JP2001354822A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2001354822A5 JP2001354822A5 JP2000174948A JP2000174948A JP2001354822A5 JP 2001354822 A5 JP2001354822 A5 JP 2001354822A5 JP 2000174948 A JP2000174948 A JP 2000174948A JP 2000174948 A JP2000174948 A JP 2000174948A JP 2001354822 A5 JP2001354822 A5 JP 2001354822A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- ethyl
- sulfonic acid
- methyl
- ether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000174948A JP3965868B2 (ja) | 2000-06-12 | 2000-06-12 | 層間絶縁膜およびマイクロレンズ |
TW090112109A TW527394B (en) | 2000-06-12 | 2001-05-21 | Radiation sensitive resin composition used in interlaminar insulation film and microlens, manufacture method for interlaminar insulation film and microlens, and interlaminar insulation film and microlens |
KR1020010032438A KR100757648B1 (ko) | 2000-06-12 | 2001-06-11 | 감방사선성 수지 조성물, 층간 절연막 및 마이크로 렌즈의제조 방법, 및 층간 절연막 및 마이크로 렌즈 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000174948A JP3965868B2 (ja) | 2000-06-12 | 2000-06-12 | 層間絶縁膜およびマイクロレンズ |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001354822A JP2001354822A (ja) | 2001-12-25 |
JP2001354822A5 true JP2001354822A5 (ko) | 2004-10-28 |
JP3965868B2 JP3965868B2 (ja) | 2007-08-29 |
Family
ID=18676898
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000174948A Expired - Fee Related JP3965868B2 (ja) | 2000-06-12 | 2000-06-12 | 層間絶縁膜およびマイクロレンズ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3965868B2 (ko) |
KR (1) | KR100757648B1 (ko) |
TW (1) | TW527394B (ko) |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI263867B (en) * | 2002-04-18 | 2006-10-11 | Nissan Chemical Ind Ltd | Positively photosensitive resin composition and method of pattern formation |
JP3733946B2 (ja) * | 2002-11-19 | 2006-01-11 | Jsr株式会社 | 層間絶縁膜形成用およびマイクロレンズ形成用の感放射線性樹脂組成物 |
KR101035523B1 (ko) | 2003-07-28 | 2011-05-23 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 포지티브형 감광성 수지 조성물 |
JP4168443B2 (ja) | 2003-07-30 | 2008-10-22 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 |
JP4127150B2 (ja) * | 2003-07-31 | 2008-07-30 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 |
TWI386714B (zh) * | 2004-05-06 | 2013-02-21 | Dongjin Semichem Co Ltd | Tft-lcd用層間有機絕緣膜、tft-lcd用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂及其製造方法 |
KR101221468B1 (ko) * | 2005-01-27 | 2013-01-11 | 주식회사 동진쎄미켐 | 감광성 수지 조성물 |
KR101068111B1 (ko) * | 2005-01-27 | 2011-09-27 | 주식회사 동진쎄미켐 | 감광성 수지 조성물 |
JP4677871B2 (ja) * | 2005-10-03 | 2011-04-27 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成 |
JP4766268B2 (ja) * | 2007-03-01 | 2011-09-07 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 |
KR101669085B1 (ko) * | 2009-01-28 | 2016-10-25 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감방사선성 수지 조성물 및, 층간 절연막 및 그의 형성 방법 |
KR101682937B1 (ko) | 2009-04-01 | 2016-12-06 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감방사선성 수지 조성물, 층간 절연막 및 그의 형성 방법 |
JP5533232B2 (ja) | 2009-06-29 | 2014-06-25 | Jsr株式会社 | ポジ型感放射線性組成物、硬化膜、層間絶縁膜、層間絶縁膜の形成方法、表示素子、及び層間絶縁膜形成用のシロキサンポリマー |
JP5725301B2 (ja) | 2009-08-24 | 2015-05-27 | 日産化学工業株式会社 | マイクロレンズ用感光性樹脂組成物 |
WO2011030688A1 (ja) | 2009-09-14 | 2011-03-17 | 日産化学工業株式会社 | 共重合体を含有する感光性樹脂組成物 |
CN103229101B (zh) * | 2010-11-30 | 2017-05-10 | 日产化学工业株式会社 | 微透镜用感光性树脂组合物 |
JP5867735B2 (ja) | 2011-01-31 | 2016-02-24 | 日産化学工業株式会社 | マイクロレンズ形成用感光性樹脂組成物 |
JP5313285B2 (ja) * | 2011-03-29 | 2013-10-09 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物、パターン作製方法、mems構造体及びその作製方法、ドライエッチング方法、ウェットエッチング方法、memsシャッターデバイス、並びに、画像表示装置 |
KR101874838B1 (ko) | 2012-03-27 | 2018-07-05 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 감광성 수지 조성물 |
TWI474112B (zh) | 2012-09-27 | 2015-02-21 | Chi Mei Corp | 感光性樹脂組成物、保護膜及具有保護膜的元件 |
TWI470359B (zh) * | 2012-09-27 | 2015-01-21 | Chi Mei Corp | 感光性樹脂組成物、保護膜及具有保護膜的元件 |
KR102006751B1 (ko) | 2012-12-11 | 2019-08-02 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감방사선성 수지 조성물, 표시 소자용 경화막, 표시 소자용 경화막의 형성 방법 및 표시 소자 |
