JP2001226765A

JP2001226765A - 高耐熱性反射膜及びこの反射膜を用いた積層体

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Publication number: JP2001226765A
Application number: JP2000373602A
Authority: JP
Inventors: Takashi Ueno; 崇上野
Original assignee: Furuya Metal Co Ltd
Current assignee: Furuya Metal Co Ltd
Priority date: 1999-12-07
Filing date: 2000-12-07
Publication date: 2001-08-21
Anticipated expiration: 2020-12-07
Also published as: JP4615701B2

Abstract

(57)【要約】【課題】Ａｇ自体の保有する高い光学反射率に対しての
高い能力が保持され、更にはＡｇの材料的な安定性が格
段に改善され、しかも、積層されて用いられた場合では
下地層やガラス又は樹脂基板との接合性がより一層効果
的に強化され、反射膜上部にコート層を形成した場合、
光学特性の低下を抑制でき、実用上の効果が大きく、よ
り高い信頼性が得られる高耐熱性反射膜及びこの反射膜
を用いて製作される液晶表示素子用反射板、或いは建材
ガラス用反射膜等の積層体を提供する。【解決手段】Ａｇを主成分として、Ａｕ、Ｐｄ及びＲｕ
を０．１〜３．０ｗｔ％添加し、更にＣｕ、Ｔｉ、Ｃ
ｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａｌ、の内、少なくとも一種類
以上の元素を０．１〜３．０ｗｔ％添加してなるＡｇ合
金材料から形成し、用途に応じて単層、または複層で構
成することで温度や化学的に安定であり、様々な用途へ
の適用を可能とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子用反
射体、或いは建材ガラス用反射膜等の製作に使用される
高耐熱性反射膜に係り、特に高反射率を特徴とするＡｇ
合金からなる液晶表示素子構成用高耐熱性反射膜及びこ
の反射膜を用いて形成される液晶表示素子構成用積層体
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、建材ガラス用熱線反射膜や反
射型液晶表示素子用反射板にはＡｌ又はＡｌ合金、或い
はＡｇ及びＡｇ−Ｐｄに代表されるＡｇ合金等の様々な
材料が使用され、又、膜の積層によって高い反射率に加
えて機能性を向上させる等の検討がなされており、それ
を実現した製品が既に大変多くの分野や多種多様な方面
に用いられてきている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、４００〜４
０００ｎｍの光学波長領域において、高い反射率を特徴
とする反射膜や、この反射膜を用いて形成される反射型
液晶表示素子用反射板、反射電極層及び建材ガラス用赤
外線及び熱線を反射する反射膜としては、ＡｇやＡｌ若
しくはこれらの内、いずれかの元素を主成分とする合金
材料から形成された反射膜が幅広く知られているが、そ
れぞれに耐熱性に対しは決して優れているとは言えな
い。

【０００４】例えばＡｌやＡｇは熱に対しての耐熱性が
高く無く、特定温度では表面部が拡散し易いために、例
えば液晶表示素子用の反射板を製作する場合には、製作
プロセス中での温度雰囲気が制限される。更には建材ガ
ラス用の赤外線及び熱線反射膜に至っては大気中で夏季
に高温に曝されると、反射膜自体が化学的に変異（変
色）してしまう等、熱に対しての品質の安定性に問題が
あった。これは、反射率が可視光域（４００〜８００ｎ
ｍの光学波長領域）で最も高いＡｇ若しくはＡｇを主成
分とするＡｇ合金は短波長（４５０ｎｍ以下）では吸収
率および吸収係数が増加する為に黄色反射光が強く、液
晶表示素子及びそれを用いた携帯情報端末機器となった
際に必ずしも見栄えが良いとは言えなく、時間が経つに
つれて黄色化が進行することも懸念されている。

【０００５】又、反射率が高い材料としては、ＡｌやＡ
ｇ以外にＡｕが知られているが、Ａｕは価格的に大変高
価であるために建材窓ガラス用反射膜や液晶表示素子用
反射板に用いるにはコスト的な面から実用性が乏しいと
判断されている。

【０００６】又、反射率が高く、コスト的な面からも大
変安価で、実用性が高いとされるＡｌについては、ＰＭ
ＭＡ、シリコーン樹脂等の樹脂基板等を用いた場合に、
樹脂基板から析出されるガス成分に対して化学反応を起
こす虞れがあることから、ガスの放出作用が低い材料か
らなる基板にのみ有効と、基板材料が制限されてしまう
ばかりか、樹脂とのコンタクトを図る場合には材料の化
学的な安定性が懸念されてしまう等の不安、課題が残
る。

【０００７】更に、Ａｌ若しくはこれを主成分とするＡ
ｌ合金は、例えばＡｇ、Ａｇを主成分とするＡｇ合金と
比して光学的吸収が大きいために、半透過反射膜を形成
する際に光学特性として損失が大きいとされている。

【０００８】又、４００〜４０００ｎｍの可視及び赤外
域と称される光学波長領域中で、Ａｇは数多くの金属元
素中で最も光学反射率が高いために、高反射率を特徴と
する膜としては優れた特性を保有しているものと検討さ
れているが、熱に対しての自己拡散エネルギーが活発で
あるために、熱が印加された場合の経時変化が生じると
いう問題がある。そのために、一時的であっても１００
℃前後の熱が印加された場合には表面部に拡散現象が起
り、Ａｇ本来が保有する光沢を失って白濁化してしま
う。換言すれば、反射率が高いと言うＡｇ本来の特性が
大幅に低減してしまう。又、ガラスや樹脂製の基板上に
反射膜を形成した際には、Ａｇは大気中に放置される
と、大気中の湿気（主として水分）を吸収して黄色化し
てしまうために、反射率が高いと言うＡｇ本来の特性が
欠損させてしまう等の問題が生じ、高反射率であると言
う本来の特性を保持することができないと言った耐候性
に対しも決して優れているとは言えない。

