JP2007077010A - 多層シェルナノ結晶及びその製造方法 - Google Patents

多層シェルナノ結晶及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2007077010A
JP2007077010A JP2006237901A JP2006237901A JP2007077010A JP 2007077010 A JP2007077010 A JP 2007077010A JP 2006237901 A JP2006237901 A JP 2006237901A JP 2006237901 A JP2006237901 A JP 2006237901A JP 2007077010 A JP2007077010 A JP 2007077010A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nanocrystal
shell
core
group
shell nanocrystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006237901A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5536972B2 (ja
Inventor
Shin Ae Jun
信 愛 田
Ginshu Cho
銀 珠 張
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electro Mechanics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electro Mechanics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electro Mechanics Co Ltd filed Critical Samsung Electro Mechanics Co Ltd
Publication of JP2007077010A publication Critical patent/JP2007077010A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5536972B2 publication Critical patent/JP5536972B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82BNANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
    • B82B3/00Manufacture or treatment of nanostructures by manipulation of individual atoms or molecules, or limited collections of atoms or molecules as discrete units
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B7/00Single-crystal growth from solutions using solvents which are liquid at normal temperature, e.g. aqueous solutions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82BNANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
    • B82B1/00Nanostructures formed by manipulation of individual atoms or molecules, or limited collections of atoms or molecules as discrete units
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/60Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape characterised by shape
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B7/00Single-crystal growth from solutions using solvents which are liquid at normal temperature, e.g. aqueous solutions
    • C30B7/005Epitaxial layer growth
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/701Integrated with dissimilar structures on a common substrate
    • Y10S977/712Integrated with dissimilar structures on a common substrate formed from plural layers of nanosized material, e.g. stacked structures
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/701Integrated with dissimilar structures on a common substrate
    • Y10S977/712Integrated with dissimilar structures on a common substrate formed from plural layers of nanosized material, e.g. stacked structures
    • Y10S977/714Containing protein
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2982Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
    • Y10T428/2984Microcapsule with fluid core [includes liposome]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Led Devices (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

【課題】簡単な工程による高再現性の多層シェルナノ結晶、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】(a)コアナノ結晶を形成させる段階、及び(b)反応速度の差を有する2種以上の前駆体を一度に反応させて、前記コアナノ結晶の表面上に組成の異なる2層以上のシェル層を順次形成させる段階、を含むことを特徴とする、多層シェルナノ結晶の製造方法である。
【選択図】図1

