JP2001520937A - 安定化粒子、その製造方法、およびその用途 - Google Patents
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Abstract
Description
定すると、本発明は、絶縁、半導体および/または金属コーティングによって安
定化されたナノパーティクルのような約0.1ミクロンまたは100nm未満の
サイズを持つ粒子に関するものである。
疫ラベリングおよび濃縮分散液における追跡拡散研究にわたる、広い多様性の潜
在的用途を持つ。ナノパーティクルは特有の光学的、電気的および磁気的な特性
を持つ。ナノパーティクルは典型的に光学的に透明である。大規模な製造におけ
る主要な難点は、金属コロイドが複雑な二層構造を持ち、その安定性は電子的な
平衡およびイオン/ポリマー吸着の両方によって制御されていることである。
な電子的な特性により、技術的な面で極めて高い重要性を持つ。半導体材料がナ
ノパーティクルサイズの範囲で調製される場合、その電子密度状態は組織的な方
法によって変化し、その金属の光学的および電子的特性に強く影響を与える。半
導体ナノパーティクルの表面は、半導体物理学の観点からかなり不完全であり、
そのためバルク固体のエネルギーギャップ範囲内のエネルギー準位は、原子位置
の再構築によって発生する。
るリガンドまたは安定剤を慎重に選択することによって、大きく促進されうる。
例えば、高分子の安定剤は水溶液において非常に有効な分散剤であり、一方で長
鎖の界面活性剤または化学特異的なリガンドは有機溶媒において広く使用されう
る。あるいは、安定化は、ミセルまたはミクロエマルジョンにおいて粒子を仕分
けすることによって達成され、ただしマトリックスと粒子の還元反応を阻止する
必要のある場合には、ガラスまたはゾルゲルにおける非可動化はより好ましい技
術である。ごく最近、ラングミュア−ブロジェット(LB)膜が粒子安定剤とし
て使用されており、界面活性剤で安定化した金属粒子の電気積層が、規則的な二
次元結晶を形成するために使用されている。これらの様々な技術は、純金属粒子
の合成だけでなく、半導体粒子、ナノサイズの合金、混合金属粒子、および被膜
された粒子、同様に非球形で幾何学的な形の粒子(例えば、ロッド状または平板
状)にも使用される。
す。この問題を回避するために、粒子の凝集を防ぐような安定剤を見出すことが
望ましい。加えて、安定剤は化学的に不活性で光学的に透明であることが好まし
い。例えばペイントおよび磁性流体から高品質の紙用塗料までの広範囲な工業的
コロイド製品において使用されているシリカ、被膜材料によって、これらの条件
は満たされうる。
または電子的なプロセス中に粒子の凝集を防ぐことに加えて、シリカシェルは、
基礎になる粒子の構造に順応できるような破壊された(無定型の)構造によりパ
ッシバント(passivant)として作用することが予想される。
皮膜を形成しないためにシリカに対して非常に低い親和性しか持たない。さらに
その上、このような金属の表面上には、通常飽和したカルボン酸または他の有機
アニオンが吸着し、凝集に対して粒子を安定化している。これらの安定剤もまた
、金属表面のガラス非親和性に寄与している。
く、粒子およびそれらの表面に安定性を与えるために、シリカのような安定した
物質で粒子を被膜する方法が必要である。 発明の概要 従って、本発明の目的は、当分野の上記必要性を解決することである。
グで粒子を安定化する方法を提供する。該方法は:(i)粒子のソースとコーテ
ィングのソースとを混合し、粒子−コーティング混合物を提供し;(ii)該粒子
−コーティング混合物に構造式(I)
能基であり、チオール、アミン、ホスフィン、リン酸、ホウ酸、テトラアルキル
アンモニウム、カルボキシル、ケイ酸、シロキシル、セレン酸、ヒ酸、およびア
ルミン酸よりなる群より選択され、Bは、コーティング層の核形成のために核粒
子の表面を活性化する官能基であり、チオール、アミン、ホスフィン、カルボキ
シル、ケイ酸、シロキシル、シラン、セレン酸、ヒ酸、およびアルミン酸からな
る群より選択され、Xは、任意の連結基である。) で示される二官能リガンドを添加する。
合され、粒子−リガンド混合物を提供し;(ii)粒子−リガンド混合物をコーテ
ィングのソースに添加し;(iii)該二官能リガンドとコーティングを該粒子上 に積層する。
れ安定化された粒子が提供される。
介して前記粒子に結合され絶縁、半導体、および/または金属コーティングによ
って安定化された粒子が提供される。
グナルを提供できるようなリガンドと共にサンプルをインキュベーションしてな
る検体を含むことが推測されるサンプルにおいて、検体の存在を検出するための
方法が提供され、ただし該リガンドはここで開示された被膜粒子からなる。
る顔料またはペイント着色剤が提供される。
の実施形態は想到するであろう。 発明の詳細な説明 本発明の方法の実施は、特に指示がない限り、当業界の技術範囲内の合成有機
化学の通常の技術を用いる。このような技術は引用文献によって完全に説明され
る。例えば、カーク オスマーズ科学技術百科(Kirk−Othmer’s
Encyclopedia of Chemical Technology)
;ハウスの現代合成反応(House’s Modern Synthetic
Reaction)、およびC.S.マーベル(C.S.Marvel)とG
.S.ハイアー(G.S.Hiers)のテキストの、有機合成(ORGANI
C SYNTHESIS,Collective Volume1)である。
an”、および“the”は、明確な記述がない限り、複数の言及を含む。従っ
