JP3803868B2 - 口腔用組成物 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スルホコハク酸系界面活性剤を配合した口腔用組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
歯牙の着色は、ステインと呼ばれる色素沈着物の形成と歯牙への付着が原因でおこり、審美上の大きな問題である。ステインは、クロルヘキシジンなどの殺菌剤、茶などに含まれるタンニン系物質、鉄などの金属が原因で起こると考えられている。歯牙への着色を防止するための有効な手段として、ステインの形成の阻害およびステインの歯牙への付着を抑制する方法が考えられる。
【０００３】
ステインの形成を阻害するものとしては、特開平１−１２５３１５号公報にタンニン系物質によるステインをポリスチレンスルホン酸が阻害すること、特開平２−５６４１３号公報には非酵素的褐変反応の進行を阻止してステイン形成を阻害する方法が示されている。これらは特定のステイン物質のみを考えたものであり、全てのステインに対して効果を持つものではない。また、スルホコハク酸系界面活性剤をステイン形成阻害剤として口腔用組成物に用いることが特開平１０−１７４４３に開示されている。一方、ステインの付着抑制については、特開平２−２００６１８号公報、特開平２−２０９８０５号公報、特開平２−２２３５１２号公報に示されたアミノアルキルシリコーンや、特開平３−３８５１７号公報、特開平５−１６３１２６号公報に示されたフルオロアルキルリン酸エステルが、歯牙の表面に被膜を形成してステインの付着を阻害することが開示されている。しかし、これらはステイン形成阻害もしくはステイン付着抑制のどちらか一方を満たすものであり、ステイン形成阻害と付着抑制の両方を満たす口腔用組成物に関する知見は今までになかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ステイン形成阻害とステイン付着抑制効果を併せ持ち、効果的に歯牙の着色を防止する口腔用組成物を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
このような現状に鑑み、本発明者は鋭意研究を行った結果、スルホコハク酸系界面活性剤０．０１〜５重量％、及び粒径の５０百分位数（d50）が５μｍ以下、粒径の９０百分位数（d90）が１５μｍ以下、かつRDA値が１２０以上であることを特徴とする研磨性沈降シリカを０．５〜１０重量％配合した口腔用組成物が、ステイン形成阻害とステイン付着抑制効果を併せ持ち、効果的に歯牙の着色を防止することを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】
即ち、本発明は、下記の各項に係る口腔用組成物を提供するものである。
１． 一般式（１）で示されるスルホコハク酸系界面活性剤の少なくとも１種を０．０１〜５重量％、並びに粒径の５０百分位数（d50）が５μｍ以下、粒径の９０百分位数（d90）が１５μｍ以下、かつRDA値が１２０以上であることを特徴とする研磨性沈降シリカを０．５〜１０重量％含有することを特徴とする口腔用組成物。
一般式（１）：
【０００７】
【化２】
【０００８】
［式中、Ｘ1及びＸ2のいずれか一方がＲ1Ｏ−（ＡＯ）n− 又は Ｒ1ＣＯ−Ｂ−（ＡＯ）n−であり、他方がＭ2Ｏ−であり、Ｍ1およびＭ2はそれぞれ同一または異なって、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルカノールアミンを表し、Ｒ1は炭素数８〜２２のアルキル基もしくはアルケニル基、ＡＯは炭素数２〜３のオキシアルキレン基、平均付加モル数ｎは０〜２０、Ｂは−ＮＨ−または炭素数２〜３のモノアルカノールアミン残基を表す。］
２． 一般式（１）で示されるスルホコハク酸系界面活性剤のＡＯ基の平均付加モル数ｎが０〜７である項１記載の口腔用組成物。
３． 一般式（１）で示されるスルホコハク酸系界面活性剤のアルキル基もしくはアルケニル基の炭素数が１０〜１４である項１記載の口腔用組成物。
４． 一般式（１）で示されるスルホコハク酸系界面活性剤のＭ1およびＭ2がナトリウムである項１記載の口腔用組成物。
５． 研磨性沈降シリカのRDA値が、１３０〜２００である項１記載の口腔用組成物。
６． 研磨性沈降シリカの配合量が、１〜５重量％である項１記載の口腔用組成物。
７． 更に、RDA値が４０〜１１０である研磨性沈降シリカを配合した項１記載の口腔用組成物。
８． RDA値が４０〜１１０である研磨性沈降シリカの配合量が３〜２５重量％である項７記載の口腔用組成物。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
【００１０】
本発明に用いるスルホコハク酸系界面活性剤は、一般式（１）で表されるスルホコハク酸モノエステルであれば、特に限定されるものではない。
一般式（１）：
【００１１】
【化３】
【００１２】
［式中、Ｘ1及びＸ2のいずれか一方がＲ1Ｏ−（ＡＯ）n− 又はＲ1ＣＯ−Ｂ−（ＡＯ）n− であり、他方がＭ2Ｏ−であり、Ｍ1およびＭ2はそれぞれ同一または異なって、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルカノールアミンを表し、Ｒ1は炭素数８〜２２のアルキル基もしくはアルケニル基、ＡＯは炭素数２〜３のオキシアルキレン基、平均付加モル数ｎは０〜２０、Ｂは−ＮＨ−または炭素数２〜３のモノアルカノールアミン残基を表す。］
一般式（１）で表されるスルホコハク酸モノエステルにおいて、Ｒ1は天然由来または合成した炭素数８〜２２程度の直鎖または分岐のアルキル基またはアルケニル基である。例えば、ラウリル、ココイル、ミリスチル、ステアリル、Ｃ12〜Ｃ14合成アルキル、イソノニル、イソドデシル、オクテニル、ドデケニルなどが挙げられる。Ｒ1の炭素数が長いほど苦味や刺激は低減されるが、短いほどステイン形成阻害効果が高くなるので、Ｒ1の炭素数は１０〜１６程度が好ましく、１２〜１４程度がより好ましい。特に、Ｃ12〜Ｃ14合成アルキルあるいはラウリルとミリスチルを組合せて用いるのが最も好ましい。
【００１３】
Ｍ1及びＭ2は、それぞれ同一でも、異なっていてもよく、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルカノールアミンである。アルカリ金属としては、ナトリウム、カリウムなどが、アルカリ土類金属としては、マグネシウムなどが、アルカノールアミンとしては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが例示できる。これらの中でも、Ｍ1及びＭ2としては、ナトリウムとマグネシウムがより好ましく、ナトリウムが特に好ましい。
【００１４】
ＡＯ基は、炭素数２〜３程度のオキシアルキレン基であり、オキシエチレン基であることが好ましい。ＡＯの平均付加モル数ｎは、０〜２０程度が好ましい。平均付加モル数ｎは小さいほどステイン形成阻害効果が高く、且つ苦味も低減されるので、ｎが０〜７程度の場合が好ましく、０〜２程度が最も好ましい。ここに、平均付加モル数０とは、オキシアルキレンを付加していないスルホコハク酸モノエステルを意味する。
【００１５】
一般式（１）で示されるスルホコハク酸モノエステルの例としては、ポリオキシエチレン（７モル）ラウリルスルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（２モル）ラウリルスルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（１モル）ラウリルスルホコハク酸２ナトリウム、ラウリルスルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（７モル）ミリスチルスルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（２モル）アルキル（Ｃ１２〜１４）スルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（１モル）アルキル（Ｃ１２〜１４）スルホコハク酸２ナトリウム、アルキル（Ｃ１２〜１４）スルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（２モル）ラウリルスルホコハク酸マグネシウム、ポリオキシエチレン（２モル）アルキル（Ｃ１２〜１４）スルホコハク酸マグネシウム、ポリオキシエチレン（７モル）ミリスチルスルホコハク酸２トリエタノールアミンなどが挙げられる。一般式（２）で示される例としては、オレイン酸アミドスルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（５モル）ラウロイルエタノールアミドスルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（２モル）ココイルイソプロパノールアミドスルホコハク酸２ナトリウムなどが挙げられる。
