JP2001196305A - 光学装置 - Google Patents

光学装置

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JP2001196305A JP2000376898A JP2000376898A JP2001196305A JP 2001196305 A JP2001196305 A JP 2001196305A JP 2000376898 A JP2000376898 A JP 2000376898A JP 2000376898 A JP2000376898 A JP 2000376898A JP 2001196305 A JP2001196305 A JP 2001196305A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 矩形の照明公によってレンズが歪むのを防止
する。 【解決手段】 特にマイクロリソグラフィ投影プリンテ
ィング装置である光学装置は、スロット状の画像フィー
ルドまたは回転非対称な照明を持つ。従って光学部材
（１）は、光源の放射光により回転非対称的な作用を受
ける。補償光供給装置（１１、１４から１９）は、光学
部材（１）の周縁表面（１３）を介して光学部材（１）
に光学的に結合される。補償光供給装置は、投影光
（２）と補償光（１２）による光学部材（１）の加熱で
生じる光学部材（１）の温度分布が少なくとも部分的に
均一化されるように光学部材（１）に補償光（１６、１
２）を供給する。投影光により引き起こされた結像欠陥
が補正される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、詳細にはスロット
状の画像フィールドまたは回転非対称な照明を持つマイ
クロリソグラフィ投影プリンティング装置に特に関する
光学装置に関し、 ａ）光学部材を含み、 ｂ）放射光を放出する投影光源を含み、光学部材の表面
が投影光源の放射光により回転非対称的な作用を受け、
そして ｃ）光学部材を投影光と補償光とを重ねて加熱する結果
として生じる光学部材の温度分布が少なくとも部分的に
均一化されるように光学部材に補償光を供給する補償光
供給装置を含む。
【０００２】
【従来の技術】光線により回転非対称に作用を受ける光
学装置の結像特性が、回転非対称性から生じる結像欠陥
によって損なわれることがある。こうした結像欠陥は例
えば、投影光に関して言えば、屈折または反射光学部材
の回転非対称な光誘導加熱による結果だけでなく例え
ば、他の光誘導効果の結果としても起こり、例えば光学
部材における相当する回転非対称な膨張、及び／又は、
回転非対称な屈折率分布をもたらすコンパクションなど
である。高品質の結像が求められる場合、特にマイクロ
リソグラフの投影プリンティング処理ではそうである
が、上述した光によって引き起こされる結像欠陥を容認
することはできない。
【０００３】包括的なＥＰ ０ ８２３ ６６２ Ａ２
により、最初に説明した種類の光学装置は知られてい
る。そこでは補償光源を使用して、少なくともそのよう
な結像欠陥の部分的低減を達成する努力がなされてい
る。補償光を吸収させることにより、光学システムにお
ける温度分布を均一化することで達成されている。その
場合、投影光が作用しない光学部材の端部の区域を通っ
て補償光が光軸に平行に導かれる。その結果、投影プリ
ンティングに利用できる光学装置の有効な口径が制限さ
れる。投影光の光路と平行な補償光に必要な入力結合が
更に構造の一体化の問題を生じるが、これは、追加の入
力結合部材、及び／又は、偏向部材を投影光の光路内
に、及び／又は、近くに挿入する必要があるからであ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、補償光を使用して有効口径に悪影響を与えることな
く光学部材の温度分布を対称、及び／又は、均一にでき
る最初に説明した種類の光学装置を開発することであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的は、本発明によ