Description

本発明は多層シェルナノ結晶及びその製造方法に係り、より詳しくはコアナノ結晶を形成した後、反応速度の差を持つ2種以上の前駆体を同時に使用してコアナノ結晶の表面上に組成の異なる2層以上の多層シェルを順次形成させる多層シェルナノ結晶の製造方法及びそれにより製造されるナノ結晶に関するものである。
ナノ結晶は数ナノメートルレベルの大きさの結晶構造を持つ物質で、数百個〜数千個の原子で構成されており、構成物質の固有の特性とは違う独特の電気的、磁気的、光学的、化学的、機械的特性を持つ。すなわち、ナノ結晶の物理的大きさを調節することで前記特性の調節が可能になる。
このようなナノ結晶を形成するための方法として、有機金属化学気相蒸着法(MOCVD)または分子線エピタキシー(MBE)等の気相蒸着法がある。また、有機溶媒に前駆体物質を入れて結晶を成長させる湿式法も最近、迅速に発展してきている。特に、化学的湿式方法は、結晶が成長する時、ナノ結晶の表面に分散剤が配位して結晶の成長を調節するので、MOCVDまたはMBEのような気相蒸着法より容易かつ安価に、より均一な大きさ及び形態のナノ結晶を製造することができる。
特許文献1は、II−VI族化合物を分散剤及び溶媒に溶解させ、結晶が成長し得る温度を維持することでナノ結晶を形成する方法を開示しており、特許文献2は、前記と同一工程によってIII−V族化合物を利用してナノ結晶を形成する方法を開示している。
また、特許文献3は、発光効率が向上したコア−シェル構造を持つナノ結晶を開示しており、特許文献4は、このようなコア−シェル構造を持つナノ結晶物質を製造する方法について開示している。このように形成されたコア−シェル構造のナノ結晶は発光効率が30%〜50%まで向上すると報告された。
一方、特許文献5は、タイプII構造を持つコア−シェルナノ結晶の製造方法を開示している。シェル層よりもコアの方が高い伝導帯及び価電子帯を有するか、または低い伝導帯及び価電子帯を有することを特徴としている通常のタイプIIナノ結晶構造では、励起した電子と正孔は、それぞれコアとシェル層に分散して閉じ込められる。このようにして、前記タイプIIナノ結晶構造の発光波長は、量子効果の減少を伴いながら、より長波長側にシフトしうる。このようなコア−シェルナノ結晶は通常、コアを形成してそこからコアのみを一旦単離した後、前記の単離したコアを反応混合液中に入れて、前記コアの表面上にシェルを成長させることによって形成する。従って、前記コア−シェルナノ結晶の形成は複数の工程を必要とする。
前述した従来技術では、純粋な波長の光を高効率で放出するというナノ結晶の光学的特性は、電子−正孔の再結合によってエネルギーバンドギャップの端(edge)でのみ発生し、ディスプレイまたはバイオイメージセンサーに応用することができると開示されている。
米国特許第6,225,198号明細書 米国特許第6,306,736号明細書 米国特許第6,322,901号明細書 米国特許第6,207,229号明細書 米国特許出願公開第2004/0,110,002号明細書
本発明は、前記のような本発明が属する技術分野における要求に応じるためになされたものであり、本発明の一目的は、コア−シェルナノ結晶を形成する際に、途中の単離工程を省略することなどによって生成までの工程数を減らすとともに、より簡単な工程によって高再現性の多層シェルナノ結晶を製造することができる多層シェルナノ結晶の製造方法及びそれにより製造された多層シェルナノ結晶を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記方法により製造された多層シェルナノ結晶を利用した素子を提供することにある。
前記目的を達成するため、本発明の一態様によれば、(a)コアナノ結晶を形成させる段階、及び(b)反応速度の差を有する2種以上の前駆体を一度に反応させて、前記コアナノ結晶の表面上に組成の異なる2層以上のシェル層を順次形成させる段階、を含むことを特徴とする、多層シェルナノ結晶の製造方法、及びそれにより製造された多層シェルナノ結晶に係る。
前記目的を達成するため、本発明の他の態様によれば、前記方法により製造された多層シェルナノ結晶を含む素子に係る。
本発明による多層シェルナノ結晶は、その発光波長をより長波長にシフトさせること、または発光効率を向上させること、あるいは発光波長をより長波長にシフトさせるとともに発光効率を向上させること、のいずれの特性を有することも可能である。また、組成の異なるコア及びシェル層、並びに複数のシェル層同士の間の結晶格子定数の差を小さくすることにより、前記多層シェルナノ結晶の構造安定性を向上させることも可能である。また、前記多層シェルナノ結晶の製造方法においても、反応速度の異なる複数の前駆体を同時に使用し一度に反応させて製造することにより、複数の反応の間の単離工程が省略されるなど、生成までの工程数を減らすことが可能となる。更に本発明の製造方法は、前記複数の前駆体を個別に使用し複数回の反応を行わせる工程に比べて、発光効率などが向上する優れた効果を有する。
以下、本発明についてより詳細に説明する。
本発明の一実施形態は、反応速度の異なる2種以上の前駆体を同時に使用して、コアナノ結晶の表面上に組成の異なる2層以上の多層シェルを順次形成させることを特徴とする多層シェルナノ結晶の製造方法に係る。
すなわち、本発明の多層シェルナノ結晶(コア−シェル構造のナノ結晶)の製造方法は、(a)コアナノ結晶を形成させる段階、及び(b)反応速度の差を有する2種以上の前駆体を一度に反応させて、前記コアナノ結晶の表面上に組成の異なる2層以上のシェル層を順次形成させる段階と、を含む。
図1は本発明の一実施形態による多層シェルナノ結晶の形成段階を示す工程概略図である。図1に示すように、まずコアナノ結晶を形成した後、前記コアナノ結晶を含む溶液を、溶媒、分散剤、反応速度の異なる2種以上の金属前駆体、及びV族またはVI族前駆体からなる混合物とともにワンポットで反応させることができる。この場合、最大の反応速度を有する金属前駆体がまず前記V族またはVI族前駆体と反応して前記コアナノ結晶の表面上に第1シェルナノ結晶を形成し、続いて反応速度のより大きな金属前駆体から順次に前記V族またはVI族前駆体と反応して、前記第1シェルナノ結晶の表面上に第2、3、・・・、m、m+1、・・・、nの多層シェルナノ結晶を形成する。
または、前記コアナノ結晶を含む溶液を、溶媒、分散剤、金属前駆体、及び反応速度の異なる2種以上のV族またはVI族前駆体からなる混合物とともにワンポットで反応させることもできる。この場合は、前記金属前駆体がまず最大の反応速度を有するV族またはVI族前駆体と反応して前記コアナノ結晶の表面上に第1シェルナノ結晶を形成し、続いて反応速度のより大きなV族またはVI族前駆体から順次に前記金属前駆体と反応して第2、3、・・・、m、m+1、・・・、nの多層シェルナノ結晶を形成する。なお、nはmより大きい実数で、mとnは正数である。
このように、前記2種以上の金属前駆体または2種以上のV族若しくはVI族前駆体は、相違なる反応速度を持つように選択されることから、第1シェルナノ結晶が形成された後に、第2シェルナノ結晶を順次に一度に反応させて形成することが可能である。従って、本発明と異なり2種以上の前駆体を個別に使用し複数回の反応を行わせて多層シェルナノ結晶を製造する方法に比べ、反応同士の間の単離工程が省略されるなど、形成段階が減少して工程面で有利である。
この際、第1〜第mのシェルナノ結晶は発光波長をより長波長にシフトさせるシェルナノ結晶の層として選択でき、第m+1〜第nのシェルナノ結晶は発光効率を向上させるシェルナノ結晶の層として選択できる。結果として、本発明の多層シェルナノ結晶の製造方法は、前記のように従来よりも簡単な工程によって多層シェルナノ結晶を形成することができるにもかかわらず、前記多層シェルナノ結晶の発光波長がより長波長にシフトするとともに、発光効率を向上させることも可能となる。効果の面でも、2以上のナノ結晶を個別の反応による複数段階で形成させた多層シェルナノ結晶より、本発明によって2以上のナノ結晶を1段階で順次に形成させた多層シェルナノ結晶の方が優れた発光効率を有することが可能となる。
この際、第1〜第nのシェルナノ結晶の全てが発光波長をより長波長にシフトさせるシェルナノ結晶の層から選択されることも可能であるし、または第1〜第nのシェルナノ結晶の全てが発光効率を向上させるシェルナノ結晶の層から選択されることも可能である。また、発光波長をより長波長にシフトさせるシェルナノ結晶の層と発光効率を向上させるシェルナノ結晶の層とが混在されてなるか、または交互に形成されてなることも可能である。
また、第1〜第nのシェルナノ結晶が、コアナノ結晶との結晶格子定数の差が小さい順に、シェルナノ結晶の層が順次に形成されることも可能である。この場合、本発明のナノ結晶の製造方法は、上述のより簡単な工程によって多層シェルナノ結晶を形成することができるにもかかわらず、更に、組成の異なるコア及びシェル層の間、並びに複数のシェル層同士の間の結晶格子定数の差が小さくなるよう選択されるため、前記多層シェルナノ結晶の構造安定性を向上させる効果を発揮することができる。
具体的に、本発明によるナノ結晶の製造方法において、前記(a)の段階は、金属前駆体を溶媒及び分散剤に入れ、第1混合液を作成し、V族またはVI族前駆体を溶媒及び分散剤に入れ、第2混合液を作成し、及び前記第1混合液及び前記第2混合液を混合して反応させること、を含む。前記(b)の段階は、前記コアナノ結晶を含む溶媒及び分散剤の存在下で、反応速度の差を有する2種以上の前駆体を用いることによって行われる。より具体的には、前記コアナノ結晶を含む溶媒及び分散剤の存在下で、(i)反応速度の差を有する2種以上の金属前駆体、及びV族若しくはVI族前駆体を一度に反応させること、(ii)金属前駆体、及び反応速度の差を有する2種以上のV族若しくはVI族前駆体を一度に反応させること、または(iii)反応速度の差を有する2種以上の金属前駆体、及び反応速度の差を有する2種以上のV族若しくはVI族前駆体を一度に反応させること、のうちいずれかであることを特徴とする。
