JP2001156107A - Icチップ、およびこれの導体ワイヤ接続方法 - Google Patents
Icチップ、およびこれの導体ワイヤ接続方法Info
- Publication number
- JP2001156107A JP2001156107A JP34024299A JP34024299A JP2001156107A JP 2001156107 A JP2001156107 A JP 2001156107A JP 34024299 A JP34024299 A JP 34024299A JP 34024299 A JP34024299 A JP 34024299A JP 2001156107 A JP2001156107 A JP 2001156107A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- external connection
- chip
- terminal
- connection terminals
- bonding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/03—Manufacturing methods
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/0212—Auxiliary members for bonding areas, e.g. spacers
- H01L2224/02122—Auxiliary members for bonding areas, e.g. spacers being formed on the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/02163—Auxiliary members for bonding areas, e.g. spacers being formed on the semiconductor or solid-state body on the bonding area
- H01L2224/02165—Reinforcing structures
- H01L2224/02166—Collar structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/03—Manufacturing methods
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/0401—Bonding areas specifically adapted for bump connectors, e.g. under bump metallisation [UBM]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/04042—Bonding areas specifically adapted for wire connectors, e.g. wirebond pads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05553—Shape in top view being rectangular
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05554—Shape in top view being square
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/0601—Structure
- H01L2224/0603—Bonding areas having different sizes, e.g. different heights or widths
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/061—Disposition
- H01L2224/0612—Layout
- H01L2224/0615—Mirror array, i.e. array having only a reflection symmetry, i.e. bilateral symmetry
- H01L2224/06153—Mirror array, i.e. array having only a reflection symmetry, i.e. bilateral symmetry with a staggered arrangement, e.g. depopulated array
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/11—Manufacturing methods
- H01L2224/1147—Manufacturing methods using a lift-off mask
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/48463—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
- H01L2224/48465—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/4847—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
- H01L2224/48471—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond the other connecting portion not on the bonding area being a ball bond, i.e. wedge-to-ball, reverse stitch
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/48475—Connecting portions connected to auxiliary connecting means on the bonding areas, e.g. pre-ball, wedge-on-ball, ball-on-ball
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/49105—Connecting at different heights
- H01L2224/49107—Connecting at different heights on the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/494—Connecting portions
- H01L2224/4943—Connecting portions the connecting portions being staggered
- H01L2224/49431—Connecting portions the connecting portions being staggered on the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/494—Connecting portions
