TW503447B - Manufacturing method and manufacturing apparatus of image displaying apparatus - Google Patents

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503447 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 部之吸氣處理進一步在該吸氣處理室中執行。 11 ·如申請專利範圍第1 ，2，3，4，或5項之 任一項之影像顯示裝置之製造方法，其中該板構件以板構 件設定在溫度高於板構件受到在吸氣處理室中之吸氣處理 之溫度下密封。 12·—種影像顯示裝置之製造方法，包含之步驟爲 連續傳送用以構成影像顯示裝置之板之一板構件分別至安 裝有溫度控制機構之多數降壓處理室，使該板構件受到多 數處理並控制溫度，和密封該板構件藉以形成該板， 其中該多數處理室包括一烘烤處理室以用於該板構件 之烘烤處理；第一吸氣處理室，在該烘烤處理後將板構件 傳送至第一吸氣處理室，且其中在該處理室內部執行吸氣 處理；和第二吸氣處理室，在吸氣處理後傳送該板構件至 第二吸氣處理室，其中在該板構件上執行吸氣處理，和其 鄰近第一吸氣處理室，和該板構件之吸氣處理乃是在第二 吸氣處理室中之板構件設定在溫度低於板構件受到在烘烤 處理室中之烘烤處理之溫度下執行。 13.如申請專利範圍第12項之影像顯示裝置之製 造方法， 其中該多數處理室包括一先前室，該板構件在傳送至 第一吸氣處理室之前，在烘烤處理室中供烤後，傳送至該 先前室，且該先前室鄰近該第一吸氣處理室，和該先前室 之內部和該第一和第二吸氣處理室之內部設定之壓力不高 於 1 0 - 4 P a 。 本紙張尺度適用中國國家揉準（CNS ) A4洗格（210X29*7公釐）·3 - 請 先 閱 背 ιδ 之 i 事 項 页

8 8 8 8 ABCD 503447 六、申請專利範圍 先 w 背 而 之 意 事 項 再 填 寫 本 頁 14·一種影像顯示裝置之製造方法，包含之步驟爲 連續傳送用以構成影像顯示裝置之板之一板構件分別至安 裝有溫度控制機構之多數降壓處理室，使該板構件受到多 數處理並控制溫度，和密封該板構件藉以形成該板， 其中該多數處理室包括一烘烤處理室以用於該板構件 之烘烤處理；一表面淸潔室以在該板構件在該烘烤處理後 傳送至該表面淸潔處理室以進行表面淸潔處理；第一吸氣 處理室，在該表面淸潔處理後將板構件傳送至第一吸氣處 理室以進行第一吸氣處理室內部之吸氣處理；和第二吸氣 處理室，在第一吸氣處理室內部之吸氣處理後將板構件傳 送至第二吸氣處理室以進行板構件之吸氣處理，該第二吸 氣處理室鄰近第一吸氣處理室，和該板構件之吸氣處理以 在第二吸氣處理室中之板構件之溫度設定成低於板構件受 到在烘烤處理室中之烘烤處理之溫度下執行。 經濟部智慧时4局員工消費合作社印¾ 1 5 .如申請專利範圍第1 4項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該表面淸潔處理室鄰近第一吸氣處理室，和 該表面淸潔處理室之內部和該第一和第二吸氣處理室之內 部設定之壓力不高於1 0~4P a。 1 6 ·如申請專利範圍第1 4或1 5項之影像顯示裝 置之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以一電子束照射所 傳送構件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 、 1 7 ·如申請專利範圍第1 4或1 5項之影像顯示裝 置之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以離子照射所傳送 構件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4洗格（210X297公釐） 503447 Αδ

BS C8 D8 六、申請專利範圍 先 Μ 讀 背 而 之 意 事 項 再 填 寫 本 1 18.如申請專利範圍第14或15項之影像顯示裝 置之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以紫外線照射所傳 送構件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 19·如申請專利範圍第14或15項之影像顯示裝 置之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以電漿照射所傳送 構件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 2 〇 ·如申請專利範圍第1 2至1 5項之任一項之影 像顯示裝置之製造方法， 其中該板構件乃在溫度設定成高於板構件受到在第二 吸氣處理室中之吸氣處理之溫度下密封。 2 1 · —種影像顯示裝置之製造方法，包含之步驟爲 連續傳送用以構成影像顯示裝置之板之一板構件分別至安 裝有溫度控制機構之多數降壓處理室，使該板構件受到多 數處理並控制溫度，和密封該板構件藉以形成該板， .¾¾部智慧3： 4局員工消骨合作社印Κ 其中該多數處理室包括一烘烤處理室以用於該板構件 之烘烤處理；一冷卻處理室，在該烘烤處理後將板構件傳 送至冷卻處理室以對該板構件進行冷卻處理；和一吸氣處 理室，以在該冷卻處理後，傳送該板構件至該吸氣處理室 以對該板構件進行吸氣處理。 2 2 .如申請專利範圍第2 1項之影像顯示裝置之製 造方法， 其中該多數處理室包括一先前室，該板構件在傳送至 吸氣處理室之前，在冷卻處理室中冷卻後，傳送至該先前 室，且該先前室鄰近該吸氣處理室，和該先前室之內部和 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4洗格（2丨0X297公嫠）·5 ·

