ES2283100T3

ES2283100T3 - Sustrato tranparente provisto de un apilamiento de capas delgadas.

Info

Publication number: ES2283100T3
Application number: ES99402585T
Authority: ES
Inventors: Veronique Rondeau; Fabrice Didier
Original assignee: Saint Gobain Glass France SAS; Compagnie de Saint Gobain SA
Current assignee: Saint Gobain Glass France SAS; Compagnie de Saint Gobain SA
Priority date: 1998-10-22
Filing date: 1999-10-20
Publication date: 2007-10-16
Anticipated expiration: 2019-10-20
Also published as: CA2286440C; PL195596B1; DE69935388D1; DE69935388T2; EP0995724B1; PL336180A1; FR2784985A1; CA2286440A1; JP4602498B2; EP1813582A1; EP0995724A1; JP2000129464A; FR2784985B1; US6210784B1; ATE356096T1

Abstract

Sustrato transparente (1), en particular de vidrio, dotado de un apilamiento de capas delgadas que comprende al menos una capa metálica (4) con propiedades de reflexión en el infrarrojo, en particular de baja emisividad, dispuesta entre dos revestimientos a base de material dieléctrico, comprendiendo el revestimiento subyacente una capa de anclaje (3) a base de óxido de zinc ZnO, eventualmente dopado con aluminio ZnO:Al, directamente en contacto con la capa metálica, comprendiendo cada uno de los dos revestimientos a base de material dieléctrico al menos una capa de índice de refracción elevado, estrictamente superior a 2, caracterizado porque el revestimiento a base de material dieléctrico dispuesto encima de la capa metálica comprende la secuencia de capas depositadas en el orden siguiente: a) capa(s) de material(es) de índice de refracción ni - 2 de a lo sumo 2, 2, en particular inferior a 2, 2 o comprendido entre 1, 9 y 2, 1; b) capa(s) de material(es) de índice de refracción ni - 1 inferior en al menos 0, 3 al ni de la o las última(s) capa(s), en particular inferior a 1, 8; c) última(s) capa(s) de material(es) de índice de refracción ni considerablemente igual a ni - 2.

Description

Sustrato transparente provisto de un apilamiento de capas delgadas.

La presente invención se refiere a un sustrato transparente, en particular de vidrio, dotado de un apilamiento de capas delgadas que comprende al menos una capa metálica con propiedades de reflexión en el infrarrojo, en particular de emisividad baja, dispuesta entre dos revestimientos a base de material dieléctrico.

La aplicación principal objetivo de la invención es la utilización de tal sustrato para la fabricación de acristalamientos de aislamiento térmico y/o de protección solar.

Estos se destinan a equipar tanto edificios como vehículos, y ello particularmente con el fin de disminuir el esfuerzo de climatización y/o reducir un sobrecalentamiento excesivo ocasionado por la importancia siempre creciente de las superficies acristaladas en las habitaciones y habitáculos.

Un tipo de apilamiento de capas delgadas muy conocido para conferir a un sustrato transparente propiedades térmicas, en particular baja emisividad adaptada para la aplicación requerida citada anteriormente, consiste en una capa metálica, en particular de plata, dispuesta entre dos revestimientos a base de material dieléctrico del tipo óxido metálico. Este apilamiento se fabrica normalmente a partir de una sucesión de depósitos realizados según una técnica que utiliza el vacío como por ejemplo la pulverización catódica, llegado el caso asistida por un campo magnético.

Se puede prever también en este apilamiento una capa que tiene un papel de protección con el fin de evitar el deterioro de la plata.

En ese tipo de apilamiento, la capa de plata determina esencialmente los rendimientos óptimos térmicos, antisolares y/o de baja emisividad del acristalamiento final, mientras que las capas de material dieléctrico actúan ante todo sobre el aspecto óptico del acristalamiento obtenido de manera interferencial. Además, tienen un papel de protección de la capa de plata contra las agresiones químicas y/o mecánicas.

Hasta ahora las mejoras proporcionadas a los acristalamientos dotados de apilamientos del tipo citado anteriormente han permitido aumentar su campo de aplicación permitiéndoles a la vez conservar un nivel de rendimientos óptimos térmicos y ópticos satisfactorios.

Sin embargo, sobre este último punto, los rendimientos óptimos térmicos se podrían mejorar aún, en particular con la obtención de un coeficiente K de aislamiento disminuido.