- H01L2224/4943—Connecting portions the connecting portions being staggered
- H01L2224/49433—Connecting portions the connecting portions being staggered outside the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/494—Connecting portions
- H01L2224/4945—Wire connectors having connecting portions of different types on the semiconductor or solid-state body, e.g. regular and reverse stitches
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/78—Apparatus for connecting with wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/78—Apparatus for connecting with wire connectors
- H01L2224/7825—Means for applying energy, e.g. heating means
- H01L2224/783—Means for applying energy, e.g. heating means by means of pressure
- H01L2224/78301—Capillary
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/85009—Pre-treatment of the connector or the bonding area
- H01L2224/85051—Forming additional members, e.g. for "wedge-on-ball", "ball-on-wedge", "ball-on-ball" connections
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/8512—Aligning
- H01L2224/85148—Aligning involving movement of a part of the bonding apparatus
- H01L2224/85169—Aligning involving movement of a part of the bonding apparatus being the upper part of the bonding apparatus, i.e. bonding head, e.g. capillary or wedge
- H01L2224/8518—Translational movements
- H01L2224/85181—Translational movements connecting first on the semiconductor or solid-state body, i.e. on-chip, regular stitch
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/8512—Aligning
- H01L2224/85148—Aligning involving movement of a part of the bonding apparatus
- H01L2224/85169—Aligning involving movement of a part of the bonding apparatus being the upper part of the bonding apparatus, i.e. bonding head, e.g. capillary or wedge
- H01L2224/8518—Translational movements
- H01L2224/85191—Translational movements connecting first both on and outside the semiconductor or solid-state body, i.e. regular and reverse stitches
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/852—Applying energy for connecting
- H01L2224/85201—Compression bonding
- H01L2224/85205—Ultrasonic bonding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01004—Beryllium [Be]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01014—Silicon [Si]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01019—Potassium [K]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01047—Silver [Ag]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01074—Tungsten [W]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01078—Platinum [Pt]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/095—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00 with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/013 - H01L2924/0715
- H01L2924/097—Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
- H01L2924/09701—Low temperature co-fired ceramic [LTCC]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/102—Material of the semiconductor or solid state bodies
- H01L2924/1025—Semiconducting materials
- H01L2924/10251—Elemental semiconductors, i.e. Group IV
- H01L2924/10253—Silicon [Si]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Credit Cards Or The Like (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