れば、補償光供給装置が光学部材の周縁表面を介して光
学的に光学部材に結合されることで実現される。
【０００６】周縁表面を介して補償光を入力させると、
補償光ビームの誘導で生じる制限がなくなるため、投影
光に対して光学装置の口径を全面的に利用することがで
きる。投影光と補償光の光路が互いに隣接または平行し
て延びていないので、光学装置は構造的に補正される。
更に光学部材の周縁表面は、投影光用の光学表面とは別
に設計できるため、補償光の誘導は、投影光の誘導とは
別々に最適化できる。光学部材は通常、光軸に対し平行
よりも垂直な方向の寸法が大きいため、周縁表面を介す
る入力結合の使用で補償光の吸収に利用できる材料の距
離も更に広がり、その結果、補償光の波長選択により大
きな自由度をもたらす。
【０００７】補償光供給装置は、光源、および、その光
源からの放射光を光学部材に供給する少なくとも１つの
光ファイバを含む。投影光源から独立した光源を使用す
る場合、それを光学装置から独立した空間に収容でき
る。光ファイバの使用により、光学装置の断面積の大き
な増加をもたらさずに、光学部材の周縁表面への入力結
合の構造設計を実現することができる。光ファイバの出
力発散を利用して、補償光による光学部材のかなり広い
領域を照射することができる。
【０００８】少なくとも２つの光ファイバをが設け、そ
の少なくとも２つの光ファイバを介してそれぞれに導か
れる光線出力を制御装置により互いに別々に調節するよ
うにすることが有利である。別々の光ファイバに誘導さ
れる光線出力の分布を利用して、補償光を吸収して光学
部材で生成された温度分布を意図的に影響を与えること
が結像欠陥の補償に対して可能になる。
【０００９】制御装置は、光学装置の焦点面を監視する
センサと通信リンクを持ち、光線出力を制御するために
センサからの受信信号を処理する。前記方法により結像
特性の調節が可能になり、それによって、センサにより
検出された結像特性の変化が自動的に補正される。
【００１０】センサは位置感知センサを使用できる。こ
うしたセンサは非常に安価な設計、例えばカドラント検
出器の形で入手できる。センサはＣＣＤアレイが好まし
い。こうしたセンサにより、光学装置の結像特性に対し
高感度な測定が約束される。制御装置の比較的単純な構
造は、本発明では既知の画像処理アルゴリズムの使用を
介して、可能である。
【００１１】本発明の改良により、補償光供給装置は可
変波長の光源を含む。波長は、結像欠陥を補償するため
に光学部材における温度分布を調節する時、更なる自由
度をもたらす。例えば、ある範囲で調節可能な波長を持
つ光源を使用する場合、光学部材材料の吸収係数が波長
の変化でかなり変化するので、その波長の変化により、
光学部材内への補償光の貫通深さが変えられ、光学部材
の温度分布の対応する変化が可能になる。本発明で使用
される通常の波長域は、４ミクロン領域、石英ガラスの
長波長側の吸収エッジ、または、波長１４００ｎｍで固
有吸収が増加する領域である（多くの石英ガラスで生じ
る）。その波長はリン化インジウム・ダイオードレーザ
などで達成される。
【００１２】本発明の更なる改良では、光学部材に向い
ている少なくとも１つのファイバの端部用の保持部材
は、光学部材の取付台に取り付けられる。これは、光学
部材に対するファイバの出力端部の確実な位置決めをも
たらす。脱着可能に装着された保持部材を使用する場
合、容易なファイバ交換および交換ファイバの容易な再
位置決めが約束される。
【００１３】光学部材の周縁方向に保持部材を案内する
ために調節装置が設けられる。こうした調節装置は、補
償光が光学部材内に結合される位置と、入力結合の方
向、または代わりに光学部材周縁表面からの出力端部の
距離とを調節するために使用される。自由度によって、
光学部材における補償光の強さの分布へ影響を与え、補
償光の吸収を介して前記光学部材の温度分布への影響を
与えることができる。
【００１４】調節装置用のモータ駆動式アクチュエータ
