ES2220099T3 - Sustrato transparente provisto de un apilamiento de capas que reflejan la radiacion termica. - Google Patents

Sustrato transparente provisto de un apilamiento de capas que reflejan la radiacion termica.

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Abstract

Un apilamiento de capas que reflejan la radiación térmica para sustratos transparentes comprende al menos una capa funcional de plata y en las dos caras de ésta capas antirreflejo formadas por uno o varios compuestos metálicos. La capa antirreflejo bajo la capa de plata comprende una capa parcial superior de óxido de zinc contigua a la capa de plata y una capa parcial suplementaria bajo la capa de óxido de zinc, formada de nitruro de aluminio, bajo tensiones de tracción interna. Mediante la capa de AIN bajos tensiones de tracción, la tensiones de compresión internas que existen en la capa de ZnO pueden compensarse.

Description

Sustrato transparente provisto de un apilamiento de capas que reflejan la radiación térmica.
La invención se refiere a un apilamiento de capas reflectantes, al menos en parte, de la radiación infrarroja y, especialmente, reflectantes de la radiación térmica, para substratos transparentes, que comprende, al menos, una capa "funcional" y capas "antirreflejos" que están dispuestas en ambos lados de la capa de plata.
En el sentido de la invención se entiende por "capa o capas funcionales" la capa o las capas del apilamiento que tienen las propiedades de reflexión de la radiación infrarroja y/o de la radiación solar, y que, generalmente, son metálicas, de modo más particular, a base de metal noble del tipo Ag (conteniendo, también, eventualmente, constituyentes minoritarios, por ejemplo, un pequeño contenido de otro metal). Las capas de plata son, en efecto, altamente reflectantes de la radiación infrarroja y puede, así, explotarse su propiedad antisolar o de baja emisividad.
En el sentido de la invención se entiende por "capas antirreflejos" una capa o una superposición de capas que, especialmente, tienen una función de ajuste del aspecto óptico del apilamiento, con miras a disminuir la reflexión luminosa de éste y, generalmente, a base de materiales dieléctricos del tipo de compuestos metálicos, tales como óxidos metálicos.
Se trata, así, en la presente invención, de apilamientos del tipo capa antirreflejos/capa funcional/capa antirreflejos, secuencia eventualmente repetida n veces, con n = 1, 2, 3, ... Hay que observar que en las interfaces entre las capas antirreflejos y las capas funcionales pueden estar previstas, también, capas finas, generalmente, de metal, destinadas a proteger y/o facilitar la adhesión de las capas funcionales. Se las denomina a veces con el término de "capas sacrificatorias" cuando éstas están sobre la capa funcional y se oxidan, al menos parcialmente, a consecuencia del depósito siguiente de una capa a base de óxido por pulverización catódica reactiva en presencia de oxígeno.
La invención se refiere, especialmente, a una variante de este tipo de apilamiento donde la capa antirreflejos dispuesta debajo de la capa funcional a base de plata comprende una capa parcial superior formada por óxido de cinc inmediatamente contigua a la capa de plata y una capa parcial suplementaria dispuesta por debajo.
Un apilamiento de capas de este tipo se conoce por el documento DE-39 41 027 A1. En este apilamiento, la capa parcial que está dispuesta debajo de la capa de óxido de cinc y que forma parte de la capa antirreflejos "inferior" consiste en un óxido metálico del grupo formado por el óxido de estaño, el dióxido de titanio, el óxido de aluminio, el óxido de bismuto o una mezcla de dos o varios de estos óxidos. El espesor de la capa de óxido de cinc no puede ser mayor de 15 nm. Esta capa de óxido de cinc mejora considerablemente la estabilidad de la capa de plata contra la corrosión. Es de presumir que esto pueda atribuirse al hecho de que la capa de plata crece sobre la capa de ZnO de modo particularmente regular y exenta de defectos.