ko S 8 8 ABCD 503447 六、申請專利範圍 該吸氣處理室之內部設定之壓力不高於1 0-4P a。 2 3 ·如申請專利範圍第2 1項之影像顯示裝置之製 造方法， 其中該冷卻處理室鄰近該吸氣處理室，和該冷卻處理 室之內部和該吸氣處理室之內部設定之壓力不高於1 0 一 4 Pa 〇 2 4 ·如申請專利範圍第2 1至2 3項之任一項之影 像顯示裝置之製造方法，其中該吸氣處理室內部之吸氣處 理進一步在該吸氣處理室中執行。 2 5 ·如申請專利範圍第2 1至2 3項之任一項之影 像顯示裝置之製造方法，其中該板構件之表面淸潔處理進 一步在該冷卻處理室中執行。 2 6 ·如申請專利範圍第2 1至2 3項之任一項之影 像顯示裝置之製造方法，其中該冷卻處理室內部之吸氣處 理進一步在該冷卻處理室中執行。 2 7 ·如申請專利範圍第2 5項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該冷卻處理室內部之吸氣處理進一步在該冷 卻處理室中執行。 2 8 ·如申請專利範圍第2 5項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該表面淸潔處理爲以一電子束照射所傳送構 件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 2 9 ·如申請專利範圍第2 5項之影像顯示裝置之製 造方法’其中該表面淸潔處理爲以離子照射所傳送構件表 面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) ( 210Χ 297公嫠）· 6 · 503447 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 3 0 ·如申請專利範圍第2 5項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該表面淸潔處理爲以紫外線照射所傳送構件 表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 3 1 ·如申請專利範圍第2 5項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該表面淸潔處理爲以電漿照射所傳送構件表 面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 32 · —種影像顯示裝置之製造方法，包含之步驟爲 連續傳送用以構成影像顯示裝置之板之一板構件分別至安 裝有溫度控制機構之多數降壓處理室，使該板構件受到多 數處理並控制溫度，和密封該板構件藉以形成該板， 其中該多數處理室包括一烘烤處理室以用於該板構件 之烘烤處理；一冷卻處理室，在該烘烤處理後將板構件傳 送至冷卻處理室以對該板構件進行冷卻處理；一表面淸潔 處理室，在該冷卻處理後將板構件傳送至表面淸潔處理室 以進行表面淸潔處理；和一吸氣處理室，以在該表面淸潔 處理後，傳送該板構件至該吸氣處理室以對該板構件進行 吸氣處理。 3 3 .如申請專利範圍第3 2項之影像顯示裝置之製 造方法， 其中該多數處理室包括一先前室’該板構件在傳送至 吸氣處理室之前，在表面淸潔處理室中表面淸潔處理後’ 傳送至該先前室，且該先前室鄰近該吸氣處理室’和該先 前室之內部和該吸氣處理室之內部設定之壓力在1 0^4ρ a或更降壓位準。 (討先閱沭背而之注意事項再本頁) 訂 經濟部智慧^4局員工消費合作社印紫 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS > A4*i格（2丨0X29*7公t ) · 503447 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 3 4 .如申請專利範圍第3 2項之影像顯示裝置之製 造方法， (梵先wif^vlsj之注意事項再填寫本頁 其中該表面淸潔處理室鄰近該吸氣處理室，和該表面 淸潔處理室之內部和該吸氣處理室之內部設定之壓力在1 0_4Pa或更降壓位準。 3 5 ·如申請專利範圍第3 2至3 4項任一項之影像 顯示裝置之製造方法，其中該吸氣處理室內部之吸氣處理 進一步在該吸氣處理室中執行。 3 6 ·如申請專利範圍第3 2至3 4項任一項之影像 顯示裝置之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以一電子束 照射所傳送構件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 3 7 ·如申請專利範圍第3 2至3 4項任一項之影像 顯示裝置之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以離子照射 所傳送構件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 3 8 ·如申請專利範圍第3 2至3 4項任一項之影像 顯示裝置之製造方法’其中該表面淸潔處理爲以紫外線照 射所傳送構件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 3 9 ·如申請專利範圍第3 2至3 4項任一項之影像 顯示裝置之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以電漿照射 所傳送構件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 40 ·如申請專利範圍第21 ，22，23 , 32 , 3 3，或3 4項之影像顯示裝置之製造方法，其中該板構 件之密封乃在板構件設定在溫度高於板構件在該吸氣處理 木紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4洗接（210X29*7公釐） 503447 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 室中受到吸氣處理之溫度下執行。 