DE102013206981A1 - Facettenspiegel mit im Krümmungsradius einstellbaren Spiegel-Facetten und Verfahren hierzu - Google Patents
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Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Facettenspiegel für eine Projektionsbelichtungsanlage mit mehreren Spiegelfacetten (22), wobei mindestens eine Spiegelfacette eine optische Fläche (30) mit einer Krümmung aufweist, die einen ersten Krümmungsradius hat, wobei der Facettenspiegel eine Einrichtung (26) zur Veränderung des Krümmungsradius der Spiegelfacette von dem ersten Krümmungsradius zu mindestens einem zweiten Krümmungsradius umfasst, sowie einer Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Facettenspiegel und Verfahren zum Betrieb des Facettenspiegels bzw. der Projektionsbelichtungsanlage.
Description
- HINTERGRUND DER ERFINDUNG
- GEBIET DER ERFINDUNG
- Die vorliegende Erfindung betrifft einen Facettenspiegel für eine Projektionsbelichtungsanlage sowie eine entsprechende Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zum Betrieb des Facettenspiegels bzw. der Projektionsbelichtungsanlage, wobei der Facettenspiegel mehrere Spiegelfacetten umdasst und mindestens eine Spiegelfacette eine optische Fläche mit einer Krümmung aufweist.
- STAND DER TECHNIK
- Zur Herstellung mikro- und nanostrukturierter Bauteile in der Elektrotechnik und der Mikrosystemtechnik werden mikrolithographische Verfahren eingesetzt, bei denen die mikro- und nanostrukturierten Bauteile durch verkleinerte Abbildung von entsprechenden Strukturen auf ein Substrat erzeugt werden. Um Strukturen mit immer kleineren Dimensionen abbilden und somit herstellen zu können, werden Projektionsbelichtungsanlagen für die Mikrolithographie eingesetzt, die mit Licht bzw. elektromagnetischer Strahlung mit immer kleineren Wellenlängen arbeiten. Beispielsweise wird bei derartigen Projektionsbelichtungsanlagen Arbeitslicht mit einer Wellenlänge im Bereich von 5 nm bis 30 nm eingesetzt, sodass es sich um Licht im extrem ultravioletten (EUV) Wellenlängenbereich handelt.
- Bei derartigen Projektionsbelichtungsanlagen können, insbesondere im Beleuchtungssystem, Facettenspiegel zum Einsatz kommen, wie sie beispielsweise in der
DE 10 219 514 A1 oderDE 10 2008 049 586 A1 beschrieben sind. - Derartige Facettenspiegel können Spiegelfacetten aufweisen, deren optisch wirksame Fläche, also die Spiegelfläche, eine Krümmung aufweist, um das reflektierte Licht zu fokussieren. Die Krümmungsradien können hierbei in einem Bereich von einigen Zentimetern bis zu einigen Metern liegen.
- Der Krümmungsradius derartiger Spiegelfacetten muss exakt eingestellt werden, damit die entsprechenden Abbildungseigenschaften erzeugt werden.
- Folglich ist die Herstellung gekrümmter Spiegelfacetten sehr aufwändig, um die exakte Form der Spiegelfacetten zu erzielen.
- Zudem kann die gewünschte Form von Spiegelelementen und insbesondere auch von Spiegelfacetten durch äußere Einflüsse verändert werden, wie beispielsweise durch die Erwärmung aufgrund der auftreffenden Strahlung des Arbeitslichts der Projektionsbelichtungsanlage. Entsprechend ist es bereits bekannt, derartigen Formänderungen von Spiegelelementen durch eine entgegen gerichtete Verformung entgegen zu wirken.
- Dies ist beispielsweise aus der
WO 2012/041744 A1 - OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
- AUFGABE DER ERFINDUNG
- Es ist deshalb Aufgabe der vorliegenden Erfindung einen Facettenspiegel mit Spiegelfacetten bereitzustellen, bei denen die Krümmung einer optischen Fläche (Spiegelfläche) in einfacher und zuverlässiger Weise im Bereich der geforderten Spezifikation erzielbar ist, sodass die Abbildungseigenschaften einer Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Facettenspiegel verbessert werden können.