Apilamientos de varias capas que comprenden plata como capa funcional y una capa de óxido de cinc dispuesta inmediatamente debajo de la capa de plata son conocidos, igualmente, por las patentes EP-O 464 789 B1 y EP-O 698 585 A1. En los apilamientos de capas conocidos por estas publicaciones, la capa antirreflejos inferior consiste, ya sea totalmente de óxido de cinc, o bien de varias capas parciales alternadas de ZnO y SnO_{2}.
Las capas de óxido de cinc, tienen como capas inferiores de las capas de plata, una influencia muy ventajosa sobre la capa de plata y sus propiedades. Éstas, por otra parte, tienen el inconveniente de que, en las condiciones habituales de pulverización catódica, aparecen en las capas de ZnO tensiones de compresión internas importantes. Estas tensiones de compresión internas en las capas de ZnO pueden tener un efecto desfavorable sobre el apilamiento de capas. Como se expone en detalle, en particular en la patente EP-0 464 789 B1, la capa de óxido de cinc puede deslaminarse de la capa de plata bajo el efecto de las tensiones de compresión internas.
Los apilamientos de capas que comprenden tensiones internas son particularmente desfavorables cuando estos se aplican sobre películas de soporte delgado a base de polímero o polímeros, especialmente orgánicos, por ejemplo, sobre películas de politereftalato de etileno (PET). Estas películas de PET tienen, en general, un espesor del orden de 30 a 50 \mum. Las películas de PET así revestidas se utilizan cada vez más, por ejemplo, para la fabricación de acristalamientos laminados, que tienen, especialmente, propiedades de reflexión del calor. La película de PET se dispone en emparedado entre dos hojas de vidrio de tipo silico-sodo-cálcico con la ayuda de dos películas adhesivas a base de polímero termoplástico, por ejemplo, polivinilbutiral (PVB). Se observa que las películas de tipo PET que están revestidas con apilamientos de capas que comprenden una capa de ZnO debajo de la capa de plata, se enrollan sobre si mismas bajo la influencia de las tensiones de compresión internas en el apilamiento de capas, de modo que su manipulación y su transformación llegan a ser problemáticas.
La invención tiene por objeto poner a punto un apilamiento de capas del tipo descrito anteriormente, que comprenden, especialmente, una capa de ZnO inmediatamente debajo de la capa de plata y que, dispuestas sobre películas de polímero de tipo PET, no presentan los inconvenientes mencionados anteriormente, es decir, que no tienen tendencia a enrollarse sobre sí mismas una vez revestidas con las capas. Se trata, especialmente, de proceder de modo que las tensiones internas en el apilamiento de capas disminuyan/se reduzcan al mínimo, incluso queden totalmente suprimidas.
El sistema de capas preferido de acuerdo con la invención se define del modo siguiente: se trata de un apilamiento de capas reflectantes de la radiación térmica para substratos transparentes, que comprende, al menos, una capa funcional a base de plata y capas antirreflejos que están dispuestas en los dos lados de la capa de plata y que están formadas por uno o varios compuestos metálicos, comprendiendo la capa antirreflejos dispuesta debajo de la capa de plata una capa parcial superior formada por óxido de cinc inmediatamente contigua a la capa de plata y una capa parcial suplementaria dispuesta por debajo. Este apilamiento de capas se distingue por el hecho de que la capa parcial suplementaria que está dispuesta debajo de la capa de óxido de cinc y que pertenece a la capa antirreflejos inferior, es una capa de nitruro de aluminio que se encuentra bajo tensiones de tracción internas.
Preferentemente, el apilamiento es tal que la amplitud de las tensiones de tracción internas de la capa de nitruro de aluminio corresponde, por ajuste de los parámetros de revestimiento, aproximadamente, a la amplitud de las tensiones de compresión internas en la capa de óxido de cinc, de modo que las tensiones de tracción y de compresión de las dos capas contiguas se igualan, al menos, en su mayor parte.
