JP2001270740A - ガラス物品及びディスプレイ用ガラス基板 - Google Patents
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- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
Abstract
(57)【要約】
【課題】 金属イオンの拡散防止性能に優れ、金属コロ
イドによる着色の問題のないガラス物品と、このような
ガラス物品を用いた高品質ディスプレイ用ガラス基板を
提供する。 【解決手段】 アルカリ含有ガラス基板1の表面に、酸
化インジウム及び/又は酸化スズを主成分とする金属イ
オン拡散防止膜2を形成してなるガラス物品。アルカリ
含有ガラス基板の表面1に、アルカリイオン拡散防止膜
5、酸化インジウム及び/又は酸化スズを主成分とする
金属イオン拡散防止膜2、絶縁膜3及び電極膜4をこの
順に形成したディスプレイ用ガラス基板であって、絶縁
膜3の表面抵抗が、550℃、1時間の熱処理後も1.
0×106〜1.0×1016Ω/□であるディスプレ
イ用ガラス基板。
イドによる着色の問題のないガラス物品と、このような
ガラス物品を用いた高品質ディスプレイ用ガラス基板を
提供する。 【解決手段】 アルカリ含有ガラス基板1の表面に、酸
化インジウム及び/又は酸化スズを主成分とする金属イ
オン拡散防止膜2を形成してなるガラス物品。アルカリ
含有ガラス基板の表面1に、アルカリイオン拡散防止膜
5、酸化インジウム及び/又は酸化スズを主成分とする
金属イオン拡散防止膜2、絶縁膜3及び電極膜4をこの
順に形成したディスプレイ用ガラス基板であって、絶縁
膜3の表面抵抗が、550℃、1時間の熱処理後も1.
0×106〜1.0×1016Ω/□であるディスプレ
イ用ガラス基板。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルカリ含有ガラ
ス表面に金属膜を成膜した場合のガラス中のアルカリと
金属との単独又は相互拡散の防止性能に優れた金属イオ
ン拡散防止膜を形成したガラス物品と、このガラス物品
を用いたディスプレイ用ガラス基板に関する。
ス表面に金属膜を成膜した場合のガラス中のアルカリと
金属との単独又は相互拡散の防止性能に優れた金属イオ
ン拡散防止膜を形成したガラス物品と、このガラス物品
を用いたディスプレイ用ガラス基板に関する。
【0002】
【従来の技術】プラズマディスプレイ(PDP)やフィ
ールドエミッションディスプレイ(FED)、液晶ディ
スプレイ(LCD)、エレクトロルミネセンスディスプ
レイ(ELD)等の平面型ディスプレイでは、通常、2
枚のガラス基板上に電極等の部材を形成した後、貼り合
わせて使用されるが、特に、前面側ガラス基板にはIT
O、SnO2等の透明電極が使用されている。また、特
に大型のディスプレイでは電極の配線抵抗を下げるため
にAg、Cr/Cu/Cr等の金属が補助電極として使
用されている。
ールドエミッションディスプレイ(FED)、液晶ディ
スプレイ(LCD)、エレクトロルミネセンスディスプ
レイ(ELD)等の平面型ディスプレイでは、通常、2
枚のガラス基板上に電極等の部材を形成した後、貼り合
わせて使用されるが、特に、前面側ガラス基板にはIT
O、SnO2等の透明電極が使用されている。また、特
に大型のディスプレイでは電極の配線抵抗を下げるため
にAg、Cr/Cu/Cr等の金属が補助電極として使
用されている。
【0003】従来、PDP用のガラス基板としては、
1.5〜3.5mmの厚さの板状に成形されたソーダラ
イムシリケートガラス基板、もしくは高歪点のアルカリ
含有ガラスが用いられている。通常、このようなガラス
は、大量生産に向き、平滑性に優れたフロート法によっ
て成形される。フロートガラスは、成形過程で水素雰囲
気に晒されるため、ガラス表面に数ミクロンの還元層が
生成し、この層には溶融Sn由来のSn2+が存在する
ことが一般に知られている。
1.5〜3.5mmの厚さの板状に成形されたソーダラ
イムシリケートガラス基板、もしくは高歪点のアルカリ
含有ガラスが用いられている。通常、このようなガラス
は、大量生産に向き、平滑性に優れたフロート法によっ
て成形される。フロートガラスは、成形過程で水素雰囲
気に晒されるため、ガラス表面に数ミクロンの還元層が
生成し、この層には溶融Sn由来のSn2+が存在する
ことが一般に知られている。
【0004】一方、PDPの製造工程においては、一般
に、ガラス基板表面に透明電極を介してAgがバス電極
として塗布された後、550〜600℃で20〜60分
保持するという熱処理が数回繰り返される。
に、ガラス基板表面に透明電極を介してAgがバス電極
として塗布された後、550〜600℃で20〜60分
保持するという熱処理が数回繰り返される。
【0005】この熱処理工程において、Ag+イオンが
透明電極内に拡散してガラス表面に至り、ガラス中のN
a+イオンとの間でイオン交換が生じる。そして、その
結果、ガラス中にAg+イオンが侵入し、侵入したAg