が設けられており、そのアクチェータは制御装置との通
信リンクを持ち、制御装置は、光学装置の焦点面を監視
するセンサとの通信リンクを備えて、保持部材の位置制
御のためにセンサからの受信信号を処理する。このよう
に結像欠陥の自動的な補正は、保持部材の調節によって
可能になる。
【００１５】光学部材の周縁表面は、補償光入力領域に
ファセットを持つ。こうしたファセットは、ファセット
面での屈折により補償光ビームの誘導を可能にする。フ
ァセットは例えば凸面であり、ファセット上に発散的に
入射する補償光を集光させる。逆にファセット形状が凹
面の場合、入射補償光ビームの発散が実現する。凹面フ
ァセットの曲率半径が入射補償光の発散に対応していて
補償光がファッセット面と直角に当たる時、光学部材周
縁表面の屈折による発散の影響はない。
【００１６】光学部材の周縁表面は、補償光の入力領域
でテクスチャーを施される。最も単純な場合、こうした
テクスチャーは通常、光学部材の粗く研磨された周縁表
面である。テクスチャーを施された周縁表面に入射する
補償光は拡散し、それにより光学部材における補償光の
分布を促進する。補償光ビームの誘導に影響を与える他
の周縁表面テクスチャーとしては、例えば回折性光学部
材の方法などが考えられる。
【００１７】光源の放射波長が４ミクロンよりも大きい
場合、補償光の吸収が比較的高くなることが約束され
る。この場合従って、特定の熱出力を達成するために比
較的低い光学出力を持つ光源を補償光として使用でき
る。
【００１８】光学部材は屈折光学部材でもよい。例えば
レンズまたは平行平面板などの形をとるこうした屈折光
学部材は、既知の投影プリンティング装置においては標
準の機器である。
【００１９】代わりに光学部材は、投影光源の放射光に
対して反射的であってもよい。反射面における投影光の
残留吸収のために、投影光のそのような鏡は同様に、実
質的に投射光に対して入射対称を示す熱寄与にさらされ
る。本発明によって鏡を補償光供給装置がその周縁表面
と結合するように設計する場合、投影光により生じた結
像欠陥は、ここでもまた、補償光の吸収により補償され
る。こうした鏡は通常、透明基板上に反射被膜を含む形
で実現される。本発明の実施形態は、図を参照して以下
に詳しく説明される。
【００２０】
【発明の実施の形態】図１に示す結像補正されたレンズ
１は、マイクロリソグラフィ投影プリンティング装置の
光学装置の一部である。投影プリンティングが行われて
いる間、レンズ１は、投影光ビーム２により作用を受
け、その矩形断面区域は、図１に点線で示されている。
前記断面区域の長辺３の短辺４に対する長さ比は、通常
２：１である。
【００２１】投影光ビーム２は、例えばフッ化アルゴン
・エキシマレーザなどの、図示されていない投影光源か
らの紫外線放射ビームである。レンズ１は、石英ガラス
から作られる。投影ビーム２が通過するその表面に、既
知の手法で反射防止被膜が設けられている。
【００２２】レンズ１は取付台５に配置される。取付台
５にレンズ１を装着させるため、取付台は、２つの台座
部分６および７に対して後部からネジ付きリング（図示
しない）を使用して締め付けられる。台座部分は、各々
がほぼ９０°の角度領域に亘って広がっている互いに向
かい合うリングの一部（セグメント）の形で、取付台５
の輪状の基本ケース８上に形成される。２つの台座部分
６および７の内径は、レンズ１の直径よりも小さく、こ
れにより台座部分６および７のレンズ１が置かれる２つ
の領域が作られる。
【００２３】投影ビーム２は、その断面区域の短辺４が
各々の場合に台座部分６および７の方向に向くように誘
導される。
【００２４】台座部分６および７が形成されている領域
の間を閉じ、完全なリングとしている基本ケース８の２
つの９０°のリングセグメントの各々の、レンズ１の周
縁表面１３に放射方向に隣接する箇所にレンズ１の光軸
と同軸のアーク状案内溝９が形成されている。前記案内
溝９は、周知のありつぎ状さねはぎの一部を形成し、そ
の中に保持ブロック１０上に形成されるスプリング（図