Preferentemente, el apilamiento es tal que la capa de óxido de cinc tiene un espesor de menos de 15 nm y, preferentemente, de menos de 12 nm y, ventajosamente, de, al menos, 5 a 8 nm.
De acuerdo con un modo de realización del apilamiento de acuerdo con la invención, éste comprende dos capas funcionales a base de plata que están separadas entre sí por una capa antirreflejos suplementaria. Esta capa antirreflejos suplementaria comprende, también, dos capas parciales, a saber, una capa inmediatamente contigua a la capa de plata superior y formada por óxido de cinc que se encuentra bajo tensiones de compresión internas y una capa parcial contigua a la capa de plata inferior y formada por nitruro de aluminio que se encuentra bajo tensiones de tracción internas.
Un ejemplo de apilamiento de acuerdo con la invención se caracteriza por la estructura siguiente (AlN = Nitruro de Aluminio):
Substrato/AlN/ZnO/Ag/Ti/TIO_{2}
Otro ejemplo se caracteriza por la estructura siguiente:
Substrato/AlN/ZnO/Ag/AlN
o por la estructura siguiente:
Substrato/AlN/ZnO/Ag/AlN/ZnO/Ag/AlN
La invención tiene por objeto, igualmente, la utilización de un apilamiento de capas de este tipo para revestir películas de polímero delgado, en particular, de PET, especialmente, con la condición de que los parámetros de depósito de las capas de AlN formadas por pulverización reactiva de un cátodo a base de aluminio metálico se elijan de modo que la película revestida no presente, después de la formación del revestimiento, curvatura sensible inducida por tensiones internas al apilamiento.
La invención saca partido del hecho de que durante la pulverización catódica de capas de AlN, es posible, por la elección de los parámetros de las condiciones de pulverización, por ejemplo, por modificación de la relación Ar:N_{2} en el gas de trabajo, modificar en amplios límites las tensiones mecánicas internas en la capa de AlN. Así por ejemplo, de la publicación "Stress tuning in ALN thin films", Z. Vakuum in der Praxis (1991) nº 2. páginas 142 a 147, se deduce que según que la relación Ar:N_{2}, haya sido modificada en el ámbito de 1:3 hasta 3:1, pueden obtenerse, tanto tensiones de compresión internas relativamente elevadas, como tensiones de tracción internas relativamente elevadas, sin que puedan constatarse diferencias significativas de la relación Ar:N en la propia capa de AlN. Las tensiones internas se explican más bien únicamente por la microestructura de la capa de AlN, generándose tensiones de tracción internas en la capa cuando se eligen condiciones de pulverización catódica que conducen a una pequeña densidad de apilamiento de los cristales de AlN.
Las condiciones óptimas para la fabricación de la sucesión de capas de acuerdo con la invención pueden determinarse empíricamente por ensayos en cada caso particular. Por ejemplo, por pulverización catódica (asistida, preferentemente, por campo magnético), pueden depositarse sobre substratos delgados, por ejemplo, películas delgadas de PET, sucesivamente una capa de AlN y una capa de ZnO que tengan espesores de capa deseados. Según el signo de la tensión interna resultante en esta sucesión de capas, la película revestida se curvará y enrollará en un sentido o en el otro. Las condiciones de pulverización catódica de la capa de AlN se modifican después intencionadamente de acuerdo con el resultado observado hasta que la película de PET no presente deformaciones notables después de la formación del revestimiento. Las condiciones de pulverización catódica encontradas de este modo, sirven, entonces, de parámetros para la formación del apilamiento en las condiciones de fabricación.