て、例えば“官能基”という言及は、このような基の一つ以上を含み、“コーテ
ィング層”という言及はこのような層の一つ以上を同様に含む。 A.定義 本発明の説明において、以下の言葉が使用され、以下に示すように定義される
。
非分岐の飽和炭化水素基であり、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプ
ロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、オクチル、デシル、テトラデシ
ル、ヘキサデシル、エイコシル、テトラコシル等であり、同様にシクロアルキル
基であり、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル等である。“低級アルキル”
という言葉は、炭素原子1〜6,好ましくは1〜4のアルキル基のことである。
二重結合を含む炭素原子2〜24の分岐または非分岐の炭化水素基であり、例え
ば、エテニル、n−プロペニル、イソプロペニル、n−ブテニル、イソブテニル
、t−ブテニル、オクテニル、デセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、エ
イコセニル、テトラコセニル等である。ここで好ましいアルケニル基は、2〜1
2の炭素原子および2〜3の炭素−炭素二重結合を含む。“低級アルケニル”と
いう言葉は、炭素原子2〜6のアルケニル基であり、好ましくは2〜4の炭素原
子、一つの−C=C−結合を持つ。
結合を含む炭素原子2〜24の分岐または非分岐の炭化水素基であり、例えばエ
チニル、n−プロピニル、イソプロピニル、n−ブチニル、イソブチニル、t−
ブチニル、オクチニル、デシニル等である。ここで好ましいアルキニル基は、2
〜12の炭素原子を含む。“低級アルキニル”という言葉は、炭素原子2〜6の
アルキニル基、好ましくは炭素原子2〜4および一つの−C≡C−を含むもので
ある。
ウ素を意味する。
ーティングからなるCdSを含む核粒子を意味する。
て、粒子と結合できる第一官能基およびコーティングに結合できる第二官能基を
含む任意の単一または複数鋸歯状のリガンドである。好ましくは、該第一官能基
は粒子に結合し、該第二官能基は一つまたはそれ以上の結合部位を介してコーテ
ィングと結合する。
かもしれないし、または生じないかもしれない、という意味であり、その説明は
、前記現象または状況が生じる場合、および生じない場合を含む。例えば、“任
意に置換された低級アルキル”という表現は、低級アルキル基は置換されていて
もされていなくてもよいという意味であり、その記述は非置換の低級アルキルお
よび置換基を有する低級アルキルの両方を含む。
定化は、絶縁、半導体、金属またはそれらの組み合わせである粒子上にコーティ
ングを提供することによって達成される。該コーティングは、第一官能基および
第二官能基を含む二官能リガンドを介して粒子に結合する。 該粒子は、好ましくは約0.1ミクロン、すなわち100ナノメーター未満のサ
イズを持つナノパーティクルである。好ましくは、該粒子は40nm未満の直径
を持つ。より大きい粒子はコーティングプロセス中に沈殿する問題を生じること
がある。該粒子は、形状において一般的な球状から楕円を通して、円柱またはロ
ッド状に変えることができる。非球状の粒子において有効な直径は、(abc) 1/3 であり、ここでa、bおよびcは粒子の座標軸である。従って、a=b<< cであるロッド状粒子の場合、ロッドの長さ(c)は100nmを超過し、その
ときの(abc)1/3は100nm未満である。好ましくは、(abc)1/3は2
0nm未満で、光学的に透明になる。粒子サイズの分布(distributi
on)が存在し、本明細書中において、我々は数値の平均値で直径を言及してい
る。比較的狭い幅の分布が好ましく、望ましくない光散乱または沈殿の原因とな
る大きい粒子が低い比率であるためである。該粒子は金属、例えば、銅、銀、金
、プラチナ等、または金属化合物もしくは合金であり、例えば金属硫化物、金属
ヒ化物、金属セレン化物、金属テルル化物、金属酸化物、金属ハライド、または
それらの混合物である。好ましい粒子は、半導体ナノパーティクルである。半導
体ナノパーティクルの例は、硫化カドミウム(CdS)、ゲルマニウム(Ge)
、ケイ素(Si)、炭化ケイ素(SiC)、セレニウム(Se)、セレン化カド
ミウム(CdSe)、テルル化カドミウム(CdTe)、硫化亜鉛(ZnS)、
セレン化亜鉛(ZnSe)、酸化亜鉛(ZnO)等である。これらの半導体ナノ
パーティクルは、電磁スペクトルの可視範囲において、強い蛍光を示すことが知
られている。例えばポリ(ピロール)のようないくつかの有機ポリマーもまた、
導電性蛍光粒子およびナノパーティクルとしての析出物を形成する。このような
ポリマーナノパーティクルもまたここで開示した方法を用いて安定化することが
できる。
形成する二つまたはそれ以上の化合物でありうる。例えば、Cd(NO3)2およ
びNa2Sは結合して半導体CdSを形成する。金属核の場合、粒子のソースは 、通常、還元されて望ましいサイズおよび形状を持つ金属粒子を形成することの
できる金属塩であり、例えば、AuCl4 -は金粒子のソースであり、AgNO3 は銀粒子のソースである。被膜される粒子は、すでに核/シェル構造または核被
膜構造をもちうる。それゆえにこの場合、該粒子は複数のコーティング層を持ち
うる。 粒子はコーティング層で被膜される。好ましくは、コーティング厚さは10〜3
0nmである。コーティング厚さが10nm未満の場合、被膜粒子はいくらかコ
ロイド的な不安定さを示す。コーティング厚さが30nmを著しく超過する場合
