JP2001022813A - 不要輻射解析方法 - Google Patents
不要輻射解析方法Info
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Abstract
るEMI解析では処理時間が遅いため、LSI全体を解
析することは非現実的であった。また、ゲートレベルの
論理シミュレーションでは正確に電流変化を再現するこ
とができないため、EMI解析には用いることができな
かった。 【解決手段】ゲートレベルの論理シミュレーションにお
いて、論理シミュレータ4からのイベント情報5から電
流波形算出処理部7を用いて電流の変化を算出し、その
電流変化をFFT処理部9を用いてFFTすることによ
り、EMIの周波数特性を算出し、EMI解析を行う。
Description
I:Electromagnetic Interference)解析方法に係り、
特に、大規模でかつ高速駆動のLSI(大規模半導体集
積回路)に対して高速かつ高精度の論理シミュレーショ
ンを行い、電磁輻射を解析する方法に関する。
と、携帯電話等の通信機器、一般家庭製品や玩具、自動
車まで利用範囲が拡大している。しかし、その一方で、
これらの製品から生じる不要輻射がテレビ・ラジオ等の
受信装置の電波障害や他システムの誤動作の原因として
問題になっている。これらの問題に対して、フィルタリ
ングやシールディングといった製品全体としての対策も
施されているが、部品点数増大・コスト増大・製品上対
策の難しさ等の観点より、LSI単体としてのノイズ抑
制が強く要請されている。
はキーデバイスとして位置付けられおり、製品の競争力
確保のために、LSIの大規模化・高速化が要求されて
いる。製品サイクルが短くなる中で、これらの要求に答
えるためにはLSI設計の自動化が必須であり、現状の
設計自動化技術導入の条件として同期設計を採用する必
要が高まっている。基準クロックに同期して全回路が動
作し、大規模かつ高速駆動のLSIの場合には、その瞬
時電流は非常に大きくなってしまうことになり、不要輻
射の増大を引起すことになる。
持しつつも不要輻射を低減するために不可欠であるEM
I評価が可能なシミュレーション手法に関するものであ
る。
ると、放射ノイズと伝導ノイズがある。LSIからの直
接的な放射ノイズとしてLSIの内部配線から放射され
るノイズもあるが、内部配線はアンテナとしては大きく
ない。もちろん、LSIの動作周波数向上に伴い、LS
Iから直接的に放射されるノイズが将来的に問題となる
とは思われるが、現時点においてはLSI内部の放射ノ
イズは問題になるレベルではない。
のワイヤ、リードフレームやプリント基板上配線など直
接的な接続を通じてプリント基板上の他のデバイスへ影
響を与えるとともに、これらの接続経路を発信源すなわ
ちアンテナとしてノイズを放射する。この接続経路より
なるアンテナはLSI内部の配線と比べると非常に大き
く、不要輻射を考える上で支配的な要素である。
源と信号があるが、近傍の電磁界を考える場合、電源の
電流の変化が電源線をアンテナとして輻射されるノイズ
が支配的であると考えられる。また、信号においては信
号の変化時に生じるリンギング・オーバーシュートが問
題となる場合もあるが、LSI内部電源レベルの変動が
信号波形として伝導することが問題となる場合が多い。
電源・信号どちらの経路を伝導し放射されるノイズも、
電源電流の変化と強く相関があると考えられる。
路の電源電流を説明する。インバータ回路への入力電圧
が変化する場合に、CMOS回路の主な電源電流である
負荷容量充放電電流が流れる。そして、これに加え貫通
電流が加算して流れることになる。このようなCMOS
回路を設計するにあたり、自動設計ツールを用いる上で
の制約により同期化しているが、同期化したことにより
LSI全体の回路が同時に動作するため、基準クロック
に同期して電源のピーク電流が発生する。しかも、高速
化、すなわち周期を短縮するためには、短時間に充放電
できるようにトランジスタを大きくするが、その結果と
してピーク電流が増大する。当然、LSIが大規模化す
ることによってもLSI全体の電源電流は増大する。こ
のようにして、電源のピーク電流が増大し、電源電流が
急峻な変化をするようになってきているが、この急峻な
変化が高調波成分を増大させてしまい、不要輻射の増大
を招いている。
化について高精度のシミュレーションを行うことが、L
SIにおける不要輻射の評価として有効であると考えら
れる。
ジスタレベルで電流解析を行う電流シミュレーション手
法が用いられていた。
フローを示したブロック図である。この方法では、トラ
ンジスタレベルの電流解析手法を用いた解析対象となる
LSIのレイアウト情報から、レイアウトパラメータ抽
出(以下、LPEとする)処理O3を行い、スイッチレ
ベルネットリストについて回路シミュレーションO6、
電流源モデリング処理O8、電源配線LPE処理O1
0、過渡解析シミュレーションO12、FFT処理O1
4の各ステップを行うように構成されている。
しながら説明する。
導体集積回路のレイアウトデータO1と、トランジスタ
素子や各種配線寄生素子(抵抗、容量等)、各素子のパ
ラメータ値、及びそれら抽出結果の出力形式を定義した
LPEルールO2が入力され、そのLPEルールO2に
基づきレイアウトデータO1における各素子のパラメー
タを算出し、ネットリストO4が生成される。尚、本ス
テップでは電源(及びグランド)配線の寄生素子につい
ては、抽出対象にしない。
成されたネットリストO4と解析対象回路において所望
の論理的動作を再現させるためのテストパターンO5が
入力され、内部回路の動作状態に応じた負荷容量充放電
電流や貫通電流等を算出し、各トランジスタ毎の電流波
形情報O7が生成される。尚、本ステップの最初の処理
では電源(及びグランド)電位を変動の無い理想電位と
仮定して処理を行う。
成されたトランジスタ毎の電流波形情報O7が入力さ
れ、それぞれを以降のステップO12で適用できる形式
にモデリングし、電流源素子モデル情報O9が生成され
る。尚、以降のステップO12の処理負荷軽減のために
も、複数個のトランジスタで構成される機能回路ブロッ
ク毎に電流源素子としてモデリングする手法が一般的で
ある。
て、抽出対象がEMI解析対象となるトランジスタ素子
や各種配線寄生素子から、電源及びグランド配線の寄生
素子(抵抗、デカップリング容量等)に代わる点が異な
るのみであるため説明を省略する。尚、本ステップによ
り電源(及びグランド)配線ネットリストO11が生成
される。
生成された電流源素子モデル情報O9と前記ステップO
10より生成された電源(及びグランド)配線ネットリ
ストO11とワイヤやリードフレームのインピーダンス
(抵抗、容量、インダクタンス)O16が入力され、S
PICEに代表される過渡解析シミュレータを使用した
解析により、解析対象回路の電源電圧変動を算出した電
源電圧降下結果O16が生成される。
う。その際に、前記ステップO6の最初の処理では電源
(及びグランド)電位を変動の無い理想電位と仮定した
のに対して、ここでは前記ステップO12より生成され
た電源電圧降下結果O16が入力され、電源電圧変動を
考慮に入れた各トランジスタ毎の電流波形情報O7が再
度生成される。同様に前記ステップO8、O12の再処
理が行われる。
ープ処理を複数回繰り返すことで、電源電圧変動をより
高精度に再現させた電流波形結果O13が生成される。
り生成された電流波形結果O13が入力され、高速フー
リエ変換(以下、FFTとする)を施すことにより、周
波数スペクトラム解析を行なうことが可能となり、EM
I解析結果O15を得ることが出来る。
線LPE処理O10及び電流源モデリング処理O8の合
わせ込みによって検証精度は大きく左右するものの、一
定レベルの解析精度が期待できる。しかし、このような
トランジスタレベルの電流解析にはSPICEに代表さ
れる過渡解析シミュレータを使用するため、解析対象回
路規模に制限があり処理時間も長大となる。半導体集積
回路の大規模化が進んでいる近年、トランジスタレベル
よりも抽象度が高く、高速解析が可能なEMI解析方法
の確立が望まれている。
て、ゲートレベルの電流解析方法が提案されている。こ
のゲートレベルの電流解析方法は、消費電力の解析など
に用いられている。
ートレベル消費電力解析方法は、回路素子の出力ポート
の論理信号が0から1に変化あるいは1から0に変化す
る際の1変化当りの総電流量をあらかじめライブラリ化
し、一般の論理シミュレーション手段で消費電力推定対
象の回路中のインスタンスの出力ポートが0から1に変
化、あるいは1から0に変化した際に前述の1変化当り
総電流量を前記回路全体の各時刻の総電流量に加算して
いくことで回路全体の消費電力(総電流量に外部電圧値
を掛けた値)を推定する方法を用いている。図109に
従来の一般的な従来のゲートレベルの消費電力解析方法
を実行するための装置の一例についてその構成を示す。
同図に示すゲートレベル消費電力解析装置は、回路接続
情報記憶手段1001と、信号変化パターン記憶手段1
002と、素子電流量記憶手段1003と、総電流量記
憶手段1004と、総電流量算出手段1005とからな
る電流量解析装置を用いて実行される。
流解析装置を構成する個々の要素について説明するとと
もに、図110に示すゲートレベルの回路接続情報と、
図111に示す各端子における信号変化パターンと、図
112に示す素子電流量とを用いて図113に示す電流
量を算出する手順を説明する。
なる回路の接続情報である回路接続情報を記憶するもの
であり、あらかじめ図110に示すような回路接続情報
を記憶している。この回路接続情報は一般的にはネット
リストと呼ばれるものである。
と、外部クロック入力ポートCLKと、外部出力ポート
Qと、フリップフロップFF1、FF2と、バッファ素
子BUF1と、素子間を接続する配線D1、Q1とから
構成されている。フリップフロップFF1、FF2は、
データ入力ピンDと、クロック入力ピンCKと、データ
出力ピンQとを持ち、クロック入力ピンCLKに入力さ
れるクロック信号変化の立ち上がりエッジでデータ入力
ピンDの直前の論理値をデータ出力ピンQに伝播する。
Aとデータ出力ピンYとを持ち、データ入力ピンAの論
理値をデータ出力ピンYに出力する。
信号伝播を行う際には遅延1nsをもって伝播されるも
のとする。外部入力ポートDは直接フリップフロップF
F1の入力ピンDに接続されている。外部クロック入力
ポートCLKは外部からのクロック信号変化を入力する
端子であり、直接フリップフロップFF1とFF2の入
力ピンCKに接続されている。外部出力ポートQは直接
フリップフロップFF2の出力ピンQに接続され、この
信号値を出力する。配線D1はバッファBUF1の出力
ピンYとフリップフロップFF2の入力ピンDを接続し
ている。配線Q1はフリップフロップFF1の出力ピン
QとバッファBUF1の入力ピンAを接続している。
象回路接続情報に印加する信号変化パターンを記憶する
ものであり、図111に示すように図110の入力ポー
トCLK、Dに入力される信号変化パターンをあらかじ
め記憶している。横軸は信号変化パターンの変化時刻を
示し、信号変化パターンは各時刻に論理0と論理1のい
ずれかに変化する。
外部端子が1度変化した際に流れる総電流量の情報であ
る素子電流量情報を記憶するものであり、あらかじめ図
112に示すような素子電流量情報を記憶している。1
301はフリップフロップFFのクロック入力端子CK
の信号が変化する時の電流量をあらわしている。130
2はフリップフロップFFの出力端子Qの信号が変化す
る時の電流量をあらわしている。1303はバッファB
UFの出力端子Yの信号が変化した時の電流量をあらわ
している。
示すようなフローチャートを有する。
憶手段1001に記憶された図110の回路接続情報を
読み込む。そして、ステップ1502で信号変化パター
ン記憶手段1002に記憶された図111の信号変化パ
ターンを読み込む。ステップ1503で素子電流量記憶
手段1003に記憶された図112の素子電流量情報を
読み込む。
化パターンを図110の回路接続情報に与え、信号伝播
を行うとともに、素子電流量情報内に記載された回路素
子の外部端子が信号変化を起こした際に、端子に対応す
る電流量を各時刻における総電流量情報に加算する。こ
こで用いる信号伝播方法としては、タイミングシミュレ
ータで用いられる信号伝播方法と同一の手法を用いる。
これは与えた信号変化パターンに応じて現実の回路内部
で発生する信号変化を与えたパターンが影響する回路部
分を追いながら時系列で計算し求めていく方法である。
このタイミングシミュレータによる信号伝播手法は、既
に市販ツールの中で多数実現化され一般的であるため、
詳細な説明は割愛する。信号変化パターンの各ステップ
の信号伝播の結果、各ピンの論理値の変化を図112に
示す。
ンの形式と同様の形式で示されている。信号伝播完了
後、ステップ1505で、算出された図113に示す各
時刻における総電流量情報を総電流量記憶手段1004
に記憶する。総電流量記憶手段1004は、以上の手順
で検出された各時刻における総電流量情報を図113に
示す形式で記憶する。
電流量記憶部に出力負荷容量に依存する(チャージ電流
に依存する)電流の負荷依存係数と依存しない(貫通電
流に依存する)電流の総量を記憶し、別途各配線の容量
情報を読み込み、その容量情報と負荷依存係数の積と負
荷非依存電流の和を電流総量として扱う方法がある。以
上説明したように、図110の従来のゲートレベル消費
電力算出方法では、電流量は1回の入力ピンまたは出力
ピンの信号変化を単位として扱われ電流は一瞬で流れる
ものとして扱われていた。すなわち、電流の総量のみを
求めるものであった。これは消費電力という観点で見れ
ば十分な精度であるが、EMI解析の観点では時間的な
電流の変化の情報が必要となるため不十分であった。
ジスタレベルの電流解析手法を用いた従来例では、一定
レベルの解析精度が期待できるものの、トランジスタレ
ベルの電流解析にはSPICEに代表される過渡解析シ
ミュレータを使用するため、解析対象回路規模に制限が
あり処理時間も長大となる。半導体集積回路の大規模化
が進んでいる近年、トランジスタレベルよりも抽象度が
高く、高速解析が可能であるゲートレベルの電流解析手
法を利用したEMI解析方法の確立が望まれる。
た従来例では、高速解析は可能であるが、電流の総量の
みを求めるものである。従って、消費電力という観点で
は十分であっても、EMI解析の観点では不十分である
という問題があった。
で、高速解析しつつも、電源電流を高精度に解析するこ
とで、シミュレーション上においてLSIの不要輻射を
現実的な時間で評価できる方法を提供することを目的と
するものである。
に、本発明のEMI解析手法は、高速なゲートレベルシ
ミュレーションに対して、電源電流変化の高精度な解析
機能を付加したことを特徴とする。
ョンの実行によってLSIの不要輻射量を解析する方法
において、信号変化の発生時に生成され、発生対象であ
る各セルのインスタンス名、その信号名、発生時刻、遷
移情報を含む各イベント情報から瞬間的な電流量を算出
する工程と、前記瞬間的な電流量をあらかじめ決定され
た規則に従ってモデル化する工程と、前記モデル化する
工程によって算出された電流変化情報を高速フーリエ変
換(以下、FFTとする)処理する工程とを有すること
を特徴とする。ここで瞬間的な電流量とは、イベントが
発生したときに、そのイベントに起因して発生する電流
量のことをいい、イベントとしてセルの出力が変化した
際などに、セルに流れる電流量をそのイベントの発生し
た時刻に瞬時に消費されるものとして扱ったものを瞬間
的な電流量とする。
要輻射解析方法において、前記モデル化する工程は、前
記瞬間的な電流量を一定離散幅にて平均化する工程を有
し、前記FFT処理する工程は、前記一定離散幅にて平
均化する工程によって算出された電流変化情報をFFT
処理する工程であることを特徴とする。
要輻射解析方法において、前記モデル化する工程は、前
記瞬間的な電流量を矩形波の面積が各イベントの電流量
になるように各イベント情報毎に矩形波の高さを算出し
た一定幅の矩形波状にモデル化する工程を有し、前記F
FT処理する工程は、前記矩形波状にモデル化する工程
によって算出された電流変化情報をFFT処理する工程
であることを特徴とする。
不要輻射解析方法において、前記モデル化する工程は、
前記瞬間的な電流量を矩形波の面積が各イベントの電流
量になるように矩形波の幅と高さを算出した相似型の矩
形波状にモデル化する工程を有し、前記FFT処理する
工程は、前記矩形波状にモデル化する工程によって算出
された電流変化情報をFFT処理する工程であることを
特徴とする。
不要輻射解析方法において、前記モデル化する工程は、
各イベント情報毎の前記瞬間的な電流量算出する工程
と、前記電流量と矩形波の幅と高さの関係を示すテーブ
ルを用いて矩形波状にモデル化する工程とを有し、前記
矩形波状にモデル化する工程によって算出された電流変
化情報をFFT処理する工程であることを特徴とする。
不要輻射解析方法において、前記モデル化する工程は、
各イベント情報毎の前記瞬間的な電流量を算出する工程
と、前記入力波形鈍りと矩形波の幅と高さの関係を示す
テーブルを用いて矩形波状にモデル化する工程とを有
し、前記矩形波状にモデル化する工程によって算出され
た電流変化情報をFFT処理する工程であることを特徴
とする。
不要輻射解析方法において、前記モデル化する工程は、
各イベント情報毎の前記瞬間的な電流量を算出する工程
と、前記出力負荷容量と矩形波の幅と高さの関係を示す
テーブルを用いて矩形波状にモデル化する工程を有し、
前記矩形波状にモデル化する工程によって算出された電
流変化情報をFFT処理する工程であることを特徴とす
る。
ずれかに記載の不要輻射解析方法において、前記モデル
化する工程がさらに各セルの電流量と電源抵抗成分から
電圧降下成分を算出し、グローバルな電圧降下成分と瞬