れる電子機器の小型化に貢献できるとともに、当該IC
チップを実装対象物と導体ワイヤにより接続する際の作
業効率を改善する。 【解決手段】 主面2aに、回路、およびこの回路に導
通する複数の外部接続用端子20A,21b,22bが形成さ
れたICチップ1Bにおいて、複数の外部接続用端子20
A,21b,22bのうちの少なくとも一部を、主面2aの
中央部において突出するバンプ状の第1外部接続用端子
21bとし、たとえば第1外部接続用端子21bを複数個形
成し、これらの第1外部接続用端子21bが列状に配置す
る。また、外部接続用端子20A,21b,22bのうちの一
部を、第1外部接続用端子21bの列に隣接して平行に並
ぶようにして列状に配置された複数の第2外部接続用端
子22bとし、たとえば第1外部接続用端子21bと第2外
部接続用端子22bとを全体として千鳥状に配置する。
Description
どのICチップ、およびこのICチップを実装した対象
物と当該ICチップとの間の導体ワイヤ接続方法に関す
る。
型のサーマルプリントヘッド8においては、基板80の一
側縁に沿って延びるコモンライン81からその幅方向に延
びるとともに櫛歯状に設けられた複数のコモン電極81A
と、隣り合うコモン電極81Aの間にその一端部82bが位
置する複数の個別電極82とが、基板80上に設けられてい
る。基板80上にはさらに、各コモン電極81Aおよび各個
別電極82に対して、それぞれの先端部81aおよび一端部
82bにおいて交差するようにして一連に延びる発熱抵抗
体83が設けられている。そして、発熱抵抗体83における
隣り合うコモン電極81Aの間の領域(図18においてクロ
スハッチングを施した領域)が、それぞれ発熱素子83a
とされている。
極82の他端部には、端子パッド82a′,82a″が設けら
れており、これがドライブIC1の端子パッド21,22に
対して、導体ワイヤW1 ,W2 を介して接続され、各発
熱素子83aのそれぞれが個別に駆動可能とされている。
各ドライブIC1は、所定数、たとえば144個の発熱
素子83aの駆動を担当しており、かかる場合には、ドラ
イブIC1としては、発熱素子83aの駆動用に、たとえ
ば144個の端子パッド21,22、が一側縁に沿って形成
されたものが使用される。このとき、1個のドライブI
C1は、144本の導体ワイヤW1 ,W2 を介して個別
電極82と接続されるため、各導体ワイヤW1 ,W2 どう
しの接触などを回避する必要がある。そのため、1のド
ライブIC1が駆動を担当する個別電極82の端子パッド
82a′,82a″の群や、ドライブIC1の端子パッド2
1,22の群は、各々千鳥状に配置され、ドライブIC1
の一側縁に遠い端子パッド21,82a′どうしが導体ワイ
ヤW1 により、近い端子パッド22,82a″どうしが互い
に導体ワイヤW2 により接続される。
れるドライブIC1のように、多数の端子パッド21,22
が設けられるICチップでは、各端子パッド21,22は、
主面の側縁部に並ぶようにして形成するのが通常であ
る。これは、端子パッド21,22を主面の中央部に形成し
た場合には、端子パッド21,22から周縁までの距離が大
きくなるため、導体ワイヤW1 ,W2 がICチップ1に
接触しやすくなるからである。
の周縁部に形成せずに、このような問題を回避するため
には、導体ワイヤW1 ,W2 の種類(太さや素材など)
の他、ファーストボンディング部位とセカンドボンディ
ング部位とを繋ぐ導体ワイヤのループ形状(キャピラリ
の移動経路)やファーストボンディングにおけるボール
形状の条件出しなど、設定すべきパラメータが多く、そ
の計算は必ずしも容易ではない。結局、ワイヤボンディ
ングの条件だしの簡便性などから、端子パッド21,22
は、ドライブIC1の周縁部に形成するのが好ましい
が、これではドライブIC1の小型化を達成できないば
かりか、これが搭載される電子機器(たとえばサーマル
プリントヘッド8)の小型化へ貢献することが困難とな
る。
は、比較的に力学的負荷の小さいファーストボンディン
グ(ボールボンディング)をドライブIC1の端子パッ
ド21,22に対して行った後に、比較的に力学的負荷の大
きいセカンドボンディング(ステッチボンディング)を
個別電極82の端子パッド82a′,82a″に対して行うと
いった作業を繰り返し行うことにより達成される。これ
は、ドライブIC1上でセカンドボンディングを行うと
すれば、ボンディング作業の際に作用する力学的負荷に
よりドライブIC1が損傷してしまうことが懸念される
からである。
は、ドライブIC1の端子パッド21(22)から個別電極
82の端子パッド82a′(82a″)にキャピラリを移動さ
せて導体ワイヤによりループを形成した後に、基板80側
の端子パッド82a′から、再びドライブIC1側の端子
パッド22(21)にキャピラリを戻してファーストボンデ
ィングを行う必要がある。ところが、ワイヤループ形成
後に、キャピラリをドライブIC1側に戻す作業は、ワ
イヤループ形成作業とは直接関係しないため、この作業
はキャピラリの移動距離を無用に長くしてしまうばかり
か、相当のタイムロスを生じることとなり、作業効率的
に不利なものとなる。
されたものであって、ICチップの小型化、ひいてはこ
れが搭載される電子機器の小型化に貢献できるととも
に、当該ICチップを実装対象物と導体ワイヤにより接
続する際の作業効率を改善することをその課題とする。
は、次の技術的手段を講じている。
供されるICチップは、回路、およびこの回路に導通す
る複数の外部接続用端子が形成された主面を有するIC
チップであって、上記複数の外部接続用端子のうちの少
なくとも一部は、上記主面の中央部において突出するバ
ンプ状の第1外部接続用端子であることを特徴としてい
る。
リント配線基板などの適宜の対象物に実装した場合に
は、バンプ状でない外部接続用端子(ICチップの主面
と同一または略同一高さとされた端子)よりも、バンプ
状とされた第1外部接続用端子のほうが基板に対して高
位置となる。つまり、外部接続用端子を主面の中央部に
形成する場合、対象物の端子からのICチップ上のワイ
ヤボンディング部位への仰角が、外部接続用端子がバン
プ状とされた場合のほうが、非バンプ状とされた場合に
比べて大きい。
間を導体ワイヤを介して接続する場合に、導体ワイヤが
ICチップと接触してしまうこと回避するために最低限
必要とされる導体ワイヤの撓み量が、外部接続用端子が
バンプ状とされた端子のほうが小さくて良いことを意味
している。このため、バンプ状とされた第1外部接続用
端子では、これを対象物の端子と接続する場合の導体ワ
イヤのループ形状の制約が小さい。つまり、外部接続用
端子を主面の中央部に形成する場合において、これを主
面から突出するバンプ状とすれば、使用すべき導体ワイ
ヤの種類(素材や太さ)の選択の自由度が高く、しかも
導体ワイヤのループ形状、ひいてはキャピラリの移動経
路などの条件出しが簡易に行える。
主面の中央部に第1外部接続用端子を形成したとして
も、導体ワイヤとICチップとの接触の問題を簡易に回
避することができる。それどころか、上記ICチップで
は、外部接続用端子のうちの少なくとも一部が、主面の
中央部に形成されているため、外部接続用端子の全てが