、被膜粒子は好ましくない光散乱を起こす。好ましくは、被膜粒子もまたナノパ
ーティクルである。そのコーティングは二官能リガンドを介して粒子と結合する
。該二官能リガンドは式:
ることができ、それゆえに表面状態および表面トラップエネルギーを変化させ、
光励起されたナノパーティクルにおいて表面の蛍光および非放射性の減退経路を
制御し、または影響を与えている。該第一官能基は、単一鋸歯状または複数鋸歯
状であり、これは粒子への結合を増強しうる。選択された第一官能基は、被膜さ
れた粒子のタイプに依存しうることが理解される。該第一官能基の構造はまた、
粒子の表面に結合したときに変化しうる。例えば、第一官能基が−NH2の場合 、次にNだけが粒子表面に結合する。−SHの場合、Sだけが粒子表面に結合す
る。該第一官能基は、ここで開示された方法に従って被膜された粒子に結合する
ように選択され、それによって一つ以上ののコーティング層を含む粒子を提供す
る。
力を持つ化学的本体または基である。該第二官能基はまた、コーティング層にお
いて蛍光を活性化させうる。選択された第二官能基は、積層されるコーティング
のタイプに依存する。例えば、シラン第二官能基活性化剤は通常、pH2以上の
水中で負電荷を持つ。NR4 +(ただしRはメチルまたはエチルのようなアルキル
基である)のような陽イオンの第二官能基は、AuCl4 -、PtCl6 2-、また はSNO3 2-のような陰イオンのコーティング種類の積層に対してより有効であ る。いくつかの場合において、導電性ポリマーのような有機コーティングを表面
に塗布することは有効であり、活性化した核粒子からの電子移送を補助する。こ
の場合、第二官能基は、ポリマーコーティングのアルキル鎖と結合できる不飽和
エチレンまたはアリル基でありうる。その活性化している基は次に、ポリマーコ
ーティングの主鎖またはペンダント基の任意の官能基に結合するために活用され
る。このようなコーティング活性化剤からなる二官能リガンドは、活性化された
核粒子を、プラスチックのような有機膜に埋められる導電性層で被膜させること
ができる。
アルキニルスペーサーのような直鎖、分岐または環状の炭化水素を含み、任意に
フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素のよなハライド基で置換されうる。好ましく
は、該スペーサーはアルキルまたはフッ化アルキル鎖である。
(SH(CH2)3(Si(OMe)3))(“MPS”)、1,3−プロパンジ チオール((HS(CH2)3SH)2)、3−アミノプロパンチオール((HS (CH2)3NH2))(“APT”)および3−アミノプロピルトリメトキシシ ラン(NH2(CH2)3Si(OMe)3)(“APS”)である。一つの好まし
い実施形態において、該二官能リガンドは、MPS、APT、またはAPSであ
る。これらのリガンドは、メルカプトまたはチオールおよびアミノ基は、第一官
能基として機能し、トリメトキシシラン基は第二官能基として機能している。他
の好ましい実施形態において、第二官能基は、(Si(OEt)3)のような他 のアルコキシシラン基、またはSi(OPr)3のような任意の水溶性官能基で ありうる。言い換えれば、第二官能基は、構造式(Si(OR)3)(ただし、 Rはアルキル基であり、好ましくは低級アルキル基である)を持つ水溶性官能基
である。一方で本発明の明細書中で、Rがメチル基の例が説明されているが、他
のアルキル、特に低級アルキル基も適切なコーティングを提供するのに用いられ
得る。プロピル基はスペーサーとして作用する。活性化剤がHS(CH2)3SH
の場合、その核粒子はSH基で活性化され、その表面はまたCd2+およびAg+ を含むほとんどの金属イオンに強く結合する基で被膜される。この表面は次にC
dS、CdSeまたはZnSeのような金属硫化物コーティング、もしくはAg
またはAuのような金属コーティングそれ自身の核形成のために適している。
な絶縁、半導体、および/または金属コーティングは、シリカ、Se、ポリ(ピ
ロール)のような有機導電性ポリマー、チタニア(TiO2)、ジルコニア(Z rO2)、アルミナ(Al2O3)、酸化亜鉛(ZnO)、二酸化錫(SnO2)ま
たは酸化マグネシウム(MgO)のような金属酸化物、CdSおよびZnSのよ
うな金属硫化物、CdSeおよびZnSeのような金属セレン化物、CdTeお
よびZnTeのような金属テルル化物、ヨウ化銀(AgI)および臭化銀(Ag
Br)のような金属ハライド、プラチナ、パラジウム、イリジウムまたは合金の
ような触媒的に活性な金属およびそれらの混合物、ビスマスのような非一般的な
光学特性を持つ金属、または銅、銀または金のような金属それ自身を含む。シリ
カは多様な溶媒に溶解できる能力、および凝集に対する耐性のために好ましいコ
ーティングである。該コーティングは、好ましくは均一かつ微孔性であり、これ
により例えば光化学的な分解から粒子を保護する。しかしながら、“コーティン
グ”という言葉は、ここでは広義で用いられており、部分的および全体の被膜両
方、同様にコーティングの複数層に言及している。全体のコーティングが望まし
いが、実験上の制限の結果または必要な効果は不完全なコーティングで達成され
るために、それは可能ではない。
、または結合したときにコーティングを形成する二つもしくはそれ以上の化合物
のいずれかであり得る。該コーティングがシリカの場合、ケイ酸ナトリウムは好
ましいソースである。活性化した粒子に最適な割合でCd2+およびH2Seを添 加して、CdSeで粒子を被膜させる。代わりに、AuCl4 -の遅い還元によっ