より具体的に、前記(a)及び(b)の段階の金属前駆体としては、亜鉛、カドミウム、水銀、鉛、スズ、ゲルマニウム、ガリウム、インジウム、またはタリウムのいずれかを含みうる。例えばジメチル亜鉛(dimethyl zinc)、ジエチル亜鉛(diethyl zinc)、酢酸亜鉛(Zinc acetate)、亜鉛アセチルアセトネート(Zinc acetyl acetonate)、ヨウ化亜鉛(Zinc iodide)、臭化亜鉛(Zinc bromide)、塩化亜鉛(Zinc chloride)、フッ化亜鉛(Zinc fluoride)、炭酸亜鉛(Zinc carbonate)、シアン化亜鉛(Zinc cyanide)、硝酸亜鉛(Zinc nitrate)、酸化亜鉛(Zinc oxide)、過酸化亜鉛(Zinc peroxide)、過塩素酸亜鉛(Zinc perchlorate)、硫酸亜鉛(Zinc sulfate)、ジメチルカドミウム(dimethyl cadmium)、ジエチルカドミウム(diethyl cadmium)、酢酸カドミウム(Cadmium acetate)、カドミウムアセチルアセトネート(Cadmium acetylacetonate)、ヨウ化カドミウム(Cadmium iodide)、臭化カドミウム(Cadmium bromide)、塩化カドミウム(Cadmium chloride)、フッ化カドミウム(Cadmium fluoride)、炭酸カドミウム(Cadmium carbonate)、硝酸カドミウム(Cadmium nitrate)、酸化カドミウム(Cadmium oxide)、過塩素酸カドミウム(Cadmium perchlorate)、リン化カドミウム(Cadmium phosphide)、硫酸カドミウム(Cadmium sulfate)、酢酸水銀(Mercury acetate)、ヨウ化水銀(Mercury iodide)、臭化水銀(Mercury bromide)、塩化水銀(Mercury chloride)、フッ化水銀(Mercury fluoride)、シアン化水銀(Mercury cyanide)、硝酸水銀(Mercury nitrate)、酸化水銀(Mercury oxide)、過塩素酸水銀(Mercury perchlorate)、硫酸水銀(Mercury sulfate)、酢酸鉛(Lead acetate)、臭化鉛(Lead bromide)、塩化鉛(Lead chloride)、フッ化鉛(Lead fluoride)、酸化鉛(Lead oxide)、過塩素酸鉛(Lead perchlorate)、硝酸鉛(Lead nitrate)、硫酸鉛(Lead sulfate)、炭酸鉛(Lead carbonate)、酢酸スズ(Tin acetate)、スズビスアセチルアセトネート(Tin bisacetylacetonate)、臭化スズ(Tin bromide)、塩化スズ(Tin chloride)、フッ化スズ(Tin fluoride)、酸化スズ(Tin oxide)、硫酸スズ(Tin sulfate)、四塩化ゲルマニウム(Germanium tetrachloride)、酸化ゲルマニウム(Germanium oxide)、ゲルマニウムエトキシド(Germanium ethoxide)、ガリウムアセチルアセトネート(Gallium acetylacetonate)、塩化ガリウム(Gallium chloride)、フッ化ガリウム(Gallium fluoride)、酸化ガリウム(Gallium oxide)、硝酸ガリウム(Gallium nitrate)、硫酸ガリウム(Gallium sulfate)、塩化インジウム(Indium chloride)、酸化インジウム(Indium oxide)、硝酸インジウム(Indium nitrate)、硫酸インジウム(Indium sulfate)、酢酸タリウム(Thallium acetate)、タリウムアセチルアセトネート(Thallium acetylacetonate)、塩化タリウム(Thallium chloride)、酸化タリウム(Thallium oxide)、タリウムエトキシド(Thallium ethoxide)、硝酸タリウム(Thallium nitrate)、硫酸タリウム(Thallium sulfate)、及び炭酸タリウム(Thallium carbonate)などが可能であるが、これに限定されるものではない。前記金属前駆体は、単独で使用されても、2種以上を組み合わせて使用されてもよい。このような金属前駆体のうち、反応速度の差を有する2種以上の金属前駆体を選択する場合においては、本発明が属する技術分野の当業者であるならば容易に選択可能である。
また、本発明によるナノ結晶の製造方法において、前記(a)及び(b)の段階のV族またはVI族前駆体は、V族またはVI族の元素を有する化合物であればいずれも可能である。好ましくは、アルキルチオール化合物、アルキルホスフィン(alkyl phosphine)化合物、硫黄化トリオクチルアミン(S−TOA)、トリメチルシリルサルファ(trimethylsilyl sulfur、ビス(トリメチルシリル)スルフィドともいう)、硫化アンモニウム、硫化ナトリウムが可能である。より好ましくは、アルキルチオール化合物として、ヘキサンチオール、オクタンチオール、デカンチオール、ドデカンチオール、ヘキサデカンチオール、及びメルカプトプロピルシラン化合物、アルキルホスフィン化合物として、硫黄化トリオクチルホスフィン(S−TOP)、硫黄化トリブチルホスフィン(S−TBP)、硫黄化トリフェニルホスフィン(S−TPP)、セレン化トリオクチルホスフィン(Se−TOP)、セレン化トリブチルホスフィン(Se−TBP)、セレン化トリフェニルホスフィン(Se−TPP)、テルル化トリオクチルホスフィン(Te−TOP)、テルル化トリブチルホスフィン(Te−TBP)、テルル化トリフェニルホスフィン(Te−TPP)、トリメチルシリルホスフィン(trimethylsilyl phosphine、トリス(トリメチルシリル)ホスフィドともいう)、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、及びトリシクロヘキシルホスフィン、その他として、硫黄化トリオクチルアミン、トリメチルシリルサルファ(ビス(トリメチルシリル)スルフィド)、硫化アンモニウム、硫化ナトリウムが可能である。なお、前記したメルカプトプロピルシラン化合物とは、以下の化学式で表される化合物で表すことができる。前記V族またはVI族前駆体は、単独で使用されても、2種以上を組み合わせて使用されてもよい。この際、前記金属前駆体と同様に、V族またはVI族前駆体のうち、反応速度の差を有する2種以上のV族またはVI族前駆体を選択する場合においては、本発明が属する技術分野の当業者であるならば容易に選択可能である。
一方、前記前駆体の反応性によって前記前駆体の濃度及び/または注入速度を適切に調節することで、金属粒子の析出、並びに/または金属及びVI族若しくはV族前駆体の間の反応による別位の粒子形成などの副反応が起こらないようにすることが好ましい。
また、本発明によるナノ結晶の製造方法において、前記(a)及び(b)の段階での使用可能な溶媒としては、例えば、炭素数6〜22の1級アルキルアミン、炭素数6〜22の2級アルキルアミン、炭素数6〜22の3級アルキルアミン、炭素数6〜22の1級アルコール、炭素数6〜22の2級アルコール、炭素数6〜22の3級アルコール、炭素数6〜22のケトン及びエステル、炭素数6〜22の窒素または硫黄を含む複素環式化合物、炭素数6〜22のアルカン、炭素数6〜22のアルケン、炭素数6〜22のアルキン;トリオクチルアミン、トリオクチルホスフィン、並びにトリオクチルホスフィンオキシドなどが可能であるが、これに制限されることはない。また、前記溶媒は、単独で使用されても、2種以上を組み合わせて使用されてもよい。
また、本発明によるナノ結晶の製造方法において、前記(a)及び(b)の段階での分散剤としては、末端にカルボキシル基を持つ炭素数6〜22のアルカンまたはアルケン、末端にホスホン酸基を持つ炭素数6〜22のアルカンまたはアルケン、末端にスルホン酸基を持つ炭素数6〜22のアルカンまたはアルケン、または末端にアミノ基を持つ炭素数6〜22のアルカン若しくはアルケンなどが可能であるが、これに制限されることはない。また、前記分散剤は、単独で使用されても、2種以上を組み合わせて使用されてもよい。
具体的には、オレイン酸(oleic acid)、ステアリン酸(stearic acid)、パルミチン酸(palmitic acid)、ヘキシルホスホン酸(hexyl phosphonic acid)、n−オクチルホスホン酸(n−octyl phosphonic acid)、テトラデシルホスホン酸(tetradecyl phosphonic acid)、オクタデシルホスホン酸(octadecyl phosphonic acid)、n−オクチルアミン(n−octyl amine)、またはヘキサデシルアミン(hexadecyl amine)などが可能であるが、これに制限されることはない。
本発明によるナノ結晶の製造方法において、結晶成長を容易にするとともに溶媒の安全性を保障するための前記(a)及び(b)の段階での好ましい反応温度の範囲はそれぞれ100℃〜460℃、より好ましくは120℃〜420℃、さらに好ましくは150℃〜360℃である。
また、本発明によるナノ結晶の製造方法において、反応速度の調節が容易な前記(a)及び(b)の段階での反応時間は、それぞれ好ましくは5秒〜4時間、より好ましくは10秒〜3時間、さらに好ましくは20秒〜2時間である。
一方、本発明によるナノ結晶の製造方法において、前記(b)の段階で同時に添加される2種以上の金属前駆体の比率を変化させることによって、発光波長の異なるナノ結晶を形成することができる。同じ原理で、前記の2種以上の金属前駆体を同じ比率で使う場合であっても、コアナノ結晶の大きさを調節することで発光波長の異なるナノ結晶を形成することができる。
具体的に、本発明による前記ナノ結晶の製造方法において、前記(b)の段階の金属前駆体の濃度は0.0001M〜2Mであることが好ましく、より好ましくは0.001M〜1.6Mが可能である。
また、本発明による前記ナノ結晶の製造方法において、前記(b)の段階の金属前駆体に対するVI族またはV族前駆体のモル比は100:1〜1:50であることが好ましく、より好ましくは50:1〜1:10である。
本発明の他の側面は、前記方法によって製造されたナノ結晶において、コアナノ結晶の表面上に順次に物質組成の異なる2層以上のシェルナノ結晶が形成されていることを特徴とする多層シェルナノ結晶に係る。すなわち、本発明の多層シェルナノ結晶は、コアナノ結晶の表面上に組成の異なる第2、3、・・・、m、m+1、・・・、nのシェルナノ結晶が形成されている。
より具体的に、前記多層シェルナノ結晶は、コアナノ結晶の表面上に、コアナノ結晶の発光波長をより長波長にシフトさせる一層以上のシェルナノ結晶が形成され、その上に、発光効率を向上させる一層以上のシェルナノ結晶が形成されるという構造を持つことができる。このような構造を持つナノ結晶のバンドギャップを示す模式図を図2に示した。