+イオンは還元層に存在するSn2+によって還元さ
れ、金属Agのコロイドを生成する。このため、このA
gコロイドによって基板ガラスに黄色の着色が生じると
いう不具合がある。
透明電極内に拡散してガラス表面に至り、ガラス中のN
a+イオンとの間でイオン交換が生じる。そして、その
結果、ガラス中にAg+イオンが侵入し、侵入したAg
+イオンは還元層に存在するSn2+によって還元さ
れ、金属Agのコロイドを生成する。このため、このA
gコロイドによって基板ガラスに黄色の着色が生じると
いう不具合がある。
【0006】このような金属コロイドによる着色の問題
は、Agに限らず、拡散し易いCu,Au等の金属電極
膜を形成した場合にも起こり得る。また、PDPに限ら
ず、曇り防止のためにストライプ状にAg電極を形成し
た自動車用リアガラスにおいても、Agコロイドによる
着色の問題があった。
は、Agに限らず、拡散し易いCu,Au等の金属電極
膜を形成した場合にも起こり得る。また、PDPに限ら
ず、曇り防止のためにストライプ状にAg電極を形成し
た自動車用リアガラスにおいても、Agコロイドによる
着色の問題があった。
【0007】そこで、従来、アルカリ含有ガラスをディ
スプレイ基板として用いる場合には、PDPなどではガ
ラス中のアルカリと、電極として使用されるAg等との
交換反応を防止し、Agコロイドによるガラスの着色を
防止するための各種金属膜、窒化物膜、或いは、SiO
2、ZrO2、Al2O3、TiO2のような酸化物膜
よりなる金属イオン拡散防止膜を形成することが提案さ
れている(特開平9−245652号、同10−114
549号公報、同10−302648号公報、同11−
109888号公報、同11−130471号公報)。
スプレイ基板として用いる場合には、PDPなどではガ
ラス中のアルカリと、電極として使用されるAg等との
交換反応を防止し、Agコロイドによるガラスの着色を
防止するための各種金属膜、窒化物膜、或いは、SiO
2、ZrO2、Al2O3、TiO2のような酸化物膜
よりなる金属イオン拡散防止膜を形成することが提案さ
れている(特開平9−245652号、同10−114
549号公報、同10−302648号公報、同11−
109888号公報、同11−130471号公報)。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来提
案されている金属イオン拡散防止膜は、いずれも金属イ
オンの拡散防止性能が十分でなく、特に窒化物膜ではP
DP製造工程での熱処理で酸化されて金属イオン拡散防
止性能が低下するという欠点があった。
案されている金属イオン拡散防止膜は、いずれも金属イ
オンの拡散防止性能が十分でなく、特に窒化物膜ではP
DP製造工程での熱処理で酸化されて金属イオン拡散防
止性能が低下するという欠点があった。
【0009】本発明は上記従来の問題点を解決し、金属
イオンの拡散防止性能に優れ、金属コロイドによる着色
の問題のないガラス物品と、このようなガラス物品を用
いた高品質ディスプレイ用ガラス基板を提供することを
目的とする。
イオンの拡散防止性能に優れ、金属コロイドによる着色
の問題のないガラス物品と、このようなガラス物品を用
いた高品質ディスプレイ用ガラス基板を提供することを
目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明のガラス物品は、
アルカリ含有ガラス基板の表面に、酸化インジウム及び
/又は酸化スズを主成分とする金属イオン拡散防止膜を
形成してなることを特徴とする。
アルカリ含有ガラス基板の表面に、酸化インジウム及び
/又は酸化スズを主成分とする金属イオン拡散防止膜を
形成してなることを特徴とする。
【0011】酸化インジウム(In2O3)及び/又は
酸化スズ(SnO2)を主成分とする金属イオン拡散防
止膜であれば、金属イオンの拡散防止性能に優れ、ガラ
スに含有されるアルカリの溶出や、表面に形成される金
属膜の金属イオンのガラス中への拡散を有効に防止する
ことができる。
酸化スズ(SnO2)を主成分とする金属イオン拡散防
止膜であれば、金属イオンの拡散防止性能に優れ、ガラ
スに含有されるアルカリの溶出や、表面に形成される金
属膜の金属イオンのガラス中への拡散を有効に防止する
ことができる。
【0012】ところで、酸化インジウム及び/又は酸化
スズを主成分とする金属イオン拡散防止膜をアルカリ含
有ガラス基板上に直接成膜する場合、ガラス中のアルカ
リ成分の影響で、成膜された該金属イオン拡散防止膜の
緻密性が変化し、金属イオン拡散防止性能に影響を及ぼ
す。
スズを主成分とする金属イオン拡散防止膜をアルカリ含
有ガラス基板上に直接成膜する場合、ガラス中のアルカ
リ成分の影響で、成膜された該金属イオン拡散防止膜の
緻密性が変化し、金属イオン拡散防止性能に影響を及ぼ
す。
【0013】即ち、スパッタリング法、イオンプレーテ
ィング法、真空蒸着法などのいわゆる物理蒸着法により
金属イオン拡散防止膜を成膜する場合には、成膜中にガ
