JP2001523358A - 熱放射線を反射する積層体を具備した透明基材 - Google Patents

熱放射線を反射する積層体を具備した透明基材

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Abstract

(57)【要約】 本発明は透明基材のための、熱放射線を反射する積層体に関する。この積層体は、少なくとも銀の機能層と、その2つの面の1又は複数の金属化合物によって作られた非反射層とを有する。銀層の下のこの非反射層は、銀層に隣接する酸化亜鉛の上部部分層と、内部引っ張り応力条件にあり、窒化アルミニウムで作られ、且つ酸化亜鉛層の下にある追加の部分層とを含む。引っ張り応力条件にあるAIN層によって、ZnO層内の内部圧縮応力を補償することができる。

Description

【発明の詳細な説明】 熱放射線を反射する積層体を具備した透明基材 本発明は、透明基材のために少なくとも部分的に、赤外線、及び特に熱放射線 を反射する積層体に関する。ここでこの積層体は、少なくとも1つの「機能」層 とこの銀層の両側に配置された「非反射」層とを具備している。 本発明においては、「機能層」は積層体中において、赤外線及び/又は太陽放 射線を反射する性質を有し、且つ一般に金属、特にAgのような貴金属(適切な 場合、少量成分、例えば低い割合のもう1つの金属も含有している)に基づいて いる1又は複数の層を示すことを意図している。なぜならば、銀の層は赤外範囲 において高い反射率を有し、且つそれらの太陽光線に耐える能力と低い放射性を 利用することができるからである。 本発明の範囲において、「非反射層」という用語は、光反射率を低下させるた めに積層体の光学的な外観を調節する機能を特に持ち、且つ一般に金属化合物の ような誘電体、例えば金属酸化物に基づく、層又は一連の積層を示すことを意図 する。 ここで本発明は、適切である場合はn回(n−1、2、3…)繰り返してもよ い順序の積層体(非反射層/機能層/非反射層)のタイプに関する。機能層の付 着を促進し及ひ/又は保護することを意図する薄層、一般に金属層を、非反射層 と機能層との間の界面に配置することもできることに注意すべきである。これら が機能層に接している場合、及び酸素の存在下での反応性スパッタリングによる 酸素に基づく層の堆積の後で少なくとも部分的にそれらが酸化する場合、これら は「犠牲層」という用語で呼ばれることもある。 本発明は特に、銀に基づく機能層の下に配置された非反射層が、酸化亜鉛で作 られ銀層と直接に接触している上側部分層と、下側に配置された追加の部分層と を具備しているこのタイプの積層体の変体に関する。 このタイプの積層体は、ドイツ特許第3941027(Al)号明細書で知ら れている。この積層体において、「下側」非反射層の一部を作る酸化亜鉛層の下 に配置された部分層は、酸化スズ、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ビス マス、又はこれらの酸化物の2又はそれ以上の混合物からなる群より選択される 金属酸化物からなる。酸化亜鉛層の厚さは、15nmを超えることはできない。 この酸化亜鉛層は、腐食に対して銀層の安定性をかなり改良する。このことはお そらく、特に、ZnO層上において銀層は整然と且つ欠陥がない様式で成長する という事実に起因する。 機能層としての銀とこの銀層のすぐ下に配置された酸化亜鉛層とを含む複数の 層を伴う積層体は、ヨーロッパ特許第0464789(B1)号及び同第069 8585(A1)号明細書からも知られる。これらの特許明細書で開示される積 層体では、下側非反射層は完全に酸化亜鉛からなるか、又はZnOとSnO2の 複数の交互の部分層からなる。 酸化亜鉛層は、銀層の下側層として銀層とその性質にかなり有利な影響を与え る。