光板を得ることができる（ＥＰ０７２００４１号）。
り必要な添加剤と組合せて液晶材料を易揮発性溶剤中に
溶解することである。この場合、溶剤としてはＴＨＦ、
ＭＥＫ、トルエン、酢酸エチル、酢酸ブチルが問題にな
る。添加剤としては、重合抑制剤ないしは重合開始剤、
流展助剤、空気抜き剤、付着剤等を使用することができ
る。等方性溶液は、通常の塗布装置により支持体上に転
写される。乾燥路を通過した後（その際溶剤は除去され
る）、湿ったフィルムをＵＶ光線により固定することが
できる。得られたフィルムは、非常に高い反射能を示
す。このフィルムは、ＬＣディスプレーにおける偏光板
として卓越して適当である。１実施形においては、この
ために貼合せ方法によりこのようなフィルムの数層を重
ねて貼合せ、選択したフィルムの選択波長を適当に選択
することにより、可視スペクトルの全光をカバーする偏
光板を得ることができる（ＥＰ０７２００４１号）。
【００６５】カラーフィルターも、一般式Ｉの化合物を
含有する混合物で製造することができる。このため、的
確に必要な波長を当業者に慣用の塗布方法により設ける
ことができる。別の塗布形は、コレステリック液晶のサ
ーモクロミズムを利用する。
含有する混合物で製造することができる。このため、的
確に必要な波長を当業者に慣用の塗布方法により設ける
ことができる。別の塗布形は、コレステリック液晶のサ
ーモクロミズムを利用する。
【００６６】温度の調節により、コレステリック層の色
をレッドからグレーを経てブルーにずらすことができ
る。マスクを用いて、的確に特定の帯域を定義された温
度で重合させることができる。式Ｉの化合物を含有する
コレステリック混合物のサーモクロミズムおよび方向性
（Ｈａｅｎｄｉｇｋｅｉｔ）に対する決定的な影響量
は、キラル補助物質の選択である。これが、反射光の方
向性ならびにコレステリック系のサーモクロミズムを決
定する。
をレッドからグレーを経てブルーにずらすことができ
る。マスクを用いて、的確に特定の帯域を定義された温
度で重合させることができる。式Ｉの化合物を含有する
コレステリック混合物のサーモクロミズムおよび方向性
（Ｈａｅｎｄｉｇｋｅｉｔ）に対する決定的な影響量
は、キラル補助物質の選択である。これが、反射光の方
向性ならびにコレステリック系のサーモクロミズムを決
定する。
【００６７】一般式Ｉの化合物を含有するコレステリッ
ク相の光学的性質の外に、この物質のネマチック相も光
学素子における適用のために適当である。この場合、こ
のような系の複屈折も利用される。ここではとくに遅延
シートが挙げられる。
ク相の光学的性質の外に、この物質のネマチック相も光
学素子における適用のために適当である。この場合、こ
のような系の複屈折も利用される。ここではとくに遅延
シートが挙げられる。
【００６８】次に、本発明を好ましいメソーゲンジオー
ルの合成および引き続く好ましい本発明による式Ｉの液
晶の重合性モノマー合成の詳細な記載につき詳説する。
ルの合成および引き続く好ましい本発明による式Ｉの液
晶の重合性モノマー合成の詳細な記載につき詳説する。
【００６９】Ａ．メソーゲンジオールの合成 １．二核のメソーゲンジオールの合成 ２，２′−ジメトキシ−４，４′−ジヒドロキシビフェ
ニル（１ａ）の合成は、公知方法（Ｐｅｒｃｅｃ等、Ｍ
ａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ（１９９６年）２９巻、３
７２７ページ；Ｃｏｌｏｎ，Ｊ．等、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈ
ｅｍ．（１９８６年）５１巻、２６２７ページ）を使用
して次の反応式１に従って行われる：
ニル（１ａ）の合成は、公知方法（Ｐｅｒｃｅｃ等、Ｍ
ａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ（１９９６年）２９巻、３
７２７ページ；Ｃｏｌｏｎ，Ｊ．等、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈ
ｅｍ．（１９８６年）５１巻、２６２７ページ）を使用
して次の反応式１に従って行われる：
【００７０】
【化２１】
【００７１】４−クロロ−３−メチルフェノールのアセ
チル化後、アセチル化生成物をＮｉ（０）カップリング
反応により２，２′−ジメチル−４，４′−ジヒドロキ
シビフェニルに変換する。アセチル基は塩基性加水分解
により除去し、２，２′−ジメチル−４，４′−ジアセ
チルオキシビフェニルを塩酸の添加によりフェノラート
から遊離させる。精製は、真空蒸留および引き続くトル
エンからの再結晶により行なわれる。メソーゲンジオー
ルは、精製後に６１％の収率で得ることができる。
チル化後、アセチル化生成物をＮｉ（０）カップリング
反応により２，２′−ジメチル−４，４′−ジヒドロキ
シビフェニルに変換する。アセチル基は塩基性加水分解
により除去し、２，２′−ジメチル−４，４′−ジアセ
チルオキシビフェニルを塩酸の添加によりフェノラート
から遊離させる。精製は、真空蒸留および引き続くトル
エンからの再結晶により行なわれる。メソーゲンジオー
ルは、精製後に６１％の収率で得ることができる。
【００７２】２．三核のメソーゲンジオールの合成 三核のメソーゲンジオールは、中間位の４−ヒドロキノ
ン単位ならびに２つの末端位の４−ヒドロキシ安息香酸
単位から構成されている。これは次の構造を有する：
ン単位ならびに２つの末端位の４−ヒドロキシ安息香酸
単位から構成されている。これは次の構造を有する：
【００７３】
【化２２】
【００７４】ヒドロキノン単位ならびに双方の４−ヒド
ロキシ安息香酸単位は、１個以上の置換基Ｒ１〜Ｒ４な
いしはX１〜Ｘ４を有することができる。
ロキシ安息香酸単位は、１個以上の置換基Ｒ１〜Ｒ４な
いしはX１〜Ｘ４を有することができる。
【００７５】三核のメソーゲンジオールの合成のため
に、原則的に２つの道を行くことができる。その際合成
ルートの選択は、殊に中間位のヒドロキノンの置換パタ
ーンに依存し、これが三核のメソーゲンジオール製造の
ための合成ルートを決定する。
に、原則的に２つの道を行くことができる。その際合成
ルートの選択は、殊に中間位のヒドロキノンの置換パタ
ーンに依存し、これが三核のメソーゲンジオール製造の
ための合成ルートを決定する。
【００７６】非置換または単にメチル置換ヒドロキノン
単位を含有するメソーゲンジオールは、ＤＥ−Ａ１９７
１６８２２号に記載されたように、１，４−フェニレン
−ビス−（４−ヒドロキシ）ベンゾエート（２ａ）の合
成の例につき図示する、次の反応式２により製造するこ
とができる：
単位を含有するメソーゲンジオールは、ＤＥ−Ａ１９７
１６８２２号に記載されたように、１，４−フェニレン
−ビス−（４−ヒドロキシ）ベンゾエート（２ａ）の合
成の例につき図示する、次の反応式２により製造するこ
とができる：
【００７７】
【化２３】
【００７８】４−ヒドロキシ安息香酸を、ヒドロキノン
と一緒に２：１のモル比でｐ−キシレン中に装入する。
４−ヒドロキシ安息香酸もヒドロキノンもｐ−キシレン
には完全に可溶でない。ｐ−トルエンスルホン酸（ｐ−
ＴＳＳ）の触媒作用下に、再びキシレンに不溶の三核の
メソーゲンジオール １，４−フェニレン−ビス−（４
−ヒドロキシ）ベンゾエートが、共沸エステル化中に得
られる。この方法により製造されたメソーゲンジオール
は、８５％までの収率で得ることができる。
と一緒に２：１のモル比でｐ−キシレン中に装入する。
４−ヒドロキシ安息香酸もヒドロキノンもｐ−キシレン
には完全に可溶でない。ｐ−トルエンスルホン酸（ｐ−
ＴＳＳ）の触媒作用下に、再びキシレンに不溶の三核の
メソーゲンジオール １，４−フェニレン−ビス−（４
−ヒドロキシ）ベンゾエートが、共沸エステル化中に得
られる。この方法により製造されたメソーゲンジオール
は、８５％までの収率で得ることができる。
【００７９】上記反応式により、次の３種の三核のメソ
ーゲンジオールが製造される： 表：共沸エステル化により製造された三核のメソーゲン
ジオール
ーゲンジオールが製造される： 表：共沸エステル化により製造された三核のメソーゲン
ジオール
【００８０】
【化２４】
【００８１】ヒドロキノン単位が１個以上の立体的に要
求の多い基を有する三核のメソーゲンジオールは、好ま
しくは他の方法で製造される。これらの立体的に要求の
多い基には、たとえばｔｅｒｔ．ブチル基またはアリー
ル基が数えられる。このような三核のメソーゲンジオー
ルの合成は反応式３に従って行われ、その際たとえばｔ
ｅｒｔ．ブチルヒドロキノンが使用される（Ｇａｌｌｉ
等、ｐｏｌｙｍｅｒＢｕｌｌｅｔｉｎ（１９８９年）２
１巻、５６３ページ）。
求の多い基を有する三核のメソーゲンジオールは、好ま
しくは他の方法で製造される。これらの立体的に要求の
多い基には、たとえばｔｅｒｔ．ブチル基またはアリー
ル基が数えられる。このような三核のメソーゲンジオー
ルの合成は反応式３に従って行われ、その際たとえばｔ
ｅｒｔ．ブチルヒドロキノンが使用される（Ｇａｌｌｉ
等、ｐｏｌｙｍｅｒＢｕｌｌｅｔｉｎ（１９８９年）２
１巻、５６３ページ）。
【００８２】
【化２５】
【００８３】４−ヒドロキシ安息香酸を、クロロギ酸ベ
ンジルエステルでフェノール性ヒドロキシ基において保
護する。引き続き、こうして保護された４−ヒドロキシ
安息香酸を塩化チオニルと反応させて相応する酸塩化物
にする。最後に、酸捕捉塩基としてのトリエチルアミン
の存在における酸塩化物とｔｅｒｔ．ブチルヒドロキノ
ンとの反応から、ヒドロキシ保護されたジエステルが得
られる。保護基は、最終反応工程においてパラジウム触
媒での接触的水素添加を用いて除去する。この手段後に
製出されるメソーゲンジオールは、４０％までの収率で
得ることができた。低い総収率は、ベンジル保護された
メソーゲンジオールの製造における低い収率により制約
される。この反応式により、たとえば次表にまとめた三
核のメソーゲンジオールが製造できる。
ンジルエステルでフェノール性ヒドロキシ基において保
護する。引き続き、こうして保護された４−ヒドロキシ
安息香酸を塩化チオニルと反応させて相応する酸塩化物
にする。最後に、酸捕捉塩基としてのトリエチルアミン
の存在における酸塩化物とｔｅｒｔ．ブチルヒドロキノ
ンとの反応から、ヒドロキシ保護されたジエステルが得
られる。保護基は、最終反応工程においてパラジウム触
媒での接触的水素添加を用いて除去する。この手段後に
製出されるメソーゲンジオールは、４０％までの収率で
得ることができた。低い総収率は、ベンジル保護された
メソーゲンジオールの製造における低い収率により制約
される。この反応式により、たとえば次表にまとめた三
核のメソーゲンジオールが製造できる。
【００８４】表：立体的要求の多い基を有する三核メソ
ーゲンジオール
ーゲンジオール
【００８５】
【化２６】
【００８６】３．四核のメソーゲンジオールの合成 上記に三核のメソーゲンジオールにつき記載した反応
は、四核のメソーゲンジオールにも転用することができ
る。構造上、四核のメソーゲンジオールは三核のメソー
ゲンジオールとはたんに、分子の中央部がヒドロキノン
単位ではなく、二核の芳香族ジオール成分からなること
により区別されるにすぎない。次表には、本発明により
使用できる２種の四核のメソーゲンジオールの例がまと
められている。製造は、ｐ−トルエンスルホン酸の触媒
