JP6222594B2 - マイクロリソグラフィ投影露光装置 - Google Patents
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Description
図1は、非常に概略的な斜視図に全体を10で表す本発明によるマイクロリソグラフィ投影露光装置の基本設計を示している。投影露光装置10は、マスク14の下側に配置された反射構造12を感光層16上に投影する働きをする。特に、レジストとすることができる感光層16は、ウェーハ18又は別の基板によって支持される。
ミラー基板内の温度勾配を低減し、及び/又は温度分布を対称化するために、投影露光装置10は、加熱光源HLSを有する。下記でより詳細に以下に説明するが、加熱光源HLSは、感光層16が投影光PLに露光されない時間に加熱光を生成する。これらの時間では、加熱光は、ミラーM2の面のうちで投影光PLによって加熱されない区域上に入射するように投影レンズ26に入射する。その結果、ミラーM2の面は、時間と共に平均した場合に、より均一に加熱される。それによってミラー基板の変形によってもたらされる収差をより簡単に制御することができる。
加熱光源HLSは投影光源PLSとは異なり、投影光PLの平均波長とは異なる平均波長を有する加熱光を生成するように設計される。示す例示的な実施形態では、加熱光源HLSは、248nmの波長を有する加熱光を生成するKrFエキシマレーザである。
加熱光照明系102の基本設計を図6に略子午断面図に示している。加熱光照明系102は、例えば、ミラー配列を含む、又は図6に示すように、散乱レンズと集光レンズとの配列を含むことができるビーム拡大器104を含む。ビーム拡大器104の後部には、規則的な方式で配置されてマトリックスを形成する多数の例えば、101×101個のLCD要素108を含むLCDマトリックス106が配置される。電流を印加することにより、各LCD要素108をLCD要素108が加熱光に対して透過性を有する第1の状態と、LCD要素108が加熱光に対して不透過性を有する第2の状態との間で切り換えることができる。第2の不透過状態にあるLCD要素を図6では黒で配色し、108’で表している。
加熱光源HLSによって生成された加熱光を投影レンズ26内に結合することができるように、図2に示す投影露光装置は、加熱光源HLS及び加熱光照明系102と同様に、示す例示的な実施形態では投影光照明系20に配置されるスイッチングミラー122を有する。図2に示す、投影露光装置10の投影作動中には、スイッチングミラー122は、投影光PLのみがマスク14上に入射して、そこから投影レンズ26に入射することができる第1の位置に配置される。
図7に示す、スイッチングミラー122が第2の位置に配置される加熱作動中には、加熱光HLは、第2のミラーM2の面90上で、投影作動中に投影光PLによって照明される領域を少なくとも近似的に補完する領域を照明する。これを図4及び図5に従って加熱作動中の第2のミラーM2を通る子午断面図及び第2のミラーM2の平面図8及び図9に示している。ミラーM2の面90上で加熱光HLによって照明される円形領域130をクロスハッチングに示している。投影作動中に投影光PLによって照明される極P1、P2が、加熱光HLによって加熱されないことを確認することができる。従って、図10に示すように、加熱光HLによって照明される領域130は、投影光PLによって照明される極P1、P2に対して補完的である。それによって投影作動と加熱作動とが交替する比較的長い期間にわたって、第2のミラーM2の基板内に、極P1、P2のみが投影光PLによって照明される場合よりも均一な温度分布がもたらされる。この温度が、第2のミラーM2の基板が殆どゼロと言える程小さい熱膨張係数を有する際の温度に近い場合には、残留温度変化は、基板の形状に対して効果を持たないか、又は僅かな効果のみを有する。
図7に示すスイッチングミラー122が第2の位置に配置される加熱作動は、例えば、露光済みのウェーハ18が依然として露光されていないウェーハで置換される時間間隔中に実施することができる。負荷サイクルとも呼ぶこれらの時間間隔は、ウェーハが露光される時間間隔と比較して短いので、加熱作動中の熱流入は、時間と共に平均した場合に第2のミラーM2の望ましいより均一な加熱が発生する程度に強くなければならない。従って、加熱光HLの平均波長は、加熱光HLの十分に強い成分が、投影光PLの最大反射に向けて設計されたミラーM1からM6のコーティングによって吸収されるように選択すべきである。
ウェーハ18が、依然として投影レンズ26の像平面32内に位置する時に加熱作動を実施することができるように、この例示的な実施形態における投影露光装置10は、投影レンズ26の最後のミラーM6と像平面32の間に配置されたシャッターを有する。示す例示的な実施形態では、シャッターは、投影光PLを通過させるための2つ又はそれよりも多くの開口部134を有する有孔円盤132として具現化される。図2に示す有孔円盤132の回転位置では、投影光PLは、開口部134のうちの1つを通過することができる。