El objetivo de la invención es por tanto proponer un sustrato dotado de un apilamiento de capas delgadas del tipo citado anteriormente, de rendimientos óptimos térmicos mejorados, sin que eso se haga en detrimento de sus óptimos rendimientos ópticos.

Para realizarlo la invención tiene por objetivo un sustrato transparente, en particular de vidrio, según la reivindicación 1. Este sustrato está dotado de un apilamiento de capas delgadas que comprenden al menos una capa metálica con propiedades de reflexión en el infrarrojo, en particular de baja emisividad, dispuesta entre dos revestimientos a base de material dieléctrico, comprendiendo el revestimiento subyacente una capa de anclaje a base de óxido de zinc ZnO, eventualmente dopado con aluminio ZnO:Al, directamente en contacto con la capa metálica.

De acuerdo con la invención, cada uno de los dos revestimientos a base de material dieléctrico comprende al menos una capa de índice de refracción elevado, preferentemente superior o igual a 2,2.

Se puntualiza que, en el marco de la invención, un índice de refracción elevado significa estrictamente superior a 2.

La combinación de acuerdo con la invención permite obtener un sustrato a la vez de muy baja emisividad y de transmisión luminosa muy elevada, rendimientos óptimos jamás alcanzados de acuerdo con el estado de la técnica.

Además, el aspecto colorimétrico en reflexión del sustrato permanece suficientemente neutro.

Para alcanzar la solución de acuerdo con la invención los inventores han constatado ante todo que, de acuerdo con el estado de la técnica, era necesario en primer lugar tener una capa metálica suficientemente espesa para poder alcanzar un valor de emisividad suficientemente bajo y que la presencia de óxido de zinc ZnO como capa de anclaje directamente en contaco con la capa metálica permita justamente limitar el espesor de la capa metálica citada anteriormente a un valor del orden de algunos nanómetros, típicamente del orden de 15 nanómetros. Por tanto han sabido demostrar que, a pesar de la limitación del espesor de la capa de plata aportada por la presencia de óxido de zinc ZnO, no era fácil obtener un valor de reflexión luminosa R_{L} bajo.

Los inventores han pensado por tanto en recurrir a la inserción de un solo material de alto índice, efecto conocido en sí.

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De manera sorprendente han observado que la inserción de ese tipo de material en una y otra parte de la capa metálica optimizaba el efecto anti-reflectante investigado. Además, el hecho de que, de acuerdo con la invención, la capa de alto índice del revestimiento dieléctrico superior no esté en contacto directo con el medio ambiente, tal como el aire, permite tener un mejor aspecto colorimétrico en reflexión del sustrato.

La capa metálica funcional es convenientemente a base de plata. Su espesor se puede elegir entre 7 y 20 nanómetros, en particular entre 9 y 15 nanómetros, cuando se desee obtener acristalamientos de baja emisividad y alta transmisión luminosa (en particular una T_{L} de al menos 70 a 80%), en particular para los destinados a equipar edificios en países fríos. Cuando se desean acristalamientos de función antisolar, reflectores, destinados más bien a equipar edificios en países cálidos, la capa de plata puede ser más gruesa, por ejemplo comprendida entre 20 y 25 nm (lo que evidentemente tiene como consecuencia tener acristalamientos de transmisión luminosa netamente más débil, por ejemplo inferior a 60%).

De manera preferida se puede prever que el apilamiento según la invención comprende una capa metálica de protección situada inmediatamente encima y en contacto con la capa de propiedades de reflexión en el infrarrojo.

La capa de protección prevista es convenientemente a base de un metal único elegido entre niobio Nb, titanio Ti, cromo Cr o níquel Ni o una aleación a partir de al menos dos de esos metales, en particular una aleación de níquel y cromo (Ni/Cr) y tiene un espesor geométrico inferior o igual a 2 nm. De acuerdo con esta variante, el metal o aleación constitutiva de la capa de protección pueden estar dopados con paladio Pd. Ella juega su papel de capa "sacrificable" con el fin de proteger la capa funcional en caso de depósito de la capa siguiente.

La capa de anclaje a base de óxido de zinc de acuerdo con la invención tiene, preferentemente, un espesor geométrico comprendido entre 5 y 40 nm, en particular entre 15 y 30 nm. Con tales espesores puede contribuir, aparte de su función de anclaje, a ajustar el aspecto óptico del apilamiento en asociación con el revestimiento dieléctrico situado encima de la capa funcional.