【０００９】本発明はこの様な従来事情に鑑みてなされ
たもので、その目的とする処は、Ａｇ自体の保有する高
い光学反射率に対しての高い能力が保持され、更にはＡ
ｇの材料的な安定性が格段に改善され、しかも、積層さ
れて用いられた場合では下地層やガラス基板又は樹脂基
板との接合性がより一層効果的に強化され、より高い信
頼性が得られる高耐熱性反射膜と、この反射膜を用いて
製作される液晶表示素子用反射板、或いは建材ガラス用
反射膜等の積層体を提供することにある。

【００１０】

【課題を達成するための手段】課題を達成するために本
発明では、熱に対して安定であり、且つ容易に製作が可
能なＡｇを主成分として、Ａｕ、Ｐｄ及びＲｕのいずれ
か一種以上を０．１〜３．０ｗｔ％添加し、更にＣｕ、
Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｎｂの内、少な
くとも一種類以上の元素を０．１〜３．０ｗｔ％添加し
てなるＡｇ合金材料から形成し、用途に応じて単層、又
は複層で構成することで温度や化学的に安定であり、様
々な用途への適用を可能とした高耐熱性反射膜である。
そして、本発明においては、Ａｕ、Ｐｄ及びＲｕの好ま
しい添加量は０．７〜２．３ｗｔ％であり、特に好まし
くは０．９ｗｔ％である。又、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔ
ａ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｎｂの内、少なくとも一種類以
上の元素の好ましい添加量は０．５〜２．５ｗｔ％であ
り、特に好ましくは１．０ｗｔ％である。

【００１１】又、本発明では、上記のＡｇ合金材料が、
蒸着材料又はスパッタリングターゲット材料であり、蒸
着法又はスパッタリング法により形成される高耐熱性反
射膜である。

【００１２】又、本発明では、少なくとも一層以上の層
からなる上記高耐熱性反射膜を用いて形成してなる積層
体である。

【００１３】又、本発明では、上記高耐熱性反射膜を樹
脂基板上又はガラス基板上に、蒸着法又はスパッタリン
グ法により形成してなる積層体である。

【００１４】又、本発明では、上記樹脂基板又はガラス
基板と高耐熱性反射膜との間に、密着性を助長する下地
膜を形成してなる積層体である。

【００１５】又、本発明では、上記下地膜が、ＩＴＯ
（酸化インジウムと酸化錫の複合酸化物）、ＺｎＯ₂、
ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｒＯ₂から選ばれた少
なくとも一種、若しくはこれらを主成分とする二種類以
上の材料からなることである。又、上記下地膜が、Ｓ
ｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ａｌから選ばれた少なく
とも一種、若しくはこれらを主成分とする二種類以上の
材料からなることである。

【００１６】又、本発明では、上記積層体が、液晶表示
素子用反射板又は建材ガラスであることである。

【００１７】更に、本発明の積層構造にした際に、純Ａ
ｇについても上層と下層に特定の材料を用いた層を形成
してサンドイッチ構造にした場合には、従来に課題とさ
れている液晶表示素子の製造プロセス中の加熱プロセス
後に光学特性が損失したり、光学的吸収増加に伴う表面
状態の変化，変色等の課題を抑制することができること
である。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明の実施の具体例について説
明する。本発明では、まずＡｇの保有する熱に対しての
自己拡散エネルギーを緩和させて、任意で少なくとも１
００℃以上に加熱した場合に生じ易かった表面拡散によ
る白濁化、或いは表面形態の大幅な変異による吸収の増
加という現象を抑制することである。

【００１９】そして、Ａｇは大変熱伝導率が良く、原子
単位で熱を吸収・飽和させ易い特徴があるために、熱伝
導率を鈍化させて且つ原子間での活発な移動を抑制する
ために、Ａｇに対して全率固溶体を形成する原子である
Ａｕ、Ｐｄ及びＲｕを０．１〜４．０ｗｔ％任意で組成
を振って添加して実験して見た。まず、スパッタリング
装置にＡｇとＰｄのスパッタリングをそれぞれ装着し
て、特定のＲＦパワーでＡｇ、Ｐｄの放電量を制御し
て、Ａｒ（アルゴン）ガスを０．１〜３．０Ｐａの間で
任意に設定して、２つの材料を同時にスパッタする。つ
まり、同時スパッタリング法で数種類Ｐｄの添加量を振
って合金膜を形成した。この時、基板としては１００ｍ
ｍ×１００ｍｍ×１．１ｔの石英基板を用いて、スパッ
タ・プロセス中の基板温度は常温（２５℃前後）で、ス
パッタガスとしてはＡｒガスのみを用いて、到達真空度
としては３×１０Ｅ−６Ｐａという高真空雰囲気中で、
膜厚２０ｎｍで成膜した。高真空雰囲気中で成膜を行う
理由としては、不純物ガス等が合金膜の粒界に依存して
しまうのを抑制して、緻密な膜を形成することで材料本
来の物性を確認しようとするためである。

【００２０】上記方法にて形成したＡｇを主成分とし
て、それに数種類の添加組成でＡｕ、Ｐｄ及びＲｕを添
加したＡｇ合金薄膜を、大気中でホットプレート上に乗
せて約２時間放置して、白濁化の有無と白濁化が開始さ
れた温度を観察して見た。この時のホットプレートの加
熱方法としては、抵抗加熱式を採用し、加熱温度を２５
０℃、加熱速度を２０℃／ｍｉｎに設定した。その試験
結果を表１に示す。

【００２１】

【表１】

【００２２】一般的に、Ａｕ、Ｐｄ及びＲｕを添加する
と、Ａｇの保有する高温及び高湿（多湿）環境下での耐
候性の無さが改善されることはよく知られているが、熱
を印加した場合の耐表面拡散性については、表１の様に
顕著な差異を確認することはできなく、Ａｕ、Ｐｄ及び
Ｒｕの添加による白濁化の低減については、純Ａｇと比
較して顕著な優位性を確認することはできなかった。
又、反射率は、加熱する前と比較して、加熱後において
２〜３％程度低下することが確認されたために、Ａｕ、
Ｐｄ及びＲｕ添加による表面拡散防止効果は確認するこ
とができなかった。