作用下にｐ−キシレン中での共沸エステル化により行っ
た。収率は７７％までであった。
は、四核のメソーゲンジオールにも転用することができ
る。構造上、四核のメソーゲンジオールは三核のメソー
ゲンジオールとはたんに、分子の中央部がヒドロキノン
単位ではなく、二核の芳香族ジオール成分からなること
により区別されるにすぎない。次表には、本発明により
使用できる２種の四核のメソーゲンジオールの例がまと
められている。製造は、ｐ−トルエンスルホン酸の触媒
作用下にｐ−キシレン中での共沸エステル化により行っ
た。収率は７７％までであった。
【００８７】表：共沸エステル化により製造した四核の
メソーゲンジオール
メソーゲンジオール
【００８８】
【化２７】
【００８９】Ｂ．新規液晶性テトラアクリレートの合成 好ましい本発明による液晶性テトラアクリレートは、
３，４−ジ−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキ
シ）安息香酸を経て入手できる。３，４−ジ−（６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸を公知方法
（Ｓｔｏｈｒ、Ｄｉｓｓｅｒｔａｔｉｏｎ、ベイルート
大学、１９９６年）で合成する。合成は、次の反応式４
に図示されている：
３，４−ジ−（６−アクリロイルオキシヘキシルオキ
シ）安息香酸を経て入手できる。３，４−ジ−（６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸を公知方法
（Ｓｔｏｈｒ、Ｄｉｓｓｅｒｔａｔｉｏｎ、ベイルート
大学、１９９６年）で合成する。合成は、次の反応式４
に図示されている：
【００９０】
【化２８】
【００９１】合成の第１工程において、エチル−３，４
−ジヒドロキシ安息香酸を６−クロロヘキサノールで塩
基性エーテル化する。引き続き、エチルエステルをメタ
ノール性カセイカリ溶液でけん化して、遊離酸を単離す
ることができた。これを次いで１，４−ジオキサン中の
アクリル酸クロリドでエステル化し、その際遊離する塩
酸を捕捉するための塩基としてジエチルアニリンを使用
した。次に、第２工程において酸を酸塩化物に変え、種
々のメソーゲンジオールと反応させる。この第２工程は
次の反応式５に図示されている：
−ジヒドロキシ安息香酸を６−クロロヘキサノールで塩
基性エーテル化する。引き続き、エチルエステルをメタ
ノール性カセイカリ溶液でけん化して、遊離酸を単離す
ることができた。これを次いで１，４−ジオキサン中の
アクリル酸クロリドでエステル化し、その際遊離する塩
酸を捕捉するための塩基としてジエチルアニリンを使用
した。次に、第２工程において酸を酸塩化物に変え、種
々のメソーゲンジオールと反応させる。この第２工程は
次の反応式５に図示されている：
【００９２】
【化２９】
【００９３】このため、３，４−ジ−（６−アクリロイ
ルオキシヘキシルオキシ）安息香酸を塩化オキサリルと
反応させて酸クロリドにした。引き続き、これをさらに
精製せずに、２：１の割合でメソーゲンジオールとＴＨ
Ｆ中で反応させた。その際、エステル化において生じる
塩酸を結合するために、塩基としてトリエチルアミンを
使用した。こうして製造されたすべてのテトラアクリレ
ートを、引き続きカラムクロマトグラフィーで精製し
た。テトラアクリレートの収率は、４２％および７２％
の間であった。
ルオキシヘキシルオキシ）安息香酸を塩化オキサリルと
反応させて酸クロリドにした。引き続き、これをさらに
精製せずに、２：１の割合でメソーゲンジオールとＴＨ
Ｆ中で反応させた。その際、エステル化において生じる
塩酸を結合するために、塩基としてトリエチルアミンを
使用した。こうして製造されたすべてのテトラアクリレ
ートを、引き続きカラムクロマトグラフィーで精製し
た。テトラアクリレートの収率は、４２％および７２％
の間であった。
【００９４】上記反応式により合成したテトラアクリレ
ートは、その構造が次表にまとめられている。
ートは、その構造が次表にまとめられている。
【００９５】表：合成されたテトラアクリレートおよび
そのメソフェーズ挙動
そのメソフェーズ挙動
【００９６】
【化３０】
【００９７】ａ） ＤＳＣ、第２加熱、抑制剤含量：硫
黄２重量％、加熱速度１０゜ｋ／分 ｂ） 偏光顕微鏡 ｃ） Ｃｒ＝結晶性；Ｎ＝ネマチック；Ｉ＝等方性 テトラアクリレートの相挙動は、ＤＳＣおよび偏光顕微
鏡検査を用いて調べた。調査の間熱重合を阻止するた
め、抑制剤として硫黄２重量％を添加した。その際、４
つのすべてのテトラアクリレートにおいてネマティック
メソーゲンを検出することができた。四核のメソーゲン
単位を有するテトラアクリレートのうち、１４ａは１２
１℃および１２７℃の間のネマティックメソフェーズを
示し、１４ｂは１０７℃および１２２℃の間のネマティ
ックメソフェーズを示す。メソーゲン単位におけるメチ
ル置換は、非置換系１４ａと比べて融点ならびに透明点
を低下する。その際、融点に対する置換基の影響は透明
点に対する影響よりも著しく強く現れた。
黄２重量％、加熱速度１０゜ｋ／分 ｂ） 偏光顕微鏡 ｃ） Ｃｒ＝結晶性；Ｎ＝ネマチック；Ｉ＝等方性 テトラアクリレートの相挙動は、ＤＳＣおよび偏光顕微
鏡検査を用いて調べた。調査の間熱重合を阻止するた
め、抑制剤として硫黄２重量％を添加した。その際、４
つのすべてのテトラアクリレートにおいてネマティック
メソーゲンを検出することができた。四核のメソーゲン
単位を有するテトラアクリレートのうち、１４ａは１２
１℃および１２７℃の間のネマティックメソフェーズを
示し、１４ｂは１０７℃および１２２℃の間のネマティ
ックメソフェーズを示す。メソーゲン単位におけるメチ
ル置換は、非置換系１４ａと比べて融点ならびに透明点
を低下する。その際、融点に対する置換基の影響は透明
点に対する影響よりも著しく強く現れた。
【００９８】六核のメソーゲン単位を有するテトラアク
リレートのうち、１４ｃは１２３℃および１５５℃の間
のネマティックメソフェーズを示す。テトラアクリレー
ト１４ｄは、同様にネマティックに挙動する。しかし、
このテトラアクリレートの場合、ネマティックメソフェ
ーズはＤＳＣの加熱曲線においては検出することができ
ず、偏光顕微鏡下に１３２℃および１４３℃の間の流動
メソフェーズを認識できる。ＤＳＣは、たんに冷却曲線
において等方性相およびネマティック相の間の明瞭に認
識できる転移を有するメソフェーズを示すにすぎない。
双方のメチル基の導入により、相幅は１４ｃと比べて著
しく小さくなる。興味あることに、融点は２個のメチル
基の導入の際に高くなるが、１４ｂでは１個のメチル基
の導入が融点の低下を生じた。ＤＳＣ測定は、１４ｂお
よび１４ｃでは結晶範囲内になお付加的な転移を示し
た。
リレートのうち、１４ｃは１２３℃および１５５℃の間
のネマティックメソフェーズを示す。テトラアクリレー
ト１４ｄは、同様にネマティックに挙動する。しかし、
このテトラアクリレートの場合、ネマティックメソフェ
ーズはＤＳＣの加熱曲線においては検出することができ
ず、偏光顕微鏡下に１３２℃および１４３℃の間の流動
メソフェーズを認識できる。ＤＳＣは、たんに冷却曲線
において等方性相およびネマティック相の間の明瞭に認
識できる転移を有するメソフェーズを示すにすぎない。
双方のメチル基の導入により、相幅は１４ｃと比べて著
しく小さくなる。興味あることに、融点は２個のメチル
基の導入の際に高くなるが、１４ｂでは１個のメチル基
の導入が融点の低下を生じた。ＤＳＣ測定は、１４ｂお
よび１４ｃでは結晶範囲内になお付加的な転移を示し
た。
【００９９】上記の具体的教示から出発して、本発明に
よる他の化合物に到達するために、当業者は具体的に記
載された方法の通常の変更を行うことができる。
よる他の化合物に到達するために、当業者は具体的に記
載された方法の通常の変更を行うことができる。
【０１００】次に、本発明を次の実施例につき詳説す
る。
る。
【０１０１】実験の部 装置および補助物質 ＩＲ分光学：ＢＩＯ−ＲＡＤ Ｄｉｇｉｌａｂ ＦＴＳ
−４０（ＦＴ−ＩＲ）１ Ｈ−ＮＭＲ−分光学：ＢＲＵＫＥＲ ＡＣ ２５０
（２５０ＭＨｚ）１３ Ｃ−ＮＭＲ−分光学：ＢＲＵＫＥＲ ＡＣ ２５０
（６２．５ＭＨｚ） ＤＳＣ：ＰＥＲＫＩＮ−ＥＬＭＥＲ ＤＳＣ ７ 偏光顕微鏡検査：加熱載物台を有するＮＩＫＯＮ Ｄｉ
ａｐｈｏｔ Ｍｅｔｔｌｅｒ ＦＰ８２、制御ユニットＭｅｔｔｌｅ
ｒ ＦＰ９０化学薬品および溶剤 ジオキサンは、カリウム上で還流下に加熱することによ
り乾燥し、保護ガス下に蒸留した。テトラヒドロフラン
は、最初に水酸化カリウム上で還流下に加熱し、蒸留
し、カリウム上で還流下に再び加熱し、最後に保護ガス
下に蒸留した。塩化メチレンは、水酸化カルシウム上で
還流下に加熱することにより乾燥し、保護ガス下に蒸留
した。他のすべての溶剤は、充填カラムにより蒸留し、
さらに乾燥せずに使用した。トリエチルアミンは、水酸
化カリウム上で還流下に加熱し、保護ガス下に蒸留し
た。アクリル酸クロリドは、安定剤として２，６−ジ−
ｔｅｒｔ．ブチル−ｐ−クレゾールを用い保護ガス下に
２回の分別蒸留により精製した。使用した他のすべての
化学薬品は、商業上十分に高い純度で得られ、従ってさ
らに精製せずに使用した。
−４０（ＦＴ−ＩＲ）１ Ｈ−ＮＭＲ−分光学：ＢＲＵＫＥＲ ＡＣ ２５０
（２５０ＭＨｚ）１３ Ｃ−ＮＭＲ−分光学：ＢＲＵＫＥＲ ＡＣ ２５０
（６２．５ＭＨｚ） ＤＳＣ：ＰＥＲＫＩＮ−ＥＬＭＥＲ ＤＳＣ ７ 偏光顕微鏡検査：加熱載物台を有するＮＩＫＯＮ Ｄｉ
ａｐｈｏｔ Ｍｅｔｔｌｅｒ ＦＰ８２、制御ユニットＭｅｔｔｌｅ
ｒ ＦＰ９０化学薬品および溶剤 ジオキサンは、カリウム上で還流下に加熱することによ
り乾燥し、保護ガス下に蒸留した。テトラヒドロフラン
は、最初に水酸化カリウム上で還流下に加熱し、蒸留
し、カリウム上で還流下に再び加熱し、最後に保護ガス
下に蒸留した。塩化メチレンは、水酸化カルシウム上で
還流下に加熱することにより乾燥し、保護ガス下に蒸留
した。他のすべての溶剤は、充填カラムにより蒸留し、
さらに乾燥せずに使用した。トリエチルアミンは、水酸
化カリウム上で還流下に加熱し、保護ガス下に蒸留し
た。アクリル酸クロリドは、安定剤として２，６−ジ−
ｔｅｒｔ．ブチル−ｐ−クレゾールを用い保護ガス下に
２回の分別蒸留により精製した。使用した他のすべての
化学薬品は、商業上十分に高い純度で得られ、従ってさ
らに精製せずに使用した。
【０１０２】参考例１：メソーゲンジオールの製造 次のメソーゲンジオールを製造した：
【０１０３】
【化３１】
【０１０４】参考例１．１：２，２′−ジメチル−４，
４′−ジヒドロキシビフェニル（１） ａ）４−クロロ−３−メチル−フェニルアセテート 還流冷却器を有する２５０ｍｌのフラスコ中で、４−ク
ロロ−３−メチルフェノール４３．０ｇ（０．３０モ
ル）、無水酢酸３４ｍｌ（０．３６モル）および数滴の
濃硫酸を６０℃で２時間撹拌する。室温に冷却した後、
反応混合物を水２００ｍｌ中に注ぎ、室温で１時間撹拌
する。引き続き、ジエチルエーテル４００ｍｌで抽出す
る。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、エーテルを
留去する。引き続き、粗生成物を真空蒸留する（沸点６
５〜６８℃、２０ｍｂａｒ）。