ラスからのアルカリ成分が微量拡散して薄膜の結晶構造
に影響を与えることがある。この拡散量が多い場合には
金属イオン拡散防止膜の結晶性が悪化して、ポーラスな
構造の薄膜になり、金属イオン拡散防止性能を低下させ
ることがある。
ィング法、真空蒸着法などのいわゆる物理蒸着法により
金属イオン拡散防止膜を成膜する場合には、成膜中にガ
ラスからのアルカリ成分が微量拡散して薄膜の結晶構造
に影響を与えることがある。この拡散量が多い場合には
金属イオン拡散防止膜の結晶性が悪化して、ポーラスな
構造の薄膜になり、金属イオン拡散防止性能を低下させ
ることがある。
【0014】また、印刷法やゾルゲル法などのいわゆる
塗布法により金属イオン拡散防止膜を成膜する場合に
は、塗布後に焼成工程を伴うので、金属イオン拡散防止
膜原料を塗布した後の焼成工程において、上述したよう
な結晶構造に関する好ましくない影響を受ける場合があ
る。
塗布法により金属イオン拡散防止膜を成膜する場合に
は、塗布後に焼成工程を伴うので、金属イオン拡散防止
膜原料を塗布した後の焼成工程において、上述したよう
な結晶構造に関する好ましくない影響を受ける場合があ
る。
【0015】また、化学気相法などのいわゆる化学蒸着
法(CVD法)により金属イオン拡散防止膜を成膜する
場合においても、物理蒸着法と同様な現象が起こるが、
特に、CVD法で成膜する場合には、使用される原料に
は一般的に塩素が含まれるので、この塩素が成膜時に遊
離し、ガラス基板に含有されるアルカリ成分と反応して
ガラス基板上に塩素化合物が析出することがある。そし
て、塩素化合物が析出した部分には、酸化インジウム及
び/又は酸化スズを主成分とする金属イオン拡散防止膜
が形成されず、ピンホールとなるので、この部分では金
属イオンの拡散を防止できなくなるおそれがある。
法(CVD法)により金属イオン拡散防止膜を成膜する
場合においても、物理蒸着法と同様な現象が起こるが、
特に、CVD法で成膜する場合には、使用される原料に
は一般的に塩素が含まれるので、この塩素が成膜時に遊
離し、ガラス基板に含有されるアルカリ成分と反応して
ガラス基板上に塩素化合物が析出することがある。そし
て、塩素化合物が析出した部分には、酸化インジウム及
び/又は酸化スズを主成分とする金属イオン拡散防止膜
が形成されず、ピンホールとなるので、この部分では金
属イオンの拡散を防止できなくなるおそれがある。
【0016】従って、このような基板のガラスに含まれ
るアルカリ成分の影響を排除するために、予めアルカリ
含有ガラス基板上にアルカリイオン拡散防止効果のある
アルカリイオン拡散防止下地膜(以下、単に「下地膜」
と称す場合がある。)を形成しておき、その上に酸化イ
ンジウム及び/又は酸化スズを主成分とする金属イオン
拡散防止膜を形成することにより、確実に金属イオンの
拡散を防止する効果を奏することができる。
るアルカリ成分の影響を排除するために、予めアルカリ
含有ガラス基板上にアルカリイオン拡散防止効果のある
アルカリイオン拡散防止下地膜(以下、単に「下地膜」
と称す場合がある。)を形成しておき、その上に酸化イ
ンジウム及び/又は酸化スズを主成分とする金属イオン
拡散防止膜を形成することにより、確実に金属イオンの
拡散を防止する効果を奏することができる。
【0017】本発明のガラス物品は、一般的には、この
金属イオン拡散防止膜の上に必要に応じて絶縁膜を形成
し、更に絶縁膜上に電極膜、好ましくはAgを含む電極
膜が形成されて使用に供される。
金属イオン拡散防止膜の上に必要に応じて絶縁膜を形成
し、更に絶縁膜上に電極膜、好ましくはAgを含む電極
膜が形成されて使用に供される。
【0018】この場合、絶縁膜の表面抵抗は1.0×1
06〜1.0×1016Ω/□の範囲であることが好ま
しく、この絶縁膜の表面抵抗は、一般的なPDPの製造
工程における加熱条件である550℃、1時間の熱処理
後も上記範囲にあることが好ましい。
06〜1.0×1016Ω/□の範囲であることが好ま
しく、この絶縁膜の表面抵抗は、一般的なPDPの製造
工程における加熱条件である550℃、1時間の熱処理
後も上記範囲にあることが好ましい。
【0019】本発明のディスプレイ用ガラス基板は、ア
ルカリ含有ガラス基板の表面に、アルカリイオン拡散防
止下地膜、酸化インジウム及び/又は酸化スズを主成分
とする金属イオン拡散防止膜、絶縁膜及び電極膜をこの
順に形成したディスプレイ用ガラス基板であって、該絶
縁膜の表面抵抗が、550℃、1時間の熱処理後も1.
0×106〜1.0×1016Ω/□であることを特徴
とするものであり、金属イオン拡散防止膜の優れた金属
イオン拡散防止性能により、金属コロイドによる着色の
問題がなく、著しく高品質なディスプレイ用ガラス基板
である。
ルカリ含有ガラス基板の表面に、アルカリイオン拡散防
止下地膜、酸化インジウム及び/又は酸化スズを主成分
とする金属イオン拡散防止膜、絶縁膜及び電極膜をこの
順に形成したディスプレイ用ガラス基板であって、該絶
縁膜の表面抵抗が、550℃、1時間の熱処理後も1.