請 先 w 讀 背 1& 意 事 項 再 填 寫 本 頁 41 ·—種影像顯示裝置之製造方法，包含之步驟爲 連續傳送用以構成影像顯示裝置之板之一板構件分別至安 裝有溫度控制機構之多數降壓處理室，使該板構件受到多 數處理並控制溫度，和密封該板構件藉以形成該板， 其中該多數處理室包含： 一烘烤處理室以用於該板構件之烘烤處理： 一冷卻處理室，在該烘烤處理後將扳構件傳送至冷卻處 理室以對該板構件進行冷卻處理； 第一吸氣處理室，在冷卻處理後，對板構件所傳送至 之吸氣處理室內部進行吸氣處理；和 第二吸氣處理室，在吸氣處理後，將該板構件傳送至 該第二吸器處理室以進行對板構件之吸氣處理，和第二吸 氣處理室鄰近第一吸氣處理室。 .¾¾部智慧时4局員工消費合作社印¾ 4 2 ·如申請專利範圍第4 1項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該冷卻處理室鄰近第一吸氣處理室，和該冷 卻處理室之內部和該第一和第二吸氣處理室之內部設定之 壓力在1 0_4P a或更降壓位準。 4 3 ·如申請專利範圍第4 1或4 2項之影像顯示裝 置之製造方法，其中該板構件之表面淸潔處理進一步在該 冷卻處理室中執行。 4 4 ·如申請專利範圍第4 3項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該表面淸潔處理爲以一電子束照射所傳送構 件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) ( 210X 297公釐）.9 503447

AS B8 C8 D8 六、申請專利範圍 4 5 ·如申請專利範圍第4 3項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該表面清潔處理爲以離子照射所傳送構件表 面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 4 6 ·如申請專利範圍第4 3項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該表面淸潔處理爲以紫外線照射所傳送構件 表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 4 7 ·如申請專利範圍第4 3項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該表面淸潔處理爲以電漿照射所傳送構件表 面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 48 · —種影像顯示裝置之製造方法，包含之步驟爲 連續傳送用以構成影像顯示裝置之板之一板構件分別至安 裝有溫度控制機構之多數降壓處理室，使該板構件受到多 數處理並控制溫度，和密封該板構件藉以形成該板， 其中該多數處理室包含： 一烘烤處理室以用於該板構件之烘烤處理； 一冷卻處理室，在該烘烤處理後將板構件傳送至冷卻處 理室以對該板構件進行冷卻處理； 一表面淸潔處理室，在該冷卻處理後，將板構件傳送至 表面淸潔處理室以對板構件進行表面淸潔處理； 第一吸氣處理室，在表面淸潔處理後，對板構件所傳 送至之吸氣處理室內部進行吸氣處理；和 第二吸氣處理室，在吸氣處理後，將該板構件傳送至 該第二吸器處理室以進行對板構件之吸氣處理，和第二吸 氣處理室鄰近第一吸氣處理室。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4洗格（210X297公釐）· 503447 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 4 9 .如申請專利範圍第4 8項之影像顯示裝置之製 造方法， 其中該表面淸潔處理室鄰近第一吸氣處理室，和該表 面淸潔處理室之內部和該第一和第二吸氣處理室之內部設 定之壓力在1 〇-4P a或更降壓位準。 5 〇 ·如申請專利範圍第4 8或4 9項之影像顯示裝 置之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以一電子束照射所 傳送構件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 5 1 ·如申請專利範圍第4 8或4 9項之影像顯示裝 置之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以離子照射所傳送 構件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 5 2 .