て、上述したメルカプト−活性化表面上で金で粒子を被膜するのに使用しうる。
状態を最適化するために行われる。シリカによるコーティングの場合、最適には
積層は約pH9〜12で起こる。そのときシラン活性化剤リガンドは負電荷であ
り、これは陽イオン種の積層で有利である。しかしながら、非常に高いpHは、
コーティングが完了できないほど迅速な金属水酸化物または酸化物の沈殿をしば
しば引き起こす。例えば、シラン−活性化核粒子上のアルミナまたはチタニアの
積層の場合、低いpHは、溶液中でのシラン基および金属陽イオン間の接触を弱
めることで、加水分解を遅くし、純粋なコーティング粒子の核形成を少なくする
。最適pHは、活性化された表面上への積層を最大化する一方で、分離したコー
ティング粒子形成を最小化するようなものである。Al2O3、TiO2、ZrO2 およびSnO2のような金属酸化物コーティングにおいて、シラン基は使用する のに最も簡単で安価な活性化剤であるが、しかし例えばコーティング活性化剤と
してTi、Al、またはSnアルコキシド基を含む特別に合成された活性化剤は
、より効果的である。
ースと、コーティングのソースとの反応、および(ii)式A−X−B(ただし、
A、XおよびBは上述したとおりである。)の二官能リガンドの添加を含む。代
わりに、粒子のソースははじめに二官能リガンドと反応し、続いてコーティング
を添加する。これらはじめの二つの段階は、任意の溶媒中で実施され、好ましく
は水および/またはエタノールのようなアルコールである。粒子サイズは、試薬
の添加によって影響されうる。各試薬は、一般的に、例えば磁気撹拌のような任
意の適切な周知の技術によって添加される。粒子、二官能リガンドおよびコーテ
ィングが混合された後、該二官能リガンドおよびコーティングは該粒子上に積層
される。積層段階の継続期間は、約6時間〜約7日であり、コーティングが改変
された粒子表面上に積層されていることを確かめる。
、そのために存在しうる任意の過度に溶解したコーティングが被膜粒子上に析出
して、それによりその上のコーティングの厚さが増す。
ロイドインターフェースサイエンス(J.Colloid Interface
Sci.)26:62において説明されている方法が、コーティングがシリカの
場合にさらなるコーティングの成長のために使用されうる。簡単にいえば、この
技術はテトラエトキシシラン(“TES”)の塩基触媒加水分解、およびシリカ
モノマーの存在する被膜粒子上での濃縮/重合を用いている。
特性を保存している。加えて、該コーティングは粒子の光化学的な分解を防ぎ、
これは高温または光学的応用において有利である。該コーティングはまた、これ
らの粒子がガラス、ポリマーおよび溶媒を含む広範囲の基質で分散することがで
きる。
しての有用性を見出している。例えば、リガンドの一部として被膜粒子が存在す
ることにより、特異的に検体に結合し、検知できるシグナルを供給できるリガン
ドと共にサンプルをインキュベーションした検体を含むことを推測されるサンプ
ルにおいて、検体の存在を測定する方法を提供している。該リガンドは、特異的
に検体と結合できる任意の分子である。このように該リガンドは、抗原またはエ
ピトープ特異的モノクローナルもしくはポリクローナル抗体、ポリまたはオリゴ
ヌクレオチド検体の核酸配列と相補的な核酸配列を含むポリまたはオリゴヌクレ
オチド、例えば細胞表面受容体分子のような細胞受容体分子に特異的に結合でき
る受容体アゴニストまたはアンタゴニスト、細胞質受容体分子、核受容体分子等
であり得る。該被膜粒子は、当業界で周知の技術を用いてリガンドに結合されう
る。
体に結合し被膜粒子−リガンド:検体複合体を形成するのに十分な時間、それら
と共にインキュベーションされる。該被膜粒子−リガンド組成物の量と、該被膜
粒子−リガンド組成物が該検体に結合するのに必要とされる時間は、当業界の任
意の方法手順を用いて決定されうる。該被膜粒子−リガンド:複合体は、濾過、
遠心分離等の方法を用いて結合していない被膜粒子−リガンド組成物から分離さ
れる。該被膜粒子−リガンド組成物の存在は、蛍光、発光、吸収、回折、または
散乱方法を用いて検出されうる。検出された被膜粒子−リガンド:検体複合体の
量は、検体を既知の濃度で含むサンプルを用いて調製された標準曲線と比較する
ことにより定量される。
、蛍光および電子のような光学の分野において存在する。
は、説明の目的ためだけに提供されるものであり、本発明の範囲を限定するため
のものではない。
なされたが、いくつかの実験的な誤差および偏差はもちろん許容されるべきであ
る。 全般の実験 テトラエトキシシラン(“TES”)、ケイ酸ナトリウム(Na2O(SiO2 )3-5(27質量%SiO2))はアルドリッチ社(Aldrich)より購入し
た。Cd(NO3)2(メルク)、Na2S(シグマ)および3−メルカプトプロ ピルトリメトキシシラン(MPS)を使用した。テクニカルグレードのエタノー
ル(Panreac)および蒸留水が全ての調製において使用された。
kVで稼働して実施された。サンプルは、炭素被膜銅グリッドのトップ上に蒸発
させてそれらを液滴にすることで調製された。UV−可視スペクトルは、1−c
mパスレングス石英キュベットでHP8453ダイオードアレイスペクトルフォ
トメーター(HP8453 diode array spectrophot
ometer)を用いて測定された。
下および窒素雰囲気下で添加した。最終的なCdS粒子の濃度は0.4mMであ
った。
激しい磁気撹拌下で添加した。ケイ酸ナトリウム(0.54質量%溶液2.0m
l、pH10.5)を添加し、再び激しく撹拌した。生じた分散液(pH>8.