間電流量の関係から、各セルのイベントごとの瞬間的な
電流量を補正する工程を含むことを特徴とする。
ずれかに記載の不要輻射解析方法において、前記モデル
化する工程は、さらに各セルの電流量と電源抵抗成分と
オンチップバイパスコンデンサ成分から電圧降下成分を
算出し、グローバルな電圧降下成分と瞬間電流量の関係
から、各セルのイベントごとの瞬間的な電流量を補正す
る工程を含むことを特徴とする。
いずれかに記載の不要輻射解析方法において、前記モデ
ル化する工程は、さらに各セルの電源RCとセル電流源
を過渡解析し、正確に電圧降下成分を算出し、グローバ
ルな電圧降下成分と瞬間電流量の関係から、各セルのイ
ベントごとの瞬間的な電流量を補正する工程を含むこと
を特徴とする本発明の第11によれば、請求項1に記載
の不要輻射解析方法において、前記モデル化する工程
は、前記瞬間的な電流量を三角波の面積が各イベントの
電流量になるように各イベント情報毎に高さを算出した
一定幅の三角波状にモデル化する工程を有し、前記FF
T処理する工程は、前記三角波状にモデル化する工程に
よって算出された電流変化情報をFFT処理する工程で
あることを特徴とする。
の不要輻射解析方法において、前記モデル化する工程
は、前記瞬間的な電流量を複数次の関数状にモデル化す
る工程を有し、前記FFT処理する工程は、前記複数次
の関数状にモデル化する工程によって算出された電流変
化情報をFFT処理する工程であることを特徴とする。
の不要輻射解析方法において、前記モデル化する工程
は、前記瞬間的な電流量を指数関数状にモデル化する工
程を有し、前記FFT処理する工程は、前記指数関数状
にモデル化する工程によって算出された電流変化情報を
FFT処理する工程であることを特徴とする。
のいずれかに記載の不要輻射解析方法において、前記モ
デル化する工程はさらに、瞬間的な電流量を貫通電流成
分とチャージ電流成分に分けて別々にモデリングする工
程を含むことを特徴とする。
の不要輻射解析方法において、前記モデル化する工程
は、各セルの種類ごとにそのセルのピーク電流値をキャ
ラクタライズしたライブラリを用て矩形波の高さを算出
する工程と、前記瞬間的な電流量を前記矩形波の高さを
算出する工程から算出したピーク電流値とし、面積が各
イベントの電流量になるように矩形波状にモデル化する
工程とを有し、前記FFT処理する工程は、前記矩形波
状にモデル化する工程によって算出された電流変化情報
をFFT処理する工程であることを特徴とする。
載の不要輻射解析方法において、前記矩形波の高さを算
出する工程は、入力波形鈍りとピーク電流の関係を各セ
ルの種類ごとにテーブル化し、キャラクタライズしたラ
イブラリを用いて各セルごとにそのセルの波形鈍り情報
からピーク電流値を算出する工程を含むことを特徴とす
る。
載の不要輻射解析方法において、前記矩形波の高さを算
出する工程は、負荷容量とピーク電流の関係を各セルの
種類ごとにテーブル化し、キャラクタライズしたライブ
ラリを用いて各セルごとにそのセルの負荷容量情報から
ピーク電流値を算出する工程を含むことを特徴とする。
17のいずれかに記載の不要輻射解析方法において、前
記矩形波の高さを算出する工程は、複合セルについては
ピーク電流値を複数もたせ、キャラクタライズしたライ
ブラリを用いて複数の矩形波の高さを算出する工程を含
み、矩形波状にモデル化する工程は複数の矩形波にモデ
ル化する工程であることを特徴とする。
17のいずれかに記載の不要輻射解析方法において、前
記矩形波の高さを算出する工程は、FFセルのライズ/
フォールそれぞれにピーク電流値をもたせ、キャラクタ
ライズしたライブラリを用いて複数の矩形波の高さを算
出する工程を含み、矩形波状にモデル化する工程は複数
の矩形波にモデル化する工程であることを特徴とする。
19のいずれかに記載の不要輻射解析方法において、前
記矩形波の高さを算出する工程が、各セルの状態毎に入
力信号状態を考慮し、ピーク電流値をキャラクタライズ
したライブラリを用いて矩形波の高さを算出する工程を
含むことを特徴とする。
20のいずれかに記載の不要輻射解析方法において、前
記モデル化する工程はさらに、各セルの電流量と電源抵
抗成分から電圧降下成分を算出し、各セル毎に電圧降下
成分と瞬間電流量の関係をテーブル化し、キャラクタラ
イズすることにより、各セルのイベントごとの瞬間的な
電流量を補正する工程を含むことを特徴とする。
20のいずれかに記載の不要輻射解析方法において、前
記モデル化する工程は、各セルの電流量と電源抵抗成分
とオンチップバイパスコンデンサ成分から電圧降下成分
を算出し、各セル毎に電圧降下成分と瞬間電流量の関係
をテーブル化し、キャラクタライズすることにより、各
セルのイベントごとの瞬間的な電流量を補正する工程を
含むことを特徴とする。
0、21、22のいずれかに記載の不要輻射解析方法に
おいて、前記補正する工程は、電圧降下成分の算出及び
電流波形の補正処理を複数回繰り返し実施しする工程を
含むことを特徴とする。
23のいずれかに記載の不要輻射解析方法において、前
記瞬間的な電流量を算出する工程において、さらに瞬間
的な電流量を貫通電流成分とチャージ電流成分に分けて
別々にモデリングする工程を含むことを特徴とする。本
発明の第25によれば、請求項1に記載の不要輻射解析
方法において、前記モデル化する工程は、前記瞬間的な
電流量を三角波の面積が各イベントの電流量になるよう
に、各イベント情報毎にセルの出力端子におけるスリュ
ー情報を考慮して幅を算出するとともに、この幅に基づ
いて高さを算出した三角波状にモデル化する工程を有
し、前記FFT処理する工程は、前記三角波状にモデル
化する工程によって算出された電流変化情報をFFT処
理する工程であることを特徴とする。本発明の第26に
よれば、請求項25に記載の不要輻射解析方法におい
て、前記モデル化する工程は、さらに前記瞬間的な電流
量を当該セルのイベントが立ち上がりもしくは立ち下り
(ライズ/フォール)状態であるかを考慮して、それぞ
れの状態に応じた係数を乗じて算出し、三角波の面積が
各イベントの電流量になるように、前記三角波の高さを
算出する工程を含むことを特徴とする。本発明の第27
によれば、請求項1に記載の不要輻射解析方法におい
て、前記モデル化する工程は、複合セルについては各イ
ベント情報毎の前記瞬間的な電流量を算出する工程と、
前記出力負荷容量と入力および出力スリュー情報に基づ
いて三角波の幅と高さの関係を示すテーブルを用いて、
複合セル内部の段数分に等しい複数個の三角形波状にモ
デル化する工程を有し、前記三角波状にモデル化する工
程によって算出された電流変化情報をFFT処理する工
程であることを特徴とする。本発明の第28の不要輻射
解析装置によれば、論理シミュレーション装置と、前記
論理シミュレーション装置に接続され、信号変化の発生
時に生成され、発生対象である各セルのインスタンス
名、その信号名、発生時刻、遷移情報を含む各イベント
情報から瞬間的な電流量を算出する算出手段と、前記瞬
間的な電流量をあらかじめ決定された規則に従ってモデ
ル化するモデル化手段と、前記モデル化する工程によっ
て算出された電流変化情報を高速フーリエ変換処理手段
とを有し、前記FFT処理手段の出力に基づいて、LS
Iの不要輻射量を解析するようにしたことを特徴とす
る。
1の実施形態について説明する。この方法は、電流波形
算出処理に特徴を有するもので、論理シミュレータから
各セル毎にイベント情報を抽出し、これらのイベント情
報から各セルの瞬間的な変化電流を算出し、その瞬間電
流を一定の時間幅で平均化することにより、より現実に
近い電流変化を算出し、その電流波形算出結果を高速フ
ーリエ変換(FFT)することにより、対象回路の不要
輻射(EMI)成分の周波数特性を得、EMI解析する
ようにしたことを特徴とするものである。
ブロック図である。EMI解析対象となる回路の回路デ
ータを表したネットリスト1、ネットリスト1を動作さ
せるためのテストベクタ2、ネットリスト1構成する各
セルの情報が記述されているライブラリ3からの情報に
基づいてシミュレーションを行う論理シミュレータ4
と、この論理シミュレータで算出された各セル毎のイベ
ント情報5から電流波形を算出する電流波形算出処理部
7と、この電流波形算出処理部7で算出された電流波形
算出結果8に基づいてFFT処理部9でFFT処理を行
い、EMI成分を算出することにより、解析対象回路の
EMI解析結果10を得るようにしたもので、この電流
波形算出処理部7に特徴を有するものである。ここでラ
イブラリ3には各セルの種類毎にそのセルの論理、遅延
情報、瞬間電流値情報が記述されている。論理シミュレ
ータ4は何らかのイベントが発生する度にイベント情報
5を出力する。ここで言うイベントとは、論理シミュレ
ータ4内で何らかの信号変化が発生したことを指す。イ
ベント情報5にはそのイベント情報を出力する原因とな
った処理対象のインスタンス名とその信号名、その時
刻、信号の遷移情報が含まれている。インスタンス名と
はネットリスト1を構成する各セル毎に付けられている
固有名である。6は論理シミュレータ4から出力される
シミュレーション結果である。
なブロック図を示すように、瞬間電流算出処理部11
と、この瞬間電流算出処理部11で得られた処理対象と
なるインスタンスの瞬間電流情報から瞬間電流を算出
し、この瞬間電流算出結果12に基づいて電流波形を一
定時間幅で平均化するように構成されている。この瞬間
電流算出処理部11は、論理シミュレータ4からの各セ
ルのイベント情報5から各セルの瞬間的な電流変化を算
出するもので、技術的には従来の論理シミュレーション
における消費電力算出の技術と同様である。すなわち、
瞬間電流算出処理部11は論理シミュレータ4からのイ
ベント情報5を受け、その処理対象となるインスタンス
の瞬間電流情報をライブラリ3から抽出し、瞬間電流を
算出する。12は瞬間電流算出処理部11から算出した
瞬間電流算出結果である。図3は瞬間電流算出結果12
の例を示すイメージ図である。この図において、縦軸は
電流量it(As),横軸は時刻tである。Tは一定時間
幅で平均化するための時間幅であり、前もって決定され
た定数である。Δtは解析における最小時間単位であ
り、論理シミュレータ4の最小時間単位とは異なる。t
は現在処理時刻であり、論理シミュレータ4のシミュレ
ーション時刻と一致する。itは瞬間電流値を表す。こ
の図のように瞬間電流算出結果では電流波形がδ関数に
なるため、FFT処理によりEMI成分を解析すること
ができない。そこで電流波形平均化処理部13において
瞬間電流算出結果12を一定時間幅で平均化するように
したものである。
を示す。以下の処理は平均化処理が終了するまで、すな
わちtがシミュレーションの終了時刻を超えるまで繰り
返す(ステップ:1010)。まず平均化処理用の電流
バッファであるIbを0にする(1011)。次に現在
時刻tがt+TになるまでIbにi(t)を加える(1
012)(1013)。i(t)とは時刻tにおける瞬
間電流値を示す。次にIb/Tにより時間幅Tにおける
平均電流値Iaveを算出する(1014)。次に変数x
がt−TからtになるまでI(x)にIaveを代入し、
xにΔt加える(1015)(1016)。I(x)と
は時刻xにおける電流値を示す。
り電流波形算出結果8を得ることができる。図5に図3
の瞬間電流算出結果におけるT=5の時の電流波形算出
結果8を示す。この波形をFFT処理部9においてFF
T処理することによりEMI成分の周波数特性を得るこ
とができ、EMI解析結果10を得る事ができる。EM
I解析結果10のサンプルを図6に示す。この結果によ
り、対象回路のEMIの周波数特性を得ることができ、
設計者はそのEMIの対処方法を検討することができ
る。
によりモデル化し、これにFFT処理を行うようにして
いるため、高精度の解析が可能であり、またトランジス
タレベルでの解析に比べ、短時間で処理を行うことがで
きる。
態について説明する。この方法では、論理シミュレータ
4からの各セルのイベント情報5から各セルの瞬間的な
変化電流を算出し、その瞬間的な変化電流を瞬間電流値
が面積となるように波高値を算出した一定の時間幅の矩
形波にモデル化することにより、より現実に近い電流変
化を算出し、その電流波形算出結果をFFTすることに
より、対象回路のEMI成分の周波数特性を得、EMI
解析する。
モデル化した矩形波を示す。iは瞬間電流値であり、t
は現在処理時刻である。Wはモデル化する矩形波の時間
幅である。この値は前もって決定された定数である。h
は矩形波の高さであり、iとWから算出する。
施形態1と同様である。(図1) 図8に本実施形態における電流波形算出処理部7の詳細
なブロック図を示す。11は論理シミュレータ4からの
各セルのイベント情報5から各セルの瞬間的な電流変化
を算出する瞬間電流算出処理部であり、従来の論理シミ
ュレーションにおける消費電力算出の技術と同様であ
る。12は瞬間電流算出処理部11から算出した瞬間電
流算出結果である。図3に瞬間電流算出結果12の例を
示す。この図のように瞬間電流算出結果では電流波形が
δ関数になるため、FFTによりEMI成分を解析する
ことができない。ここまでは実施形態1の電流波形算出
処理と同じである。そしてモデル化に際し、この方法で
はモデル化する矩形波の面積が瞬間電流値になるように
矩形波の高さを算出する第1の矩形波高算出処理部20
と、瞬間電流算出結果12を一定時間幅の矩形波にモデ
ル化する第1の矩形波整形処理部21とによって電流波
形を算出するように構成されている。
形処理フローを示す。以下の処理は電流波形算出処理が
終了するまで各イベント毎に繰り返す(ステップ:10
20)。矩形波の面積はW×hであり、その値はiであ
る。そこでi/Wにより矩形波の高さhを算出する(1
021)。iは処理対象イベントのセルに関する瞬間電
流値である。この処理が第1の矩形波高算出処理部20
に相当する。次に変数xが−W/2からW/2までI
(t+x)にhを加算し、xにΔt加える(1022)
(1023)。I(t+x)は時刻t+xにおける全て
のセルの電流値である。この処理が第1の矩形波整形処
理部21に相当する。
フローにより電流波形算出結果8を得ることができる。
図10に図3の瞬間電流算出結果におけるW=5の時の
電流波形算出結果8の例を示す。この波形をFFT処理
部9がFFT処理することによりEMI成分の周波数特
性を得ることができ、EMI解析結果10を得る事がで
きる。
によりモデル化し、これにFFT処理を行うようにして
いるため、より高精度の解析が可能であり、またトラン
ジスタレベルでの解析に比べ、短時間で処理を行うこと
ができる。
態について説明する。この方法では、論理シミュレータ
からの各セルのイベント情報から各セルの瞬間的な変化
電流を算出し、その瞬間的な変化電流を瞬間電流値が面
積となるように時間幅と波高値の比を一定とした矩形波
にモデル化することにより、現実に近い電流変化を算出
し、その電流波形算出結果をFFTすることにより、対
象回路のEMI成分の周波数特性を得、EMI解析する
方法を説明する。
とモデル化した矩形波を示す。iは瞬間電流値であり、
tは現在処理時刻である。Kは矩形波の波高値と時間幅
の比であり、今回の例では波高値/時間幅とする。この
比は一定であり、この値は前もって適当な値を決定して
おく。hは矩形波の高さであり、iとKの値から算出す
る。wは矩形波の時間幅であり、iと先に算出したhを
用いて算出する。
施形態1と同様である。(図1) 図12に本実施形態における電流波形算出処理部7の詳
細なブロック図を示す。11は論理シミュレータ4から
の各セルのイベント情報5から各セルの瞬間的な電流変
化を算出する瞬間電流算出処理部であり、従来の論理シ
ミュレーションにおける消費電力算出の技術と同様であ
る。12は瞬間電流算出処理部11から算出した瞬間電
流算出結果である。図3に瞬間電流算出結果12の例を
示す。この図のように瞬間電流算出結果では電流波形が
δ関数になるため、FFTによりEMI成分を解析する
ことができない。ここまでは実施形態1の電流波形算出
処理と同じである。
幅の比が一定であり、矩形波の面積が瞬間電流値になる
ように矩形波の高さを算出する第2の矩形波高算出処理
部である。31は矩形波の波高値と時間幅の比が一定で
あり、矩形波の面積が瞬間電流値になるように矩形波の
時間幅を算出する第2の矩形波幅算出処理部である。3
2は瞬間電流算出結果12を波高値と時間幅の比が一定
である矩形波にモデル化する第2の矩形波整形処理部で
ある。
の矩形波幅算出処理を含めた第2の矩形波整形処フロー
を示す。以下の処理は電流波形算出処理が終了するまで
各イベント毎に繰り返す(1030)。iは矩形波の面
積の関係とK=h/wの関係から矩形波の波高は次式1
(1031)。iは処理対象イベントのセルに関する瞬
間電流値である。Kは矩形波の波高値と時間幅の比であ
り、前もって決定しておいた定数である。この処理が第
2の矩形波高算出処理部30に相当する。次に矩形波の
面積はw×hであるので、w=i/hの関係から矩形波
の時間幅wを算出する(32)。iは処理対象イベント
のセルに関する瞬間電流値であり、hは処理(103
1)によって算出した矩形波の高さである。この処理が
第2の矩形波幅算出処理部31に相当する。次に変数x
が−W/2からW/2に変化するまでI(t+x)にh
を加算し、xにΔt加える(1033)(1034)。
I(t+x)は時刻t+xにおける全てのセルの電流値
である。この処理が第2の矩形波整形処理部32に相当
する。
理と矩形波整形処理フローにより電流波形算出結果8を
得ることができる。図14に図3の瞬間電流算出結果に
おける電流波形算出結果8の例を示す。この波形をFF
T処理部9がFFT処理することによりEMI成分の周
波数特性を得ることができ、EMI解析結果10を得る
事ができる。
高値の比を一定とした矩形波処理によりモデル化し、こ
れにFFT処理を行うようにしているため、より高精度