４′−ジヒドロキシビフェニル（１） ａ）４−クロロ−３−メチル−フェニルアセテート 還流冷却器を有する２５０ｍｌのフラスコ中で、４−ク
ロロ−３−メチルフェノール４３．０ｇ（０．３０モ
ル）、無水酢酸３４ｍｌ（０．３６モル）および数滴の
濃硫酸を６０℃で２時間撹拌する。室温に冷却した後、
反応混合物を水２００ｍｌ中に注ぎ、室温で１時間撹拌
する。引き続き、ジエチルエーテル４００ｍｌで抽出す
る。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、エーテルを
留去する。引き続き、粗生成物を真空蒸留する（沸点６
５〜６８℃、２０ｍｂａｒ）。
【０１０５】収率：５２．５ｇ（理論量の９５％）無色
の液体として 特性表示：
の液体として 特性表示：
【０１０６】
【外１】
【０１０７】ｂ）２，２′−ジメチル−４，４′−ジヒ
ドロキシビフェニル 還流冷却器を備える５００ｍｌのフラスコ中に、二塩化
ニッケル２。０８ｇ（０．０１６モル）、トリフェニル
ホスファン（ＰＰｈ３）２０．９ｇ（０．０８０モ
ル）、亜鉛粉末３０．１ｇ（０．４６０モル）、２，
２′−ビピリジン（ｂ ｐｙ）２．５１ｇ（０．０１６モ
ル）およびジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）１６０ｍ
ｌを装入する。反応混合物を６５℃に加熱する。４−ク
ロロ−３−メチルフェニルアセテート５２．５ｇ（０．
２８５モル）の添加後、反応混合物を７０℃で４時間撹
拌する。室温に冷却した後、反応混合物を濾過し、引き
続き２．５モルの水酸化ナトリウム溶液５００ｍｌ上に
注ぎ、夜通し撹拌する。ジエチルエーテル３００ｍｌで
洗浄した後、水相を濃塩酸で酸性にする（ｐＨ＝１）。
引き続き、水相をジエチルエーテル８００ｍｌで抽出
し、ジエチルエーテルを留去する。粗生成物を真空蒸留
し（沸点１６７〜１７０℃、０．０１ｍｂａｒ）、引き
続きトルエンから２回再結晶する。
ドロキシビフェニル 還流冷却器を備える５００ｍｌのフラスコ中に、二塩化
ニッケル２。０８ｇ（０．０１６モル）、トリフェニル
ホスファン（ＰＰｈ３）２０．９ｇ（０．０８０モ
ル）、亜鉛粉末３０．１ｇ（０．４６０モル）、２，
２′−ビピリジン（ｂ ｐｙ）２．５１ｇ（０．０１６モ
ル）およびジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）１６０ｍ
ｌを装入する。反応混合物を６５℃に加熱する。４−ク
ロロ−３−メチルフェニルアセテート５２．５ｇ（０．
２８５モル）の添加後、反応混合物を７０℃で４時間撹
拌する。室温に冷却した後、反応混合物を濾過し、引き
続き２．５モルの水酸化ナトリウム溶液５００ｍｌ上に
注ぎ、夜通し撹拌する。ジエチルエーテル３００ｍｌで
洗浄した後、水相を濃塩酸で酸性にする（ｐＨ＝１）。
引き続き、水相をジエチルエーテル８００ｍｌで抽出
し、ジエチルエーテルを留去する。粗生成物を真空蒸留
し（沸点１６７〜１７０℃、０．０１ｍｂａｒ）、引き
続きトルエンから２回再結晶する。
【０１０８】収率：１８．５ｇ（理論量の６１％）白色
固体として 特性表示：
固体として 特性表示：
【０１０９】
【外２】
【０１１０】融点：１３７〜１３８℃ 参考例１．２：共沸エステル化を用いるメソーゲンジオ
ールの製造 Ａ）一般的作業指示：水分離器を備えるフラスコ中に、
それぞれ４−ヒドロキシ安息香酸およびそれぞれ芳香族
ジオールをｐ−キシレン中のｐ−トルエンスルホン酸と
一緒に装入し、還流下に２４時間加熱する。水分離の終
了した後、反応混合物を室温に冷却し、粗生成物を濾過
する。
ールの製造 Ａ）一般的作業指示：水分離器を備えるフラスコ中に、
それぞれ４−ヒドロキシ安息香酸およびそれぞれ芳香族
ジオールをｐ−キシレン中のｐ−トルエンスルホン酸と
一緒に装入し、還流下に２４時間加熱する。水分離の終
了した後、反応混合物を室温に冷却し、粗生成物を濾過
する。
【０１１１】Ｂ）一般的作業指示に従って製造した化合
物： ａ）１，４−フェニレン−ビス−（４−ヒドロキシ）ベ
ンゾエート（２ａ）精製：粗生成物をエタノール１００
ｍｌに懸濁させ、室温で数時間撹拌し、引き続き濾過す
る。生成物は白色固体として得られる。
物： ａ）１，４−フェニレン−ビス−（４−ヒドロキシ）ベ
ンゾエート（２ａ）精製：粗生成物をエタノール１００
ｍｌに懸濁させ、室温で数時間撹拌し、引き続き濾過す
る。生成物は白色固体として得られる。
【０１１２】 バッチ：ヒドロキノン ３．３０ｇ（０．０３モル） ４−ヒドロキシ安息香酸 ８．２９ｇ（０．０６モル） ｐ−トルエンスルホン酸 ０．６０ｇ（０．００３モル） ｐ−キシレン １５０ｍｌ 収率：８．５０ｇ（理論量の８１％）白色固体として 特性表示：
【０１１３】
【外３】
【０１１４】分解（Ｔｏｎ）：２９４℃ ｂ）２−メチル−１，４−フェニレン−ビス−（４−ヒ
ドロキシ）ベンゾエート（２ｂ） 精製：粗生成物をジエチルエーテル１００ｍｌに懸濁さ
せ、室温で数時間撹拌し、引き続き濾過する。生成物は
白色固体として得られる。
ドロキシ）ベンゾエート（２ｂ） 精製：粗生成物をジエチルエーテル１００ｍｌに懸濁さ
せ、室温で数時間撹拌し、引き続き濾過する。生成物は
白色固体として得られる。
【０１１５】 バッチ：２−メチルヒドロキノン ３．７２ｇ（０．０３モル） ４−ヒドロキシ安息香酸 ８．２９ｇ（０．０６モル） ｐ−トルエンスルホン酸 ０．６０ｇ（０．００３モル） ｐ−キシレン １５０ｍｌ 収率：９．３１ｇ（理論量の８５％）白色固体として 特性表示：
【０１１６】
【外４】
【０１１７】分解（Ｔｏｎ）：２７６℃ ｃ）２，３，５−トリメチル−１，４−フェニレン−ビ
ス−（４−ヒドロキシ）ベンゾエート（２ｃ） 精製：粗生成物をジエチルエーテル１００ｍｌに懸濁さ
せ、室温で数時間撹拌し、引き続き濾過する。引き続
き、粗生成物をメタノール１０００ｍｌから再結晶す
る。生成物は白色固体として得られる。
ス−（４−ヒドロキシ）ベンゾエート（２ｃ） 精製：粗生成物をジエチルエーテル１００ｍｌに懸濁さ
せ、室温で数時間撹拌し、引き続き濾過する。引き続
き、粗生成物をメタノール１０００ｍｌから再結晶す
る。生成物は白色固体として得られる。
【０１１８】 バッチ：２，３，５−トリメチルヒドロキノン ４．５６ｇ（０．０３モル） ４−ヒドロキシ安息香酸 ８．２９ｇ（０．０６モル） ｐ−トルエンスルホン酸 ０．６０ｇ（０．００３モル） ｐ−キシレン １５０ｍｌ 収率：６．６５ｇ（理論量の５７％） 特性表示：
【０１１９】
【外５】
【０１２０】分解（Ｔｏｎ）：２９８℃ ｄ）４，４′−ビフェニレン−ビス−（４−ヒドロキ
シ）ベンゾエート（３ａ） 精製：シクロヘキサン１５００ｍｌからの再結晶 バッチ：４，４′−ジヒドロキシビフェニル ８．７５ｇ（０．０４７モル） ４−ヒドロキシ安息香酸 １２．９８ｇ（０．０９４モル） ｐ−トルエンスルホン酸 ２．００ｇ（０．０１モル） ｐ−キシレン ２５０ｍｌ 収率：１５．４０ｇ（理論量の７７％） 特性表示：
シ）ベンゾエート（３ａ） 精製：シクロヘキサン１５００ｍｌからの再結晶 バッチ：４，４′−ジヒドロキシビフェニル ８．７５ｇ（０．０４７モル） ４−ヒドロキシ安息香酸 １２．９８ｇ（０．０９４モル） ｐ−トルエンスルホン酸 ２．００ｇ（０．０１モル） ｐ−キシレン ２５０ｍｌ 収率：１５．４０ｇ（理論量の７７％） 特性表示：
【０１２１】
【外６】
【０１２２】分解（Ｔｏｎ）３２０℃ ｅ）２，２′−ジメチル−４，４′−ビフェニレン−ビ
ス−（４−ヒドロキシ）ベンゾエート（３ｂ） 精製：１，４−ジオキサン７００ｍｌから再結晶 バッチ：２，２′−ジメチル−４，４′−ジヒドロキシビフェニル ９．４３ｇ（０．０４４モル） ４−ヒドロキシ安息香酸 １２．１９ｇ（０．０８８モル） ｐ−トルエンスルホン酸 ２．００ｇ（０．０１モル） ｐ−キシレン ２５０ｍｌ 収率：１４．７３ｇ（理論量の７４％） 特性表示：
ス−（４−ヒドロキシ）ベンゾエート（３ｂ） 精製：１，４−ジオキサン７００ｍｌから再結晶 バッチ：２，２′−ジメチル−４，４′−ジヒドロキシビフェニル ９．４３ｇ（０．０４４モル） ４−ヒドロキシ安息香酸 １２．１９ｇ（０．０８８モル） ｐ−トルエンスルホン酸 ２．００ｇ（０．０１モル） ｐ−キシレン ２５０ｍｌ 収率：１４．７３ｇ（理論量の７４％） 特性表示：
【０１２３】
【外７】
【０１２４】分解（Ｔｏｎ）：２４２℃ 参考例１．３：保護された４−ヒドロキシ安息香酸を経
由するメソーゲンジオールの製造 Ａ）一般的作業指示 ｉ）４−ヒドロキシ安息香酸のヒドロキシ官能基に保護
基の導入 相応する４−ヒドロキシ安息香酸を１Ｍのカセイソーダ
水溶液に溶解する。０℃で、クロロギ酸ベンジルエステ
ルを滴加する。反応混合物を２時間撹拌し、引き続き２
Ｍの塩酸に注入する。得られる沈殿物を濾過し、再結晶
する。
由するメソーゲンジオールの製造 Ａ）一般的作業指示 ｉ）４−ヒドロキシ安息香酸のヒドロキシ官能基に保護
基の導入 相応する４−ヒドロキシ安息香酸を１Ｍのカセイソーダ
水溶液に溶解する。０℃で、クロロギ酸ベンジルエステ
ルを滴加する。反応混合物を２時間撹拌し、引き続き２
Ｍの塩酸に注入する。得られる沈殿物を濾過し、再結晶
する。
【０１２５】ｉｉ）ヒドロキシ保護されたメソーゲンジ
オールの製造 保護された４−ヒドロキシ安息香酸を１，２−ジクロロ
エタンに溶解する。溶液に塩化チオニルを加え、引き続
き２時間還流下に加熱する。溶剤および未反応の塩化チ
オニルを真空で留去する。生じた酸塩化物を１，２−ジ
クロロエタンに溶解し、芳香族ジオールおよび１，２−
ジクロロエタン中のトリエチルアミンからなる溶液に滴
加する。反応混合物を２時間還流下に加熱し、引き続き
室温に冷却し、濾過する。１，２−ジクロロエタンを真
空で留去し、残留物をクロロホルムにとり、水で洗浄す
る。有機相をＮａ２ＳＯ４上で乾燥する。引き続き、ク
ロロホルムを留去し、粗生成物を再結晶により精製す
る。
オールの製造 保護された４−ヒドロキシ安息香酸を１，２−ジクロロ
エタンに溶解する。溶液に塩化チオニルを加え、引き続
き２時間還流下に加熱する。溶剤および未反応の塩化チ
オニルを真空で留去する。生じた酸塩化物を１，２−ジ
クロロエタンに溶解し、芳香族ジオールおよび１，２−
ジクロロエタン中のトリエチルアミンからなる溶液に滴
加する。反応混合物を２時間還流下に加熱し、引き続き
室温に冷却し、濾過する。１，２−ジクロロエタンを真
空で留去し、残留物をクロロホルムにとり、水で洗浄す
る。有機相をＮａ２ＳＯ４上で乾燥する。引き続き、ク
ロロホルムを留去し、粗生成物を再結晶により精製す
る。
【０１２６】ｉｉｉ）保護基の接触的除去によるメソー
ゲンジオールの遊離 保護されたメソーゲンジオールを、活性炭上のパラジウ
ム（５％）と一緒にテトラヒドロフラン中に装入する。
反応混合物を水素で飽和し、引き続き水素雰囲気下４０
℃で夜通し撹拌する。引き続き、反応混合物を濾過し、
ＴＨＦを留去する。
ゲンジオールの遊離 保護されたメソーゲンジオールを、活性炭上のパラジウ
ム（５％）と一緒にテトラヒドロフラン中に装入する。
反応混合物を水素で飽和し、引き続き水素雰囲気下４０
℃で夜通し撹拌する。引き続き、反応混合物を濾過し、
ＴＨＦを留去する。
【０１２７】Ｂ）一般的作業指示に従って製造した化合