La estructura de capas de acuerdo con la invención puede ser ventajosa y encontrar su aplicación para todos los substratos. Sin embargo, ésta es de una ventaja particular para el revestimiento de películas de polímero delgado, debido a que, de este modo, es posible impedir que las películas revestidas se enrollen, de modo que se facilita su manipulación durante la puesta en práctica de la invención. Las películas de PET presentan frecuentemente tensiones propias termoestabilizadas que son impuestas por el procedimiento de fabricación. Asimismo, es posible que, durante la operación de pulverización catódica, bajo el efecto de la temperatura y/o por deformación plástica de las películas, se modifiquen las tensiones internas presentes en origen o se induzcan nuevas tensiones internas. En este caso, es evidente que, durante la determinación de las condiciones de pulverización catódica óptima para la capa de AlN, estas tensiones propias de la película deben tenerse en cuenta, también, de modo que el apilamiento como tal no sea el que esté exento de tensiones internas resultantes, sino la película revestida en su conjunto.
De modo más general, la invención puede definirse, igualmente, del modo siguiente: la invención tiene, por objeto, igualmente, un substrato transparente, de modo muy particular en forma de una película de polímero flexible del tipo PET, provisto de un apilamiento de capas delgadas que comprende, al menos, una capa funcional metálica con propiedades de reflexión de la radiación infrarroja del tipo Ag dispuesta entre dos capas a base de material dieléctrico antirreflejos, habiéndose especificado anteriormente lo que se entiende aquí por capa "funcional" y "capa antirreflejos". La capa antirreflejos "inferior" dispuesta entre la capa funcional y el substrato es una sola capa a base de AlN modificada cuyo nivel de tensiones está equilibrado (relajado), o una superposición de capas que comprende, al menos, una capa de AlN que tiene superpuesta una capa de óxido metálico cuyos niveles de tensión se compensan/ anulan, al menos, en parte.
Se encuentra, así, la variante descrita anteriormente, a saber, una capa antirreflejos de tipo AlN/ZnO en la que el nivel de tensión de tracción de la capa de AlN compensa ampliamente, incluso completamente, el nivel de tensión en compresión de la capa de ZnO. Se prevé, también, otra variante en que la capa antirreflejos comprende solamente AlN y en la que esta vez esta capa debe estar desprovista, sustancialmente, de tensiones, cualesquiera que sean éstas, para llegar al mismo resultado que en la variante de dos capas. La variante de "dos capas" presenta la ventaja de conservar la capa de óxido de tipo ZnO, conocida por ser favorable para un buen mojado de la capa de plata, presentando a su vez la variante de una "sola capa" la ventaja de un apilamiento más simple, menos largo de fabricar, y con menos
capas.
La capa a base de AlN utilizada en la capa antirreflejos inferior puede comprender, especialmente, otro metal minoritario, especialmente cinc, por ejemplo, en una proporción del 0,1% al 10% atómica con respecto al aluminio.
Preferentemente, la capa de óxido de tipo ZnO de la capa antirreflejos inferior es contigua a la capa funcional. Puede preverse, también, intercalar entre ellas una capa fina metálica, de tipo de titanio, aleación, o níquel, como NiCr, niobio, ... El apilamiento puede contener una sola capa funcional o n capas funcionales con 2. En esta configuración, hay que prever capas antirreflejos "intermedias" entre las dos capas funcionales cuando n = 2 o entre dos capas funcionales sucesivas cuando n > 2.
Esta capa antirreflejos "intermedia" o, al menos una de ellas, puede comprender, a modo de la capa antirreflejos "inferior", una sola capa a base de AlN modificada de modo que su nivel de tensión esté equilibrado (relajado) o una superposición de capas que comprende, al menos, una capa a base de AlN que tiene superpuesta una capa de óxido metálico del tipo ZnO cuyos niveles de tensiones se compensen/anulen, al menos, en parte.
Ventajosamente, la capa funcional (o, al menos, una de ellas si hay varias) tiene superpuesta un capa fina metálica sacrificatoria del tipo Nb, Ti, NiCr, lo que es, especialmente, importante si se depositan encima capas de dieléctrico de óxido por pulverización catódica en condiciones oxidantes.