の解析が可能である。特に電流量が大きいLSIでは、
電流の流れる時間も大であるため、この方法によれば、
より現実に近いモデルを得ることができるため、より高
精度の処理が可能となる。またトランジスタレベルでの
解析に比べ、短時間で処理を行うことができる。 (実施形態4)次に本発明の第4の実施形態について説
明する。この方法では論理シミュレータからの各セルの
イベント情報から各セルの瞬間的な変化電流を算出し、
その瞬間的な電流を、瞬間電流値と矩形波の高さの関係
を示すグローバルなテーブルを用いて瞬間電流値が面積
である矩形波にモデル化することにより、現実に近い電
流変化を算出し、その電流波形算出結果をFFTするこ
とにより、対象回路のEMI成分の周波数特性を得、E
MI解析する方法を説明する。ここではグローバルなテ
ーブルとはセルの種類に関係なく一般的に作成したテー
ブルを意味する。
とモデル化した矩形波を示す。iは瞬間電流値であり、
tは現在処理時刻である。hはモデル化する矩形波の高
さであり、グローバルな瞬間電流値と矩形波の高さの関
係を示したテーブルを用いて算出する。wは矩形波の時
間幅であり、iと先に算出したhを用いて算出する。
の高さの関係を示したi−hテーブルの例とそのテーブ
ルをグラフ化した図を示す。このテーブルはあるiのポ
イントにおけるhの値を示した物で、このテーブルの場
合、i=0の時、h=0、i=50の時、h=5、i=
100の時、h=20という意味である。実際にはiの
値は連続的に変化するため、このテーブルはテーブル内
の各ポイントを結んだグラフで表される。あるiの値に
おけるhの値(h(i))はi−hテーブル内のiに一
番近い小さい値(i1,h1)と大きい値(i2,h
2)の2ポイントを用いて次式2
施形態1と同様である。(図1) 図17に本実施形態における電流波形算出処理部7の詳
細なブロック図を示す。11は論理シミュレータ4から
の各セルのイベント情報5から各セルの瞬間的な電流変
化を算出する瞬間電流算出処理部であり、従来の論理シ
ミュレーションにおける消費電力算出の技術と同様であ
る。12は瞬間電流算出処理部11から算出した瞬間電
流算出結果である。図3に瞬間電流算出結果12の例を
示す。この図のように瞬間電流算出結果では電流波形が
δ関数になるため、FFTによりEMI成分を解析する
ことができない。ここまでは実施形態1の電流波形算出
処理と同じである。
上記で説明したグローバルな瞬間電流値と矩形波の高さ
の関係がテーブル化されており(図16)、第3の矩形
波高算出処理部41では、瞬間電流値とi−hテーブル
40からモデル化する矩形波の波高値を算出する。そし
て第3の矩形波幅算出処理部42では、矩形波の面積が
瞬間電流値になるように第3の矩形波高算出処理部41
から算出された矩形波の波高値と瞬間電流値を用いて矩
形波の矩形波幅を算出する。そして第3の矩形波整形処
理部43で、瞬間電流算出結果12を高さが第3の矩形
波高算出処理部41から算出された矩形波の波高値であ
り、幅が第3の矩形波幅算出処理部42から算出された
矩形波幅である矩形波にモデル化する。
出処理を含めた第3の矩形波整形処理のフローを示す。
まずi−hテーブル40を読み込む(1040)。次か
らの処理は電流波形算出処理が終了するまで各イベント
毎に繰り返す(1041)。まず、i−hテーブル40
内からiに一番近い小さい値と大きい値の2点(i1,
h1)、(i2,h2)を抽出する。iは処理対象イベ
ントのセルに関する瞬間電流値である。図16のテーブ
ルではi=70の場合、(i1,h1)=(50,
5)、(i2,h2)=(100,20)がその値であ
る(1042)。
出する(1043)。図16のテーブルではi=70の
場合、h(70)=11となる。これらの処理(104
2)(1043)が第3の矩形波高算出処理部41に相
当する。次に矩形波の面積はw×hであるので、w=i
/hの関係から矩形波の時間幅wを算出する(104
4)。iは処理対象イベントのセルに関する瞬間電流値
であり、hは第3の矩形波高算出処理部41によって算
出した矩形波の高さである。図16のテーブルではi=
70の場合、w=6.3である。この処理が第3の矩形
波幅算出処理部42に相当する。次に変数xが−W/2
からW/2に変化するまでI(t+x)にhを加算し、
xにΔt加える(1045)(1046)。I(t+
x)は時刻t+xにおける全てのセルの電流値である。
この処理が第3の矩形波整形処理部43に相当する。
理と矩形波整形処理フローにより電流波形算出結果8を
得ることができる。図19に40i−hテーブルが図1
6のテーブルであり、瞬間電流値が70であった場合の
電流波形算出結果8の例を示す。この波形をFFT処理
部9がFFT処理することによりEMI成分の周波数特
性を得ることができ、EMI解析結果10を得る事がで
きる。
態について説明する。この方法では、論理シミュレータ
からの各セルのイベント情報から各セルの瞬間的な変化
電流を算出し、その瞬間的な変化電流をグローバルな入
力波形鈍りと瞬間電流値と矩形波の高さの関係を示すテ
ーブルを用いて瞬間電流値が面積である矩形波にモデル
化することにより、現実に近い入力波形鈍りを考慮した
電流変化を算出し、その電流波形算出結果をFFTする
ことにより、対象回路のEMI成分の周波数特性を得、
EMI解析する方法を説明する。
化した矩形波の関係は実施形態4の矩形波モデル(図1
5)と同じであるが、w,hの算出に入力波形鈍りの影
響を考慮している点が異なる。図20にグローバルな瞬
間電流値と入力波形鈍りと矩形波の高さの関係を示した
i−s−hテーブルの例とそのテーブルをグラフ化した
図を示す。このテーブルはあるiとsのポイントにおけ
るhの値を示した物である。sは入力波形鈍り(Sle
w)を意味する。このテーブルの場合、i=0,s=0
の時、h=0、i=50,s=0の時、h=5、i=1
00,s=0の時、h=14、i=0,s=2の時、h
=0、i=50,s=2の時、h=6、i=100,s
=2の時、h=20、という意味である。実際にはi,
sの値は連続的に変化するため、このテーブルはテーブ
ル内の各ポイントを結んだ3次元のグラフで表される。
あるs,iの値におけるhの値(h(s,i))はi−
s−hテーブル内のiに一番近い小さい値(i1)と大
きい値(i2)、sに一番近い小さい値(s1)と大き
い値(s2)の組み合わせであるh(s1,i1),h
(s1,i2),h(s2,i1),h(s2,i2)
の4ポイントの値を用いて前述の式3
施形態1と同様である。(図1) 図21に本実施形態における電流波形算出処理部7の詳
細なブロック図を示す。11は論理シミュレータ4から
の各セルのイベント情報5から各セルの瞬間的な電流変
化を算出する瞬間電流算出処理部であり、従来の論理シ
ミュレーションにおける消費電力算出の技術と同様であ
る。12は瞬間電流算出処理部11から算出した瞬間電
流算出結果である。図3に瞬間電流算出結果12の例を
示す。この図のように瞬間電流算出結果では電流波形が
δ関数になるため、FFTによりEMI成分を解析する
ことができない。ここまでは実施形態1の電流波形算出
処理と同じである。
が、これは上記で説明したグローバルな瞬間電流値と入
力波形鈍りと矩形波の高さの関係を示したテーブルであ
る(図20)。そして第4の矩形波高算出処理部52に
おいて、ネットリスト1内の各インスタンス毎の入力波
形鈍り情報を記述したSlewデータ51から読み出さ
れた処理対象インスタンスの瞬間電流値および入力波形
鈍りと、i−s−hテーブル50とからモデル化する矩
形波の波高値が算出される。53は矩形波の面積が瞬間
電流値になるように第4の矩形波高算出処理部52から
算出された矩形波の波高値と瞬間電流値を用いて矩形波
の矩形波幅を算出する第4の矩形波幅算出処理部であ
る。54は瞬間電流算出結果12を高さが第4の矩形波
高算出処理部52から算出された矩形波の波高値であ
り、幅が第4の矩形波幅算出処理部53から算出された
矩形波幅である矩形波にモデル化する第4の矩形波整形
処理部である。
出処理を含めた第4の矩形波整形処理のフローを示す。
まずi−s−hテーブル50を読み込む(1050)。
次にSlewデータ51を読み込む(1051)。次か
らの処理は電流波形算出処理が終了するまで各イベント
毎に繰り返す(1052)。まず、i−s−hテーブル
50内からiに一番近い小さい値と大きい値とsに一番
近い小さい値と大きい値の組み合わせである4点h(s
1,i1),h(s1,i2),h(s2,i1),h
(s2,i2)を抽出する。iは処理対象イベントのセ
ルに関する瞬間電流値である。sは処理対象イベントの
セルに関する入力波形鈍りであり、処理対象インスタン
ス名とSlewデータ51から抽出する。
場合、h(0,50)=5,h(0,100)=14,
h(2,50)=6,h(2,100)=20がその値
である(1053)。次に前述の式3により矩形波の高
さhを算出する(1054)。図20のテーブルではi
=70,s=1の場合、h(1,70)=10.1とな
る。これらの処理(1053)(1054)が第4の矩
形波高算出処理部52に相当する。
=i/hの関係から矩形波の時間幅wを算出する(10
55)。iは処理対象イベントのセルに関する瞬間電流
値であり、hは第4の矩形波高算出処理部52によって
算出した矩形波の高さである。
場合、w=6.9である。この処理が第4の矩形波幅算
出処理部53に相当する。次に変数xが−W/2からW
/2に変化するまでI(t+x)にhを加算し、xにΔ
t加える(1056)(1057)。I(t+x)は時
刻t+xにおける全てのセルの電流値である。この処理
が第4の矩形波整形処理部54に相当する。
理と矩形波整形処理フローにより電流波形算出結果8を
得ることができる。図23にi−s−hテーブル50が
図20のテーブルであり、瞬間電流値が70、入力波形
鈍りが1であった場合の電流波形算出結果8の例を示
す。この波形をFFT処理部9がFFT処理することに
よりEMI成分の周波数特性を得ることができ、EMI
解析結果10を得る事ができる。
態について説明する。この方法では、論理シミュレータ
からの各セルのイベント情報から各セルの瞬間的な変化
電流を算出し、その瞬間的な変化電流をグローバルな出
力負荷容量と瞬間電流値と矩形波の高さの関係を示すテ
ーブルを用いて瞬間電流値が面積である矩形波にモデル
化することにより、現実に近い出力負荷容量を考慮した
電流変化を算出し、その電流波形算出結果をFFTする
ことにより、対象回路のEMI成分の周波数特性を得、
EMI解析する方法を説明する。
化した矩形波の関係は実施形態4の矩形波モデル(図1
5)と同じであるが、w,hの算出に出力負荷容量の影
響を考慮している点が異なる。図24にグローバルな瞬
間電流値と出力負荷容量と矩形波の高さの関係を示した
i−c−hテーブルの例とそのテーブルをグラフ化した
図を示す。このテーブルはあるiとcのポイントにおけ
るhの値を示した物である。cは出力負荷容量を意味す
る。このテーブルの場合、i=0,c=0の時、h=
0、i=50,c=0の時、h=5、i=100,c=
0の時、h=20、i=0,c=20の時、h=0、i
=50,c=20の時、h=8、i=100,c=20
の時、h=25、という意味である。実際にはi,cの
値は連続的に変化するため、このテーブルはテーブル内
の各ポイントを結んだ3次元のグラフで表される。ある
c,iの値におけるhの値(h(c,i))はi−c−
hテーブル内のiに一番近い小さい値(i1)と大きい
値(i2)、cに一番近い小さい値(c1)と大きい値
(c2)の組み合わせであるh(c1,i1),h(c
1,i2),h(c2,i1),h(c2,i2)の4
ポイントの値を用いて式4
施形態1と同様である。(図1) 図25に本実施形態における電流波形算出処理部7の詳
細なブロック図を示す。11は論理シミュレータ4から
の各セルのイベント情報5から各セルの瞬間的な電流変
化を算出する瞬間電流算出処理部であり、従来の論理シ
ミュレーションにおける消費電力算出の技術と同様であ
る。12は瞬間電流算出処理部11から算出した瞬間電
流算出結果である。図3に瞬間電流算出結果12の例を
示す。この図のように瞬間電流算出結果では電流波形が
δ関数になるため、FFTによりEMI成分を解析する
ことができない。ここまでは実施形態1の電流波形算出
処理と同じである。
説明したグローバルな瞬間電流値と出力負荷容量と矩形
波の高さの関係を示したテーブルである(図24)。6
1はネットリスト1内の各インスタンス毎の出力負荷容
量情報を記述した容量データである。62は処理対象イ
ンスタンスの瞬間電流値と出力負荷容量とi−c−hテ
ーブル60からモデル化する矩形波の波高値を算出する
第5の矩形波高算出処理部である。63は矩形波の面積
が瞬間電流値になるように第5の矩形波高算出処理部6
2から算出された矩形波の波高値と瞬間電流値を用いて
矩形波の矩形波幅を算出する第5の矩形波幅算出処理部
である。64は瞬間電流算出結果12を高さが第5の矩
形波高算出処理部62から算出された矩形波の波高値で
あり、幅が第5の矩形波幅算出処理部63から算出され
た矩形波幅である矩形波にモデル化する第5の矩形波整
形処理部である。
出処理を含めた第5の矩形波整形処理のフローを示す。
まずi−c−hテーブル60を読み込む(1060)。
次に容量データ61を読み込む(1061)。次からの
処理は電流波形算出処理が終了するまで各イベント毎に
繰り返す(1062)。まず、i−c−hテーブル60
内からiに一番近い小さい値と大きい値とcに一番近い
小さい値と大きい値の組み合わせである4点h(c1,
i1),h(c1,i2),h(c2,i1),h(c
2,i2)を抽出する。iは処理対象イベントのセルに
関する瞬間電流値である。cは処理対象イベントのセル
に関する出力負荷容量であり、処理対象インスタンス名
と容量データ61から抽出する。
の場合、h(0,50)=5,h(0,100)=2
0,h(20,50)=8,h(20,100)=25
がその値である(1063)。次に前述の式4により矩
形波の高さhを算出する(1064)。図24のテーブ
ルではi=70,c=10の場合、h(10,70)=
12.9となる。これらの処理(1063)(106
4)が第5の矩形波高算出処理部62に相当する。次に
矩形波の面積はw×hであるので、w=i/hの関係か
ら矩形波の時間幅wを算出する(1065)。iは処理
対象イベントのセルに関する瞬間電流値であり、hは第
5の矩形波高算出処理部62によって算出した矩形波の
高さである。
の場合、w=5.4である。この処理が第5の矩形波幅
算出処理部63に相当する。次に変数xが−W/2から
W/2に変化するまでI(t+x)にhを加算し、xに
Δt加える(1066)(1067)。I(t+x)は
時刻t+xにおける全てのセルの電流値である。この処
理が第5の矩形波整形処理部64に相当する。
理と矩形波整形処理フローにより電流波形算出結果8を
得ることができる。図27にi−c−hテーブル60が
図24のテーブルであり、瞬間電流値が70、出力負荷
容量が10であった場合の電流波形算出結果8の例を示
す。この波形をFFT処理部9がFFT処理することに
よりEMI成分の周波数特性を得ることができ、EMI
解析結果10を得る事ができる。
容量と瞬間電流値と矩形波の高さの関係から矩形波モデ
ルを形成しているため、より現実に近いモデルを得るこ
とができ、より高精度の処理が可能となる。
態について説明する。図28は本発明の第7の実施の形
態に係る不要輻射解析手法の全体フローを示したブロッ
ク図であり、第1の実施の形態において図1を用いて説
明した不要輻射解析手法に対し、データA9、A10と
ステップA11及びステップA11の出力データA6を
追加した構成となっている。 第1の実施の形態で説明
した不要輻射解析手法と同一部分については同一符号を
付して説明を省略する。A9はEMI解析対象となる半
導体集積回路のレイアウトデータである。A10は電流
量と電源電圧降下量の関係を示したI−Vテーブルファ
イル(もしくはI−V関数)である。A11は電源電圧
降下量を算出し、ステップ11から算出された瞬間電流
算出結果に対して補正を行う電源電圧降下算出/瞬間電
流補正処理部である。A6は、前記ステップA11の出
力結果であり電源電圧降下を考慮した瞬間電流算出結果
である。
る電源電圧降下算出/瞬間電流補正処理部A11の処理
フローを示したブロック図であり、本図を参照しながら
ステップA11の機能を説明する。尚、データ12は第
1の実施の形態で詳細を説明しているため、同一符号を
付して説明を省略する。ステップA11は、電源ネット
抽出処理部B2、各セグメント毎の抵抗値算出処理部B
6、各セグメントに流れる電流値算出処理部B3、各セ
グメント毎の電圧降下値算出処理部B7、インスタンス
毎の電圧降下値算出処理部B10、電流値補正処理部B
12の各ステップで構成されている。
ップB2ではレイアウトデータA9が入力され、電気的
接続情報を認識した上で電源配線形状を判別する。判別
した電源配線形状に対して、配線の分岐、配線幅の変
化、折れ曲がり及び別配線層への乗り換え等を識別し、
それぞれにおいて電源配線を分割させることにより、電
源配線の各セグメント情報B4が生成される。この生成
データベースB4には各セグメント毎の配線長及び配線
幅の情報が含まれる。
9の模式図である。図31は本ステップにおける生成デ
ータベースB4の模式図であり、この図では特に電源・
グランド配線それぞれについて、分岐により分割された
各セグメント1〜12をSg1〜12として示してい
る。ステップB6では前記ステップB2より生成された
電源配線の各セグメント情報B4が入力され、各セグメ
ント毎の配線長及び配線幅の情報と各配線層毎に予め決
まっている抵抗値パラメータにより、各セグメント毎の
抵抗値情報B8が生成される。
ースB8の模式図であり、この図では電源(VDD)配