物： ａ）ベンジルオキシ−４−ヒドロキシ安息香酸 精製：アセトン／水１：１の１２００ｍｌから再結晶 バッチ：４−ヒドロキシ安息香酸 ２０．００ｇ（０．１４３モル） クロロギ酸ベンジルエステル ２９．６ｇ（０．１７３モル） １Ｍのカセイソーダ溶液 ３００ｍｌ ２Ｍの塩酸 ５００ｍｌ 収率：２９．３ｇ（理論量の７５％）白色固体として 特性表示：
物： ａ）ベンジルオキシ−４−ヒドロキシ安息香酸 精製：アセトン／水１：１の１２００ｍｌから再結晶 バッチ：４−ヒドロキシ安息香酸 ２０．００ｇ（０．１４３モル） クロロギ酸ベンジルエステル ２９．６ｇ（０．１７３モル） １Ｍのカセイソーダ溶液 ３００ｍｌ ２Ｍの塩酸 ５００ｍｌ 収率：２９．３ｇ（理論量の７５％）白色固体として 特性表示：
【０１２８】
【外８】
【０１２９】ｂ）ベンジルオキシ−４−ヒドロキシバニ
リン酸 精製：水４５０ｍｌおよびアセトン２５０ｍｌからなる
混合物から再結晶 バッチ：バニリン酸 １８．９０ｇ（０．１１モル） クロロギ酸ベンジルエステル ２５．６０ｇ（０．１５モル） １Ｍのカセイソーダ溶液 ４００ｍｌ ２Ｍの塩酸 １０００ｍｌ 収率：２０．３ｇ（理論量の６１％） 特性表示：
リン酸 精製：水４５０ｍｌおよびアセトン２５０ｍｌからなる
混合物から再結晶 バッチ：バニリン酸 １８．９０ｇ（０．１１モル） クロロギ酸ベンジルエステル ２５．６０ｇ（０．１５モル） １Ｍのカセイソーダ溶液 ４００ｍｌ ２Ｍの塩酸 １０００ｍｌ 収率：２０．３ｇ（理論量の６１％） 特性表示：
【０１３０】
【外９】
【０１３１】ｃ）２−ｔｅｒｔ．ブチル−１，４−フェ
ニレン−ビス−（４−ベンジルカルボナト）ベンゾエー
ト 精製：シクロヘキサン１０００ｍｌから再結晶 バッチ：ベンジルオキシ−４−ヒドロキシ安息香酸 ３５．５２ｇ （０．１３モル） 塩化チオニル １２ｍｌ（０．１７モル） １，２−ジクロロエタン １５０ｍｌ ｔｅｒｔ．ブチルヒドロキノン ９．７２ｇ（０．０６モル） トリエチルアミン ３７ｍｌ（０．２６モル） １，２−ジクロロエタン ２００ｍｌ 収率：１７．２ｇ（理論量の４３％）白色固体として 特性表示：
ニレン−ビス−（４−ベンジルカルボナト）ベンゾエー
ト 精製：シクロヘキサン１０００ｍｌから再結晶 バッチ：ベンジルオキシ−４−ヒドロキシ安息香酸 ３５．５２ｇ （０．１３モル） 塩化チオニル １２ｍｌ（０．１７モル） １，２−ジクロロエタン １５０ｍｌ ｔｅｒｔ．ブチルヒドロキノン ９．７２ｇ（０．０６モル） トリエチルアミン ３７ｍｌ（０．２６モル） １，２−ジクロロエタン ２００ｍｌ 収率：１７．２ｇ（理論量の４３％）白色固体として 特性表示：
【０１３２】
【外１０】
【０１３３】ｄ）２−フェニル−１，４−フェニレン−
ビス−（４−ベンジルカルボナト）ベンゾエート 精製：シクロヘキサン１０００ｍｌから再結晶 バッチ：ベンジルオキシ−４−ヒドロキシ安息香酸 ２９．３ｇ （０．１１モル） 塩化チオニル １２ｍｌ（０．１７モル） １，２−ジクロロエタン １５０ｍｌ フェニルヒドロキノン ７．９１ｇ（０．０４３モル） トリエチルアミン ３１ｍｌ（０．２２モル） １，２−ジクロロエタン ２００ｍｌ 収率：１６．０ｇ（理論量の５４％）白色固体として 特性表示：
ビス−（４−ベンジルカルボナト）ベンゾエート 精製：シクロヘキサン１０００ｍｌから再結晶 バッチ：ベンジルオキシ−４−ヒドロキシ安息香酸 ２９．３ｇ （０．１１モル） 塩化チオニル １２ｍｌ（０．１７モル） １，２−ジクロロエタン １５０ｍｌ フェニルヒドロキノン ７．９１ｇ（０．０４３モル） トリエチルアミン ３１ｍｌ（０．２２モル） １，２−ジクロロエタン ２００ｍｌ 収率：１６．０ｇ（理論量の５４％）白色固体として 特性表示：
【０１３４】
【外１１】
【０１３５】ｅ）２−ｔｅｒｔ．ブチル−１，４−フェ
ニレン−ビス−（３−メトキシ−４−ベンジルカルボナ
ト）ベンゾエート 精製：ＴＨＦ溶液から氷水中に再沈殿させる バッチ：ベンジルオキシバニリン酸 １２．０４ｇ（０．０４モル） 塩化チオニル ７．３ｍｌ（０．１モル） １，２−ジクロロエタン ７０ｍｌ ｔｅｒｔ．ブチルヒドロキノン ２．６６ｇ（０．０１６モル） トリエチルアミン １１．４ｍｌ（０．０８モル） １，２−ジクロロエタン １３０ｍｌ 収率：５．９８ｇ（理論量の５１％） 特性表示：
ニレン−ビス−（３−メトキシ−４−ベンジルカルボナ
ト）ベンゾエート 精製：ＴＨＦ溶液から氷水中に再沈殿させる バッチ：ベンジルオキシバニリン酸 １２．０４ｇ（０．０４モル） 塩化チオニル ７．３ｍｌ（０．１モル） １，２−ジクロロエタン ７０ｍｌ ｔｅｒｔ．ブチルヒドロキノン ２．６６ｇ（０．０１６モル） トリエチルアミン １１．４ｍｌ（０．０８モル） １，２−ジクロロエタン １３０ｍｌ 収率：５．９８ｇ（理論量の５１％） 特性表示：
【０１３６】
【外１２】
【０１３７】ｆ）２−ｔｅｒｔ．ブチル−１，４−フェ
ニレン−ビス−（４−ヒドロキシ）ベンゾエート（２
ｄ） バッチ：２−ｔｅｒｔ．ブチル−１，４−フェニレン−ビス−（４−ベンジル カルボナト）ベンゾエート ２２．６ｇ（０．０３３モル） 活性炭上パラジウム（５％） ２．５ｇ ＴＨＦ ２００ｍｌ 収率：１２．０ｇ（理論量の８９％）白色固体として 特性表示：
ニレン−ビス−（４−ヒドロキシ）ベンゾエート（２
ｄ） バッチ：２−ｔｅｒｔ．ブチル−１，４−フェニレン−ビス−（４−ベンジル カルボナト）ベンゾエート ２２．６ｇ（０．０３３モル） 活性炭上パラジウム（５％） ２．５ｇ ＴＨＦ ２００ｍｌ 収率：１２．０ｇ（理論量の８９％）白色固体として 特性表示：
【０１３８】
【外１３】
【０１３９】分解（Ｔｏｎ）：２８８℃ ｇ）２−フェニル−１，４−フェニレン−ビス−（４−
ヒドロキシ）ベンゾエート（２ｅ） バッチ：２−フェニル−１，４−フェニレン−ビス−（４−ベンジルカルボナ ト）ベンゾエート １５．９ｇ（０．０２３モル） 活性炭上パラジウム（５％） ２．５ｇ ＴＨＦ ２００ｍｌ 収率：９．５ｇ（理論量の９６％）白色固体として 特性表示：
ヒドロキシ）ベンゾエート（２ｅ） バッチ：２−フェニル−１，４−フェニレン−ビス−（４−ベンジルカルボナ ト）ベンゾエート １５．９ｇ（０．０２３モル） 活性炭上パラジウム（５％） ２．５ｇ ＴＨＦ ２００ｍｌ 収率：９．５ｇ（理論量の９６％）白色固体として 特性表示：
【０１４０】
【外１４】
【０１４１】分解（Ｔｏｎ）：２９０℃ ｈ）２−ｔｅｒｔ．ブチル−１，４−フェニレン−ビス
−（３−メトキシ−４−ヒドロキシ）ベンゾエート（２
ｆ） 精製：イソプロパノールから水中に再沈殿させる バッチ：２−ｔｅｒｔ．ブチル−１，４−フェニレン−ビス−（３−メトキシ −４−ベンジルカルボナト）ベンゾエート １１．４５ｇ （０．０１６モル） 活性炭上パラジウム（５％） １ｇ ＴＨＦ １００ｍｌ 収率：４．７ｇ（理論量の６３％）帯黄色固体として 特性表示：
−（３−メトキシ−４−ヒドロキシ）ベンゾエート（２
ｆ） 精製：イソプロパノールから水中に再沈殿させる バッチ：２−ｔｅｒｔ．ブチル−１，４−フェニレン−ビス−（３−メトキシ −４−ベンジルカルボナト）ベンゾエート １１．４５ｇ （０．０１６モル） 活性炭上パラジウム（５％） １ｇ ＴＨＦ １００ｍｌ 収率：４．７ｇ（理論量の６３％）帯黄色固体として 特性表示：
【０１４２】
【外１５】
【０１４３】融点：１１６℃ 参考例２：架橋性スペーサー単位３，４−ジ−（６−ア
クリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸の製造
クリロイルオキシヘキシルオキシ）安息香酸の製造
【０１４４】
【化３２】
【０１４５】ａ）３，４−ジ−（６−ヒドロキシヘキシ
ルオキシ）安息香酸 ３，４−ジヒドロキシ安息香酸エチルエステル１０．９
３ｇ（０．０６モル）を、２−ブタノン２００ｍｌ中に
装入する。水酸化ナトリウム５．３ｇ（０．１３３モ
ル）、ヨウ化ナトリウム１９．９ｇ（０．１３３モル）
および６−クロロヘキサノール１７．７４ｍｌ（０．１
３３モル）の添加後、反応混合物を６０℃で２０時間撹
拌する。引き続き２−ブタノンを留去する。残留物を
０．４Ｍの水酸化ナトリウム溶液３００ｍｌにとり、ジ
エチルエーテル１００ｍｌで４回抽出する。エーテル相
を合し、回転蒸発器で濃縮する。残留物をメタノール２
００ｍｌに溶解する。４．５Ｍの水酸化カリウム溶液６
０ｍｌの添加後、反応混合物を２０時間還流下に加熱す
る。回転蒸発器で反応混合物を濃縮した後、残留物を
０．４Ｍの水酸化ナトリウム溶液２００ｍｌにとり、ジ
エチルエーテル１００ｍｌで３回洗浄する。引き続き、
水相を濃塩酸で酸性にする（ｐＨ＝１）。沈殿した生成
物を濾別し、水５００ｍｌから再結晶する。
ルオキシ）安息香酸 ３，４−ジヒドロキシ安息香酸エチルエステル１０．９
３ｇ（０．０６モル）を、２−ブタノン２００ｍｌ中に
装入する。水酸化ナトリウム５．３ｇ（０．１３３モ
ル）、ヨウ化ナトリウム１９．９ｇ（０．１３３モル）
および６−クロロヘキサノール１７．７４ｍｌ（０．１
３３モル）の添加後、反応混合物を６０℃で２０時間撹
拌する。引き続き２−ブタノンを留去する。残留物を
０．４Ｍの水酸化ナトリウム溶液３００ｍｌにとり、ジ
エチルエーテル１００ｍｌで４回抽出する。エーテル相
を合し、回転蒸発器で濃縮する。残留物をメタノール２
００ｍｌに溶解する。４．５Ｍの水酸化カリウム溶液６
０ｍｌの添加後、反応混合物を２０時間還流下に加熱す
る。回転蒸発器で反応混合物を濃縮した後、残留物を
０．４Ｍの水酸化ナトリウム溶液２００ｍｌにとり、ジ
エチルエーテル１００ｍｌで３回洗浄する。引き続き、
水相を濃塩酸で酸性にする（ｐＨ＝１）。沈殿した生成
物を濾別し、水５００ｍｌから再結晶する。
【０１４６】収率：１４．３ｇ（理論量の６７％）白色
固体として 特性表示：
固体として 特性表示：
【０１４７】
【外１６】
【０１４８】融点：１３３〜１３５℃ ｂ）３，４−ジ−（６−アクリロイルオキシヘキシルオ
キシ）安息香酸 ３，４−ジ−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）安息香
酸１３．６ｇ（０．０４モル）、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニ
リン９．６ｍｌ（０．０６モル）および安定剤として
２，６−ジ−ｔｅｒｔ．ブチルーｐ−クレゾール１００
ｍｇを１，４−ジオキサン１５０ｍｌ中に装入し、６０
℃に加熱する。６０℃でアクリル酸クロリド６．９ｍｌ
（０．０８５モル）を、反応温度が６５℃以上に上昇し
ないように徐々に滴加する。反応混合物を６０℃で２．
５時間撹拌する。溶液を室温に冷却した後、これを撹拌
しながら氷水上に注ぐ。３，４−ジ−（６−アクリロイ
ルオキシヘキシルオキシ）安息香酸の沈殿物が得られ、
これを濾別し、乾燥し、イソプロパノール３００ｍｌか
ら再結晶する。
キシ）安息香酸 ３，４−ジ−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）安息香
酸１３．６ｇ（０．０４モル）、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニ
リン９．６ｍｌ（０．０６モル）および安定剤として
２，６−ジ−ｔｅｒｔ．ブチルーｐ−クレゾール１００
ｍｇを１，４−ジオキサン１５０ｍｌ中に装入し、６０
℃に加熱する。６０℃でアクリル酸クロリド６．９ｍｌ