図1から図10に基づいて上述した例示的な実施形態では、スイッチングミラー122は、コンデンサーミラー78とミラー80の間の投影光PLのビーム経路に位置する。
図11は、図2に基づいて、投影光照明系20における別の例示的な実施形態の照明を示している。均等な部分又は互いに対応する部分を同じ参照符号で表しており、これらに対しては再度説明しない。
図2及び図7に示す投影レンズでは、6つのミラーM1からM6のうちのいずれも、視野平面、すなわち、物体平面30、像平面32、又はミラーM4とM5の間の中間像平面の直近には位置しない。しかし、ミラーが、視野平面、正確には特に、中間像平面の直近に位置する反射投影レンズ設計も存在する。それによってマスク14のほぼ集束された像が、視野の近くに配置されたそのようなミラー上に発生する。
図24は、更に別の例示的な実施形態による投影光照明系20の略子午断面図を示している。均等な部分又は互いに対応する部分を同じ参照符号で表しており、これらに対しては再度説明しない。
図25は、6番目のミラーM6と感光層16の間に有孔円盤132の代わりにフィルタ要素150が配置された投影レンズ26の一区画を示している。フィルタ要素150は、投影光PLに対して透過性を有し、加熱光に対しては不透過性を有する。そのようなフィルタは、US 7,372,623 B2に説明されており、この点に関してその開示内容を引用のしている。有孔円盤132と同様に、フィルタ要素150は、加熱作動中にいずれの加熱光HLも感光層16上に入射せず、可能性として上述の位置における露光に寄与しないことを保証する。
以下に続く本文では、マイクロリソグラフィ投影露光装置を作動させるための本発明による方法の重要な段階を図26を参照して要約する。
以下に続く形態は、本発明の重要な態様を要約する。
a)第1の平均波長を有する投影光(PL)を生成するように構成された投影光源(PLS)、
b)投影光源(PLS)とは異なり、第1の平均波長とは異なる第2の平均波長を有する加熱光(HL)を生成するように構成された加熱光源(HLS)、
c)複数の結像ミラー(M1からM6)を有し、マスク(14)を配置することができる物体平面(30)と、層(16)を配置することができる像平面(32)とを有する反射投影レンズ(26)、
d)反射スイッチング要素(122;222;322;422;14;14,140)、
e)スイッチング要素の第1の位置において投影光(PL)のみが投影レンズ(26)に入射することができ、スイッチング要素の第2の位置において加熱光(HL)のみが投影レンズに入射することができる場合に、第1の位置と第2の位置との間でスイッチング要素(122;222;322;422;14;14,140)を変位させるように構成されたドライバ(124)。
26 反射投影レンズ
124 ドライバ
PLS 投影光源
Claims (13)
- 反射型の第1のマスク(14)を層(16)上に結像するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
a)第1の平均波長を有する投影光(PL)を生成するように構成された投影光源(PLS)と、
b)前記投影光源(PLS)とは異なり、かつ前記第1の平均波長とは異なる第2の平均波長を有する加熱光(HL)を生成するように構成された加熱光源(HLS)と、
c)複数の結像ミラー(M1からM6)を有し、前記第1のマスク(14)を配置することができる物体平面(30)と、前記層(16)を配置することができる像平面(32)とを有する反射投影レンズ(26)と、
d)前記第1のマスク及び前記第1のマスクとは異なる第2のマスクを備える反射スイッチング要素(122;222;322;422;14;14,140)と、
e)前記スイッチング要素の第1の位置において前記投影光(PL)のみが前記第1のマスクを介して前記投影レンズ(26)に入射することができ、かつ該スイッチング要素の第2の位置において前記加熱光(HL)のみが前記第2のマスクを介して該投影レンズに入射することができる該第1の位置と該第2の位置の間で該スイッチング要素(122;222;322;422;14;14,140)を変位させるように構成されたドライバ(124)と、
を含むことを特徴とする投影露光装置。 - 投影露光装置(10)が、前記加熱光(HL)が前記投影レンズ(26)の前記物体平面(30)内に有する照明角度分布を変更するように構成された調節デバイス(106)を有する加熱光照明系(20)を含むことを特徴とする請求項1に記載の投影露光装置。