線における各セグメントSg1〜6のそれぞれの抵抗値
をR1〜6として示している。ステップB3では瞬間電
流算出結果12に基づいたインスタンス毎の瞬間電流情
報B1と前記ステップB2より生成された電源配線の各
セグメント情報B4が入力され、各インスタンス毎の電
流値を電源配線の各セグメントに流れるそれぞれの電流
成分に分配し、各セグメント毎に分配されたインスタン
ス毎の電流成分を合算することにより、各セグメント毎
の電流値情報B5が生成される。
ースB5の模式図であり、この図ではインスタンス1〜
3のそれぞれの電流値をI1〜3とし、各セグメントS
g1〜6に流れるそれぞれの電流値をIs1〜6として
示している。この場合、Is1=I1+I2+I3、I
s2=I2+I3、Is3=I3、Is4=I1、Is
5=I2、Is6=I3となる。 ステップB7では前
記ステップB3より生成された各セグメント毎の電流値
情報B5と前記ステップB6より生成された各セグメン
ト毎の抵抗値情報B8が入力され、オームの法則によ
り、各セグメント毎の電圧降下値情報B9が生成され
る。
ースB9の模式図であり、この図では各セグメントSg
1〜6のそれぞれの電圧降下値をΔVs1〜6として示
している。この場合、ΔVs1=R1*Is1、ΔVs
2=R2*Is2、ΔVs3=R3*Is3、ΔVs4
=R4*Is4、ΔVs5=R5*Is5、ΔVs6=
R6*Is6となる。ステップB10では前記ステップ
B7より生成された各セグメント毎の電圧降下値情報B
9が入力され、各インスタンス毎の電流経路に則した各
セグメントの電圧降下値を合算することにより、インス
タンス毎の電圧降下値情報B11が生成される。
ースB11の模式図であり、この図ではインスタンス1
〜3のそれぞれの電圧降下値をΔV1〜3とし示してい
る。この場合、ΔV1=ΔVs1+ΔVs4、ΔV2=
ΔVs1+ΔVs2+ΔVs5、ΔV3=ΔVs1+Δ
Vs2+ΔVs3+ΔVs6となり、ΔV1〜3のそれ
ぞれを各セグメントの抵抗値R1〜6と各インスタンス
の電流値I1〜3で表すと、ΔV1=R1*(I1+I
2+I3)+R4*I1、ΔV2=R1*(I1+I2
+I3)+R2*(I2+I3)+R5*I2、ΔV3
=R1*(I1+I2+I3)+R2*(I2+I3)
+R3*I3+R6*I3となる。
り生成されたインスタンス毎の電圧降下値情報B11と
電流量と電源電圧降下量の関係を示したI−Vテーブル
ファイル(もしくはI−V関数)A10が入力され、瞬
間電流算出結果12に対して補正処理が施されることに
より、各インスタンス毎に電源配線抵抗成分に依存する
電源電圧降下を考慮した瞬間電流算出結果A6が生成さ
れる。
の不要輻射解析方法によれば、電源配線抵抗成分による
電圧降下分を考慮に入れることにより、前記第1の実施
の形態によって得られた瞬間電流算出結果12に対し
て、実際の半導体集積回路における電源電圧変動の物理
現象を考慮させることが出来るため、より正確な電流波
形のモデリングが実現でき、電流波形をFFT処理する
ことで得られる解析対象回路の周波数特性において、不
要な高調波成分の低減が可能となる。
において説明したが、第2〜6の実施の形態のそれぞれ
においても同様の効果が得られる。 (実施形態8)次に本発明の第8の実施形態について説
明する。 図36は本発明の第8の実施の形態に係る不
要輻射解析手法の全体フローを示したブロック図であ
り、第7の実施の形態において図28を用いて説明した
不要輻射解析手法に対し、データC1を追加しステップ
A11をステップC2に変更した構成となっている。第
1の実施の形態で説明した不要輻射解析手法と同一部分
については同一符号を付して説明を省略する。
量値と電源電圧降下量の関係を示したC−Vテーブルフ
ァイル(もしくはC−V関数)である。C2は電源電圧
降下量を算出し、前記ステップ11より生成された瞬間
電流算出結果12の補正を行う電源電圧降下算出/瞬間
電流補正処理部である。図37は本発明の第8の実施の
形態における電源電圧降下算出/瞬間電流補正処理部C
2の処理フローを示したブロック図であり、本図を参照
しながらステップC2の機能を説明する。尚、第7の実
施の形態で説明した不要輻射解析手法と同一部分につい
ては同一符号を付して説明を省略する。また、データ1
2は第1の実施の形態で詳細を説明しているため、同一
符号を付して説明を省略する。
るステップA11に対し、電源・グランド配線における
各セグメント間の容量値算出処理部D1を追加し、各セ
グメント毎の電圧降下値算出処理部B7をD3に変更し
た構成となっている。以下、各ステップについて説明す
る。ステップD1では第7の実施の形態におけるステッ
プB2より生成された電源配線の各セグメント情報B4
が入力され、ここでのデータベースB4に含まれている
電源・グランド配線における各セグメント同士の重なり
面積の情報と各配線層間毎に予め決まっている容量値パ
ラメータにより、電源・グランド配線における各セグメ
ント間の容量値情報D2が生成される。
ースD2の模式図であり、この図ではセグメントSg1
とSg7、Sg2とSg8、Sg3とSg9のそれぞれ
の容量値をC1〜C3として示している。ステップD3
では第7の実施の形態におけるステップB3より生成さ
れた各セグメント毎の電流値情報B5と第7の実施の形
態におけるステップB6より生成された各セグメント毎
の抵抗値情報B8と電源・グランド間デカップリング容
量値と電源電圧降下量の関係を示したC−Vテーブルフ
ァイル(もしくはC−V関数)C1と前記ステップD1
より生成された電源・グランド配線における各セグメン
ト間の容量値情報D2が入力され、オームの法則及びC
−Vテーブルに則した補正処理が施されることにより、
抵抗成分に加えてデカップリング容量成分の効果を反映
した各セグメント毎の電圧降下値情報B9が生成され
る。
ースB9の模式図であり、この図では各セグメントSg
1〜6のそれぞれの電圧降下値をΔVs11〜61とし
て示している。この場合、ΔVs11=f(C1、ΔV
s1)、ΔVs21=f(C2、ΔVs2)、ΔVs3
1=f(C3、ΔVs3)、ΔVs41=ΔVs4、Δ
Vs51=ΔVs5、ΔVs61=ΔVs6となる。
の不要輻射解析方法によれば、電源配線抵抗成分による
電源電圧降下分に加えて電源・グランド間デカップリン
グ容量効果分の電源電圧変動に対する電流値補正を新た
に組み入れたことにより、前記第1の実施の形態によっ
て得られた各インスタンスの瞬間電流算出結果12に対
して、実際の半導体集積回路における電源電圧変動の物
理現象を考慮させることが出来るため、より一層正確な
電流波形のモデリングが実現でき、電流波形をFFT処
理することで得られる解析対象回路の周波数特性におい
て、不要な高調波成分の低減がさらに可能となる。
態において説明したが、第2〜6の実施の形態のそれぞ
れにおいても同様の効果が得られる。 (実施形態9)次に本発明の第9の実施形態について説
明する。図40は本発明の第9の実施の形態に係る不要
輻射解析手法の全体フローを示したブロック図であり、
第7の実施の形態において図28を用いて説明した不要
輻射解析手法に対し、ステップA11をステップE1に
変更した構成となっている。第1の実施の形態で説明し
た不要輻射解析手法と同一部分については同一符号を付
して説明を省略する。E1は電源電圧降下量を算出し、
ステップ11から算出された瞬間電流の補正を行う電源
電圧降下算出/瞬間電流補正処理部である。
る電源電圧降下算出/瞬間電流補正処理部E1の処理フ
ローを示したブロック図であり、本図を参照しながらス
テップE1の機能を説明する。尚、第7及び第8の実施
の形態で説明した不要輻射解析手法と同一部分について
は同一符号を付して説明を省略する。
形態で詳細を説明しているため、同一符号を付して説明
を省略する。ステップE1は、第8の実施の形態におけ
るステップC2に対し、各セグメントに流れる電流値算
出処理部B3、各セグメント毎の電圧降下算出処理部D
3及びインスタンス毎の電圧降下算出処理部B10を削
除し、新たに過渡解析処理部F1を追加した構成となっ
ている。
ップF1では前記ステップ11より生成された瞬間電流
算出結果12に基づいたインスタンス毎の瞬間電流情報
B1と第8の実施の形態におけるステップB6より生成
された各セグメント毎の抵抗値情報B8と第8の実施の
形態におけるステップD1より生成された各セグメント
間の容量値情報D2が入力され、SPICEに代表され
る過渡解析シミュレータを使用した解析により、インス
タンス毎の電圧降下値情報B11が生成される。
の不要輻射解析方法によれば、電源配線抵抗及び電源・
グランド間デカップリング容量効果分の電源電圧変動を
過渡解析シミュレータにて求めることにより、前記第1
の実施の形態によって得られた瞬間電流算出結果12に
対して、実際の半導体集積回路における電源電圧変動の
物理現象を忠実に反映させることが出来るため、従来例
で示した高精度な不要輻射解析を実現しつつ、大規模回
路にも適用し得る高速な不要輻射解析が可能となる。
態において説明したが、第2〜6の実施の形態のそれぞ
れにおいても同様の効果が得られる。
施形態について説明する。 実施形態2〜9では論理シ
ミュレータからの各セルのイベント情報から各セルの瞬
間的な変化電流を算出し、その瞬間的な変化電流を矩形
波にモデル化することにより、電流変化を得たが、その
瞬間的な電流波形を三角波にモデル化することにより、
より現実に近い電流変化を得ることができる。以下にそ
の例として、瞬間的な変化電流を瞬間電流値が面積とな
るように波高値を算出した一定の時間幅の三角波にモデ
ル化することにより、より現実に近い電流変化を算出
し、その電流波形算出結果をFFTすることにより、対
象回路のEMI成分の周波数特性を得、EMI解析する
方法を説明する。
とモデル化した三角波を示す。iは瞬間電流値であり、
tは現在処理時刻である。Wはモデル化する三角波の時
間幅であり、定数である。この値は前もって適当な値を
決定しておく。hは三角波の高さであり、iとWから算
出する。時刻t+xにおける電流値は次式5
表される。
施形態1と同様である。(図1) 図43に本実施形態における電流波形算出処理部7の詳
細なブロック図を示す。11は論理シミュレータ4から
の各セルのイベント情報5から各セルの瞬間的な電流変
化を算出する瞬間電流算出処理部であり、従来の論理シ
ミュレーションにおける消費電力算出の技術と同様であ
る。12は瞬間電流算出処理部11から算出した瞬間電
流算出結果である。図3に瞬間電流算出結果12の例を
示す。この図のように瞬間電流算出結果では電流波形が
δ関数になるため、FFTによりEMI成分を解析する
ことができない。ここまでは実施形態1の電流波形算出
処理と同じである。100はモデル化する三角波の面積
が瞬間電流値になるように三角波の高さを算出する三角
波高算出処理部である。101は瞬間電流算出結果12
を一定時間幅の三角波にモデル化する三角波整形処理部
である。
整形処理フローを示す。以下の処理は電流波形算出処理
が終了するまで各イベント毎に繰り返す(1100)。
三角波の面積はW×h/2であり、その値はiである。
そこで2×i/Wにより三角波の高さhを算出する(1
101)。iは処理対象イベントのセルに関する瞬間電
流値である。この処理が三角波高算出処理部100に相
当する。次に変数xが0からW/2までI(t+x)と
I(t−x)に前述の式5を加算し、xにΔt加える
(1102)(1103)。I(t+x)は時刻t+x
における全てのセルの電流値であり、I(t−x)は時
刻t−xにおける全てのセルの電流値である。この処理
が三角波整形処理部101に相当する。
フローにより電流波形算出結果8を得ることができる。
図45に図3の瞬間電流算出結果におけるW=5の時の
電流波形算出結果8の例を示す。この波形をFFT処理
部9がFFT処理することによりEMI成分の周波数特
性を得ることができ、EMI解析結果10を得る事がで
きる。
施形態について説明する。実施形態2〜9では論理シミ
ュレータからの各セルのイベント情報から各セルの瞬間
的な変化電流を算出し、その瞬間的な変化電流を矩形波
にモデル化することにより、電流変化を得たが、この方
法では、その瞬間的な電流波形を複数次の関数にモデル
化することにより、より現実に近い電流変化を得ること
ができる。以下にその例として、瞬間的な変化電流を瞬
間電流値が面積となるように波高値を算出した一定の時
間幅の複数次関数にモデル化することにより、より現実
に近い電流変化を算出し、その電流波形算出結果をFF
Tすることにより、対象回路のEMI成分の周波数特性
を得、EMI解析する方法を説明する。
とモデル化した複数次関数を示す。iは瞬間電流値であ
り、tは現在処理時刻である。Wはモデル化する複数次
関数の時間幅であり、定数である。この値は前もって適
当な値を決定しておく。hはモデル化する複数次関数の
高さであり、iとWから算出する。今回の例ではモデル
化する複数次関数の式を次式6
x=0のときであるので、次式7
ら、aはWとiを用いて式9
り、モデル化する複数次関数モデルの高さが決定する。
W=2.5,i=100の時前述の式9よりa=0.9
6、前述の式7よりh=37.5、i=50の時前述の
式9よりa=0.48、前述の式7よりh=18.75
と複数次関数モデルの高さを算出することができる。
施形態1と同様である。(図1) 図47に本実施形態における電流波形算出処理部7の詳
細なブロック図を示す。11は論理シミュレータ4から
の各セルのイベント情報5から各セルの瞬間的な電流変
化を算出する瞬間電流算出処理部であり、従来の論理シ
ミュレーションにおける消費電力算出の技術と同様であ
る。12は瞬間電流算出処理部11から算出した瞬間電
流算出結果である。
この図のように瞬間電流算出結果では電流波形がδ関数
になるため、FFTによりEMI成分を解析することが
できない。ここまでは実施形態1の電流波形算出処理と
同じである。
瞬間電流値になるように複数次関数の高さを算出する複
数次関数波高算出処理部である。111は瞬間電流算出
結果12を一定時間幅の複数次関数にモデル化する複数
次関数波整形処理部である。
複数次関数波整形処理フローを示す。以下の処理は電流
波形算出処理が終了するまで各イベント毎に繰り返す
(1110)。まず、前述の式9を用いて複数次関数の
波高依存係数aを算出する(1111)。iは処理対象
イベントのセルに関する瞬間電流値である。Wは波幅に
依存する定数である。この処理が110複数次関数波高
算出処理部に相当する。
に前述の式6を加算し、xにΔt加える(1112)
(1113)。I(t+x)は時刻t+xにおける全て
のセルの電流値でありる。この処理が111複数次関数
波整形処理部に相当する。
数波整形処理フローにより電流波形算出結果8を得るこ
とができる。図49に図3の瞬間電流算出結果における
W=2.5の時の電流波形算出結果8の例を示す。この
波形をFFT処理部9がFFT処理することによりEM
I成分の周波数特性を得ることができ、EMI解析結果
10を得る事ができる。 (実施形態12)次に本発明の第12の実施形態につい
て説明する。実施形態2〜9では論理シミュレータから
の各セルのイベント情報から各セルの瞬間的な変化電流
を算出し、その瞬間的な変化電流を矩形波にモデル化す
ることにより、電流変化を得たが、この方法では、その
瞬間的な電流波形を複素関数にモデル化することによ
り、より現実に近い電流変化を得ることができる。
な変化電流とモデル化する複素関数の高さの関係を表し
たテーブルと瞬間的な変化電流とモデル化する複素関数
の時間幅の関係を表したテーブルを用いて複素関数の高
さ、幅を算出し、複数次関数にモデル化することによ
り、より現実に近い電流変化を算出し、その電流波形算
出結果をFFTすることにより、対象回路のEMI成分
の周波数特性を得、EMI解析する方法を説明する。
とモデル化した複素関数を示す。iは瞬間電流値であ
り、tは現在処理時刻である。hはモデル化する関数の
高さであり、グローバルな瞬間的な変化電流とモデル化
する複素関数の高さの関係を表したテーブルを用いて算
出する。
の高さの関係を示したi−hテーブルの例とそのテーブ
ルをグラフ化した図を示す。このテーブルはあるiのポ
イントにおけるhの値を示した物で、このテーブルの場
合、i=0の時、h=0、i=50の時、h=10、i
=100の時、h=40という意味である。実際にはi
の値は連続的に変化するため、このテーブルはテーブル
内の各ポイントを結んだグラフで表される。あるiの値
におけるhの値(h(i))はi−hテーブル内のiに
一番近い小さい値(i1,h1)と大きい値(i2,h
2)の2ポイントを用いて前述の式2で表される。wは
モデル化する関数の時間幅であり、グローバル瞬間的な
変化電流とモデル化する複素関数の時間幅の関係を表し
たテーブルを用いて算出する。
の幅の関係を示したi−wテーブルの例とそのテーブル
をグラフ化した図を示す。このテーブルはあるiのポイ
ントにおけるwの値を示した物で、このテーブルの場
合、i=0の時、w=0、i=20の時、w=1、i=
100の時、w=1.5という意味である。実際にはi
の値は連続的に変化するため、このテーブルはテーブル
内の各ポイントを結んだグラフで表される。
i−wテーブル内のiに一番近い小さい値(i1,w
1)と大きい値(i2,w2)の2ポイントを用いて式
10
前述の式11とする。この関数はガウス関数と呼ばれて
いる。この式においてx=0のとき、この式の値はhと
なるため、hはガウス関数の高さを表している。この式
においてx=3×wの時、この式の値は0.0001×
hとなり、高さの0.01%となる。そこでこの値をモ
デル化する関数の時間幅の限界とし、関数の時間幅を6
×wとした。
施形態1と同様である。(図1) 図53に本実施形態における電流波形算出処理部7の詳
細なブロック図を示す。11は論理シミュレータ4から