【００２３】実施例１そこで、本発明では主成分となるＡｇに、０．１〜３．
０ｗｔ％Ａｕ、Ｐｄ及びＲｕを添加し、更にＣｕ、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｎｂの内、少なく
とも一種類以上の元素を添加して、少なくとも三元素以
上の元素からなるＡｇ合金から薄膜を形成して、熱によ
る表面拡散の抑制を検討して見た。この時のＣｕ、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｎｂの内、少なく
とも一種類以上の元素の添加量は０．１〜３．０ｗｔ％
である。薄膜の成膜方法としては、Ａｇに加えて、Ａ
ｕ、Ｐｄ及びＲｕのいずれか一種、更にはＣｕ、Ｔｉ、
Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｎｂの内のいずれかの
スパッタリングターゲット材料より一種類選択してＲＦ
マグネトロンスパッタリング装置に装着し、前記３つの
金属元素を同時スパッタリングすることで、Ａｇ合金薄
膜を作成した。この時、基板としては１００ｍｍ×１０
０ｍｍ×１．１ｔの石英基板を用いて、スパッタ・プロ
セス中の基板温度は常温（２５℃前後）で、スパッタガ
スとしてはＡｒ（アルゴン）ガスのみを用いて、到達真
空度としては３×１０Ｅ−６Ｐａという高真空雰囲気中
で、膜厚は前述したＡｇ−Ｐｄからなる二元合金と同様
に２００ｎｍにて形成した。

【００２４】この方法で、主成分となるＡｇに、Ａｕ、
Ｐｄ及びＲｕのいずれか一種以上を０．１〜３．０ｗｔ
％添加し、更にＣｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｍｏ、
Ａｌ、Ｎｂの内、いずれか一種以上を０．１〜３．０ｗ
ｔ％添加してなるＡｇ合金を石英基板上に膜厚２００ｎ
ｍで成膜して、それを２５０℃に設定保持されたホット
プレート上に置いて２時間放置して見た。その試験結果
を表２及び表３〜表７に示す。

【００２５】

【表２】

【００２６】

【表３】

【００２７】

【表４】

【００２８】

【表５】

【００２９】

【表６】

【００３０】

【表７】

【００３１】すると、純Ａｇ或いはＡｇにＡｕ、Ｐｄ及
びＲｕのいずれかを０．１〜３．０ｗｔ％添加されたＡ
ｇ合金では、少なからず膜の表面部が白濁化して反射率
が低下してしまったが、Ａｇを主成分としてＡｕ、Ｐｄ
及びＲｕのいずれか一種以上を０．１〜３．０ｗｔ％添
加し、更に第三元素としてＣｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎ
ｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｎｂの内、いずれか一種以上を０．１
〜３．０ｗｔ％添加してなる三元素のＡｇ合金では、白
濁化現象や反射率の低下が表２及び表３〜表７から分か
るように、全ての組成範囲で観察されなかった。

【００３２】そこで、２５０℃で加熱した様々な組成範
囲で形成されるＡｇ合金膜が堆積された石英基板を、更
に４００℃に加熱されたホットプレート上に２時間放置
して見た場合、何れの組成範囲においても白濁化や反射
率の低下が観察されなかった。

【００３３】又、Ａｕ、Ｐｄ及びＲｕを全く添加せずに
Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｎｂの
内、いずれか一種以上を０．１〜３．０ｗｔ％添加して
なる二元素のＡｇ合金膜を前述の通り、スパッタリング
法により同時に石英基板に膜厚１５ｎｍにて形成して、
同じく２５０℃と４００℃の両方で加熱して経時変化を
観察したところ、全ての膜が白濁化、そして反射率が低
下してしまうことが確認された。

【００３４】この様に、主成分とするＡｇに、０．１〜
３．０ｗｔ％のＡｕ、Ｐｄ及びＲｕのいずれか一種以上
を添加し、更に第三の元素として０．１〜３．０ｗｔ％
のＣｕ、Ａｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｍｏの内、いずれか
一種類を添加してなる三元素のＡｇ合金にすることによ
り、耐熱性の改善が認められ、しかも、高い反射率を低
下させること無く維持できることが分かった。

【００３５】実施例２次に、近年、例えば低消費電力であることで携帯電話等
の携帯情報端末機器に有用性が高いとされている反射型
液晶表示素子の反射板や、反射率が高いことを特徴とす
る反射配線電極としての有用性を検討して見た。

【００３６】従来の反射型液晶表示素子の反射板や反射
配線電極にはＡｌやＡｌで課題となっているヒロックと
呼称される薄膜となった際の凹凸の発生や、膜や反射配
線電極の断面部の劣化現象を抑制するＡｌを主成分とす
るＡｌ合金が採用されているが、Ａｌ若しくはＡｌ合金
では、熱に対しての安定性こそは極端に問題になっては
いないものの、例えば有機材料であるレジスト液を塗布
してパターニングした後に、パターン形成されたＡｌ若
しくはＡｌ合金をアルカリ溶液で洗浄してレジスト材を
除去しようとする場合には、膜の表面部が荒れてしまっ
て反射率が低下したり光の散乱現象が生じたりすること
が問題とされてきた。

【００３７】そこで、本発明ではＡｇを主成分としてＡ
ｕ、Ｐｄ及びＲｕのいずれか一種以上を０．１〜３．０
ｗｔ％添加し、更にＣｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｍ
ｏ、Ａｌ、Ｎｂの内、いずれか一種以上を０．１〜３．
０ｗｔ％添加してなる三元素からなるＡｇ合金によって
形成された反射膜に、前述と同様にレジスト液を塗布し
てパターン形成後にアルカリ溶液で洗浄する耐蝕試験を
行った。その試験結果を表８〜表１３に示す。