Ventajosamente, las capas antirreflejos "intermedias" y/o "superiores" ("superiores" corresponde a las capas que "terminan" el apilamiento) contienen capas a base de óxido metálico elegido entre, al menos, uno de los óxidos siguientes: SnO_{2}, Ta_{2}O_{5}, TiO_{2}, Nb_{2}O_{5}, ZrO_{2}, y/o de las capas a base de nitruro de tipo AlN o Si_{3}N_{4}.
La invención se aplica, también, a revestimientos antirreflejos inferiores de varias capas, en los que el ZnO está reemplazado por otro óxido que presenta un nivel de tensión (tracción o compresión) dado, que la asociación con la capa a base de AlN va a permitir equilibrar, compensar, en gran parte (SiO_{2}, WO_{3}, ...).
La invención puede aplicarse a cualquier substrato transparente rígido como el vidrio, ciertos policarbonatos como el PMMA (polimetacrilato de metilo) o, de modo más específico, a substratos en forma de películas de polímero flexible como el PET, ciertos poliésteres, ... La invención permite que la película de polímero flexible de este tipo esté desprovista, esencialmente, de radio de curvatura "involuntario" después del depósito de las capas.
La invención se refiere, igualmente, a la utilización de la película revestida para fabricar acristalamientos laminados funcionalizados, antisolares o de baja emisividad, y a los acristalamientos laminados así obtenidos.
La invención se refiere, igualmente, al procedimiento de fabricación del revestimiento sobre el substrato de tipo polímero flexible, por pulverización catódica, siendo el concepto de la invención, modular los parámetros de depósito por pulverización reactiva de la capa o de las capas constitutivas de la capa antirreflejos inferior, al menos, de modo que su nivel de tensión global se reduzca al mínimo, o se anule, de modo que no induzca, sustancialmente, ninguna curvatura en la película debido a las tensiones internas. Para hacer esto, pueden ajustarse de modo apropiado, especialmente, dos parámetros, a saber la presión global de la atmósfera en la cual se efectúan el depósito o los depósitos, y la relación entre la cantidad de gas inerte (Ar) y reactivo (O_{2} o N_{2}) en la atmósfera reactiva.
A continuación se describen en detalle ejemplos de apilamiento de capas de acuerdo con la invención depositadas sobre películas de polímero de PET.
Ejemplo 1
Un apilamiento de capa reflectante de la radiación térmica que comprende la sucesión de capas:
substrato/AlN/ZnO/Ag/Ti/TiO_{2}
debe aplicarse sobre una película de PET de un espesor de 50 \mum de la sociedad Hoechst, de acuerdo con el procedimiento de la pulverización catódica reactiva asistida por campo magnético.
Para determinar las condiciones de pulverización catódica óptima para la capa antirreflejos inferior formada por dos capas parciales AlN/ZnO, se revisten, en primer lugar, en una instalación de pulverización catódica de laboratorio de la sociedad Leybold, probetas de películas de PET de dimensiones de 30 x 30 cm sucesivamente con dos capas parciales de 30 nm de AlN y de 10 nm de ZnO. La pulverización se realiza por el procedimiento de pulverización sobre un plano en corriente continua. Después de la formación del revestimiento, se evalúa la deformación de la película empleando como modo de apreciar cuantitativamente las tensiones internas de la película revestida la medición del radio de curvatura que toma la película después de la formación del revestimiento. La estructura de capas se considera buena cuando la película revestida no se curva después de haber sido retirada de la instalación de revestimiento, sino que conserva su forma plana.
Después de varios ensayos, se deduce que las condiciones de revestimiento óptimas se obtienen cuando la capa de AlN se aplica por pulverización reactiva de un soporte de aluminio puro en una mezcla de gas de trabajo argón-nitrógeno que tiene una relación Ar:N_{2} de 2,5:1 mientras que la capa de ZnO se forma por pulverización reactiva de un soporte de cinc metálico en una mezcla gaseosa de argón y de oxígeno que tiene una relación Ar:O_{2} de 1:1. En estas condiciones, las probetas de películas revestidas con esta capa doble no sufren ninguna deformación, es decir, que las tensiones internas en las diversas capas de la película revestida se anulan por adición.