の各セルのイベント情報5から各セルの瞬間的な電流変
化を算出する瞬間電流算出処理部であり、従来の論理シ
ミュレーションにおける消費電力算出の技術と同様であ
る。12は瞬間電流算出処理部11から算出した瞬間電
流算出結果である。
この図のように瞬間電流算出結果では電流波形がδ関数
になるため、FFTによりEMI成分を解析することが
できない。ここまでは実施形態1の電流波形算出処理と
同じである。40はi−hテーブルであり、上記で説明
したグローバルな瞬間電流値とガウス関数の高さの関係
を示したテーブルである(図51)。120は瞬間電流
値と40i−hテーブルからモデル化するガウス関数の
波高値を算出するガウス関数波高算出処理部である。
明したグローバルな瞬間電流値とガウス関数の幅の関係
を示したテーブルである(図52)。122は瞬間電流
値と121i−wテーブルからモデル化するガウス関数
の幅を算出するガウス関数波幅算出処理部である。12
3は瞬間電流算出結果12を高さが120ガウス関数波
高算出処理部から算出されたガウス関数の波高値であ
り、幅が122ガウス関数波幅算出処理部から算出され
たガウス関数の幅であるガウス関数にモデル化するガウ
ス関数波整形処理部である。
ス関数波幅算出処理を含めたガウス関数波整形処理フロ
ーを示す。まず40i−hテーブルを読み込む(112
0)。次に121i−wテーブルを読み込む(112
1)。次からの処理は電流波形算出処理が終了するまで
各イベント毎に繰り返す(1122)。まず、40i−
hテーブル内からiに一番近い小さい値と大きい値の2
点(i1,h1)、(i2,h2)を抽出する(112
3)。iは処理対象イベントのセルに関する瞬間電流値
である。
(i1,h1)=(0,0)、(i2,h2)=(5
0,5)がその値である。i=100の場合、(i1,
h1)=(50,5)、(i2,h2)=(100,2
0)がその値である。次に前述の式2によりガウス関数
の高さhを算出する(1124)。図51のテーブルで
はi=50の場合、h(50)=10、i=100の場
合、h(100)=40となる。これらの処理(112
3)(1124)がガウス関数波高算出処理部120に
相当する。
近い小さい値と大きい値の2点(i1,w1)、(i
2,w2)を抽出する(1125)。iは処理対象イベ
ントのセルに関する瞬間電流値である。図52のテーブ
ルではi=50の場合、(i1,w1)=(0,0)、
(i2,w2)=(20,1)がその値である。i=1
00の場合、(i1,w1)=(20,1)、(i2,
w2)=(100,1.5)がその値である。
を算出する(1126)。図52のテーブルではi=5
0の場合、w(50)=1.3、i=100の場合、w
(100)=1.5となる。これらの処理(1125)
(1126)が122ガウス関数波幅算出処理部に相当
する。
るまでI(t+x)に、式11
I(t+x)は時刻t+xにおける全てのセルの電流値
である。この処理が123ガウス関数波整形処理部に相
当する。
数波幅算出処理とガウス関数波整形処理フローにより電
流波形算出結果8を得ることができる。図55にi−h
テーブル40が図51のテーブルであり、i−wテーブ
ル121が図52であった場合の図3の瞬間電流算出結
果における電流波形算出結果8の例を示す。この波形を
FFT処理部9がFFT処理することによりEMI成分
の周波数特性を得ることができ、EMI解析結果10を
得る事ができる。
施形態(請求項14)の不要輻射解析方法について説明
する。実施形態13は、請求項2乃至10における電流
波形推定情報を、貫通電流に依存する要素と、チャージ
電流に依存する要素に分けてモデル化することを特徴と
する。ここで貫通電流とは、回路素子を構成するCMO
Sトランジスタ構造において、トランジスタのゲート端
子側に信号変化が発生した時に、PチャネルMOSトラ
ンジスタ(以下PMOSと示す)、NチャネルMOSト
ランジスタ(以下NMOSと示す)が瞬時同時に駆動状
態となるがために、PMOS、NMOSそれぞれのソー
ス端子・ドレイン端子間を貫いて流れる電流を示してい
る。チャージ電流とは、回路素子の出力負荷容量に電荷
を貯える、あるいは放出する際に流れる電流を示してい
る。貫通電流は、入力信号変化とほぼ同時に発生し、チ
ャージ電流は入力信号変化からやや遅れて出力信号変化
とともに流れる。従って、電流波形推定情報のうち貫通
電流に依存する要素とチャージ電流に依存する要素を分
けて扱うことにより、より正確な電流波形を推定するこ
とが可能となる。図56に請求項2の一定幅で離散化す
る手法を用いた請求項14の不要輻射解析方法の実施例
についてその構成を示す。
装置は、回路接続情報記憶手段7301と、信号変化パ
ターン記憶手段7302と、素子電流量記憶手段730
3と、電流推定基礎情報記憶手段7306と、総電流量
記憶手段7304と、総電流量算出手段7305とから
なる電流量解析手段を備えている。
を構成する個々の要素について説明するとともに、図1
10に示す回路接続情報と、図111に示す信号変化パ
ターンと、図57に示す素子電流量と、図59に示す電
流推定基礎情報とを用いて図58に示す総電流量を算出
する手順を説明する。回路接続情報記憶手段7301、
信号変化パターン記憶手段7302については、従来例
の回路接続情報記憶手段1001、信号変化パターン記
憶手段1002と同一であるため説明を割愛する。
外部端子が1度変化した際に流れる総電流量の情報であ
る素子電流量情報を貫通電流成分およびチャージ電流成
分それぞれに分けて記憶するものであり、あらかじめ図
57に示すような素子電流量情報を記憶している。74
01はフリップフロップFFのクロック入力端子CKの
信号が変化する時の貫通電流成分電流量をあらわしてい
る。7402はフリップフロップFFのクロック入力端
子CKの信号が変化する時のチャージ電流成分電流量を
あらわしている。7403はフリップフロップFFの出
力端子Qの信号が変化する時の貫通電流成分電流量をあ
らわしている。7404はフリップフロップFFの出力
端子Qの信号が変化する時のチャージ電流成分電流量を
あらわしている。7405はバッファBUFの出力端子
Yの信号が変化した時の貫通電流成分電流量をあらわし
ている。7406はバッファBUFの出力端子Yの信号
が変化した時のチャージ電流成分電流量をあらわしてい
る。電流推定基礎情報記憶手段7306は、貫通電流に
対する離散幅と、チャージ電流に対する離散幅を図59
に示す形式で記憶する。この電流推定基礎情報は、実施
形態1(請求項2)と同じく、各信号変化に対して流れ
る電流の総量を平均化する離散幅を持つものであるが、
請求項2と異なり貫通電流成分離散幅7601とチャー
ジ電流成分離散幅7602の2つの情報を有している。
7601は貫通電流成分電流量に対する離散幅をあらわ
している。7602はチャージ電流成分電流量に対する
離散幅をあらわしている。
すようなフローチャートを有する。図60に示すフロー
チャートでは、従来方法に対して電流計算において計算
された貫通電流とチャージ電流それぞれに対して個々の
離散幅で平均化し、それらの電流波形を加算する処理
(ステップ7706)が加わっている。ステップ770
1で回路接続情報記憶手段7301に記憶された図11
0の回路接続情報を読み込む。ステップ7702で信号
変化パターン記憶手段7302に記憶された図111の
信号変化パターンを読み込む。ステップ7703で素子
電流情報記憶手段7303に記憶された図57の素子電
流量情報を読み込む。
憶手段7306に記憶された図59の電流推定基礎情報
を読み込む。次にステップ7705で図111の信号変
化パターンを図110の回路接続情報に与え、信号伝播
を行うとともに、素子電流量情報内に記載された回路素
子の外部端子が信号変化を起こした際に、端子に対応す
る電流量の貫通電流成分とチャージ電流成分を各時刻に
おける総電流量情報の貫通電流成分とチャージ電流成分
にそれぞれ加算する。
通電流成分とチャージ電流成分それぞれを図59に示す
電流推定基礎情報に記憶された離散幅で離散化した結果
を加算し図58に示す各時刻の総電流量として算出す
る。信号伝播完了後、ステップ7707で、算出された
図58に示す各時刻における総電流量情報を総電流量記
憶手段7304に記憶する。 これにより、図14に示
す従来方式の電流に対して、図58に示すような実際に
近い電流波形が得られる。
施形態について説明する。この方法では、 以下に各セ
ルの種類毎にそのセルのピーク電流値とイベント毎の瞬
間的な変化電流量をキャラクタライズすることにより、
論理シミュレータからの各セルのイベント情報から各セ
ルの瞬間的な変化電流を算出し、その瞬間的な電流を波
高値をそのセルのピーク電流値とし、瞬間電流値が面積
となるように時間幅を算出した矩形波にモデル化するこ
とにより、現実に近い電流変化を算出し、その電流波形
算出結果をFFTすることにより、対象回路のEMI成
分の周波数特性を得、EMI解析する。
とモデル化した矩形波を示す。iは瞬間電流値であり、
tは現在処理時刻である。
施形態1と同様である。(図1) 図61に本実施形態における電流波形算出処理部7の詳
細なブロック図を示す。11は論理シミュレータ4から
の各セルのイベント情報5から各セルの瞬間的な電流変
化を算出する瞬間電流算出処理部であり、従来の論理シ
ミュレーションにおける消費電力算出の技術と同様であ
る。12は瞬間電流算出処理部11から算出した瞬間電
流算出結果である。図3に瞬間電流算出結果12の例を
示す。この図のように瞬間電流算出結果では電流波形が
δ関数になるため、FFTによりEMI成分を解析する
ことができない。ここまでは実施形態1の電流波形算出
処理と同じである。
セルの種類毎にそのセルのピーク電流値をキャラクタラ
イズした値が含まれている。131はピーク電流ライブ
ラリ130からモデル化する矩形波の波高値を抽出する
第6の矩形波高算出処理部である。132は矩形波の面
積が瞬間電流値になるように、第6の矩形波高算出処理
部131から算出された矩形波の波高値と瞬間電流値を
用いて矩形波の矩形波幅を算出する第6の矩形波幅算出
処理部である。133は瞬間電流算出結果12を高さが
第6の矩形波高算出処理部131から抽出された矩形波
の波高値であり、幅が第6の矩形波幅算出処理部132
から算出された矩形波幅である矩形波にモデル化する第
6の矩形波整形処理部である。
出処理を含めた第6の矩形波整形処理のフローを示す。
まずピーク電流ライブラリ130を読み込む(113
0)。次からの処理は電流波形算出処理が終了するまで
各イベント毎に繰り返す(1131)。まず、ピーク電
流ライブラリ130から処理対象インスタンスのピーク
電流値を抽出し、それを矩形波の波高hとする(113
2)。この処理が第6の矩形波高算出処理部131に相
当する。
=i/hの関係から矩形波の時間幅wを算出する(11
33)。iは処理対象イベントのセルに関する瞬間電流
値であり、hは第6の矩形波高算出処理部131によっ
て算出した矩形波の高さである。この処理が第6の矩形
波幅算出処理部132に相当する。次に変数xが−W/
2からW/2に変化するまでI(t+x)にhを加算
し、xにΔt加える(1134)(1135)。I(t
+x)は時刻t+xにおける全てのセルの電流値であ
る。この処理が第6の矩形波整形処理部133に相当す
る。
理と矩形波整形処理フローにより電流波形算出結果8を
得ることができる。この電流波形算出結果8をFFT処
理部9がFFT処理することによりEMI成分の周波数
特性を得ることができ、EMI解析結果10を得る事が
できる。
施形態について説明する。この方法では、 各セルの種
類毎にそのセルの入力波形鈍りとピーク電流値の関係と
イベント毎の瞬間的な変化電流量をキャラクタライズす
ることにより、論理シミュレータからの各セルのイベン
ト情報から各セルの瞬間的な変化電流を算出し、その瞬
間的な変化電流をそのセルの入力波形鈍りを考慮したピ
ーク電流値を波高値とし、瞬間電流値が面積となるよう
に時間幅を算出した矩形波にモデル化することにより、
現実に近い電流変化を算出し、その電流波形算出結果を
FFTすることにより、対象回路のEMI成分の周波数
特性を得、EMI解析する。
とモデル化した矩形波を示す。iは瞬間電流値であり、
tは現在処理時刻である。hはモデル化する矩形波の高
さであり、各セル毎の入力波形鈍りと矩形波の高さの関
係をキャラクタライズしたライブラリを用いて算出す
る。wは矩形波の時間幅であり、iと先に算出したhを
用いて算出する。入力波形鈍りと矩形波の高さの関係を
キャラクタライズしたライブラリは各セルの種類毎にs
−hテーブルで構成されている。
ルをグラフ化した図を示す。sは処理対象インスタンス
の入力波形鈍りを示す。このテーブルはあるsのポイン
トにおけるhの値を示した物で、このテーブルの場合、
s=0の時、h=0、s=1の時、h=5、s=2の
時、h=20という意味である。実際にはsの値は連続
的に変化するため、このテーブルはテーブル内の各ポイ
ントを結んだグラフで表される。あるsの値におけるh
の値(h(s))はs−hテーブル内のsに一番近い小
さい値(s1,h1)と大きい値(s2,h2)の2ポ
イントを用いて式12
施形態1と同様である。(図1) 図64に本実施形態における電流波形算出処理部7の詳
細なブロック図を示す。11は論理シミュレータ4から
の各セルのイベント情報5から各セルの瞬間的な電流変
化を算出する瞬間電流算出処理部であり、従来の論理シ
ミュレーションにおける消費電力算出の技術と同様であ
る。12は瞬間電流算出処理部11から算出した瞬間電
流算出結果である。図3に瞬間電流算出結果12の例を
示す。この図のように瞬間電流算出結果では電流波形が
δ関数になるため、FFTによりEMI成分を解析する
ことができない。ここまでは実施形態1の電流波形算出
処理と同じである。
で説明した各セル毎の入力波形鈍りと矩形波の高さの関
係をキャラクタライズしたものである(図63)。51
は各インスタンス毎の入力波形鈍りを記述したSlew
データである。141はSlewデータ51から処理対
象インスタンスの入力波形鈍りを抽出し、s−hデーブ
ルライブラリ140とその入力波形鈍りからモデル化す
る矩形波の波高値を算出する第7の矩形波高算出処理部
である。142は矩形波の面積が瞬間電流値になるよう
に第7の矩形波高算出処理部141から算出された矩形
波の波高値と瞬間電流値を用いて矩形波の矩形波幅を算
出する第7の矩形波幅算出処理部である。143は瞬間
電流算出結果12を高さが第7の矩形波高算出処理部1
41から算出された矩形波の波高値であり、幅が第7の
矩形波幅算出処理部142から算出された矩形波幅であ
る矩形波にモデル化する第7の矩形波整形処理部であ
る。
出処理を含めた第7の矩形波整形処理フローを示す。ま
ずs−hテーブルライブラリ140を読み込む(114
0)。次にSlewデータ51を読み込む(114
1)。次からの処理は電流波形算出処理が終了するまで
各イベント毎に繰り返す(1142)。まず、s−hテ
ーブルライブラリ140の処理対象のセルの種類のs−
hテーブルからsに一番近い小さい値と大きい値の2点
(s1,h1)、(s2,h2)を抽出する。sは処理
対象インスタンスのSlewデータ51から抽出した入
力波形鈍りである。
(s1,h1)=(1,5)、(s2,h2)=(2,
20)がその値である(1143)。次に前述の式11
により矩形波の高さhを算出する(1144)。図63
のテーブルではs=1.2の場合、h(1.2)=8と
なる。これらの処理(1143)(1144)が第7の
矩形波高算出処理部141に相当する。
=i/hの関係から矩形波の時間幅wを算出する(11
45)。iは処理対象イベントのセルに関する瞬間電流
値であり、hは第7の矩形波高算出処理部141によっ
て算出した矩形波の高さである。この処理が第7の矩形
波幅算出処理部142に相当する。次に変数xが−W/
2からW/2に変化するまでI(t+x)にhを加算
し、xにΔt加える(1146)(1147)。I(t
+x)は時刻t+xにおける全てのセルの電流値であ
る。この処理が第7の矩形波整形処理部143に相当す
る。
理と矩形波整形処理フローにより電流波形算出結果8を
得ることができる。この電流波形算出結果8をFFT処
理部9がFFT処理することによりEMI成分の周波数
特性を得ることができ、EMI解析結果10を得る事が
できる。 (実施形態16)次に本発明の第16の実施形態につい
て説明する。この方法では、 各セルの種類毎にそのセ
ルの出力負荷容量とピーク電流値の関係とイベント毎の
瞬間的な変化電流量をキャラクタライズすることによ
り、論理シミュレータからの各セルのイベント情報から
各セルの瞬間的な変化電流を算出し、その瞬間的な変化
電流をそのセルの出力負荷容量を考慮したピーク電流値
を波高値とし、瞬間電流値が面積となるように時間幅を
算出した矩形波にモデル化することにより、現実に近い
電流変化を算出し、その電流波形算出結果をFFTする
ことにより、対象回路のEMI成分の周波数特性を得、
EMI解析する。
とモデル化した矩形波を示す。iは瞬間電流値であり、
tは現在処理時刻である。hはモデル化する矩形波の高
さであり、各セル毎の出力負荷容量と矩形波の高さの関
係をキャラクタライズしたライブラリを用いて算出す
る。wは矩形波の時間幅であり、iと先に算出したhを
用いて算出する。出力負荷容量と矩形波の高さの関係を
キャラクタライズしたライブラリは各セルの種類毎にc
−hテーブルで構成されている。
ルをグラフ化した図を示す。cは処理対象インスタンス
の出力負荷容量を示す。このテーブルはあるcのポイン
トにおけるhの値を示した物で、このテーブルの場合、
c=0の時、h=0、c=10の時、h=5、c=20
の時、h=20という意味である。実際にはcの値は連
続的に変化するため、このテーブルはテーブル内の各ポ
イントを結んだグラフで表される。あるcの値における