（０．０８５モル）を、反応温度が６５℃以上に上昇し
ないように徐々に滴加する。反応混合物を６０℃で２．
５時間撹拌する。溶液を室温に冷却した後、これを撹拌
しながら氷水上に注ぐ。３，４−ジ−（６−アクリロイ
ルオキシヘキシルオキシ）安息香酸の沈殿物が得られ、
これを濾別し、乾燥し、イソプロパノール３００ｍｌか
ら再結晶する。
【０１４９】収率：１３．１ｇ（理論量の７１％）白色
固体として 特性表示：
固体として 特性表示：
【０１５０】
【外１７】
【０１５１】融点：９０〜９２℃例１： テトラアクリレートの製造 次のテトラアクリレートを製造した：
【０１５２】
【化３３】
【０１５３】Ａ）酸塩化物を用いてテトラアクリレート
を製造するための一般的作業指示 ｉ）酸塩化物の製造 それぞれのスペーサー担持ヒドロキシ安息香酸を、塩化
メチレンに懸濁させる。氷冷下に、約８〜１０モル過剰
量の塩化オキサリルを徐々に滴加する。反応混合物を、
ガス発生がもはや観察できなくなるまで室温で撹拌す
る。澄明な溶液が得られ、この溶液から塩化メチレンお
よび未反応の塩化オキサリルを真空で留去する。残留す
る酸塩化物を、さらに精製せずにさらに反応させる。
を製造するための一般的作業指示 ｉ）酸塩化物の製造 それぞれのスペーサー担持ヒドロキシ安息香酸を、塩化
メチレンに懸濁させる。氷冷下に、約８〜１０モル過剰
量の塩化オキサリルを徐々に滴加する。反応混合物を、
ガス発生がもはや観察できなくなるまで室温で撹拌す
る。澄明な溶液が得られ、この溶液から塩化メチレンお
よび未反応の塩化オキサリルを真空で留去する。残留す
る酸塩化物を、さらに精製せずにさらに反応させる。
【０１５４】ｉｉ）酸塩化物とメソーゲンジオールとの
反応 相応するメソーゲンジオールを、トリエチルアミンおよ
び安定剤としての２，６−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−ｐ−
クレゾール（アクリレートの場合だけ）と一緒にＴＨＦ
中に装入する。酸塩化物をＴＨＦに溶解し、氷冷下に滴
加する。引き続き、混合物を室温で２４時間撹拌する。
その後、混合物を濾過し、回転蒸発器で濃縮する。残留
物をクロロホルムにとり、水で３回抽出する。引き続
き、溶剤を蒸発し去り、得られる粗生成物を真空で乾燥
し、再結晶またはカラムクロマトグラフィーにより精製
する。
反応 相応するメソーゲンジオールを、トリエチルアミンおよ
び安定剤としての２，６−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−ｐ−
クレゾール（アクリレートの場合だけ）と一緒にＴＨＦ
中に装入する。酸塩化物をＴＨＦに溶解し、氷冷下に滴
加する。引き続き、混合物を室温で２４時間撹拌する。
その後、混合物を濾過し、回転蒸発器で濃縮する。残留
物をクロロホルムにとり、水で３回抽出する。引き続
き、溶剤を蒸発し去り、得られる粗生成物を真空で乾燥
し、再結晶またはカラムクロマトグラフィーにより精製
する。
【０１５５】Ｂ）一般的作業指示により合成したテトラ
アクリレート ａ）テトラアクリレート１４ａ 精製：カラムクロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸
エチルエステル４０：１） バッチ：３，４−ジ−［６−（アクリロイルオキシヘキシルオキシ）］安息香 酸 ３．５５ｇ（７．６８・１０- ３モル） 塩化オキサリル ６ｍｌ（０．０７０モル） 塩化メチレン ４０ｍｌ １，４−フェニレン−ビス−（４−ヒドロキシ）−ベンゾエート １．２１ｇ（３．４５・１０- ３モル ） トリエチルアミン ２ｍｌ（０．０１４モル） ＴＨＦ １００ｍｌ ２，６−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−ｐ−クレゾール ５０ｍｌ 収率：１．８４ｇ（理論量の４３％）白色固体として 特性表示：
アクリレート ａ）テトラアクリレート１４ａ 精製：カラムクロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸
エチルエステル４０：１） バッチ：３，４−ジ−［６−（アクリロイルオキシヘキシルオキシ）］安息香 酸 ３．５５ｇ（７．６８・１０- ３モル） 塩化オキサリル ６ｍｌ（０．０７０モル） 塩化メチレン ４０ｍｌ １，４−フェニレン−ビス−（４−ヒドロキシ）−ベンゾエート １．２１ｇ（３．４５・１０- ３モル ） トリエチルアミン ２ｍｌ（０．０１４モル） ＴＨＦ １００ｍｌ ２，６−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−ｐ−クレゾール ５０ｍｌ 収率：１．８４ｇ（理論量の４３％）白色固体として 特性表示：
【０１５６】
【外１８】
【０１５７】熱挙動（Ｔｈｅｒｍ．Ｖｅｒｈａｌｔｅ
ｎ）：Ｃｒ １２１ Ｎ １２７ Ｉ（ＤＳＣ、第２の
加熱、加熱速度１０ｋ゜／分、硫黄２重量％）。
ｎ）：Ｃｒ １２１ Ｎ １２７ Ｉ（ＤＳＣ、第２の
加熱、加熱速度１０ｋ゜／分、硫黄２重量％）。
【０１５８】ｂ）テトラアクリレート １４ｂ 精製：カラムクロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸
エチルエステル ４０：１） バッチ：３，４−ジ−［６−（アクリロイルオキシヘキシルオキシ）］安息香 酸 ２．００ｇ（４．３２・１０- ３モル） 塩化オキサリル ３．５ｍｌ（０．０４１モル） 塩化メチレン ３０ｍｌ ２−メチル−１，４−フェニレン−ビス−（４−ヒドロキシ）−ベン ゾエート ０．７１ｇ（１．９４・１０- ３モル） トリエチルアミン １ｍｌ（０．００７モル） ＴＨＦ ８０ｍｌ ２，６−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−ｐ−クレゾール ５０ｍｇ 収率：１．６５ｇ（理論量の６８％）白色固体として 特性表示：
エチルエステル ４０：１） バッチ：３，４−ジ−［６−（アクリロイルオキシヘキシルオキシ）］安息香 酸 ２．００ｇ（４．３２・１０- ３モル） 塩化オキサリル ３．５ｍｌ（０．０４１モル） 塩化メチレン ３０ｍｌ ２−メチル−１，４−フェニレン−ビス−（４−ヒドロキシ）−ベン ゾエート ０．７１ｇ（１．９４・１０- ３モル） トリエチルアミン １ｍｌ（０．００７モル） ＴＨＦ ８０ｍｌ ２，６−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−ｐ−クレゾール ５０ｍｇ 収率：１．６５ｇ（理論量の６８％）白色固体として 特性表示：
【０１５９】
【外１９】
【０１６０】熱挙動：Ｃｒ １０７ Ｎ １２２ Ｉ
（ＤＳＣ、第２の加熱、加熱速度１０ｋ゜／分、硫黄２
重量％） ｃ）テトラアクリレート １４ｃ 精製：カラムクロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸
エチルエステル４０：１） バッチ：３，４−ジ−［６−（アクリロイルオキシヘキシルオキシ）］安息香 酸 ３．０４ｇ（６．５７・１０- ３モル） 塩化オキサリル ５ｍｌ（０．０５８モル） 塩化メチレン ４０ｍｌ ４，４′−ビフェニレン−ビス−（４−ヒドロキシ）ベンゾエート １．２６ｇ（２．９５・１０- ３モル ） トリエチルアミン １．５ｍｌ（０．０１モル） ＴＨＦ １００ｍｌ ２，６−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−ｐ−クレゾール ５０ｍｇ 収率：２．７９ｇ（理論量の７２％）白色固体として 特性表示：
（ＤＳＣ、第２の加熱、加熱速度１０ｋ゜／分、硫黄２
重量％） ｃ）テトラアクリレート １４ｃ 精製：カラムクロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸
エチルエステル４０：１） バッチ：３，４−ジ−［６−（アクリロイルオキシヘキシルオキシ）］安息香 酸 ３．０４ｇ（６．５７・１０- ３モル） 塩化オキサリル ５ｍｌ（０．０５８モル） 塩化メチレン ４０ｍｌ ４，４′−ビフェニレン−ビス−（４−ヒドロキシ）ベンゾエート １．２６ｇ（２．９５・１０- ３モル ） トリエチルアミン １．５ｍｌ（０．０１モル） ＴＨＦ １００ｍｌ ２，６−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−ｐ−クレゾール ５０ｍｇ 収率：２．７９ｇ（理論量の７２％）白色固体として 特性表示：
【０１６１】
【外２０】
【０１６２】熱挙動：Ｃｒ １２３ Ｎ １５５ Ｉ
（ＤＳＣ、第２の加熱、加熱速度１０ｋ゜／分、硫黄２
重量％） ｄ）テトラアクリレート １４ｄ 精製：カラムクロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸
エチルエステル４０：１） バッチ：３，４−ジ−［６−（アクリロイルオキシヘキシルオキシ）］安息香 酸 ３．０５ｇ（６．６０・１０- ３モル） 塩化オキサリル ５．５ｍｌ（０．０６４モル） 塩化メチレン ４０ｍｌ ２，２′−ジメチル−４，４′−ビフェニレン−ビス−（４−ヒドロ キシ）ベンゾエート １．３４ｇ（２．９５・１０- ３モル） トリエチルアミン １．５ｍｌ（０．０１モル） ＴＨＦ １００ｍｌ ２，６−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−ｐ−クレゾール ５０ｍｇ 収率：１．６６ｇ（理論量の４２％）白色固体として 特性表示：
（ＤＳＣ、第２の加熱、加熱速度１０ｋ゜／分、硫黄２
重量％） ｄ）テトラアクリレート １４ｄ 精製：カラムクロマトグラフィー（クロロホルム：酢酸
エチルエステル４０：１） バッチ：３，４−ジ−［６−（アクリロイルオキシヘキシルオキシ）］安息香 酸 ３．０５ｇ（６．６０・１０- ３モル） 塩化オキサリル ５．５ｍｌ（０．０６４モル） 塩化メチレン ４０ｍｌ ２，２′−ジメチル−４，４′−ビフェニレン−ビス−（４−ヒドロ キシ）ベンゾエート １．３４ｇ（２．９５・１０- ３モル） トリエチルアミン １．５ｍｌ（０．０１モル） ＴＨＦ １００ｍｌ ２，６−ジ−ｔｅｒｔ．ブチル−ｐ−クレゾール ５０ｍｇ 収率：１．６６ｇ（理論量の４２％）白色固体として 特性表示：
【０１６３】
【外２１】
【０１６４】熱挙動：Ｃｒ １３２ Ｎ １４３ Ｉ
（偏光顕微鏡）例２： コレステリック液晶混合物の製造 アキラルテトラアクリレート１４ｃ ９３．８５重量％
および式Ｂ
（偏光顕微鏡）例２： コレステリック液晶混合物の製造 アキラルテトラアクリレート１４ｃ ９３．８５重量％
および式Ｂ
【０１６５】
【化３４】
【０１６６】のキラル化合物６．１５重量％からなるコ
レステロール混合物２０部と光開始剤イルガキュール
（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）１８４ ３部からなる溶液を、メ
チルエチルケトン７７部に溶解する。得られる混合物
を、ＷＯ−Ａ９９／１１７３３号に記載されたように、
流延装置を用いて１５μｍのポリエチレンテレフタレー
トシート上に設け、６０℃で乾燥し、ＵＶ光線での照射
により架橋させた。乾燥層厚は２．５μｍであった。層
は、観察角度に依存する、λｍａｘ＝６１１ｎｍの色彩
を示した。
レステロール混合物２０部と光開始剤イルガキュール