- 前記投影光源(PLS)と前記加熱光源(HLS)と前記スイッチング要素(122;222;322;14;14,140)とを制御する制御ユニット(88)を有し、
前記制御ユニット(88)は、前記層(16)を担持する基板(18)が別の基板で置換されている時間間隔中に加熱光(HL)のみが前記投影レンズ(26)に入射するように、前記投影光源(PLS)と前記加熱光源(HLS)と前記スイッチング要素(122;222;322;14;14,140)とを制御する、
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の投影露光装置。 - シャッター(132)が、前記投影レンズ(26)に又は該投影レンズ(26)と前記層(16)の間に配置され、このシャッターは、閉鎖位置において前記加熱光(HL)を前記加熱光源によって発生した該加熱光(HL)の5%未満しか該層(16)上に入射することができない程完全に吸収又は反射することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の投影露光装置。
- フィルタ要素(150)が、前記投影レンズ(26)に又は該投影レンズ(26)と前記層(16)の間に配置され、このフィルタ要素は、前記投影光(PL)に対して透過性を有し、かつ前記加熱光(HL)に対して不透過性を有することを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の投影露光装置。
- マイクロリソグラフィ投影露光装置を作動させる方法であって、
a)投影光(PL)を生成するように構成された投影光源(PLS)を準備する段階と、
b)前記投影光源(PLS)とは異なり、かつ前記投影光(PL)とは異なる加熱光(HL)を生成するように構成された加熱光源(HLS)を準備する段階と、
c)前記投影光(PL)でマスク(14)を照明する段階と、
d)反射スイッチング要素(122;222;322;14;14,140)が、前記加熱光(HL)ではなく前記投影光(PL)のみが投影レンズ(26)に入射することができる第1の位置に配置される複数の結像ミラー(M1からM6)を収容する該反射投影レンズ(26)を用いて前記マスク(14)を層(16)上に結像する段階と、
e)前記スイッチング要素(122;222;322;14;14,140)を前記投影光(PL)ではなく前記加熱光(HL)のみが前記投影レンズ(26)に入射することができる第2の位置に変位させる段階と、
f)前記加熱光(HL)を前記投影レンズ(26)上に該加熱光(HL)が該投影レンズ(26)に入射するように向ける段階と、
を含み、
段階d)中に結像される前記マスク(14)とは異なる第2のマスク(14’)が、段階f)中に結像されることを特徴とする方法。 - 前記加熱光(HL)は、前記層(16)を担持する基板(18)が別の基板(18)で置換されている時間間隔中に前記投影レンズ(26)に入射することを特徴とする請求項6に記載の方法。
- 段階d)は、走査処理によって、前記マスク(14)を前記層(16)上に結像するものであり、
前記マスク(14)は、段階d)中の前記走査処理内で変位され、
前記加熱光(HL)は、2つの連続する走査処理の合間に前記投影レンズ(16)に入射する、
ことを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の方法。 - 前記加熱光(HL)は、段階d)中に投影光(PL)が入射しなかった前記結像ミラー(M1からM6)上の領域(130;142)にのみ入射することを特徴とする請求項6から請求項8のいずれか1項に記載の方法。
- 前記投影レンズ(26)の物体平面(30)内の前記加熱光(HL)の照明角度分布が、該投影レンズ(26)の該物体平面(30)内の前記投影光(PL)の照明角度分布に適応されることを特徴とする請求項6から請求項9のいずれか1項に記載の方法。
- 前記投影レンズ(26)の前記物体平面(30)内の前記加熱光(HL)の前記照明角度分布は、それが該投影レンズ(26)の該物体平面(30)内の前記投影光(PL)の前記照明角度分布に対して少なくとも実質的に補完的であるように適応されることを特徴とする請求項10に記載の方法。
- 前記第2のマスクは、その少なくとも90%が前記加熱光(HL)の少なくとも90%を反射する区域を有する領域(340)を有し、
前記領域(340)は、前記層上に投影することができる前記投影レンズ(26)の物体視野全域を覆う、
ことを特徴とする請求項6から11のいずれか1項に記載の方法。 - 前記加熱光(HL)は、それが像側の前記投影レンズ(26)の最後の結像ミラー(M6)にも入射するように該投影レンズ(26)上に向けられることを特徴とする請求項6から請求項12のいずれか1項に記載の方法。
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