hの値(h(c))はc−hテーブル内のcに一番近い
小さい値(c1,h1)と大きい値(c2,h2)の2
ポイントを用いて、式13
施形態1と同様である。(図1) 図67に本実施形態における電流波形算出処理部7の詳
細なブロック図を示す。ここで、瞬間電流算出処理部1
1は、従来の論理シミュレーションにおける消費電力算
出の技術と同様に、論理シミュレータ4からの各セルの
イベント情報5から各セルの瞬間的な電流変化を算出
し、瞬間電流算出結果12を得るようにしたものであ
る。
この図のように瞬間電流算出結果では電流波形がδ関数
になるため、FFTによりEMI成分を解析することが
できない。ここまでは実施形態1の電流波形算出処理と
同じである。150はc−hテーブルライブラリであ
り、上記で説明した各セル毎の出力負荷容量と矩形波の
高さの関係をキャラクタライズしたc−hテーブル(図
66)で構成されている。61は各インスタンス毎の出
力負荷容量を記述した容量データである。151は容量
データ61から処理対象インスタンスの出力負荷容量を
抽出し、c−hデーブルライブラリ150とその出力負
荷容量からモデル化する矩形波の波高値を算出する第8
の矩形波高算出処理部である。152は矩形波の面積が
瞬間電流値になるように第8の矩形波高算出処理部15
1から算出された矩形波の波高値と瞬間電流値を用いて
矩形波の矩形波幅を算出する第8の矩形波幅算出処理部
である。153は瞬間電流算出結果12を高さが第8の
矩形波高算出処理部151から算出された矩形波の波高
値であり、幅が第8の矩形波幅算出処理部152から算
出された矩形波幅である矩形波にモデル化する第8の矩
形波整形処理部である。
出処理を含めた第8の矩形波整形処理フローを示す。ま
ずc−hテーブルライブラリ150を読み込む(115
0)。次に容量データ61を読み込む(1151)。
るまで各イベント毎に繰り返す(1152)。まず、c
−hテーブルライブラリ150の処理対象のセルの種類
のc−hテーブルからcに一番近い小さい値と大きい値
の2点(c1,h1)、(c2,h2)を抽出する。c
は処理対象インスタンスの61容量データから抽出した
出力負荷容量である。
(c1,h1)=(1,5)、(c2,h2)=(2
0,20)がその値である(1153)。次に前述の式
12により矩形波の高さhを算出する(1154)。図
66のテーブルではc=12の場合、h(12)=8と
なる。これらの処理(1153)(1154)が第8の
矩形波高算出処理部151に相当する。次に矩形波の面
積はw×hであるので、w=i/hの関係から矩形波の
時間幅wを算出する(1155)。iは処理対象イベン
トのセルに関する瞬間電流値であり、hは第8の矩形波
高算出処理部151によって算出した矩形波の高さであ
る。
2に相当する。次に変数xが−W/2からW/2に変化
するまでI(t+x)にhを加算し、xにΔt加える
(1156)(1157)。I(t+x)は時刻t+x
における全てのセルの電流値である。この処理が第8の
矩形波整形処理部153に相当する。
理と矩形波整形処理フローにより電流波形算出結果8を
得ることができる。この電流波形算出結果8をFFT処
理部9がFFT処理することによりEMI成分の周波数
特性を得ることができ、EMI解析結果10を得る事が
できる。
(請求項18)の不要輻射解析方法の実施例について説
明する。本実施例は、不要輻射解析のうち、特に回路素
子が複数の論理素子の組み合わせで構成される複合セル
である場合の特性抽出および電流量計算を行う場合を示
している。複合セルにおいては、電流は前記回路素子を
構成する各論理素子が活性化するごとに流れる。この活
性化は、それぞれの回路素子内の論理素子の持つ遅延を
もって生ずる。
から、回路素子内で複数回電流が流れる。例えば図10
8のような組み合わせ回路素子では、端子A、Bの変化
からセル内ゲートP1の遅延(1nsであるものとす
る)をもって1N1が変化し、さらにセル内ゲートP2
の遅延(1nsであるものとする)をもってYが変化す
るため、図69の信号変化パターンを与えると図70に
示すような電流波形が発生する。
技術では各回路素子の出力ピンにおける遅延を持ってそ
の回路素子の総電流量を消費するものとして扱ってい
た。例えば、図108の回路素子を用いた図73の回路
に対して図69の信号変化パターンを与えると、図71
のような電流情報が出力される。それに対し、本実施例
では、対象となる複合セルの入力ピンが信号変化した際
に生じる複数回の電流をその電流のピーク値と入力信号
変化を基準とした遅延値でライブラリ化し、論理シミュ
レータにおける複合セルの入力ピンの信号変化に応じて
前記遅延値の遅れを持って各電流のピーク値があるもの
と想定して電流を推定することを特徴としている。
ーク電流値と電流量を用いる手法を用いた実施形態14
(請求項18)の不要輻射解析方法の実施例についてそ
の構成を示す。
装置は、回路接続情報記憶手段9001と、信号変化パ
ターン記憶手段9002と、素子電流量記憶手段900
3と、総電流量記憶手段9004と、総電流量算出手段
9005とからなる電流量解析手段を備えている。
を構成する個々の要素について説明するとともに、図7
3に示す回路接続情報と、図69に示す信号変化パター
ンと、図75に示す素子電流量とを用いて図74に示す
総電流量を算出する手順を説明する。
と同様に対象となる回路の接続情報である回路接続情報
を記憶するものであり、あらかじめ図73に示すような
回路接続情報を記憶している。信号変化パターン記憶手
段9002は、従来例の信号変化パターンと同様に対象
回路接続情報に印加する信号変化パターンを記憶するも
のであり、あらかじめ図69に示すような図73の入力
ポートA、B、Cに入力される信号変化パターンを記憶
している。素子電流量記憶手段9003は、図75で示
すような形式で各素子ごとに各素子の外部入力端子が変
化した後に素子内で発生する電流に関する変化ピン93
01と時間間隔(外部端子が変化してから電流の発生す
るまでの時間)9302と電流の総量9303とピーク
値9304の情報を有する。9305は、図108で示
すANDORの回路素子について、入力Aが変化してか
ら1ns後にピークを0.5mAとする総量1mAの電
流が流れ、入力Aが変化してから2ns後にピークを
1.5mAとする総量3mAの電流が流れることを示し
ている。9306は、図108で示す回路素子につい
て、入力Bが変化してから1ns後にピークを0.5m
Aとする総量1mAの電流が流れ、入力Bが変化してか
ら2ns後にピークを1.5mAとする総量3mAの電
流が流れることを示している。9307は、図108で
示す回路素子について、入力Cが変化してから2ns後
にピークを1.5mAとする総量3mAの電流が流れる
ことを示している。
すようなフローチャートを有する。図76に示す電流計
算方法のフローチャートでは、従来方法の電流計算方法
のステップ1504に対して、入力の変化に伴って素子
電流量記憶手段に記憶された素子電流量情報の時間間隔
を持って電流の総量とピーク値から電流の波形を矩形波
形を想定して計算する処理(ステップ9404)に変更
となる。ステップ9401で回路接続情報記憶手段90
01に記憶された図73の回路接続情報を読み込む。ス
テップ9402で信号変化パターン記憶手段9002に
記憶された図69の信号変化パターンを読み込む。ステ
ップ9403で素子電流情報記憶手段9003に記憶さ
れた図75の素子電流量情報を読み込む。
パターンを図73の回路接続情報に与え、信号伝播を行
うとともに、素子電流量情報内に記載された回路素子の
外部入力端子が信号変化を起こした際に、端子に対応す
る電流量をピーク値で平均化(矩形化)した電流波形を
外部入力端子の変化から時間間隔分だけ遅らせた時刻の
総電流量情報に加算する。信号伝播完了後、ステップ9
405で、算出された図74に示す各時刻における総電
流量情報を総電流量記憶手段9004に記憶する。これ
により、図71に示す従来方式の電流に対して、図74
に示すような実際に近い電流波形が得られる。
施形態(請求項19)の不要輻射解析方法の実施例につ
いて説明する。本実施例は、不要輻射解析のうち、特に
回路素子がクロックに同期したレジスタ(信号保持)素
子である場合の特性抽出および電流量計算を行う場合を
示している。フリップフロップ等のレジスタ素子におい
ては、電流はクロックピンの信号変化の立ち上がりある
いは立ち下がりごとに生じる。例えば、図77の回路に
対して図78の信号変化パターンを与えると、図79の
ような電流が流れる。前述の実施例同様、前記回路素子
を構成する各論理素子が活性化するごとに流れるが、従
来のゲートレベル消費電力解析ツールでは、これをフリ
ップフロップのデータ取り込み時、例えばクロックピン
の立ち上がり時のみで表していた。例えば、図77の回
路に対して図78の信号変化パターンを与えると、図8
0のような電流情報が出力される。
流の流れるタイミングは主としてフリップフロップのク
ロックピンの立ち上がりと立ち下がりを基準として発生
することに着目して、クロックピンの立ち上がりおよび
立ち下がりを基準として電流を見積もる。図72に実施
形態14(請求項15)のピーク電流値と電流量を用い
る手法を用いた請求項19の不要輻射解析方法の実施例
についてその構成を示す。同図に示す不要輻射解析方法
に用いられる装置は、回路接続情報記憶手段9001
と、信号変化パターン記憶手段9002と、素子電流量
記憶手段9003と、総電流量記憶手段9004と、総
電流量算出手段9005とからなる電流量解析手段を備
えている。
を構成する個々の要素について説明するとともに、図7
7に示す回路接続情報と、図78に示す信号変化パター
ンと、図81に示す素子電流量とを用いて図82に示す
総電流量を算出する手順を説明する。
と同様に対象となる回路の接続情報である回路接続情報
を記憶するものであり、あらかじめ図77に示すような
回路接続情報を記憶している。
来例の信号変化パターンと同様に対象回路接続情報に印
加する信号変化パターンを記憶するものであり、あらか
じめ図78に示すような図77の入力ポートCK、Dに
入力される信号変化パターンを記憶している。
示ような形式で各素子ごとにクロックの立ち上がりおよ
び立ち下がりそれぞれにおける回路素子の電流の総量9
901とピーク値9902を有する。
すようなフローチャートを有する。図83に示す電流計
算方法のフローチャートでは、従来方法の電流計算方法
のステップ1504に対して、クロックの立ち上がりお
よび立ち下がりそれぞれについて電流の総量とピーク値
から電流の波形を矩形波形で計算する処理(ステップ1
0104)に変更となる。
段9001に記憶された図77の回路接続情報を読み込
む。ステップ10102で信号変化パターン記憶手段9
002に記憶された図78の信号変化パターンを読み込
む。
段9003に記憶された図114の素子電流量情報を読
み込む。次にステップ10104で図78の信号変化パ
ターンを図77の回路接続情報に与え、信号伝播を行う
とともに、素子電流量情報内に記載された回路素子の外
部入力端子が信号変化を起こした際に、立ち上がり、立
ち下がりそれぞれについて、端子に対応する電流量をピ
ーク値で平均化(矩形化)した電流波形を端子が変化し
た時刻の総電流量情報に加算する。
算出された図82に示す各時刻における総電流量情報を
総電流量記憶手段9004に記憶する。これにより、図
80に示す従来方式の電流に対して、図82に示すよう
な実際に近い電流波形が得られる。
施形態(請求項20)の不要輻射解析方法の実施例につ
いて説明する。従来のゲートレベル消費電力解析手段で
は、論理素子の入力信号値に応じて電流総量を変化させ
る、いわゆる状態依存の消費電力計算を行うことは出来
たが、電流の時間的変化やピーク値を含めた状態依存ま
では扱うことは出来なかった。
号の定常値を見るものはあったが、別の信号の信号変化
まで見るものはなかった。例えば、図84に示す回路接
続情報と、図85に示す信号変化パターンとにより図8
6で示す電流(A、B端子が同時変化の場合とA端子の
み変化の場合に電流量が異なる)が流れるが、このよう
な場合に従来は図87のような波形しか出すことが出来
なかった。
変化やピーク値を2つ以上の信号変化を考慮した状態依
存で持つことを特徴とする。図72に実施形態14(請
求項15)のピーク電流値と電流量を用いる手法を用い
た請求項20の不要輻射解析方法の実施例についてその
構成を示す。
装置は、回路接続情報記憶手段9001と、信号変化パ
ターン記憶手段9002と、素子電流量記憶手段900
3と、総電流量記憶手段9004と、総電流量算出手段
9005とからなる電流量解析手段を備えている。
を構成する個々の要素について説明するとともに、図8
4に示す回路接続情報と、図85に示す信号変化パター
ンと、図88に示す素子電流量とを用いて図90に示す
総電流量を算出する手順を説明する。
と同様に対象となる回路の接続情報である回路接続情報
を記憶するものであり、あらかじめ図84に示すような
回路接続情報を記憶している。
来例の信号変化パターンと同様に対象回路接続情報に印
加する信号変化パターンを記憶するものであり、あらか
じめ図85に示すような図84の入力ポートA、Bに入
力される信号変化パターンを記憶している。
示すような形式で各素子ごとに各素子の外部端子が変化
した時に素子内で発生する電流に関する変化ピンと、そ
の変化に影響を及ぼした他の外部ピンの論理変化状態
と、電流の総量と、ピーク値の情報を有する。
NDの回路素子について、出力Yが変化した時に入力A
が論理値1であり、入力Bが論理値0から1に変化する
場合ピークを1mAとする総量3mAの電流が流れるこ
とを示している。
すようなフローチャートを有する。図89に示す電流計
算方法のフローチャートでは、従来方法の電流計算方法
のステップ1504に対して、信号変化が発生した時、
その変化に影響した他の端子の状態を判断して信号変化
が発生した時刻に電流の総量とピーク値から電流の波形
を矩形波形を想定して計算する処理(ステップ1070
4)に変更となる。
段9001に記憶された図84の回路接続情報を読み込
む。ステップ10702で信号変化パターン記憶手段9
002に記憶された図85の信号変化パターンを読み込
む。ステップ10703で素子電流情報記憶手段900
3に記憶された図88の素子電流量情報を読み込む。
化パターンを図84の回路接続情報に与え、信号伝播を
行うとともに、素子電流量情報内に記載された回路素子
の外部端子が信号変化を起こした際に、他の端子の状態
に応じて端子に対応する電流量をピーク値で平均化(矩
形化)した電流波形を信号時刻の総電流量情報に加算す
る。
算出された図90に示す各時刻における総電流量情報を
総電流量記憶手段9004に記憶する。これにより、図
δに示す従来方式の電流に対して、図dに示すような実
際に近い電流波形が得られる。
の実施の形態に係る不要輻射解析手法の全体フローを示
したブロック図であり、第7の実施の形態において図2
8を用いて説明した不要輻射解析手法に対し、ステップ
G2を追加し、データA10をデータG3に、またステ
ップA11をステップG4に変更した構成となってい
る。第1の実施の形態で説明した不要輻射解析手法と同
一部分については同一符号を付して説明を省略する。
セルキャラクタライズ部である。G3は電流量と電源電
圧降下量の関係を示した各セル毎のI−Vテーブルファ
イル(もしくはI−V関数)である。G4は電源電圧降
下量を算出し、ステップ11から算出された瞬間電流の
補正を行う電源電圧降下算出/瞬間電流補正処理部であ
る。
テップG2ではライブラリ3が入力され、各々セル単体
において電源電圧を変動させた時の電流量を予め算出す
ることにより、各セル毎のI−Vテーブルファイル(も
しくはI−V関数)G3が生成される。
ける電源電圧降下算出/瞬間電流補正処理部G4の処理
フローを示したブロック図であり、本図を参照しながら
ステップG4の機能を説明する。
解析手法と同一部分については同一符号を付して説明を
省略する。また、データ12は第1の実施の形態で詳細
を説明しているため、同一符号を付して説明を省略す
る。ステップG4は、第7の実施の形態におけるステッ
プA11に対し、電流値補正処理部B12をH1に変更
した構成となっている。
テップH1では第7の実施の形態におけるステップB1
0より生成されたインスタンス毎の電圧降下値情報B1
1と前記ステップG2より生成された電流量と電源電圧
降下量の関係を示した各セル毎のI−Vテーブルファイ
ル(もしくはI−V関数)G3が入力され、前記ステッ
プ11より生成された瞬間電流算出結果12に基づいた
インスタンス毎の瞬間電流情報B1に対して、各セル毎
の異なるテーブルファイルに基づいた補正処理が施され
ることにより、各インスタンス毎に電源配線抵抗成分に
依存する電源電圧降下を考慮した瞬間電流算出結果A6
が生成される。
態の不要輻射解析方法によれば、各セル毎に予め電流量
と電源電圧降下量の関係をキャラクタライズし適用する
ことにより、本発明の第7の実施の形態におけるI−V
テーブルファイル(もしくはI−V関数)A10を使用
した全セル一律の電流量と電源電圧降下量の関係で解析
を行うのに対して、セル(レイアウト)構成依存性を反
映させることが出来るため、より正確な電流波形のモデ
リングが実現でき、電流波形をFFT処理することで得
られる解析対象回路の周波数特性において、不要な高調
波成分の低減が可能となる。また、本実施の形態20で
は第1の実施の形態において説明したが、第14〜19
の実施の形態のそれぞれにおいても同様の効果が得られ
る。
の実施の形態に係る不要輻射解析手法の全体フローを示
したブロック図であり、第8の実施の形態において図3
6を用いて説明した不要輻射解析手法に対し、ステップ
I1を追加し、データC1を削除し、データA10をデ
ータI2に、またステップC2をステップI3に変更し
