JP2001302481A - デキストラナーゼ配合口腔用組成物 - Google Patents
デキストラナーゼ配合口腔用組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 酸化エチレンの付加モル数が２〜５のポ
リオキシエチレンアルキルエーテルを含有することを特
徴とするデキストラナーゼ配合口腔用組成物。 【効果】 本発明の口腔用組成物は、デキストラナーゼ
の辺縁部歯垢除去効果に優れ、各種剤型に調製して幅広
く使用することができる。
リオキシエチレンアルキルエーテルを含有することを特
徴とするデキストラナーゼ配合口腔用組成物。 【効果】 本発明の口腔用組成物は、デキストラナーゼ
の辺縁部歯垢除去効果に優れ、各種剤型に調製して幅広
く使用することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、デキストラナーゼ
の辺縁部歯垢除去効果を極めて向上させた口腔用組成物
に関する。
の辺縁部歯垢除去効果を極めて向上させた口腔用組成物
に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、デキストラナーゼは歯垢形成抑制効果を有すること
が知られており、このデキストラナーゼを配合した口腔
用組成物が特許第７８２１５４号に提案されている。
り、デキストラナーゼは歯垢形成抑制効果を有すること
が知られており、このデキストラナーゼを配合した口腔
用組成物が特許第７８２１５４号に提案されている。
【０００３】しかしながら、デキストラナーゼを単独使
用する場合、デキストラナーゼが水溶性グルカンである
α−１，６グルカンを分解する酵素であることより歯牙
表面を薄く覆う形成初期の歯垢に対し特に効果が高いと
いう特徴がある。一方、う触、歯周病の原因となる種々
の細菌の堆積した厚い辺縁部歯垢に対しては十分な効果
が達成されていないのが現状である。
用する場合、デキストラナーゼが水溶性グルカンである
α−１，６グルカンを分解する酵素であることより歯牙
表面を薄く覆う形成初期の歯垢に対し特に効果が高いと
いう特徴がある。一方、う触、歯周病の原因となる種々
の細菌の堆積した厚い辺縁部歯垢に対しては十分な効果
が達成されていないのが現状である。
【０００４】そこで、口腔用組成物中でのデキストラナ
ーゼの活性を高め、厚い歯垢を分解除去可能な種々の提
案がなされている。例えば、ヒドロキシ−２−ピリドン
誘導体又はその塩を併用した口腔用組成物などが提案さ
れている（特開平１０−１５８１３５号公報記載）。
ーゼの活性を高め、厚い歯垢を分解除去可能な種々の提
案がなされている。例えば、ヒドロキシ−２−ピリドン
誘導体又はその塩を併用した口腔用組成物などが提案さ
れている（特開平１０−１５８１３５号公報記載）。
【０００５】しかしながら、これまでのところ、デキス
トラナーゼによる厚い辺縁部歯垢を十分に除去する手段
に関しては全く提案されていなかった。
トラナーゼによる厚い辺縁部歯垢を十分に除去する手段
に関しては全く提案されていなかった。
【０００６】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、デキストラナーゼの辺縁部歯垢除去効果に優れ、う
触、歯周病予防効果が非常に有効に発揮される口腔用組
成物を提供することを目的とする。
で、デキストラナーゼの辺縁部歯垢除去効果に優れ、う
触、歯周病予防効果が非常に有効に発揮される口腔用組
成物を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結
果、デキストラナーゼと酸化エチレンの付加モル数が２
〜５のポリオキシエチレンアルキルエーテルを併用する
ことにより、デキストラナーゼ由来の高い辺縁部歯垢形
成抑制効果が発揮される口腔用組成物が得られることを
知見し、本発明をなすに至った。
発明者は上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結
果、デキストラナーゼと酸化エチレンの付加モル数が２
〜５のポリオキシエチレンアルキルエーテルを併用する
ことにより、デキストラナーゼ由来の高い辺縁部歯垢形
成抑制効果が発揮される口腔用組成物が得られることを