主面の周縁部に形成されている場合に比べて、ICチッ
プを小型化できる。これにより、上記ICチップは、当
該ICチップが搭載される電気機器の小型化に貢献する
ことができる。
ても、複数個であってもよく、ICチップの種類や用途
により適宜設定すればよい。たとえば、第1外部接続用
端子を複数個形成する場合には、これらの第1外部接続
用端子を列状に並ぶようにして形成してもよいし、散点
状に形成してもよい。また、第1外部接続用端子を列状
に形成する場合には、この列に隣接して平行に並ぶよう
にして複数の第2外部接続用端子を形成してもよい。
およびこの回路に導通する複数の外部接続用端子が形成
された主面を有するICチップであって、上記複数の外
部接続用端子のうちの少なくとも一部は、上記主面にお
ける同一方向に交互に、かつ全体として列状に並ぶ複数
の第1外部接続用端子および第2外部接続用端子である
とともに、少なくとも上記各第1外部接続用端子は、バ
ンプ状に形成されていることを特徴とする、ICチップ
が提供される。
よび第2外部接続用端子は、交互かつ全体として列状に
形成されているため、サーマルプリントヘッドのドライ
ブICのように、多数の端子を列状に形成する必要があ
るICチップとして使用可能である。
接続用端子の列は、主面の中央部および周縁部のいずれ
に形成してもよいが、ICチップの小型化の観点から
は、中央部に設けるのが好ましい。
述した本願発明の第1および第2の側面に記載した第1
外部接続用端子および第2外部接続用端子の双方を有す
るいずれかのICチップにおいて、上記第1外部接続用
端子および上記第2外部接続用端子は、全体として千鳥
状に配置されている。
ヘッド用のドライブICとして使用される場合には、多
数の導体ワイヤによりICチップと基板の個別電極との
間が接続されるため、隣り合う導体ワイヤどうしの接触
を確実に回避する必要がある。これに対して、第1外部
接続用端子および第2外部接続用端子が全体として千鳥
状に配置されていれば、隣り合う導体ワイヤどうしが互
いに位置ずれしてループを形成することとなるため、隣
り合う導体ワイヤどうしの接触を回避することが可能と
なる。
に優れる金属(金、銀、銅、および白金など)、あるい
は接続用の導体ワイヤと同種の金属により形成するのが
好ましい。導体ワイヤとしては、金により形成されたも
のが汎用されており、また金は展性や延性に優れるた
め、第1外部接続用端子は金により形成するのが最も好
ましい。
に優れる金属により形成すれば、第1外部接続用端子を
比較的に大きな力学的負荷が作用するセカンドボンディ
ング部位とすることが可能となる。すなわち、セカンド
ボンディングの際に作用する力学的負荷が、第1外部接
続用端子により吸収・緩和されるため、セカンドボンデ
ィングによりICチップが損傷してしまうといったこと
を問題視する必要がなくなるからである。また、第1外
部接続用端子を導体ワイヤと同種の金属により形成した
場合には、ボンディングに際して超音波を付与すれば、
第1外部接続用端子と導体ワイヤとの界面での相互拡散
が生じ、高い接続強度が得られる。
た本願発明の第1および第2の側面において記載した第
1外部接続用端子部および第2外部接続用端子を有する
ICチップと、このICチップの実装状態において上記
第1外部接続用端子および上記第2外部接続用端子の列
に平行または略平行に、かつ全体として列状に第1端子
と第2端子とが交互に配置形成された対象物と、の間
を、導体ワイヤを介して接続する方法であって、上記第
1端子に対してファーストボンディングを行った後に、
上記第1外部接続用端子に対してセカンドボンディング
を行う第1ステップと、上記第2外部接続用端子に対し
てファーストボンディングを行った後に、上記第2端子
に対してセカンドボンディングを行う第2ステップと、
を交互に繰り返し行うことを特徴とする、ICチップの
導体ワイヤ接続方法が提供される。
プに次いで第2ステップが行われる場合には、対象物の
第1端子→ICチップの第1外部接続用端子→ICチッ
プの第2外部接続用端子→対象物の第2端子の順でボン
ディングが行われる。一方、第2ステップに次いで第1
ステップが行われる場合には、ICチップの第2外部接
続用端子→対象物の第2端子→対象物の第1端子→IC
チップの第1外部接続用端子の順でボンディングが行わ
れる。
からの次のファーストボンディング部位への移動距離
は、ICチップにおいて隣り合う第1および第2外部接
続用端子の間の距離、あるいは対象物において隣り合う
第1端子および第2端子の間に距離に対応し、その距離
は、ICチップの各外部接続用端子と対象物の各端子と
の間の距離に比べて極めて小さい。したがって、ICチ
ップ側の端子をファーストボンディング部位とするとと
もに、対象物側の端子をセカンドボンディング部位とす
る場合のように、対象物へのセカンドボンディングが終
了した後に、ICチップのファーストボンディング部位
までキャピラリを移動させる従来の方法に比べて、キャ
ピラリに移動距離が格段に小さくなる。これにより、先
に行われた導体ワイヤ接続作業から次に行われる導体ワ
イヤ接続作業の間のタイムロスが削減される。
は、ICチップ上においてファーストボンディングばか
りでなく、セカンドボンディングも行われるため、セカ
ンドボンディングの際の力学的負荷により、ICチップ
の回路などが損傷してしまうことが懸念される。これに
対して上記方法では、セカンドボンディング部位となる
第1外部接続用端子がバンプ状とされ、好ましくは展性
や延性に優れる金などにより形成されたICチップが採
用されるため、セカンドボンディングの際に力学的負荷
が、第1外部接続用端子により吸収・緩和されるため、
ICチップの損傷を懸念する必要はない。
付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より
明らかとなろう。
形態を図面を参照して具体的に説明する。ここで、図1
は、本願発明の第1の実施形態に係るICチップを表す
全体斜視図、図2は図1のII−II線に沿う断面図、図3
は図1のICチップの製造に使用されるウエハの全体斜
視図およびその要部拡大平面図、図4は図1のICチッ
プの第1外部接続用端子を形成する工程を説明するため
のウエハの要部断面図、図5は図1のICチップの第1
外部接続用端子と対象物とを導体ワイヤを介して接続し
た状態を表す断面図である。
の第1の実施形態に係るICチップ1Aは、その表面
(主面)2aに、回路や配線(図示略)およびこれらと
導通する複数の端子パッド20A,21Aが中央部および周
縁部に形成された直方体のシリコン基材2を有してい
る。
や配線を覆うようにして、かつ各端子パッド20A,21A
が臨む窓部30が設けられたパシベーション膜3が形成さ
れている。中央部において列状に並ぶようにして形成さ
れた端子パッド21A上には、金などの展性および延性に
優れる金属により、バンプ状の第1外部接続用端子21a
が形成されている。
3に示したシリコンウエハ4から製造される。
面において実線で囲まれる長矩形領域40のそれぞれに、
回路や配線および端子パッド20A′,21A′を形成す
る。この工程は、形成すべき回路の種類などに応じて、
酸化膜の形成、薄膜の堆積、リソグラフィー、エッチン
グ、不純物のドーピングなどの公知の作業を適宜組み合
わせて行うことにより形成される。
A′,21A′が臨むようにしてパシベーション膜3′