【００１６】
また、最も好適なスルホコハク酸モノエステルは、一般式（１）において、Ｒ1が炭素数１２〜１４程度のアルキル基で、ＡＯ基がオキシエチレン基であって、その平均付加モル数ｎが０〜２程度のナトリウム塩である。具体的には、ポリオキシエチレン（２モル）アルキル（Ｃ１２〜１４）スルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（１モル）アルキル（Ｃ１２〜１４）スルホコハク酸２ナトリウム、アルキル（Ｃ１２〜１４）スルホコハク酸２ナトリウムなどが挙げられる。
【００１７】
一般式（１）で表されるスルホコハク酸エステルは、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００１８】
一般式（１）で表されるスルホコハク酸モノエステルの配合量は、通常、組成物全体に対しての０．０１〜５重量％程度が好ましく、さらに好ましくは０．１〜２重量％程度である。配合量が０．０１重量％程度に満たないと十分なステイン形成阻害効果が得られず、また５重量％程度を超えると使用感が悪くなってしまう。
【００１９】
本発明では、d50が５μｍ以下程度、d90が１５μｍ以下程度、かつRDA値が１２０以上程度である研磨性沈降シリカ（以下、“第一シリカ”という場合がある）を、組成物全重量に対して、０．５〜１０重量％程度用いることを必須とする。
【００２０】
沈降シリカは、薄めたケイ酸アルカリ金属塩（例えば、ケイ酸ナトリウム）と強酸（例えば硫酸）とを、主に酸性条件下で、凝集してゾル及びゲルにならないような条件で反応させ、濾過、洗浄、乾燥後、所望の粒径になるよう製粉化することにより製造されるものである。本発明では常法に従って製造した沈降シリカを用いることができる。沈降シリカは、ゲルシリカと比べ、吸湿性が低く、取り扱いが容易であり、また、安価であるという点で優れているので、本発明では研磨性シリカとして沈降シリカを用いる。
【００２１】
本発明で用いる第一シリカとしては、常法に従って製造されたものを用いることができる。
【００２２】
第一シリカの配合量は、組成物全重量に対して、０．５〜１０重量％であり、０．５〜６重量％程度が好ましく、１〜５重量％程度がより好ましく、２〜４重量％程度がさらに好ましい。０．５％未満であると、十分なステイン付着抑制効果が得られず、１０重量％を超えると、歯牙を傷つけてしまう恐れがある。
【００２３】
d50およびd90は、低出力He／Neレーザーを使用し、フラウンホーファー回折の原理を利用したマルバーン・マスターサイザー（Malvern Mastersizer）を用いて測定される。d50は、４．５μｍ以下程度であることがより好ましく、４μｍ以下程度であることがさらに好ましい。d50の下限は、本発明の所期の効果に悪影響を与えない限り特に限定されるものではないが、通常、３μｍ程度、好ましくは１μｍ程度である。d90は、１３μｍ以下程度であることがより好ましく、１０μｍ以下程度であることがさらに好ましい。d90の下限は、本発明の所期の効果に悪影響を与えない限り特に限定されるものではないが、通常、８μｍ程度、好ましくは５μｍ程度である。
【００２４】
RDA値とは、Radioactive Dentin Abrasionの略称であり、例えば、Hefferenらの方法（J. Dent. Res., Vol. 55, No.4, 563-573,1976年）により求めることができる。また、RDA値は、１３０以上程度であることが好ましく、１５０以上程度であることがより好ましい。RDA値の上限は、特に限定されるものではないが、通常、２５０程度、好ましくは２００程度である。従って、RDA値の好ましい範囲は、１２０〜２５０程度、より好ましい範囲は１３０〜２００程度、さらに好ましい範囲は１５０〜２００程度である。
【００２５】
本発明の口腔用組成物には、第一シリカに加え、RDA値が４０〜１１０程度である研磨性沈降シリカ（以下、“第二シリカ”）という場合がある）を配合することができる。
【００２６】
第二シリカを併用することにより、ステイン形成阻害性がより向上するので好ましい。
【００２７】
第二シリカにおいて、RDA値は、４０〜１１０程度であり、６０〜１１０程度であることが好ましく、８０〜１１０程度であることがより好ましく、８５〜１１０程度であることがさらに好ましい。
【００２８】
第二シリカは、RDA値が上記範囲内のものであれば特に限定されるものではないが、粒径が、d50が２０μｍ以下程度であるものが好ましく、d50が１５μｍ以下程度であるものがより好ましい。第二シリカのd50の下限は、特に限定されるものではないが、通常１０μｍ程度であり、８μｍ程度が好ましい。
【００２９】
第二シリカの配合量は、組成物全重量に対して、３〜２５重量％程度が好ましく、８〜２０重量％程度がより好ましく、１０〜２０重量％程度がさらに好ましく、１５〜２０重量％程度が特に好ましい。
【００３０】
本発明組成物において、第一シリカと第二シリカの合計配合量は、組成物全重量に対して、５〜３０重量％程度が好ましく、１０〜２５重量％程度がより好ましく、１２〜２３重量％程度がさらに好ましく、１７〜２３重量％程度が特に好ましい。また、第一シリカと第二シリカの使用割合は、重量比で、第一シリカ：第二シリカ＝１：２０〜１：１程度であることが好ましく、１：１０〜１：２程度であることがより好ましく、１：１０〜１：３程度であることがさらに好ましい。
【００３１】
本発明の組成物におけるシリカの配合例としては、以下のものが挙げられる。
【００３２】
RDA値が１５０〜２００程度の第一シリカを、組成物全重量に対して、１〜５重量％程度；及びRDA値が８５〜１１０程度の第二シリカを、組成物全重量に対して、１０〜２０重量％程度配合し、第一シリカ及び第二シリカの合計重量が組成物全重量に対して１２〜２３重量％であり、第一シリカと第二シリカの割合が、重量比で第一シリカ：第二シリカ＝１：１０〜１：２。
【００３３】
RDA値が１５０〜２００程度であり、d50が３〜４μｍ程度、d90が８〜１０μｍ程度である第一シリカを、組成物全重量に対して、２〜４重量％程度；及びRDA値が８５〜１１０程度であり、d50が１０〜１５μｍ程度の第二シリカを、組成物全重量に対して、１５〜２０重量％程度配合し、第一シリカ及び第二シリカの合計重量が組成物全重量に対して１７〜２３重量％であり、第一シリカと第二シリカの割合が、重量比で第一シリカ：第二シリカ＝１：８〜１：３。
【００３４】
本発明の口腔用組成物は、常法により粉歯磨、練歯磨、ジェル、プロフィーペースト、パスタ、チューイングガム、タブレットなどの剤形とすることができる。使用性の点から、歯磨剤が特に好ましい。
本発明の組成物は、上記スルホコハク酸系界面活性剤、研磨性沈降シリカ以外に、水、低級アルコール、高級アルコール、当該分野において通常使用される添加剤を、剤形などに応じて適宜配合することができる。このような添加剤としては、上記研磨性沈降シリカ(I)及び(II)以外の研磨剤、賦形剤、発泡剤、粘結剤、ｐＨ調整剤、式(1)及び(2)で表されるスルホコハク酸系界面活性剤以外の界面活性剤、湿潤剤、甘味剤、香料、防腐剤、着色剤、各種有効成分などを例示できる。添加剤の配合量は、発明の効果を損なわない範囲であれば、特に制限されず適宜設定することができる。
【００３５】
水の配合量は、剤形などに応じて適宜設定することができるが、組成物全体に対して、通常0〜70重量％程度、好ましくは10〜50%程度である。低級アルコールの配合量は、組成物全体に対して、通常0〜10重量％程度、好ましくは0〜5%程度である。高級アルコールの配合量は、組成物全体に対して、通常0〜70重量％程度、好ましくは10〜50%程度である。