【００３８】

【表８】

【００３９】

【表９】

【００４０】

【表１０】

【００４１】

【表１１】

【００４２】

【表１２】

【００４３】

【表１３】

【００４４】表８〜表13から明らかなように、何れの組
成範囲においても反射率の低下が全く確認されなかっ
た。この様に、少なくともＡｇを主成分としてＡｕ、Ｐ
ｄ及びＲｕを０．１〜３．０ｗｔ％添加し、更にＣｕ、
Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｎｂの内、いず
れか一種以上を０．１〜３．０ｗｔ％添加してなる三元
素からなるＡｇ合金によって形成される膜はアルカリ液
に対して、ＡｌやＡｌを主成分とする従来のＡｌ合金と
比して、反射率の低下が無く、安定していることが分か
った。又、反射型液晶表示素子用の反射板や反射配線電
極に対して、高い反射率を保有し、更にはアルカリ溶液
に対しての化学的、或いは品質的な安定性も従来と比し
て高くなることが分かった。

【００４５】そして、反射型液晶表示素子では、反射板
や反射配線電極の特徴である反射率が高いということ
で、光源に投入される電力量が低減することができ、更
には液晶表示素子自体の照度が約２０％程度向上するた
めに、少なくとも液晶表示素子で基準とされる５００〜
８００ｎｍ（５６５ｎｍ）の光学波長領域で、Ａｇを主
成分として３元素で構成されるＡｇ合金はＡｌと比較す
ると、表１４〜表１９から明らかなように、０．５〜
３．０％反射率が向上されるために、従来のＡｌやＡｌ
合金での課題が解決され、且つ反射率が高いために大変
有用性が高いことが分かった。

【００４６】

【表１４】

【００４７】

【表１５】

【００４８】

【表１６】

【００４９】

【表１７】

【００５０】

【表１８】

【００５１】

【表１９】

【００５２】又、窓ガラスを始めとする建材ガラスで
は、太陽光から発せられる可視光、赤外線、紫外線の内
で、明かりに直接関係の高い可視光を透過して、且つ熱
の元になって夏季に室内に外部から進入する赤外線を反
射する目的で、ＡｇやＡｌ、若しくはそれらの内、いず
れかを主成分としたＡｇ合金又はＡｌ合金からスパッタ
リング法にて膜を形成して、赤外反射効果を実現してき
たが、いずれも大気中に直接暴露された場合には熱に対
して経時変化が大きいために、そのまま大気中に放置す
ることが困難とされており、一般的にはＺｎＯ₂やＺｎ
Ｏ₂−Ａｌ₂Ｏ₃複合酸化物等の耐熱保護層を形成するこ
とで反射膜の材料的な安定性を確保してきた。

【００５３】これまでは耐食性及び耐熱性に富んでいる
Ａｇ合金としては従来はＡｇに１〜３ｗｔ％のＰｄを添
加されてなるＡｇ−Ｐｄ合金、Ａｇに１〜１０ｗｔ％の
Ａｕを添加されてなるＡｇ−Ａｕ合金、更にはＡｇに１
〜１０ｗｔ％のＲｕを添加されてなるＡｇ−Ｒｕ合金が
広く知られているが、このＡｇ−Ｐｄ合金、Ａｇ−Ａｕ
合金及びＡｇ−Ｒｕ合金のいずれの合金を用いて形成し
た合金膜でも、高温高湿（多湿）環境下で耐候性試験を
行った際に、黒色の斑点が観察できた。

【００５４】そのため、この黒色斑点物を光学顕微鏡で
観察して見たところ、この黒色の斑点物がＰｄのＨ2融
解作用の固溶限界になり、黒色化して励起反応を起こし
て隆起物となっていることが確認できた為に、少なくと
も建材ガラスとして用いる場合では、例えば雨季や冬季
に室内外の温度差によって生じる水滴、或いは湿度の高
い地域化での長期信頼性に対しては安定性が欠けると言
うことが分かった。

【００５５】又、ＡｇとＡｕは全率固溶する安定な合金
であることはよく知られているが、このＡｇ−Ａｕ合金
膜は塩素をはじめとする耐ハロゲン系元素性に決して富
んではいないために、耐候性試験中に空気が混入してお
り、空気内に含有する塩素やヨウ素と原子的に結合した
ことでこの様な黒色斑点が得られたことが分かった。

【００５６】実施例３又、Ａｇ−Ｐｄの２元合金は耐熱性が高くないことが、
前述の表１で示されているために、外気の温度が高かっ
たり、太陽光から集中する熱線に対して安定性に問題が
あることが確認されている。

【００５７】そこで、本発明では耐熱性が高いことが確
認されているＡｇを主成分としてＡｕ、Ｐｄ及びＲｕを
０．１〜３．０ｗｔ％添加し、更にＣｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、
Ｔａ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｎｂの内、いずれか一種類を
０．１〜３．０ｗｔ％添加してなる三元素からなるＡｇ
合金が高温高湿（多湿）の環境下での耐候性について、
安定性が少なくともＡｇ−Ｐｄ合金、Ａｇ−Ａｕ合金及
びＡｇ−Ｒｕ合金と比較してどの様な結果が得られるか
を実験してみた。

【００５８】この方法として、３元同時スパッタリング
法で無アルカリガラス，低アルカリガラス，硼珪酸ガラ
ス，石英基板の全ての基板上に、三元素からなるＡｇ合
金を形成して、それを温度９０℃、湿度９０％の雰囲気
中で経時変化の発生の有無を確認して見た。この時、全
ての基板に対してＡｇを主成分としてＰｄを０．１〜
３．０ｗｔ％添加し、更にＣｕ、Ａｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔ
ａ、Ｍｏの内、いずれか一種類を０．１〜３．０ｗｔ％
添加してなる三元素からなるＡｇ合金を直接形成したも
のと、例えばＩＴＯ、ＺｎＯ₂、ＺｎＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃ 複
合酸化物、ＳｉＯ₂等を形成して得たものとを同時に耐
候性の試験を行った。同時に、Ａｇ合金自体と下地膜を
形成してその下地膜の上にＡｇ合金を形成した場合とで
差異があるかどうかを合わせて確認した。

【００５９】すると、Ａｇを主成分としてＡｕ、Ｐｄ及
びＲｕのいずれか一種以上を０．１〜３．０ｗｔ％添加
して、更にはＣｕ、Ａｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｍｏの
内、いずれか一種類を０．１〜３．０ｗｔ％添加してな
る三元素からなるＡｇ合金によって形成された反射膜単
層の場合でも、Ａｇを主成分として三元素から構成され
るＡｇ合金の下地にＩＴＯ、ＺｎＯ₂、ＳｉＯ₂を形成し
て積層体になった場合でも、Ａｇ合金単層と比較して耐
候性が高いことが確認できた。