- TECHNISCHE LÖSUNG
- Diese Aufgabe wird gelöst durch einen Facettenspiegel mit den Merkmalen des Anspruchs 1 und einer Projektionsbelichtungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 9 sowie einem Verfahren zum Betrieb eines Facettenspiegels mit den Merkmalen des Anspruchs 11 und einem Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage mit den Merkmalen des Anspruchs 14. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
- Die vorliegende Erfindung schlägt vor, statt der Korrektur von Formabweichungen einer Spiegelfacette eines Facettenspiegels durch aufwändige Bearbeitung oder komplexe lokale Kompensationsmaßnahmen im Wesentlichen den Krümmungsradius einer gekrümmten Spiegelfläche einer Spiegelfacette durch eine Einrichtung zur Veränderung des Krümmungsradius (Krümmungsradiuseinstelleinrichtung) zu verändern. Insbesondere kann für die Anwendung von Facettenspiegeln in Projektionsbelichtungsanlagen auf zusätzliche lokale Kompensationsmaßnahmen durch Formänderung der Facettenspiegel verzichtet werden. Darüber hinaus bietet eine entsprechende Krümmungsradiuseinstelleinrichtung auch Vorteile für den Betrieb eines Facettenspiegels in einer Projektionsbelichtungsanlage, da ein Facettenspiegel mit in der Krümmung der Spiegelfläche einstellbaren Spiegelfacetten allgemein als Manipulator für die Abbildungseigenschaften eingesetzt werden kann und/oder eine exakte Anpassung des Krümmungsradius der jeweiligen Spiegelfacetten an ihren Betriebszustand vorgenommen werden kann. So sind beispielsweise Spiegelfacetten häufig kippbar gelagert, um die Spiegelfläche um eine oder vorzugsweise zwei senkrecht zueinander angeordnete Drehachsen verkippen zu können. Durch die erfindungsgemäße Krümmungsradiuseinstelleinrichtung kann der Krümmungsradius der einzelnen Spiegelfacette auf die Orientierung der Spiegelfacette, also deren Kippwinkel, angepasst werden. Darüber hinaus ist natürlich durch die Krümmungsradiuseinstelleinrichtung eine Anpassung des Krümmungsradius der Spiegelfläche an einen vorbestimmten Krümmungsradius möglich, der beispielsweise durch Fertigungstoleranzen bei der Herstellung nicht erreicht worden ist, sodass mit der Krümmungsradiuseinstelleinrichtung auch eine Korrektur von Abweichungen des Krümmungsradius von den geforderten Werten erzielt werden kann.
- Die Krümmungsradiuseinstelleinrichtung kann die Krümmung der Spiegelfläche des Facettenspiegels von mindestens einem ersten zu mindestens einem zweiten Krümmungsradius verändern. Insbesondere kann die Krümmungsradiuseinstelleinrichtung den Facettenspiegel so deformieren, dass eine Vielzahl von ersten und/oder zweiten Krümmungsradien einstellbar ist, wobei die Vielzahl von ersten und/oder zweiten Krümmungsradien stufenlos einstellbar sein kann.
- Die Krümmungsradiuseinstelleinrichtung kann mindestens einen Aktuator, vorzugsweise mehrere Aktuatoren umfassen, die durch mechanische Krafteinwirkung den in der Krümmung verstellbaren Facettenspiegel von einem ersten zu einem zweiten Krümmungsradius deformieren.
- Als Aktuatoren, die eine mechanische Deformation des Facettenspiegels bewirken, können Piezoelemente eingesetzt werden.
- Eine weitere Möglichkeit, die alternativ oder zusätzlich zu mechanisch wirkenden Aktuatoren bei der Krümmungsradiuseinstelleinrichtung eingesetzt werden kann, ist die thermisch bewirkte Änderung des Krümmungsradius, sodass bei der Krümmungsradiuseinstelleinrichtung entsprechende Temperierelemente zur Kühlung und/oder zum Erwärmen der Spiegelfacette oder eines entsprechenden Spiegelfacettengrundkörpers vorhanden sein können.
- Insbesondere kann die in der Krümmung ihrer Spiegelfläche einstellbare Spiegelfacette einen Grundkörper aufweisen, auf dem die Spiegelfläche ausgebildet ist und der eine Formgedächtnislegierung oder ein Bimetall bzw. allgemein einen schichtweisen Aufbau aus unterschiedlichen Materialien mit verschiedenen Wärmeausdehnungskoeffizienten umfasst. Durch eine derartige Gestaltung ist mittels eines Temperaturwechsels ein Schalten zwischen unterschiedlichen Krümmungsradien realisierbar.