Después de haber determinado de este modo las condiciones de pulverización catódica para la capa antirreflejos inferior, se aplica, en la misma instalación de revestimiento, sobre una película de PET de un espesor de 50 \mum, un sistema de varias capas que tiene la estructura de capas y los espesores de capas que seguidamente se indican, estando expresados los espesores de capas en nm:
substrato-30 AlN-10 Ag-1 Ti-30 TiO_{2}
La pulverización del soporte de Al tiene lugar de nuevo en una atmósfera Ar:N_{2} que tiene una relación Ar:N_{2} de 2,25:1 de acuerdo con el procedimiento de pulverización catódica sobre un plano en corriente continua y la pulverización del soporte de Zn tiene lugar en una atmósfera Ar:O_{2} que tiene una relación Ar:O_{2} de 1:1, igualmente de acuerdo con el procedimiento de pulverización catódica sobre un plano en corriente continua. Las capas siguientes se depositan, también, por el procedimiento de pulverización catódica sobre un plano en corriente continua, estando formado el gas de trabajo para la pulverización de Ag y Ti por argón puro, y consistiendo el gas de trabajo para la pulverización reactiva de la capa de TiO_{2} en una mezcla Ar:O_{2} que tiene una relación Ar:O_{2} de 1,4:1.
Con la ayuda de la película revestida, se fabrica un acristalamiento laminado ensamblando, con la ayuda de dos hojas de polivinilbutiral de un espesor de 0,38 mm, la hoja de PET revestida, con dos hojas de vidrio ondulado, cada una de espesor de 2,1 nm, con la ayuda del calor y de una puesta a presión, de modo continuo. Incluso después de la conversión en un acristalamiento laminado, la hoja de PET revestida no presenta ningún defecto tal como desgarros o deformaciones superficiales, y el acristalamiento laminado presenta, por el contrario, un aspecto impecable.
Las propiedades ópticas, que se determinan de acuerdo con un procedimiento de medición clásico, corresponden a las exigencias en materia de transmisión luminosa, de reflexión luminosa y de neutralidad de tono.
Los ensayos realizados para la determinación de la resistencia a la corrosión del apilamiento de capas, a saber, el ensayo de humedad de acuerdo con la norma ANSI Z 26,1, ensayo nº 3, igual que el ensayo de niebla de pulverización de sales de acuerdo con la norma DIN 50021, dan, igualmente, buenos resultados.
Ejemplo 2
Se deposita sobre una película de PET de un espesor de 50 \mum un apilamiento de varias capas que presenta la estructura de capas siguiente, estando expresado de nuevo el espesor de las diversas capas en mm:
substrato-30 AlN-10 ZnO-10 Ag-82 AlN-10 ZnO-10 Ag-40 AlN
Las condiciones de pulverización para las diversas capas, en lo que concierne al gas de trabajo y a los procedimientos de pulverización catódica aplicados, corresponden a las condiciones indicadas en el ejemplo 1. La aplicación de una capa metálica sacrificatoria delgada sobre cada una de las dos capas de plata no es necesaria debido al que el gas de trabajo para cada una de las capas de AlN siguientes está totalmente exento de oxígeno.
Para evaluar la utilidad de las propiedades del apilamiento de capas en un vidrio laminado, se ensambla nuevamente la película revestida, con dos hojas de polivinilbutiral, cada una de 0,38 mm, y dos hojas de vidrio ondulado, cada una con un espesor de 2,1 mm, aplicando el calor y la presión suficientes. En el acristalamiento laminado acabado se realizan pruebas.
De acuerdo con el aspecto óptico del acristalamiento, este apilamiento de capas presenta una apariencia muy buena en el acristalamiento laminado, es decir, que no se constata en la película revestida ningún desgarro o deformación.