しかしながらそれらには、従来のスパッタリング条件においてZnO層にか なりの内部圧縮応力が発生するという欠点がある。ZnO層におけるこれらの内 部圧縮応力は、積層体に好ましくない影響を与えることがある。特に、ヨーロッ パ特許第0464789(B1)号明細書において詳細に説明されるように、酸 化亜鉛層は、内部圧縮応力の効果によって銀層から剥離することがある。 積層体をポリマーに基づく薄い支持フィルム、特に有機物のもの、例えばポリ (エチレンテレフタレート)(PET)の薄いフィルムに適用する場合に、内部 応力を有する積層体は特に好ましくない。一般に、これらのPETフィルムの厚 さは30〜50μm程度である。この様にコーティングされたPETフィルムは 、例えば、特に熱反射性を持つ積層窓ガラスの製造において使用されることが多 くなってきている。このPETフィルムは、熱可塑性樹脂ポリマーに基づく2つ の付着フィルムの助けを得て、シリカ−ソーダーライムタイプの2つのガラス板 の間に挟んで配置する。この付着フィルムの例は、ポリビニルブチラール(PV B)である。銀層の下にZnO層を具備した積層体でコーティングされたフィル ム、例えばPETは、積層体の内部圧縮応力の影響によって丸まり、それによっ て、それらの取り扱い及び処理が難しくなることが見出されている。 本発明の目的は、銀層のすぐ下に特にZnOの層を有し、且つPETタイプの ポリマーフィルム上に堆積させたときに上述の欠点を示さない、すなわち層をコ ーティングした後で丸まる傾向がない上述の種類の積層体を開発することである 。特に本発明は、積層体の内部応力を低下させる/最小の程度まで減少させる又 は完全になくすための配置を含む。 本発明の好ましい層の系は、透明基材のために熱放射線を反射する積層体であ って、銀でできた少なくとも1つの機能層と、この銀の層の両側に配置され、1 又は複数の金属化合物によって作られた非反射層とを有する積層体として定義さ れる。ここで、銀層の下に配置された非反射層は、銀層に直接接触する酸化亜鉛 でできた上側部分層と、下側に配置された追加の部分層とを有する。この積層体 は、酸化亜鉛層の下側に配置され且つ「下側」非反射層に属する追 加部分層が、内部引っ張り応力条件下にある窒化アルミニウムに基づく層である という事実によって識別することができる。 好ましくは積層体は、窒化アルミニウムの内部圧縮応力の強度を、コーティン グ条件を調節することによって、酸化亜鉛層の内部圧縮の強度にほぼ相当するよ うにし、それによって、隣接している2つの部分層の引っ張り応力と圧縮応力が 少なくとも大まかに釣り合うようにするようなものである。 好ましくは積層体は、酸化亜鉛層の厚さが15nm未満、好ましくは12nm 未満、また、有利には少なくとも5〜8nmであるようなものである。 本発明の積層体の1つの態様では、本発明の積層体は、追加の非反射層によっ て互いに分離されている銀でできた2つの機能層を有する。また、この追加の非 反射層は2つの部分層、すなわち、酸化亜鉛で作られ、内部圧縮応力条件下にあ り、且つ上側の銀層に直接に接触している層、及び窒化アルミニウムによって作 られ、内部引っ張り応力条件下にあり、且つ下側の銀層に隣接している部分層を 有している。 本発明の積層体の1つの例は、以下の構造によって特徴付けることができる。 基材/AlN/ZnO/Ag/Ti/TiO2 もう一つの例は以下の構造によって特徴付けることができる。 基材/AlN/ZnO/Ag/AlN また、もう一つの例は以下の構造によって特徴付けることができる。 基材/AlN/ZnO/Ag/AlN/ZnO/Ag/AlN 本発明は、特に、金属アルミニウムカソードからの反応性スパッタリングによ って形成されるAlNに基づく層のコーティングパラ メータを、積層体の形成後にコーティングされたフィルムに積層体の内部応力に よってもたらされる実質的ないかなる湾曲もないように選択するよう、そのよう な積層体を薄いポリマー、特にPETのフィルムをコーティングするために使用 することにも関する。 