JP4474941B2 - 露光装置 - Google Patents
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Description
W=k×λ/NA (k;定数)
従って、露光装置の解像力を向上させるためには、露光光の波長λを短くするか、あるいは投影光学系の開口数NAを所定値以上に大きくすることが必要となる。
一般に、投影光学系の開口数NAを所定値以上に大きくすることは光学設計の観点から困難であるため、今後は露光光の短波長化が必要となる。例えば、露光光として波長が248nmのKrFエキシマレーザを用いると0.25μmの解像力が得られ、波長が193nmのArFエキシマレーザを用いると0.18μmの解像力が得られる。
従って、その間(非定常状態)に露光動作を行うと、光学系の熱的な非定常状態による特性劣化に起因して良好な像が得られない虞がある。
そこで、露光前に熱的に安定状態にしておくためにEUV光を照射して光学系を加熱する、いわゆる暖機運転を行うことも考えられるが、暖機用EUV光によりウエハが感光しないようにしなければならない。従って、ステージにウエハが搭載されていない状態で予め光源から射出するEUV光を導入することにより光学系を温めておき、その後、一旦光源の運転を停止したところでウエハをステージに搭載して準備し、再度光源の運転を開始して露光を開始する必要がある。
この場合、ウエハをステージに搭載している間にEUV光の照射を停止する時間が存在するため、この間に光学系が冷めてしまい、露光開始時には再び熱的に非定常状態に陥っているという問題が生じる。
なお、本明細書で記載する定常状態とは、光学系(光学素子)の特性変動が露光性能を劣化させない範囲(仕様範囲)に収まっている状態のことである。
本発明の露光装置は、露光光によりパターンの像を、光学素子(CM1〜CM6)を介して基板(112)に投影する露光装置(100)であって、露光光により光学素子(CM1〜CM6)を予備加熱する際に、光学素子(CM1〜CM6)から基板(112)へ向かう露光光を遮光する遮光装置(S)を備え、前記遮光装置は、前記光学素子から前記基板へ向かう前記露光光を当該光学素子に向けて反射する反射面を有し、前記反射面は、反射率を互いに異ならせて複数設けられることを特徴とするものである。
この場合、反射面(R12)からの反射光によっても光学素子(CM1〜CM6)を加熱できるため、予備加熱に要する時間を短くしてスループットを向上させることが可能になる。
この場合も、予備加熱の初期には光学素子に対する露光光の照射量を(露光時よりも)多くすることにより予備加熱時間の短縮化に寄与し、予備加熱の終盤には照射量を減らして露光時と同等とすることで、露光時により近い状態で光学素子(CM1〜CM6)に露光光を照射することができ、より定常状態に近い状態に近づけることが可能になる。この場合、遮光装置(S)に、光学素子(CM1〜CM6)から基板(112)へ向かう露光光の光量を検出する検出装置(S11、S12)が設けられることが好ましい。
なお、本発明をわかりやすく説明するために、一実施例を示す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
(第1実施形態)
図1は、本発明の一実施形態に係る露光装置を模式的に示す図である。
この図に示すEUV露光装置(露光装置)100は、EUV光発生装置(レーザープラズマ光源)101を備えている。このEUV光発生装置101は、球状の真空容器102を備えており、この真空容器102の内部は、図示しない真空ポンプで排気(真空吸引)されている。
真空容器102内の図中上側には、多層膜放物面ミラー104が反射面104aを図中下方(+Z方向)に向けて設置されている。
なお、波長が10〜15nmのEUV光を用いる場合には、モリブデン(Mo)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)等の物質と、シリコン(Si)、ベリリウム(Be)、4ホウ化炭素(B4C)等の物質とを組み合わせた多層膜であってもよい。
この図に示す投影光学系114は、6枚の反射鏡(光学素子)CM1〜CM6を備えており、反射型マスク111で反射されたEUV光をウエハ112に投影する。上流側(反射型マスク111に近い側)の4枚の反射鏡CM1〜CM4は、マスク111上のマスクパターンの中間像を形成する第1反射結像光学系G1を構成し、下流側(ウエハ112に近い側)の2つの反射鏡CM5、CM6は、マスクパターンの中間像をウエハ112上に縮小投影する第2反射結像光学系G2を構成している。