5)は、粒子サイズ5〜10nmであり、これを5日間置き、それにより改変さ
れたCdS粒子表面上にシリカをゆっくり重合させる、または形成された。シリ
カ被膜CdS粒子の分散液は、エタノール中に移相され、それにより超過して溶
解したケイ酸塩が析出し(主に存在する核上に)、シェル厚さを増加させた。
長のために使用された。この方法はTESの塩基触媒加水分解、および存在する
核上での連続したシリカモノマーの濃縮/重合を含む。 A.クエン酸塩を用いた安定化 クエン酸鉄は、多様な無機コロイドの保護剤として使用された。異なるクエン
酸/Cd2+濃度比が試験され、最適値0.45が見出され、これは残りの全ての
実験で使用された。この方法で得られたCdS粒子の平均粒子サイズは、7nm
であった。
粒子表面での全体のアニオン対の形成を通して生じる硫化物ラジカルの酸化:
に代わるよりわかりやすい方法は、窒素雰囲気下で反応させることである。酸素
がない状態で合成が起こる場合、調製されたコロイドは数週間光分解に対して安
定であり、さらに予防しなくてもその上で改変のために実施されることができる
。 B.MPSの役割 粒子表面におけるケイ酸部位の接着は、シランカップリング剤が溶液中に存在
する場合にのみ効果的になされうる。このようなカップリング剤は、コロイド表
面をガラス親和性にしてケイ酸積層を促進させるための表面プライマーとして作
用する。
を溶液方向にしたままで、表面Cd部位と直接結合できるメルカプト基を有する
ためにMPSが選択された。これらのケイ酸イオンは粒子が凝集しないでエタノ
ールへの移送を可能とするはじめのシリカシェルを形成している。非常に薄いシ
リカシェルは光分解を防ぐのには不十分であり、これは主にそれらを通してO2 分子を散乱させるのに十分大きい孔の存在による。 C.エタノールへの移送 溶媒交換プロセスは二つの重要な役割を担う:一つは、溶液中にまだ存在する
全てのケイ酸部位(モノマーまたはオリゴマー)を、突然の溶解性の減少により
沈殿させることを行い、もう一つは、所望される場合、より厚いシェルの成長の
ために必要とされる。適切なエタノール:水の容積比(シリカ粒子の自発的な核
形成が最小化される一方で、核上での最大ケイ酸積層が達成されるような比)は
、約4:1〜約5:1であることが見出された。 D.電子顕微鏡トランスミッション 図3は、次に説明する方法で調整された粒子のTEM下での外観である。Cd
Sよりわずかに高いSiO2の電子吸収により、シリカシェルにより包囲された 核を均質に示すのに十分なコントラストを提供している。図3に示すように、C
dS粒子の結晶特性が、無定型シリカシェルの対比によって観察された。核なし
および複数核シリカ粒子の両方は、エタノールへの移送中もなお形成された。そ
のシェルは、より厚く形成され、その粒子表面はアンモニアおよびTESの添加
によりよりなめらかであり、CdS核がそれらの中心に位置する単分散シリカ球
体を生じた。 E.光分解に対する安定化 シリカ被膜粒子は被膜していない粒子に比べて、光分解に対して遙かに安定で
あり、それによりサンプルはそれらの吸収スペクトルのわずかな変化しか起こさ
ずに数週間光の中で保存することができた。例として、図5は、シリカ被膜粒子
と比較したクエン酸安定化粒子のスペクトルの時間経過を示す。この効果は、モ
ノマー添加を介してエタノール中で成長したシリカシェルの小さい孔サイズに関
連しており、これによりO2分子が粒子表面に達するのを非常に困難にしている 。このような保護は、実践的な用途を持つ安定なナノ構造の材料の調製において
大きな重要性を持つ。 F.シリカ被膜CdSの光学的特性 球状粒子の分散液の光学的特性は、Mie理論(M.ケルカー(M.Kerk
er)の、光の散乱および他の電子磁気的放散(The Scattering
of Light and Other Electromagnetic
Radiation)(アカデミックプレス、ニューヨーク、1969年))に
よって予測される。この理論に従って、定められた波長における分散液の吸光係
数は、その波長における粒子の複素誘電率、および溶媒の反射指数に依存する。
粒子サイズは、金属および半導体粒子にとって特別な重要性をもつパラメータで
あり、これは定量的なサイズ効果を示す。
性のデータを考慮する必要がある。シリカにとって、実際の誘電率要素だけが考
慮され、反射指数の平方(1:456)が使用される。裸のCdS球状粒子のス
ペクトルは、6nmの直径、および5nm厚さのシリカシェルによって包囲され
た同じ粒子の直径で計算される。これらのスペクトルは、図5において、小さい
CdS粒子をエタノールに移送し、連続してTESで成長させることによって得
られたサンプルの実測スペクトルとを比較したものである。両方のプロット間で
の一致はかなり良好であり、シリカ被膜粒子において、主に吸収初期より低い波
長で増加した吸光がみられ、さらにシリカ積層により顕著に変化することはなく
、ここで開示されたように実施された場合にシリカ積層が顕著な融合または凝集
に至ることもないという、CdS粒子の光学的特性を示している。これはまた、
図2で示された結果によっても確かめられる。 G.電子発光 図6において、CdS@SiO2粒子の発光スペクトルが示されている。吸光 波長は400nmである。580nmの最大強度で、強く、広いピークが観察さ
れた。これは、CdS−シリカ界面の表面状態でトラップされた電荷担体の組み
替えに起因する。表面状態の密度はMPSの吸着により劇的に増強されて、人の
目で簡単に視ることのできる強い蛍光を生じる。これらの被膜粒子は、ロータリ
ーエバポレーションによって濃縮することができ、より粘性の溶液を形成し、ま
たは必要であればポリビニルアルコール、ポリビニル酢酸またはポリアクリル酸
を添加することでより粘性のものを形成することができる。しかしながらこれは
積層条件にのみ影響を与え、決定的ではない。
m)上で、インジウム錫酸化物(ITO)ガラス(1cm×1cm)にこのよう
な粘性ポリマー調製物を塗布することによって調製される。ディップコーティン
グ、スクリーン印刷、またはスプレーコーティング等の他のコーティング方法も