0×106〜1.0×1016Ω/□であることを特徴
とするものであり、金属イオン拡散防止膜の優れた金属
イオン拡散防止性能により、金属コロイドによる着色の
問題がなく、著しく高品質なディスプレイ用ガラス基板
である。
【0020】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の好
ましい実施の形態について説明する。
ましい実施の形態について説明する。
【0021】図1〜4は本発明の実施の形態に係るガラ
ス物品の断面図であり、ガラス基板1上に金属イオン拡
散防止膜2が形成され、この金属イオン拡散防止膜2上
に、直接(図1)或いは必要に応じて絶縁膜3を介して
(図2)金属電極膜4が形成されている。又は、ガラス
板1上に下地膜5を介して金属イオン拡散防止膜2が形
成され、この金属イオン拡散防止膜2上に、直接(図
3)或いは必要に応じて絶縁膜3を介して(図4)金属
電極膜4が形成されている。
ス物品の断面図であり、ガラス基板1上に金属イオン拡
散防止膜2が形成され、この金属イオン拡散防止膜2上
に、直接(図1)或いは必要に応じて絶縁膜3を介して
(図2)金属電極膜4が形成されている。又は、ガラス
板1上に下地膜5を介して金属イオン拡散防止膜2が形
成され、この金属イオン拡散防止膜2上に、直接(図
3)或いは必要に応じて絶縁膜3を介して(図4)金属
電極膜4が形成されている。
【0022】このガラス基板1はアルカリ含有ガラスよ
りなる。このアルカリ含有ガラスの好適な主要組成とし
ては次が例示される。
りなる。このアルカリ含有ガラスの好適な主要組成とし
ては次が例示される。
【0023】 SiO2 50〜73質量% Al2O3 0〜15質量% R2O 6〜24質量% R’O 6〜27質量% なお、R2OはLi2O,Na2O,K2Oの合計であ
り、R’OはCaO,MgO,SrO,BaOの合計で
ある。
り、R’OはCaO,MgO,SrO,BaOの合計で
ある。
【0024】本発明において、金属イオン拡散防止膜2
は、In2O3及び/又はSnO2を主成分とする膜で
ある。
は、In2O3及び/又はSnO2を主成分とする膜で
ある。
【0025】In2O3又はSnO2を主成分とする膜
は、一般的には透明導電膜として使用されており、特
に、表面抵抗値が低いことから、Snを5質量%含有し
たIn 2O3(ITO)膜や、フッ素又はアンチモンを
ドープしたSnO2膜が使用されている。本発明では、
表面抵抗値に関わりなく金属イオンの拡散を防止できる
ため、不純物濃度は特に限定されないが、電極と兼用し
て用いる場合には前記の低抵抗となるような組成を使用
することが望ましい。また、自動車用リアガラスやディ
スプレイ用基板など、用途によっては表面抵抗が高い必
要のある場合には、In2O3及び/又はSnO2を主
成分とする金属イオン拡散防止膜2上に図1(b)に示
す如く、絶縁膜3を形成することが好ましい。
は、一般的には透明導電膜として使用されており、特
に、表面抵抗値が低いことから、Snを5質量%含有し
たIn 2O3(ITO)膜や、フッ素又はアンチモンを
ドープしたSnO2膜が使用されている。本発明では、
表面抵抗値に関わりなく金属イオンの拡散を防止できる
ため、不純物濃度は特に限定されないが、電極と兼用し
て用いる場合には前記の低抵抗となるような組成を使用
することが望ましい。また、自動車用リアガラスやディ
スプレイ用基板など、用途によっては表面抵抗が高い必
要のある場合には、In2O3及び/又はSnO2を主
成分とする金属イオン拡散防止膜2上に図1(b)に示
す如く、絶縁膜3を形成することが好ましい。
【0026】本発明に係る金属イオン拡散防止膜2がI
n2O3及びSnO2を主成分とする場合、その含有割
合には特に制限はない。
n2O3及びSnO2を主成分とする場合、その含有割
合には特に制限はない。
【0027】また、本発明に係る金属イオン拡散防止膜
2はSnO2を主成分としSb2O 3を含む膜であって
も良く、この場合、その含有割合はSnO2:Sb2O
3=99.9〜99.99:0.01〜0.1(質量
%)であることが好ましい。
2はSnO2を主成分としSb2O 3を含む膜であって
も良く、この場合、その含有割合はSnO2:Sb2O
3=99.9〜99.99:0.01〜0.1(質量
%)であることが好ましい。
【0028】この金属イオン拡散防止膜2の膜厚は、金
属イオンの拡散の防止の観点からは厚い方が好ましい
が、過度に厚くてもそれ以上の効果はなく、徒にコスト
高となることから、5〜200nm、特に50〜200
nmの範囲とするのが好ましい。
属イオンの拡散の防止の観点からは厚い方が好ましい
が、過度に厚くてもそれ以上の効果はなく、徒にコスト
高となることから、5〜200nm、特に50〜200
nmの範囲とするのが好ましい。
【0029】絶縁膜3は、表面抵抗が1.0×106〜
1.0×1016Ω/□の範囲、特に、リーク電流が問
題となるPDP用としては1.0×1015Ω/□以上
の高抵抗、例えば1.0×1015〜1.0×1016
Ω/□、基板の帯電が問題となるFED用としては1.
0×106〜1.0×1012Ω/□、好ましくは1.
0×108〜1.0×1012Ω/□の範囲とするのが
好ましい。
1.0×1016Ω/□の範囲、特に、リーク電流が問
題となるPDP用としては1.0×1015Ω/□以上
の高抵抗、例えば1.0×1015〜1.0×1016
Ω/□、基板の帯電が問題となるFED用としては1.
0×106〜1.0×1012Ω/□、好ましくは1.