如申請專利範圍第4 8或4 9項之影像顯示裝 置之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以紫外線照射所傳 送構件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 5 3 ·如申請專利範圍第4 8或4 9項之影像顯示裝 置之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以電漿照射所傳送 構件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 .¾¾部智慧ST 4 ρτ Ρ'工消脅合作?i印¾ 5 4 ·如申請專利範圍第4 1或4 8項之影像顯示裝 置之製造方法，其中該板構件之密封乃是在板構件設定在 '溫度高於板構件在第二吸氣處理室中受到吸氣處理之溫度 下執行。 55 ·如申請專利範圍第1 ，3，12，14，2 1 ’ 32 ’ 41 ，或48項任一項之影像顯示裝置之製造方 法’其中該板構件具有一面板以組成該板之一顯示表面， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4g ( 210X297公嫠）. A8 B8 C8 D8 503447 申請專利範圍 且％、封至一背板，該背板設置以一間隙相對該面板’以構 成該板之背表面。 5 6 ·如申請專利範圍第5 5項之影像顯示裝置之製 @方法’其中第一密封材料設置在該背板之側上以密封至 該板構件。 5 7 ·如申請專利範圍第5 5項之影像顯示裝置之製 $ $丨去’其中以第二密封材料固定以構成該板之側表面之 一外框’和設置在外框上以密封至該板構件之第一密封材 料’乃設置在該背板側上。 5 8 .如申請專利範圍第5 7項之影像顯示裝置之製 迟方法’其中該第二密封材料之熔點高於第一密封材料之 熔點。 9 .如申請專利範圍第5 6項之影像顯示裝置之製 ’其中該第一密封材料爲具有低熔點之金屬或該金 〇 0 ·如申請專利範圍第5 8項之影像顯示裝置之製 ，其中該第二密封材料爲多孔玻璃。 1 .如申請專利範圍第5 5項之影像顯示裝置之製 ，其中該板構件進一步具有第一密封材料設置在該 ，且以第一密封材料密封至該背板。 2 ·如申請專利範圍第6 1項之影像顯示裝置之製 ’其中以第二密封材料固定以構成該板之側表面之 乃設置在該背板之側上。 - 3 ·如申請專利範圍第6 2項之影像顯示裝置之製 L-----.——-I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

、1T 造方法 屬合金 6 造方法 6 造方法 面板上 6 造方法 一外框 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） _ 12 - 503447 Α8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 造方法’其中該第二密封材料之熔點高於第一密封材料之 熔點。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) δ 4 ·如申請專利範圍第6 1項之影像顯示裝置之製 造方法’其中該第一密封材料爲具有低熔點之金屬或該金 屬合金。 δ 5 ·如申請專利範圍第6 2項之影像顯示裝置之製 造方法’其中該第二密封材料爲多孔玻璃。 6 6 .如申請專利範圍第5 5項之影像顯示裝置之製 造方法’其中該板構件進一步具有一外框，該外框以第二 密封材料固定至該面板以構成該板之側表面且密封至該背 板。 6 7 _如申請專利範圍第6 6項之影像顯示裝置之製 造方法’其中密封至該板構件之第一密封材料乃設置在該 背板側上。 6 8 ·如申請專利範圍第6 7項之影像顯示裝置之製 造方法’其中該第二密封材料之熔點高於第一密封材料之 熔點。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 6 9 .如申請專利範圍第6 7項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該第一密封材料爲具有低熔點之金屬或該金 屬合金。 7 0 ·如申請專利範圍第6 6項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該第二密封材料爲多孔玻璃。 7 1 _如申請專利範圍第5 5項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該板構件進一步具有一外框，該外框以第二 本紙張尺度遑用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210 X 297公釐） 503447 A8 B8 C8 _ D8 六、申請專利範圍 密封材料固定至該面板以構成該板之側表面，和設置在該 外框上之第一密封材料，和該板構件以第一密封材料密封 至該背板。 7 2 ·如申請專利範圍第7 1項之影像顯示裝置之製 造方法’其中該第二密封材料之熔點高於第一密封材料之 熔點。 •如申請專利範圍第71項之影像顯示裝置之製 其中該第一密封材料爲具有低熔點之金屬或該金 請 先 w η 背 1¾ 之 i 事 項 再 填 寫 本 % 7 造方法 屬合金。 7 4 ·如申請專利範圍第71項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該第二密封材料爲多孔玻璃。 75 ·如申請專利範圍第1 ，3，12，14，21 ，32，41 ，或48項任一項之影像顯示裝置之製造方 法，其中該板構件具有一背板設置以相對構成該板之一顯 示表面之一面板，以構成該板之背表面，和密封至該面板 7 6 ·如申請專利範圍第7 5項之影像顯示裝置之製 造方法，其中密封至該板構件之第一密封材料設置在該面 板之側上。 7 7 ·如申請專利範圍第7 5項之影像顯示裝置之製 造方法，其中以第二密封材料固定以構成該板之側表面之 一外框，和設置在外框上以密封至該板構件之第一密封材 料，乃設置在該面板側上。 7 8 ·如申請專利範圍第7 7項之影像顯示裝置之製