図2を参照すると、内側に形成されたシェルナノ結晶が一層の場合(m=1)を想定し、これを第1シェルナノ結晶とし、外側に形成されたシェルナノ結晶が一層の場合(n=2)を想定し、これを第2シェルナノ結晶としている。まず、前記第1シェルナノ結晶をコアナノ結晶の表面上にコーティングした後、バンドギャップの関係で言うならば、前記第1シェルナノ結晶のバンドギャップBが前記コアナノ結晶のバンドギャップBより小さい。このような原理は次のように説明することができる。
タイプIIナノ結晶構造においては、第1シェルナノ結晶(例えば、CdSナノ結晶)の伝導帯エネルギー準位がコアナノ結晶(例えば、CdSeナノ結晶)の伝導帯エネルギー準位より低く、前記第1シェルナノ結晶の価電子帯エネルギー準位が前記コアナノ結晶の価電子帯エネルギー準位より低いというパターンをとりうる。多層シェルナノ結晶が上述のタイプIIナノ結晶構造を有する場合には、前記コアナノ結晶の正孔はより安定なエネルギー準位を有する前記コアナノ結晶の価電子帯に存在しうるが、前記コアナノ結晶の励起された電子は前記第1シェルナノ結晶の伝導帯へと移動しうる。その結果、バンドギャップがより小さくなり、発光波長がより長波長にシフトしうる。
さらに他の形態として、タイプIIナノ結晶構造においては、第1シェルナノ結晶(例えば、CdTeナノ結晶)の伝導帯エネルギー準位がコアナノ結晶(例えば、CdSeナノ結晶)の伝導帯エネルギー準位より高く、前記第1シェルナノ結晶の価電子帯エネルギー準位が前記コアナノ結晶の価電子帯エネルギー準位より高いというパターンもとりうる。多層シェルナノ結晶が上述のタイプIIナノ結晶構造を有する場合には、前記コアナノ結晶の励起された電子はより安定なエネルギー準位を有する前記コアナノ結晶の伝導帯に存在しうるが、前記コアナノ結晶の正孔は前記第1シェルナノ結晶の価電子帯へと移動しうる。その結果、バンドギャップがより小さくなり、発光波長がより長波長にシフトしうる。
コアナノ結晶と第1シェルナノ結晶の伝導帯及び価電子帯のエネルギー準位が同一である場合は、電子と正孔が前記コアナノ結晶から前記第1シェルナノ結晶まで同一確率で存在しうる。よって前記コアナノ結晶が大きくなることが可能となり、この場合も発光波長がより長波長にシフトしうる。
一方、本発明の多層シェルナノ結晶は、外側に形成された第2シェルナノ結晶(n=2、例えば、ZnSナノ結晶)の伝導帯エネルギー準位が、コーティング後における、前記の内側に形成された第1シェルナノ結晶(m=1)の伝導帯エネルギー準位より高く、前記第2シェルナノ結晶の価電子帯エネルギー準位が、コーティング後における、前記第1シェルナノ結晶の価電子帯エネルギー準位より低いバンドギャップを持つため、量子閉じ込め効果またはパッシベーション効果によって前記多層シェルナノ結晶の発光効率が向上する。この際、nはmより大きい実数で、nとmは正の値を持つ。
また、前記多層シェルナノ結晶は、コアナノ結晶の表面上にコアナノ結晶の発光波長をより長波長にシフトさせる多層のシェルナノ結晶が形成された構造を持つことができる。このような構造を持つナノ結晶のバンドギャップを示す模式図を図3に示した。図3を参照すれば、シェルナノ結晶が二層の場合を想定し、コアナノ結晶の表面上には内側に形成されたシェルナノ結晶(第1シェルナノ結晶とする)が形成され、前記第1シェルナノ結晶の表面上には外側に形成されたシェルナノ結晶(第2シェルナノ結晶とする)が形成されうる。まず、前記第1シェルナノ結晶をコアナノ結晶の表面上にコーティングした後、バンドギャップの関係で言うならば、前記第1シェルナノ結晶のバンドギャップBが前記コアナノ結晶のバンドギャップBより小さい。また、前記第2シェルナノ結晶を前記第1シェルナノ結晶の表面上にコーティングした後、前記第2シェルナノ結晶のバンドギャップBが前記第1シェルナノ結晶のバンドギャップBより小さい。
また、前記多層シェルナノ結晶は、コアナノ結晶の発光効率を向上させるために、前記コアナノ結晶の表面上に多層のシェルナノ結晶が形成された構造を持つことができる。このような構造を持つナノ結晶のバンドギャップを示す模式図を図4に示した。図4を参照すれば、シェルナノ結晶が二層の場合を想定し、コアナノ結晶の表面上には内側に形成されたシェルナノ結晶(第1シェルナノ結晶とする)が形成され、前記第1シェルナノ結晶の表面上には外側に形成されたシェルナノ結晶(第2シェルナノ結晶とする)が形成されうる。まず、前記第1シェルナノ結晶をコアナノ結晶の表面上にコーティングした後、前記第1シェルナノ結晶の伝導帯エネルギー準位が前記コアナノ結晶の伝導帯エネルギー準位より高く、前記第1シェルナノ結晶の価電子帯エネルギー準位が前記コアナノ結晶の価電子帯エネルギー準位より小さいというバンド構造を持つ。その結果、量子閉じ込め効果及び/またはパッシベーション効果によって発光効率が向上しうる。同様に、前記第2シェルナノ結晶を前記第1シェルナノ結晶の表面上にコーティングした後、前記第2シェルナノ結晶の伝導帯エネルギー準位が前記第1シェルナノ結晶の伝導帯エネルギー準位より高く、外側に形成された第2シェルナノ結晶の価電子帯エネルギー準位が第1シェルナノ結晶のコーティング後の価電子帯エネルギー準位より低いというバンド構造を持つ。その結果、量子閉じ込め効果及び/またはパッシベーション効果によって発光効率が向上しうる。
また、前記多層シェルナノ結晶は、コアナノ結晶の表面上に、コアナノ結晶の発光波長をより長波長にシフトさせる1層以上のシェルナノ結晶の層と発光効率を向上させる1層以上のシェルナノ結晶の層とが混在されるか、または交互に形成されることも可能である。このような構造を持つナノ結晶のバンドギャップを示す模式図を図5に示した。図5を参照すれば、シェルナノ結晶が二層の場合を想定し、発光効率を向上させるための、内側に形成されたシェルナノ結晶(第1シェルナノ結晶とする)を前記コアナノ結晶の表面上に形成し、ナノ結晶の発光波長をより長波長にシフトさせるための、外側に形成されたシェルナノ結晶(第2シェルナノ結晶とする)を前記第1シェルナノ結晶の表面上に形成しうる。まず、前記第1シェルナノ結晶をコアナノ結晶の表面上にコーティングした後、前記第1シェルナノ結晶の伝導帯エネルギー準位が前記コアナノ結晶の伝導帯エネルギー準位より高く、前記第1シェルナノ結晶の価電子帯エネルギー準位が前記コアナノ結晶の価電子帯エネルギー準位より低いというバンド構造を持つ。その結果、量子閉じ込め効果またはパッシベーション効果によって発光効率が向上する。続いて、前記第2シェルナノ結晶を前記第1シェルナノ結晶の表面上にコーティングした後、前記第2シェルナノ結晶のバンドギャップが前記第1シェルナノ結晶のバンドギャップより小さいという構成をとりうる。前記ナノ結晶構造は、前記第2シェルナノ結晶のバンドギャップに対応する波長と、発光効率が向上した前記コアナノ結晶の発光波長とで同時に発光することが可能となる。
また、前記多層シェルナノ結晶は、前記コアナノ結晶の表面上に、前記コアナノ結晶との結晶格子定数の差が小さい順に、シェルナノ結晶の層が順次に形成されてなることを特徴とする。このような構造を持つことにより、前記多層シェルナノ結晶の構造安定性をより向上することができる。
このような多層シェルナノ結晶の形態としては、球状、円筒状、トライポッド(tripod)状、テトラポッド(tetrapod)状、キューブ(cube)状、ボックス(box)状、または星(star)状などが可能であるが、これに限定されるものではない。
このような本発明の多層シェルナノ結晶の発光効率は、具体的に20%以上、好ましくは50%〜90%向上することができる。
本発明のさらに他の側面は、コアナノ結晶の表面上に順次に形成されたn個の複数層シェルナノ結晶を具備した多層ナノ構造結晶に係る。
この際、前記n層のうち内側に形成されるm層のシェルナノ結晶がコーティングされた後には、前記m層のシェルナノ結晶のバンドギャップは前記コアナノ結晶のバンドギャップより小さく;前記n層のうち外側に形成されるn−m層のシェルナノ結晶は、前記m層のシェルナノ結晶より伝導帯エネルギー準位が高く価電子帯エネルギー準位が低い、多層シェルナノ結晶が可能である(この際、nはmより大きく、かつnとmは正の実数である)。
具体的に、コーティング後には、前記m層の内側に形成されたシェルナノ結晶のバンドギャップは、前記コアナノ結晶のバンドギャップより0.1eV以上小さく、前記n−m層の外側に形成されたシェルナノ結晶の伝導帯エネルギー準位は、前記コアナノ結晶上にコートされる前記m層のシェルナノ結晶の伝導帯エネルギー準位より0.1eV以上大きく、前記n−m層のシェルナノ結晶の価電子帯エネルギー準位は前記m層のシェルナノ結晶の価電子帯エネルギー準位より0.1eV以上低い。前記多層シェルナノ結晶においては、第1〜第m層のシェルナノ結晶が前記コアナノ結晶の発光波長をより長波長にシフトさせ、第m+1〜第n層のシェルナノ結晶が発光効率を向上させることが可能となる。
また、本発明の多層シェルナノ結晶は以下の構造のうちのいずれかを有することが可能である。i)前記コアナノ結晶の発光波長をより長波長にシフトさせるために、コアナノ結晶の表面上に複数のシェルナノ結晶の層が形成されうる;ii)コアナノ結晶の発光効率を向上させるために、前記コアナノ結晶の表面上に複数のシェルナノ結晶の層が形成されうる;iii)前記コアナノ結晶の発光波長をより長波長にシフトさせるための複数層シェルナノ結晶、及びコアナノ結晶の発光効率を向上させるための複数層シェルナノ結晶が、前記コアナノ結晶の表面上に混在されうるか、または交互に形成されうる;及びiv)前記コアナノ結晶の表面上に、前記コアナノ結晶との結晶格子定数の差が小さい順に、シェルナノ結晶の層が順次に形成されうる。
本発明の他の実施形態は、前記多層シェルナノ結晶を含む電子素子に係る。具体的に、前記素子としては、発光ダイオード(LED)、有機/無機ハイブリッド電気発光素子、無機電気発光素子、太陽電池、及びトランジスタなどが可能である。
例えば、前記素子のうち、本発明のナノ結晶を使用して発光ダイオードを製作する方法を説明すれば、まず前記のような方法によって製造されたナノ結晶を樹脂ペーストと混合した後、前記混合物をUV光源を発光するダイオードのチップ上に塗布し、120℃のオーブンで前記チップを硬化させうる。ランプ状にパッケージングするための成型用エポキシ樹脂を含むモールド中に、前記の硬化したチップを浸し、前記の成型されたチップをさらにオーブン中で硬化させた後、オーブンから取り出しうる。最後に、前記の硬化されたチップから型をとり除けば、ナノ結晶を発光体として使用可能なランプ形態の発光ダイオードを製造することができる。
以下、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、下記の実施例は説明の目的のためのもので、本発明を制限しようとするものではない。