0×108〜1.0×1012Ω/□の範囲とするのが
好ましい。
【0030】なお、これらの用途において、リーク電流
や基板の帯電はディスプレイとしての使用時に問題とな
るため、上記表面抵抗は、パネル製造工程における処理
温度の影響、例えばAg電極の焼成条件等においても変
化せず、上記範囲を維持することが好ましく、550
℃、1時間の熱処理後においても上記範囲内であること
が望まれる。
や基板の帯電はディスプレイとしての使用時に問題とな
るため、上記表面抵抗は、パネル製造工程における処理
温度の影響、例えばAg電極の焼成条件等においても変
化せず、上記範囲を維持することが好ましく、550
℃、1時間の熱処理後においても上記範囲内であること
が望まれる。
【0031】このような絶縁膜3の膜厚は過度に厚いと
クラック発生やコスト高の問題があり、過度に薄いと安
定した表面抵抗を得ることができないことから25〜2
00nmの範囲とするのが好ましい。
クラック発生やコスト高の問題があり、過度に薄いと安
定した表面抵抗を得ることができないことから25〜2
00nmの範囲とするのが好ましい。
【0032】なお、絶縁膜3の膜材質としては、所望の
表面抵抗を実現できるものであれば良く、特に制限はな
いが、例えば、SiO2,Al2O3,TiO2,Ti
ON,ZrON,ZnAlO等の高抵抗の膜が好適であ
る。
表面抵抗を実現できるものであれば良く、特に制限はな
いが、例えば、SiO2,Al2O3,TiO2,Ti
ON,ZrON,ZnAlO等の高抵抗の膜が好適であ
る。
【0033】このような本発明のガラス物品のガラス基
板上の金属イオン拡散防止膜や絶縁膜は、スパッタリン
グ法、イオンプレーティング法、真空蒸着法などのいわ
ゆる物理蒸着法や、化学気相法などのいわゆる化学蒸着
法、印刷法やゾルゲル法等を用いることにより容易に成
膜することができる。
板上の金属イオン拡散防止膜や絶縁膜は、スパッタリン
グ法、イオンプレーティング法、真空蒸着法などのいわ
ゆる物理蒸着法や、化学気相法などのいわゆる化学蒸着
法、印刷法やゾルゲル法等を用いることにより容易に成
膜することができる。
【0034】金属イオン拡散防止膜2とガラス板1との
間に形成される下地膜5の膜材質としては、アルカリイ
オン(Na+、K+など)の拡散を防止できるものであ
ればよく、特に制限はないが、例えば、SiO2、Ti
O2、ZnO、Al2O3、ZrO2、MgO、Si
N、TiN、AlNなどの酸化物、窒化物の膜が挙げら
れる。これらの下地膜材料のうち、下地膜5の上に形成
される金属イオン拡散防止膜2は酸化物よりなることか
ら、それぞれの膜界面での密着性の観点から、SiO2
やZnOなどの取り扱い性に優れた酸化物がより好適で
ある。
間に形成される下地膜5の膜材質としては、アルカリイ
オン(Na+、K+など)の拡散を防止できるものであ
ればよく、特に制限はないが、例えば、SiO2、Ti
O2、ZnO、Al2O3、ZrO2、MgO、Si
N、TiN、AlNなどの酸化物、窒化物の膜が挙げら
れる。これらの下地膜材料のうち、下地膜5の上に形成
される金属イオン拡散防止膜2は酸化物よりなることか
ら、それぞれの膜界面での密着性の観点から、SiO2
やZnOなどの取り扱い性に優れた酸化物がより好適で
ある。
【0035】下地膜5は、スパッタリング法、イオンプ
レーティング法、真空蒸着法などのいわゆる物理蒸着法
や、化学気相法などのいわゆる化学蒸着法、印刷法やゾ
ルゲル法などを用いて成膜することができ、上述した下
地膜材料の薄膜が緻密な構造を有するように形成方法と
形成条件を選択すればよい。これらの方法のうち、スパ
ッタリング法は比較的緻密な構造の薄膜が得られやす
く、適用できる膜材料の範囲が広いので好適に用いられ
る。また、工業上の観点からは、金属イオン拡散防止膜
や絶縁膜を形成する手段と同種の手段を選択すれば、比
較的短いプロセスで本発明のガラス物品を製造すること
ができるので有利である。
レーティング法、真空蒸着法などのいわゆる物理蒸着法
や、化学気相法などのいわゆる化学蒸着法、印刷法やゾ
ルゲル法などを用いて成膜することができ、上述した下
地膜材料の薄膜が緻密な構造を有するように形成方法と
形成条件を選択すればよい。これらの方法のうち、スパ
ッタリング法は比較的緻密な構造の薄膜が得られやす
く、適用できる膜材料の範囲が広いので好適に用いられ
る。また、工業上の観点からは、金属イオン拡散防止膜
や絶縁膜を形成する手段と同種の手段を選択すれば、比
較的短いプロセスで本発明のガラス物品を製造すること
ができるので有利である。
【0036】下地膜の厚さは10nm以上であればよ
い。この厚さが10nm未満では均一な膜状態が得られ
ず、島状に膜が形成されるおそれがあるので、アルカリ
イオンの拡散を完全に防止するためには10nm以上の
膜厚とすることが好ましい。膜厚の上限は特に問題とな
らないが、下地膜として十分な効果を得るには50nm
以下で十分である。工業上の観点から、下地膜5の膜厚
は20〜30nmが好ましい。
い。この厚さが10nm未満では均一な膜状態が得られ
ず、島状に膜が形成されるおそれがあるので、アルカリ
イオンの拡散を完全に防止するためには10nm以上の
膜厚とすることが好ましい。膜厚の上限は特に問題とな
らないが、下地膜として十分な効果を得るには50nm
以下で十分である。工業上の観点から、下地膜5の膜厚
は20〜30nmが好ましい。
【0037】なお、金属イオン拡散防止膜2上又は絶縁
膜3上にAg等の金属電極膜4を形成する場合、その膜
厚は3〜12μm程度とするのが好ましい。
膜3上にAg等の金属電極膜4を形成する場合、その膜
厚は3〜12μm程度とするのが好ましい。
【0038】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【0039】実施例1 フロート法で成形したソーダライムガラス基板にスパッ
タリング法により金属イオン拡散防止膜としてIn2O
3膜を形成した。ターゲットにはInを用い、アルゴン
−酸素雰囲気中、ガス圧0.4Pa(3×10−3To
rr)にてDCモードで表1に示す膜厚に成膜した。次
いで、このIn2O3膜の上にAgペーストを印刷し、
550℃で1時間焼成して厚さ8μmのAg電極を形成
した後、着色の程度を目視で観察し、結果を表1に示し
た。
タリング法により金属イオン拡散防止膜としてIn2O
3膜を形成した。ターゲットにはInを用い、アルゴン
−酸素雰囲気中、ガス圧0.4Pa(3×10−3To
rr)にてDCモードで表1に示す膜厚に成膜した。次
いで、このIn2O3膜の上にAgペーストを印刷し、
550℃で1時間焼成して厚さ8μmのAg電極を形成
した後、着色の程度を目視で観察し、結果を表1に示し
た。
【0040】実施例2〜5、比較例1〜3 実施例1において、用いるターゲット及び成膜雰囲気を
変えたこと以外は同様にスパッタリングを行って、表1
に示す金属イオン拡散防止膜を表1に示す膜厚に成膜し
た。その後、実施例1と同様にしてAg電極を形成した
後、着色の程度を調べ、結果を表1に示した。
変えたこと以外は同様にスパッタリングを行って、表1
に示す金属イオン拡散防止膜を表1に示す膜厚に成膜し
た。その後、実施例1と同様にしてAg電極を形成した
後、着色の程度を調べ、結果を表1に示した。