Las propiedades ópticas del acristalamiento laminado, que se determinan de acuerdo con un procedimiento de medición habitual, corresponden, en materia de transmisión luminosa y de reflexión luminosa en el ámbito del espectro visible, de transmisión de la energía total y de la neutralidad de matices, a las exigencias impuestas para la utilización del acristalamiento laminado, como un parabrisas de un vehículo automóvil.
Para la evaluación de la resistencia a la corrosión del apilamiento de capas en el acristalamiento laminado, se efectúan las pruebas siguientes:
\ding{226}
Prueba de humedad de acuerdo con la norma ANSI Z 26,1 (ensayo nº 3): de acuerdo con este ensayo, la probeta se expone durante una duración de 14 días a una temperatura de 40ºC a una atmósfera de una humedad relativa del 100%. No se constatan trazas de corrosión ni deslaminaciones.
De acuerdo con el ensayo de pulverización de sales según la norma DIN 50021, las probetas se exponen durante 10 días a la nube de pulverización. Se constatan algunas trazas pequeñas de corrosión en el contorno de las probetas, pero ninguna deslaminación.

Claims (21)

1. Substrato transparente, especialmente en forma de una película de polímero o polímeros flexibles, provisto de un apilamiento de capas delgadas que comprende, al menos, una capa funcional metálica con propiedades de reflexión de la radiación infrarroja del tipo Ag dispuesta entre dos capas a base de material dieléctrico "antirreflejos", caracterizado porque la capa antirreflejos "inferior" dispuesta entre la capa funcional y el substrato es una sola capa a base de AlN, Nitruro de Aluminio, modificada, cuyo nivel de tensiones está equilibrado, o es una superpresión de capas que comprende, al menos, una capa de AlN que tiene superpuesta una capa de óxido metálico cuyos niveles de tensión se compensan/anulan, al menos, en parte.
2. Substrato de acuerdo con la reivindicación 1, caracterizado porque la capa antirreflejos "inferior" comprende una capa de AlN que comprende, igualmente, al menos, otro metal minoritario, especialmente cinc, preferentemente, en una proporción del 0,1% al 10% atómica con respecto al aluminio.
3. Substrato de acuerdo con la reivindicación 1 o la reivindicación 2, caracterizado porque la capa antirreflejos comprende una secuencia de capas a base de AlN/capa a base de óxido de cinc, presentando la primera un nivel de tensión en tracción, y la segunda un nivel de tensión en compresión.
4. Substrato de acuerdo con las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque la capa de óxido, especialmente a base de ZnO, de la capa antirreflejos "inferior" es contigua a la capa funcional.
5. Substrato de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque entre la capa antirreflejos "inferior" y la capa funcional está dispuesta una capa fina metálica, especialmente, de tipo titanio o aleación de Ni del tipo de aleación de NiCr o niobio.
6. Substrato de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque el apilamiento comprende, al menos, dos capas funcionales del tipo de capa de Ag, con una capa antirreflejos "intermedia" entre las dos capas funcionales o entre dos capas funcionales sucesivas.
7. Substrato de acuerdo con la reivindicación 6, caracterizado porque la capa antirreflejos "intermedia" o, al menos, una de ellas, comprende una sola capa a base de AlN modificada de modo que su nivel de tensión esté equilibrado, o sea una superposición de capas que comprende, al menos, una capa a base de AlN que tiene superpuesta una capa de óxido metálico de tipo ZnO en la que los niveles de tensión se anulan, al menos, en parte.
8. Substrato de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque la capa funcional o, al menos, una de ellas, tiene superpuesta una capa fina metálica superficial, especialmente, del tipo Nb, Ti, NiCr.
9. Substrato de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque las capas antirreflejos "intermedias" y/o "superiores" contienen capas a base de óxido metálico elegido entre SnO_{2}, Ta_{2}O_{5}, Nb_{2}O_{5}, ZnO, TiO_{2} o capas de nitruros del tipo AlN, Si_{3}N_{4}.