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4说格（210X297公嫠）.14J Α8 Β8 C8 D8 503447 六、申請專利範圍 造方法，其中該第二密封材料之熔點高於第一密封材料之 熔點。 7 9 ·如申請專利範圍第7 6項之影像顯示裝置之製 造方法’其中該第一密封材料爲具有低熔點之金屬或該金 屬合金。 8 0 ·如申請專利範圍第7 7項之影像顯示裝置之製 造方法’其中該第二密封材料爲多孔玻璃。 8 1 ·如申請專利範圍第7 5項之影像顯示裝置之製 造方法’其中該板構件進一步具有第一密封材料設置在該 背板上’且以第一密封材料密封至該面板。 8 2 ·如申請專利範圍第8 1項之影像顯示裝置之製 造方法’其中以第二密封材料固定以構成該板之側表面之 一外框乃設置在該面板之側上。 8 3 ·如申請專利範圍第8 2項之影像顯示裝置之製 造方法’其中該第二密封材料之熔點高於第一密封材料之 熔點。 缚^邡¥^財4局員工^骨合作社印« 8 4 ·如申請專利範圔第8 1項之影像顯示裝置之製 造方法’其中該第一密封材料爲具有低熔點之金屬或該金 屬合金。 8 5 .如申請專利範圍第8 2項之影像顯示裝置之製 造方法’其中該第二密封材料爲多孔玻璃。 8 6 ·如申請專利範圍第7 5項之影像顯示裝置之製 造方法’其中該板構件進一步具有一外框，該外框以第二 密封材料固定至該背扳以構成該板之側表面。 -15- 本紙張尺度適用中國國家榡车（CNS ) Α4此格（210Χ297公嫠） 503447

BS C8 D8 六、申請專利範圍 8 7 .如申請專利範圍第8 6項之影像顯示裝置之製 造方法，其中密封至該板構件之第一密封材料乃設置在該 面板側上。 8 8 ·如申請專利範圍第8 7項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該第二密封材料之熔點高於第一密封材料之 熔點。 8 9 ·如申請專利範圍第8 7項之影像顯示裝置之製 造方法’其中該第一密封材料爲具有低熔點之金屬或該金 屬合金。 9 0 ·如申請專利範圍第8 6項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該第二密封材料爲多孔玻璃。 9 1 ·如申請專利範圍第7 5項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該板構件進一步具有一外框，該外框以第二 密封材料固定至該背板，和設置在該外框上之第一密封材 料’和該板構件以第一密封材料密封至該面板。 經濟部智慧財4·局員工消贲合作社印製 9 2 .如申請專利範圍第9 1項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該第二密封材料之熔點高於第一密封材料之 熔點。 9 3 ·如申請專利範圍第9 1項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該第一密封材料爲具有低熔點之金屬或該金 屬合金。 9 4 .如申請專利範圍第9 1項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該第二密封材料爲多孔玻璃。 9 5 .如申請專利範圍第5 5項之影像顯示裝置之製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4^格《210X 297公嫠）.χ6 .

ABCD 503447 六、申請專利範圍 造方法，其中該面板具有磷。 9 6 .如申請專利範圍第5 5項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該面板具有磷和一金屬背面。 9 7 .如申請專利範圍第5 5項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該背板具有磷激勵機構。 9 8 .如申請專利範圍第9 7項之影像顯示裝置之製 造方法，其中該磷激勵機構具有一電子發射裝置。 99.一種影像顯示裝置之製造方法，包含之步驟爲 a :傳送包括設置有磷激勵機構之一基底之第一構件 和包括設置有磷之一基底之第二構件至充塡一降壓大氣之 烘烤處理室和加熱以進行烘烤處理； b:傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之吸氣處理室和執行所傳送構件之一 或兩者之吸氣處理；和 經¾部智慧3T4I1I?員工消賁合作社印« c :傳送第一構件和第二構件經由降壓大氣至充塡以 降壓大氣之密封處理室，和加熱以密封，其中在步驟b中 受到吸氣處理之構件之溫度低於在步驟a中之加熱溫度。 1 0 0 ·如申請專利範圍第9 9項之影像顯示裝置之 製造方法，其中在步驟b中之吸氣處理乃是在對所傳送構 件之一或兩者加熱時執行，和在步驟b之加熱溫度低於在 步驟a之加熱溫度。 101·—種影像顯示裝置之製造方法，包含之步驟 爲· ^紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210X297公釐)~· 17 .' 