【0041】実施例6 ソーダライムガラス基板を550℃に加熱し、モノブチ
ルスズトリクロライド(MBTC)、酸素、窒素、水蒸
気の混合ガスを吹き付け、CVD法により表1に示す膜
厚のSnO2を金属イオン拡散防止膜として成膜した。
その後、実施例1と同様にしてAg電極を形成した後、
着色の程度を調べ、結果を表1に示した。
ルスズトリクロライド(MBTC)、酸素、窒素、水蒸
気の混合ガスを吹き付け、CVD法により表1に示す膜
厚のSnO2を金属イオン拡散防止膜として成膜した。
その後、実施例1と同様にしてAg電極を形成した後、
着色の程度を調べ、結果を表1に示した。
【0042】比較例4 実施例6において、MBTCの代りにモノシラン、水蒸
気の代わりにエチレンを用いてCVD法により表1に示
す膜厚のSiO2膜を成膜した。その後、実施例1と同
様にしてAg電極を形成した後、着色の程度を調べ、結
果を表1に示した。
気の代わりにエチレンを用いてCVD法により表1に示
す膜厚のSiO2膜を成膜した。その後、実施例1と同
様にしてAg電極を形成した後、着色の程度を調べ、結
果を表1に示した。
【0043】実施例7〜11 実施例1,2,3及び6において、ソーダライムガラス
基板上に金属イオン拡散防止膜を形成するに先立ち、表
1に示すような下地膜を形成した。
基板上に金属イオン拡散防止膜を形成するに先立ち、表
1に示すような下地膜を形成した。
【0044】下地膜は、実施例7〜10においては、酸
化物ターゲットを用いてRFモードのスパッタリング法
により20nmの膜厚に成膜した。実施例11において
は、比較例4と同様のCVD法により20nmの膜厚に
成膜した。
化物ターゲットを用いてRFモードのスパッタリング法
により20nmの膜厚に成膜した。実施例11において
は、比較例4と同様のCVD法により20nmの膜厚に
成膜した。
【0045】実施例7においては、下地膜としてSiO
2を形成した後、実施例1と同じ金属イオン拡散防止膜
を同様の方法で形成した。
2を形成した後、実施例1と同じ金属イオン拡散防止膜
を同様の方法で形成した。
【0046】実施例8においては、下地膜としてTiO
2を形成した後、実施例1と同じ金属イオン拡散防止膜
を同様の方法で形成した。
2を形成した後、実施例1と同じ金属イオン拡散防止膜
を同様の方法で形成した。
【0047】実施例9においては、下地膜としてSiO
2を形成した後、実施例2と同じ金属イオン拡散防止膜
を同様の方法で形成した。
2を形成した後、実施例2と同じ金属イオン拡散防止膜
を同様の方法で形成した。
【0048】実施例10においては、下地膜としてSi
O2を形成した後、実施例3と同じ金属イオン拡散防止
膜を同様の方法で形成した。
O2を形成した後、実施例3と同じ金属イオン拡散防止
膜を同様の方法で形成した。
【0049】実施例11においては、下地膜としてSi
O2を形成した後、実施例6と同じ金属イオン拡散防止
膜を同様の方法で形成した。
O2を形成した後、実施例6と同じ金属イオン拡散防止
膜を同様の方法で形成した。
【0050】その後、実施例1と同様にしてAg電極を
形成した後、着色の程度を調べ、結果を表1に示した。
形成した後、着色の程度を調べ、結果を表1に示した。
【0051】
【表1】
【0052】表1より、本発明によればAgイオンの拡
散によるAgコロイド着色が高度に抑制されることがわ
かる。特に、下地膜を形成した場合には、より一層この
効果が高められることがわかる。
散によるAgコロイド着色が高度に抑制されることがわ
かる。特に、下地膜を形成した場合には、より一層この
効果が高められることがわかる。
【0053】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、金
属イオンの拡散防止性能に優れ、金属コロイドによる着
色の問題のないガラス物品と、このようなガラス物品を
用いた高品質ディスプレイ用ガラス基板が提供される。
属イオンの拡散防止性能に優れ、金属コロイドによる着
色の問題のないガラス物品と、このようなガラス物品を
用いた高品質ディスプレイ用ガラス基板が提供される。
【0054】本発明のガラス物品は、ディスプレイ用基
板や自動車用リアガラス等として工業的に極めて有用で
ある。
板や自動車用リアガラス等として工業的に極めて有用で
ある。
【図1】本発明のガラス物品の実施の形態を示す断面図
である。
である。
【図2】本発明のガラス物品の他の実施の形態を示す断
面図である。
面図である。
【図3】本発明のガラス物品の別の実施の形態を示す断
面図である。
面図である。
【図4】本発明のガラス物品の異なる実施の形態を示す
断面図である。
断面図である。
1 ガラス基板 2 金属イオン拡散防止膜 3 絶縁膜 4 金属電極膜 5 下地膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 水野 俊明 大阪府大阪市中央区道修町3丁目5番11号 日本板硝子株式会社内 Fターム(参考) 4G059 AA08 AC20 AC24 EA02 EA03 EA04 EA05 EA12 EB04 GA01 GA02 GA04 GA12 5C040 GA09
Claims (8)
- 【請求項1】 アルカリ含有ガラス基板の表面に、酸化
インジウム及び/又は酸化スズを主成分とする金属イオ
ン拡散防止膜を形成してなるガラス物品。 - 【請求項2】 請求項1において、前記アルカリ含有ガ
ラス基板の表面に、アルカリイオン拡散防止下地膜を形
成し、該下地膜の上に前記金属イオン拡散防止膜を形成
したガラス物品。 - 【請求項3】 請求項1又は2において、該金属イオン
拡散防止膜の上に絶縁膜を形成したガラス物品。 - 【請求項4】 請求項3において、該絶縁膜の表面抵抗
が1.0×106〜1.0×1016Ω/□であるガラ
ス物品。 - 【請求項5】 請求項3又は4において、該絶縁膜の表
面抵抗が、550℃、1時間の熱処理後も1.0×10
6〜1.0×1016Ω/□であるガラス物品。 - 【請求項6】 請求項3ないし5のいずれか1項におい
て、該絶縁膜上に電極膜を形成したガラス物品。 - 【請求項7】 請求項6において、該電極膜がAgを含
む電極膜であるガラス物品。 - 【請求項8】 アルカリ含有ガラス基板の表面に、アル
カリイオン拡散防止下地膜、酸化インジウム及び/又は
酸化スズを主成分とする金属イオン拡散防止膜、絶縁膜
及び電極膜をこの順に形成したディスプレイ用ガラス基
板であって、該絶縁膜の表面抵抗が、550℃、1時間
の熱処理後も1.0×106〜1.0×1016Ω/□
であることを特徴とするディスプレイ用ガラス基板。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000343853A JP2001270740A (ja) | 2000-01-19 | 2000-11-10 | ガラス物品及びディスプレイ用ガラス基板 |
US09/755,047 US20010016253A1 (en) | 2000-01-19 | 2001-01-08 | Glass article and glass substrate for display panel |