【００６０】この結果として、Ａｇを主成分としてＰｄ
を０．１〜３．０ｗｔ％添加して、更にはＣｕ、Ｔｉ、
Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｎｂの内、いずれか一
種類を０．１〜３．０ｗｔ％添加してなる三元素からな
るＡｇ合金膜では、それを上層として基板との間に任意
で酸化物を形成した場合でも下地に依存すること無く、
耐熱性が高く、更には反射率や耐候性を保持することが
確認され、例えば窓ガラスをはじめとする建材ガラス用
の赤外線反射膜，熱線反射膜としては従来のＡｇ−Ｐ
ｄ、Ａｇ−Ａｕ及びＡｇ−Ｒｕ二元合金と比して有用性
が高いことが確認できた。

【００６１】対照的に、従来から反射膜として広く用い
られてきた従来のＡｌやＡｌを主成分とするＡｌ合金、
更にはＡｇやＡｇ−Ｐｄ合金については、いずれも樹脂
基板に対して化学的に不安定であるために、樹脂基板上
で高温高湿環境下に放置すると、反射膜と樹脂基板との
接着界面で化学反応を生じてしまい、樹脂基板に対して
は材料の化学的安定性に問題があることが分かった。

【００６２】そこで、本発明ではＡｇを主成分としてＡ
ｕ、Ｐｄ及びＲｕのいずれか一種以上を０．１〜３．０
ｗｔ％添加し、更にＣｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｍ
ｏ、Ａｌ、Ｎｂの内、少なくとも一種類以上の元素を合
計で０．１〜３．０ｗｔ％添加してなる３元素以上から
構成されるＡｇ合金膜の材料の化学的安定性を確認する
ために、ＰＭＭＡ、ＰＥＴ、ＰＣ、シリコーン等の樹脂
で構成される基板上に、これまでと同様に三元同時スパ
ッタリング法にて１５ｎｍの厚みの薄膜を形成して、高
温高湿（多湿）の環境下で２４時間放置してその外観や
反射特性の経時変化を観察して見た。その結果を表２０
〜表２５に示す。

【００６３】

【表２０】

【００６４】

【表２１】

【００６５】

【表２２】

【００６６】

【表２３】

【００６７】

【表２４】

【００６８】

【表２５】

【００６９】表２０〜表２５から明らかなように、２４
時間放置後でも材料に従来問題であった経時変化が観察
されなかったために、様々な樹脂基板上に形成したＡｇ
を主成分としてＡｕ、Ｐｄ及びＲｕのいずれか一種以上
を０．１〜３．０ｗｔ％添加し、更にＣｕ、Ｔｉ、Ｃ
ｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａｌ、の内、いずれか一種類以
上を０．１〜３．０ｗｔ％添加してなる三元素からなる
Ａｇ合金膜の反射率を分光光度計を用いて観察してみた
が、反射型液晶表示素子で有用とされる５６５ｎｍの光
学波長領域や、建材ガラス等で必要とされる４００ｎｍ
〜４μｍの光学波長領域中では反射率の低下が確認され
なかった。この様に、本発明によって得られたＡｇを主
成分とする三元合金は、樹脂に対して化学的安定性が高
く、従来と比して基板材質を制限しないことが分かっ
た。

【００７０】実施例４又、従来、建材ガラス用の赤外線反射膜若しくは熱線反
射膜、及び反射型液晶表示素子用反射板においては、Ａ
ｇ若しくはＡｌ、更にはＡｇを主成分とするＡｇ合金材
料や、Ａｌを主成分とするＡｌ合金材料が用いられてき
たことはこれまでに記述したが、これらの材料はその材
料を用いて膜を形成する際に、基板の材質によっては密
着性が大変悪いため、膜を形成した直後、或いは膜を形
成して長期放置してその経時変化を観察した場合では、
剥離等の問題が生じてしまうなどの問題も多かった。そ
のため、密着性を向上させるために様々な密着助長膜を
反射膜と基板との中間に挟むことで、従来は密着性が弱
いという問題に対する解決がなされてきた。

【００７１】そこで、本発明によって得られたＡｇを主
成分として、少なくとも三元素以上で構成される合金材
料の膜でも同様の問題が生じるかどうかを、ＰＭＭＡ、
ＰＥＴ、ＰＣ、シリコーン、低アルカリガラス、無アル
カリガラス、硼珪酸ガラスの基板上にＲＦスパッタリン
グ法で直接Ａｇ合金反射膜を形成した後に、反射膜にＪ
ＩＳ規格のセロハンテープを貼付して、特定の引っ張り
力でセロハンテープを剥離して膜の剥離の有無を観察す
るというテープ試験を行い。更にその積層体を靭刃で碁
盤目状にカッティングした後、純水の入ったビーカーに
浸水した後にビーカー内の純水に超音波を引加すること
で膜の耐剥離性を確認することを試みた。この際に、超
音波の引加条件は発信周波数50KHｚ、電気的出力100Wで
測定した。この超音波剥離試験後に４０倍顕微鏡で膜の
剥離性を観察し、中間層の必要性を確認して見た。

【００７２】この場合には、ＰＭＭＡ、ＰＥＴ、ＰＣ、
シリコーン、アクリル系樹脂で実験を行ったところで
は、全く剥離が確認できなかったために、従来のＡｇ、
Ａｌ若しくはどちらかの元素を主成分とする合金材料と
比して、樹脂基板に対しての密着強度が大変高くなった
ことが分かった。しかし、低アルカリガラス，無アルカ
リガラス，硼珪酸ガラスおよび石英ガラス等のガラス基
板上に、ＲＦスパッタリング法で形成した本発明のＡｇ
合金反射膜は、程度に差異こそ発見されるものの、密着
性が決して良いとは言えず、部分的或いは広域にわたっ
て剥離現象が確認されて、ガラス基板との密着性が決し
て良好ではないことが確認された。