本発明の利点は、AlN層のスパッタリングの間に、スパッタリング条件のパ ラメータを選択することによって、例えば作業ガスのAr:N2比を変更するこ とによって、幅広い範囲でAlN層内部の機械的応力を変更できるという事実で ある。例えば、Z.Vakuumの論文「Stress tuning in AlN thin films」、der Praxis(1991)、No. 2、p.142〜147によって開示されているように、1:3〜3:1の範囲 で変更されるAr:N2比に依存して、比較的大きい内部圧縮応力と比較的大き い内部引っ張り応力の両方を、AlN層自身において観察されるAr:N比を実 質的に変えないで得ることができる。内部応力はむしろAlN層の微細構造によ ってのみ説明される。ここで、AlN結晶を低い堆積密度にするようにスパッタ リング条件を選択すると、内部引っ張り応力が層内で発生する。 本発明の一連の層を製造するために最適な条件は、それぞれの特定の場合にお ける試行錯誤によって、実験的に決定することができる。例えば、所望の膜厚さ のAlN層とZnO層は、薄い基材、例えば薄いPETフィルムへのスパッタリ ングによって(好ましくは磁場による補助を得て)連続的に堆積させることがで きる。この一連の層内の得られる内部応力の符号に依存して、コーティングされ たフィルムはいづれかの方向に湾曲し且つ丸まる。AlN層のスパッタリング条 件は、PETシートがコーティングの形成の後で有意の変形をもはや示さなくな るまで、観察される結果に基づいて意図的に変更する。この様にして見出された スパッタリング条件は、製 造条件において積層体を形成するためのパラメータとして使用する。 本発明の層構造は、全ての基材でその用途を見出すことができ且つ有利である ことができる。しかしながら、本発明の層構造は薄いポリマーフィルムのコーテ ィングのために特に有利である。これは、本発明を実施すると、このようにコー ティングされたフィルムが丸まることを防ぎ、それによってそれらを扱いやすく することができるためである。PETフィルムは、製造工程によって与えられ熱 的に安定化される固有の応力を持つことが多い。温度及び/又はフィルムの可塑 性変形の影響で、スパッタリング操作の間に、元来存在する内部応力を変更する こと又は新しい内部応力をもたらすことが同様に可能である。AlN層のための 最適なスパッタリング条件を決定するときに、フィルムのこれらの固有の応力も 考慮に入れ、それによって積層体自体に残留内部応力がないのではなく、コーテ ィングされたフィルム全体に残留内部応力がないようにするべきであることが、 これらの場合において明らかである。 より一般的には、本発明は以下のようにして定義することもできる。本発明は 、誘電体に基づく2つの非反射層の間に配置された赤外線を反射する性質を持つ 少なくとも1つの金属、例えばAgの機能層を含む薄い積層体を具備した透明基 材、より特に可撓性ポリマーフィルムの形の透明基材、例えばPETにも関する 。ここで、「機能」層及び「非反射」層の意味は上述のようなものであることを 意図している。機能層と基材の間に配置される「下側」非反射層は、応力レベル を釣り合わせた(緩和した)改質AlNに基づく単層、又は応力レベルを相互に 少なくとも部分的に補償/打ち消し、金属酸化物層が上部に存在し、少なくとも 1つのAlN層を含む一連の積層のいずれかである。 この様に上述の変体、すなわち、ZnO層の圧縮応力レベルをAlN層の引っ 張り応力レベルが完全ではないにしろおおよそ補償するAlN/ZnOタイプの 非反射層が見出される。2層の変体と同じ結果を達成するために、非反射層がA lNのみを有し、且つこの場合にこの層が実質的にいかなる種類の応力も持たな い変体も提供される。