- Bei Formgedächtnislegierungen wird durch Temperaturwechsel über eine bestimmte Grenztemperatur hinweg das Gefüge derart verändert, dass das Bauteil entsprechende Formen annimmt, je nachdem in welchem Temperaturbereich das Material sich befindet.
- Bei einem Bimetall oder einer allgemein schichtweisen Anordnung von Materialien mit unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten kann durch Temperaturänderung und die unterschiedliche Ausdehnung der Schichten ebenfalls eine Veränderung des Krümmungsradius erzielt werden.
- Als Temperierelemente können Widerstandsheizelemente, Strahlungsheizelemente, Infrarotstrahler und/oder Peltierelemente zum Einsatz kommen.
- Die in ihrem Krümmungsradius einstellbaren Spiegelfacetten können kippbar, insbesondere um zwei unabhängige Drehachsen kippbar gelagert sein und der Krümmungsradius einer gekrümmten Spiegelfläche kann im Bereich von einigen Zentimetern bis zu einigen Metern liegen.
- KURZBESCHREIBUNG DER FIGUREN
- Die beigefügten Zeichnungen zeigen in rein schematischer Weise in
-
1 eine Darstellung einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage, in der die vorliegende Erfindung eingesetzt werden kann; -
2 das Zusammenwirken eines Feldfacettenspiegels und eines Pupillenfacettenspiegels in einer Projektionsbelichtungsanlage gemäß1 ; -
3 eine Darstellung gemäß2 mit der Verdeutlichung der Wirkungsweise eines verstellbaren Krümmungsradius für die Spiegelfläche einer Spiegelfacette; -
4 eine Darstellung gemäß den2 und3 mit einer weiteren Darstellung der Wirkungsweise eines einstellbaren Krümmungsradius für eine Spiegelfacette; -
5 eine weitere Darstellung der Wirkungsweise des Krümmungsradius einer Spiegelfacette; -
6 eine Darstellung einer ersten Ausführungsform einer Krümmungsradiusverstelleinrichtung; und in -
7 eine Darstellung einer zweiten Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Facettenspiegels anhand einer Spiegelfacette. - AUSFÜHRUNGSBEISPIELE
- Weitere Vorteile, Kennzeichen und Merkmale der vorliegenden Erfindung werden bei der nachfolgenden detaillierten Beschreibung von Ausführungsbeispielen deutlich. Allerdings ist die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt.
- Die
1 zeigt in einer schematischen Darstellung eine Projektionsbelichtungsanlage1 für die EUV (extrem ultraviolett) – Mikrolithographie. Die Projektionsbelichtungsanlage1 umfasst eine Lichtquelle2 die EUV – Licht mit einer Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm emittiert. Dieses Licht3 wird zunächst von einem Kollektor4 gesammelt und trifft nach Durchlaufen einer Zwischenfokusebene5 auf einen Feldfacettenspiegel6 , der gemäß der Erfindung ausgestaltet sein kann. Von dem Feldfacettenspiegel6 wird das Licht3 zu einem Pupillenfacettenspiegel7 reflektiert, der ebenfalls gemäß der vorliegenden Erfindung ausgestaltet sein kann. Nach dem Pupillenfacettenspiegel durchläuft das Licht in der Beleuchtungsoptik10 eine sogenannte Folgeoptik8 mit drei Spiegeln15 ,16 ,17 bevor es auf ein Objektfeld9 trifft, in dem die abzubildende Struktur in Form eines Retikels vorliegt. Entsprechend liegt das Objektfeld9 in einer Objektebene11 der Projektionsoptik12 , die das Retikel auf ein Bildfeld13 in einer Bildebene14 abbildet. - Die
2 zeigt das Zusammenwirken zwischen einem Feldfacettenspiegel20 und einem Pupillenfacettenspiegel21 in größerem Detail. Der Feldfacettenspiegel20 weist mehrere Feldfacetten22 auf, die jeweils Licht24 in einem Lichtstrahl25 auf die Pupillenfacetten23 des Pupillenfacettenspiegels21 reflektieren. Dabei sind die Spiegelfacetten22 des Feldfacettenspiegels20 im Bereich ihrer Spiegelfläche so gekrümmt, dass das reflektierte Licht25 auf die jeweilige Pupillenfacette23 fokussiert wird. - In