示しない）が取り付けられる。
【００２５】上述したような基本ケース８の案内溝９の
中で周縁方向に変位可能な保持ブロック１０の内部に、
光ファイバ１１の端部が、詳細は示されていない方法で
装着される。
【００２６】保持ブロック１０は、以下に説明されるよ
うに補償光供給装置の一部である。３つの保持ブロック
１０の互いに対向するグループに配置される合計６つの
保持ブロック１０の各々に、１つのファイバ１１の端部
が結びついている。ファイバ１１の端部から出てくるビ
ーム１２は、レンズ１の周縁表面１３に入射して貫通す
る。ビーム１２は、投影光入射の光軸に対し直角に導か
れるので、以下では横方向光ビーム１２と呼ぶ。横方向
光ビーム１２の波長は４ミクロンより長く、レンズ１の
製作で使用される石英ガラスの吸収領域内にある。
【００２７】光ファイバ１１は横方向光ビーム１２の波
長を大きく吸収しないガラス材料で作成される。光ファ
イバ１１は、それらの入力端部を結合されて入力保持ブ
ロック１４でファイバ束になる。入力保持ブロック１４
の上流側に接続されているのが光学出力分配器１５で、
ファイバ束上に結像された入力光ビーム１６を個々のフ
ァイバ１１に分配する。こうした出力分配器１５は、様
々な構造形体で既知である。出力分配は例えば、個々の
ファイバ１１に付随する光学部品を偏光することによ
り、または、ファイバ１１に付随する適切なフィルタに
より、あるいは代わりに、個々のファイバ１１内に結合
される入力光ビーム１６の光量に影響を及ぼすようにフ
ァイバ１１の入力を個々に調節することにより達成され
る。
【００２８】入力光ビーム１６は、レーザ１７などの赤
外線光源により放射され、ファイバ１１のファイバ束上
に結像光学部品１８を使って結像される。出力分配器１
５およびレーザ１７は、出力制御回路１９と通信リンク
を持つ。出力制御回路は、２次元ＣＣＤアレイなどのセ
ンサ配置２１からの信号を受信するプリンティング制御
回路２０と通信リンクを持つ。
【００２９】レンズ１の結像補正は、以下の手段で達成
される。レンズ１の領域に矩形断面区域を持つ投影ビー
ム２によって、レンズ１は投影ビーム２の波長での材料
の残留吸収のために加熱される。その加熱の結果の温度
分布は、最初はレンズ１の投影光ビーム２の光路に対称
である。これは材料の熱膨張と、同じく屈折率の変化の
両方をもたらし、従って、その変更された屈折特性のた
めにレンズ１の結像特性の変化をもたらす。
【００３０】レンズ１の周縁表面１３を経由して供給さ
れる横方向光ビーム１２により、更なる熱寄与が、光線
吸収の結果として同様に伝達される。しかしながら、波
長で４ミクロン以上でのレンズ１材料の高い吸収能力に
より、横方向光ビームは、特定の深さまでしかレンズ１
を貫通しない。横方向光ビームは、通常、投影光ビーム
１により照射されるレンズ１の区域２には達しないた
め、吸収された光線出力に対応する熱は、実際には投影
光ビーム２の外側にあるレンズ１の側面領域に生じると
いう結果になる。
【００３１】従って、前記熱寄与の結果生じたレンズ１
の温度分布は、横方向光ビーム１２の誘導された個々の
出力、それらの波長および形、及び、レンズ１における
横方向光ビーム１２の重ね合わせに左右される。横方向
光ビーム１２によるレンズ１の追加加熱の目的は、温度
分布を対称にする、及び／又は、前記レンズの予め選択
された形状の温度分布を達成することである。これは、
制御可能な結像特性をもたらす。
【００３２】経験的な値に基づいて前記パラメータは、
投影光ビーム２の残留吸収および横方向光ビーム１２の
意図的な吸収から生じる熱寄与のため、レンズ１におい
てできるだけ均一な温度分布が発生するように選択され
る。前記温度分布の均一化により、レンズ１の残留吸収
で生じた結像欠陥を、投影プリンティングの間に理想的
に除去することができる。
【００３３】投影プリンティング装置の光学装置の結像
特性が、光学装置の焦点面に配置されるセンサ配置２１
により監視される。既知の画像取得アルゴリズムを使用