【００３６】
上記研磨性沈降シリカ (I)及び(II)以外の研磨剤としては、第２リン酸カルシウム・２水和物および無水和物、リン酸カルシウム、第３リン酸カルシウム、炭酸カルシウム、ピロリン酸カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、シリカゲル、ケイ酸アルミニウム、上記研磨性沈降シリカ (I)及び(II)以外の沈降性シリカ、不溶性メタリン酸ナトリウム、第３リン酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、ポリメタクリル酸メチル、ベントナイト、ケイ酸ジルコニウム、ハイドロキシアパタイト、合成樹脂などを用いることができる。これらの研磨剤は単独で用いても２種以上を併用してもよく、上記研磨性沈降シリカ (I)及び(II)以外の研磨剤の配合量は、組成物全重量に対して、通常、５〜９０重量％程度、練歯磨の場合には５〜５０重量％程度である。
【００３７】
賦形剤として、例えば、火成性シリカ、増粘性シリカ（一般に、RDA値が３０以下程度のシリカを示す）、結晶セルロースを含む粉体状セルロースなどを例示することができる。これらの中では、火成性シリカ、増粘性シリカが好ましい。賦形剤の配合量は、組成物全体に対して、通常0.1〜30重量％程度であり、好ましくは0.5〜10重量％程度である。
【００３８】
発泡剤としては、一般式(1)で表されるスルホコハク酸系界面活性剤以外のアニオン性界面活性剤が挙げられる。例えば、ラウリル硫酸ナトリウム、ミリスチル硫酸ナトリウム等のアルキル基の炭素数が８〜１８である高級アルキル硫酸エステル塩；Ｎ−長鎖アシルアミノ酸塩、α−オレフィンスルホネート塩、高級脂肪酸ナトリウムモノグリセライドモノサルフェート、Ｎ−メチル−Ｎ−パルミトイルタウライド塩、Ｎ−アシルサルコシンナトリウム、Ｎ−アシルグルタミン酸塩、Ｎ−メチル−Ｎ−アシルタウリンナトリウム、Ｎ−メチル−Ｎ−アシルアラニンナトリウム、α−オレフィンスルホン酸ナトリウムなどのアニオン性界面活性剤などを例示することができる。これらアニオン性界面活性剤には化学的溶解によるステイン除去作用の高いものが多く、特にラウリル硫酸ナトリウムを配合するとステイン形成抑制効果が相乗的に高くなるので好ましい。これらのアニオン性界面活性剤は単独で用いても２種以上を併用してもよい。一般式(1)で表されるスルホコハク酸系界面活性剤以外のアニオン性界面活性剤の配合量は、組成物全体に対して、通常、０．００１〜５重量％程度、好ましくは０．０１〜２重量％程度である。
【００３９】
また、本発明組成物には、アニオン性界面活性剤以外にも通常口腔用組成物に用いられる非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤やカチオン性界面活性剤を配合してもよい。この様な界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等のポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ラウリン酸モノエタノールアミド、ミリスチン酸モノエタノールアミド、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン脂肪酸エステルアルキルグリコシド(例えばアルキル鎖：Ｃ８〜Ｃ１６程度)、ポリグリセリン脂肪酸エステル(例えば脂肪酸部分のアルキル鎖：Ｃ８〜Ｃ１６程度)、ショ糖脂肪酸エステル(例えば脂肪酸部分のアルキル鎖：Ｃ８〜Ｃ１６程度)等の非イオン性界面活性剤；Ｎ−アルキルジアミノエチルグリシン、アルキルベタイン、脂肪酸アミドプロピルベタイン(例えば脂肪酸部分のアルキル鎖：Ｃ８〜Ｃ１６程度)、アルキルスルホベタイン、アルキルベタインイミダゾニウムベタインなどの両性界面活性剤；塩化アルキルトリメチルアンモニウム、臭化アルキルトリメチルアンモニウム、塩化アルキルジメチルアンモニウムなどのカチオン性界面活性剤などを例示することができる。これらの中では、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、アルキルグリコシドが好ましい。
【００４０】
一般式(1)で示されるスルホコハク酸系界面活性剤とアニオン性界面活性剤を除いた界面活性剤の配合量は、組成物全体に対して、通常、０．００１〜５重量％程度、好ましくは０．０１〜２重量％程度である。
【００４１】
粘結剤としては、カルボキシメチルセルロースナトリウムなどのセルロース誘導体；アルギン酸ナトリウムなどのアルカリ金属アルギネート；アルギン酸プロピレングリコールエステル、キサンタンガム、トラガカントガム、カラヤガム、アラビアガム、カラギーナンなどのガム類；ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ナトリウム、カルボキシビニルポリマー、ポリビニルピロリドンなどの合成粘結剤などが挙げられる。粘結剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。粘結剤の配合量は、組成物全体に対して、通常、０．３〜５重量％程度である。
【００４２】
香料としては、メントール、カルボン、アネトール、バニリン、ベンジルサクシネート、オイゲノール、サリチル酸メチル、リモネン、オシメン、ｎ−デシルアルコール、シトロネロール、α−テルピネオール、メチルアセテート、シトロネリルアセテート、メチルオイゲノール、シオネール、リナロール、エチルリナロール、ワニリン、チモールなどが挙げられる。これらは、単品化合物として用いてもよいが、これらを含有している精油などの植物抽出液（例えば、下記のような植物抽出物）として配合してもよい。また、香料としては、タイム油、ナツメグ油、スペアミント油、ペパーミント油、アニス油、スターアニス油、フェンネル油、レモン油、オレンジ油、セージ油、ローズマリー油、桂皮油、ピメント油、珪藻油、シソ油、冬緑油、丁子油、ユーカリ油、バジル油、ティーツリー油、タバナ油、バニラ油、クランベリー油などの植物抽出液が挙げられる。香料は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。香料の配合量は、香料の種類などに応じて適宜設定することができるが、組成物全体に対して、通常０．０５〜１０重量％程度、好ましくは０．１〜５重量％程度である。
【００４３】
甘味剤としては、サッカリン、サッカリンナトリウム、ステビオサイド、アセスルファームＫ、グリチルリチン、ペリラルチン、タウマチン、アスパルチルフェニルアラニンメチルエステル、キシリトール、パラチノース、パラチニット、エリスリトール、マルチトールなどが挙げられる。甘味剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。甘味剤の配合量は、所望の甘みに応じて適宜設定することができるが、通常、組成物全体に対して０．０１〜５重量％である。
【００４４】
湿潤剤としては、例えば、ソルビット液、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ラクチット等が挙げられる。湿潤剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。湿潤剤の配合量は、組成物全体に対して通常５〜７０重量％程度である。
【００４５】
pH調整剤としては、例えば、リン酸およびその塩(リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウムなど)、クエン酸およびその塩(ナトリウム等)、リン酸およびその塩、リンゴ酸およびその塩、グルコン酸およびその塩、マレイン酸およびその塩、アスパラギン酸およびその塩、グルコン酸およびその塩、コハク酸およびその塩、グルクロン酸およびその塩、フマル酸およびその塩、グルタミン酸およびその塩、アジピン酸およびその塩、塩酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ケイ酸ナトリウムなどを例示することができる。pH調整剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。pH調整剤の配合量は、所望のpHとなる限り特に制限されないが、組成物全体に対して、通常0.01〜5重量％程度、好ましくは0.1〜3重量%程度である。本発明の組成物のpHは、本発明の効果が奏される限り特に制限されないが、通常4〜10程度であり、好ましくは5.5〜9程度である。