[実施例1]シェルナノ結晶の組成の異なるCdSe/CdS・ZnSナノ結晶の製造
トリオクチルアミン(以下TOAという)16g、オレイン酸2g、酸化カドミウム1.6mmolを還流コンデンサー付き125ml容フラスコに入れ、撹拌しながら反応温度を300℃に調節した。
これと別に、Se粉末をトリオクチルホスフィン(TOP)に溶かして、0.2MのSe−TOP錯体溶液を作った。前記撹拌されている反応混合物に前記の0.2MのSe−TOP錯体溶液2mlを迅速に注入し、30秒間反応させた。
反応終了後、反応混合物の温度をできるだけ早く常温に降下させ、非反応性溶媒(non−reactiVe solVent)であるエタノールを加え、遠心分離を行った。遠心分離された沈澱を除いた溶液の上澄液は捨て、沈澱はトルエンに分散させることで、586nmで発光するCdSeナノ結晶溶液を形成した。
TOA8g、オレイン酸0.1g、酢酸亜鉛0.1mmolが入っている溶液にそれぞれ酢酸カドミウム0.05mmol、0.1mmol、0.2mmolを添加した溶液を還流コンデンサーの取り付けられた125ml容フラスコにそれぞれ入れ、撹拌しながら反応温度を300℃に調節した。前記で形成されたCdSeナノ結晶溶液を反応物に添加した後、上記のSe−TOP錯体溶液の調製方法において、Se粉末に代えてS粉末を用いた以外は同様にして得た0.4MのS−TOP錯体溶液1mlを徐々に加え、約1時間反応させた。
反応終了後、反応混合物の温度をできるだけ早く常温に降下させ、非反応性溶媒であるエタノールを加え、遠心分離を行った。遠心分離された沈澱を除いた溶液の上澄液は捨て、沈澱はトルエンに分散させることで、8nmの大きさのCdSe/CdS・ZnSを形成した。
こうして得られたナノ結晶はCdSとZnSの比率によって他の色に発光した。このような金属前駆体の比率による発光波長の変化を図6に示した。図6に示すように、CdS/ZnSの比率が大きくなるほど、形成されたナノ結晶の発光波長が赤色領域へとシフトする割合が増加した。
[実施例2]CdSeコアナノ結晶の大きさの変化によるCdSe/CdS・ZnSナノ結晶の形成
TOA16g、オレイン酸2g、酸化カドミウム1.6mmolを還流コンデンサーの取り付けられた125ml容フラスコに入れ、撹拌しながら反応温度を300℃に調節した。これとは別に、Se粉末をトリオクチルホスフィン(TOP)に溶かして、0.2MのSe−TOP錯体溶液を作った。前記撹拌されている反応混合物に0.2MのSe−TOP錯体溶液2mlを迅速に注入し、約30秒間反応させることで、586nmで発光する約5nmの大きさのCdSeナノ結晶を形成した。
TOA16g、オクタデシルホスホン酸0.3g、酸化カドミウム0.4mmolを還流コンデンサーの取り付けられた125ml容フラスコに入れ、撹拌しながら反応温度を300℃に調節した。これとは別に、Se粉末をトリオクチルホスフィン(TOP)に溶かして、1MのSe−TOP錯体溶液を作った。前記撹拌されている反応混合物に1MのSe−TOP錯体溶液2mlを迅速に注入し、約4分間反応させることで、536nmで発光する約3.5nmの大きさのCdSeナノ結晶を形成した。
TOA16g、オクタデシルホスホン酸0.3g、酸化カドミウム0.4mmolを還流コンデンサーの取り付けられた125ml容フラスコに入れ、撹拌しながら反応温度を300℃に調節した。これとは別に、Se粉末をトリオクチルホスフィン(TOP)に溶かして、2MのSe−TOP錯体溶液を作った。前記撹拌されている反応混合物に2MのSe−TOP錯体溶液2mlを迅速に注入し、約2分間反応させることで、494nmで発光する約2.5nmの大きさのCdSeナノ結晶を形成した。
反応終了後、反応混合物の温度をできるだけ早く常温に降下させ、非反応性溶媒であるエタノールを加え、遠心分離を行った。遠心分離された沈澱を除いた溶液の上澄液は捨て、沈澱はトルエンに分散させることで、それぞれ586nm、536nm、494nmで発光するCdSeナノ結晶溶液を製造した。
TOA8g、オレイン酸0.1g、酢酸亜鉛0.1mmol、酢酸カドミウム0.1mmolを同時に還流コンデンサーの取り付けられた125ml容フラスコに入れ、撹拌しながら反応温度を300℃に調節した。前記で形成した586nm、536nm、494nmで発光するCdSeナノ結晶溶液をそれぞれ反応物に添加した後、上記のSe−TOP錯体溶液の調製方法において、Se粉末に代えてS粉末を用いた以外は同様にして得た0.4MのS−TOP錯体溶液1mlを徐々に加え、約1時間反応させた。
反応終了後、反応混合物の温度をできるだけ早く常温に降下させ、非反応性溶媒であるエタノールを加え、遠心分離を行った。遠心分離され沈澱を除いた溶液の上澄液は捨て、沈澱はトルエンに分散させることで、8nmの大きさのCdSe/CdS・ZnSを形成した。
こうして得られたナノ結晶は、コアナノ結晶の大きさ(発光波長)によって異なる発光波長を示した。コアナノ結晶の発光波長によるCdSe/CdS・ZnS発光波長の変化を図7に示した。図7に示すように、コアナノ結晶の大きさを変化させることにより、同一の大きさのナノ結晶(コア−シェルナノ結晶)を形成しても、他の波長で発光するナノ結晶を得ることができ、コアナノ結晶の発光波長が長波長であるほど、形成されたナノ結晶の発光波長がさらに長波長になった。
[実施例3]CdSe/ZnSe・ZnSナノ結晶の製造
TOA16g、オクタデシルホスホン酸0.3g、酸化カドミウム0.4mmolを還流コンデンサーの取り付けられた125ml容フラスコに入れ、撹拌しながら反応温度を300℃に調節した。これとは別に、Se粉末をトリオクチルホスフィン(TOP)に溶かして、2MのSe−TOP錯体溶液を作った。前記撹拌されている反応混合物に2MのSe−TOP錯体溶液2mlを早い速度で注入し、約2分間反応させることで、486nmで発光するCdSeナノ結晶を形成した。
反応終了後、反応混合物の温度をできるだけ早く常温に降下させ、非反応性溶媒であるエタノールを加え、遠心分離を行った。遠心分離された沈澱を除いた溶液の上澄液は捨て、沈澱はトルエンに分散させることで、486nmで発光するCdSeナノ結晶溶液を製造した。
TOA8g、オレイン酸0.1g、酢酸亜鉛0.1mmolを還流コンデンサーの取り付けられた125ml容フラスコに入れ、撹拌しながら反応温度を300℃に調節した。前記で形成した494nmで発光するCdSeナノ結晶溶液を反応物に添加した後、0.4MのSe−TOP錯体溶液0.25mlと0.4MのS−TOP錯体溶液0.75mlとの混合溶液を徐々に加え、約1時間反応させた。
反応終了後、反応混合物の温度をできるだけ早く常温に降下させ、非反応性溶媒であるエタノールを加え、遠心分離を行った。遠心分離された沈澱を除いた溶液の上澄液は捨て、沈澱はトルエンに分散させることで、5nmの大きさのCdSe/ZnSe・ZnSを形成した。
こうして得られたナノ結晶は、図8に示すように、コアナノ結晶の発光波長をほとんど維持しながら発光強度のみが増加した。
[比較例1]CdSeコアナノ結晶上にCdSを形成する段階と、これをコアとして使用してCdSe/CdSナノ結晶上にZnSを形成する段階とを分離して行うことによる、CdSe/CdS/ZnSナノ結晶の製造
亜鉛前駆体を含まないことを除き、実施例1と同じ方法によって、TOA8g、オレイン酸0.1g、酢酸カドミウム0.1mmolが入っている溶液に、実施例1で得たCdSeコアナノ結晶を先に注入し、S粉末を使用すること以外はSe−TOPと同様に調製された0.4MのS−TOP1mlを徐々に注入することで、前記コアナノ結晶上にCdSシェルナノ結晶(第1シェルナノ結晶)を形成し、これを第1段階とした。続く第2段階では、前記CdSe/CdSナノ結晶を再びコアとして使用し、カドミウム前駆体を含まないことを除き、実施例1と同じ方法によって、TOA8g、オレイン酸0.1g、酢酸カドミウム0.1mmolが入っている溶液に前記コアと0.4MのS−TOP1mlとを徐々に注入することで、ZnSシェルナノ結晶(第2シェルナノ結晶)を形成した。こうして得られたナノ結晶を、実施例1で製造したナノ結晶、及びCdSeコアナノ結晶とともに365nmUVランプ下で比較撮影して図9に示した。図9に示すように、比較例1で製造したナノ結晶は、発光波長は同じであるが発光効率が減少した。
[実施例4]発光ダイオードの製作
前記実施例1の方法において0.1mmol酢酸カドミウムと0.1mmol酢酸亜鉛との混合物を使って製造したCdSe/CdS・ZnSナノ結晶に、エポキシ樹脂と硬化剤を1:1の質量比で混合した樹脂混合物を2g加えることで、樹脂−ナノ結晶のペーストを得た。前記ペーストを、400nmのUV光源を発光するダイオードチップ上に塗布し、オーブンで120℃で1時間硬化させた。前記の硬化させたチップを、エポキシ樹脂と硬化剤を1:1の質量比で混合した樹脂混合物を含むモールド中に浸し、さらに120℃のオーブンで硬化させた。2時間後にオーブンから取り出した後、最終的にモールドから前記の硬化したチップを除去し、CdSe/CdS・ZnSナノ結晶を使った素子を製造した。このように製造されたダイオードに20mA程度の電流を流すと、618nmの波長で赤色光を発光した。前記ダイオードを積分球中に入れて前記ダイオードの発光効率を測定した結果、20%の発光効率を現した。このときの発光スペクトルと得られた発光ダイオードの発光写真とをそれぞれ図10及び図11に示した。図10の発光スペクトルから確認できるように、前記発光ダイオードは、その製作に使用した、実施例1で製造されたCdSe/CdS・ZnSナノ結晶と同一波長で発光した。
本発明の多層シェルナノ結晶は、発光ダイオード(LED)、有機/無機ハイブリッド電気発光素子、無機電気発光素子、太陽電池、及びトランジスタなどの素子に適用可能である。
本発明の一実施形態によるナノ結晶の形成段階を示す工程概略図である。 本発明の一実施形態によるナノ結晶のバンドギャップを示す模式図である。 本発明の一実施形態によるナノ結晶のバンドギャップを示す模式図である。 本発明の一実施形態によるナノ結晶のバンドギャップを示す模式図である。 本発明の一実施形態によるナノ結晶のバンドギャップを示す模式図である。 本発明の実施例1によるシェルナノ結晶の組成比の変化による発光波長の変化を示すスペクトルである。 本発明の実施例2によるコアナノ結晶の発光波長とコア−シェルナノ結晶の発光波長との関係を示すスペクトルである。 本発明の実施例3によるナノ結晶の発光波長を示すスペクトルである。 本発明の実施例1及び比較例1で製造したナノ結晶の発光効率を比較して示す写真である。 本発明の実施例4で製造した発光ダイオードの発光スペクトルである。 本発明の実施例4で製造した発光ダイオードを撮影した写真である。