503447 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 a ··傳送包括設置有磷激勵機構之一基底之第一構件 和包括設置有磷之一基底之第二構件至充塡一降壓大氣之 烘烤處理室和加熱以進行烘烤處理； b:傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之冷卻處理室以冷卻； c :傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之吸氣處理室以對所傳送之構件之一 或兩者進行吸氣處理：和‘ d :傳送第一構件和第二構件經由降壓大氣至充塡降 壓大氣之一密封處理室。 1 0 2 .如申請專利範圍第1 0 1項之影像顯示裝置 之製造方法，其中在步驟b中在冷卻處理室中對所傳送構 件之一或兩者執行表面淸潔處理。 1 0 3 ·如申請專利範圍第1 0 1項之影像顯示裝置 之製造方法，其中所傳送構件之一或兩者之表面淸潔處理 在冷卻處理室中執行，和該冷卻處理室內部之吸氣處理在 步驟b中執行。 經濟部智慧ST 4A員工消黄合作社印¾ 1 0 4 · —種影像顯示裝置之製造方法，包含之步驟 爲· a :傳送包括設置有磷激勵機構之一基底之第一構件 和包括設置有磷之一基底之第二構件至充塡一降壓大氣之 烘烤處理室和加熱以進行烘烤處理； b ··傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之表面淸潔處理室，和執行所傳送構 I紙張尺度適用中國國家搮準（CNS ) A4現格（210X297公釐）~.18 . " " 503447 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 件之一或兩者之表面淸潔處理； C :傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之吸氣處理室，和執行所傳送構件之 一或兩者之吸氣處理：和 d :傳送第一構件和第二構件經由降壓大氣至充塡以 降壓大氣之密封處理室和加熱以密封。 105 ·如申請專利範圍第104項之影像顯示裝置 之製造方法，其中表面淸潔處理室內部之吸氣處理乃在步 驟b中在表面淸潔處理室中執行。 1 0 6 ·如申請專利範圍第1 04或1 〇 5項之影像 顯示裝置之製造方法，其中所傳送構件之一或兩者乃在步 驟b中在表面淸潔處理室中冷卻。 107 ·如申請專利範圍第101或104項之影像 顯示裝置之製造方法，其中吸氣處理乃是在步驟c中在所 傳送構件之一或兩者加熱時執行，和在步驟c中之加熱溫 度低於在步驟a中之加熱溫度。 1 0 8 . —種影像顯示裝置之製造方法，包含之步驟 爲· a :傳送包括設置有磷激勵機構之一基底之第一構件 和包括設置有磷之一基底之第二構件至充塡一降壓大氣之 烘烤處理室和加熱以進行烘烤處理； b:傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之表面淸潔處理室，和執行所傳送構 件之一或兩者之表面淸潔處理； 本紙乐尺度適用中國國家橾率（CNS ) A4洗格（210X297公嫠)~Ί (讣先閱讀背ώ之注意事項再峨寫本頁 $·* 訂 503447

AS B8 C8 D8 六、申請專利範圍 C:傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之第一吸氣處理室，和執行該第一吸 氣處理室內部之吸氣處理； d:傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之第二吸氣處理室，和執行所傳送構 件之一或兩者之吸氣處理；和 e :傳送第一構件和第二構件經由降壓大氣至充塡以 降壓大氣之密封處理室和加熱以密封。 1 0 9 ·如申請專利範圍第1 0 8項之影像顯示裝置 之製造方法，其中所傳送構件之一或兩者在步驟b中在表 面淸潔處理室中冷卻。 1 1 0 · —種影像顯示裝置之製造方法，包含之步驟 爲· a :傳送包括設置有磷激勵機構之一基底之第一構件 和包括設置有磷之一基底之第二構件至充塡一降壓大氣之 烘烤處理室和加熱以進行烘烤處理； 經濟部智慧时4局員工消黄合作社印製 b:傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之冷卻處理室，和執行冷卻處理； c :傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之表面淸潔處理室，和執行所傳送構 件之一或兩者之表面淸潔處理； d:傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之吸氣處理室，和執行所傳送構件之 一或兩者之吸氣處理；和 木&張尺度適用中國國家標率（CNS > A4说格（2丨0X297公釐）~"