してセンサ配置２１により取得された前記画像が、結像
欠陥の発生に対して特に評価される。前記評価は、プリ
ンティング制御回路２０の一部である演算ユニットで達
成される。
【００３４】このように取得された結像特性に基づいて
プリンティング制御回路２０は、レンズ１において可能
な限り均一な温度分布が投影光ビーム２と横方向光ビー
ム１２との結合された吸収によって達成されるように、
個々の横方向光ビーム１２の出力に対して設定値を割り
当てる。
【００３５】横方向光ビーム１２の出力用設定値は、プ
リンティング制御回路２０により出力分配器１５に送ら
れ、出力分配器は、様々なファイバ１１の間に入力光ビ
ーム１６の対応する出力分布をもたらす。
【００３６】個々のレーザ１７の代替として、複数の光
源を横方向光ビーム１２用として使用する配置が考えら
れる。特に、別々の光源は、各々の光ファイバ１１と結
びつけることができる。各ファイバ１１間の出力分布
は、次に各々の光源の駆動装置の最適な作動により達成
される。
【００３７】横方向光ビーム１２の光線出力の出力変更
により、レンズ１における横方向光ビーム１２が吸収さ
れる光量が対応して変更される。このように、レンズ１
内に結合された６つの横方向光ビーム１２間の出力分布
により、レンズ１における温度分布形状に影響が及ぼさ
れる。センサ配置２１により計測された結像特性に基づ
くフィードバックを介して、繰返し過程において温度分
布の調節が可能になり、レンズ１の結像欠陥の最小化を
もたらす。
【００３８】温度分布を形成するための追加の自由度
は、案内溝９に沿った保持ブロック１０の変位と、横方
向光ビーム１２の重ね合わせ構造の対応する変化とによ
って与えられる。
【００３９】図示されていない代替構造形体において、
案内溝９に沿った保持ブロック１０の変位は、モータ駆
動で達成される。こうした保持ブロック１０のモータ駆
動による変位がプリンティング制御回路２０を介して同
様に始められると、レンズ１における温度分布形作成の
ための、追加の自動調節可能な自由度が作られる。横方
向光ビーム１２の入力配置のそのような調節は、センサ
配置２１の評価された測定データに応じて、プリンティ
ング制御回路２０により同様に制御される。
【００４０】結像補正に要求される精度基準に応じて、
使用される横方向光ビーム１２の数は変化する。例えば
レンズ１の周縁表面１３内に互いに対向して結合され
る、たった２つの横方向光ビーム１２を使うことが考え
られる。
【００４１】最も簡単な場合では、ファイバ１１から結
合されて出た後は、横方向光ビーム１２の更なる形状形
成は起こらない。横方向光ビーム１２は次に、発散性ビ
ームとしてレンズ１の周縁表面１３内を貫通し、それら
の発散は、凸レンズの役割をする周縁表面１３での屈折
のため、レンズ１の光軸に垂直な平面（図１の図面平
面）におけるレンズ１の材料内で減少される。
【００４２】周縁表面１３は、横方向光ビーム１２の入
力結合を最適化するために特別に処理される。最適入力
結合効率を達成するために周縁表面１３は、例えばダイ
オードレーザ１７の放射波長領域に対する反射防止被膜
を持つ。
【００４３】入力横方向光ビーム１２の発散を大きくし
て、それにより周縁表面１３内に結合される光のより均
一な分布を達成するために、周縁表面１３は、横方向光
ビーム１２が周縁表面１３のテクスチャーを施された表
面で拡散されるように、テクスチャーを施すことも可能
である。こうした拡散効果は例えば、通常粗く研磨され
た、既知のレンズの周縁表面により達成される。周縁表
面上のテクスチャーを施された表面のサイズおよび分布
によって、拡散効果に意図的な影響を与えることができ
る。
【００４４】一方において、レンズ１の温度分布の意図
的な調節が、前記個々のレンズの結像特性を最適化する
ために使われる。代わりに、レンズ１における温度分布
の調節を、それで作成されたレンズ１の結像特性が光学
装置全体の結像特性を補償するために使われる方法で調
節することも可能である。そのために、入力横方向光ビ