用いられ得る。該フィルムは100℃未満のオーブンで被膜粒子を乾燥すること
でより厚く形成され、次に2回目または複数のコーティングを塗布する。最適の
量およびスピン速度は、塗布するコロイド溶液の正確な粘度による。
もまたAg/AgCl基準電極およびプラチナフラッグ対電極を含む。ITO電
極のポテンシャルがよりマイナスに形成されるため、光は図7に示すように電極
から観察される。ポテンシャルがよりマイナスに形成されるので、その強度は増
加する。その強度は複雑な方法で加電圧、電極抵抗および溶液組成に依存してい
る。これらのスペクトルは、粒子を凝集から保護している一方で、被膜が電荷移
動および電子発光プロセスを粒子表面で進行させうることを示している。そのシ
リカコーティングは、粒子膜の粒子サイズおよび蛍光特性を最適な色および効果
を生じるように調節し、次に粒子特性に影響を与えないで被膜する。小さいサイ
ズを維持することによって、粒子膜からの光散乱および関連する強度ロスも最小
化できる。
る以外は実施例1の方法に従って調製した。Se@SiO2ナノパーティクルは CdS@SiO2粒子で決定したものと同様の特性を有していた。
外は実施例1の方法に従って調製した。Si@SiO2ナノパーティクルはCd S@SiO2粒子で決定したものと同様の特性を有していた。
Sと置き換える以外は実施例1の方法に従って調製した。CdSe@SiO2ナ ノパーティクルはCdS@SiO2粒子で決定したものと同様の特性を有してい た。
Sと置き換える以外は実施例1の方法に従って調製した。CdTe@SiO2ナ ノパーティクルはCdS@SiO2粒子で決定したものと同様の特性を有してい た。
る以外は実施例1の方法に従って調製した。ZnS@SiO2ナノパーティクル はCdS@SiO2粒子で決定したものと同様の特性を有していた。
き換える以外は実施例1の方法に従って調製した。ZnSe@SiO2ナノパー ティクルはCdS@SiO2粒子で決定したものと同様の特性を有していた。
る以外は実施例1の方法に従って調製した。ZnO@SiO2ナノパーティクル はCdS@SiO2粒子で決定したものと同様の特性を有していた。
溶液100mlを調製し、マグネチックスターラーを用いて迅速に撹拌した。0
.01MのAgNO3溶液5mlをピペットで添加した。この溶液は透明から透 明な黄色に変化し、小さいAgIの結晶の形成を示していた。5分以内に、AP
S(1mM、0.5ml)を添加した。20分後、活性ケイ酸イオンを添加し、
前述のように調製した。シリカの薄いシェルが24時間後に積層された。
3年85 3317)により調製されたシード粒子から成長させた。 シード金溶液: 0.5mMのHAuCl4100mlを沸騰状態で緩やかに撹拌しながら加熱 した。0.5mMのクエン酸トリナトリウム5mlの沸騰溶液をHAuCl4溶 液に迅速に撹拌しながら添加した。生じた溶液を次に撹拌しながら約15分沸騰
させた。最後に、その溶液を冷却した。 大きい粒子 25nM、15nmの金コロイドおよび1.5mlNH2OH・HClを含む 溶液50mlを調製した。1MのKOH3滴を1mNのHAuCl470mlに 添加し、pH約3〜4になった。HAuCl4溶液50mlをAuコロイド溶液 に撹拌しながら滴下した(2秒ごとに約1滴の速度で)。
ズから計算した。このような粒子は、大きく、角がありロッド状の粒子も含んで
いるが、適度に球状であった。それらは透過光のなかで紫色だが、黄色光を強く
散乱した。それらは静置すれば数時間以上で溶液から析出した。その表面は吸着
されたクエン酸および吸着されたヒドロキシアミンの両方を持ち、これらはAP
Sで置き換えられた。コーティングは実施例1の方法によって行われた。
体層で重要であり、これにより核と外部との電子輸送を行わせる。0.045M
のNa2SNO3・3H2O10mlに、1Mの硝酸3滴を添加することによって 酸性化しpHを10.5にした。1mMのAPS25μlを、0.5mM、15
nmのAuコロイド5mlに撹拌しながら滴下して加えた。15分後、錫酸塩溶
液1mlをAuコロイド溶液に撹拌しながら添加した。1週間後に溶液中の色変
化が現れた。
した。この方法で得られたコーティングは、約5〜10nm厚さであり、経過時
間、経過pHおよび錫酸イオン濃度に依存する。それはまた金コロイド濃度およ
び撹拌速度に依存する。
開示された。本発明の好ましい実施形態がいくらか詳細に説明されているが、添
付された請求項によって定義された発明の真意および範囲から逸脱することなく
、明らかな応用がなされうることはいうまでもない。
子上にシリカをコーティングすることからなる表面反応を説明した図である。
ィクルのUV−可視スペクトルの図であり、ここで実線はナノパーティクル形成
前の添加、破線はナノパーティクル形成後の添加を表したものである。
る。図3Bは、エタノールへ移送し瞬時にシリカの積層を形成することによって
調製された、ケイ酸安定化CdS@SiO2の電子顕微鏡写真である。顕微鏡の スケールは、示したとおりである。
の露光が0時間(実線)、24時間(破線)または48時間(点線)後である。
た後、およびエタノールへ移送された後のナノパーティクルのスペクトルである
。図5Bは、水中で調製された(実線)およびエタノールへ移送された後の(破
線)CdS@SiO2の、実験的に測定されたUV−可視スペクトルである。
用いて調製されたCdS@SiO2の発光スペクトルである。
用いて調製されたCdS@SiO2から観測された電子蛍光スペクトルである。
Claims (54)
- 【請求項1】 (i)粒子のソースとコーティングのソースを混合し、粒子
−コーティング混合物を提供し、 (ii)該粒子−コーティング混合物に、構造式(I): 【化1】 (ただし、Aは、粒子または粒子上に形成されたコーティングに結合する第一官
能基であり、Bは、コーティング層の核形成のために核粒子の表面を活性化する
第二官能基であり、Xは、任意の連結基である。) の二官能リガンドを添加し、および (iii)該二官能リガンドおよびコーティングを粒子上に積層させる ことを含む、被膜粒子を調製する方法。 - 【請求項2】 (i)粒子のソースと、構造式(I): 【化2】 (ただし、Aは、粒子または粒子上に形成されたコーティングに結合する第一官