Convenientemente la capa de anclaje es a base de óxido de zinc, al menos cristalizado en parte. Una tal capa permite no penalizar el apilamiento desde un punto de vista óptico en caso de tratamiento térmico sufrido por el sustrato portador tal como un temple o un bombeo.

Cada una de las capas de índice de refracción elevado de acuerdo con la invención puede ser convenientemente a base de un material elegido entre óxido de niobio Nb_{2}O_{5}, óxido de bismuto dopado con manganeso Bi_{2}O_{3}:Mn, un óxido mixto de zinc y de titanio ZnTiO_{x}, óxido de titanio TiO_{2}, un óxido mixto de tántalo y de titanio TiTaO_{x}, un óxido mixto de circonio y de titanio un ZrTiO_{x}.

Entre esos materiales se prefiere particularmente óxido de titanio TiO_{2,} en particular por motivo de su compatibilidad con las otras capas del apilamiento de acuerdo con la invención.

De acuerdo con una variante de la invención, el revestimiento de dieléctrico encima de la capa metálica reflectora comprende una superposición de capas, de las que la capa de índice elevado es superior o igual a 2,2, y al menos una capa cuyo índice de refracción es débil, en particular inferior o igual a 1,8, en particular inferior o igual a 1,6. Se puede tratar por ejemplo de una capa de SiO_{2}, SiON, SiOAl.

De acuerdo con otra variante, el revestimiento dieléctrico encima de la capa metálica reflectora puede comprender también, alternativamente o acumulativamente con la primera variante, una superposición de capas en donde encima de una capa de índice superior o igual a 2,2 se sitúa, en particular por contacto directo, una capa de índice medio, en particular comprendido entre 1,9 y 2,1. Puede tratarse, por ejemplo, de una capa de SnO_{2}, Si_{3}N_{4}, AlN, ZnO.

Está claro que esas dos variantes pueden aplicarse también de modo similar al revestimiento dieléctrico subyacente a la capa metálica reflectora.

Para obtener un color en reflexión más neutro del sustrato de acuerdo con la invención, el revestimiento a base de material dieléctrico dispuesto encima de la capa metálica comprende la secuencia de capas depositadas en el orden siguiente:

a): capa(s) de material(es) de índice de refracción n_{i-2} de a lo sumo 2,2, en particular inferior a 2,2, en particular comprendido entre 1,9 y 2,1 (por ejemplo SnO_{2}, Si_{3}N_{4}, AlN, ZnO);

b): capa(s) de material(es) de índice de refracción n_{i-1} inferior en al menos 0,3 al n_{i} de la o las última(s) capa(s); de índice en particular inferior a 1,8 o 1,6 (por ejemplo SiO_{2}, SiON, SiOAl);

c): última(s) capa(s) de material(es) de índice de refracción n_{i} notablemente igual a n_{i-2} (de nuevo, en particular, de SnO_{2}, Si_{3}N_{4}, AlN).

En ese caso de esquema, convenientemente puede haber la capa de índice elevado del tipo TiO2 que se encuentra dispuesta entre la capa metálica reflectora y la secuencia de capas a), b), c). Los revestimientos dieléctricos multicapas son convenientes porque actuando sobre las diferencias de índices entre las capas, alternando en particular capas de alto y bajo índice, se pueden obtener propiedades de aislamiento térmico excelentes que no se obtienen en detrimento de las propiedades ópticas. Esos revestimientos multicapas permiten mejorar aún el aspecto en reflexión exterior del acristalamiento.

Se puede reemplazar Si_{3}N_{4} por AlN o por un nitruro mixto Si-Al.

El sustrato definido anteriormente es notable porque presenta una emisividad \varepsilon de a lo sumo 0,025.

La invención se refiere también a un acristalamiento múltiple de baja emisividad o antisolar, en particular doble acristalamiento, que comprende el sustrato descrito anteriormente, siendo el apilamiento de capas delgadas en caras 2 y/o 3, y llegado el caso en cara 5.

La invención se refiere finalmente a un acristalamiento doble de baja emisividad que comprende al menos un sustrato definido anteriormente y notable porque presenta una transmisión luminosa T_{L} de al menos 72%.