ーム１２の助けを借りて、投影光ビーム２の残留吸収に
よる加熱効果をわざと過補償にすることができる。前記
のセンサ配置２１を使用したレンズ１における温度分布
の繰返し調節は、投影プリンティング装置の光学装置の
他の光学部材のこうした結像欠陥補償の一例である。な
ぜなら、光学装置の焦点面を監視する結果として、光学
装置の結像特性全体が最適化されるからである。
【００４５】横方向光ビーム１１２および２１２を整形
するために、レンズ１０１および２０１は、図２および
図３に示されるようにファセットを刻むことができる。
図１のそれに対応する前記代替構造形体の構成部材につ
いては、１００および２００ほど増えた参照番号がつけ
られているが、詳細については再度説明されない。
【００４６】図２においてレンズ１０１の周縁表面１１
３は、横方向光ビーム１１２がファセット１２２の領域
でレンズ１０１を貫通するように、各々の横方向光ビー
ム１１２に付随する凸面ファセット１２２を持つ。ファ
セット１２２は、レンズ１０１の光軸に垂直な平面（図
２および図３の図面平面）と、それと垂直で各々のファ
セット１２２の中心を包含するメリジオナル平面との両
方において凸面に湾曲している。
【００４７】ファセット１２２の凸面のためにファセッ
ト１２２に入る際の横方向光ビーム１１２は、ファセッ
トのない図１で説明された状況においてより、より多く
集光させられる。横方向光ビーム１１２の集光は、図２
に直角な平面にもあるファセット１２２によって更に達
成される。
【００４８】前記のより大きな集光は、レンズ１０１内
の横方向光ビーム１１２の対応する集光をもたらし、従
って、横方向光ビーム１１２の重ね合わせ領域の変更さ
れた形状をもたらし、結果的に、横方向光ビーム１１２
の吸収の結果としてレンズ１０１内の変更された温度分
布をもたらす。
【００４９】図３に示された凹面ファセット２２３は、
横方向光ビーム２１２の出力発散に対しファセット２２
３の曲率半径を適切に適応させると、出力発散がレンズ
２０１内に入る際に実際上変更されないようにすること
ができる。これは、凹面ファセット表面を横方向光ビー
ム２１２の放射方向と垂直にして、ファセット表面で何
の屈折も起こらないようにできるためである。横方向光
ビーム２１２の吸収によって加熱されるレンズ２０１の
領域は、従って図１および図２で示された状況と比べて
大きくなる。
【００５０】４ミクロンより長く、かつレンズ材料に比
較的多く吸収される波長を持つ赤外線光源の代わりに、
レンズ材料に対して比較的低い吸収係数を持つ波長の光
源を使うことができる。こうした光源は、比較的安価で
市販されている。
【００５１】こうした光源を持つ実施形態が図４に示さ
れている。図１の構成要素に対応する代替構成要素につ
いては、３００増やした参照番号を付けて、詳細につい
ては再度説明しない。
【００５２】レーザは、りん化インジウム・ダイオード
レーザである。レーザから放射される入力光ビーム３１
６の波長は、１４００ｎｍの領域にある。石英ガラス製
のレンズ３０１の固有吸収は増加するが、波長４ミクロ
ン以上の波長での吸収には匹敵しない。レーザ３１７の
温度を変更することで前記レーザの放射波長は、特定領
域において整調できる。
【００５３】横方向光ビーム３１２は、あまり吸収され
ないためレンズ３０１を透過する。全ての横方向光ビー
ム３１２は、中央のほぼ回転対称な領域で重なり、その
領域は投影光ビーム３０２内にあり、それ自体は温度分
布の回転非対称性に影響を与えない。必要とされる回転
対称性は、投影光ビーム３０２の外側にある横方向光ビ
ーム３１２の領域によって達成される。
【００５４】ダイオードレーザ３１７の波長の変更によ
り横方向光ビーム３１２の吸収が変わるが、これは従来
のレンズ材料の場合、材料に特有な吸収が波長により変
わるからである。波長の設定値がプリンティング制御回
路３２０によりダイオードレーザ３１７に送られ、その
設定値選択に応じたダイオードレーザ３１７の温度が放
射波長を調節する。
【００５５】横方向光ビーム３１２の全体出力および波