【００４６】
防腐剤としては、安息香酸ナトリウムなどの安息香酸塩；メチルパラベン、ブチルパラベンなどのパラベン類を例示することができる。防腐剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。防腐剤の配合量は、組成物全体に対して、通常0.01〜3重量％程度である。
【００４７】
着色剤としては、例えば、青色１号、黄色４号、赤色２０２号、緑３号などの法定色素；群青、強化群青、紺青などの鉱物系色素；酸化チタンなどを例示することができる。着色剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。着色剤の配合量は、組成物全体に対して、通常0.0001〜1重量％程度である。
【００４８】
有効成分としては、例えば、塩化セチルピリジニウム、塩化ベンゼトニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモニウム、塩化ステアリルジメチルベンジルアンモニウム、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化ラウリルトリメチルアンモニウム、塩化ラウリルピリジニウム等の第四級アンモニウム塩、塩酸クロルヘキシジン、酢酸クロルヘキシジン、グルコン酸クロルヘキシジン、塩酸アレキシジン、酢酸アレキシジン、グルコン酸アレキシジン等のビグアニド系殺菌剤等のカチオン性殺菌剤；ｎ−ラウロイルサルコンシンナトリウムなどのアニオン性殺菌剤；トリクロサン、イソプロピルメチルフェノール等の非イオン性殺菌剤；デキストラナーゼ、アミラ−ゼ、パパイン、プロテアーゼ、ムタナーゼ、リゾチーム、溶菌酵素（リテックエンザイム）などの酵素；酸化亜鉛、塩化亜鉛などの亜鉛化合物；モノフルオロリン酸ナトリウム、モノフルオロリン酸カリウムなどのアルカリ金属モノフルオロホスフェート、フッ化ナトリウム、フッ化第一スズなどのフッ化物；トラネキサム酸、イプシロンアミノカプロン酸、アルミニウムクロルヒドロキシルアラントイン、ジヒドロコレステロール、酢酸トコフェロールなどのビタミンＥ誘導体、グリチルリチン塩類、グリチルレチン酸、グリセロホスフェート、クロロフィル、硝酸カリウム、塩化ナトリウム、カロペプタイド、水溶性無機リン酸化合物などが挙げられる。水溶性無機リン酸化合物としては、
一般式（２）：
Ｍm+2ＰmＯ3m+1
［式中、Ｍは、ＮａまたはＫを示し、ｍは2以上の整数である。］
一般式（３）：
（ＭＰＯ3）l
［式中、Ｍは、ＮａまたはＫを示し、ｌは３以上の整数である。］
で表される化合物が例示される。
【００４９】
ｍは、通常2以上の整数であり、好ましくは2〜6程度の整数である。ｌは、通常3以上の整数であり、好ましくは3〜6程度の整数である。
【００５０】
式（２）で示される化合物の具体例として、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウムなどを挙げることができる。
【００５１】
式（３）で示される化合物の具体例としては、例えば、テトラメタリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムなどを挙げることができる。
有効成分は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。有効成分の配合量は、所望の効果が得られる範囲内であれば特に制限されず、有効成分の種類などに応じて適宜設定することができる。有効成分の配合量は、組成物全体に対して、通常0.001〜30重量％程度、好ましくは0.01〜20重量%程度である。
【００５２】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。なお、以下の実施例において、特に断らない限り、「％」は、いずれも「重量％」を示す。
【００５３】
また、以下の実施例及び比較例においては、以下に示す研磨性沈降シリカを用いた。
【００５４】
研磨性沈降シリカA;d50=3.5μm、d90=9.5μm、RDA値=180
研磨性沈降シリカB;d50=10μm、d90=30μm、RDA値=90
研磨性沈降シリカC;d50=4.0μm、d90=10μm、RDA値=130
なお、研磨性沈降シリカＡ及びＣは“第一シリカ”に相当し、研磨性沈降シリカＢは“第二シリカ”に相当する。
【００５５】
実施例１〜４及び比較例１〜４
下記に示す成分を配合し、常法に従って練歯磨を調製し、ステイン形成阻害効果及びステイン付着抑制効果の評価に用いた。
評価方法
（ステイン形成阻害効果）
直径１ｃｍのハイドロキシアパタイトディスクを歯のモデルとして用い、ヒト全唾液（１０分）、０．２％クロルヘキシジングルコネート水溶液（２分）、上記被験歯磨剤の４倍スラリー上清（２分）、０．３％クエン酸鉄（ＩＩＩ）アンモニウム水溶液（２分）、紅茶抽出液（１０分）の順番で浸漬することを１０回繰返し、実験前ディスクとの色差を測定する（ｄＥとする）。被験歯磨剤の代わりに蒸留水を用いた場合の色差（ｄＥ０とする）をコントロールとし、次式によりステイン形成阻害率を算出した。なお、色差の測定には色彩色差計ＣＲ−２４１（ミノルタ製）を用いた。
【００５６】
ステイン形成阻害率（％）＝（ｄＥ０−ｄＥ）×１００／ｄＥ０
ステイン形成阻害率が大きいほど、効果が高いことを表す。ステイン形成阻害率が０以上５０％未満をｃ、５０％以上７０％未満をｂ、７０％以上１００％以下をａとした。
【００５７】
（ステイン付着抑制効果）
牛歯下顎１番の頬側のエナメル試片を４ｍｍ平方切り取り、透明ポリエステルレジンにうめ込み、試片表面を研磨紙にて平滑化後、酸化アルミを用いて鏡面研磨した。試片表面を０．２mol／L塩酸に６０秒浸漬し、次に飽和炭酸ナトリウム水溶液に３０秒浸漬、つづいて１％フィチン酸水溶液に６０秒浸漬した後、イオン交換水で洗浄したものを試験片とした。試験片を市販歯ブラシ（ナイロン毛）を設置したＢＳＩ準拠のブラッシングマシーンにセットし、被験歯磨剤の４倍スラリー液中で、圧力１５０ｇで１０００往復させイオン交換水で洗浄した。別に、１０００ｍＬのイオン交換水に約５ｇの紅茶葉を入れ１０分間煮出した液に、約３．４ｇのインスタントティー、約２．５ｇの豚胃ムチン、約１．０ｇの塩化鉄(ＩＩＩ)６水和物を溶解したステイン培地を調製した。試験片を室温にてステイン培地への浸漬、空気乾燥を約３０秒ずつ交互に繰り返し、この操作を１時間おこなった後、イオン交換水で洗浄後、１時間以上の空気乾燥を行った後、この試験片の着色度合いを目視にて以下の規準で評価した。
【００５８】
ａ：着色はほとんど認められない。
【００５９】
ｂ：若干着色が認められる。
【００６０】
ｃ：着色が認められる。
【００６１】
ｄ：強い着色が認められる。
【００６２】
【表１】
【００６３】
表１に示すように、スルホコハク酸系界面活性剤とd50が５μｍ以下、d90が１５μｍ以下、ＲＤＡ値が１２０以上の研磨性沈降シリカ（研磨性沈降シリカＡ）を配合した歯磨剤はステイン形成阻害効果及び高いステイン付着抑制効果を示した。また、研磨性沈降シリカＢを併用した歯磨剤は、研磨性沈降シリカＡのみを用いた歯磨剤と比べ、ステイン形成阻害効果が向上した。
【００６４】
実施例５
次の処方により、常法に従って練歯磨を調製した。
【００６５】
実施例６
次の処方により、常法に従って練歯磨を調製した。
【００６６】
実施例５及び６の歯磨剤においても、優れたステイン形成阻害効果とステイン付着抑制効果が見られた。
【００６７】
本発明によれば、ステイン形成阻害効果と、ステイン付着抑制効果をあわせ持ち、効果的に歯牙の着色を防止する口腔用組成物が提供できる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、スルホコハク酸系界面活性剤を配合した口腔用組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
歯牙の着色は、ステインと呼ばれる色素沈着物の形成と歯牙への付着が原因でおこり、審美上の大きな問題である。ステインは、クロルヘキシジンなどの殺菌剤、茶などに含まれるタンニン系物質、鉄などの金属が原因で起こると考えられている。歯牙への着色を防止するための有効な手段として、ステインの形成の阻害およびステインの歯牙への付着を抑制する方法が考えられる。