KR102115817B1 (ko) | 2013-01-16 | 2020-05-27 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 경화막 형성용 열경화성 수지 조성물, 네가티브형 감방사선성 수지 조성물, 포지티브형 감방사선성 수지 조성물, 경화막, 그의 형성 방법, 반도체 소자 및 표시 소자 |
JP6089743B2 (ja) * | 2013-02-05 | 2017-03-08 | Jsr株式会社 | 硬化膜形成用感放射線性樹脂組成物、硬化膜、その形成方法、半導体素子及び表示素子 |
KR102138141B1 (ko) | 2013-02-19 | 2020-07-27 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 네거티브형 감방사선성 수지 조성물, 경화막, 경화막의 형성 방법 및 표시 소자 |
JP6136727B2 (ja) | 2013-08-02 | 2017-05-31 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、その形成方法及び表示素子 |
JP6492444B2 (ja) | 2013-09-04 | 2019-04-03 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、その形成方法、及び電子デバイス |
JP6318957B2 (ja) | 2014-07-31 | 2018-05-09 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法、並びに表示素子 |
TWI557501B (zh) * | 2014-12-22 | 2016-11-11 | 奇美實業股份有限公司 | 感光性聚矽氧烷組成物、保護膜以及具有保護膜的元件 |
JP6795753B2 (ja) | 2015-10-30 | 2020-12-02 | Jsr株式会社 | 硬化膜形成用樹脂材料、硬化膜の形成方法、硬化膜、半導体素子及び表示素子 |
JP6750213B2 (ja) | 2015-12-08 | 2020-09-02 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、半導体素子及び表示素子 |
JP6658167B2 (ja) | 2016-03-18 | 2020-03-04 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の形成方法及び電子デバイス |
JP6607109B2 (ja) * | 2016-03-22 | 2019-11-20 | Jsr株式会社 | 硬化膜、表示素子、硬化膜形成用材料及び硬化膜の形成方法 |
JP6939381B2 (ja) * | 2016-12-01 | 2021-09-22 | Jsr株式会社 | 層間絶縁膜用硬化性樹脂組成物、層間絶縁膜、表示素子、及び層間絶縁膜の形成方法 |
KR102654731B1 (ko) | 2017-09-28 | 2024-04-03 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감방사선성 수지 조성물 및 그의 용도 |
KR102658153B1 (ko) | 2017-09-28 | 2024-04-16 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감방사선성 수지 조성물 및 그의 용도 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH075302A (ja) * | 1993-06-15 | 1995-01-10 | Tosoh Corp | マイクロ集光レンズ形成用感光性組成物 |
JP3867177B2 (ja) * | 1997-04-30 | 2007-01-10 | Jsr株式会社 | カラーフィルタ用感放射線性組成物 |
JPH11174673A (ja) * | 1997-12-17 | 1999-07-02 | Jsr Corp | 表示パネルスペーサー用感放射線性樹脂組成物 |
-
2000
- 2000-06-12 JP JP2000174948A patent/JP3965868B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-05-21 TW TW090112109A patent/TW527394B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-06-11 KR KR1020010032438A patent/KR100757648B1/ko active IP Right Grant
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3965868B2 (ja) | 層間絶縁膜およびマイクロレンズ | |
JP2001354822A5 (ko) | ||
JP4207604B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの形成方法 | |
JP3835120B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物並びに層間絶縁膜およびマイクロレンズ | |
KR100663818B1 (ko) | 감방사선성 수지 조성물 및 층간 절연막에서의 그의 용도 | |
JP2001330953A5 (ko) | ||
JP4168443B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 | |
KR101421299B1 (ko) | 감방사선성 수지 조성물, 층간 절연막 및 마이크로렌즈, 및이들의 제조 방법 | |
KR101538804B1 (ko) | 감방사선성 수지 조성물, 및 층간 절연막과 그의 제조 방법 | |
JP4524944B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物、その層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成への使用、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズ | |
JP4650639B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 | |
JP3484808B2 (ja) | 層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物並びに層間絶縁膜およびその製造方法 | |
KR101355223B1 (ko) | 감방사선성 수지 조성물, 층간 절연막 및 마이크로렌즈, 및이들의 제조 방법 | |
JP2008225162A (ja) | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 | |
JP2009053667A (ja) | 感放射線性樹脂組成物、ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズとそれらの製造方法 | |
JP4127150B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 | |
JPH1152560A (ja) | 感放射線性樹脂組成物 | |
JP5157860B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜及びマイクロレンズ、並びにそれらの製造方法 | |
JP2000327877A (ja) | 感放射線性樹脂組成物、その層間絶縁膜およびマイクロレンズへの使用、並びに層間絶縁膜およびマイクロレンズ | |
JP2000327875A (ja) | カラーフィルター保護膜またはtft層間絶縁膜と一体となったスペーサー用感放射線性樹脂組成物 | |
JP4315013B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 | |
JP3642048B2 (ja) | 光拡散反射膜形成用組成物、光拡散反射膜および液晶表示素子 | |
JP2008175889A (ja) | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 | |
JP3733946B2 (ja) | 層間絶縁膜形成用およびマイクロレンズ形成用の感放射線性樹脂組成物 | |
JP2000250208A (ja) | 感放射線性樹脂組成物 |