長、更に、レンズ３０１内に結合された６つの横方向光
ビーム３1２の間での出力分布の調節を介して、レンズ
３０１の温度分布の形状が影響を受ける。センサ配置３
２１により計測される結像特性に基づくフィードバック
を介して、レンズ３０１の結像欠陥を最小化する温度分
布は、図１の実施形態に関して説明されたのと同じよう
に、繰返し処理において調節される。
【００５６】レンズ１、１０１、２０１、及び、３０１
の代わりに、投影光ビーム２および３０２に対して反射
的である光学部材、すなわち鏡を使用することができ
る。その鏡は、補償光ビームを透過させる基板に多層イ
ンタフェース被膜または金属被膜など投影光ビームを反
射する被膜を持つものであって、上記した方法で基板の
内部に横方向光線が結合される。典型的な基板材料は、
４００ｎｍと２５００ｎｍの間の光学的透明度範囲と、
２５００ｎｍを超える増加する光学吸収領域を持つＺｅ
ｒｏｄｕｒである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に従って結像補正されたレンズ配置を示
す平面図である。
【図２】代替構造形体を切り取って図１と同様に示す平
面図である。
【図３】別の代替構造形体を図２と同様に示す平面図で
ある。
【図４】別の代替構造形体を図１と同様に示す平面図で
ある。
【符号の説明】
１ 光学部材 ２ 投影光ビーム １１、１４から１９ 補償光供給装置 １２、１６ 補償光 １３ 光学部材の周縁表面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フーベルト・ホルデラー ドイツ連邦共和国・ディ−89551・ケーニ ヒスブロン・グレフィンシュトラーセ・６ (72)発明者 ルドルフ・フォン ビュナウ ドイツ連邦共和国・ディ−73457・エスリ ンゲン・トイセンベルクヴェク・36／２ (72)発明者 クリスティアン・ヴァグナー ドイツ連邦共和国・ディ−73430・アーレ ン・ヴァイデンフェルト・８ (72)発明者 ヨヒェン・ベッカー ドイツ連邦共和国・ディ−73447・オーベ ルコヒェン・ユノウヴェク・10 (72)発明者 シュテファン・ザルター ドイツ連邦共和国・ディ−73447・オーベ ルコヒェン・フリューリンクシュトラー セ・７ (72)発明者 ヴォルフガング・フメル ドイツ連邦共和国・ディ−73525・シュヴ ェービッシュ−グミュント・ガルテンシュ トラーセ・21 Ｆターム(参考） 5F046 BA03 CB12 DA13 DA14 DA26 DB05 DC10

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 スロット状の画像フィールドまたは回転
    非対称な照明を持つマイクロリソグラフィ投影プリンテ
    ィング装置に特に関する光学装置であって、 ａ）光学部材と、 ｂ）前記光学部材の表面が投影光源の放射光により回転
    非対称的な作用を受ける、放射光を放出する投影光源
    と、 ｃ）前記光学部材に補償光を供給する補償光供給装置で
    あって、投影光と前記補償光とで前記光学部材を加熱す
    る結果として生じる前記光学部材の温度分布が少なくと
    も部分的に均一化される補償光供給装置とを含み、 前記補償光供給装置（１１、１４〜１９、１１１、２１
    １、３１１、３１４〜３１９）は、前記光学部材（１、
    １０１、２０１、３０１）の周縁表面（１３、１１３、
    ２１３、３１３）を介して前記光学部材に光学的に結合
    されることを特徴とする光学装置。
  2. 【請求項２】 前記補償光供給装置（１１、１４〜１
    ９、１１１、２１１、３１１、３１４〜３１９）は、光
    源（１７、３１７）、及び、少なくとも１つの光ファイ
    バ（１１、１１１、２１１、３１１）を含み、前記光源
    （１７、３１７）により放射される放射光（１６、３１
    ６）が前記光学部材（１、１０１、２０１、３０１）に
    供給されることを特徴とする請求項１に記載の光学装