知見し、本発明をなすに至った。
【０００８】従って、本発明は、酸化エチレンの付加モ
ル数が２〜５のポリオキシエチレンアルキルエーテルを
含有することを特徴とするデキストラナーゼ配合口腔用
組成物を提供する。
ル数が２〜５のポリオキシエチレンアルキルエーテルを
含有することを特徴とするデキストラナーゼ配合口腔用
組成物を提供する。
【０００９】以下、本発明につき更に詳細に説明する
と、本発明の口腔用組成物は、練歯磨、液状歯磨、液体
歯磨等の歯磨類、洗口剤、塗布剤、マウスウォッシュ、
歯科用パスタ等として調製できるもので、デキストラナ
ーゼと酸化エチレンの付加モル数が２〜５のポリオキシ
エチレンアルキルエーテルを含有するものである。
と、本発明の口腔用組成物は、練歯磨、液状歯磨、液体
歯磨等の歯磨類、洗口剤、塗布剤、マウスウォッシュ、
歯科用パスタ等として調製できるもので、デキストラナ
ーゼと酸化エチレンの付加モル数が２〜５のポリオキシ
エチレンアルキルエーテルを含有するものである。
【００１０】ここで、デキストラナーゼとしては、公知
のものを使用することができ、例えばケトミウム属、ペ
ニシリウム属、アスペルギルス属、スピカリア属、ラク
トバチルス属、セルビブリオ属等に属する公知のデキス
トラナーゼ生成菌より公知の方法により得られるデキス
トラナーゼは勿論、他の微生物により生産されるデキス
トラナーゼも使用することができる。また、その配合量
は、通常口腔用組成物１ｇ当たり０．５〜５００単位
（ここで、単位とは、デキストランを基質として反応を
行った場合、１分当たりグルコース１μｍｏｌに相当す
る遊離還元糖を生じる酵素量をいい、この単位を新単位
とすると、旧単位との単位換算は、旧２，０００単位／
ｇ＝新１７．４９単位／ｇである）、特に１．５〜２０
０単位が好適である。配合量が０．５単位に満たない
と、満足な歯垢形成抑制効果が得られない場合があり、
５００単位を超えると歯垢形成抑制効果は殆ど変化がな
くなる。
のものを使用することができ、例えばケトミウム属、ペ
ニシリウム属、アスペルギルス属、スピカリア属、ラク
トバチルス属、セルビブリオ属等に属する公知のデキス
トラナーゼ生成菌より公知の方法により得られるデキス
トラナーゼは勿論、他の微生物により生産されるデキス
トラナーゼも使用することができる。また、その配合量
は、通常口腔用組成物１ｇ当たり０．５〜５００単位
（ここで、単位とは、デキストランを基質として反応を
行った場合、１分当たりグルコース１μｍｏｌに相当す
る遊離還元糖を生じる酵素量をいい、この単位を新単位
とすると、旧単位との単位換算は、旧２，０００単位／
ｇ＝新１７．４９単位／ｇである）、特に１．５〜２０
０単位が好適である。配合量が０．５単位に満たない
と、満足な歯垢形成抑制効果が得られない場合があり、
５００単位を超えると歯垢形成抑制効果は殆ど変化がな
くなる。
【００１１】本発明に用いられるポリオキシエチレンア
ルキルエーテルとしては、下記式（１） Ｒ−Ｏ−（ＥＯ）nＨ （１） （但し、Ｒは炭素数１６〜２２のアルキル基、ｎは２〜
５、ＥＯは酸化エチレンを表す。）で示されるものが好
適である。なお、上記式（１）において、Ｒとしては炭
素数１６〜２０、ｎ（酸化エチレンの付加モル数）は３
〜５のものがより好ましい。
ルキルエーテルとしては、下記式（１） Ｒ−Ｏ−（ＥＯ）nＨ （１） （但し、Ｒは炭素数１６〜２２のアルキル基、ｎは２〜
５、ＥＯは酸化エチレンを表す。）で示されるものが好
適である。なお、上記式（１）において、Ｒとしては炭
素数１６〜２０、ｎ（酸化エチレンの付加モル数）は３
〜５のものがより好ましい。
【００１２】上記ポリオキシエチレンアルキルエーテル
としては、市販品を用いることができる。市販品として
は、例えば日本エマルジョン社の製品中、アルキル部分
がセチルエーテルのものとしてエマレックス１０２，１
０３，１０５，１０７が、オレイルエーテルのものとし
てエマレックス５０３，５０６，５０８，５１０，５１
２が、ステアリルエーテルのもとしてエマレックス６０
２，６０３，６０５，６０８，６１１が挙げられる。
としては、市販品を用いることができる。市販品として
は、例えば日本エマルジョン社の製品中、アルキル部分
がセチルエーテルのものとしてエマレックス１０２，１