(図4参照)を形成する。このパシベーション膜3′
は、たとえば酸化シリコン(SiO2 )や窒化シリコン
(Si3 N4 )などの薄膜(0.5μm程度)をシリコ
ンウエハ4の全体に形成した後に、端子パッド20A′,
21A′に対応する部位を、フォトエッチングなどにより
除去して窓部30′を設けることにより形成される。
に、各長矩形領域40の中央部に並ぶ端子パッド21A′上
に第1外部接続用端子21aをバンプ状に形成する。
4(a)に示すフォトレジスト層5の形成、図4(b)
に示す窓部50の形成(窓開け)、図4(c)に示す金属
層21a′の成長、および図4(d)に示すフォトレジス
ト層5の除去からなる。
えばパシベーション膜3′および端子パッド20A′,21
A′を覆うようにして感光性樹脂層5を形成し、この感
光性樹脂層5を端子パッド21A′に対応するパターンが
形成されたマスクを介して露光した後に、現像により端
子パッド21A′に対応する部位を除去することにより形
成される。フォトレジスト層5の厚みは、形成されるI
Cチップ1Aの形状や大きさにより設定される金属層21
a′(第1外部接続用端子21a)の高さに応じて設定さ
れるが、通常は、20〜100μm程度に設定される。
り端子パッド21A′上に金を成長させることにより形成
される。電気メッキは、たとえば金イオンを含むメッキ
浴内にシリコンウエハ4を浸漬するとともに、当該シリ
コンウエハ4を通電することにより行われる。
定の薬剤を用いたウエットエッチングにより行われる。
ドカッターなどにより各長矩形領域40毎に分割(図4に
おいて仮想線に沿って切断)した後に、洗浄することに
より、図1および図2に示した個々のICチップ1Aが
得られる。
Aは、たとえば図5に示したようにプリント配線基板な
どの対象物6上に実装された状態において、当該対象物
6に設けられた端子パッド60と、上記ICチップ1Aの
第1外部接続用端子21aとの間を導体ワイヤWを介して
接続して使用される。
21Aのうちの一部の端子パッド21Aが主面2aの中央部
に設けられており、端子パッド21Aの形成領域を主面2
aの周縁部に別途確保する必要はないため、そのチップ
サイズを小さくすることができる。
直接的に対象物の端子パッド60と導体ワイヤWを介して
接続されるのではなく、当該端子パッド21Aがバンプ状
とされた第1外部接続用端子21aを介して導通される。
このため、ワイヤボンディング部位(第1外部接続用端
子21aの上面)が主面2aに比べて高位置となる。つま
り、主面2aの中央部に形成された第1外部接続用端子
21aでは、対象物6の端子60からのICチップ1A上の
ワイヤボンディング部位への仰角が、外部接続用端子が
バンプ状とされた場合(θ1 )のほうが、非バンプ状と
された場合(θ 2 )に比べて大きい。
物6との間を導体ワイヤWを介して接続する場合に、導
体ワイヤWがICチップ1Aと接触してしまうこと回避
するために最低限必要とされる導体ワイヤWの撓み量
が、外部接続用端子20A,21aがバンプ状とされた端子
(第1外部接続用端子21a)のほうが小さくて良いこと
を意味している。このため、バンプ状とされた第1外部
接続用端子21aでは、これを対象物6の端子60と接続し
た場合の導体ワイヤWのループ形状の制約が小さい。つ
まり、第1外部接続用端子21aを主面2aの中央部に形
成する場合において、これを主面2aから突出するバン
プ状とすれば、使用すべき導体ワイヤWの種類(素材や
太さ)の選択の自由度が高く、しかも導体ワイヤWのル
ープ形状、ひいてはキャピラリの移動経路などの条件出
しが簡易に行える。
子21aがファーストボンディング部位とされる場合を示
したが、第1外部接続用端子21aが展性や延性に優れる
金などにより形成すれば、第1外部接続用端子21aの上
面をセカンドボンディング部位としてワイヤ接続を図る
こともできる。すなわち、セカンドボンディングは、ス
テッチボンディングと称されるように、キャピラリの先
端部をセカンドボンディング部位に押し付け、導体ワイ
ヤWを押し切ることにより行われるため、セカンドボン
ディング部位に作用する力学的負荷が大きく、主面2a
に形成された回路などが損傷してしまうことが懸念され
る。これに対して、金などの展性や延性の優れる素材に
より一定の高さを有するバンプ状に形成された第1外部
接続用端子21aでは、キャピラリにより付与される力学
的負荷が吸収・緩和され、主面2aに形成された回路な
どに作用する力が小さくなるため、当該第1外部接続用
端子21aをセカンドボンディング部位とすることができ
る。
チップの変形例を図6ないし図11を参照して説明する。
ここで、図6は本願発明に係るICチップの第1変形例
を、図7は第2変形例を、図8は第3変形例を、図9は
第4変形例を、図10は第5変形例を、図11は第6変形例
をそれぞれ表す全体斜視図である。また、第1から第6
変形例のICチップにおける各部材ないし部分などのう
ち、先に説明したICチップ1Aと同様なものについて
は、同一の符号を付し、以下においてその説明を省略す
る。
ップ1Bでは、主面2a上の幅方向の中央部において、
その長手方向に列状して並ぶようにして回路に導通する
複数の端子パッド(図示略)が形成されており、これら
の端子パッド上に、バンプ状の第1外部接続用端子21b
が列状に形成されている。主面2aにはさらに、この第
1外部接続用端子21bの列に隣接して、複数の第2外部
接続用端子22bが非バンプ状に設けられている。これら
の第2外部接続用端子22bは、列状に配置形成されてお
り、第1外部接続用端子21bおよび第2外部接続用端子
22bは、全体として列状かつ千鳥状に配置形成されてい
る。
ップ1Cは、図6を参照して先に説明した第1変形例の
ICチップ1Bと同様に、第1外部接続用端子21cおよ
び第2外部接続用端子22cが設けられ、これらが全体と
して列状かつ千鳥状に配置形成されている。本実施形態
のICチップ1Cでは、第2外部接続用端子22cもまた
第1外部接続用端子21cと同様にバンプ状に形成されて
いる。
ップ1Dにおいても、第1外部接続用端子21dおよび第
2外部接続用端子22dが主面2aの中央部に形成されて
いる。この変形例では、第1外部接続用端子21dがバン
プ状に形成されているとともに第2外部接続用端子22d
が非バンプ状に形成され、これらが交互に形成されて、
全体として1列となっている。
ップ1Eでは、バンプ状とされた第1外部接続用端子21
eおよび非バンプ状とされた第2外部接続用端子22eが
主面2aの側縁部に形成されている。そして、第1外部
接続用端子21eおよび第2外部接続用端子22eが、全体
として列状かつ千鳥状に配置形成されている。なお、図
9においては、非バンプ状の第2外部接続用端子22eが
バンプ状の第1外部接続用端子21eよりも側縁よりに形
成されているが、第1外部接続用端子21eを第2外部接
続用端子22eよりも側縁よりに形成してもよい。
ップ1Fは、バンプ状とされた第1外部接続用端子21f
および第2外部接続用端子22fのそれぞれが主面2aの
側縁部に形成され、全体として列状かつ千鳥状に配置形
成されている。すなわち、第2外部接続用端子22fがバ
ンプ状に形成された点において、図9を参照して説明し
た第4変形例のICチップ1Eと相違している。
ップ1Gでは、主面2aの側縁部において、バンプ状の