【００７３】そこで、ガラス基板材料との密着強度の向
上，或いは反射膜の反射率欠損が生じることなく、安定
して反射能力の向上を実現する為に、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔ
ｉ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ａｌ、ＩＴＯ（酸化Ｉｎと酸化Ｓｎの
複合酸化物）、ＺｎＯ₂ 、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ
₂Ｏ₅、ＺｒＯ₂ 等をＰＭＭＡ、ＰＥＴ、ＰＣ、シリコー
ン、アクリル系樹脂、低アルカリガラス、無アルカリガ
ラス、硼珪酸ガラス、石英ガラスの基板上にＲＦスパッ
タリング法で形成した後、Ａｇを主成分とし、Ａｕ、Ｐ
ｄ及びＲｕのいずれか一種以上を０．１〜３．０ｗｔ％
添加し、更にＣｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａ
ｌ、Ｎｂの内、いずれか一種類以上を０．１〜３．０ｗ
ｔ％添加してなる三元素からなるＡｇ合金膜を同様にス
パッタリング法にて形成した。この積層の最上部に堆積
される反射膜に、前記と同様にＪＩＳ規格のセロハンテ
ープを貼付して、特定の引っ張り力でセロハンテープを
剥離して膜の剥離の有無を観察するというテープ試験を
行い。更にその積層体を靭刃で碁盤目状にカッティング
した後、純水の入ったビーカーに浸水した後にビーカー
内の純水に超音波を引加することで膜の耐剥離性を確認
することを試みた。この際に、超音波の引加条件は発信
周波数50KHｚ、電気的出力100Wで測定した。この超音波
剥離試験後に４０倍顕微鏡で膜の剥離性を観察し、中間
層の必要性を確認して見た。

【００７４】すると、いずれの積層体においても表２６
に示すように、全く剥離が観察されなかったため、その
剥離試験に用いた基板を分光光度計にて反射率の変動の
有無を観察したところ、表から分かるように、特定中間
層を用いた場合においては、単なる密着性の向上にのみ
ならず、表２７に示す通りに反射特性を助長する効果が
得られることが確認できた。

【００７５】

【表２６】

【００７６】

【表２７】

【００７７】この場合に、前述した各種のガラス基板の
密着助長下地膜としては、Ｓｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｃ
ｒ、Ａｌ、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＭｇＯ、Ｉ
ＴＯ、ＺｎＯ₂、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｒＯ₂
あるが、樹脂基板上で検討する場合にはＩＴＯ、ＺｎＯ
₂、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｒＯ₂等の金属酸化
物薄膜が望ましい。その理由としては、樹脂基板は特定
の純度や材質の場合にはガスの発生が大変多い。又、金
属はその発生ガスと反応が強い。又、Ａｇ合金と密着さ
せる接合界面に反応浮動体被膜（例えば酸化膜等）を生
じる可能性が高い等から適切であるとは検討し難い。

【００７８】そのために、樹脂基板上に下地層を形成す
る場合では、特に化学的な安定性が要求されるために、
少なくとも金属に比して金属酸化物の方が還元反応を抑
制し易いために、本発明のＡｇ合金との接合界面での化
学的もしくは品質的な安定性は高いために、樹脂基板を
用いて、Ａｇを主成分として三元素からなる前述したＡ
ｇ合金膜と基板との間で中間層として下地膜を形成する
場合には、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＭｇＯ、Ｉ
ＴＯ、ＺｎＯ₂、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｒＯ₂
等の金属酸化物を用いることが適切である。

【００７９】中間層として検討する金属酸化物において
は、例えば反射電極層等の電気的な特性向上を兼ね備え
る場合には、ＩＴＯ、ＺｒＯ₂等の導電性金属酸化物、
若しくは複合酸化物を１〜１０ｎｍ程度形成することが
望ましい。選択の理由としては、密着性の向上以外の効
果としては、例えば絶縁性の高い中間層を挟んだ場合に
は、本発明のＡｇ合金と中間下地層の積層体自体の体積
抵抗率が大幅に向上して、中間層によってＡｇ合金の特
性が損なわれる可能性が高いためである。

【００８０】又、中間下地層として金属酸化物を検討す
る場合においては、反射率や屈折率等の光学特性の低下
抑制を検討する場合においては、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、
Ｎｂ₂Ｏ₅、ＭｇＯ、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｚｒ
Ｏ₂等が望ましいと考えられる。この理由としては、Ｓ
ｉＯ₂は吸収が４００〜４０００ｎｍの光学波長領域中
では大変少ない為に、吸収率の増加による反射率の低下
が抑制でき、更にＩｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｍｇ
Ｏ、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｒＯ₂については表２８に代
表されるようにいずれも屈折率が高く吸収率が小さいた
めに、屈折率の依存による光学特性の変異が抑制できる
ことが確認できたためである。

【００８１】

【表２８】

【００８２】更には、スパッタリング法で密着助長下地
膜を形成する場合には、スパッタリング法が真空雰囲気
中で行われるに際して、装置内雰囲気を真空にすること
での品質的に安定になる膜が形成できるため、例えば樹
脂基板を用いる場合では大気から真空への切り替え中
に、基板よりガスを発生するために、真空度が上がら
ず、更には樹脂基板と密着助長層との界面も不安定にな
り易いために、少なくとも本発明のＡｇ合金を樹脂基板
上に形成する場合においては、蒸着法による膜形成が望
ましいと考えられる。

【００８３】但し、液晶表示素子に用いるガラス基板や
建材ガラス用のガラス基板としては、大型であるという
ことと、形成する膜の緻密さや膜の厚みの面内分布が大
変重要であるために、スパッタリング法が望ましいとい
うことが分かった。

【００８４】密着助長を目的とする中間下地膜を検討す
る上で重要な課題としては、容易に膜の形成が可能であ
るかどうかと言う点であるが、例えばＳｉ、Ｔａ、Ｔ
ｉ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ａｌ等の金属膜は、蒸着法、スパッタ
リング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法のいずれ
でも膜の製作が可能であるために、少なくともＡｇ合金
を製作する方法と連動することが可能であるために、汎
用的な有用性は高いと検討することができる。