０３，１０５，１０７が、オレイルエーテルのものとし
てエマレックス５０３，５０６，５０８，５１０，５１
２が、ステアリルエーテルのもとしてエマレックス６０
２，６０３，６０５，６０８，６１１が挙げられる。
【００１３】また、別の市販品としては、例えば日光ケ
ミカルズ（株）の製品中、アルキル部分がセチルエーテ
ルのものとしてニッコールＢＣ−５ＳＳ，ＢＣ−１０Ｓ
Ｓ，ＢＣ−１５ＳＳが挙げられる。
ミカルズ（株）の製品中、アルキル部分がセチルエーテ
ルのものとしてニッコールＢＣ−５ＳＳ，ＢＣ−１０Ｓ
Ｓ，ＢＣ−１５ＳＳが挙げられる。
【００１４】上記ポリオキシエチレンアルキルエーテル
としては、効果の点から特にポリオキシエチレンステア
リルエーテルが好ましい。
としては、効果の点から特にポリオキシエチレンステア
リルエーテルが好ましい。
【００１５】上記式（１）のポリオキシエチレンアルキ
ルエーテルの配合量は、組成物全体の０．１〜１０％
（質量百分率、以下同じ）、特に０．５〜５％が好まし
く、０．１％に満たないと満足な効果が得られない場合
があり、１０％を超えると独特な異味、異臭が生じる場
合がある。
ルエーテルの配合量は、組成物全体の０．１〜１０％
（質量百分率、以下同じ）、特に０．５〜５％が好まし
く、０．１％に満たないと満足な効果が得られない場合
があり、１０％を超えると独特な異味、異臭が生じる場
合がある。
【００１６】本発明の口腔用組成物は、その剤型に応
じ、上記必須成分に加えて任意成分としてその他の添加
剤を配合できる。
じ、上記必須成分に加えて任意成分としてその他の添加
剤を配合できる。
【００１７】歯磨類の場合は、例えば研磨剤、粘稠剤、
粘結剤、界面活性剤、甘味剤、防腐剤、デキストラナー
ゼ以外の各種有効成分、色素、香料等を配合でき、これ
ら成分と水とを混合して製造することができる。
粘結剤、界面活性剤、甘味剤、防腐剤、デキストラナー
ゼ以外の各種有効成分、色素、香料等を配合でき、これ
ら成分と水とを混合して製造することができる。
【００１８】ここで、研磨剤としては、シリカゲル、沈
降シリカ、アルミノシリケート、ジルコノシリケート等
のシリカ系研磨剤、第２リン酸カルシウム・２水和物及
び無水和物、ピロリン酸カルシウム、炭酸カルシウム、
水酸化アルミニウム、アルミナ、炭酸マグネシウム、第
３リン酸マグネシウム、ゼオライト、ケイ酸ジルコニウ
ム、第３リン酸カルシウム、ハイドロキシアパタイト、
第４リン酸カルシウム、合成樹脂系研磨剤等が挙げられ
るが、特に沈降シリカ、水酸化アルミニウム等が好適に
使用される。これらの研磨剤の配合量は、組成物全体の
２〜６０％、特に８〜４５％とすることが好ましい。
降シリカ、アルミノシリケート、ジルコノシリケート等
のシリカ系研磨剤、第２リン酸カルシウム・２水和物及
び無水和物、ピロリン酸カルシウム、炭酸カルシウム、
水酸化アルミニウム、アルミナ、炭酸マグネシウム、第
３リン酸マグネシウム、ゼオライト、ケイ酸ジルコニウ
ム、第３リン酸カルシウム、ハイドロキシアパタイト、
第４リン酸カルシウム、合成樹脂系研磨剤等が挙げられ
るが、特に沈降シリカ、水酸化アルミニウム等が好適に
使用される。これらの研磨剤の配合量は、組成物全体の
２〜６０％、特に８〜４５％とすることが好ましい。
【００１９】粘稠剤としては、ソルビット、グリセリ
ン、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、
キシリット、マルチット、ラクチット等、粘結剤として
は、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ヒドロキ
シエチルセルロース、カラギーナン、カーボポール、グ
アガム、アルギン酸ナトリウム、カチオン化セルロー
ス、モンモリロナイト、ゼラチン等、界面活性剤として
は、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、非イオ
ン性界面活性剤等を配合し得、具体的にはラウリル硫酸
ナトリウム、α−オレフィンスルホン酸ナトリウム、Ｎ
−アシルザルコシネート、Ｎ−アシルグルタメート、２
−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエ
チルイミダゾリウムベタイン、Ｎ−アシルタウレート、
ショ糖脂肪酸エステル、アルキロールアマイド、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノステアレート、プルロニッ
ク等、甘味剤としては、サッカリンナトリウム、ステビ
オサイド、ステビアエキス、パラメトキシシンナミック
アルデヒド、ネオヘスペリジルジヒドロカルコン、ペリ
ラルチン等、防腐剤としては、パラオキシ安息香酸エス
テル、安息香酸ナトリウム等、各種有効成分としては、
フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化第一錫、フ
ッ化ストロンチウム、モノフルオロリン酸ナトリウム等
のフッ化物、正リン酸のカリウム塩、ナトリウム塩等の
水溶性リン酸化合物、アラントインクロルヒドロキシア
ルミニウム、ヒノキチオール、アスコルビン酸、塩化リ
ゾチーム、グリチルリチン酸及びその塩類、塩化ナトリ
ウム、トラネキサム酸、イプシロンアミノカプロン酸、
酢酸ｄｌ−トコフェロール、α−ビサボロール、イソプ
ロピルメチルフェノール、クロロヘキシジン塩類、塩化
セチルピリジニウム、アズレン、グリチルレチン酸、銅
クロロフィリンナトリウム、グルコン酸銅等の銅化合
物、乳酸アルミニウム、塩化ストロンチウム、硝酸カリ
ウム、ベルベリン、ヒドロキサム酸及びその誘導体、ト
リポリリン酸ナトリウム、ゼオライト、ムタナーゼ、ア
ミラーゼ、メトキシエチレン・無水マレイン酸共重合
体、ポリビニルピロリドン、エピジヒドロコレステリ
ン、塩化ベンゼトニウム、ジヒドロコレステロール、ト
リクロロカルバニリド、クエン酸亜鉛、トウキ軟エキ
ス、オウバクエキス、チョウジ、ローズマリー、オウゴ
ン、ベニバナ等の抽出物、香料としては、ｌ−メントー
ル、カルボン、アネトール、リモネン等のテルペン類又
はその誘導体等、着色剤としては、青色１号、黄色４
号、二酸化チタン等が例示される。なお、これら成分の
配合量は、通常量とすることができる。
ン、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、
キシリット、マルチット、ラクチット等、粘結剤として
は、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ヒドロキ
シエチルセルロース、カラギーナン、カーボポール、グ
アガム、アルギン酸ナトリウム、カチオン化セルロー
ス、モンモリロナイト、ゼラチン等、界面活性剤として
は、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、非イオ
ン性界面活性剤等を配合し得、具体的にはラウリル硫酸
ナトリウム、α−オレフィンスルホン酸ナトリウム、Ｎ
−アシルザルコシネート、Ｎ−アシルグルタメート、２
−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエ
チルイミダゾリウムベタイン、Ｎ−アシルタウレート、
ショ糖脂肪酸エステル、アルキロールアマイド、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノステアレート、プルロニッ
ク等、甘味剤としては、サッカリンナトリウム、ステビ
オサイド、ステビアエキス、パラメトキシシンナミック
アルデヒド、ネオヘスペリジルジヒドロカルコン、ペリ
ラルチン等、防腐剤としては、パラオキシ安息香酸エス
テル、安息香酸ナトリウム等、各種有効成分としては、
フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化第一錫、フ
ッ化ストロンチウム、モノフルオロリン酸ナトリウム等
のフッ化物、正リン酸のカリウム塩、ナトリウム塩等の
水溶性リン酸化合物、アラントインクロルヒドロキシア
ルミニウム、ヒノキチオール、アスコルビン酸、塩化リ
ゾチーム、グリチルリチン酸及びその塩類、塩化ナトリ
ウム、トラネキサム酸、イプシロンアミノカプロン酸、
酢酸ｄｌ−トコフェロール、α−ビサボロール、イソプ
ロピルメチルフェノール、クロロヘキシジン塩類、塩化
セチルピリジニウム、アズレン、グリチルレチン酸、銅
クロロフィリンナトリウム、グルコン酸銅等の銅化合