第1外部接続用端子21gと非バンプ状の第2外部接続用
端子22gとが交互に、かつ全体として1列に並ぶように
して形成されている。
明の第2の実施形態に係る導体ワイヤ接続方法を説明す
る。ここで、図12は本願発明に係る第2の実施形態の導
体ワイヤ接続方法が適用された一例であるサーマルプリ
ントヘッドを模式的に表した平面図、図13および図14は
図12の要部を拡大した部分平面図および部分斜視図、図
15および図16は、それぞれ本願発明のワイヤ接続方法に
おける第1工程および第2工程を説明するための断面
図、図17はワイヤ接続を行う前の状態を表す図13に相当
する部分平面図である。なお、本実施形態では、図9を
参照して説明した第4変形例のICチップ1Eをサーマ
ルプリントヘッド用基板(以下、単に「基板」という)
に実装し、当該ICチップ1Eの第1および第2外部接
続用端子21e,22eと、基板の個別電極との間を導体ワ
イヤを介して接続する場合を例にとって説明する。
14を参照して、本願発明の導体ワイヤ接続方法が適用可
能である汎用型のサーマルプリントヘッド7の構成につ
いて簡単に説明する。
リントヘッド7は、セラミックやガラスエポキシ樹脂な
どにより長矩形状に形成された基板70を有し、この基板
70の表面における周縁部に沿ってコの字にコモンライン
71が形成されている。基板70の表面にはさらに、長手方
向の一定間隔毎に複数のICチップ1Eが搭載されてい
る。
ン71における一側縁70aに沿う部分からは、基板70の幅
方向に延びる複数のコモン電極71Aが一定間隔毎に形成
されて全体として櫛歯状となっている。コモンライン71
とICチップ1Eとの間の領域には、コモン電極71Aの
先端部71aの間に、その一端部72bが位置するようにし
て複数の個別電極72が形成されている。各コモン電極71
Aおよび各個別電極72に対して、それぞれの先端部71a
および一端部72bにおいて交差するようにして一連に延
びる発熱抵抗体73が設けられている。そして、発熱抵抗
体73における隣り合うコモン電極71Aの間の領域(図14
においてクロスハッチングを施した領域)が、それぞれ
発熱素子73aとされている。なお、サーマルプリントヘ
ッド7が、たとえばA4幅の記録紙に8ドット/mmの
密度で記録を行う場合には、計1728個の発熱素子73
aが設けられる。
個別電極72の他端部は、ICチップ1Eの一辺に沿うよ
うにして基板70の長手方向に並ぶようにして千鳥状に配
置された矩形状のパッド72a′,72a″とされている。
これらのパッド72a′,72a″のうち、ICチップ1E
に遠いものが第1端子72a′であり、近いものが第2端
子72a″である。
わゆるドライブICと称されるものである。たとえばサ
ーマルプリントヘッド7がA4幅の記録紙に8ドット/
mmの密度で記録を行う場合には、たとえば各々が14
4個の発熱素子73aの駆動を担当し、計12個のICチ
ップ1Eが基板70に搭載される。そして、各ICチップ
1Eの一側縁側に、第1外部接続用端子21eおよび第2
外部接続用端子22eが各々72個ずつ設けられる。な
お、第1外部接続用端子21eおよび第2外部接続用端子
22eは、その平面視面積が、たとえば70×70μm程
度とされ、第1外部接続用端子21eの高さは、たとえば
20〜100μm程度とされる。
と基板70の第1端子72a′との間、および第2外部接続
用端子22eと第2端子72a″との間は、導体ワイヤWを
介して接続されている。そして、ICチップ1E側で
は、第1外部接続用端子21eがセカンドボンディング部
位、第2外部接続用端子22eがファーストボンディング
部位とされている一方、基板70側では、第1端子72a′
がファーストボンディング部位、第2端子72a″がセカ
ンドボンディング部位とされている。
の導体ワイヤWによる接続は、第1端子72a′と第1外
部接続用端子21eとを接続する第1ステップと、第2外
部接続用端子22eと第2端子72a″との間を接続する第
2ステップと、を繰り返し行うことにより達成される。
1端子72a′に対して行われるファーストボンディング
と、第1外部接続用端子21eに対して行われるセカンド
ボンディングとからなる。
仮想線で示したように、キャピラリKの先端部から金線
などの導体ワイヤWの先端部を突出させた状態で、導体
ワイヤWの先端部を水素炎やアーク放電などにより溶融
させてボール状とした後に、同図に実線で示すように当
該ボールを第1端子72a′に押し付けることにより行わ
れる。このとき、超音波を付与しつつ、ボールを第1端
子72a′に押し付けるのが好ましい。そうすれば、導体
ワイヤWと第1端子72a′との界面で金属元素の相互拡
散が生じ、強固な接続状態は達成される。
想線に示したように、導体ワイヤWを引き出しつつキャ
ピラリKを所定の経路に沿って第1外部接続用端子21e
にまで移動させた後、同図に実線および矢印で示すよう
にキャピラリKの先端部を第1外部接続用端子21eに対
して下方に押圧するとともに、当該キャピラリKを第1
外部接続用端子21eに対して擦りつけるようにして導体
ワイヤWを引きちぎることにより行われる。このとき、
ファーストボンディングと同様に、セカンドボンディン
グ部位に対して超音波を付与するのが好ましい。
て説明したように、ICチップ1への損傷を回避するた
め、比較的に大きな力学的負荷が作用するセカンドボン
ディングをICチップ1上において行わずに、ICチッ
プ1上ではファーストボンディングのみを行うこととし
ていた。これに対して、本実施形態の導体ワイヤ接続方
法の第1工程では、図15からも明らかなように、基板70
に対してファーストボンディングを行った後に、ICチ
ップ1Eの第1外部接続用端子21eに対してセカンドボ
ンディングを行うようにしている。この第1工程は、第
1外部接続用端子21eが金などの展性や延性に優れる金
属により、しかもバンプ状に形成されているために、I
Cチップ1Eを損傷することなく行うことができる。す
なわち、セカンドボンディングの際の力学的負荷は、第
1外部接続用端子21eのより吸収・緩和されるため、I
Cチップ1Eへの作用する力学的負荷が軽減され、IC
チップ1E上でセカンドボンディングを行うことができ
る。
2外部接続用端子22eに対して行うファーストボンディ
ングと、第2端子72a″に対して行うセカンドボンディ
ングからなり、各ボンディング作業は、先に説明した第
1工程と同様である。
仮想線で示したように、キャピラリKの先端部から突出
する導体ワイヤWの先端部を溶融させてボール状とした
後に、同図に実線で示したように当該ボールを第2外部
接続用端子22eに押し付けることにより行われる。セカ
ンドボンディングは、図16(b)に仮想線で示したよう
に、導体ワイヤWを引き出しつつキャピラリKを所定の
経路に沿って第2端子72a″にまで移動させた後、同図
に実線や矢印で示したように、キャピラリKの先端部を
第2端子72a″に対して下方に押圧するとともに、当該
キャピラリKを第2端子72a″に対して擦りつけるよう
にして導体ワイヤWを引きちぎることにより行われる。
なお、ファーストボンディングやセカンドボンディング
は、ボンディング部位に対して超音波を付与して行うの
が好ましい。
プを交互に繰り返し行えば、図13および図14に示したよ
うに、ICチップ1Eの各外部接続用端子21e,22eと