すなわち、本実施の形態においてEUV光は、多層膜放物面ミラー104、EUV光フィルター109、照明光学系113の反射鏡、反射鏡115、116、CM1〜CM6等の光学素子(以下、単に光学素子と称する)を介してウエハ112上にパターン像を形成する。
続いて、本発明の露光装置の第2実施形態について図3を参照して説明する。
第2実施形態では、遮光シャッタの構成が上記第1実施形態と異なっている。
以下、詳細に説明する。
この図に示す遮光シャッタSは、上面(投影光学系114と対向する面)Sfに反射率の異なる反射面R11、R12を有している。より詳細には、遮光シャッタSは反射率がほぼゼロの素材で形成されており、この素材が露出する箇所が反射面R11となっている。そして、上面Sfの一部は、多層膜が形成され、相対的に反射率の高い反射面R12となっており、投影光学系114から出射したEUV光を投影光学系114に向けて、より詳細には第6凹面反射鏡CM6に向けて反射する構成となっている。反射面R12は、遮光シャッタSに対するEUV光の照明領域Aよりも大きな範囲に形成されている。
また、反射面R11、R12のそれぞれには、当該反射面R11、R12をEUV光の光路に位置させたときの照明領域A、A内にEUV光の光量を検出する光電センサ(検出装置)S11、S12が設けられている。光電センサS11、S12の検出結果は、制御装置CONTに出力される。
これにより、反射面R11の反射光による光学素子への照射がなくなるため、過度な加熱を防止して光学素子の定常状態を維持することが可能になる。
この場合、暖機運転をより高精度に管理することが可能になり、常に定常状態での露光処理を実施することができる。
また、光学素子を温める手段として他の手段を併用することも可能である。
マスクステージ117の移動により発生する反力は、投影光学系114に伝わらないように、特開平8−330224号公報(USP 5,874,820)に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。また、特開平8−63231号公報(USP 6,255,796)に記載されているように運動量保存則を用いて反力を処理してもよい。
CONT 制御装置(調整装置)
S 遮光シャッタ(遮光装置)
S11、S12 光電センサ(検出装置)
R11、R12 反射面
100 EUV露光装置(露光装置)
104 多層膜放物面ミラー(光学素子)
108 EUV光(露光光)
109 EUV光フィルター(光学素子)
112 ウエハ(基板)
114 投影光学系
115、116 反射鏡(光学素子)
CM1 第1凹面反射鏡(光学素子)
CM2 第2凹面反射鏡(光学素子)
CM3 第3凸面反射鏡(光学素子)
CM4 第4凹面反射鏡(光学素子)
CM5 第5凸面反射鏡(光学素子)
CM6 第6凹面反射鏡(光学素子)
Claims (5)
- 露光光によりパターンの像を、光学素子を介して基板に投影する露光装置であって、
前記露光光により前記光学素子を予備加熱する際に、前記光学素子から前記基板へ向かう前記露光光を遮光する遮光装置を備え、
前記遮光装置は、前記光学素子から前記基板へ向かう前記露光光を当該光学素子に向けて反射する反射面を有し、
前記反射面は、反射率を互いに異ならせて複数設けられることを特徴とする露光装置。 - 請求項1記載の露光装置において、
前記予備加熱時に、前記光学素子の加熱状態に基づいて前記光学素子に対する前記露光光の照射量を調整する調整装置を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項2記載の露光装置において、
前記遮光装置には、前記光学素子から前記基板へ向かう前記露光光の光量を検出する検出装置が設けられることを特徴とする露光装置。 - 請求項1から3のいずれかに記載の露光装置において、
前記露光光がX線であることを特徴とする露光装置。 - 請求項4記載の露光装置において、
前記光学素子は、マスクのパターンを前記基板に結像させるための複数の反射鏡を含み、
前記遮光装置は、光路に沿って最も前記基板に近い反射鏡と前記基板との間に配置されることを特徴とする露光装置。
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