た構成となっている。
手法と同一部分については同一符号を付して説明を省略
する。I1は各々セル固有の各種情報を作り込むセルキ
ャラクタライズ部である。I2は電流量と電源電圧降下
量及び近接電源・グランド間デカップリング容量の関係
を示した各セル毎のI、C−Vテーブルファイル(もし
くはI、C−V関数)である。I3は電源電圧降下量を
算出し、ステップ11より生成された瞬間電流算出結果
12の補正を行う電源電圧降下算出/瞬間電流補正処理
部である。
テップI1ではライブラリ3が入力され、各々セル単体
において電源電圧を変動させることに加えて、電源・グ
ランド間デカップリング容量も考慮に入れて同様に変動
させた時の電流量を予め算出することにより、各セル毎
のI、C−Vテーブルファイル(もしくはI、C−V関
数)I2が生成される。
ける電源電圧降下算出/瞬間電流補正処理部I3の処理
フローを示したブロック図であり、本図を参照しながら
ステップI3の機能を説明する。尚、第8の実施の形態
で説明した不要輻射解析手法と同一部分については同一
符号を付して説明を省略する。また、データ12は第1
の実施の形態で詳細を説明しているため、同一符号を付
して説明を省略する。
るステップC2に対し、電流値補正処理部B12をJ1
に変更した構成となっている。
テップJ1では第8の実施の形態におけるステップB1
0より生成されたインスタンス毎の電圧降下値情報B1
1と前記ステップI1より生成された電流量と電源電圧
降下量及び近接電源・グランド間デカップリング容量の
関係を示した各セル毎のI、C−Vテーブルファイル
(もしくはI、C−V関数)I2と第8の実施の形態に
おけるステップD1より生成された電源・グランド配線
における各セグメント間の容量値情報D2が入力され、
前記ステップ11より生成された瞬間電流算出結果12
に基づいたインスタンス毎の瞬間電流情報B1に対し
て、各セル毎の異なるテーブルファイルに基づいた補正
処理が施されることにより、各インスタンス毎に電源配
線抵抗成分に加えてデカップリング容量成分に依存する
電源電圧変動を考慮した瞬間電流算出結果A6が生成さ
れる。
態の不要輻射解析方法によれば、各セル毎に予め電流量
と電源電圧降下量及び電源・グランド間デカップリング
容量の関係をキャラクタライズし適用することにより、
本発明の第8の実施の形態におけるI−Vテーブルファ
イル(もしくはI−V関数)A10及びC−Vテーブル
ファイル(もしくはC−V関数)C1を使用した全セル
一律の電流量と電源電圧降下量及び電源・グランド間デ
カップリング容量の関係で解析を行うのに対して、セル
(レイアウト)構成依存性を反映させることが出来るた
め、より一層正確な電流波形のモデリングが実現でき、
電流波形をFFT処理することで得られる解析対象回路
の周波数特性において、不要な高調波成分の低減がさら
に可能となる。
形態において説明したが、第14〜19の実施の形態の
それぞれにおいても同様の効果が得られる。
の実施の形態に係る不要輻射解析手法の全体フローを示
したブロック図であり、第7の実施の形態において図2
8を用いて説明した不要輻射解析手法に対し、判定ステ
ップK1を追加した構成となっている。 第1の実施の
形態で説明した不要輻射解析手法と同一部分については
同一符号を付して説明を省略する。K1は電源電圧降下
算出/瞬間電流補正処理部A11より生成される電源電
圧降下を考慮した瞬間電流算出結果A6を次ステップの
入力とするかの比較判定処理部である。以下、ステップ
K1について説明する。本発明の第22の実施の形態の
特徴は、電源電圧降下算出/瞬間電流補正処理部A11
より生成される電源電圧降下を考慮した瞬間電流算出結
果A6を再度、前記ステップA11の入力にし、再度新
たに電源電圧降下を考慮した瞬間電流算出結果A6が生
成されることを繰り返し処理することにある。
が予め設定した回数に達したかの比較判定を行い、その
比較判定結果が真になれば繰り返し処理を終了し、次の
ステップであるFFT処理部9を実施する。
態の不要輻射解析方法によれば、電源電圧変動の影響を
考慮して補正・算出した瞬間電流結果を、更にフィード
バックして電源電圧降下算出/瞬間電流補正処理を繰り
返すことにより、電源電圧降下による電流量変化を安定
させることが出来るため、より正確な電流波形のモデリ
ングが実現でき、電流波形をFFT処理することで得ら
れる解析対象回路の周波数特性において、不要な高調波
成分の低減が可能となる。
数により繰り返し処理を制御したが、前記ステップA1
1より生成された電源電圧降下を考慮した瞬間電流算出
結果A6を一旦記憶しておく記憶装置を設け、前記ステ
ップA11にその記憶装置に格納された瞬間電流算出結
果A6を再入力して、新たに生成された瞬間電流算出結
果A6と元々記憶装置に格納されている瞬間電流算出結
果A6との比較判定を行い、予め設定した許容誤差範囲
内に収まるまで繰り返し処理を行う制御方法で代用する
ことも可能である。
形態において説明したが、第8、9、20、21の実施
の形態のそれぞれについても同様の効果が得られる。
施形態について説明する。実施形態14〜22では各セ
ルの種類毎にそのセルのピーク電流値とイベント毎の瞬
間的な変化電流量をキャラクタライズすることにより、
論理シミュレータからの各セルのイベント情報から各セ
ルの瞬間的な変化電流を算出し、その瞬間的な変化電流
を波高値をそのセルのピーク電流値とした矩形波にモデ
ル化することにより、電流変化を得たが、この方法で
は、その瞬間的な電流波形を三角波にモデル化すること
により、より現実に近い電流変化を得ることができる。
高さをキャラクタライズしたピーク電流値とし、時間幅
を瞬間電流値が面積となるように算出した三角波にモデ
ル化することにより、より現実に近い電流変化を算出
し、その電流波形算出結果をFFTすることにより、対
象回路のEMI成分の周波数特性を得、EMI解析する
方法を説明する。
とモデル化した三角波を示す。iは瞬間電流値であり、
tは現在処理時刻である。hはモデル化する三角波の高
さであり、各セル毎に三角波の高さをキャラクタライズ
したライブラリを用いて抽出する。wは三角波の時間幅
であり、iと先に抽出したhを用いて算出する。時刻t
+xにおける電流値は前述の式5で表される。また時刻
t−xにおける電流値も式5で表される。
施形態1と同様である。(図1) 図97に本実施形態における電流波形算出処理部7の詳
細なブロック図を示す。11は論理シミュレータ4から
の各セルのイベント情報5から各セルの瞬間的な電流変
化を算出する瞬間電流算出処理部であり、従来の論理シ
ミュレーションにおける消費電力算出の技術と同様であ
る。12は瞬間電流算出処理部11から算出した瞬間電
流算出結果である。図3に瞬間電流算出結果12の例を
示す。この図のように瞬間電流算出結果では電流波形が
δ関数になるため、FFTによりEMI成分を解析する
ことができない。ここまでは実施形態1の電流波形算出
処理と同じである。130はピーク電流ライブラリであ
り、各セルの種類毎にそのセルのピーク電流値をキャラ
クタライズした値が含まれている。160はピーク電流
ライブラリ130からモデル化する三角波の波高値を抽
出する三角波高算出処理部である。161は三角波の面
積が瞬間電流値になるように、三角波高算出処理部16
0から抽出された三角波の波高値と瞬間電流値を用いて
三角波の波幅を算出する三角波幅算出処理部である。1
62は瞬間電流算出結果12を高さが三角波高算出処理
部160から抽出された三角波の波高値であり、幅が三
角波幅算出処理部161から算出された波幅である三角
波にモデル化する三角波整形処理部である。
処理を含めた三角波整形処理フローを示す。まずピーク
電流ライブラリ130を読み込む(1160)以下の処
理は電流波形算出処理が終了するまで各イベント毎に繰
り返す(1161)。まず、ピーク電流ライブラリ13
0から処理対象インスタンスのピーク電流値を抽出し、
それを三角波の波高hとする(1162)。この処理が
三角波高算出処理160に相当する。次に三角波の面積
はwを三角波の幅とするとw×h/2であり、処理対象
イベントのセルに関する瞬間電流値と等しい。そこで2
×i/hにより三角波の幅wを算出する(1163)。
iは処理対象イベントのセルに関する瞬間電流値であ
る。この処理が三角波幅算出処理部161に相当する。
次に変数xが0からw/2までI(t+x)とI(t−
x)に式5を加算し、xにΔt加える(1164)(1
165)。I(t+x)は時刻t+xにおける全てのセ
ルの電流値であり、I(t−x)は時刻t−xにおける
全てのセルの電流値である。この処理が三角波整形処理
部162に相当する。
理と三角波整形処理フローにより電流波形算出結果8を
得ることができる。この電流波形算出結果8をFFT処
理部9がFFT処理することによりEMI成分の周波数
特性を得ることができ、EMI解析結果10を得る事が
できる。
施形態について説明する。 実施形態14〜22では各
セルの種類毎にそのセルのピーク電流値とイベント毎の
瞬間的な変化電流量をキャラクタライズすることによ
り、論理シミュレータからの各セルのイベント情報から
各セルの瞬間的な変化電流を算出し、その瞬間的な変化
電流を波高値をそのセルのピーク電流値とした矩形波に
モデル化することにより、電流変化を得たが、この方法
では、その瞬間的な電流波形を複数次関数にモデル化す
ることにより、より現実に近い電流変化を得ることがで
きる。以下にその例として、瞬間的な変化電流を高さを
キャラクタライズしたピーク電流値とし、時間幅を瞬間
電流値が面積となるように算出した複数次関数にモデル
化することにより、より現実に近い電流変化を算出し、
その電流波形算出結果をFFTすることにより、対象回
路のEMI成分の周波数特性を得、EMI解析する方法
を説明する。
とモデル化した複数次関数を示す。iは瞬間電流値であ
り、tは現在処理時刻である。hはモデル化する複数次
関数の高さであり、各セル毎に複数次関数の高さをキャ
ラクタライズしたライブラリを用いて抽出する。wは複
数次関数の時間幅に関する値であり、iと先に抽出した
hを用いて算出する。複数次関数の時間幅を2×wとす
ると時刻t+xにおける電流値は前述の式6で表され
る。この複数次関数の面積は前述の式8で表される。こ
の値はiと等しいため、aは前述の式9で表される。複
数次関数の高さhは前述の式6においてx=0のときで
あるので、前述の式7で表される。式7、9の関係から
wは式14
施形態1と同様である。(図1) 図100に本実施形態における電流波形算出処理部7の
詳細なブロック図を示す。11は論理シミュレータ4か
らの各セルのイベント情報5から各セルの瞬間的な電流
変化を算出する瞬間電流算出処理部であり、従来の論理
シミュレーションにおける消費電力算出の技術と同様で
ある。12は瞬間電流算出処理部11から算出した瞬間
電流算出結果である。図3に瞬間電流算出結果12の例
を示す。この図のように瞬間電流算出結果では電流波形
がδ関数になるため、FFTによりEMI成分を解析す
ることができない。ここまでは実施形態1の電流波形算
出処理と同じである。
セルの種類毎にそのセルのピーク電流値をキャラクタラ
イズした値が含まれている。170はピーク電流ライブ
ラリ130からモデル化する複数次関数の波高値を抽出
する複数次関数波高算出処理部である。171は複数次
関数の面積が瞬間電流値になるように、複数次関数波高
算出処理部170から抽出された複数次関数の波高値と
瞬間電流値を用いて複数次関数の波幅を算出する複数次
関数波幅算出処理部である。172は瞬間電流算出結果
12を高さが複数次関数波高算出処理部170から抽出
された複数次関数の波高値であり、幅が複数次関数波幅
算出処理部171から算出された波幅である複数次関数
にモデル化する複数次関数波整形処理部である。
次関数波幅算出処理を含めた複数次関数波整形処理フロ
ーを示す。まずピーク電流ライブラリ130を読み込む
(1170)。以下の処理は電流波形算出処理が終了す
るまで各イベント毎に繰り返す(1171)。まず、ピ
ーク電流ライブラリ130から処理対象インスタンスの
ピーク電流値を抽出し、それを複数次関数の波高hとす
る(1172)。この処理が複数次関数波高算出処理1
70)に相当する。次に前述の式14によりwを算出す
る(1173)。iは処理対象イベントのセルに関する
瞬間電流値である。この処理が複数次関数波幅算出処理
部171に相当する。次に変数xが−wからwまでI
(t+x)に前述の式6を加算し、xにΔt加える(1
174)(1175)。I(t+x)は時刻t+xにお
ける全てのセルの電流値である。この処理が複数次関数
波整形処理部172に相当する。
数波幅算出処理と複数次関数波整形処理フローにより電
流波形算出結果8を得ることができる。この電流波形算
出結果8をFFT処理部9がFFT処理することにより
EMI成分の周波数特性を得ることができ、EMI解析
結果10を得る事ができる。
施形態について説明する。 実施形態14〜22では各
セルの種類毎にそのセルのピーク電流値とイベント毎の
瞬間的な変化電流量をキャラクタライズすることによ
り、論理シミュレータからの各セルのイベント情報から
各セルの瞬間的な変化電流を算出し、その瞬間的な変化
電流を波高値をそのセルのピーク電流値とした矩形波に
モデル化することにより、電流変化を得たが、この方法
では、その瞬間的な電流波形を複素関数にモデル化する
ことにより、より現実に近い電流変化を得ることができ
る。
各セルの種類毎に高さと時間幅をキャラクタライズした
複数次関数にモデル化することにより、より現実に近い
電流変化を算出し、その電流波形算出結果をFFTする
ことにより、対象回路のEMI成分の周波数特性を得、
EMI解析する方法を説明する。
とモデル化した複素関数を示す。iは瞬間電流値であ
り、tは現在処理時刻である。hはモデル化する関数の
高さであり、各セルの種類毎にキャラクタライズされた
ピーク電流値と同じである。wはモデル化する関数の時
間幅であり、各セルの種類毎にキャラクタライズされた
値である。今回の例ではモデル化する複素関数の式を前
述の式11とする。この関数はガウス関数と呼ばれてい
る。この式においてx=0のとき、この式の値はhとな
るため、hはガウス関数の高さを表している。この式に
おいてx=3×wの時、この式の値は0.0001×h
となり、高さの0.01%となる。そこでこの値をモデ
ル化する関数の時間幅の限界とし、関数の時間幅を6×
wとした。
施形態1と同様である。(図1) 図102に本実施形態における電流波形算出処理部7の
詳細なブロック図を示す。11は論理シミュレータ4か
らの各セルのイベント情報5から各セルの瞬間的な電流
変化を算出する瞬間電流算出処理部であり、従来の論理
シミュレーションにおける消費電力算出の技術と同様で
ある。12は瞬間電流算出処理部11から算出した瞬間
電流算出結果である。図3に瞬間電流算出結果12の例
を示す。この図のように瞬間電流算出結果では電流波形
がδ関数になるため、FFTによりEMI成分を解析す
ることができない。ここまでは実施形態1の電流波形算
出処理と同じである。そして、ガウス関数波高算出処理
部180で、各セルの種類毎にそのセルのピーク電流値
をキャラクタライズした値を含んだピーク電流ライブラ
リ130からモデル化するガウス関数の波高値が抽出さ
れる。181は波幅ライブラリであり、各セルの種類毎
にそのセルの波幅をキャラクタライズした値が含まれて
いる。182は波幅ライブラリ181からモデル化する
ガウス関数の波幅値を抽出するガウス関数波幅算出処理
部である。
ウス関数波高算出処理部180から抽出されたガウス関
数の波高値であり、幅がガウス関数波幅算出処理部18
2から算出された波幅であるガウス関数にモデル化する
ガウス関数波整形処理部である。
ス関数波幅算出処理を含めたガウス関数波整形処理フロ
ーを示す。まずピーク電流ライブラリ130を読み込む
(1180)。次に波幅ライブラリ181を読み込む
(1181)。
まで各イベント毎に繰り返す(1182)。まず、ピー
ク電流ライブラリ130から処理対象インスタンスのピ
ーク電流値を抽出し、それをガウス関数の波高hとする
(1183)。この処理がガウス関数波高算出処理18
0に相当する。次に波幅ライブラリ181から処理対象
インスタンスの波幅値を抽出し、それをガウス関数の波
幅wとする(1184)。この処理がガウス関数波幅算
出処理182に相当する。次に変数xが−3×wから3
×wまでI(t+x)に前述の式11を加算し、xにΔ
t加える(1185)(1186)。I(t+x)は時
刻t+xにおける全てのセルの電流値でありである。こ
の処理がガウス関数波整形処理部183に相当する。
数波幅算出処理と複数次関数波整形処理フローにより電
流波形算出結果8を得ることができる。この電流波形算
出結果8をFFT処理部9がFFT処理することにより
EMI成分の周波数特性を得ることができ、EMI解析
結果10を得る事ができる。
不要輻射解析方法について説明する。実施形態26は、
実施形態14、15、16、17、18、19、20、
21、22における個々の回路素子(セル)における電
流波形情報を、貫通電流に依存する要素と、チャージ電
流に依存する要素に分けてモデル化することを特徴とす
る。実施形態26の場合、実施形態13と異なり、個々
の回路素子(セル)についてのモデル化を行うため、よ
り正確な電流のモデル化が可能となる。
図12に示す信号変化パターンとにより図104で示す
電流が流れるが、このような場合に従来は図14のよう
な波形しか出すことが出来なかった。また、実施形態1
3でも図58に示すような波形であった。本実施例では
これに対してより正確に電流を表すことが出来る。図7
2に実施形態14のピーク電流値と電流量を用いる手法
を用いた実施形態26の不要輻射解析方法の実施例につ
いてその構成を示す。
装置は、回路接続情報記憶手段9001と、信号変化パ