【０００３】
ステインの形成を阻害するものとしては、特開平１−１２５３１５号公報にタンニン系物質によるステインをポリスチレンスルホン酸が阻害すること、特開平２−５６４１３号公報には非酵素的褐変反応の進行を阻止してステイン形成を阻害する方法が示されている。これらは特定のステイン物質のみを考えたものであり、全てのステインに対して効果を持つものではない。また、スルホコハク酸系界面活性剤をステイン形成阻害剤として口腔用組成物に用いることが特開平１０−１７４４３に開示されている。一方、ステインの付着抑制については、特開平２−２００６１８号公報、特開平２−２０９８０５号公報、特開平２−２２３５１２号公報に示されたアミノアルキルシリコーンや、特開平３−３８５１７号公報、特開平５−１６３１２６号公報に示されたフルオロアルキルリン酸エステルが、歯牙の表面に被膜を形成してステインの付着を阻害することが開示されている。しかし、これらはステイン形成阻害もしくはステイン付着抑制のどちらか一方を満たすものであり、ステイン形成阻害と付着抑制の両方を満たす口腔用組成物に関する知見は今までになかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、ステイン形成阻害とステイン付着抑制効果を併せ持ち、効果的に歯牙の着色を防止する口腔用組成物を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
このような現状に鑑み、本発明者は鋭意研究を行った結果、スルホコハク酸系界面活性剤０．０１〜５重量％、及び粒径の５０百分位数（d50）が５μｍ以下、粒径の９０百分位数（d90）が１５μｍ以下、かつRDA値が１２０以上であることを特徴とする研磨性沈降シリカを０．５〜１０重量％配合した口腔用組成物が、ステイン形成阻害とステイン付着抑制効果を併せ持ち、効果的に歯牙の着色を防止することを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】
即ち、本発明は、下記の各項に係る口腔用組成物を提供するものである。
１． 一般式（１）で示されるスルホコハク酸系界面活性剤の少なくとも１種を０．０１〜５重量％、並びに粒径の５０百分位数（d50）が５μｍ以下、粒径の９０百分位数（d90）が１５μｍ以下、かつRDA値が１２０以上であることを特徴とする研磨性沈降シリカを０．５〜１０重量％含有することを特徴とする口腔用組成物。
一般式（１）：
【０００７】
【化２】
［式中、Ｘ1及びＸ2のいずれか一方がＲ1Ｏ−（ＡＯ）n− 又は Ｒ1ＣＯ−Ｂ−（ＡＯ）n−であり、他方がＭ2Ｏ−であり、Ｍ1およびＭ2はそれぞれ同一または異なって、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルカノールアミンを表し、Ｒ1は炭素数８〜２２のアルキル基もしくはアルケニル基、ＡＯは炭素数２〜３のオキシアルキレン基、平均付加モル数ｎは０〜２０、Ｂは−ＮＨ−または炭素数２〜３のモノアルカノールアミン残基を表す。］
２． 一般式（１）で示されるスルホコハク酸系界面活性剤のＡＯ基の平均付加モル数ｎが０〜７である項１記載の口腔用組成物。
３． 一般式（１）で示されるスルホコハク酸系界面活性剤のアルキル基もしくはアルケニル基の炭素数が１０〜１４である項１記載の口腔用組成物。
４． 一般式（１）で示されるスルホコハク酸系界面活性剤のＭ1およびＭ2がナトリウムである項１記載の口腔用組成物。
５． 研磨性沈降シリカのRDA値が、１３０〜２００である項１記載の口腔用組成物。
６． 研磨性沈降シリカの配合量が、１〜５重量％である項１記載の口腔用組成物。
７． 更に、RDA値が４０〜１１０である研磨性沈降シリカを配合した項１記載の口腔用組成物。
８． RDA値が４０〜１１０である研磨性沈降シリカの配合量が３〜２５重量％である項７記載の口腔用組成物。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
【００１０】
本発明に用いるスルホコハク酸系界面活性剤は、一般式（１）で表されるスルホコハク酸モノエステルであれば、特に限定されるものではない。
一般式（１）：
【００１１】
【化３】
［式中、Ｘ1及びＸ2のいずれか一方がＲ1Ｏ−（ＡＯ）n− 又はＲ1ＣＯ−Ｂ−（ＡＯ）n− であり、他方がＭ2Ｏ−であり、Ｍ1およびＭ2はそれぞれ同一または異なって、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルカノールアミンを表し、Ｒ1は炭素数８〜２２のアルキル基もしくはアルケニル基、ＡＯは炭素数２〜３のオキシアルキレン基、平均付加モル数ｎは０〜２０、Ｂは−ＮＨ−または炭素数２〜３のモノアルカノールアミン残基を表す。］
一般式（１）で表されるスルホコハク酸モノエステルにおいて、Ｒ1は天然由来または合成した炭素数８〜２２程度の直鎖または分岐のアルキル基またはアルケニル基である。例えば、ラウリル、ココイル、ミリスチル、ステアリル、Ｃ12〜Ｃ14合成アルキル、イソノニル、イソドデシル、オクテニル、ドデケニルなどが挙げられる。Ｒ1の炭素数が長いほど苦味や刺激は低減されるが、短いほどステイン形成阻害効果が高くなるので、Ｒ1の炭素数は１０〜１６程度が好ましく、１２〜１４程度がより好ましい。特に、Ｃ12〜Ｃ14合成アルキルあるいはラウリルとミリスチルを組合せて用いるのが最も好ましい。
【００１３】
Ｍ1及びＭ2は、それぞれ同一でも、異なっていてもよく、水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアルカノールアミンである。アルカリ金属としては、ナトリウム、カリウムなどが、アルカリ土類金属としては、マグネシウムなどが、アルカノールアミンとしては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどが例示できる。これらの中でも、Ｍ1及びＭ2としては、ナトリウムとマグネシウムがより好ましく、ナトリウムが特に好ましい。
【００１４】
ＡＯ基は、炭素数２〜３程度のオキシアルキレン基であり、オキシエチレン基であることが好ましい。ＡＯの平均付加モル数ｎは、０〜２０程度が好ましい。平均付加モル数ｎは小さいほどステイン形成阻害効果が高く、且つ苦味も低減されるので、ｎが０〜７程度の場合が好ましく、０〜２程度が最も好ましい。ここに、平均付加モル数０とは、オキシアルキレンを付加していないスルホコハク酸モノエステルを意味する。
【００１５】
一般式（１）で示されるスルホコハク酸モノエステルの例としては、ポリオキシエチレン（７モル）ラウリルスルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（２モル）ラウリルスルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（１モル）ラウリルスルホコハク酸２ナトリウム、ラウリルスルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（７モル）ミリスチルスルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（２モル）アルキル（Ｃ１２〜１４）スルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（１モル）アルキル（Ｃ１２〜１４）スルホコハク酸２ナトリウム、アルキル（Ｃ１２〜１４）スルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（２モル）ラウリルスルホコハク酸マグネシウム、ポリオキシエチレン（２モル）アルキル（Ｃ１２〜１４）スルホコハク酸マグネシウム、ポリオキシエチレン（７モル）ミリスチルスルホコハク酸２トリエタノールアミンなどが挙げられる。一般式（２）で示される例としては、オレイン酸アミドスルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（５モル）ラウロイルエタノールアミドスルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（２モル）ココイルイソプロパノールアミドスルホコハク酸２ナトリウムなどが挙げられる。