基板70の各端子72a′,72a″との間が接続される。こ
のような導体ワイヤ接続方法では、第1ステップに次い
で第2ステップが行われる場合と、第2ステップに次い
で第1ステップを行われる場合とが混在する。
の第1端子72a′→ICチップ1Eの第1外部接続用端
子21e→ICチップ1Eの第2外部接続用端子22e→基
板70の第2端子72a″の順でボンディングが行われる。
一方、第2ステップ→第1ステップが行われる場合に
は、第2外部接続用端子22e→第2端子72a″→第1端
子72a′→第1外部接続用端子21aの順でボンディング
が行われる。
を参照すれば明らかなように、セカンドボンディングを
終了してからの次のファーストボンディング部位への移
動距離は、ICチップ1Eにおいて隣り合う第1および
第2外部接続用端子21e,22eの間の距離、あるいは基
板70において隣り合う第1および第2端子72a′,72
a″の間に距離に対応し、その距離は、ICチップ1E
の各外部接続用端子21e,22eと基板70の各端子72
a′,72a″との間の距離に比べて極めて小さい。した
がって、図18および図19を参照して説明した従来のワイ
ヤボンディング方法のように、基板80へのセカンドボン
ディングが終了した後に、ICチップ1のファーストボ
ンディング部位までキャピラリを移動する方法に比べ
て、本実施形態の導体ワイヤの接続方法ではキャピラリ
Kの移動距離が格段に小さくなる。これにより、先に行
われた接続作業から次に行われる接続作業の間のタイム
ロスが削減され、導体ワイヤの接続工程における作業効
率が改善される。
施形態に係る導体ワイヤ接続方法は、本願発明の第1の
実施形態において図6から図8、図9および図10を参照
して説明した第1から第3、第5および第6変形例のI
Cチップ1B,1C,1D1F,1Gについても適用可
能である。すなわち、これらの変形例においては、少な
くとも第1外部接続用端子21b〜21d,21f,21gがバ
ンプ状とされ、この第1外部接続用端子21b〜21d,21
f,21gと第2外部接続用端子22b〜22d,22f,22g
とが全体として列状(一列または千鳥状)に配置されて
いるため、第1外部接続用端子21b〜21d,21f,21g
をセカンドボンディング部位として、第1ステップを行
うことができるため、先に説明した導体ワイヤ接続方法
を適用可能である。
表す全体斜視図である。
全体斜視図およびその要部拡大平面図である。
する工程を説明するためのウエハの要部断面図である。
を導体ワイヤを介して接続した状態を表す断面図であ
る。
全体斜視図である。
全体斜視図である。
全体斜視図である。
全体斜視図である。
す全体斜視図である。
す全体斜視図である。
接続方法を適用した一例であるサーマルプリントヘッド
を模式的に表した平面図である。
工程を説明するための断面図である。
工程を説明するための断面図である。
する部分平面図である。
ントヘッドを表す要部拡大平面図である。
ントヘッドを表す要部拡大斜視図である。
Claims (8)
- 【請求項1】 回路、およびこの回路に導通する複数の
外部接続用端子が形成された主面を有するICチップで
あって、 上記複数の外部接続用端子のうちの少なくとも一部は、
上記主面の中央部において突出するバンプ状の第1外部
接続用端子であることを特徴とする、ICチップ。 - 【請求項2】 上記第1外部接続用端子は、複数個形成
されているとともに、これらの第1外部接続用端子が列
状に並んでいる、請求項1に記載のICチップ。 - 【請求項3】 上記複数の外部接続用端子のうちの一部
は、上記第1外部接続用端子の列に隣接して平行に並ぶ
ようにして形成された複数の第2外部接続用端子であ
る、請求項2に記載のICチップ。 - 【請求項4】 回路、およびこの回路に導通する複数の
外部接続用端子が形成された主面を有するICチップで
あって、 上記複数の外部接続用端子のうちの少なくとも一部は、
上記主面における同一方向に交互に、かつ全体として列
状に並ぶ複数の第1外部接続用端子および第2外部接続
用端子であるとともに、少なくとも上記各第1外部接続
用端子は、バンプ状に形成されていることを特徴とす
る、ICチップ。 - 【請求項5】 上記第1外部接続用端子および上記第2
外部接続用端子の列は、上記主面の周縁部に形成されて
いる、請求項4に記載のICチップ。 - 【請求項6】 上記第1外部接続用端子および上記第2
外部接続用端子は、全体として千鳥状に配置されてい
る、請求項3ないし5のいずれかに記載のICチップ。 - 【請求項7】 上記第1外部接続用端子は、金により形
成されている、請求項1ないし6のいずれかに記載のI
Cチップ。 - 【請求項8】 請求項3ないし7のいずれかに記載した
ICチップと、このICチップの実装状態において上記
第1外部接続用端子および上記第2外部接続用端子の列
に平行または略平行に、かつ全体として列状に第1端子
と第2端子とが交互に配置形成された対象物と、の間
を、導体ワイヤを介して接続する方法であって、 上記第1端子に対してファーストボンディングを行った
後に、上記第1外部接続用端子に対してセカンドボンデ
ィングを行う第1ステップと、上記第2外部接続用端子
に対してファーストボンディングを行った後に、上記第
2端子に対してセカンドボンディングを行う第2ステッ
プと、を交互に繰り返し行うことを特徴とする、ICチ
ップの導体ワイヤ接続方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34024299A JP2001156107A (ja) | 1999-11-30 | 1999-11-30 | Icチップ、およびこれの導体ワイヤ接続方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34024299A JP2001156107A (ja) | 1999-11-30 | 1999-11-30 | Icチップ、およびこれの導体ワイヤ接続方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001156107A true JP2001156107A (ja) | 2001-06-08 |
Family
ID=18335067
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34024299A Pending JP2001156107A (ja) | 1999-11-30 | 1999-11-30 | Icチップ、およびこれの導体ワイヤ接続方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001156107A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7138725B2 (en) | 2003-10-01 | 2006-11-21 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor device |
JP2015029022A (ja) * | 2013-07-30 | 2015-02-12 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2017064945A (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 東芝ホクト電子株式会社 | サーマルプリントヘッド及びサーマルプリンタ |