物、乳酸アルミニウム、塩化ストロンチウム、硝酸カリ
ウム、ベルベリン、ヒドロキサム酸及びその誘導体、ト
リポリリン酸ナトリウム、ゼオライト、ムタナーゼ、ア
ミラーゼ、メトキシエチレン・無水マレイン酸共重合
体、ポリビニルピロリドン、エピジヒドロコレステリ
ン、塩化ベンゼトニウム、ジヒドロコレステロール、ト
リクロロカルバニリド、クエン酸亜鉛、トウキ軟エキ
ス、オウバクエキス、チョウジ、ローズマリー、オウゴ
ン、ベニバナ等の抽出物、香料としては、ｌ−メントー
ル、カルボン、アネトール、リモネン等のテルペン類又
はその誘導体等、着色剤としては、青色１号、黄色４
号、二酸化チタン等が例示される。なお、これら成分の
配合量は、通常量とすることができる。
【００２０】本発明の口腔用組成物を収容する容器の材
質は特に制限されず、通常、口腔用組成物に使用される
容器を使用できる。具体的には、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ナイロン等の
プラスチック容器等が使用できる。
質は特に制限されず、通常、口腔用組成物に使用される
容器を使用できる。具体的には、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ナイロン等の
プラスチック容器等が使用できる。
【００２１】
【発明の効果】本発明の口腔用組成物は、デキストラナ
ーゼの辺縁部歯垢除去効果に優れ、各種剤型に調製して
幅広く使用することができる。
ーゼの辺縁部歯垢除去効果に優れ、各種剤型に調製して
幅広く使用することができる。
【００２２】
【実施例】以下、実験例及び実施例を示して本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるも
のではない。なお、各例中の％はいずれも質量百分率で
あり、デキストラナーゼの単位は、特記しない限り新単
位である。
体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるも
のではない。なお、各例中の％はいずれも質量百分率で
あり、デキストラナーゼの単位は、特記しない限り新単
位である。
【００２３】［実験例］下記に示す組成の練歯磨組成物
を調製し、２０名の被験者に、適量を歯刷子にとり、一
日２回、朝、就寝前、約３分間ブラッシングさせた。
を調製し、２０名の被験者に、適量を歯刷子にとり、一
日２回、朝、就寝前、約３分間ブラッシングさせた。
【００２４】試験開始前に、スケーリングし、歯垢、歯
石は完全に除去した状態で試験を開始した。
石は完全に除去した状態で試験を開始した。
【００２５】歯磨組成物は組成１の歯磨剤と、組成１の
歯磨剤からポリオキシエチレンステアリルエーテルを除
いたプラセボ製剤（組成２）を調製し、被験者２０名
に、無作為割付表に従い、ランダムに割り付けた。 組成１： 無水ケイ酸 ２０％ ソルビット ４０ ラウリル硫酸ナトリウム １．５ カラギーナン １．５ サッカリンナトリウム ０．１ プロピレングリコール ５．０ 香料 １．０ デキストラナーゼ １７．５単位／ｇ歯磨 ポリオキシエチレンステアリルエーテル（Ｅ．Ｏ．５） １．０水 残部 計 １００．０％
歯磨剤からポリオキシエチレンステアリルエーテルを除
いたプラセボ製剤（組成２）を調製し、被験者２０名
に、無作為割付表に従い、ランダムに割り付けた。 組成１： 無水ケイ酸 ２０％ ソルビット ４０ ラウリル硫酸ナトリウム １．５ カラギーナン １．５ サッカリンナトリウム ０．１ プロピレングリコール ５．０ 香料 １．０ デキストラナーゼ １７．５単位／ｇ歯磨 ポリオキシエチレンステアリルエーテル（Ｅ．Ｏ．５） １．０水 残部 計 １００．０％
【００２６】４週間後に各被験者の上顎前歯（４歯／被
験者当たり）を２色性歯垢顕示剤（２−ｔｏｎｅ）を用
いて、新しく形成された薄い歯垢（赤く染色）と古く厚
い辺縁部歯垢（紫に染色）を染め分けた。写真撮影後、
各染色部位の面積をプラニメーターで測定し、各歯牙ご
とに、全歯面辺りの歯垢付着面積を測定した。その結果
を表１に示す。
験者当たり）を２色性歯垢顕示剤（２−ｔｏｎｅ）を用
いて、新しく形成された薄い歯垢（赤く染色）と古く厚
い辺縁部歯垢（紫に染色）を染め分けた。写真撮影後、