「2層」の変型には、銀層の良い濡れのために好ましいこ とが知られているZnOのような酸化物層を維持するという利点がある。この部 分のための「単層」の変型は、積層体が比較的単純であり、製造に比較的時間が かからず、且つ層が比較的少ないことが有利である。 下側非反射層で使用するAlNに基づく層は、特に、他の少量の金属、特に亜 鉛を例えば、アルミニウムに対して0.1〜10原子%の割合で有していてもよ い。 好ましくは、下側非反射層の酸化物層、例えばZnOは機能層に隣接している 。それらの間に、薄い金属層、例えばチタン、NiCrのようなニッケル合金、 及びニオブ等の層を配置することもできる。この積層体は1つの機能層又はn個 の機能層(n≧2)を持つこともできる。この配置において「中間」非反射層は 、n=2の場合は2つの機能層の間に提供し、又はn>2の場合は2つの連続す る機能層の間に提供すべきである。 この「中間」非反射層又はそれらのうちの少なくとも1つは、「下側」非反射 層のように、応力レベルが釣り合うように(緩和するように)改質されたAlN に基づく単層、又は頂部に金属酸化物層、例えばZnO層が存在し、応力レベル を少なくとも部分的に相互に補償し/打ち消し、少なくとも1つのAlNに基づ く層を含む一連の積層を含んでいてよい。 有利には、機能層(又はそれらが複数ある場合はそれらの少なく とも1つ)は、その上部に薄い犠牲金属層、例えばNb、Ti又はNiCrの層 を持つ。酸化条件下でのスパッタリングによって酸化物で作られた誘電体層上で 堆積を行う場合、これは特に重要である。 有利には、「中間」及び/又は「上側」非反射層(「上側」は、積層体を「終 わらせる」層に対応する)は、SnO2、Ta25、TiO2、Nb25、ZrO2 、TiO2からなる群より選択される少なくとも1つの金属酸化物に基づく層、 及び/又は窒化物、例えばAlN及びSi34に基づく層を含む。 本発明は、AlNに基づく層との組み合わせが大部分を補償すること及び釣り 合わせることを可能する所定の応力レベル(引っ張り又は圧縮)を持つ他の酸化 物(SiO2、WO3等)によって、ZnOを置き換える多層下側非反射コーティ ングにも適用される。 本発明は、任意の硬質透明基材、例えば、ガラス、PMMA(ポリメチルメタ クリレート)のようなある種のポリカーボネートに適用することができ、特に、 可撓性ポリマー、例えばPET、ある種のポリエステル等のフィルムの形の基材 に適用することができる。本発明は、このタイプの可撓性ポリマーフィルムに、 層を堆積させた後で、どのような「意図しない」曲率半径も本質的にないように するのを可能にする。 本発明は、太陽光に耐える機能又は低放射性の機能の積層ウインドーの製造の ためのコーティングされたフィルムの使用、及びそのようにして得られた積層ウ インドーに関する。 また本発明は、可撓性ポリマータイプの基材上にスパッタリングによりコーテ ィングを製造するための方法にも関する。本発明の着想は、反応性スパッタリン グによって下側非反射層の構成層を堆積させるためのパラメータを変え、それに よって、内部応力に起因す るフィルムの湾曲を実質的に誘発しないようにするために、前記層全体の応力レ ベルを最小化又は打ち消すことである。これを行うために、特に2つのパラメー タ、すなわち、堆積を行う雰囲気の全圧、及び反応雰囲気中における不活性ガス (Ar)と反応性ガス(O2又はN2)の量の比を適切な様式で調節することがで きる。 PETポリマーフィルムに堆積させた本発明の積層体の例を、以下でより詳細 に説明する。 例1 熱放射線を反射する積層体であって、 基材/AlN/ZnO/Ag/Ti/TiO2 の一連の連続層を含む積層体を、Hoechst社の厚さ50μmのPETフィ ルムに、磁場促進反応性スパッタリング法を使用して適用する。 