（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）１８４ ３部からなる溶液を、メ
チルエチルケトン７７部に溶解する。得られる混合物
を、ＷＯ−Ａ９９／１１７３３号に記載されたように、
流延装置を用いて１５μｍのポリエチレンテレフタレー
トシート上に設け、６０℃で乾燥し、ＵＶ光線での照射
により架橋させた。乾燥層厚は２．５μｍであった。層
は、観察角度に依存する、λｍａｘ＝６１１ｎｍの色彩
を示した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｋ 19/38 Ｃ０９Ｋ 19/38 Ｇ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ 1/1335 ５０５ 1/1335 ５０５ ５１０ ５１０ (72)発明者 ペーター シューマッハー ドイツ連邦共和国 マンハイム ヴァルト パルクダム ６ (72)発明者 ノルベルト シュナイダー ドイツ連邦共和国 アルトリップ マーデ ンブルクシュトラーセ ５エフ (72)発明者 ジルケ ハレムツァ ドイツ連邦共和国 ネッカーゲミュント リングシュトラーセ 13 (72)発明者 ハンス−ヴェルナー シュミット ドイツ連邦共和国 バイロイト リストシ ュトラーセ 26 (72)発明者 ゲロルト シュミット ドイツ連邦共和国 バイロイト ドクトー ア−フランツ−シュトラーセ ８ ベー Ｆターム(参考） 2H049 BA17 BA43 BB44 BC05 BC22 2H091 FA02 FA08 FB02 4H006 AA01 AA02 AB64 AC48 BJ50 BP30 4H027 BA02 BE04 CA02 4J038 JA25 JA55 JB06 JB13 JB18 JB24 JB26 JC01 JC13 JC15 KA08 KA12 NA17
Claims (13)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中Ａ１およびＡ２は同じかまたは異なり、それぞれ
架橋性基を表し；基Ｘは同じかまたは異なり、それぞれ
単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−、
−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−
ＮＲ−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ、−ＮＲ−
ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ２−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ
を表し、ここでＲはＨまたはＣ１−Ｃ４アルキルを表
し；およびＭはメソーゲン基を表す］を特徴とする重合
性液晶化合物。 - 【請求項２】 Ａ２がそれぞれＡ１に対しオルト位に存
在することを特徴とする請求項１記載の化合物。 - 【請求項３】 Ａ１およびＡ２が互いに独立にそれぞれ
式 Ｚ−Ｘ−（Ｓｐ）ｎ ［式中Ｚは架橋性基を表し；Ｘは上記に記載した意味を
有し；Ｓｐは１〜３０個のＣ原子を有するスペーサーを
表し、その際炭素鎖は場合によりエーテル官能部中の酸
素、チオエーテル官能部中の硫黄または非隣接イミノ基
またはＣ１−Ｃ４アルキルイミノ基により中断されてお
り；およびｎは０または１を表す］の基を表すことを特
徴とする請求項１または２記載の化合物。 - 【請求項４】 Ｚが下記： 【化２】 ［式中基Ｒは互いに独立にＣ１−Ｃ４アルキルを表す］
のうちから選択されていることを特徴とする請求項３記
載の化合物。 - 【請求項５】 Ｓｐが下記： 【化３】 ［式中ｍは１〜３を表しおよびｐは１〜１２を表す］の
うちから選択されていることを特徴とする請求項３また
は４記載の化合物。 - 【請求項６】 Ｍが一般式ＩＩ： 【化４】 ［式中Ｘは上記の意味を有し、およびＱは場合により置
換アルキレンまたは場合により置換芳香族橋梁基を表
す］の基のうちから選択されていることを特徴とする請
求項１から５までのいずれか１項記載の化合物。 - 【請求項７】 芳香族橋梁基が 【化５】 およびその置換類似体のうちから選択されていることを
特徴とする請求項６記載の化合物。 - 【請求項８】 一般式ＩＩＩ 【化６】 ［式中Ａ１およびＡ２は上記に記載した意味を有しおよ
びＸ′は反応性側鎖基を表す］の化合物を一般式ＩＶ Ｘ″−Ｍ−Ｘ″ （ＩＶ） ［式中Ｍは上記に記載した意味を有し、Ｘ″は反応性側
鎖基を表す］と反応させ、その際Ｘ′およびＸ″は、そ
れらが一緒に基Ｘを構成しうるように選択されているこ
とを特徴とする請求項１記載の化合物の製造方法。 - 【請求項９】 式ＩＶ（ここでＸ″はＯＨを表す）のメ
ソ−ゲンを式ＩＩＩ（ここでＸ′は−ＣＯＯＨまたは−
ＣＯＨａｌを表し、Ｈａｌ＝Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩで
ある）の化合物と反応させることを特徴とする請求項８
記載の方法。 - 【請求項１０】 請求項１から７までのいずれか１項記
載の少なくとも１種の化合物および場合により、場合に
より架橋性のコレステリック化合物、無機顔料、着色剤
および場合により重合性希釈剤または担体を含有する、
組成物。 - 【請求項１１】 請求項１から７までのいずれか１項記
載の少なくとも１種の化合物を架橋した形で含有する、
顔料。 - 【請求項１２】 請求項１０記載の組成物または請求項
１１記載の顔料を含有する塗料。 - 【請求項１３】 殊にフィルターおよび偏光板のような
光学的素子、塗料、効果シート、化粧品および一層また
は多層のコレステリック効果顔料の製造のための請求項
１から７までのいずれか１項記載の化合物の使用。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10016524.9 | 2000-04-03 | ||
| DE10016524A DE10016524A1 (de) | 2000-04-03 | 2000-04-03 | Polymerisierbare Flüssigkristalle |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002030042A true JP2002030042A (ja) | 2002-01-29 |
Family
ID=7637430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001105108A Withdrawn JP2002030042A (ja) | 2000-04-03 | 2001-04-03 | ポリマー、液晶性化合物、その製造方法、それを含有する組成物、顔料および塗料、およびそれの使用 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6699405B2 (ja) |
| EP (1) | EP1142863B1 (ja) |
| JP (1) | JP2002030042A (ja) |
| DE (2) | DE10016524A1 (ja) |
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003321430A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性化合物、それを含有する液晶性組成物、及びその重合体 |
| JP2005501804A (ja) * | 2001-01-23 | 2005-01-20 | サウスウェスト リサーチ インスティテュート | 液晶の合成方法 |
| JP2008019240A (ja) * | 2006-06-12 | 2008-01-31 | Fujifilm Corp | 化合物、それを含有する液晶組成物、異方性材料、偏光板保護フィルム、光学補償フィルムならびに液晶表示装置 |
| JP2008528714A (ja) * | 2005-01-25 | 2008-07-31 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | メソゲン性化合物、液晶媒体および液晶ディスプレイ |
| JP2011121941A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Dic Corp | カルボン酸の製造方法及び中間体であるカルボン酸アリルエステル |
| US8895151B2 (en) | 2010-03-09 | 2014-11-25 | Zeon Corporation | Heat insulating member, heat insulating laminated glass, and heat insulating laminated glass article |
| WO2015064581A1 (ja) | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 日本ゼオン株式会社 | 複層フィルム、光学異方性積層体、円偏光板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、及び製造方法 |
| US9200201B2 (en) | 2009-10-22 | 2015-12-01 | Zeon Corporation | Heat-insulating particulate pigment and infrared-reflective coating solution |
| JP2016009079A (ja) * | 2014-06-24 | 2016-01-18 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
| US10207474B2 (en) | 2015-01-28 | 2019-02-19 | Zeon Corporation | Multilayer film, optically anisotropic layered body, circularly polarizing plate, organic electroluminescence display device, and manufacturing method |
| US10386679B2 (en) | 2015-04-21 | 2019-08-20 | Zeon Corporation | Multilayer film and method for manufacturing same, method for manufacturing optically anisotropic transfer body, optically anisotropic layer, optically anisotropic member, and optical layered body |
| US10705385B2 (en) | 2016-11-30 | 2020-07-07 | Zeon Corporation | Optical laminate, circularly polarizing plate, touch panel, and image display device |