【００１６】
また、最も好適なスルホコハク酸モノエステルは、一般式（１）において、Ｒ1が炭素数１２〜１４程度のアルキル基で、ＡＯ基がオキシエチレン基であって、その平均付加モル数ｎが０〜２程度のナトリウム塩である。具体的には、ポリオキシエチレン（２モル）アルキル（Ｃ１２〜１４）スルホコハク酸２ナトリウム、ポリオキシエチレン（１モル）アルキル（Ｃ１２〜１４）スルホコハク酸２ナトリウム、アルキル（Ｃ１２〜１４）スルホコハク酸２ナトリウムなどが挙げられる。
【００１７】
一般式（１）で表されるスルホコハク酸エステルは、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００１８】
一般式（１）で表されるスルホコハク酸モノエステルの配合量は、通常、組成物全体に対しての０．０１〜５重量％程度が好ましく、さらに好ましくは０．１〜２重量％程度である。配合量が０．０１重量％程度に満たないと十分なステイン形成阻害効果が得られず、また５重量％程度を超えると使用感が悪くなってしまう。
【００１９】
本発明では、d50が５μｍ以下程度、d90が１５μｍ以下程度、かつRDA値が１２０以上程度である研磨性沈降シリカ（以下、“第一シリカ”という場合がある）を、組成物全重量に対して、０．５〜１０重量％程度用いることを必須とする。
【００２０】
沈降シリカは、薄めたケイ酸アルカリ金属塩（例えば、ケイ酸ナトリウム）と強酸（例えば硫酸）とを、主に酸性条件下で、凝集してゾル及びゲルにならないような条件で反応させ、濾過、洗浄、乾燥後、所望の粒径になるよう製粉化することにより製造されるものである。本発明では常法に従って製造した沈降シリカを用いることができる。沈降シリカは、ゲルシリカと比べ、吸湿性が低く、取り扱いが容易であり、また、安価であるという点で優れているので、本発明では研磨性シリカとして沈降シリカを用いる。
【００２１】
本発明で用いる第一シリカとしては、常法に従って製造されたものを用いることができる。
【００２２】
第一シリカの配合量は、組成物全重量に対して、０．５〜１０重量％であり、０．５〜６重量％程度が好ましく、１〜５重量％程度がより好ましく、２〜４重量％程度がさらに好ましい。０．５％未満であると、十分なステイン付着抑制効果が得られず、１０重量％を超えると、歯牙を傷つけてしまう恐れがある。
【００２３】
d50およびd90は、低出力He／Neレーザーを使用し、フラウンホーファー回折の原理を利用したマルバーン・マスターサイザー（Malvern Mastersizer）を用いて測定される。d50は、４．５μｍ以下程度であることがより好ましく、４μｍ以下程度であることがさらに好ましい。d50の下限は、本発明の所期の効果に悪影響を与えない限り特に限定されるものではないが、通常、３μｍ程度、好ましくは１μｍ程度である。d90は、１３μｍ以下程度であることがより好ましく、１０μｍ以下程度であることがさらに好ましい。d90の下限は、本発明の所期の効果に悪影響を与えない限り特に限定されるものではないが、通常、８μｍ程度、好ましくは５μｍ程度である。
【００２４】
RDA値とは、Radioactive Dentin Abrasionの略称であり、例えば、Hefferenらの方法（J. Dent. Res., Vol. 55, No.4, 563-573,1976年）により求めることができる。また、RDA値は、１３０以上程度であることが好ましく、１５０以上程度であることがより好ましい。RDA値の上限は、特に限定されるものではないが、通常、２５０程度、好ましくは２００程度である。従って、RDA値の好ましい範囲は、１２０〜２５０程度、より好ましい範囲は１３０〜２００程度、さらに好ましい範囲は１５０〜２００程度である。
【００２５】
本発明の口腔用組成物には、第一シリカに加え、RDA値が４０〜１１０程度である研磨性沈降シリカ（以下、“第二シリカ”）という場合がある）を配合することができる。
【００２６】
第二シリカを併用することにより、ステイン形成阻害性がより向上するので好ましい。
【００２７】
第二シリカにおいて、RDA値は、４０〜１１０程度であり、６０〜１１０程度であることが好ましく、８０〜１１０程度であることがより好ましく、８５〜１１０程度であることがさらに好ましい。
【００２８】
第二シリカは、RDA値が上記範囲内のものであれば特に限定されるものではないが、粒径が、d50が２０μｍ以下程度であるものが好ましく、d50が１５μｍ以下程度であるものがより好ましい。第二シリカのd50の下限は、特に限定されるものではないが、通常１０μｍ程度であり、８μｍ程度が好ましい。
【００２９】
第二シリカの配合量は、組成物全重量に対して、３〜２５重量％程度が好ましく、８〜２０重量％程度がより好ましく、１０〜２０重量％程度がさらに好ましく、１５〜２０重量％程度が特に好ましい。
【００３０】
本発明組成物において、第一シリカと第二シリカの合計配合量は、組成物全重量に対して、５〜３０重量％程度が好ましく、１０〜２５重量％程度がより好ましく、１２〜２３重量％程度がさらに好ましく、１７〜２３重量％程度が特に好ましい。また、第一シリカと第二シリカの使用割合は、重量比で、第一シリカ：第二シリカ＝１：２０〜１：１程度であることが好ましく、１：１０〜１：２程度であることがより好ましく、１：１０〜１：３程度であることがさらに好ましい。
【００３１】
本発明の組成物におけるシリカの配合例としては、以下のものが挙げられる。
【００３２】
RDA値が１５０〜２００程度の第一シリカを、組成物全重量に対して、１〜５重量％程度；及びRDA値が８５〜１１０程度の第二シリカを、組成物全重量に対して、１０〜２０重量％程度配合し、第一シリカ及び第二シリカの合計重量が組成物全重量に対して１２〜２３重量％であり、第一シリカと第二シリカの割合が、重量比で第一シリカ：第二シリカ＝１：１０〜１：２。
【００３３】
RDA値が１５０〜２００程度であり、d50が３〜４μｍ程度、d90が８〜１０μｍ程度である第一シリカを、組成物全重量に対して、２〜４重量％程度；及びRDA値が８５〜１１０程度であり、d50が１０〜１５μｍ程度の第二シリカを、組成物全重量に対して、１５〜２０重量％程度配合し、第一シリカ及び第二シリカの合計重量が組成物全重量に対して１７〜２３重量％であり、第一シリカと第二シリカの割合が、重量比で第一シリカ：第二シリカ＝１：８〜１：３。
【００３４】
本発明の口腔用組成物は、常法により粉歯磨、練歯磨、ジェル、プロフィーペースト、パスタ、チューイングガム、タブレットなどの剤形とすることができる。使用性の点から、歯磨剤が特に好ましい。
本発明の組成物は、上記スルホコハク酸系界面活性剤、研磨性沈降シリカ以外に、水、低級アルコール、高級アルコール、当該分野において通常使用される添加剤を、剤形などに応じて適宜配合することができる。このような添加剤としては、上記研磨性沈降シリカ(I)及び(II)以外の研磨剤、賦形剤、発泡剤、粘結剤、ｐＨ調整剤、式(1)及び(2)で表されるスルホコハク酸系界面活性剤以外の界面活性剤、湿潤剤、甘味剤、香料、防腐剤、着色剤、各種有効成分などを例示できる。添加剤の配合量は、発明の効果を損なわない範囲であれば、特に制限されず適宜設定することができる。
【００３５】
水の配合量は、剤形などに応じて適宜設定することができるが、組成物全体に対して、通常0〜70重量％程度、好ましくは10〜50%程度である。低級アルコールの配合量は、組成物全体に対して、通常0〜10重量％程度、好ましくは0〜5%程度である。高級アルコールの配合量は、組成物全体に対して、通常0〜70重量％程度、好ましくは10〜50%程度である。
【００３６】
上記研磨性沈降シリカ (I)及び(II)以外の研磨剤としては、第２リン酸カルシウム・２水和物および無水和物、リン酸カルシウム、第３リン酸カルシウム、炭酸カルシウム、ピロリン酸カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、シリカゲル、ケイ酸アルミニウム、上記研磨性沈降シリカ (I)及び(II)以外の沈降性シリカ、不溶性メタリン酸ナトリウム、第３リン酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、ポリメタクリル酸メチル、ベントナイト、ケイ酸ジルコニウム、ハイドロキシアパタイト、合成樹脂などを用いることができる。これらの研磨剤は単独で用いても２種以上を併用してもよく、上記研磨性沈降シリカ (I)及び(II)以外の研磨剤の配合量は、組成物全重量に対して、通常、５〜９０重量％程度、練歯磨の場合には５〜５０重量％程度である。