JP2021150513A (ja) * | 2020-03-19 | 2021-09-27 | 株式会社東芝 | 半導体チップ及び半導体装置 |
WO2022113813A1 (ja) * | 2020-11-30 | 2022-06-02 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 撮像素子パッケージおよび製造方法、並びに電子機器 |
-
1999
- 1999-11-30 JP JP34024299A patent/JP2001156107A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7138725B2 (en) | 2003-10-01 | 2006-11-21 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor device |
JP2015029022A (ja) * | 2013-07-30 | 2015-02-12 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
TWI631680B (zh) * | 2013-07-30 | 2018-08-01 | 瑞薩電子股份有限公司 | 半導體裝置 |
CN109037184A (zh) * | 2013-07-30 | 2018-12-18 | 瑞萨电子株式会社 | 半导体器件 |
US10170402B2 (en) | 2013-07-30 | 2019-01-01 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device |
CN109037184B (zh) * | 2013-07-30 | 2022-05-03 | 瑞萨电子株式会社 | 半导体器件 |
JP2017064945A (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 東芝ホクト電子株式会社 | サーマルプリントヘッド及びサーマルプリンタ |
JP2021150513A (ja) * | 2020-03-19 | 2021-09-27 | 株式会社東芝 | 半導体チップ及び半導体装置 |
JP7249302B2 (ja) | 2020-03-19 | 2023-03-30 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
WO2022113813A1 (ja) * | 2020-11-30 | 2022-06-02 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 撮像素子パッケージおよび製造方法、並びに電子機器 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7459347B2 (en) | Manufacturing method of a semiconductor device | |
US7294532B2 (en) | Method for manufacturing semiconductor device | |
JP3429718B2 (ja) | 表面実装用基板及び表面実装構造 | |
JP4302944B2 (ja) | めっき引込線がない印刷回路基板の製造方法 | |
US6221749B1 (en) | Semiconductor device and production thereof | |
JP2008124437A (ja) | 半導体ウェハ、その製造方法、および半導体チップの製造方法 | |
JP3569025B2 (ja) | 半導体装置、およびそれを用いた電子装置 | |
JP3927783B2 (ja) | 半導体部品 | |
JP2001156107A (ja) | Icチップ、およびこれの導体ワイヤ接続方法 | |
JP3458715B2 (ja) | 半導体デバイスおよびその実装構造体並びにその製造方法 | |
JP2000100859A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2007281510A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP3957928B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH0922912A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2004363224A (ja) | 半導体チップの接続構造 | |
JP3460410B2 (ja) | バンプ付金属リード及びその製造方法 | |
JP3855523B2 (ja) | Icチップと回路基板との接続方法 | |
KR100325925B1 (ko) | 반도체 웨이퍼상에 일정 구조의 금속을 형성하는 방법 | |
JP2842430B2 (ja) | Tabテープ | |
JPH0982742A (ja) | ワイヤボンディング方法 | |
JP3923651B2 (ja) | テープキャリアパッケージの製造方法 | |
US20030042586A1 (en) | Substrate for carrying a semiconductor chip and semiconductor device using same | |
JP3279309B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
KR100608331B1 (ko) | 멀티 칩 패키지 | |
JP3383597B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040407 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050104 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050111 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050314 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050412 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050613 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050726 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050926 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20050929 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20051028 |