    置。
  3. 【請求項３】 少なくとも２つの光ファイバ（１１、１
    １１、２１１、３１１）が設けられ、その少なくとも２
    つの光ファイバ（１１、１１１、２１１、３１１）を通
    って案内される光線出力が、制御装置（１９、３１９）
    により互いに独立して調節可能であることを特徴とする
    請求項２に記載の光学装置。
  4. 【請求項４】 前記制御装置（１９、３１９）は、前記
    光学装置の焦点面を監視するセンサ（２１、３２１）と
    の通信リンクを持ち、前記光線出力を制御するために前
    記センサ（２１、３２１）からの受信信号を処理するこ
    とを特徴とする請求項３に記載の光学装置。
  5. 【請求項５】 前記センサ（２１、３２１）は位置感知
    センサであることを特徴とする請求項４に記載の光学装
    置。
  6. 【請求項６】 前記センサ（２１、３２１）はＣＣＤア
    レイであることを特徴とする請求項５に記載の光学装
    置。
  7. 【請求項７】 前記補償光供給装置（１１、１４〜１
    ９、１１１、２１１、３１１、３１４〜３１９）は、可
    変波長の光源（１７、３１７）を含むことを特徴とする
    請求項１から請求項６のうちのいずれか１つに記載の光
    学装置。
  8. 【請求項８】 前記光学部材（１、１０１、２０１、３
    ０１）に向けられた前記少なくとも１つのファイバ（１
    １、１１１、２１１、３１１）の端部の保持部材（１
    ０、１１０、２１０、３１０）は、前記光学部材（１、
    １０１、２０１、３０１）の取付台（５、１０５、２０
    ５、３０５）に取り付けられていることを特徴とする請
    求項２から請求項７のうちのいずれか１つに記載の光学
    装置。
  9. 【請求項９】 調節装置（９、１０９、２０９、３０
    ９）が、前記保持部材（１０、１１０、２１０、３１
    ０）を前記光学部材（１、１０１、２０１、３０１）の
    周縁方向に沿って案内するために設けられていることを
    特徴とする請求項８に記載の光学装置。
  10. 【請求項１０】 制御装置との通信リンクを持ち、かつ
    前記調節装置（９、１０９、２０９、３０９）用のモー
    タ駆動アクチュエータを設け、前記制御装置は前記焦点
    面を監視するセンサとの通信リンクを持ち、かつ前記保
    持部材（１０、１１０、２１０、３１０）の位置制御用
    の前記センサからの受信信号を処理することを特徴とす
    る請求項９に記載の光学装置。
  11. 【請求項１１】 前記光学部材（１０１、２０１）の周
    縁表面（１１３、２１３）は、補償光入力領域にファセ
    ット（１２２、２２３）を持つことを特徴とする請求項
    １から請求項１０のうちのいずれか１つに記載の光学装
    置。
  12. 【請求項１２】 前記光学部材（１、１０１、２０１、
    ３０１）の周縁表面（１３、１１３、２１３、３１３）
    は、補償光入力領域においてテクスチャーを施されるこ
    とを特徴とする請求項１から請求項１１のうちのいずれ
    か１つに記載の光学装置。
  13. 【請求項１３】 前記光源（１７）の放射波長は４ミク
    ロンより大きいことを特徴とする請求項１から請求項１
    ２のうちのいずれか１つに記載の光学装置。
  14. 【請求項１４】 前記光学部材（１、１０１、２０１、
    ３０１）は屈折光学部材であることを特徴とする請求項
    １から請求項１３のうちのいずれか１つに記載の光学装
    置。
  15. 【請求項１５】 前記光学部材は、前記投影光源（１
    ７、３１７）の放射光に対して反射的であることを特徴
    とする請求項１から請求項１３のうちのいずれか１つに
    記載の光学装置。
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