能基であり、Bは、コーティング層の核形成のために核粒子の表面を活性化する
第二官能基であり、Xは、任意の連結基である。) の二官能リガンドとを混合し、粒子−リガンド混合物を提供し、 (ii)粒子−リガンド混合物にコーティングのソースを添加し:および (iii)該二官能リガンドおよびコーティングを粒子上に積層させる ことを含む、被膜粒子を調製する方法。 - 【請求項3】 該粒子はナノパーティクルである、請求項1または2に記載
の方法。 - 【請求項4】 該ナノパーティクルは金属または金属化合物からなる、請求
項3に記載の方法。 - 【請求項5】 該ナノパーティクルは、銅、銀、金およびプラチナからなる
群より選択される金属からなる、請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 該ナノパーティクルは、金属硫化物、金属ヒ化物、金属セレ
ン化物、金属テルル化物、金属酸化物、金属ハライドおよびそれらの混合物から
なる群より選択される金属化合物からなる、請求項4に記載の方法。 - 【請求項7】 該ナノパーティクルは半導体ナノパーティクルである、請求
項3に記載の方法。 - 【請求項8】 該半導体ナノパーティクルは、硫化カドミウム(CdS)、
ゲルマニウム(Ge)、ケイ素(Si)、炭化ケイ素(SiC)、セレニウム(
Se)、セレン化カドミウム(CdSe)、テルル化カドミウム(CdTe)、
硫化亜鉛(ZnS)、セレン化亜鉛(ZnSe)、または酸化亜鉛(ZnO)か
らなる、請求項7に記載の方法。 - 【請求項9】 Aは、チオール、アミン、ホスフィン、リン酸、ホウ酸、テ
トラアルキルアンモニウム、カルボキシル、ケイ酸、シロキシル、セレン酸、ヒ
酸、およびアルミン酸よりなる群より選択される、請求項1または2に記載の方
法。 - 【請求項10】 Bは、チオール、アミン、ホスフィン、カルボキシル、ケ
イ酸、シロキシル、シラン、セレン酸、ヒ酸、およびアルミン酸よりなる群より
選択される、請求項1または2に記載の方法。 - 【請求項11】 Xは存在し、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素で任意に
置換されている、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群より選択さ
れる、直鎖、分岐または環状の炭化水素である、請求項1または2に記載の方法
。 - 【請求項12】 該二官能リガンドは、3−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン(SH(CH2)3(Si(OMe)3))(MPS)、1,3−プロパ ンジチオール((HS(CH2)3SH))、3−アミノプロパンチオール((H
S(CH2)3NH2))(APT)および3−アミノプロピルトリメトキシシラ ン(NH2(CH2)3Si(OMe)3)(APS)からなる群より選択される、
請求項1または2に記載の方法。 - 【請求項13】 該コーティングのソースは、シリカ(SiO2)、Se、 有機導電性ポリマー、金属、金属酸化物、金属硫化物、金属セレン化物、金属テ
ルル化物、および金属ハライドからなる群より選択される、請求項1または2に
記載の方法。 - 【請求項14】 該コーティングのソースはシリカである、請求項13に記
載の方法。 - 【請求項15】 該コーティングのソースは、チタニア(TiO2)、ジル コニア(ZrO2)、アルミナ(Al2O3)、酸化亜鉛(ZnO)、二酸化錫( SnO2)または酸化マグネシウム(MgO)からなる群より選択される金属酸 化物である、請求項13に記載の方法。
- 【請求項16】 該コーティングのソースは、CdSまたはZnSから選択
される金属硫化物である、請求項13に記載の方法。 - 【請求項17】 該コーティングのソースは、CdSeまたはZnSeであ
る金属セレン化物から選択される、請求項13に記載の方法。 - 【請求項18】 該コーティングのソースは、CdTeまたはZnTeであ
る金属テルル化物から選択される、請求項13に記載の方法。 - 【請求項19】 該コーティングのソースは、ヨウ化銀(AgI)または臭
化銀(AgBr)から選択される金属ハライドである、請求項13に記載の方法
。 - 【請求項20】 該コーティングのソースは、プラチナ、パラジウム、イリ
ジウム、ビスマス、銅、銀、金および合金、ならびにそれらの混合物からなる群
より選択される金属である、請求項13に記載の方法。 - 【請求項21】 請求項1〜20のいずれか一項に記載の方法により調整さ
れた被膜粒子。 - 【請求項22】 前記コーティングは、構造式(I): 【化3】 (ただし、Aは、粒子または粒子上に形成されたコーティングに結合する第一官
能基であり、Bは、コーティング層の核形成のために核粒子の表面を活性化する
第二官能基であり、Xは、任意の連結基である。) の二官能リガンドを介して、前記粒子に結合する、コーティングによって安定化
された粒子。 - 【請求項23】 該粒子はナノパーティクルである、請求項22に記載の粒
子。 - 【請求項24】 該ナノパーティクルは金属または金属化合物からなる、請
求項23に記載の粒子。 - 【請求項25】 該ナノパーティクルは、銅、銀、金およびプラチナからな
る群より選択される金属からなる、請求項24に記載の粒子。 - 【請求項26】 該ナノパーティクルは、金属硫化物、金属ヒ化物、金属セ
レン化物、金属テルル化物、金属酸化物、金属ハライドおよびそれらの混合物か
らなる群より選択される金属化合物からなる、請求項24に記載の粒子。 - 【請求項27】 該ナノパーティクルは半導体ナノパーティクルである、請
求項23に記載の粒子。 - 【請求項28】 該半導体ナノパーティクルは、硫化カドミウム(CdS)
、ゲルマニウム(Ge)、ケイ素(Si)、炭化ケイ素(SiC)、セレニウム
(Se)、セレン化カドミウム(CdSe)、テルル化カドミウム(CdTe)
、硫化亜鉛(ZnS)、セレン化亜鉛(ZnSe)、または酸化亜鉛(ZnO)