TW090100755A TWI227505B (en) | 2000-01-19 | 2001-01-12 | Glass article and glass substrate for display panel |
NL1017143A NL1017143C2 (nl) | 2000-01-19 | 2001-01-18 | Glazen voorwerp en glassubstraat voor een beeldplaat. |
KR1020010003139A KR20010078017A (ko) | 2000-01-19 | 2001-01-19 | 유리 제품 및 디스플레이용 유리 기판 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000010562 | 2000-01-19 | ||
JP2000-10562 | 2000-01-19 | ||
JP2000343853A JP2001270740A (ja) | 2000-01-19 | 2000-11-10 | ガラス物品及びディスプレイ用ガラス基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001270740A true JP2001270740A (ja) | 2001-10-02 |
Family
ID=26583783
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2000343853A Pending JP2001270740A (ja) | 2000-01-19 | 2000-11-10 | ガラス物品及びディスプレイ用ガラス基板 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20010016253A1 (ja) |
JP (1) | JP2001270740A (ja) |
KR (1) | KR20010078017A (ja) |
NL (1) | NL1017143C2 (ja) |
TW (1) | TWI227505B (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005513738A (ja) * | 2001-12-20 | 2005-05-12 | アイファイア テクノロジー コーポレーション | エレクトロルミネセンスディスプレイの安定化電極 |
JP2007523038A (ja) * | 2004-02-19 | 2007-08-16 | サン−ゴバン グラス フランス | 金属被膜を受け取るように意図され、そのような被膜により起こりやすい着色に耐性のあるガラスプレート |
JP2007214003A (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Sanyo Shinku Kogyo Kk | 電子デバイスの基板、およびその基板に膜を形成するためのスパッタリング装置 |
JP2009541189A (ja) * | 2006-06-21 | 2009-11-26 | エージーシー フラット グラス ユーロップ エスエー | 抗菌性を持つ基板 |
JP2011221377A (ja) * | 2010-04-13 | 2011-11-04 | Ulvac Seimaku Kk | マスクブランクス、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20040099739A (ko) * | 2003-05-20 | 2004-12-02 | 오리온피디피주식회사 | 전극패드부에 하지막을 구비한 플라즈마 디스플레이 패널 |
JP2005175160A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Sanyo Electric Co Ltd | 光起電力装置 |
PL1828071T3 (pl) * | 2004-12-16 | 2011-07-29 | Agc Glass Europe | Proces wytwarzania substratu będącego rodzajem szkła o właściwościach przeciwbakteryjnych |
EP1818694A1 (en) * | 2006-02-14 | 2007-08-15 | DSMIP Assets B.V. | Picture frame with an anti reflective glass plate |
US10060180B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-08-28 | Cardinal Cg Company | Flash-treated indium tin oxide coatings, production methods, and insulating glass unit transparent conductive coating technology |
US9862640B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-01-09 | Cardinal Cg Company | Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
US10000411B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology |
US11155493B2 (en) | 2010-01-16 | 2021-10-26 | Cardinal Cg Company | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
CA2786872A1 (en) | 2010-01-16 | 2011-07-21 | Cardinal Cg Company | High quality emission control coatings, emission control glazings, and production methods |
US10000965B2 (en) | 2010-01-16 | 2018-06-19 | Cardinal Cg Company | Insulating glass unit transparent conductive coating technology |
US20120280373A1 (en) * | 2011-05-06 | 2012-11-08 | Jiangwei Feng | Active electronics on strengthened glass with alkali barrier |
CN102597858A (zh) * | 2011-11-29 | 2012-07-18 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶面板、oled显示面板、玻璃基板及其制作方法 |
WO2013078691A1 (zh) * | 2011-11-29 | 2013-06-06 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶面板、oled显示面板、玻璃基板及其制作方法 |