2つのAlN/ZnO部分層から作られる下側非反射層のための最適なスパッ タリング条件を決定するために、30×30cmの大きさのPETフィルム被検 物を、30nmのAINと10nmのZnOの2つの部分層で、Leybold 社の試験用スパッタリング装置において初めに連続してコーティングした。この スパッタリングは、DCプレーンスパッタリング法によって行う。コーティング を形成した後で、コーティングされたフィルムの内部応力を定量的に評価する手 段として、コーティングの形成後にフィルムにもたらされる曲率半径の測定を行 って、フィルムの変形を評価した。コーティングされたフィルムをコーティング 装置から取り出した後で、このフィルムがもやは湾曲しておらず平らな形状を維 持している場合、層構造は好ましいと考えられる。 複数回の試行錯誤を行うと、Ar:N2の比が2.5:1のアル ゴン/窒素作業ガス混合物中における純粋なアルミニウムターゲットの反応性ス パッタリングによってAlN層を適用し、一方でAr:O2の比が1:1のアル ゴンガスと酸素ガスとの混合物中における金属亜鉛ターゲットの反応性スパッタ リングによってZnO層を形成する場合に、最適なコーティング条件が達成され ることが見出される。これらの条件下においては、この2つの層によってコーテ ィングされたフィルム被検物は変形を全く起こさない。すなわち、追加によって コーティングされたフィルムの様々な層における内部応力が打ち消されている。 下側の非反射層のためにこの方法によってスパッタリング条件を決定した後で 、以下の層構造と以下の層厚さを持つ複数の層の系を、同じコーティング装置に おいて、厚さ50μmのPETフィルムに適用した。ここで、層の厚さはnm単 位で示している。 基材−30 AlN−10 Ag−1 Ti−30 TiO2 DCプレーンスパッタリング法を使用してAr:N2の比が2.25:1のA r:N2雰囲気中において、Alターゲットを再びスパッタリングし、また、D Cプレーンスパッタリング法を使用してAr:O2の比が1:1のAr:O2雰囲 気中でZnターゲットをスパッタリングした。続く層もDCプレーンスパッタリ ング法によって堆積させ、Ag及びTiスパッタリングのための作業ガスは純粋 なアルゴンによって作られ、TiO2層の反応性スパッタリングのための作業ガ スは、Ar:O2比が1.4:1のAr:O2混合物からなっている。 コーティングされたフィルムを使用して積層ウインドーを製造した。これは、 厚さ0.38mmの2枚のポリビニルブチラルシートを使用して、既知の様式で 加熱及び加圧を行い、それぞれの厚さが2.1mmの2枚のフロートガラス板と コーティングされたPET シートを組み立てることによって製造した。積層ガラスにした後でも、コーティ ングされたPETシートは、傷又は表面の変形のような欠陥を全く示さず、また 、更にこの積層ウインドーの外観は優れている。 従来の測定方法を使用して決定される光学的な性質は、光学透過率、光学反射 率及び色の中立性に関する要求に対応している。 試験を行って、積層体の耐腐食性を決定した。ここで、ANSI標準Z26. 1、試験No.3による湿式試験、及びDIN標準50021による塩噴霧試験 は共に良い結果を与える。 例2 下側の層構造を持つ複数の層の積層体を、厚さ50μmのPETフィルムに堆 積させた。ここで、様々な層の厚さは再びnm単位で示している。 基材−30 AlN−10 ZnO−10 Ag−82 AlN−10 ZnO−10 Ag−40 AlN 適用するスパッタリング方法及び作業ガスに関して、様々な層のためのスパッ タリング条件は、例1で示す条件に対応している。2つの銀の層のそれぞれに薄 い犠牲金属層を適用することは必要ではない。これは、続くそれぞれのAlN層 のための作業ガスが、完全に酸素を含んでいないためである。 