【００３７】
賦形剤として、例えば、火成性シリカ、増粘性シリカ（一般に、RDA値が３０以下程度のシリカを示す）、結晶セルロースを含む粉体状セルロースなどを例示することができる。これらの中では、火成性シリカ、増粘性シリカが好ましい。賦形剤の配合量は、組成物全体に対して、通常0.1〜30重量％程度であり、好ましくは0.5〜10重量％程度である。
【００３８】
発泡剤としては、一般式(1)で表されるスルホコハク酸系界面活性剤以外のアニオン性界面活性剤が挙げられる。例えば、ラウリル硫酸ナトリウム、ミリスチル硫酸ナトリウム等のアルキル基の炭素数が８〜１８である高級アルキル硫酸エステル塩；Ｎ−長鎖アシルアミノ酸塩、α−オレフィンスルホネート塩、高級脂肪酸ナトリウムモノグリセライドモノサルフェート、Ｎ−メチル−Ｎ−パルミトイルタウライド塩、Ｎ−アシルサルコシンナトリウム、Ｎ−アシルグルタミン酸塩、Ｎ−メチル−Ｎ−アシルタウリンナトリウム、Ｎ−メチル−Ｎ−アシルアラニンナトリウム、α−オレフィンスルホン酸ナトリウムなどのアニオン性界面活性剤などを例示することができる。これらアニオン性界面活性剤には化学的溶解によるステイン除去作用の高いものが多く、特にラウリル硫酸ナトリウムを配合するとステイン形成抑制効果が相乗的に高くなるので好ましい。これらのアニオン性界面活性剤は単独で用いても２種以上を併用してもよい。一般式(1)で表されるスルホコハク酸系界面活性剤以外のアニオン性界面活性剤の配合量は、組成物全体に対して、通常、０．００１〜５重量％程度、好ましくは０．０１〜２重量％程度である。
【００３９】
また、本発明組成物には、アニオン性界面活性剤以外にも通常口腔用組成物に用いられる非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤やカチオン性界面活性剤を配合してもよい。この様な界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等のポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ラウリン酸モノエタノールアミド、ミリスチン酸モノエタノールアミド、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン脂肪酸エステルアルキルグリコシド(例えばアルキル鎖：Ｃ８〜Ｃ１６程度)、ポリグリセリン脂肪酸エステル(例えば脂肪酸部分のアルキル鎖：Ｃ８〜Ｃ１６程度)、ショ糖脂肪酸エステル(例えば脂肪酸部分のアルキル鎖：Ｃ８〜Ｃ１６程度)等の非イオン性界面活性剤；Ｎ−アルキルジアミノエチルグリシン、アルキルベタイン、脂肪酸アミドプロピルベタイン(例えば脂肪酸部分のアルキル鎖：Ｃ８〜Ｃ１６程度)、アルキルスルホベタイン、アルキルベタインイミダゾニウムベタインなどの両性界面活性剤；塩化アルキルトリメチルアンモニウム、臭化アルキルトリメチルアンモニウム、塩化アルキルジメチルアンモニウムなどのカチオン性界面活性剤などを例示することができる。これらの中では、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、アルキルグリコシドが好ましい。
【００４０】
一般式(1)で示されるスルホコハク酸系界面活性剤とアニオン性界面活性剤を除いた界面活性剤の配合量は、組成物全体に対して、通常、０．００１〜５重量％程度、好ましくは０．０１〜２重量％程度である。
【００４１】
粘結剤としては、カルボキシメチルセルロースナトリウムなどのセルロース誘導体；アルギン酸ナトリウムなどのアルカリ金属アルギネート；アルギン酸プロピレングリコールエステル、キサンタンガム、トラガカントガム、カラヤガム、アラビアガム、カラギーナンなどのガム類；ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ナトリウム、カルボキシビニルポリマー、ポリビニルピロリドンなどの合成粘結剤などが挙げられる。粘結剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。粘結剤の配合量は、組成物全体に対して、通常、０．３〜５重量％程度である。
【００４２】
香料としては、メントール、カルボン、アネトール、バニリン、ベンジルサクシネート、オイゲノール、サリチル酸メチル、リモネン、オシメン、ｎ−デシルアルコール、シトロネロール、α−テルピネオール、メチルアセテート、シトロネリルアセテート、メチルオイゲノール、シオネール、リナロール、エチルリナロール、ワニリン、チモールなどが挙げられる。これらは、単品化合物として用いてもよいが、これらを含有している精油などの植物抽出液（例えば、下記のような植物抽出物）として配合してもよい。また、香料としては、タイム油、ナツメグ油、スペアミント油、ペパーミント油、アニス油、スターアニス油、フェンネル油、レモン油、オレンジ油、セージ油、ローズマリー油、桂皮油、ピメント油、珪藻油、シソ油、冬緑油、丁子油、ユーカリ油、バジル油、ティーツリー油、タバナ油、バニラ油、クランベリー油などの植物抽出液が挙げられる。香料は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。香料の配合量は、香料の種類などに応じて適宜設定することができるが、組成物全体に対して、通常０．０５〜１０重量％程度、好ましくは０．１〜５重量％程度である。
【００４３】
甘味剤としては、サッカリン、サッカリンナトリウム、ステビオサイド、アセスルファームＫ、グリチルリチン、ペリラルチン、タウマチン、アスパルチルフェニルアラニンメチルエステル、キシリトール、パラチノース、パラチニット、エリスリトール、マルチトールなどが挙げられる。甘味剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。甘味剤の配合量は、所望の甘みに応じて適宜設定することができるが、通常、組成物全体に対して０．０１〜５重量％である。
【００４４】
湿潤剤としては、例えば、ソルビット液、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ラクチット等が挙げられる。湿潤剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。湿潤剤の配合量は、組成物全体に対して通常５〜７０重量％程度である。
【００４５】
pH調整剤としては、例えば、リン酸およびその塩(リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウムなど)、クエン酸およびその塩(ナトリウム等)、リン酸およびその塩、リンゴ酸およびその塩、グルコン酸およびその塩、マレイン酸およびその塩、アスパラギン酸およびその塩、グルコン酸およびその塩、コハク酸およびその塩、グルクロン酸およびその塩、フマル酸およびその塩、グルタミン酸およびその塩、アジピン酸およびその塩、塩酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ケイ酸ナトリウムなどを例示することができる。pH調整剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。pH調整剤の配合量は、所望のpHとなる限り特に制限されないが、組成物全体に対して、通常0.01〜5重量％程度、好ましくは0.1〜3重量%程度である。本発明の組成物のpHは、本発明の効果が奏される限り特に制限されないが、通常4〜10程度であり、好ましくは5.5〜9程度である。
【００４６】
防腐剤としては、安息香酸ナトリウムなどの安息香酸塩；メチルパラベン、ブチルパラベンなどのパラベン類を例示することができる。防腐剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。防腐剤の配合量は、組成物全体に対して、通常0.01〜3重量％程度である。
【００４７】