Claims (25)

  1. (a)コアナノ結晶を形成させる段階、及び
    (b)反応速度の差を有する2種以上の前駆体を一度に反応させて、前記コアナノ結晶の表面上に組成の異なる2層以上のシェル層を順次形成させる段階、
    を含むことを特徴とする、多層シェルナノ結晶の製造方法。
  2. 前記(a)の段階は、
    金属前駆体を溶媒及び分散剤に入れ、第1混合液を作成し、
    V族またはVI族前駆体を溶媒及び分散剤に入れ、第2混合液を作成し、及び
    前記第1混合液及び前記第2混合液を混合して反応させること、
    を含む、請求項1に記載の多層シェルナノ結晶の製造方法。
  3. 前記(b)の段階は、前記コアナノ結晶を含む溶媒及び分散剤の存在下で、反応速度の差を有する2種以上の金属前駆体、及びV族またはVI族前駆体を反応させることを特徴とする、請求項1または2に記載の多層シェルナノ結晶の製造方法。
  4. 前記(b)の段階は、前記コアナノ結晶を含む溶媒及び分散剤の存在下で、金属前駆体、及び反応速度の差を有する2種以上のV族またはVI族前駆体を反応させることを特徴とする、請求項1または2に記載の多層シェルナノ結晶の製造方法。
  5. 前記金属前駆体は、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、酢酸亜鉛、亜鉛アセチルアセトネート、ヨウ化亜鉛、臭化亜鉛、塩化亜鉛、フッ化亜鉛、炭酸亜鉛、シアン化亜鉛、硝酸亜鉛、酸化亜鉛、過酸化亜鉛、過塩素酸亜鉛、硫酸亜鉛、ジメチルカドミウム、ジエチルカドミウム、酢酸カドミウム、カドミウムアセチルアセトネート、ヨウ化カドミウム、臭化カドミウム、塩化カドミウム、フッ化カドミウム、炭酸カドミウム、硝酸カドミウム、酸化カドミウム、過塩素酸カドミウム、リン化カドミウム、硫酸カドミウム、酢酸水銀、ヨウ化水銀、臭化水銀、塩化水銀、フッ化水銀、シアン化水銀、硝酸水銀、酸化水銀、過塩素酸水銀、硫酸水銀、酢酸鉛、臭化鉛、塩化鉛、フッ化鉛、酸化鉛、過塩素酸鉛、硝酸鉛、硫酸鉛、炭酸鉛、酢酸スズ、スズビスアセチルアセトネート、臭化スズ、塩化スズ、フッ化スズ、酸化スズ、硫酸スズ、四塩化ゲルマニウム、酸化ゲルマニウム、ゲルマニウムエトキシド、ガリウムアセチルアセトネート、塩化ガリウム、フッ化ガリウム、酸化ガリウム、硝酸ガリウム、硫酸ガリウム、塩化インジウム、酸化インジウム、硝酸インジウム、硫酸インジウム、酢酸タリウム、タリウムアセチルアセトネート、塩化タリウム、酸化タリウム、タリウムエトキシド、硝酸タリウム、硫酸タリウム、及び炭酸タリウムよりなる群から選択されることを特徴とする、請求項2〜4のいずれか1項に記載の多層シェルナノ結晶の製造方法。
  6. 前記VI族またはV族前駆体は、ヘキサンチオール、オクタンチオール、デカンチオール、ドデカンチオール、ヘキサデカンチオール、及びメルカプトプロピルシラン化合物を含むアルキルチオール化合物、硫黄化トリオクチルホスフィン、硫黄化トリブチルホスフィン、硫黄化トリフェニルホスフィン、セレン化トリオクチルホスフィン、セレン化トリブチルホスフィン、セレン化トリフェニルホスフィン、テルル化トリオクチルホスフィン、テルル化トリブチルホスフィン、テルル化トリフェニルホスフィン、トリメチルシリルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、及びトリシクロヘキシルホスフィンを含むアルキルホスフィン化合物、硫黄化トリオクチルアミン、トリメチルシリルサルファ、硫化アンモニウム、並びに硫化ナトリウムよりなる群から選択されることを特徴とする、請求項2〜5のいずれか1項に記載の多層シェルナノ結晶の製造方法。
  7. 前記溶媒は、炭素数6〜22の1級アルキルアミン、2級アルキルアミン、及び3級アルキルアミン、炭素数6〜22の1級アルコール、2級アルコール、及び3級アルコール、炭素数6〜22のケトン及びエステル、炭素数6〜22の窒素または硫黄を含む複素環式化合物、炭素数6〜22のアルカン、アルケン、及びアルキン、トリオクチルアミン、トリオクチルホスフィン、並びにトリオクチルホスフィンオキサイドよりなる群から選択されることを特徴とする、請求項2〜6のいずれか1項に記載の多層シェルナノ結晶の製造方法。
  8. 前記分散剤は、末端にカルボキシル基を持つ炭素数6〜22のアルカンまたはアルケン、末端にホスホン酸基を持つ炭素数6〜22のアルカンまたはアルケン、末端にスルホン酸基を持つ炭素数6〜22のアルカンまたはアルケン、及び末端にアミノ基を持つ炭素数6〜22のアルカンまたはアルケンよりなる群から選択されることを特徴とする、請求項2〜7のいずれか1項に記載の多層シェルナノ結晶の製造方法。
  9. 前記分散剤は、オレイン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ヘキシルホスホン酸、n−オクチルホスホン酸、テトラデシルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、n−オクチルアミン、及びヘキサデシルアミンよりなる群から選択されることを特徴とする、請求項2〜8のいずれか1項に記載の多層シェルナノ結晶の製造方法。
  10. 前記(a)及び(b)の段階の反応温度は、それぞれ100℃〜460℃であることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載の多層シェルナノ結晶の製造方法。
  11. 前記(a)及び(b)の段階の反応時間は、それぞれ5秒〜4時間であることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載の多層シェルナノ結晶の製造方法。
  12. 前記(b)の段階の前記金属前駆体の濃度は、0.0001M〜2Mであることを特徴とする、請求項3〜11のいずれか1項に記載の多層シェルナノ結晶の製造方法。
  13. 前記(b)の段階の前記金属前駆体に対するVI族またはV族前駆体のモル比は、100:1〜1:50であることを特徴とする、請求項3〜12のいずれか1項に記載の多層シェルナノ結晶の製造方法。
  14. 請求項1の方法によって製造された多層シェルナノ結晶において、コアナノ結晶の表面上に順次に物質組成の異なる2層以上のシェルナノ結晶が形成されてなることを特徴とする、多層シェルナノ結晶。
  15. 前記多層シェルナノ結晶は、前記コアナノ結晶の表面上に、前記コアナノ結晶の発光波長をより長波長にシフトさせる一層以上のシェルナノ結晶が形成され、続いて、発光効率を向上させる一層以上のシェルナノ結晶が順次に形成されてなることを特徴とする、請求項14に記載の多層シェルナノ結晶。
  16. 前記多層シェルナノ結晶は、前記コアナノ結晶の表面上に、前記コアナノ結晶の発光波長をより長波長にシフトさせる多層のシェルナノ結晶が形成されてなることを特徴とする、請求項14に記載の多層シェルナノ結晶。
  17. 前記多層シェルナノ結晶は、前記コアナノ結晶の表面上に、前記コアナノ結晶の発光効率を向上させる多層のシェルナノ結晶が形成されてなることを特徴とする、請求項14に記載の多層シェルナノ結晶。
  18. 前記多層シェルナノ結晶は、前記コアナノ結晶の表面上に、前記コアナノ結晶の発光波長をより長波長にシフトさせるシェルナノ結晶の層と発光効率を向上させるシェルナノ結晶の層とが混在されてなるか、または交互に形成されてなることを特徴とする、請求項14に記載の多層シェルナノ結晶。
  19. 前記多層シェルナノ結晶は、前記コアナノ結晶の表面上に、前記コアナノ結晶との結晶格子定数の差が小さい順に、シェルナノ結晶の層が順次に形成されてなることを特徴とする、請求項14に記載の多層シェルナノ結晶。
  20. 前記多層シェルナノ結晶の構造が、球状、円筒状、トライポッド状、テトラポッド状、キューブ状、ボックス状、及び星状よりなる群から選択されることを特徴とする、請求項14〜19のいずれか1項に記載の多層シェルナノ結晶。
  21. 前記多層シェルナノ結晶の発光効率は、20%以上向上することを特徴とする、請求項14〜20のいずれか1項に記載の多層シェルナノ結晶。
  22. 前記コアナノ結晶の表面上に順次に形成されるn層(nは正の実数)のシェルナノ結晶を有し;
    前記n層のうち内側に形成されるm層(mは正の実数であり、かつn>m)のシェルナノ結晶がコーティングされた後には、前記m層のシェルナノ結晶のバンドギャップは前記コアナノ結晶のバンドギャップより小さく;
    前記n層のうち外側に形成されるn−m層のシェルナノ結晶は、前記m層のシェルナノ結晶より伝導帯エネルギー準位が高く、価電子帯エネルギー準位が低いことを特徴とする、多層シェルナノ結晶。
  23. 前記n層のうち内側に形成される前記m層のシェルナノ結晶がコーティングされた後には、前記m層のシェルナノ結晶のバンドギャップは前記コアナノ結晶のバンドギャップより0.1eV以上小さく;
    前記n層のうち外側に形成される前記n−m層のシェルナノ結晶の伝導帯エネルギー準位は、前記m層のシェルナノ結晶の伝導帯エネルギー準位より0.1eV以上高く;
    前記n−m個のシェルナノ結晶の価電子帯エネルギー準位は、前記m個のシェルナノ結晶の価電子帯エネルギー準位より0.1eV以上低いことを特徴とする、請求項22に記載の多層シェルナノ結晶。
  24. 請求項14〜23のいずれか1項に記載の多層シェルナノ結晶を含む、素子。
  25. 前記素子は、発光ダイオード、有機/無機ハイブリッド電気発光素子、無機電気発光素子、太陽電池、またはトランジスタであることを特徴とする、請求項24に記載の素子。
JP2006237901A 2005-09-12 2006-09-01 多層シェルナノ結晶及びその製造方法 Expired - Fee Related JP5536972B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2005-0084554 2005-09-12
KR1020050084554A KR101159853B1 (ko) 2005-09-12 2005-09-12 다층구조 나노결정의 제조방법 및 그에 의해 수득된 나노결정