積層ガラスにおける積層体の有用性及び性質を評価するために、コーティング されたフィルムを再び、十分な熱及び圧力を適用することによって、それぞれの 厚さが0.38mmの2枚のポリビニルブチラルシート、及びそれぞれの厚さが 2.1mmの2枚のフロートガラス板で組み立てた。得られた積層ウインドーに 試験を行った。 ウインドーの光学的な条件を判断すると、積層ウインドーにおける積層体の外 観は非常によい。すなわち、コーティングされたフィルムにおいて傷又は変形は 見出せない。 従来の測定方法を使用して決定されるコーティングされたウインドーの光学的 な性質は、可視スペクトル範囲の光学透過率及び光学反射率、全エネルギー透過 率及びシェードの中立性に関して、積層ウインドー、例えば自動車の風防ガラス で使用するために有効な要求に一致している。 積層ウインドーにおける積層体の耐腐食性を評価するために、以下の試験を行 った。 →ANSI標準Z26.1(試験No.3)による湿式試験。この試験において は、相対湿度が100%の雰囲気において被検物を14日間にわたって40℃の 温度にさらす。わずかな腐食又は剥離も観察されなかった。 DIN標準50021に相当する塩噴霧試験によって、被検物を10日間にわ たって噴霧ミストにさらした。いくらかの微量の腐食が被検物の輪郭部において 観察されたが、剥離は観察されなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フーン,ノルベルト ドイツ連邦共和国,デー―52134 ヘルツ ォーゲンラート,グレンツシュトラーセ 27 (72)発明者 フィッシャー,クラウス ドイツ連邦共和国,デー―52477 アルス ドルフ,アドルフ コルピンク シュトラ ーセ 10 (72)発明者 モーレル,マルク ベルギー国,ベー―4800 ベルビエール, リュ レオン デ バティス,7

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.赤外範囲に反射する性質を持つ少なくとも1つの金属機能層、例えばAg の層であって、誘電体に基づく2つの「非反射」層の間に配置された層を含む薄 膜積層体を具備した透明基材、特に可撓性ポリマーフィルムの形の透明基材であ って、 前記機能層と前記基材との間に配置された「下側」非反射層が、応力レベルを 釣り合わせた改質AlNに基づく単層、又は応力レベルを少なくとも部分的に相 互に補償/打ち消し、上部に金属酸化物層が存在し、少なくとも1つのAlN層 を含む積層であることを特徴とする透明基材。 2.前記「下側」非反射層がAlN層を含み、また、これが少なくとも1つの 他の少量の金属、特に亜鉛を、好ましくはアルミニウムに対して0.1〜10原 子%の割合で含むことを特徴とする請求項1に記載の基材。 3.前記非反射層が、AlNに基づく層/酸化亜鉛に基づく層の順序を持ち、 第1のものが所定の引っ張り応力レベルを持ち、第2のものが所定の圧縮応力レ ベルを持つことを特徴とする請求項1又は2に記載の基材。 4.前記「下側」非反射層の酸化物層、特にZnOに基づく層が、前記機能層 と隣接していることを特徴とする請求項1〜3のうちの1項に記載の基材。 5.薄い金属層、特に例えばチタン又はNi合金、一例としてはNiCr合金 、又はニオブを、前記「下側」非反射層と前記機能層との間に配置することを特 徴とする請求項1〜3のうちの1項に記載の基材。 6.前記積層体が少なくとも2つの機能層、例えばAg層を含み 、前記2つの機能層の間又は2つの引き続く機能層の間に「中間」非反射層を伴 うことを特徴とする請求項1〜5のうちの1項に記載の基材。 7.前記「中間」非反射層又はそれらのうちの少なくとも1つが、応力レベル を釣り合わせるように改質したAlNに基づく単層を含むこと、又は応力レベル を相互に少なくとも部分的に打ち消し、金属酸化物層、例えばZnO層が上部に あり、少なくとも1つのAlNに基づく層を含む積層であることを特徴とする請 求項6に記載の基材。 