8 8 8 8 ABCD 503447 六、申請專利範圍 e:傳送第一構件和第二構件經由降壓大氣至充塡以 降壓大氣之密封處理室和加熱以密封。 先 W it 背 ώ 之 i 亨 項 再 填 寫 本 頁 1 1 1 ·如申請專利範圍第1 08至1 1 0項之任一 項之影像顯示裝置之製造方法，其中吸氣處理乃是在步驟 d中在所傳送構件之一或兩者加熱時執行，和在步驟d中 之加熱溫度低於在步驟a中之加熱溫度。 1 1 2 · —種影像顯示裝置之製造方法，包含之步驟 爲· a:傳送包括設置有磷激勵機構之一基底之第一構件 和包括設置有磷之一基底之第二構件至充塡一降壓大氣之 烘烤處理室和加熱以進行烘烤處理； b:傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之冷卻處理室，和執行冷卻處理； c:傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之表面淸潔處理室，和執行所傳送構 件之一或兩者之表面淸潔處理； 經濟部智慧5:4·局g:工消責合作社印製 d:傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之第一吸氣處理室，和執行該第一吸 氣處理室內部之吸氣處理； e:傳送第一構件和第二構件之一或兩者經由降壓大 氣至充塡以降壓大氣之第二吸氣處理室’和執行所傳送構 件之一或兩者之吸氣處理；和 ί :傳送第一構件和第二構件經由降壓大氣至充塡以 降壓大氣之密封處理室和加熱以密封。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4C格（210X29*7公釐）-21’ · 503447 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 1 3 .如申請專利範圍第1 1 2項之影像顯示裝置 之製造方法，其中吸氣處理乃是在步驟e中在所傳送構件 之一或兩者加熱時執行，和在步驟e中之加熱溫度低於在 步驟a中之加熱溫度。 1 1 4 ·如申請專利範圍第1 〇 2項之影像顯示裝置 之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以一電子束照射所傳 送構件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 1 1 5 ·如申請專利範圍第1 0 2項之影像顯示裝置 之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以離子照射所傳送構 件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 1 1 6 .如申請專利範圍第1 0 2項之影像顯示裝置 之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以紫外線照射所傳送 構件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 1 1 7 ·如申請專利範圍第1 0 2項之影像顯示裝置 之製造方法，其中該表面淸潔處理爲以電漿照射所傳送構 件表面之處理，藉以淸潔該構件之表面。 1 ΤΧ ο 蛵濟部智慧財4局具工消費合作社印繁 ο Γ-Η 第 該。 中框 其外 ο ΊΧ 法 方 造 製 之 置 裝 1 示 ， 顯 9 像 9 影 第之 圍項 範 2 利 1 專 1 請或 申， 如 ο 和 構 機 勵 激 磷 置 設 上 其 底 基1 有 具 件 構 1 1± 第。 該 器 中隔 其間 法 方 造 製 之 置 裝 1 示 ’ 顯 9 像 9 影 第之 圍項 範 2 利 1 專 1 請或 申 ， 如 ο ο 和 構 機 勵 激 磷 置 設 上 其 底 基1 有 具 件 構 -22 . 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) ( 21〇X29*7公嫠） A8 B8 C8 D8 503447 六、申請專利範圍 120 ·如申請專利範圍第99，101 ，104， 1 08，1 1 0，或1 1 2項之影像顯示裝置之製造方法 ，其中該第一構件具有一基底，其上設置磷激勵機構，一 外框，和一間隔器。 1 2 1 ·如申請專利範圍第9 9，1 0 1 ，1 0 4， 1 08，1 1 0，或1 1 2項之影像顯示裝置之製造方法 ，其中該第二構件具有一基底，其上設置磷，和一外框。 122 ·如申請專利範圍第9 9，101 ，104， 1 08，1 1 0，或1 1 2項之影像顯示裝置之製造方法 ，其中該第二構件具有一基底，其上設置磷，和一間隔器 0 123 ·如申請專利範圍第99 ，101 ，104， 1 08，1 1 0，或1 1 2項之影像顯示裝置之製造方法 ，其中該第二構件具有一基底，其上設置磷，一外框，和 一間隔器° 124 ·如申請專利範圍第99 ，101 ，104， 108，110，或112項之影像顯示裝置之製造方法 ，其中使用於吸氣處理之吸氣劑爲一蒸發吸氣劑。 經·淹.部皙楚財4局員工消脅合作社印« 125 ·如申請專利範圍第99 ，101 ，104， 1 08，1 1 0，或1 12項之影像顯示裝置之製造方法 ，其中該磷激勵機構具有一電子發射裝置。 126 . —種影像顯示裝置之製造裝置，包含： 一吸氣處理室，用以在真空下執行包括設置有磷激勵機 構之一基底之第一構件和包括設置有磷之一基底之第二構 本紙朵尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2丨0X297公釐）.23 . 503447 經^部智慧374局員工消贲合作社印災 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 件之一或兩者之吸氣處理； 一密封處理室，用以藉由對第一構件和第二構件加熱而 執行密封處理：和 傳送機構，其可傳送該第一構件和第二構件從吸氣處理 室至密封處理室， 其中在吸氣處理室和密封處理室間設置有一熱屏蔽構 件。 1 2 7 · —種影像顯示裝置之製造裝置，包含： 一烘烤處理室，用以在真空下以加熱執行包括設置有磷 激勵機構之一基底之第一構件和包括設置有磷之一基底之 第二構件之烘烤處理； 一吸氣處理室，用以執行第一構件和第二構件之一或兩 者之吸氣處理；和 傳送機構，其可傳送該第一構件和第二構件從烘烤處理 室至吸氣處理室， 其中在烘烤處理室和吸氣處理室間設置有一熱屏蔽構 件。 