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007077010A true JP2007077010A (ja) 2007-03-29
JP5536972B2 JP5536972B2 (ja) 2014-07-02

Family

ID=37622093

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006237901A Expired - Fee Related JP5536972B2 (ja) 2005-09-12 2006-09-01 多層シェルナノ結晶及びその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7621997B2 (ja)
EP (1) EP1762642B1 (ja)
JP (1) JP5536972B2 (ja)
KR (1) KR101159853B1 (ja)
AT (1) ATE521736T1 (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007145089A1 (ja) * 2006-06-14 2007-12-21 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 3層型半導体粒子
WO2008090814A1 (ja) * 2007-01-22 2008-07-31 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. コア/シェル型半導体ナノ粒子とその製造方法
JP2010105887A (ja) * 2008-10-31 2010-05-13 Dowa Electronics Materials Co Ltd カルコゲン化合物粉の製造方法
JP2011194562A (ja) * 2010-03-22 2011-10-06 Samsung Electronics Co Ltd 量子ドットの製造方法
KR101353350B1 (ko) * 2011-11-09 2014-01-21 한국표준과학연구원 광대역 파장 흡수 및 에너지변환을 이용한 고효율 태양전지
JP2016135863A (ja) * 2015-01-19 2016-07-28 スタンレー電気株式会社 コアシェル構造を有する量子ドットとその製造方法
JP2017505842A (ja) * 2014-02-04 2017-02-23 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 無機マトリクス内に無機リガンドを有する量子ドット
KR20190042192A (ko) * 2017-10-16 2019-04-24 엘지디스플레이 주식회사 양자점과 이를 포함하는 양자점 발광다이오드 및 양자점 발광 표시장치
KR20200112441A (ko) * 2019-03-22 2020-10-05 재단법인대구경북과학기술원 고발광성 단파 적외선 나노입자 및 이의 제조방법

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9406759B2 (en) * 2006-08-30 2016-08-02 University Of Florida Research Foundation, Inc. Methods for forming nanocrystals with position-controlled dopants
WO2008133660A2 (en) 2006-11-21 2008-11-06 Qd Vision, Inc. Nanocrystals including a group iiia element and a group va element, method, composition, device and other prodcucts
KR100841186B1 (ko) 2007-03-26 2008-06-24 삼성전자주식회사 다층 쉘 구조의 나노결정 및 그의 제조방법
KR100900866B1 (ko) 2007-05-09 2009-06-04 삼성전자주식회사 나노결정-금속산화물 복합체를 이용하는 발광 다이오드소자 및 그의 제조방법
CN101070474B (zh) * 2007-06-14 2011-01-19 中南大学 灯用壳层梯度绿色发光材料及其制备方法
WO2009020436A1 (en) * 2007-08-06 2009-02-12 Agency For Science, Technology And Research Process of forming a cadmium and selenium containing nanocrystalline composite and nanocrstalline composite obtained therefrom
GB0724298D0 (en) * 2007-12-12 2008-01-23 Smartwater Ltd A method for improving the long term stability of nano-crystalline semiconductors in an exterior enviroment
CN102239109A (zh) * 2008-10-03 2011-11-09 生命科技公司 使用弱电子转移剂和失配的壳前体制备纳米晶的方法
EP2349918B1 (en) * 2008-10-24 2018-03-21 Life Technologies Corporation Stable nanoparticles and methods of making such particles
KR101480511B1 (ko) 2008-12-19 2015-01-08 삼성전자 주식회사 금속-계면활성제층으로 코팅된 나노 결정의 제조 방법
WO2010123814A1 (en) * 2009-04-20 2010-10-28 3M Innovative Properties Company Non-radiatively pumped wavelength converter
US8455904B2 (en) 2009-04-20 2013-06-04 3M Innovative Properties Company Non-radiatively pumped wavelength converter
KR101250859B1 (ko) * 2009-05-04 2013-04-04 최경재 다층 양자점 및 그 다층 양자점을 적용한 발광소자
WO2011100023A1 (en) 2010-02-10 2011-08-18 Qd Vision, Inc. Semiconductor nanocrystals and methods of preparation
WO2012099653A2 (en) 2010-12-08 2012-07-26 Qd Vision, Inc. Semiconductor nanocrystals and methods of preparation
WO2012158832A2 (en) * 2011-05-16 2012-11-22 Qd Vision, Inc. Method for preparing semiconductor nanocrystals
KR101320549B1 (ko) * 2011-06-14 2013-10-28 주식회사 큐디솔루션 코어-다중쉘 구조의 양자점 및 이의 제조방법
KR101278257B1 (ko) * 2011-08-25 2013-06-24 한국기계연구원 양자점 및 그 제조 방법
US20130112941A1 (en) 2011-11-09 2013-05-09 Juanita Kurtin Semiconductor structure having nanocrystalline core and nanocrystalline shell with insulator coating
US20130112942A1 (en) 2011-11-09 2013-05-09 Juanita Kurtin Composite having semiconductor structures embedded in a matrix
WO2013078247A1 (en) 2011-11-22 2013-05-30 Qd Vision, Inc. Methods of coating semiconductor nanocrystals, semiconductor nanocrystals, and products including same
WO2013078249A1 (en) 2011-11-22 2013-05-30 Qd Vision Inc. Method of making quantum dots
US10008631B2 (en) 2011-11-22 2018-06-26 Samsung Electronics Co., Ltd. Coated semiconductor nanocrystals and products including same
WO2013115898A2 (en) 2012-02-05 2013-08-08 Qd Vision, Inc. Semiconductor nanocrystals, methods for making same, compositions, and products
US10807865B2 (en) * 2012-03-15 2020-10-20 Massachusetts Institute Of Technology Semiconductor nanocrystals
US20140117311A1 (en) 2012-10-29 2014-05-01 Juanita N. Kurtin Semiconductor structure having nanocrystalline core and nanocrystalline shell pairing with compositional transition layer
KR101426448B1 (ko) * 2012-11-09 2014-08-05 주식회사 엘엠에스 나노 복합체, 이를 포함하는 광학 부재 및 백라이트 유닛
US9515194B2 (en) 2015-03-27 2016-12-06 International Business Machines Corporation Nano-ribbon channel transistor with back-bias control
KR102640897B1 (ko) * 2016-09-13 2024-02-26 엘지디스플레이 주식회사 양자막대, 그 합성 방법 및 양자막대 표시장치
EP3511395B1 (en) 2018-01-11 2020-05-13 Samsung Electronics Co., Ltd. Quantum dot and electronic device including the same
KR20210039528A (ko) 2019-10-01 2021-04-12 삼성디스플레이 주식회사 양자점, 이를 포함하는 조성물과 복합체, 및 이를 포함하는 전자 소자
KR20210103630A (ko) 2020-02-13 2021-08-24 삼성디스플레이 주식회사 양자점 및 이를 포함하는 발광 소자
KR20220012827A (ko) 2020-07-23 2022-02-04 삼성전자주식회사 양자점 및 이를 포함하는 양자점-폴리머 복합체 및 전자 소자