Tal acristalamiento doble que comprende dos hojas de vidrio se caracteriza por un coeficiente K inferior o igual a 1,4 W/K.m^{2} cuando las dos hojas de vidrio están separadas por una lámina de aire o inferior o igual a 1,1 W/K.m^{2} cuando las dos hojas de vidrio están separadas por una lámina de argón.

Otros detalles y características convenientes se inferirán a continuación de la lectura de la descripción detallada de los ejemplos siguientes no limitantes realizados como referencia a las figuras 1 a 4.

El ejemplo se ha realizado de acuerdo con la invención.

Los ejemplos 1, 3 y 4 se dan como ejemplos comparativos.

En todos esos ejemplos los depósitos sucesivos de las capas delgadas se han realizado con la ayuda de una técnica de pulverización catódica asistida por campo magnético. Evidentemente, en el marco de la invención se pueden realizar por cualquier otra técnica que permita un buen dominio de los espesores de capas obtenidas.

Los sustratos sobre los cuales se han depositado los apilamientos de capas delgadas son sustratos de vidrio silico-sódico-cálcico claro del tipo de los comercializados por la sociedad SAINT-GOBAIN VITRAGE bajo la denominación "PLANILUX".

Se precisa que, por motivo de claridad, las diferentes proporciones entre los espesores de los materiales no se han respetado en las figuras.

Ejemplo 1

En la figura 1 se ve que encima del sustrato 1 se sitúa respectivamente una capa 2 a base de óxido de titanio TiO_{2}, una capa 3 de anclaje a base de óxido de zinc ZnO, después una capa 4 de plata, una capa 5 de protección de titanio Ti, una capa 6 a base de óxido de titanio TiO_{2} rematada por una capa 7 de óxido de estaño SnO_{2}.

El apilamiento es, por tanto, del tipo:

Vidrio/TiO_{2}/ZnO/Ag/Ti/TiO_{2}/SnO_{2}

La tabla 1 a continuación indica el espesor en nanómetros correspondiente a cada capa del apilamiento que se sitúa encima del sustrato de 4 mm de espesor.

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TABLA 1

1

Para realizar este apilamiento, las condiciones de depósito para cada una de las capas recomendadas han sido las siguientes:

\Box: las capas 2 y 6 a base de TiO2 se han depositado con ayuda de un blanco de titanio bajo una presión de 0,3 Pa, en una atmósfera de Ar/O_{2};

\Box: la capa 3 a base de ZnO se ha depositado con ayuda de un blanco de zinc, bajo una presión de 0,8 Pa, en una atmósfera de argón/oxígeno;

\Box: la capa 4 de plata se ha depositado con ayuda de un blanco de plata, bajo una presión de 0,8 Pa, en una atmósfera de argón;

\Box: la capa 5 de Ti se ha depositado con ayuda de un blanco de titanio, bajo una presión de 0,8 Pa, en una atmósfera de argón;

\Box: la capa 7 de SnO_{2} se ha depositado con ayuda de un blanco de estaño bajo una presión de 0,15 Pa, en una atmósfera de Ar/O_{2}.

Las potencias y velocidades de paso del sustrato se han ajustado de manera conocida en sí para obtener los espesores anteriores deseados.

La tabla 2 más abajo indica respectivamente el valor de transmisión luminosa T_{L} en porcentaje, el valor de reflexión luminosa R_{L} también en porcentaje, los valores a*(R) y b*(R), de reflexión en el sistema de colorimetría (L, a*, b*), sin unidad, así como el valor de emisividad \varepsilon, sin unidad. Todas esas medidas están realizadas con referencia al iluminante D_{65}.

TABLA 2

2

El sustrato 1 definido anteriormente se monta después en doble acristalamiento con otro sustrato de vidrio claro sencillo de espesor geométrico igual a 4 mm con una lámina interpuesta de argón de 15 mm de espesor, estando en cara 3 el apilamiento de capas delgadas.

La tabla 3 más abajo recoge las mismas características T_{L}, R_{L}, a*(R), b*(R), \varepsilon así como el valor del coeficiente K en W/K.m^{2} del doble acristalamiento.

TABLA 3

4

Ejemplo 2

(De acuerdo con la invención)

El apilamiento de capas delgadas representado en la figura 2 es idéntico al del ejemplo 1, excepto que la capa 7 a base de óxido de estaño SnO_{2} se ha recubierto por una capa 8 a base de SiO_{2} de índice de refracción igual a 1,45 y por una última capa del apilamiento 9 a base de nitruro de silicio Si_{3}N_{4}.

El apilamiento tiene, por tanto, la secuencia siguiente:

Vidrio/TiO_{2}/ZnO/Ag/Ti/TiO_{2}/SnO_{2}/SiO_{2}/Si-N_{4}

La capa 8 a base de SiO_{2} de acuerdo con la invención tiene un espesor de 15 nm.

Esta capa 8 a base de SiO_{2} se ha depositado por pulverización reactiva asistida por plasma en una atmósfera de argón/oxígeno a una presión de alrededor de 0,15 Pa.

La capa 7 a base de óxido de estaño SnO_{2} tiene un espesor de 25 nm. Se ha depositado de manera idéntica a la (3) del ejemplo 1.

La capa 9 a base de nitruro de silicio tiene un espesor de 10 nm y se ha depositado a una presión de alrededor de 0,8 Pa en una atmósfera de argón/nitrógeno.

El espesor de la capa 6 a base de TiO_{2} es de 11 nm, las otras capas tienen los mismos espesores que las relativas al ejemplo 1.

La tabla 4 más abajo indica respectivamente los valores T_{L}, R_{L}, a*(R), b*(R), \varepsilon del sustrato monolítico relativo a este ejemplo.

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TABLA 4

5

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Ese sustrato se monta después en doble acristalamiento con otro sustrato de vidrio claro del mismo espesor, igual a 4 mm con una lámina intercalada de argón de 15 nm, estando el apilamiento según la invención en cara 3 de ese doble acristalamiento.

La tabla 5 más abajo recoge las mismas características T_{L}, R_{L}, a*(R), b*(R), \varepsilon así como el valor del coeficiente K en W/K.m^{2} del doble acristalamiento.

TABLA 5

6

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Ejemplo 3

(Comparativo)

El apilamiento de capas delgadas representado en la figure 3 es idéntico al del ejemplo 1, excepto que comprende una sola capa a base de TiO_{2}

Esta capa está incluida en el revestimiento dieléctrico subyacente a la capa a base de plata Ag.

El apilamiento tiene, por tanto, la secuencia siguiente:

Vidrio/TiO_{2}/ZnO/Ag/Ti/SnO_{2}

La tabla 6 más abajo indica respectivamente los valores T_{L}, R_{L}, a*(R), b*(R), \varepsilon del sustrato monolítico relativo a este ejemplo.

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TABLA 6

7

La tabla 7 más abajo recoge las mismas características T_{L}, R_{L}, a*(R), b*(R), \varepsilon así como el valor K en W/K.m^{2} del doble acristalamiento.

TABLA 7

8

Ejemplo 4

(Comparativo)

El apilamiento de capas delgadas representado en la figura 4 es idéntico al del ejemplo 1, excepto que comprende una sola capa a base de TiO_{2} presente en el revestimiento dieléctrico sobre la capa de plata Ag.

El apilamiento tiene, por tanto, la secuencia siguiente:

Vidrio/SnO_{2}/ZnO/Ag/TilTiO_{2}/SnO_{2}

La tabla 8 más abajo indica respectivamente los valores T_{L}, R_{L}, a*(R), b*(R), \varepsilon del sustrato monolítico relativo a este ejemplo.

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TABLA 8

9

La tabla 9 más abajo recoge las mismas características T_{L}, R_{L}, a*(R), b*(R), \varepsilon así como el valor del coeficiente K en W/K.m^{2} del doble acristalamiento.

TABLA 9

10

Claims

1. Sustrato transparente (1), en particular de vidrio, dotado de un apilamiento de capas delgadas que comprende al menos una capa metálica (4) con propiedades de reflexión en el infrarrojo, en particular de baja emisividad, dispuesta entre dos revestimientos a base de material dieléctrico, comprendiendo el revestimiento subyacente una capa de anclaje (3) a base de óxido de zinc ZnO, eventualmente dopado con aluminio ZnO:Al, directamente en contacto con la capa metálica, comprendiendo cada uno de los dos revestimientos a base de material dieléctrico al menos una capa de índice de refracción elevado, estrictamente superior a 2, caracterizado porque el revestimiento a base de material dieléctrico dispuesto encima de la capa metálica comprende la secuencia de capas depositadas en el orden siguiente:

a): capa(s) de material(es) de índice de refracción n_{i-2} de a lo sumo 2,2, en particular inferior a 2,2 o comprendido entre 1,9 y 2,1;

b): capa(s) de material(es) de índice de refracción n_{i-1} inferior en al menos 0,3 al n_{i} de la o las última(s) capa(s), en particular inferior a 1,8;

c): última(s) capa(s) de material(es) de índice de refracción n_{i} considerablemente igual a n_{i-2}.

2. Sustrato de acuerdo con la reivindicación 1, caracterizado porque la capa metálica con propiedades de reflexión en el infrarrojo es a base de plata.

3. Sustrato de acuerdo con la reivindicación 1 ó 2, caracterizado porque la capa metálica con propiedades de reflexión en el infrarrojo tiene un espesor geométrico comprendido entre 7 y 20 nanómetros, en particular entre 9 y 15 nanómetros, para conferirle propiedades de baja emisividad o comprendido entre 20 y 25 nanómetros para conferirle propiedades antisolares.

4. Sustrato de acuerdo con una de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque comprende una capa metálica de protección situada inmediatamente encima y en contacto con la capa de propiedades de reflexión en el infrarrojo.

5. Sustrato de acuerdo con la reivindicación 4, caracterizado porque dicha capa metálica de protección es a base de un metal único elegido entre niobio Nb, titanio Ti, cromo Cr o níquel Ni o de una aleación de al menos dos de esos metales, en particular de una aleación de níquel y de cromo (Ni/Cr), y porque la capa metálica tiene preferentemente un espesor geométrico inferior o igual a 2 nanómetros.

6. Sustrato de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque la capa de anclaje tiene un espesor geométrico comprendido entre 5 y 40 nanómetros, en particular entre 15 y 30 nanómetros.

7. Sustrato de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque la capa de anclaje es a base de óxido de zinc, al menos cristalizado en parte.

8. Sustrato de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque cada una de las capas de índice de refracción elevado es a base de un material elegido entre óxido de biobio Nb_{2}O_{5}, óxido de bismuto dopado con manganeso Bi_{2}O_{3}:Mn, un óxido mixto de zinc y de titanio ZnTiO_{x}, óxido de titanio TiO_{2}, óxido mixto de tántalo y de titanio TaTiO_{x}, un óxido mixto de circonio y de titanio ZrTiO_{x}.

9. Sustrato de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque el revestimiento dieléctrico encima de la capa metálica reflectora comprende una superposición de capas, de las cuales una capa de índice superior o igual a 2,2 y una capa cuyo índice de refracción es inferior o igual a 1,8, en particular inferior a 1,6.

10. Sustrato de acuerdo con la reivindicación 9, caracterizado porque la capa de índice inferior o igual a 1,8 es a base SiO_{2}, SiON, o SiOAl.

11. Sustrato de acuerdo con una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque el revestimiento dieléctrico encima de la capa metálica reflectora comprende una superposición de capas, de las cuales una capa de índice superior o igual a 2,2 con una capa encima de índice inferior, en particular de índice comprendido entre 1,9 y 2,1, como SnO_{2}, Si_{3}N_{4}, AlN, ZnO.

12. Sustrato de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque una capa de índice de refracción superior o igual a 2,2, del tipo TiO2, está dispuesta entre la capa metálica reflectora y la secuencia de capas a), b), c).

13. Sustrato de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque presenta una emisividad de al menos 0,025.

14. Acristalamiento múltiple de baja emisividad o antisolar, en particular doble acristalamiento, que comprende el sustrato de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones precedentes, estando el apilamiento de capas delgadas en caras 2 y/o 3 y, llegado el caso, en cara 5.

15 Doble acristalamiento de baja emisividad que comprende al menos un sustrato de acuerdo con una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 12, caracterizado porque presenta una transmisión luminosa T_{L} de al menos 72%.

16 Doble acristalamiento de acuerdo con la reivindicación 15 que comprende dos hojas de vidrio, caracterizado porque presenta un coeficiente K inferior o igual a 1,4 W/K.m^{2} cuando las dos hojas de vidrio están separadas por una lámina de aire, o inferior o igual a 1,1 W/K.m^{2} cuando las dos hojas de vidrio están separadas por una lámina de argón.