128 · —種影像顯示裝置之製造裝置，包含： 一烘烤處理室，用以在真空下以加熱執行包括設置有磷 激勵機構之一基底之第一構件和包括設置有磷之一基底之 第二構件之烘烤處理； 一吸氣處理室，用以執行第一構件和第二構件之一或兩 者之吸氣處理； 一密封處理室，用以藉由對第一構件和第二構件之一或 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS >A4洗格（210X297公慶)—" ^之閱沭背VL-J之注«事項再3本頁) 訂 503447 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 兩者加熱以執行密封處理；和 傳送機構，其可傳送該第一構件和第二構件依序至供烤 處理室，吸氣處理室，和密封處理室， 其中在處理室間設置有熱屏蔽構件。 129·如申請專利範圔第126至128項任一項 之影像顯示裝置之製造裝置，其中該熱屏蔽構件以反射性 金屬製成。 1 3 0 · —種影像顯示裝置之製造裝置，包含： 一烘烤處理室，用以在降壓大氣下以加熱執行包括設置 有磷激勵機構之一基底之第一構件和包括設置有磷之一基 底之第二構件之烘烤處理； 一冷卻處理室，用以緩慢的冷卻第一構件和第二構件之 一或兩者； 一吸氣處理室，用以執行第一構件和第二構件之一或兩 者之吸氣處理；和 傳送機構，其可傳送該第一構件和第二構件依序至烘烤 處理室，冷卻處理室，和吸氣處理室。 經濟部智慧时4局員工消費合作社印製 131 · —種影像顯示裝置之製造裝置，包含： 一烘烤處理室，用以在降壓大氣下以加熱執行包括設置 有磷激勵機構之一基底之第一構件和包括設置有磷之一基 底之第二構件之烘烤處理； 一冷卻處理室，用以緩慢的冷卻第一構件和第二構件之 一或兩者； 一吸氣處理室，用以執行第一構件和第二構件之一或兩 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS > Α4洗格（210X297公釐）· 25 - 503447 A8

Pi8 C8 1)8 六、申請專利範圍 者之吸氣處理； 一密封處理室，用以藉由對第一構件和第二構件加熱而 執行密封處理；和 傳送機構’其可傳送該第一構件和第二構件依序至烘烤 處理室，冷卻處理室，吸氣處理室，和密封處理室。 132 ·如申請專利範圍第130或131項之影像 顯示裝置之製造裝置，其中一熱屏蔽構件設置在該烘烤處 理室和冷卻處理室間。 1 3 3 ·如申請專利範圍第1 3 1項之影像顯示裝置 之製造裝置，其中一熱屏蔽構件設置在該吸氣處理室和密 封處理室間。 1 3 4 ·如申請專利範圍第1 3 1項之影像顯示裝置 之製造裝置，其中一熱屏蔽構件設置在該烘烤處理室和冷 卻處理室間，和一熱屏蔽構件設置在該吸氣處理室和密封 處理室間。 1 3 5 ·如申請專利範圍第1 30或1 3 1項之影像 顯示裝置之製造裝置，其中一熱屏蔽構件設置在處理室間

C 1 3 6 ·如申請專利範圍第1 3 2項之影像顯示裝置 之製造裝置，其中該熱屏蔽構件以反射性金屬製成。 137 ·如申請專利範圍第126至128 ’ 130 ，或13 1項之任一項之影像顯示裝置之製造裝置，其中 該第一構件具有一基底，其上設置有磷激勵機構，和一外 {請先Μ讀背面之注意事項再 ·丨 — ! 11 訂· — 1111 — I -破 ^^本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） .26- 503447 A8 ί;8 C8 1)8 六、申請專利範圍 框。 138 .如申請專利範圍第126至128，130 ，或1 3 1項之任一項之影像顯示裝置之製造裝置，其中 該第一構件具有一基底，其上設置有磷激勵機構，和一間 隔器。 139 ·如申請專利範圍第126至128，130 ，或1 3 1項之任一項之影像顯示裝置之製造裝置，其中 該第一構件具有一基底，其上設置有磷激勵機構，一外框 ，和一間隔器。 140 ·如申請專利範圔第126至128，130 ，或13 1項之任一項之影像顯示裝置之製造裝置，其中 該第二構件具有一基底，其上設置有磷，和一外框。 141 .如申請專利範圍第126至128，130 ，或1 3 1項之任一項之影像顯示裝置之製造裝置，其中 該第二構件具有一基底，其上設置有磷，和一間隔器。 142 .如申請專利範圍第126至128 ，130 ，或1 3 1項之任一項之影像顯示裝置之製造裝置，其中 該第二構件具有一基底，其上設置有磷，一外框，和一間 隔器。 143 ·如申請專利範圍第126至128 ，130 ，或1 3 1項之任一項之影像顯示裝置之製造裝置，其中 使用於吸氣處理之吸氣劑爲一蒸發吸氣劑。 144 ·如申請專利範圍第126至128，130 ，或1 3 1項之任一項之影像顯示裝置之製造裝置，其中 (請先Mtt背面之注意事項再Ϊ本頁) 衣·！！111 訂·11111!· *^ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印^ 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -27- 503447 鸽 1)8 六、申請專利範圍 該磷激勵機構具有一電子發射裝置。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 !.^------ (請先»讀背面之注意事項再本頁) 訂---------線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） -28 -