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49109289A (ja) * 1973-02-21 1974-10-17
JP2001520937A (ja) * 1997-10-28 2001-11-06 ザ・ユニヴァシティ・オブ・メルボルン 安定化粒子、その製造方法、およびその用途
JP2001523758A (ja) * 1997-11-13 2001-11-27 マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー 高発光の色−選択材料
JP2005060132A (ja) * 2003-08-08 2005-03-10 Nof Corp 半導体ナノ微結晶の製造方法
WO2005023704A1 (ja) * 2003-09-04 2005-03-17 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology 複合微粒子の製造方法および複合微粒子の製造装置、並びに複合微粒子
JP2005519782A (ja) * 2001-07-20 2005-07-07 クァンタム・ドット・コーポレイション 発光ナノ粒子およびそれらの調製方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6306736B1 (en) * 2000-02-04 2001-10-23 The Regents Of The University Of California Process for forming shaped group III-V semiconductor nanocrystals, and product formed using process
US6225198B1 (en) * 2000-02-04 2001-05-01 The Regents Of The University Of California Process for forming shaped group II-VI semiconductor nanocrystals, and product formed using process
CN100343126C (zh) 2000-09-27 2007-10-17 日本烟草产业株式会社 包装机的包装材料折入装置
ATE488625T1 (de) * 2002-08-13 2010-12-15 Massachusetts Inst Technology Halbleiter-nanokristallheterostrukturen
EP1590171B1 (en) * 2003-01-22 2011-06-08 The Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Monodisperse core/shell and other complex structured nanocrystals and methods of preparing the same
WO2005002007A2 (en) * 2003-03-20 2005-01-06 The Research Foundation Of State University Of Newyork Process for producing semiconductor nanocrystal cores, core-shell, core-buffer-shell, and multiple layer systems in a non-coordinating solvent utilizing in situ surfactant generation
WO2005031802A2 (en) 2003-09-24 2005-04-07 The Regents Of The University Of California Hybrid synthesis of core/shell nanocrystals
KR100590784B1 (ko) * 2004-01-14 2006-06-15 학교법인 포항공과대학교 Ii-vi 반도체 화합물로 이루어진 고발광성 i형 적층구조 코어/2중 쉘 양자점 및 이의 제조 방법
KR100722086B1 (ko) * 2004-11-11 2007-05-25 삼성전자주식회사 다층구조의 나노결정 및 그의 제조방법

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49109289A (ja) * 1973-02-21 1974-10-17
JP2001520937A (ja) * 1997-10-28 2001-11-06 ザ・ユニヴァシティ・オブ・メルボルン 安定化粒子、その製造方法、およびその用途
JP2001523758A (ja) * 1997-11-13 2001-11-27 マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー 高発光の色−選択材料
JP2005519782A (ja) * 2001-07-20 2005-07-07 クァンタム・ドット・コーポレイション 発光ナノ粒子およびそれらの調製方法
JP2005060132A (ja) * 2003-08-08 2005-03-10 Nof Corp 半導体ナノ微結晶の製造方法
WO2005023704A1 (ja) * 2003-09-04 2005-03-17 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology 複合微粒子の製造方法および複合微粒子の製造装置、並びに複合微粒子

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007145089A1 (ja) * 2006-06-14 2007-12-21 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 3層型半導体粒子
WO2008090814A1 (ja) * 2007-01-22 2008-07-31 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. コア/シェル型半導体ナノ粒子とその製造方法
US8197720B2 (en) 2007-01-22 2012-06-12 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Core/shell type semiconductor nanoparticle and method for production thereof
JP5151993B2 (ja) * 2007-01-22 2013-02-27 コニカミノルタエムジー株式会社 コア/シェル型半導体ナノ粒子とその製造方法
JP2010105887A (ja) * 2008-10-31 2010-05-13 Dowa Electronics Materials Co Ltd カルコゲン化合物粉の製造方法
JP2011194562A (ja) * 2010-03-22 2011-10-06 Samsung Electronics Co Ltd 量子ドットの製造方法
KR101353350B1 (ko) * 2011-11-09 2014-01-21 한국표준과학연구원 광대역 파장 흡수 및 에너지변환을 이용한 고효율 태양전지
JP2017505842A (ja) * 2014-02-04 2017-02-23 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 無機マトリクス内に無機リガンドを有する量子ドット
JP2016135863A (ja) * 2015-01-19 2016-07-28 スタンレー電気株式会社 コアシェル構造を有する量子ドットとその製造方法
KR20190042192A (ko) * 2017-10-16 2019-04-24 엘지디스플레이 주식회사 양자점과 이를 포함하는 양자점 발광다이오드 및 양자점 발광 표시장치
JP2019075373A (ja) * 2017-10-16 2019-05-16 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド 量子ドットと、これを備える量子ドット発光ダイオードおよび量子ドット発光表示装置
US11251389B2 (en) 2017-10-16 2022-02-15 Lg Display Co., Ltd. Quantum dot, quantum dot light emitting diode and quantum dot display device
KR102399447B1 (ko) * 2017-10-16 2022-05-17 엘지디스플레이 주식회사 양자점과 이를 포함하는 양자점 발광다이오드 및 양자점 발광 표시장치
KR20200112441A (ko) * 2019-03-22 2020-10-05 재단법인대구경북과학기술원 고발광성 단파 적외선 나노입자 및 이의 제조방법
KR102200585B1 (ko) 2019-03-22 2021-01-11 재단법인대구경북과학기술원 고발광성 단파 적외선 나노입자 및 이의 제조방법
US11613700B2 (en) 2019-03-22 2023-03-28 Daegu Gyeongbuk Institute Of Science And Technology (Dgist) Highly emissive short wave infrared nanoparticles and method for preparing the same

Also Published As

Publication number Publication date
EP1762642A2 (en) 2007-03-14
US20070059527A1 (en) 2007-03-15
EP1762642B1 (en) 2011-08-24
KR20070029915A (ko) 2007-03-15
US7621997B2 (en) 2009-11-24
ATE521736T1 (de) 2011-09-15
EP1762642A3 (en) 2009-07-08
KR101159853B1 (ko) 2012-06-25
JP5536972B2 (ja) 2014-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5536972B2 (ja) 多層シェルナノ結晶及びその製造方法
US10577716B2 (en) Multilayer nanocrystal structure and method for producing the same
JP4800006B2 (ja) 多層構造のナノ結晶およびその製造方法
KR100722086B1 (ko) 다층구조의 나노결정 및 그의 제조방법
JP5519091B2 (ja) 硫黄前駆体としてチオール化合物を用いた硫化金属ナノ結晶の製造方法
JP5416359B2 (ja) ナノ結晶とその製造方法およびそれを含む電子素子
KR101486529B1 (ko) 양자점과 그의 제조방법
KR101563878B1 (ko) 양자점의 제조방법
US20080138514A1 (en) Preparation method of multi-shell nanocrystals
Singh et al. Magic-sized CdSe nanoclusters: a review on synthesis, properties and white light potential
KR20110140049A (ko) 반도체 나노 결정
EP3760692B1 (en) Red-emitting quantum dots having narrow full width at half maximum and emission wavelength for application to high-color-purity display, and preparation method therefor
US10202545B2 (en) Interfused nanocrystals and method of preparing the same
JP7456591B2 (ja) 半導体ナノ粒子及びその製造方法、並びに発光デバイス
KR20180097201A (ko) 금속산화막이 껍질로 형성된 연속적 결정성장 구조의 양자점 합성 방법 및 이에 의해 제조된 양자점
KR101334694B1 (ko) 두꺼운 껍질을 가지는 핵-껍질 구조의 양자점 제조방법 및 이를 포함하는 광변환 발광다이오드

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090731

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110127

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110201

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20110502

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20110510

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110525

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120306

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120606

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20120608

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130226

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20130524

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130606

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20130606

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20130530

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130626

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131203

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140226

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140401

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140425

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5536972

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees