JP2001338578A5 - - Google Patents
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Claims (19)
- 画像表示装置のパネルを構成するパネル部材を、それぞれ温度制御手段を備える減圧された複数の処理室に順次搬送し、温度制御しながら前記パネル部材に複数の処理を施した後、前記パネル部材を封着してパネルを形成する画像表示装置の製造方法であって、
前記複数の処理室は、前記パネル部材をベーク処理するベーク処理室と、前記ベーク処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材にゲッタ処理がなされるゲッタ処理室とを有し、前記ゲッタ処理は、前記ゲッタ処理室におけるパネル部材の温度を、前記ベーク処理室においてベーク処理されるパネル部材の温度よりも低い温度に設定して行われることを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 画像表示装置のパネルを構成するパネル部材を、それぞれ温度制御手段を備える減圧された複数の処理室に順次搬送し、温度制御しながら前記パネル部材に複数の処理を施した後、前記パネル部材を封着してパネルを形成する画像表示装置の製造方法であって、
前記複数の処理室は、前記パネル部材をベーク処理するベーク処理室と、前記ベーク処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材の表面浄化処理がなされる表面浄化処理室と、前記表面浄化処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材にゲッタ処理がなされるゲッタ処理室とを有し、前記ゲッタ処理は、前記ゲッタ処理室におけるパネル部材の温度を、前記ベーク処理室においてベーク処理されるパネル部材の温度よりも低い温度に設定して行われることを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 画像表示装置のパネルを構成するパネル部材を、それぞれ温度制御手段を備える減圧された複数の処理室に順次搬送し、温度制御しながら前記パネル部材に複数の処理を施した後、前記パネル部材を封着してパネルを形成する画像表示装置の製造方法であって、
前記複数の処理室は、前記パネル部材をベーク処理するベーク処理室と、前記ベーク処理後に前記パネル部材が搬送され、当該処理室内のゲッタ処理がなされる第1のゲッタ処理室と、前記ゲッタ処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材にゲッタ処理がなされる、前記第1のゲッタ処理室と隣接した第2のゲッタ処理室とを有し、前記パネル部材へのゲッタ処理は、前記第2のゲッタ処理室におけるパネル部材の温度を、前記ベーク処理室においてベーク処理されるパネル部材の温度よりも低い温度に設定して行われることを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 画像表示装置のパネルを構成するパネル部材を、それぞれ温度制御手段を備える減圧された複数の処理室に順次搬送し、温度制御しながら前記パネル部材に複数の処理を施した後、前記パネル部材を封着してパネルを形成する画像表示装置の製造方法であって、
前記複数の処理室は、前記パネル部材をベーク処理するベーク処理室と、前記ベーク処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材の表面浄化処理がなされる表面浄化処理室と、前記表面浄化処理後に前記パネル部材が搬送され、当該処理室内のゲッタ処理がなされる第1のゲッタ処理室と、前記ゲッタ処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材にゲッタ処理がなされる、前記第1のゲッタ処理室と隣接した第2のゲッタ処理室とを有し、前記パネル部材へのゲッタ処理は、前記第2のゲッタ処理室におけるパネル部材の温度を、前記ベーク処理室においてベーク処理されるパネル部材の温度よりも低い温度に設定して行われることを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 画像表示装置のパネルを構成するパネル部材を、それぞれ温度制御手段を備える減圧された複数の処理室に順次搬送し、温度制御しながら前記パネル部材に複数の処理を施した後、前記パネル部材を封着してパネルを形成する画像表示装置の製造方法であって、
前記複数の処理室は、前記パネル部材をベーク処理するベーク処理室と、前記ベーク処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材を冷却する冷却処理室と、前記冷却処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材にゲッタ処理がなされるゲッタ処理室とを有することを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 画像表示装置のパネルを構成するパネル部材を、それぞれ温度制御手段を備える減圧された複数の処理室に順次搬送し、温度制御しながら前記パネル部材に複数の処理を施した後、前記パネル部材を封着してパネルを形成する画像表示装置の製造方法であって、
前記複数の処理室は、前記パネル部材をベーク処理するベーク処理室と、前記ベーク処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材を冷却する冷却処理室と、前記冷却処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材の表面浄化処理がなされる表面浄化処理室と、前記表面浄化処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材にゲッタ処理がなされるゲッタ処理室とを有することを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 画像表示装置のパネルを構成するパネル部材を、それぞれ温度制御手段を備える減圧された複数の処理室に順次搬送し、温度制御しながら前記パネル部材に複数の処理を施した後、前記パネル部材を封着してパネルを形成する画像表示装置の製造方法であって、
前記複数の処理室は、前記パネル部材をベーク処理するベーク処理室と、前記ベーク処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材を冷却する冷却処理室と、前記冷却処理後に前記パネル部材が搬送され、当該処理室内のゲッタ処理がなされる第1のゲッタ処理室と、前記ゲッタ処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材にゲッタ処理がなされる、前記第1のゲッタ処理室に隣接した第2のゲッタ処理室とを有することを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 画像表示装置のパネルを構成するパネル部材を、それぞれ温度制御手段を備える減圧された複数の処理室に順次搬送し、温度制御しながら前記パネル部材に複数の処理を施した後、前記パネル部材を封着してパネルを形成する画像表示装置の製造方法であって、
前記複数の処理室は、前記パネル部材をベーク処理するベーク処理室と、前記ベーク処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材を冷却する冷却処理室と、前記冷却処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材の表面浄化処理がなされる表面浄化処理室と、前記表面浄化処理後に前記パネル部材が搬送され、当該処理室内のゲッタ処理がなされる第1のゲッタ処理室と、前記ゲッタ処理後に前記パネル部材が搬送され、前記パネル部材にゲッタ処理がなされる、前記第1のゲッタ処理室に隣接された第2のゲッタ処理室とを有することを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 画像表示装置の製造方法において、
a:蛍光体励起手段を配置した基板を含む第1の部材と蛍光体を配置した基板を含む第2の部材とを真空雰囲気のベーク処理室に搬入し、加熱してベーク処理する工程と、
b:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気のゲッタ処理室に真空雰囲気下で搬入し、搬入した一方の部材又は搬入した両方の部材のうちの一方又は両方をゲッタ処理する工程と、
c:前記第1の部材と前記第2の部材とを真空雰囲気の封着処理室に真空雰囲気下で搬入し、加熱して封着する工程と、を有し、
前記工程bは、ゲッタ処理される部材の温度が、前記工程aにおける加熱温度よりも低い温度にて行われることを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 画像表示装置の製造方法において、
a:蛍光体励起手段を配置した基板を含む第1の部材と蛍光体を配置した基板を含む第2の部材とを真空雰囲気のベーク処理室に搬入し、加熱してベーク処理する工程と、
b:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気の冷却処理室に真空雰囲気下で搬入し、冷却処理する工程と、
c:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気のゲッタ処理室に真空雰囲気下で搬入し、搬入した一方の部材又は搬入した両方の部材のうちの一方又は両方をゲッタ処理する工程と、
d:前記第1の部材と前記第2の部材とを真空雰囲気の封着処理室に真空雰囲気下で搬入し、加熱して封着する工程と、
を有することを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 画像表示装置の製造方法において、
a:蛍光体励起手段を配置した基板を含む第1の部材と蛍光体を配置した基板を含む第2の部材とを真空雰囲気のベーク処理室に搬入し、加熱してベーク処理する工程と、
b:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気の表面浄化処理室に真空雰囲気下で搬入し、搬入した一方の部材又は搬入した両方の部材のうちの一方又は両方を表面浄化処理する工程と、
c:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気のゲッタ処理室に真空雰囲気下で搬入し、搬入した一方の部材又は搬入した両方の部材のうちの一方又は両方をゲッタ処理する工程と、
d:前記第1の部材と前記第2の部材とを真空雰囲気の封着処理室に真空雰囲気下で搬入し、加熱して封着する工程と、
を有することを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 画像表示装置の製造方法において、
a:蛍光体励起手段を配置した基板を含む第1の部材と蛍光体を配置した基板を含む第2の部材とを真空雰囲気のベーク処理室に搬入し、加熱してベーク処理する工程と、
b:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気の表面浄化処理室に真空雰囲気下で搬入し、搬入した一方の部材又は搬入した両方の部材のうちの一方又は両方を表面浄化処理する工程と、
c:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気の第1のゲッタ処理室に真空雰囲気下で搬入し、前記第1のゲッタ処理室内のゲッタ処理を行う工程と、
d:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気の第2のゲッタ処理室に真空雰囲気下で搬入し、搬入した一方の部材又は搬入した両方の部材のうちの一方又は両方をゲッタ処理する工程と、
e:前記第1の部材と前記第2の部材とを真空雰囲気の封着処理室に真空雰囲気下で搬入し、加熱して封着する工程と、
を有することを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 画像表示装置の製造方法において、
a:蛍光体励起手段を配置した基板を含む第1の部材と蛍光体を配置した基板を含む第2の部材とを真空雰囲気のベーク処理室に搬入し、加熱してベーク処理する工程と、
b:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気の冷却処理室に真空雰囲気下で搬入し、冷却処理する工程と、
c:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気の表面浄化処理室に真空雰囲気下で搬入し、搬入した一方の部材又は搬入した両方の部材のうちの一方又は両方を表面浄化処理する工程と、
d:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気のゲッタ処理室に真空雰囲気下で搬入し、搬入した一方の部材又は搬入した両方の部材のうちの一方又は両方をゲッタ処理する工程と、
e:前記第1の部材と前記第2の部材とを真空雰囲気の封着処理室に真空雰囲気下で搬入し、加熱して封着する工程と、
を有することを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 画像表示装置の製造方法において、
a:蛍光体励起手段を配置した基板を含む第1の部材と蛍光体を配置した基板を含む第2の部材とを真空雰囲気のベーク処理室に搬入し、加熱してベーク処理する工程と、
b:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気の冷却処理室に真空雰囲気下で搬入し、冷却処理する工程と、
c:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気の表面浄化処理室に真空雰囲気下で搬入し、搬入した一方の部材又は搬入した両方の部材のうちの一方又は両方を表面浄化処理する工程と、
d:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気の第1のゲッタ処理室に真空雰囲気下で搬入し、前記第1のゲッタ処理室内のゲッタ処理を行う工程と、
e:前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を真空雰囲気の第2ゲッタ処理室に真空雰囲気下で搬入し、搬入した一方の部材又は搬入した両方の部材のうちの一方又は両方をゲッタ処理する工程と、
f:前記第1の部材と前記第2の部材とを真空雰囲気の封着処理室に真空雰囲気下で搬入し、加熱して封着する工程と、
を有することを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 画像表示装置の製造装置において、
真空雰囲気下に、蛍光体励起手段を配置した基板を含む第1の部材と蛍光体を配置した基板を含む第2の部材のうちの一方又は両方の部材をゲッタ処理するためのゲッタ処理室と、前記第1の部材と前記第2の部材とを加熱して封着処理するための封着処理室と、を有するとともに、前記第1の部材及び前記第2の部材を、前記ゲッタ処理室から前記封着処理室へと搬送可能な搬送手段を備え、
前記ゲッタ処理室と前記封着処理室との間には熱遮蔽部材が設けられていることを特徴とする画像表示装置の製造装置。 - 画像表示装置の製造装置において、
真空雰囲気下に、蛍光体励起手段を配置した基板を含む第1の部材と蛍光体を配置した基板を含む第2の部材とを加熱してベーク処理するためのベーク処理室と、前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材をゲッタ処理するためのゲッタ処理室と、を有するとともに、前記第1の部材及び前記第2の部材を、前記ベーク処理室から前記ゲッタ処理室へと搬送可能な搬送手段を備え、
前記ベーク処理室と前記ゲッタ処理室との間には熱遮蔽部材が設けられていることを特徴とする画像表示装置の製造装置。 - 画像表示装置の製造装置において、
真空雰囲気下に、蛍光体励起手段を配置した基板を含む第1の部材と蛍光体を配置した基板を含む第2の部材とを加熱してベーク処理するためのベーク処理室と、前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材をゲッタ処理するためのゲッタ処理室と、前記第1の部材と前記第2の部材とを加熱して封着処理するための封着処理室と、を有するとともに、前記第1の部材及び前記第2の部材を、ベーク処理室、ゲッタ処理室、封着処理室の順で搬送可能な搬送手段を備え、
前記各処理室間には熱遮蔽部材が設けられていることを特徴とする画像表示装置の製造装置。 - 画像表示装置の製造装置において、
真空雰囲気下に、蛍光体励起手段を配置した基板を含む第1の部材と蛍光体を配置した基板を含む第2の部材とを加熱してベーク処理するためのベーク処理室と、前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を徐冷するための冷却処理室と、前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材をゲッタ処理するためのゲッタ処理室と、を有するとともに、前記第1の部材及び前記第2の部材を、前記ベーク処理室、前記冷却処理室、前記ゲッタ処理室の順に搬送可能な搬送手段を備えることを特徴とする画像表示装置の製造装置。 - 画像表示装置の製造装置において、
真空雰囲気下に、蛍光体励起手段を配置した基板を含む第1の部材と蛍光体を配置した基板を含む第2の部材とを加熱してベーク処理するためのベーク処理室と、前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材を徐冷するための冷却処理室と、前記第1の部材と前記第2の部材のうちの一方又は両方の部材をゲッタ処理するためのゲッタ処理室と、前記第1の部材と前記第2の部材とを加熱し封着処理するための封着処理室と、を有するとともに、前記第1の部材及び前記第2の部材を、前記ベーク処理室、前記冷却処理室、前記ゲッタ処理室、前記封着処理室の順に搬送可能な搬送手段とを備えることを特徴とする画像表示装置の製造装置。
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US6848961B2 (en) * | 2000-03-16 | 2005-02-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for manufacturing image displaying apparatus |
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US7052354B2 (en) * | 2002-08-01 | 2006-05-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for producing spacer and spacer |
US20050130546A1 (en) * | 2002-08-05 | 2005-06-16 | Masakuni Osoegawa | Manufacturing method and manufacturing apparatus for image display device |
JPWO2004013886A1 (ja) * | 2002-08-05 | 2006-09-21 | 株式会社東芝 | 画像表示装置の製造方法および製造装置 |
TWI292350B (en) * | 2004-02-10 | 2008-01-11 | Sharp Kk | Cleaning device of board and cleaning method, flat display panel, mounting equipment of electronic parts and mounting method |
KR101176056B1 (ko) * | 2004-12-01 | 2012-08-24 | 엘리노 인더스트리에-오펜바우 게엠바하 | 평면 모니터 등을 제작하기 위한 유닛을 제조하는 방법 및 장치, 및 이러한 유닛 내부의 중간 공간을 진공화?충전하는 장치 |
US7530875B2 (en) * | 2005-11-28 | 2009-05-12 | Motorola, Inc. | In situ cleaning process for field effect device spacers |
US8002602B2 (en) * | 2008-01-31 | 2011-08-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Manufacturing method of vacuum airtight container |
TWI471790B (zh) * | 2010-02-03 | 2015-02-01 | Wintek Corp | 電容式觸控感應器及其製造方法及電容式觸控面板 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4607593A (en) * | 1983-12-23 | 1986-08-26 | U.S. Philips Corporation | Apparatus for processing articles in a controlled environment |
JPS6171533A (ja) * | 1984-09-12 | 1986-04-12 | Futaba Corp | 表示管の製造方法 |
US4904895A (en) | 1987-05-06 | 1990-02-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron emission device |
US5749763A (en) | 1987-07-15 | 1998-05-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Display device with electron-emitting device with electron-emitting region insulted from electrodes |
EP0299461B1 (en) | 1987-07-15 | 1995-05-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron-emitting device |
FR2705163B1 (fr) * | 1993-05-12 | 1995-07-28 | Pixel Int Sa | Procede de mise en vide et de scellement d'ecrans plats de visualisation. |
CA2137721C (en) | 1993-12-14 | 2000-10-17 | Hidetoshi Suzuki | Electron source and production thereof, and image-forming apparatus and production thereof |
JP3062990B2 (ja) * | 1994-07-12 | 2000-07-12 | キヤノン株式会社 | 電子放出素子及びそれを用いた電子源並びに画像形成装置の製造方法と、電子放出素子の活性化装置 |
US5876260A (en) * | 1994-11-09 | 1999-03-02 | Pixtech Sa | Method for assembling a flat display screen |
US5653838A (en) * | 1995-08-24 | 1997-08-05 | Texas Instruments Incorporated | Glass heating and sealing system |
US5697825A (en) * | 1995-09-29 | 1997-12-16 | Micron Display Technology, Inc. | Method for evacuating and sealing field emission displays |
EP0782169A1 (en) * | 1995-12-29 | 1997-07-02 | STMicroelectronics, Inc. | A field emission display |
US5827102A (en) * | 1996-05-13 | 1998-10-27 | Micron Technology, Inc. | Low temperature method for evacuating and sealing field emission displays |
JPH1040818A (ja) * | 1996-07-19 | 1998-02-13 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
US6139390A (en) * | 1996-12-12 | 2000-10-31 | Candescent Technologies Corporation | Local energy activation of getter typically in environment below room pressure |
US6109994A (en) * | 1996-12-12 | 2000-08-29 | Candescent Technologies Corporation | Gap jumping to seal structure, typically using combination of vacuum and non-vacuum environments |
US5820435A (en) * | 1996-12-12 | 1998-10-13 | Candescent Technologies Corporation | Gap jumping to seal structure including tacking of structure |
KR100240289B1 (ko) * | 1997-06-24 | 2000-01-15 | 이종덕 | 전계방출형 디스플레이용 초고진공 실장방법 및 장치 |
JPH11135018A (ja) | 1997-08-29 | 1999-05-21 | Canon Inc | 画像形成装置の製造方法、製造装置および画像形成装置 |
KR100343240B1 (ko) * | 1997-09-16 | 2002-08-22 | 캐논 가부시끼가이샤 | 전자원제조방법,화상형성장치제조방법,및전자원제조장치 |
WO1999017329A1 (en) * | 1997-10-01 | 1999-04-08 | Complete Display Solutions Limited | Visual display |
KR19990053755A (ko) * | 1997-12-24 | 1999-07-15 | 김영환 | 플라즈마 디스플레이 패널의 제조장치 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 방법 |
KR100255129B1 (ko) * | 1997-12-26 | 2000-05-01 | 박호군 | 유리기판 사이의 접합을 이용한 전계방출표시소자 진공 실장 장치 및 방법 |
US6309272B1 (en) * | 1997-12-26 | 2001-10-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of making an image forming apparatus |
KR100465733B1 (ko) * | 1998-01-17 | 2005-05-27 | 엘지전자 주식회사 | Fed제조 공정중 진공 페키징 방법 및 그에 따른 패널 구조 |
DE60035447T2 (de) * | 1999-02-25 | 2008-03-13 | Canon K.K. | Herstellungsverfahren einer Elektronenemittierenden Vorrichtung |
KR100287732B1 (ko) * | 1999-03-10 | 2001-04-16 | 구자홍 | 플라즈마 디스플레이 패널의 프론트/리어 패널 결합방법 |
EP1168410A4 (en) * | 1999-03-31 | 2006-08-02 | Toshiba Kk | METHOD OF MANUFACTURING A FLAT IMAGE DISPLAY AND FLAT IMPRINTING DEVICE |
US6049168A (en) * | 1999-06-04 | 2000-04-11 | Litton Systems, Inc. | Method and system for manufacturing microchannel plates |
JP3754859B2 (ja) * | 2000-02-16 | 2006-03-15 | キヤノン株式会社 | 画像表示装置の製造法 |
-
2000
- 2000-09-29 JP JP2000298028A patent/JP3754883B2/ja not_active Expired - Fee Related
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