8.前記機能層又はそれらのうちの少なくとも1つが、その上部に薄い犠牲金 属層、特に例えばNb、Ti、又はNiCrの層を持つことを特徴とする請求項 1〜7のうちの1項に記載の基材。 9.前記「中間」及び/又は「上側」非反射層が、SnO2、Ta25、Nb2 5、ZnO、TiO2から選択される金属酸化物に基づく層、又は窒化物、例え ばAlN及びSi34に基づく層を含むことを特徴とする請求項1〜8のうちの 1項に記載の基材。 10.意図しない曲率半径が本質的に存在しないことを特徴とする請求項1〜 9のうちの1項に記載のコーティングされたPET等のポリマーフィルム。 11.太陽光に耐性がある又は低放射率の機能積層ウインドーを製造するため の請求項10に記載のフィルムの使用。 12.請求項10に記載のポリマーフィルムを組み込んだことを特徴とする積 層ウインドー。 13.前記「下側」非反射層の一又は複数の層を堆積させる条件を変えて、積 層体の層を堆積させるためにスパッタリング技術を使用し、それによって、内部 応力に起因する前記フィルムの湾曲を実 質的にもたらさないようにして、前記「下側」非反射層の残留応力レベルを最小 化することを特徴とする請求項1〜10のうちのいづれか1項に記載の可撓性ポ リマーフィルムの形のコーティングされた基材の製造方法。 14.銀によって作られた少なくとも1つの機能層と、1又は複数の金属化合 物によって作られ且つ前記銀層の両側に配置された非反射層とを含む積層体であ り、前記銀層の下に配置された前記非反射層が、前記銀層に直接に接触する酸化 亜鉛によって作られた上側部分層と下側に配置された追加の部分層とを含む、透 明基材のための熱放射線を反射する積層体であって、前記酸化亜鉛層の下に配置 され且つ「下側」非反射層に属する前記追加の部分層が、内部引っ張り応力を持 つ窒化アルミニウムに基づく層であるという事実によって識別されることを特徴 とする積層体。 15.コーティングのパラメータを調節することによって、前記窒化アルミニ ウム層の内部圧縮応力の強度を、前記酸化亜鉛層の内部圧縮応力の強度にほぼ一 致させ、それによって、これら2つの隣接する部分層の引っ張り応力と圧縮応力 とが少なくともおおよそ釣り合っていることを特徴とする請求項14に記載の積 層体。 16.前記酸化亜鉛層の厚さが15nm未満、好ましくは12nm未満である ことを特徴とする請求項14又は15に記載の積層体。 17.追加の非反射層によって互いに分離されている銀で作られた2つの機能 層を含み、また、この追加の非反射層が2つの部分層、すなわち、内部圧縮応力 下にあり、酸化亜鉛で作られていて、且つ上側の銀層に直接に接触している層と 、内部引っ張り応力下にあり、窒化アルミニウムで作られていて、且つ下側の銀 層に隣接している部分層とを含むことを特徴とする請求項14〜16のうちのい ずれか1項に記載の積層体。 18.以下の構造によって特徴付けられる請求項14〜17のうちのいづれか 1項に記載の積層体。 (基材)/AlN/ZnO/Ag/Ti/TiO2 19.以下の構造によって特徴付けられる請求項14〜16のうちのいづれか 1項に記載の積層体。 (基材)/AlN/ZnO/Ag/AlN 20.以下の構造によって特徴付けられる請求項17に記載の積層体。 (基材)/AlN/ZnO/Ag/AlN/ZnO/Ag/AlN 21.金属アルミニウムカソードから反応性スパッタリングによって形成され るAlNに基づく層のコーティングパラメータを選択して、コーティングされた フィルムに積層体の形成の後で内部応力によってもたらされる実質的な湾曲が起 こらないように薄いポリマーのフィルム、特にPETのフィルムをコーティング するための請求項14〜20のうちのいづれか1項に記載の積層体の使用。
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