| US10712484B2 (en) | 2015-01-30 | 2020-07-14 | Zeon Corporation | Multilayer film, use thereof, and production method thereof |
| WO2020196306A1 (ja) | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 東洋紡株式会社 | 反射防止用円偏光板およびそれを用いた画像表示装置 |
| WO2020241313A1 (ja) | 2019-05-30 | 2020-12-03 | 東洋紡株式会社 | 折りたたみ型ディスプレイ |
| WO2021079815A1 (ja) | 2019-10-23 | 2021-04-29 | 日本ゼオン株式会社 | 液晶硬化層転写シール、液晶硬化層転写物、及び液晶硬化層転写シールの真正性判定方法 |
| US11067731B2 (en) | 2015-02-26 | 2021-07-20 | Zeon Corporation | Transfer body for optical film, optical film, organic electroluminescent display device, and method for manufacturing optical film |
| US11899167B2 (en) | 2019-05-28 | 2024-02-13 | Toyobo Co., Ltd. | Polyester film, laminated film, and use thereof |
| US11926720B2 (en) | 2019-05-28 | 2024-03-12 | Toyobo Co., Ltd. | Polyester film and application therefor |
| US11934226B2 (en) | 2019-02-08 | 2024-03-19 | Toyobo Co., Ltd. | Foldable display and portable terminal device |
| US11939499B2 (en) | 2019-05-28 | 2024-03-26 | Toyobo Co., Ltd. | Multilayer film and use of same |
| US11997916B2 (en) | 2019-02-08 | 2024-05-28 | Toyobo Co., Ltd. | Polyester film and use thereof |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6194481B1 (en) | 1999-05-19 | 2001-02-27 | Board Of Regents Of The University Of Texas System | Mechanically strong and transparent or translucent composites made using zirconium oxide nanoparticles |
| GB9930557D0 (en) * | 1999-12-23 | 2000-02-16 | Rolic Ag | Optically active materials |
| US7147800B2 (en) | 2001-01-23 | 2006-12-12 | Southwest Research Institute | Selective ether cleavage synthesis of liquid crystals |
| US20040199004A1 (en) * | 2001-01-23 | 2004-10-07 | Southwest Research Institute | Novel mesogens |
| DE60235748D1 (de) | 2001-01-23 | 2010-05-06 | Southwest Res Inst | Neue verfahren und mischungen zum einstellen des rheologischen verhaltens und der übergangstemperatur von flüssigkristallen |
| CA2439266A1 (en) | 2001-03-07 | 2002-09-12 | University Of Texas System | Ultra-low shrinkage composite resins based on blended nematic liquid crystal monomers |
| US7098359B2 (en) * | 2001-07-09 | 2006-08-29 | Southwest Research Institute | Mesogens and methods for their synthesis and use |
| TWI388905B (zh) * | 2009-03-17 | 2013-03-11 | Au Optronics Corp | 液晶顯示面板及其製造方法 |
| US8257639B2 (en) * | 2009-09-22 | 2012-09-04 | Kent State University | Method of making stimuli responsive liquid crystal-polymer composite fibers |
| CN101845005B (zh) * | 2010-06-18 | 2014-08-20 | 中科院广州化学有限公司 | 侧链取代芳酯二酚及制备方法和液晶环氧单体的制备方法 |
| US8846723B2 (en) | 2010-07-29 | 2014-09-30 | Eastman Chemical Company | Esters of O-substituted hydroxy carboxylic acids and preparations thereof |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4240743A1 (de) | 1992-12-03 | 1994-06-09 | Consortium Elektrochem Ind | Pigmente mit vom Betrachtungswinkel abhängiger Farbigkeit, ihre Herstellung und Verwendung |
| LU88404A1 (de) * | 1993-09-08 | 1995-04-05 | Europ Communities | Tris-(cyanato)-s-triazine, damit erhaeltliche anisotrope duroplastische Netzwerke sowie ein Verfahren zur Herstellung derselben |
| US5458929A (en) * | 1994-02-15 | 1995-10-17 | The Dow Chemical Company | Cure controlled catalyzed mixtures of epoxy resins and curing agents containing mesogenic moieties, B-staged and cured products therefrom |
| US5567349A (en) * | 1994-03-30 | 1996-10-22 | Hoffmann-La Roche Inc. | Photo cross-linkable liquid crystals |
| DE59605843D1 (de) * | 1995-07-28 | 2000-10-12 | Rolic Ag Zug | Photovernetzbare flüssigkristalline 1,2-Phenylen-Derivate |
| DE19602848A1 (de) | 1996-01-26 | 1997-07-31 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Pigmenten |
| DE69820612T2 (de) * | 1997-05-22 | 2004-10-14 | Rolic Ag | Neue polymerisierbare flüssigkristalline verbindungen |
| EP1273646A1 (de) | 1997-09-02 | 2003-01-08 | Basf Aktiengesellschaft | Cholesterische Effektschichten und Verfahren zu deren Herstellung |
-
2000
- 2000-04-03 DE DE10016524A patent/DE10016524A1/de not_active Withdrawn
-
2001
- 2001-04-02 EP EP01108302A patent/EP1142863B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-04-02 DE DE50112776T patent/DE50112776D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2001-04-03 US US09/824,022 patent/US6699405B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-04-03 JP JP2001105108A patent/JP2002030042A/ja not_active Withdrawn
-
2003
- 2003-10-06 US US10/678,111 patent/US6793986B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005501804A (ja) * | 2001-01-23 | 2005-01-20 | サウスウェスト リサーチ インスティテュート | 液晶の合成方法 |
| JP2010111701A (ja) * | 2001-01-23 | 2010-05-20 | Southwest Research Inst | 液晶の合成方法 |
| JP2003321430A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性化合物、それを含有する液晶性組成物、及びその重合体 |
| JP2008528714A (ja) * | 2005-01-25 | 2008-07-31 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | メソゲン性化合物、液晶媒体および液晶ディスプレイ |
| JP2008019240A (ja) * | 2006-06-12 | 2008-01-31 | Fujifilm Corp | 化合物、それを含有する液晶組成物、異方性材料、偏光板保護フィルム、光学補償フィルムならびに液晶表示装置 |