各染色部位の面積をプラニメーターで測定し、各歯牙ご
とに、全歯面辺りの歯垢付着面積を測定した。その結果
を表１に示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】表１の結果から、デキストラナーゼとポリ
オキシエチレンステアリルエーテルを配合した組成１で
は、う触、歯周病の原因となる辺縁部歯垢に対して十分
な抑制効果が発揮されているが、一方、ポリオキシエチ
レンステアリルエーテル未配合の組成２では、辺縁部歯
垢に対して十分な効果が発揮されていないことが明らか
となった。
オキシエチレンステアリルエーテルを配合した組成１で
は、う触、歯周病の原因となる辺縁部歯垢に対して十分
な抑制効果が発揮されているが、一方、ポリオキシエチ
レンステアリルエーテル未配合の組成２では、辺縁部歯
垢に対して十分な効果が発揮されていないことが明らか
となった。
【００２９】 ［実施例１］練歯磨 無水ケイ酸 １８％ ソルビット ３０ ラウリル硫酸ナトリウム １．２ アルギン酸ナトリウム １．２ サッカリンナトリウム ０．１ プロピレングリコール ３．０ 香料 １．１ デキストラナーゼ １７単位／ｇ歯磨 ポリオキシエチレンステアリルエーテル（Ｅ．Ｏ．５） １．２水 残部 計 １００．０％
【００３０】 ［実施例２］練歯磨 リン酸カルシウム ４５％ グリセリン ３０ ラウリル硫酸ナトリウム ２．０ ＣＭＣナトリウム １．３ サッカリンナトリウム ０．１５ プロピレングリコール ５．０ 香料 １．０ デキストラナーゼ ３０単位／ｇ歯磨 ポリオキシエチレンセチルエーテル（Ｅ．Ｏ．２） ２．０水 残部 計 １００．０％
【００３１】 ［実施例３］練歯磨 炭酸カルシウム ２５％ ソルビット ３５ ラウリル硫酸ナトリウム １．０ キサンタンガム １．５ サッカリンナトリウム ０．１ プロピレングリコール ４．０ 香料 １．２ デキストラナーゼ ２５単位／ｇ歯磨 ポリオキシエチレンオレイルエーテル（Ｅ．Ｏ．２） ０．８水 残部 計 １００．０％
【００３２】 ［実施例４］洗口剤 変性アルコール ９％ グリセリン ２ キシリトール ５ クエン酸 ０．０５ クエン酸ナトリウム ０．２５ サッカリンナトリウム ０．１ 香料 ０．３ デキストラナーゼ ２０単位／ｇ洗口剤 ポリオキシエチレンステアリルエーテル（Ｅ．Ｏ．５） １．０水 残部 計 １００．０％
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菊池 康夫 東京都墨田区本所１丁目３番７号 ライオ ン株式会社内 (72)発明者 岩田 正明 東京都墨田区本所１丁目３番７号 ライオ ン株式会社内 Ｆターム(参考） 4C083 AA031 AA032 AB172 AB292 AB322 AC102 AC122 AC132 AC181 AC182 AC302 AC782 AC862 AD272 AD352 CC41 DD22 DD27 EE33 EE36
Claims (5)
- 【請求項１】 酸化エチレンの付加モル数が２〜５のポ
リオキシエチレンアルキルエーテルを含有することを特
徴とするデキストラナーゼ配合口腔用組成物。 - 【請求項２】 ポリオキシエチレンアルキルエーテルの
アルキル基炭素数が１６〜２２である請求項１記載のデ
キストラナーゼ配合口腔用組成物。 - 【請求項３】 ポリオキシエチレンアルキルエーテル
が、酸化エチレンの付加モル数が２〜５のポリオキシエ
チレンステアリルエーテルである請求項２記載のデキス
トラナーゼ配合口腔用組成物。 - 【請求項４】 歯牙辺縁部の歯垢除去用である請求項１
乃至３のいずれか１項記載のデキストラナーゼ配合口腔
用組成物。 - 【請求項５】 練歯磨である請求項１乃至４のいずれか
１項記載のデキストラナーゼ配合口腔用組成物。
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- 2001-03-27 WO PCT/JP2001/002465 patent/WO2001080817A1/ja not_active Application Discontinuation
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