からなる、請求項27に記載の粒子。 - 【請求項29】 Aは、チオール、アミン、ホスフィン、リン酸、ホウ酸、
テトラアルキルアンモニウム、カルボキシル、ケイ酸、シロキシル、セレン酸、
ヒ酸、およびアルミン酸よりなる群より選択される、請求項22に記載の粒子。 - 【請求項30】 Bは、チオール、アミン、ホスフィン、カルボキシル、ケ
イ酸、シロキシル、シラン、セレン酸、ヒ酸、およびアルミン酸よりなる群より
選択される、請求項22に記載の粒子。 - 【請求項31】 Xは存在し、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素で任意に
置換されている、アルキル、アルケニルおよびアルキニルからなる群より選択さ
れる、直鎖、分岐または環状の炭化水素である、請求項22に記載の方法。 - 【請求項32】 該二官能リガンドは、3−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン(SH(CH2)3(Si(OMe)3))(MPS)、1,3−プロパ ンジチオール((HS(CH2)3SH))、3−アミノプロパンチオール((H
S(CH2)3NH2))(APT)および3−アミノプロピルトリメトキシシラ ン(NH2(CH2)3Si(OMe)3)(APS)からなる群より選択される、
請求項22に記載の粒子。 - 【請求項33】 該コーティングは、シリカ(SiO2)、Se、有機導電 性ポリマー、金属、金属酸化物、金属硫化物、金属セレン化物、金属テルル化物
、および金属ハライドからなる群より選択される、請求項22に記載の粒子。 - 【請求項34】 該コーティングはシリカである、請求項22に記載の粒子
。 - 【請求項35】 該コーティングは、チタニア(TiO2)、ジルコニア( ZrO2)、アルミナ(Al2O3)、酸化亜鉛(ZnO)、二酸化錫(SnO2)
または酸化マグネシウム(MgO)からなる群より選択される金属酸化物である
、請求項33に記載の粒子。 - 【請求項36】 該コーティングは、CdSまたはZnSから選択される金
属硫化物である、請求項33に記載の粒子。 - 【請求項37】 該コーティングは、CdSeまたはZnSeから選択され
る金属セレン化物である、請求項33に記載の粒子。 - 【請求項38】 該コーティングは、CdTeまたはZnTeから選択され
る金属テルル化物である、請求項33に記載の粒子。 - 【請求項39】 該コーティングのソースは、ヨウ化銀(AgI)または臭
化銀(AgBr)からなる群より選択される金属ハライドである、請求項33に
記載の粒子。 - 【請求項40】 該コーティングのソースは、プラチナ、パラジウム、イリ
ジウム、ビスマス、銅、銀、金および合金、ならびにそれらの混合物からなる群
より選択される金属である、請求項33に記載の粒子。 - 【請求項41】 検体を含むと推測されるサンプル中に検体の存在を検出す
る方法であって、 (a)被膜粒子−リガンド組成物を提供し、該リガンドは被膜粒子に結合し、
さらに該被膜粒子−リガンド組成物は該検体に特異的に結合することができ、か
つ検出できるシグナルを提供することができるものであり; (b)該被膜粒子−リガンド組成物と該サンプルをインキュベーションし、被
膜粒子−リガンド:検体複合体の存在を形成し;および (c)該サンプル中の該検体の存在を示すものとして、該被膜粒子−リガンド
:検体複合体を検出する ことを含む方法。 - 【請求項42】 該被膜粒子は、構造式(I): 【化4】 (ただし、Aは、粒子または粒子上に形成されたコーティングに結合する第一官
能基であり、Bは、コーティング層の核形成のために核粒子の表面を活性化する
第二官能基であり、Xは、任意の連結基である。) の二官能リガンドを介して前記粒子に結合されたコーティングからなる、請求項
41に記載の方法。 - 【請求項43】 該粒子はナノパーティクルである、請求項42に記載の方
法。 - 【請求項44】 該ナノパーティクルは半導体ナノパーティクルである、請
求項43に記載の方法。 - 【請求項45】 該半導体ナノパーティクルは、硫化カドミウム(CdS)
、ゲルマニウム(Ge)、ケイ素(Si)、炭化ケイ素(SiC)、セレニウム
(Se)、セレン化カドミウム(CdSe)、テルル化カドミウム(CdTe)
、硫化亜鉛(ZnS)、セレン化亜鉛(ZnSe)、または酸化亜鉛(ZnO)
からなる、請求項44に記載の方法。 - 【請求項46】 該二官能リガンドは、3−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン(SH(CH2)3(Si(OMe)3))(MPS)、1,3−プロパ ンジチオール((HS(CH2)3SH))、3−アミノプロパンチオール((H
S(CH2)3NH2))(APT)および3−アミノプロピルトリメトキシシラ ン(NH2(CH2)3Si(OMe)3)(APS)からなる群より選択される、
請求項45に記載の方法。 - 【請求項47】 該コーティングは、シリカ(SiO2)、Se、有機導電 性ポリマー、金属、金属酸化物、金属硫化物、金属セレン化物、金属テルル化物
、および金属ハライドからなる群より選択される、請求項46に記載の方法。 - 【請求項48】 該コーティングはシリカである、請求項47に記載の方法
。 - 【請求項49】 該粒子は60nm未満であり、好ましくは40nm未満で
ある、請求項3に記載の方法。 - 【請求項50】 該コーティングは30nm未満の厚さを持つ、請求項3に
記載の方法。 - 【請求項51】 該粒子のサイズは60nm未満であり、好ましくは40n
m未満である、請求項23に記載の粒子。 - 【請求項52】 該コーティングは30nm未満の厚さを持つ、請求項23
に記載の粒子。 - 【請求項53】 該粒子のサイズは60nm未満であり、好ましくは40n
m未満である、請求項41に記載の方法。 - 【請求項54】 該コーティングは30nm未満の厚さを持つ、請求項41
に記載の方法。
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