着色剤としては、例えば、青色１号、黄色４号、赤色２０２号、緑３号などの法定色素；群青、強化群青、紺青などの鉱物系色素；酸化チタンなどを例示することができる。着色剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。着色剤の配合量は、組成物全体に対して、通常0.0001〜1重量％程度である。
【００４８】
有効成分としては、例えば、塩化セチルピリジニウム、塩化ベンゼトニウム、塩化ジステアリルジメチルアンモニウム、塩化ステアリルジメチルベンジルアンモニウム、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化ラウリルトリメチルアンモニウム、塩化ラウリルピリジニウム等の第四級アンモニウム塩、塩酸クロルヘキシジン、酢酸クロルヘキシジン、グルコン酸クロルヘキシジン、塩酸アレキシジン、酢酸アレキシジン、グルコン酸アレキシジン等のビグアニド系殺菌剤等のカチオン性殺菌剤；ｎ−ラウロイルサルコンシンナトリウムなどのアニオン性殺菌剤；トリクロサン、イソプロピルメチルフェノール等の非イオン性殺菌剤；デキストラナーゼ、アミラ−ゼ、パパイン、プロテアーゼ、ムタナーゼ、リゾチーム、溶菌酵素（リテックエンザイム）などの酵素；酸化亜鉛、塩化亜鉛などの亜鉛化合物；モノフルオロリン酸ナトリウム、モノフルオロリン酸カリウムなどのアルカリ金属モノフルオロホスフェート、フッ化ナトリウム、フッ化第一スズなどのフッ化物；トラネキサム酸、イプシロンアミノカプロン酸、アルミニウムクロルヒドロキシルアラントイン、ジヒドロコレステロール、酢酸トコフェロールなどのビタミンＥ誘導体、グリチルリチン塩類、グリチルレチン酸、グリセロホスフェート、クロロフィル、硝酸カリウム、塩化ナトリウム、カロペプタイド、水溶性無機リン酸化合物などが挙げられる。水溶性無機リン酸化合物としては、
一般式（２）：
Ｍm+2ＰmＯ3m+1
［式中、Ｍは、ＮａまたはＫを示し、ｍは2以上の整数である。］
一般式（３）：
（ＭＰＯ3）l
［式中、Ｍは、ＮａまたはＫを示し、ｌは３以上の整数である。］
で表される化合物が例示される。
【００４９】
ｍは、通常2以上の整数であり、好ましくは2〜6程度の整数である。ｌは、通常3以上の整数であり、好ましくは3〜6程度の整数である。
【００５０】
式（２）で示される化合物の具体例として、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウムなどを挙げることができる。
【００５１】
式（３）で示される化合物の具体例としては、例えば、テトラメタリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムなどを挙げることができる。
有効成分は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。有効成分の配合量は、所望の効果が得られる範囲内であれば特に制限されず、有効成分の種類などに応じて適宜設定することができる。有効成分の配合量は、組成物全体に対して、通常0.001〜30重量％程度、好ましくは0.01〜20重量%程度である。
【００５２】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない。なお、以下の実施例において、特に断らない限り、「％」は、いずれも「重量％」を示す。
【００５３】
また、以下の実施例及び比較例においては、以下に示す研磨性沈降シリカを用いた。
【００５４】
研磨性沈降シリカA;d50=3.5μm、d90=9.5μm、RDA値=180
研磨性沈降シリカB;d50=10μm、d90=30μm、RDA値=90
研磨性沈降シリカC;d50=4.0μm、d90=10μm、RDA値=130
なお、研磨性沈降シリカＡ及びＣは“第一シリカ”に相当し、研磨性沈降シリカＢは“第二シリカ”に相当する。
【００５５】
実施例１〜４及び比較例１〜４
下記に示す成分を配合し、常法に従って練歯磨を調製し、ステイン形成阻害効果及びステイン付着抑制効果の評価に用いた。
（ステイン形成阻害効果）
直径１ｃｍのハイドロキシアパタイトディスクを歯のモデルとして用い、ヒト全唾液（１０分）、０．２％クロルヘキシジングルコネート水溶液（２分）、上記被験歯磨剤の４倍スラリー上清（２分）、０．３％クエン酸鉄（ＩＩＩ）アンモニウム水溶液（２分）、紅茶抽出液（１０分）の順番で浸漬することを１０回繰返し、実験前ディスクとの色差を測定する（ｄＥとする）。被験歯磨剤の代わりに蒸留水を用いた場合の色差（ｄＥ０とする）をコントロールとし、次式によりステイン形成阻害率を算出した。なお、色差の測定には色彩色差計ＣＲ−２４１（ミノルタ製）を用いた。
【００５６】
ステイン形成阻害率（％）＝（ｄＥ０−ｄＥ）×１００／ｄＥ０
ステイン形成阻害率が大きいほど、効果が高いことを表す。ステイン形成阻害率が０以上５０％未満をｃ、５０％以上７０％未満をｂ、７０％以上１００％以下をａとした。
【００５７】
（ステイン付着抑制効果）
牛歯下顎１番の頬側のエナメル試片を４ｍｍ平方切り取り、透明ポリエステルレジンにうめ込み、試片表面を研磨紙にて平滑化後、酸化アルミを用いて鏡面研磨した。試片表面を０．２mol／L塩酸に６０秒浸漬し、次に飽和炭酸ナトリウム水溶液に３０秒浸漬、つづいて１％フィチン酸水溶液に６０秒浸漬した後、イオン交換水で洗浄したものを試験片とした。試験片を市販歯ブラシ（ナイロン毛）を設置したＢＳＩ準拠のブラッシングマシーンにセットし、被験歯磨剤の４倍スラリー液中で、圧力１５０ｇで１０００往復させイオン交換水で洗浄した。別に、１０００ｍＬのイオン交換水に約５ｇの紅茶葉を入れ１０分間煮出した液に、約３．４ｇのインスタントティー、約２．５ｇの豚胃ムチン、約１．０ｇの塩化鉄(ＩＩＩ)６水和物を溶解したステイン培地を調製した。試験片を室温にてステイン培地への浸漬、空気乾燥を約３０秒ずつ交互に繰り返し、この操作を１時間おこなった後、イオン交換水で洗浄後、１時間以上の空気乾燥を行った後、この試験片の着色度合いを目視にて以下の規準で評価した。
【００５８】
ａ：着色はほとんど認められない。
【００５９】
ｂ：若干着色が認められる。
【００６０】
ｃ：着色が認められる。
【００６１】
ｄ：強い着色が認められる。
【００６２】
【表１】
表１に示すように、スルホコハク酸系界面活性剤とd50が５μｍ以下、d90が１５μｍ以下、ＲＤＡ値が１２０以上の研磨性沈降シリカ（研磨性沈降シリカＡ）を配合した歯磨剤はステイン形成阻害効果及び高いステイン付着抑制効果を示した。また、研磨性沈降シリカＢを併用した歯磨剤は、研磨性沈降シリカＡのみを用いた歯磨剤と比べ、ステイン形成阻害効果が向上した。
【００６４】
実施例５
次の処方により、常法に従って練歯磨を調製した。
【００６５】
次の処方により、常法に従って練歯磨を調製した。
【００６６】
【００６７】
本発明によれば、ステイン形成阻害効果と、ステイン付着抑制効果をあわせ持ち、効果的に歯牙の着色を防止する口腔用組成物が提供できる。
Claims (8)
- 一般式（１）で示されるスルホコハク酸系界面活性剤の少なくとも１種を０．０１〜５重量％、並びに粒径の５０百分位数（d50）が５μｍ以下、粒径の９０百分位数（d90）が１５μｍ以下、かつRDA値が１２０以上であることを特徴とする研磨性沈降シリカを０．５〜１０重量％含有することを特徴とする口腔用組成物。
一般式（１）：
- 一般式（１）で示されるスルホコハク酸系界面活性剤のＡＯ基の平均付加モル数ｎが０〜７である請求項１記載の口腔用組成物。
- 一般式（１）で示されるスルホコハク酸系界面活性剤のアルキル基もしくはアルケニル基の炭素数が１０〜１４である請求項１記載の口腔用組成物。
- 一般式（１）で示されるスルホコハク酸系界面活性剤のＭ1およびＭ2がナトリウムである請求項１記載の口腔用組成物。
- 研磨性沈降シリカのRDA値が、１３０〜２００である請求項１記載の口腔用組成物。
- 研磨性沈降シリカの配合量が、１〜５重量％である請求項１記載の口腔用組成物。
- 更に、RDA値が４０〜１１０である研磨性沈降シリカを配合した請求項１記載の口腔用組成物。
- RDA値が４０〜１１０である研磨性沈降シリカの配合量が３〜２５重量％である請求項７記載の口腔用組成物。
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