【００８５】又、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｍｇ
Ｏ、ＩＴＯ、ＺｎＯ₂、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、
ＺｒＯ₂等の酸化物においても、蒸着法、スパッタリン
グ法，イオンプレーティング法で容易に形成することが
可能であり、例えば窓ガラス等に赤外線を反射する赤外
反射膜を形成する場合に、いずれの方法でも同じ反射特
性を有する反射膜を形成することができた。

【００８６】実施例５次に、本発明によって得られたＡｇを主成分として、
少なくとも三元素以上で構成される合金材料反射膜及び
Ａｇ反射膜の更なる品質及び特性の向上を目的として、
反射膜上部にＩｎ₂Ｏ₃を主成分として、ＳｎＯ₂、Ｎｂ₂
Ｏ₅、ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、Ｔａ₂Ｏ₅のいずれか一種以上を
添加してなる合金膜によるコート層を形成することで、
反射膜の耐熱性の向上及び反射率の低下抑制を図った。

【００８７】表２９より、反射膜の加熱後の吸収率は増
加し、品質が悪化することがわかる。そこで、耐熱性を
目的として上部にコート層を形成した場合の実験結果を
表３０〜表３２に示すこととする。

【００８８】

【表２９】

【００８９】

【表３０】

【００９０】

【表３１】

【００９１】

【表３２】

【００９２】表３１より、本発明によって得られた反射
膜に本発明のコート層を形成した場合、加熱後の吸収率
は、コート層を形成しない場合に比べて著しく低減され
ており、比較対照としてのコート層である表３０のＳｉ
Ｏ₂コート層、表３２のITOコート層に比べて吸収率が低
いことがわかる。

【００９３】又、前述した密着助長下地膜の上部に本発
明により得られたＡｇ合金反射膜、若しくは純Ａｇ反射
膜を形成し、更にその上に前述したコート層を形成した
３層にて構成される積層体では、液晶表示素子を製造す
る工程中に基板に加わる２５０℃程度の温度で焼成した
場合の光学特性は、前述表２９〜３２と変わりがなく、
又密着性も表２６と変わりなく良好であり、密着性、光
学特性の両方を備えた積層体が得られる。

【００９４】表３３より、３層構造においても、コート
層による光学特性は衰えないばかりか、コート層に例え
ばＩｎ₂Ｏ₃を主成分としてＮｂ₂Ｏ₅を１〜30ｗｔ％添加
したＩｎ₂Ｏ₃＋Ｎｂ₂Ｏ₅の複合酸化膜を用いた場合で
は、液晶表示素子を製造する工程中に基板に加わる２５
０℃程度の温度で焼成した場合に、加熱前と比して1％
〜6％程度反射率が向上して吸収率が低減する相乗効果
についても確認できた。この際に、Ａｇを主成分とする
Ａｇ合金および純Ａｇ反射膜の上部に形成するコート層
の膜厚が薄くても良好な光学特性が得られることが表３
３よりわかる。

【００９５】

【表３３】

【００９６】

【表３４】

【００９７】

【発明の効果】本発明の高耐熱性反射膜は、Ａｇ、Ａｌ
と比較して、熱エネルギーによる表面粒子間の移動が活
発でないために、表面拡散が発生し難いために耐熱性に
富んでいることが分かる。例えば反射膜として用いた
り、それを形成する工程において加熱されたり、或いは
気候によって反射膜に熱が印加された場合でも、反射率
の低下を回避することができる。よって、安定した高反
射率を特徴とする高耐熱性反射膜を得ることができた。

【００９８】又、本発明の高耐熱性反射膜を用いて形成
した積層体、例えば建材ガラス用熱線・赤外線反射膜、
及び反射型液晶表示素子用反射板においては、耐熱性が
高く、反射率も高く、更にアルカリ系の有機材料に対し
て安定で、更には樹脂基板を用いる場合にその基板から
の脱ガスに対しても化学的に安定であるために、高品質
な製品を形成することができる。

【００９９】又、本発明のＡｇ合金膜を用いて高耐熱性
反射膜を形成する場合に、例えば基板と反射膜との間
に、密着性及び光学特性の向上を目的として下地層を形
成して積層体となった場合でも、熱に対しての安定性が
劣化することが無く、更には純Ａｇ及びＡｇ合金膜のい
ずれの場合においても光学特性の著しい低下も確認する
ことは出来ず、積層構造とされた場合でも品質が劣化す
ることが無い。

【０１００】又、本発明では反射膜の上部に光学特性の
向上を目的としてコート層を形成して積層体とした場
合、純Ａｇ及びＡｇ合金膜のいずれの場合においても熱
に対しての反射率の低下を抑制することが出来、更には
短波長での吸収率が低減される。

【０１０１】又、反射膜の上部に光学特性の向上を目的
としてコート層を形成し、基板と反射膜との間に、密着
性及び光学特性の向上を目的として下地層を形成した３
層以上の積層体とした場合、反射膜が純Ａｇ及びＡｇ合
金膜のいずれの場合においても熱に対しての安定性が劣
化することが無く、更には光学特性の著しい低下を抑制
でき、品質が劣化することが無い。よって、これによ
り、本発明の反射膜の特性が最大限に生かされる。

【０１０２】又、本発明のＡｇ合金膜を形成する場合に
は、スパッタリング法および蒸着法のいずれの場合であ
っても目的や用途、もしくは基板の種類に応じて安定し
て同じ特性を得ることがわかり、例えば膜の形成方法に
よる品質の差異が生じない。