| US9200201B2 (en) | 2009-10-22 | 2015-12-01 | Zeon Corporation | Heat-insulating particulate pigment and infrared-reflective coating solution |
| JP2011121941A (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-23 | Dic Corp | カルボン酸の製造方法及び中間体であるカルボン酸アリルエステル |
| US8895151B2 (en) | 2010-03-09 | 2014-11-25 | Zeon Corporation | Heat insulating member, heat insulating laminated glass, and heat insulating laminated glass article |
| WO2015064581A1 (ja) | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 日本ゼオン株式会社 | 複層フィルム、光学異方性積層体、円偏光板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、及び製造方法 |
| US10895783B2 (en) | 2013-10-28 | 2021-01-19 | Zeon Corporation | Method for manufacturing a multilayer film comprising a step of directly applying a liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound onto a surface of a fed-out first substrate |
| JP2016009079A (ja) * | 2014-06-24 | 2016-01-18 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
| US10207474B2 (en) | 2015-01-28 | 2019-02-19 | Zeon Corporation | Multilayer film, optically anisotropic layered body, circularly polarizing plate, organic electroluminescence display device, and manufacturing method |
| US10712484B2 (en) | 2015-01-30 | 2020-07-14 | Zeon Corporation | Multilayer film, use thereof, and production method thereof |
| US11067731B2 (en) | 2015-02-26 | 2021-07-20 | Zeon Corporation | Transfer body for optical film, optical film, organic electroluminescent display device, and method for manufacturing optical film |
| US10386679B2 (en) | 2015-04-21 | 2019-08-20 | Zeon Corporation | Multilayer film and method for manufacturing same, method for manufacturing optically anisotropic transfer body, optically anisotropic layer, optically anisotropic member, and optical layered body |
| US10705385B2 (en) | 2016-11-30 | 2020-07-07 | Zeon Corporation | Optical laminate, circularly polarizing plate, touch panel, and image display device |
| US11934226B2 (en) | 2019-02-08 | 2024-03-19 | Toyobo Co., Ltd. | Foldable display and portable terminal device |
| US11997916B2 (en) | 2019-02-08 | 2024-05-28 | Toyobo Co., Ltd. | Polyester film and use thereof |
| WO2020196306A1 (ja) | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 東洋紡株式会社 | 反射防止用円偏光板およびそれを用いた画像表示装置 |
| US11899167B2 (en) | 2019-05-28 | 2024-02-13 | Toyobo Co., Ltd. | Polyester film, laminated film, and use thereof |
| US11926720B2 (en) | 2019-05-28 | 2024-03-12 | Toyobo Co., Ltd. | Polyester film and application therefor |
| US11939499B2 (en) | 2019-05-28 | 2024-03-26 | Toyobo Co., Ltd. | Multilayer film and use of same |
| WO2020241313A1 (ja) | 2019-05-30 | 2020-12-03 | 東洋紡株式会社 | 折りたたみ型ディスプレイ |
| WO2021079815A1 (ja) | 2019-10-23 | 2021-04-29 | 日本ゼオン株式会社 | 液晶硬化層転写シール、液晶硬化層転写物、及び液晶硬化層転写シールの真正性判定方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6699405B2 (en) | 2004-03-02 |
| US6793986B2 (en) | 2004-09-21 |
| US20020036285A1 (en) | 2002-03-28 |
| DE10016524A1 (de) | 2001-10-04 |
| EP1142863A2 (de) | 2001-10-10 |
| EP1142863B1 (de) | 2007-08-01 |
| EP1142863A3 (de) | 2002-06-12 |
| DE50112776D1 (de) | 2007-09-13 |
| US20040075080A1 (en) | 2004-04-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002030042A (ja) | ポリマー、液晶性化合物、その製造方法、それを含有する組成物、顔料および塗料、およびそれの使用 | |
| JP3581634B2 (ja) | キラル相を有する架橋性液晶物質からなる混合物、ｌｃフィルムまたはｌｃ顔料、ｌｃフィルムまたはｌｃ顔料の製造方法およびこれらを含有する塗料 | |
| EP2001974B1 (en) | Liquid crystal compositions, polymer networks derived therefrom and process for making the same | |
| JP4058481B2 (ja) | 重合性液晶化合物および光学フィルム | |
| JP2001521538A (ja) | 重合可能な液晶化合物の製法 | |
| KR100426296B1 (ko) | 신규중합성액정화합물 | |
| TWI465552B (zh) | A polymerizable liquid crystal compound, a polymerizable liquid crystal composition, a liquid crystalline polymer, and an optical anisotropy | |
| JP4063873B2 (ja) | 重合可能な液晶化合物 | |
| US6335462B1 (en) | Polymerizable oligomesogenes | |
| KR20080108581A (ko) | 키랄 디올 화합물, 액정 조성물 및 이로부터 유도된 중합체네트워크 | |
| JP5168976B2 (ja) | ビフェニル及びテルフェニル化合物、該化合物を含有する重合性液晶組成物 | |
| TWI450902B (zh) | 聚合性對掌性化合物、聚合性液晶組成物、液晶性高分子以及光學各向異性體 | |
| TWI526457B (zh) | 在末端環結構具有側面取代基之聚合性化合物 | |
| JP4058480B2 (ja) | 液晶性（メタ）アクリレート化合物、該化合物を含有する液晶組成物およびこれらを用いた光学フィルム | |
| JPH11116538A (ja) | 液晶化合物、その混合物および組成物、製品の印刷法、被覆製品、印刷製品および塗布製品の製造法、化合物、混合物および組成物の使用、液晶着色剤、水性乳濁液および水性分散液、ならびに顔料 | |
| KR20100057034A (ko) | 키랄 화합물, 액정 조성물 및 이로부터 유도된 중합체 네트워크 | |
| EP2179007B1 (en) | Alkaloid monomers, liquid crystal compositions and polymer networks derived therefrom | |
| CN102731312A (zh) | 聚合性化合物、聚合性组合物及光学各向异性体 | |
| JP2009084178A (ja) | 重合性キラル化合物 | |
| EP0887399B1 (de) | Organosiloxane mit niedriger Glastemperatur | |
| CN102791749B (zh) | 聚合性手性化合物、聚合性液晶组合物、液晶性高分子及光学各向导性体 | |
| Mihara et al. | Synthesis and thermal properties of new chalcone-based side-chain polymers | |
| KR20150105610A (ko) | 비대칭성 이관능기를 갖는 굽은핵 반응성 메소젠 및 이의 제조방법 | |
| JP3832301B2 (ja) | 液晶性フマル酸ジエステルおよびその高分子体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080104 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20100406 |