3 ist wiederum das Zusammenwirken eines Feldfacettenspiegels20 mit einem Pupillenfacettenspiegel21 gezeigt, wobei identische Komponenten und Bestandteile mit denselben Bezugszeichen versehen sind, sodass sie nicht separat beschrieben werden müssen. Die3 zeigt die Auswirkung, wenn der Krümmungsradius einer Spiegelfacette22 des Feldfacettenspiegels20 verändert wird. In3 ist die Situation dargestellt, dass der Krümmungsradius vergrößert wird, sodass der reflektierte Strahl25 nicht mehr auf die Pupillenfacette23 fokussiert ist, sondern einen größeren Strahldurchmesser am Ort der Pupillenfacette23 aufweist, sodass Licht neben die entsprechende Pupillenfacette23 treffen kann. Dieses Licht geht für den weiteren Strahlengang verloren und kann zudem unerwünschtes Streulicht erzeugen. Entsprechend kann somit die Situation gegeben sein, dass durch eine Spiegelfacette, die an Ihrer Spiegelfläche eine Krümmung aufweist, die nicht der erwünschten Krümmung entspricht, eine Verschlechterung der Eigenschaften der Projektionsbelichtungsanlage bewirkt wird. Folglich wird nach der vorliegenden Erfindung durch eine Krümmungsradiuseinstelleinrichtung eine Veränderung des Krümmungsradius der entsprechenden Spiegelfläche einer Spiegelfacette erzeugt, sodass die gewünschte Reflexion des Lichts an der Spiegelfläche der Spiegelfacette erreicht wird. Somit kann durch die Krümmungsradiuseinstelleinrichtung eine Korrektur des Krümmungsradius einer Spiegelfacette erreicht werden. - Einen anderen Anwendungsfall verdeutlichen die
4 und5 , wobei hier zudem mechanische Aktuatoren26 als Teil einer Krümmungsradiuseinstelleinrichtung gezeigt sind. Die4 zeigt wiederum die Reflexion des Lichts24 durch eine Spiegelfacette22 des Feldfacettenspiegels20 , sodass der reflektierte Strahl25 auf eine bestimmte Pupillenfacette23 des Pupillenfacettenspiegels21 trifft. Im Vergleich hierzu ist die Situation der5 dahingehend verändert, dass der Feldfacettenspiegel20 das reflektierte Licht25 auf eine andere Pupillenfacette23 lenkt, sodass der Reflexionswinkel bei gleich einfallendem Licht24 gegenüber der Situation in4 unterschiedlich ist. Durch die unterschiedlichen Reflexionswinkel ist jedoch der Krümmungsradius der reflektierenden Feldfacette22 für eine Fokussierung des reflektierten Lichts25 auf die Pupillenfacette23 nicht in jeder Winkelstellung optimal eingestellt, sodass gemäß der Erfindung eine Anpassung des Krümmungsradius der Spiegelfläche an den veränderten Reflexionswinkel vorgenommen werden kann. Da der Reflexionswinkel im Wesentlichen durch eine Verkippung der Spiegelfacette im Facettenspiegel gegeben ist, kann somit der Krümmungsradius der Spiegelfläche der Spiegelfacette in Abhängigkeit von dem Kippwinkel bzw. allgemein der Ausrichtung oder Orientierung des reflektierenden Facettenspiegels eingestellt werden. - Die
6 und7 zeigen zwei Ausführungsformen von Spiegelfacetten22 mit unterschiedlichen Krümmungsradiuseinstelleinrichtungen. Bei der Ausführungsform der6 erfolgt die Verstellung des Krümmungsradius der Spiegelfläche30 durch mechanische Aktuatoren26 beispielsweise in Form von Piezoelementen, die beabstandet zu einer Halterung27 des Spiegels mechanisch gegen die Ränder des Spiegelelements drücken und dieses entsprechend so verformen können, dass der Krümmungsradius der Spiegelfläche30 verändert wird. Für die geeignete Veränderung des Krümmungsradius können mehrere Aktuatoren vorgesehen werden. - Bei der Ausführungsform der