【０１０３】従って、本発明によれば、Ａｇを主成分と
してＡｕ、Ｐｄ及びＲｕのいずれか一種以上を０．１〜
３．０ｗｔ％添加し、更にＣｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎ
ｉ、Ｍｏ、Ａｌ、の内、いずれか一種類以上を０．１〜
３．０ｗｔ％添加してなる三元素からなるＡｇ合金を用
いることで、Ａｇ自体の保有する高い光学反射率に対し
ての高い能力が保持され、更にはＡｇの材料的な安定性
が格段に改善されることが確認された。しかも、積層さ
れて用いられた場合では、下地層やガラス基板又は樹脂
基板との接合性がより一層効果的な強化され、また、反
射膜上部にコート層を形成した場合、純Ａｇ及びＡｇを
主成分としてＡｕ、Ｐｄ及びＲｕのいずれか一種以上を
０．１〜３．０ｗｔ％添加し、更にＣｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、
Ｔａ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａｌ、の内、いずれか一種類以上を
０．１〜３．０ｗｔ％添加してなる三元素からなるＡｇ
合金に対しても光学特性の低下を抑制でき、より高い信
頼性が得られる高耐熱性反射膜と、この反射膜を用いて
製作される液晶表示素子用反射体、或いは建材ガラス用
反射膜等の積層体を提供することができた。

【０１０４】前述に記す積層体を用いて製作される液晶
表示素子では、例えばＡｌやＡｌを主成分とする反射膜
を用いた場合と比して光学反射率が高く、更に光学吸収
率が少ない為に光学的損失が少ない素子を形成すること
ができる。このため、例えばガラス基板の背面基板に反
射体を堆積してその上部にカラーフィルター，偏向膜，
液晶膜，偏向膜，透明導電膜，上部ガラス基板と言う構
成で液晶表示素子を形成する場合に本発明で得られる積
層体を反射体部位に置換して液晶表示素子を形成する場
合に、液晶表示素子の光学損失が少ないために、Ａｌや
Ａｌ合金を反射体に用いる場合と比して輝度の向上を実
現する事が実現されて、更にはそれを用いた携帯情報端
末機器の表示部として品質の高い製品を形成することが
可能になった。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】主成分となるＡｇに、Ｐｄを０．１〜
３．０ｗｔ％添加してなるＡｇ合金材料から形成してな
ることを特徴とする高耐熱性反射膜。
【請求項２】主成分となるＡｇに、Ａｕ、Ｐｄ及びＲ
ｕのいずれか一種以上を０．１〜３．０ｗｔ％添加し、
更にＣｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｎｂ
の内、少なくとも一種類以上の元素を０．１〜３．０ｗ
ｔ％添加してなるＡｇ合金材料から形成してなることを
特徴とする高耐熱性反射膜。
【請求項３】請求項１又は２記載のＡｇ合金材料が、
蒸着材料であり、蒸着法により形成してなることを特徴
とする高耐熱性反射膜。
【請求項４】請求項１又は２記載のＡｇ合金材料が、
スパッタリングターゲット材料であり、スパッタリング
法により形成してなることを特徴とする高耐熱性反射
膜。
【請求項５】請求項１乃至４いずれか１項に記載の少
なくとも一層以上の層からなる高耐熱性反射膜を用いて
形成してなることを特徴とする積層体。
【請求項６】請求項１乃至４いずれか１項に記載の高
耐熱性反射膜を、樹脂基板上に形成してなることを特徴
とする積層体。
【請求項７】請求項１乃至４いずれか１項に記載の高
耐熱性反射膜を、ガラス基板上に形成してなることを特
徴とする積層体。
【請求項８】請求項１記載の高耐熱性反射膜又は純Ａ
ｇよりなる反射膜の上部に、Ｉｎ₂Ｏ₃を主成分として、
ＳｎＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、Ｔａ₂Ｏ₅のいず
れか一種以上を添加してなる合金膜を形成して成ること
を特徴とする積層体。
【請求項９】請求項６又は７記載の樹脂基板又はガラ
ス基板と高耐熱性反射膜との間に、密着性を助長する下
地膜を形成してなることを特徴とする積層体。
【請求項１０】請求項8記載の積層体の下部に、密着
性を助長する下地膜を形成して3層構造に構成したこと
を特徴とする積層体。
【請求項１１】請求項９又は10記載の下地膜が、Ｉｎ
₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、ＭｇＯ、ＩＴＯ、ＺｎＯ
₂ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂、Ｔａ₂Ｏ₅、ＺｒＯ₂から選ばれ
た少なくとも一種、若しくはこれらを主成分とする二種
類以上の材料からなることを特徴とする積層体。
【請求項１２】請求項９又は10記載の下地膜が、Ｓ
ｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ａｌから選ばれた少なく
とも一種、若しくはこれらを主成分とする二種類以上の
材料からなることを特徴とする積層体。
【請求項１３】請求項５乃至12いずれか1項に記載の
積層体が、Ａｇ若しくはＡｇを主成分とする合金材料と
樹脂基板又はガラス基板との密着性及び、基板とＡｇ若
しくはＡｇ合金との中間層との密着性の助長を行うこと
を特徴とする積層体。
【請求項１４】請求項５乃至13のいずれか１項に記載
の積層体が、液晶表示素子用反射体であることを特徴と
する積層体。
【請求項１５】請求項５乃至13のいずれか１項に記載
の積層体が、建材ガラスであることを特徴とする積層
体。
【請求項１６】請求項８記載の積層体が、380〜565ｎ
ｍの短波長領域で、純Ａｇ若しくはＡｇを主成分として
構成される合金膜の、光学特性としての吸収率の増加を
低減し、特には黄色化を抑制することを特徴とする積層
体。
【請求項１７】請求項14又は16記載の積層体を用いて
構成される液晶表示素子。
【請求項１８】請求項８記載の積層体が、液晶表示素
子の構造により上部にカラーフィルターを形成する場合
において、このカラーフィルターを形成するプロセスで
析出されるアルカリ成分より保護することを特徴とする
液晶表示素子。
【請求項１９】請求項８記載の積層体が、液晶表示素
子の構造により上部にカラーフィルターを形成する場合
において、このカラーフィルターを形成するプロセスで
加熱される場合の反射率の低下を低減できることを特徴
とすること液晶表示素子。
【請求項２０】請求項８記載の積層体を、反射体或い
は反射膜として形成される液晶表示素子を用いて形成さ
れる携帯情報端末機器。
【請求項２１】請求項12記載の積層体を、反射体或い
は反射膜として構成する液晶表示素子。
【請求項２２】請求項21記載の液晶表示素子を用いて
構成される携帯情報端末機器。