10. Película de polímero de tipo PET (politereftalato de etileno) revestido de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque está desprovista, esencialmente, de radio de curvatura involuntario.
11. Utilización de la película de acuerdo con la reivindicación 10 para fabricar acristalamientos laminados funcionales, antisolares o de baja emisividad.
12. Acristalamiento laminado, caracterizado porque incorpora la película de polímero de acuerdo con la reivindicación 10.
13. Procedimiento de fabricación del substrato en forma de película de polímero flexible revestida de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 a 10, caracterizado porque, para el depósito de las capas del apilamiento, se utiliza la técnica de pulverización catódica, modulando las condiciones de depósito de la capa o de las capas de la capa antirreflejos "inferior" de modo que reduce al mínimo el nivel de tensión residual de la citada capa antirreflejos "inferior" de modo que no se induce, sustancialmente, ninguna curvatura en la película debido a las tensión internas.
14. Apilamiento de capas reflectantes de la radiación térmica para substratos transparentes, que comprende, al menos, una capa funcional de plata y capas antirreflejos que son depositadas en los dos lados de la capa de plata y que están formadas por uno o varios compuestos metálicos, comprendiendo la capa antirreflejos dispuesta debajo de la capa de plata una capa parcial superior formada por óxido de cinc inmediatamente contigua a la capa de plata y una capa parcial suplementaria que está dispuesta por debajo, caracterizado porque la capa parcial suplementaria que está dispuesta debajo de la capa de óxido de cinc y que pertenece a la capa antirreflejos "inferior" es una capa a base de nitruro de aluminio (AlN) que se encuentra bajo tensiones de tracción internas que compensan/anulan, al menos, en parte, las tensiones de la capa de óxido de cinc.
15. Apilamiento de capas de acuerdo con la reivindicación 14, caracterizado porque la amplitud de las tensiones de tracción internas de la capa de nitruro de aluminio, corresponde, aproximadamente, por ajuste de los parámetros de revestimiento, a la amplitud de las tensiones de compresión internas en la capa de óxido de cinc, de modo que las tensiones de tracción y de compresión de las dos capas parciales se igualan, al menos, en la mayor parte.
16. Apilamiento de capas de acuerdo con las reivindicaciones 14 o 15, caracterizado porque la capa de óxido de cinc tiene un espesor de menos de 15 nm, preferentemente, de menos de 12 nm.
17. Apilamiento de capas de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 14 a 16, caracterizado porque comprende dos capas funcionales de plata que están separadas una de otra por una capa antirreflejos suplementaria, comprendiendo, también, esta capa antirreflejos suplementaria dos capas parciales, a saber, una capa de óxido de cinc inmediatamente contigua a la capa de plata superior que se encuentra bajo tensiones de compresión internas y una capa de nitruro de aluminio parcial contigua a la capa inferior, que se encuentra bajo tensiones de tracción internas.
18. Apilamiento de capas de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 14 a 17, caracterizado por la estructura siguiente:
(substrato)/AlN/ZnO/Ag/Ti/TiO_{2}
19. Apilamiento de capas de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 14 a 16, caracterizado por la estructura siguiente:
(substrato)/AlN/ZnO/Ag/AlN
20. Apilamiento de capas de acuerdo con la reivindicación 17, caracterizado por la estructura siguiente:
(substrato)/AlN/ZnO/Ag/AlN/ZnO/Ag/AlN
21. Utilización de un apilamiento de capas de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 14 a 20 para revestir películas de polímero delgado, en particular de PET, de modo que los parámetros de revestimiento de las capas a base de AlN formadas por pulverización reactiva a partir de un cátodo de aluminio metálico se eligen tales que la película revestida no presenta, después de la formación del apilamiento, curvatura sensible inducida por tensiones internas.
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