7 ist die Spiegelfacette bzw. deren Grundkörper aus einem Materialverbund aus zwei unterschiedlichen Materialien28 ,29 , beispielsweise in Form eines Bimetalls, aufgebaut, sodass durch die unterschiedlichen thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Materialien28 ,29 bzw. der dadurch gebildeten Schichten des Spiegelgrundkörpers bei einer Temperaturänderung eine unterschiedliche Deformation auftritt, die genutzt werden kann, um entsprechend unterschiedliche Krümmungsradien der Krümmung der Spiegelfläche zu bewirken. Anstelle eines Materialverbunds aus zwei Materialien mit unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffizienten, beispielsweise in Form eines Bimetalls, kann auch ein Werkstoff gewählt werden, der unterschiedliche Formgebungen durch Gefügeveränderungen in Abhängigkeit von der Umgebungstemperatur ermöglicht, wie dies bei Formgedächtnislegierungen der Fall ist. Entsprechend könnte der Spiegelgrundkörper auch aus einer Formgedächtnislegierung gebildet sein, welche beispielsweise die Spiegelfacette in zwei Zustände mit unterschiedlichen Krümmungsradien versetzen kann, wenn zwischen zwei Temperaturen gewechselt wird. - Entsprechend kann eine Krümmungsradiuseinstelleinrichtung, wie sie mit Spiegelfacetten
22 gemäß der Ausführungsform der7 zusammenwirkt, entsprechende Temperiereinrichtungen aufweisen, wie beispielsweise Widerstandsheizungen, Infrarotstrahler31 und dergleichen. Beispielhaft ist lediglich die Anordnung von zwei Infrarotstrahlungsheizgeräten31 gezeigt, die durch entsprechendes Betätigen eine Temperaturerhöhung des Spiegelelements und bei entsprechendem Abschalten eine Temperaturerniedrigung des Spiegelelements ermöglichen, sodass die Spiegelfacette22 in Zustände mit verschiedenen Krümmungsradien der Spiegelfläche gebracht werden kann. - Obwohl die vorliegende Erfindung anhand der Ausführungsbeispiele detailliert beschrieben worden ist, ist für den Fachmann selbstverständlich, dass die Erfindung nicht auf diese Ausführungsbeispiele beschränkt ist, sondern dass vielmehr Abwandlungen in der Weise möglich sind, dass einzelne Merkmale weggelassen oder andersartige Kombinationen von Merkmalen verwirklicht werden können, solange der Schutzbereich der beigefügten Ansprüche nicht verlassen wird.
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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- Zitierte Patentliteratur
-
- DE 10219514 A1 [0003]
- DE 102008049586 A1 [0003]
- WO 2012/041744 A1 [0008]
Claims (15)
- Facettenspiegel für eine Projektionsbelichtungsanlage mit mehreren Spiegelfacetten (
22 ,23 ), wobei mindestens eine Spiegelfacette eine optische Fläche (30 ) mit einer Krümmung aufweist, die einen ersten Krümmungsradius hat, dadurch gekennzeichnet, dass der Facettenspiegel eine Einrichtung (26 ,31 ) zur Veränderung des Krümmungsradius der Spiegelfacette von dem ersten Krümmungsradius zu mindestens einem zweiten Krümmungsradius umfasst. - Facettenspiegel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Einrichtung zur Veränderung des Krümmungsradius mindestens einen Aktuator (
26 ) umfasst, der durch mechanische Krafteinwirkung die Spiegelfacette von einem ersten zu einem zweiten Krümmungsradius deformiert. - Facettenspiegel nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Aktuator (
26 ) mindestens ein Piezoelement umfasst oder durch dieses gebildet ist. - Facettenspiegel nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Einrichtung zur Veränderung des Krümmungsradius mindestens ein Temperierelement (
31 ) umfasst. - Facettenspiegel nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelfacette eine Formgedächtnislegierung oder ein Bimetall (
28 ,29 ) umfasst, sodass die Spiegelfacette (22 ,23 ) durch Temperaturänderung von dem ersten zu dem zweiten Krümmungsradius schaltbar ist. - Facettenspiegel nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Temperierelement (
31 ) durch mindestens eine Komponente gebildet ist oder diese umfasst, die aus der Gruppe ausgewählt ist, die Widerstandsheizelemente, Strahlungsheizelemente, Infrarotheizelemente und Peltierelemente umfasst. - Facettenspiegel nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelfacette (
22 ,23 ) beweglich, insbesondere kippbar gelagert ist. - Facettenspiegel nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der erste und/oder der zweite Krümmungsradius im Bereich von 10 Zentimetern bis 2 m, insbesondere 50 cm bis 1 m liegt.
- Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Facettenspiegel (
6 ,7 ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche. - Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Facettenspiegel ein Feldfacettenspiegel (
6 ) und/oder ein Pupillenfacettenspiegel (7 ) ist. - Verfahren zum Betrieb eines Facettenspiegels, insbesondere eines Facettenspiegels nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei der Facettenspiegel mindestens eine Spiegelfacette (
22 ,23 ) mit einer optischen Fläche (30 ) mit einer Krümmung aufweist, die einen ersten Krümmungsradius hat, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Krümmungsradius der mindestens einen Spiegelfacette zu mindestens einem zweiten Krümmungsradius verändert wird. - Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Veränderung des ersten Krümmungsradius zu einem zweiten Krümmungsradius zur Annäherung eines realen Krümmungsradius an einen vorbestimmten Krümmungsradius dient.
- Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelfacette (
22 ,23 ) mindestens um eine, vorzugsweise um zwei senkrecht zueinander angeordnete Drehachsen verkippbar ist und dass die Veränderung des ersten Krümmungsradius zu einem zweiten Krümmungsradius in Abhängigkeit von dem Kippwinkel der Spiegelfacette erfolgt. - Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere einer Projektionsbelichtungsanlage nach einem der Ansprüche 9 oder 10, mit einem Facettenspiegel, vorzugsweise nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei der Facettenspiegel mindestens eine Spiegelfacette (
22 ,23 ) mit einer optischen Fläche (30 ) mit einer Krümmung aufweist, die einen ersten Krümmungsradius hat, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Krümmungsradius der mindestens einen Spiegelfacette zu mindestens einem zweiten Krümmungsradius verändert wird. - Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Spiegelfacette als Manipulator für die Abbildungseigenschaften eingesetzt wird.
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Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016113117A1 (de) * | 2015-01-13 | 2016-07-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum herstellen eines optischen elements für ein optisches system, insbesondere für eine mikrolithographische projektionsbelichtungsanlage |
EP3101477A4 (de) * | 2014-01-28 | 2017-08-09 | Prismlab China Ltd. | Lichthärtende 3d-druckvorrichtung und bildbelichtungssystem dafür |
NL1041787A (en) * | 2016-03-30 | 2017-10-04 | Entechna B V | Adaptable segment to replace a segment within a segemented optical surface. |
DE102017221420A1 (de) | 2017-11-29 | 2018-11-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Euv-beleuchtungssystem und verfahren zum erzeugen einer beleuchtungsstrahlung |
DE102018201457A1 (de) | 2018-01-31 | 2019-08-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie |
DE102018123328A1 (de) * | 2018-09-21 | 2020-03-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Baugruppe eines optischen Systems, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum Betreiben eines solchen optischen Systems |
WO2020254542A1 (en) | 2019-06-19 | 2020-12-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Field facet system, optical arrangement and lithography apparatus |
DE102020210771A1 (de) | 2020-08-26 | 2021-08-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Facettenspiegel für eine projektionsbelichtungsanlage und projektionsbelichtungsanlage mit entsprechendem facettenspiegel sowie verfahren zum betrieb derselben |
WO2021213961A1 (en) | 2020-04-23 | 2021-10-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Facet assembly for a facet mirror |
WO2022048925A1 (de) | 2020-09-02 | 2022-03-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Feldfacette für einen feldfacettenspiegel einer projektionsbelichtungsanlage |
DE102020214800A1 (de) | 2020-11-25 | 2022-05-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Feldfacettensystem und lithographieanlage |
DE102020214798A1 (de) | 2020-11-25 | 2022-05-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Feldfacettensystem und lithographieanlage |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10150424A1 (de) * | 2001-10-11 | 2003-04-30 | Siemens Ag | Piezoelektrischer Biegewandler sowie Reflexionssystem |
DE10219514A1 (de) | 2002-04-30 | 2003-11-13 | Zeiss Carl Smt Ag | Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie |
DE102005056914A1 (de) * | 2005-11-29 | 2007-05-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsystem |
DE102007045396A1 (de) * | 2007-09-21 | 2009-04-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Bündelführender optischer Kollektor zur Erfassung der Emission einer Strahlungsquelle |
DE102008049586A1 (de) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Carl Zeiss Smt Ag | Feldfacettenspiegel zum Einsatz in einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikrolithographie |
WO2012041744A1 (en) | 2010-09-28 | 2012-04-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Arrangement for mirror temperature measurement and/or thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus |
DE102011113521A1 (de) * | 2011-09-15 | 2013-01-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
-
2013
- 2013-04-18 DE DE201310206981 patent/DE102013206981A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10150424A1 (de) * | 2001-10-11 | 2003-04-30 | Siemens Ag | Piezoelektrischer Biegewandler sowie Reflexionssystem |
DE10219514A1 (de) | 2002-04-30 | 2003-11-13 | Zeiss Carl Smt Ag | Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie |
DE102005056914A1 (de) * | 2005-11-29 | 2007-05-31 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsystem |
DE102007045396A1 (de) * | 2007-09-21 | 2009-04-23 | Carl Zeiss Smt Ag | Bündelführender optischer Kollektor zur Erfassung der Emission einer Strahlungsquelle |
DE102008049586A1 (de) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Carl Zeiss Smt Ag | Feldfacettenspiegel zum Einsatz in einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikrolithographie |
WO2012041744A1 (en) | 2010-09-28 | 2012-04-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Arrangement for mirror temperature measurement and/or thermal actuation of a mirror in a microlithographic projection exposure apparatus |
DE102011113521A1 (de) * | 2011-09-15 | 2013-01-03 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3101477A4 (de) * | 2014-01-28 | 2017-08-09 | Prismlab China Ltd. | Lichthärtende 3d-druckvorrichtung und bildbelichtungssystem dafür |
WO2016113117A1 (de) * | 2015-01-13 | 2016-07-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum herstellen eines optischen elements für ein optisches system, insbesondere für eine mikrolithographische projektionsbelichtungsanlage |
US10146138B2 (en) | 2015-01-13 | 2018-12-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method for producing an optical element for an optical system, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus |
NL1041787A (en) * | 2016-03-30 | 2017-10-04 | Entechna B V | Adaptable segment to replace a segment within a segemented optical surface. |
DE102017221420A1 (de) | 2017-11-29 | 2018-11-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Euv-beleuchtungssystem und verfahren zum erzeugen einer beleuchtungsstrahlung |
WO2019149462A1 (de) | 2018-01-31 | 2019-08-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die projektionslithographie |
US10928733B2 (en) | 2018-01-31 | 2021-02-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Illumination optic for projection lithography |
DE102018201457A1 (de) | 2018-01-31 | 2019-08-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie |
DE102018123328B4 (de) | 2018-09-21 | 2022-09-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Baugruppe eines optischen Systems, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum Betreiben eines solchen optischen Systems |
DE102018123328A1 (de) * | 2018-09-21 | 2020-03-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Baugruppe eines optischen Systems, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie Verfahren zum Betreiben eines solchen optischen Systems |
WO2020254542A1 (en) | 2019-06-19 | 2020-12-24 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Field facet system, optical arrangement and lithography apparatus |
US11815817B2 (en) | 2019-06-19 | 2023-11-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Field facet system, optical arrangement and lithography apparatus |
WO2021213961A1 (en) | 2020-04-23 | 2021-10-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Facet assembly for a facet mirror |
DE102020205123A1 (de) | 2020-04-23 | 2021-10-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Facetten-Baugruppe für einen Facettenspiegel |
TWI813949B (zh) * | 2020-04-23 | 2023-09-01 | 德商卡爾蔡司Smt有限公司 | 用於琢面鏡的琢面總成 |
DE102020210771A1 (de) | 2020-08-26 | 2021-08-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Facettenspiegel für eine projektionsbelichtungsanlage und projektionsbelichtungsanlage mit entsprechendem facettenspiegel sowie verfahren zum betrieb derselben |
WO2022048925A1 (de) | 2020-09-02 | 2022-03-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Feldfacette für einen feldfacettenspiegel einer projektionsbelichtungsanlage |
WO2022112071A1 (de) | 2020-11-25 | 2022-06-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Feldfacettensystem und lithographieanlage |
WO2022112061A1 (de) | 2020-11-25 | 2022-06-02 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Feldfacettensystem und lithographieanlage |
DE102020214798A1 (de) | 2020-11-25 | 2022-05-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Feldfacettensystem und lithographieanlage |
DE102020214800A1 (de) | 2020-11-25 | 2022-05-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Feldfacettensystem und lithographieanlage |
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