GB201617577D0 (en) | 2016-10-17 | 2016-11-30 | Pilkington Group Limited | Vehicle glazing |
US11028012B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-06-08 | Cardinal Cg Company | Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5466914A (en) * | 1977-11-08 | 1979-05-29 | Asahi Glass Co Ltd | Method of making metal oxide coated glass |
JPS5890604A (ja) * | 1981-11-25 | 1983-05-30 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 赤外線遮蔽積層体 |
JPS58209171A (ja) * | 1982-05-31 | 1983-12-06 | Toshiba Corp | 光起電力装置の製造方法 |
US4547400A (en) * | 1985-02-25 | 1985-10-15 | Ford Motor Company | Method of making infrared reflective glass sheet-I |
DE4130930A1 (de) * | 1991-09-13 | 1993-03-25 | Flachglas Ag | Vorsatzaggregat fuer bildschirme oder dergleichen |
JPH06191894A (ja) * | 1992-12-24 | 1994-07-12 | Asahi Glass Co Ltd | 電導性ガラス及びその製造方法 |
US5830252A (en) * | 1994-10-04 | 1998-11-03 | Ppg Industries, Inc. | Alkali metal diffusion barrier layer |
JPH09245652A (ja) | 1996-03-13 | 1997-09-19 | Dainippon Printing Co Ltd | プラズマディスプレイパネルの電極及びその形成方法 |
FR2748469B1 (fr) | 1996-05-07 | 1998-07-31 | Thomson Csf | Utilisation d'une barriere en nitrure pour eviter la diffusion d'argent dans du verre |
US5811923A (en) * | 1996-12-23 | 1998-09-22 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Plasma display panel with infrared absorbing coating |
JPH10202776A (ja) * | 1997-01-28 | 1998-08-04 | Central Glass Co Ltd | 透明積層体及びその製法 |
JPH10302648A (ja) | 1997-04-30 | 1998-11-13 | Asahi Glass Co Ltd | プラズマディスプレイ用ガラス基板 |
US6124026A (en) * | 1997-07-07 | 2000-09-26 | Libbey-Owens-Ford Co. | Anti-reflective, reduced visible light transmitting coated glass article |
JPH11109888A (ja) | 1997-10-03 | 1999-04-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 積層電極 |
JPH11130471A (ja) | 1997-10-24 | 1999-05-18 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス物品とその製造方法 |
JP3752390B2 (ja) * | 1998-10-07 | 2006-03-08 | 株式会社日立製作所 | 表示装置 |
-
2000
- 2000-11-10 JP JP2000343853A patent/JP2001270740A/ja active Pending
-
2001
- 2001-01-08 US US09/755,047 patent/US20010016253A1/en not_active Abandoned
- 2001-01-12 TW TW090100755A patent/TWI227505B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-01-18 NL NL1017143A patent/NL1017143C2/nl not_active IP Right Cessation
- 2001-01-19 KR KR1020010003139A patent/KR20010078017A/ko active IP Right Grant
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005513738A (ja) * | 2001-12-20 | 2005-05-12 | アイファイア テクノロジー コーポレーション | エレクトロルミネセンスディスプレイの安定化電極 |
JP2007523038A (ja) * | 2004-02-19 | 2007-08-16 | サン−ゴバン グラス フランス | 金属被膜を受け取るように意図され、そのような被膜により起こりやすい着色に耐性のあるガラスプレート |
JP2007214003A (ja) * | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Sanyo Shinku Kogyo Kk | 電子デバイスの基板、およびその基板に膜を形成するためのスパッタリング装置 |
JP2009541189A (ja) * | 2006-06-21 | 2009-11-26 | エージーシー フラット グラス ユーロップ エスエー | 抗菌性を持つ基板 |
JP2011221377A (ja) * | 2010-04-13 | 2011-11-04 | Ulvac Seimaku Kk | マスクブランクス、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20010078017A (ko) | 2001-08-20 |
NL1017143A1 (nl) | 2001-07-20 |
NL1017143C2 (nl) | 2002-04-23 |
US20010016253A1 (en) | 2001-08-23 |
TWI227505B (en) | 2005-02-01 |
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