ターン記憶手段9002と、素子電流量記憶手段900
3と、総電流量記憶手段9004と、総電流量算出手段
9005とからなる電流量解析手段を備えている。
を構成する個々の要素について説明するとともに、図1
10に示す回路接続情報と、図12に示す信号変化パタ
ーンと、図105に示す素子電流量とを用いて図106
に示す総電流量を算出する手順を説明する。
と同様に対象となる回路の接続情報である回路接続情報
を記憶するものであり、あらかじめ図110に示すよう
な回路接続情報を記憶している。
来例の信号変化パターンと同様に対象回路接続情報に印
加する信号変化パターンを記憶するものであり、あらか
じめ図111に示すような図110の入力ポートCK、
Dに入力される信号変化パターンを記憶している。
に示ような形式で各素子ごとに個々の回路素子(セル)
の貫通電流の総量とピーク値、チャージ電流の総量とピ
ーク値をそれぞれ有する。
示すようなフローチャートを有する。図107に示す電
流計算方法のフローチャートでは、従来方法のステップ
1504に対して電流計算において計算された貫通電流
とチャージ電流それぞれに対してピーク値と総量から定
まる矩形電流波形を計算しそれらの電流波形をマージす
る処理(ステップ12504)に変更となる。ステップ
12501で回路接続情報記憶手段9001に記憶され
た図110の回路接続情報を読み込む。
憶手段9002に記憶された図111の信号変化パター
ンを読み込む。ステップ12503で素子電流情報記憶
手段9003に記憶された図105の素子電流量情報を
読み込む。次にステップ12504で図111の信号変
化パターンを図110の回路接続情報に与え、信号伝播
を行うとともに、素子電流量情報内に記載された回路素
子の外部端子が信号変化を起こした際に、端子に対応す
る電流量の貫通電流成分とチャージ電流成分それぞれを
それぞれのピーク値で平均化(矩形化)した電流波形を
端子が変化した時刻の総電流量情報に加算する。信号伝
播完了後、ステップ12505で、算出された図106
に示す各時刻における総電流量情報を総電流量記憶手段
9004に記憶する。これにより、図14に示す従来方
式の電流に対して、図106に示すような実際に近い電
流波形が得られる。
施形態について説明する。 実施形態10では論理シミ
ュレータからの各セルのイベント情報から各セルの瞬間
的な変化電流を算出し、その瞬間的な電流波形を三角波
にモデル化することにより、より現実に近い電流変化を
得ることができることを説明したが、この実施形態27
では、さらに出力スリュー情報すなわちセルの出力端子
における信号の変化開始から終了までの時間を考慮して
電流波形を算出するようにしたことを特徴とする。以下
にその例として、瞬間的な変化電流を三角波の面積が各
イベントの電流量になるように、各イベント情報毎にセ
ルの出力端子におけるスリュー情報を考慮して幅を算出
するとともに、この幅に基づいて高さを算出することに
より三角波状にモデル化し、現存のライブラリをそのま
ま使用してさらにより現実に近い電流変化を算出し、そ
の電流波形算出結果をFFTすることにより、対象回路
のEMI成分の周波数特性を得、EMI解析する方法を
説明する。
解析方法を実行するための論理値(図117(a))と
モデル化した三角波(図117(b))を示す。tは現
在処理時刻である。Wはモデル化する三角波の時間幅で
あり、出力スリュー情報を考慮して各セルのイベント情
報から各セルの瞬間的な変化電流を算出し、決定される
幅である。hは三角波の高さであり、iとWから算出す
る。h=2×I/W本実施形態の全体フローのブロック
図は実施形態1と同様である。(図1)図118に本実
施形態における不要輻射解析方法を実行するための装置
構成を示す。同図に示す不要輻射解析方法に用いられる
装置は、信号変化パターン記憶手段1171と、素子電
流量記憶手段1172と、出力スリュー情報記憶手段1
173と、これら信号変化パターン記憶手段1171、
素子電流量記憶手段1172、および出力スリュー情報
記憶手段1173と、回路接続情報記憶手段1174に
もとづいて、電流波形を算出する電流波形算出手段11
75とから構成されており、電流波形算出結果1176
を出力するようになっている。
を含めた三角波整形処理フローを示す。以下の処理は、
出力スリューの読み込み(1190)後、電流波形算出
処理が終了するまで各イベント毎に繰り返す(119
1)。イベント変化点を中心とし、底辺を出力スリュー
として抽出し(1192)、その面積を電流量とする2
等辺三角形をそのイベントによる電流波形とする。三角
波の面積はW×h/2であり、その値はiである。そこ
で2×i/Wにより三角波の高さhを算出する(119
3)。iは処理対象イベントのセルに関する瞬間電流値
である。この処理が実施形態10における三角波高算出
処理部100に相当する。次に変数xが0からW/2ま
でI(t+x)とI(t−x)に(2×h/W)・x+
hを加算し、xにΔt加える(1194)(1195)
(1196)。I(t+x)は時刻t+xにおける全て
のセルの電流値であり、I(t−x)は時刻t−xにお
ける全てのセルの電流値である。この処理が三角波整形
処理部101に相当する。
フローにより電流波形算出結果1176を得ることがで
きる。この波形をFFT処理部9がFFT処理すること
によりEMI成分の周波数特性を得ることができ、EM
I解析結果10を得る事ができる。
電力解析ツール・遅延検証で使用している情報のみによ
り、電流の推定を十分に精度よく行うことができる。
施形態について説明する。 この方法では実施形態27
に加えて、各イベントが立ち上がりか立ち下がりかの条
件を考慮して電流波形の算出を行うようにしたことを特
徴とする。 図120に本実施の形態における不要輻射
解析方法を実行するための論理値(図120(a))と
モデル化した三角波(図120(b))を示す。tは現
在処理時刻である。Wはモデル化する三角波の時間幅で
あり、出力スリュー情報を考慮して各セルのイベント情
報から各セルの瞬間的な変化電流を算出し、決定される
幅である。すなわち、ライズ/フォール依存係数記憶手
段1207を導入することにより、電流波形算出手段1
205では、各イベントのライズ/フォールに応じて電
流波形を算出する。
施形態1と同様である。(図1) 図121に本実施形態における不要輻射解析方法を実行
するための装置構成を示す。同図に示す不要輻射解析方
法に用いられる装置は、信号変化パターン記憶手段12
01と、素子電流量記憶手段1202と、出力スリュー
情報記憶手段1203と、これら信号変化パターン記憶
手段1201、素子電流量記憶手段1202、および出
力スリュー情報記憶手段1203と、回路接続情報記憶
手段1204にもとづいて、電流波形を算出する電流波
形算出手段1205とから構成されており、電流波形算
出結果1206を出力するようになっている。
法に加えてさらにライズ/フォール依存係数記憶手段1
207を参照して各イベントが立ち上がりか立ち下がり
かを考慮して電流波形を算出するようにしたことを特徴
とするもので、現存のライブラリをそのまま利用してさ
らにより現実に近い電流変化を算出し、その電流波形算
出結果をFFTすることにより、対象回路のEMI成分
の周波数特性を得、EMI解析を行うことが可能とな
る。
施形態について説明する。この方法では複合セルとして
解析するもので、イベント情報と、セル内部のスパイス
ネットリストから決定されるセルの段数と、出力負荷容
量と、入力スリュー情報と、入力スリューと電流量との
関係と、入力変化時刻あるいは遅延時間とに基づいて、
電流量を推定する。ここでは出力負荷容量と、入力スリ
ューと電流量との関係を示すテーブルを用いて、1回の
イベントで流れる電流量情報を計算する。 図122に
本実施の形態における不要輻射解析方法を実行するため
の論理値(図122(a))とモデル化した三角波(図
122(b))を示す。tdは遅延時間、tは現在処理
時刻である。Wはモデル化する三角波の時間幅であり、
多段による遅延時間tdを考慮した出力スリュー情報に
基づいて各セルとしてのイベント情報から各セルの瞬間
的な変化電流を算出し、決定される幅である。ここでは
あらかじめ出力負荷に依存しない電流量(非依存電流
量)を算出し、記憶しておき、出力の変化点を中心と
し、底辺を出力スリューとし、出力負荷にこの非依存電
流量すなわちを電流量―容量0のときの電流量を面積と
する三角波と、この遅延時間内にセルの段数に分割され
た三角波とを用いるようにしたことを特徴とする。この
方法では図123に示すように、実施形態27に加え
て、負荷容量・スリュー依存素子電流量情報テーブル1
226と、これにもとづいて素子電流量を算出する素子
電流量算出手段1227と、この算出された無負荷素子
電流量を記憶する無負荷素子電流量記憶手段1228と
を付加し、電流波形の算出を行うようにしたことを特徴
とする。同図に示す不要輻射解析方法に用いられる装置
は、負荷容量・スリュー依存素子電流量情報テーブル1
226と、これにもとづいて素子電流量を算出する素子
電流量算出手段1227と、この算出された無負荷素子
電流量を記憶する無負荷素子電流量記憶手段1228
と、信号変化パターン記憶手段1221と、素子電流量
算出手段1227によって算出されたイベント時の素子
電流量を記憶する素子電流量記憶手段1222と、出力
スリュー情報記憶手段1223と、これら信号変化パタ
ーン記憶手段1221、素子電流量記憶手段1222、
および出力スリュー情報記憶手段1223と、回路接続
情報記憶手段1224と、当該複合セルの接続段数を記
憶する段数記憶手段1229と、前記無負荷素子電流量
記憶手段1228の出力とにもとづいて、電流波形を算
出する電流波形算出手段1225とから構成されてお
り、電流波形算出結果1226を出力するようになって
いる。
ら過去にさかのぼって入力変化時刻までの間に、総面積
が容量0のときの電流量となるようにセルの段数分だけ
の複数の三角波が収まるようにしたことを特徴とするも
ので、現存のライブラリをそのまま利用してさらにより
現実に近い電流変化を算出し、その電流波形算出結果を
FFTすることにより、対象回路のEMI成分の周波数
特性を得、EMI解析を行うことが可能となる。
電源電流の変化を高精度に解析することで、シミュレー
ションにおけるLSIの不要輻射評価を実現している。
しかも、課題解決を実現する上において、ゲートレベ
ルシミュレーションをベースに高精度電源電流解析機能
を追加することで、トランジスタレベル電流解析を用い
た従来手法で生じていた処理時間長大化を抑制してい
る。
析方法を説明するフロー図である。
降下算出/瞬間電流補正処理部の処理の流れを説明する
フロー図である。
降下算出/瞬間電流補正処理部での入力データとなるレ
イアウトデータを示す模式図である。
降下算出/瞬間電流補正処理部で生成される電源配線の
各セグメント情報を示す模式図である。
降下算出/瞬間電流補正処理部で生成される各セグメン
ト毎の抵抗値情報を示す模式図である。
降下算出/瞬間電流補正処理部で生成される各セグメン
ト毎の電流値情報を示す模式図である。
降下算出/瞬間電流補正処理部で生成される各セグメン
ト毎の電圧降下値情報を示す模式図である。
降下算出/瞬間電流補正処理部で生成されるインスタン
ス毎の電圧降下値情報を示す模式図である。
析方法を説明するフロー図である。
降下算出/瞬間電流補正処理部の処理の流れを説明する
フロー図である。
降下算出/瞬間電流補正処理部で生成される各セグメン
ト間の容量値情報を示す模式図である。
降下算出/瞬間電流補正処理部で生成される各セグメン
ト毎の電圧降下値情報を示す模式図である。
析方法を説明するフロー図である。
降下算出/瞬間電流補正処理部の処理の流れを説明する
フロー図である。
0)
1)
2)
方法を実現するための構成を示すブロック図
手段のデータ例を示す図
ータ例を示す図
データ例を示す図
ローチャート
4)
5)
6)
手段のデータ例を示す図
例を示す図
憶手段のデータ例
レベル電流解析方法を実現するための構成を示すブロッ
ク図
のデータ例を示す図
ータ例を示す図
データ例を示す図
ローチャート
のデータ例を示す図
手段のデータ例を示す図
例を示す図
憶手段のデータ例
データ例を示す図
ータ例を示す図
ローチャート
のデータ例を示す図
手段のデータ例を示す図
例を示す図
憶手段のデータ例
データ例を示す図
ローチャート
ータ例を示す図
解析方法を説明するフロー図である。
圧降下算出/瞬間電流補正処理部の処理の流れを説明す
るフロー図である。
解析方法を説明するフロー図である。
圧降下算出/瞬間電流補正処理部の処理の流れを説明す
るフロー図である。
解析方法を説明するフロー図である。
3)
4)
5)
の例を示す図
のデータ例を示す図
記憶手段のデータ例
フローチャート
続情報記憶手段のデータ例の内部接続情報を示す図
を実現するための構成を示すブロック図
報記憶手段のデータ例を示す図
ターン記憶手段のデータ例を示す図
タ例を示す図
例を示す図
チャート
化を示す図
図である。
7)
7)
8)
8)
9)
9)
Claims (28)
- 【請求項1】論理シミュレーションの実行によってLS
Iの不要輻射量を解析する方法であって、信号変化の発
生時に生成され、発生対象である各セルのインスタンス
名、その信号名、発生時刻、遷移情報を含む各イベント
情報から瞬間的な電流量を算出する工程と、前記瞬間的
な電流量をあらかじめ決定された規則に従ってモデル化
する工程と、前記モデル化する工程によって算出された
電流変化情報を高速フーリエ変換(以下、FFTとす
る)処理する工程とを有する不要輻射解析方法。 - 【請求項2】前記モデル化する工程は、前記瞬間的な電
流量を一定離散幅にて平均化する工程を有し、前記FF
T処理する工程は、前記一定離散幅にて平均化する工程
によって算出された電流変化情報をFFT処理する工程
であることを特徴とする請求項1に記載の不要輻射解析
方法。 - 【請求項3】前記モデル化する工程は、前記瞬間的な電
流量を矩形波の面積が各イベントの電流量になるように
各イベント情報毎に矩形波の高さを算出した一定幅の矩
形波状にモデル化する工程を有し、前記FFT処理する
工程は、前記矩形波状にモデル化する工程によって算出
された電流変化情報をFFT処理する工程であることを
特徴とする請求項1に記載の不要輻射解析方法。 - 【請求項4】前記モデル化する工程は、前記瞬間的な電
流量を矩形波の面積が各イベントの電流量になるように
矩形波の幅と高さを算出した相似型の矩形波状にモデル
化する工程を有し、前記FFT処理する工程は、前記矩
形波状にモデル化する工程によって算出された電流変化
情報をFFT処理する工程であることを特徴とする請求
項1に記載の不要輻射解析方法。 - 【請求項5】前記モデル化する工程は、各イベント情報
毎の前記瞬間的な電流量を算出する工程と、前記電流量
と矩形波の幅と高さの関係を示すテーブルを用いて矩形
波状にモデル化する工程とを有し、前記矩形波状にモデ
ル化する工程によって算出された電流変化情報をFFT
処理する工程であることを特徴とする請求項1に記載の
不要輻射解析方法。 - 【請求項6】前記モデル化する工程は、各イベント情報
毎の前記瞬間的な電流量を算出する工程と、前記入力波
形鈍りと矩形波の幅と高さの関係を示すテーブルを用い
て矩形波状にモデル化する工程とを有し、前記矩形波状
にモデル化する工程によって算出された電流変化情報を
FFT処理する工程であることを特徴とする請求項1に
記載の不要輻射解析方法。 - 【請求項7】前記モデル化する工程は、各イベント情報
毎の前記瞬間的な電流量を算出する工程と、前記出力負
荷容量と矩形波の幅と高さの関係を示すテーブルを用い
て矩形波状にモデル化する工程を有し、前記矩形波状に
モデル化する工程によって算出された電流変化情報をF
FT処理する工程であることを特徴とする請求項1に記
載の不要輻射解析方法。 - 【請求項8】請求項1乃至7のいずれかにおいて、前記
モデル化する工程がさらに各セルの電流量と電源抵抗成
分から電圧降下成分を算出し、電圧降下成分と瞬間電流
量の関係から、各セルのイベントごとの瞬間的な電流量
を補正する工程を含むことを特徴とする不要輻射解析方
法。 - 【請求項9】請求項1乃至7のいずれかにおいて、前記
モデル化する工程は、さらに各セルの電流量と電源抵抗
成分とオンチップバイパスコンデンサ成分から電圧降下
成分を算出し、電圧降下成分と瞬間電流量の関係から、
各セルのイベントごとの瞬間的な電流量を補正する工程
を含むことを特徴とする不要輻射解析方法。 - 【請求項10】請求項1乃至7のいずれかにおいて、前
記モデル化する工程は、さらに各セルの電源RCとセル
電流源を過渡解析し、正確に電圧降下成分を算出し、電
圧降下成分と瞬間電流量の関係から、各セルのイベント
ごとの瞬間的な電流量を補正する工程を含むことを特徴
とする不要輻射解析方法。 - 【請求項11】前記モデル化する工程は、前記瞬間的な
電流量を三角波の面積が各イベントの電流量になるよう
に各イベント情報毎に高さを算出した一定幅の三角波状
にモデル化する工程を有し、前記FFT処理する工程
は、前記三角波状にモデル化する工程によって算出され
た電流変化情報をFFT処理する工程であることを特徴
とする請求項1に記載の不要輻射解析方法。 - 【請求項12】前記モデル化する工程は、前記瞬間的な
電流量を複数次の関数状にモデル化する工程を有し、前
記FFT処理する工程は、前記複数次の関数状にモデル
化する工程によって算出された電流変化情報をFFT処
理する工程であることを特徴とする請求項1に記載の不
要輻射解析方法。 - 【請求項13】前記モデル化する工程は、前記瞬間的な
電流量を指数関数状にモデル化する工程を有し、前記F
FT処理する工程は、前記指数関数状にモデル化する工
程によって算出された電流変化情報をFFT処理する工
程であることを特徴とする請求項1に記載の不要輻射解
析方法。 - 【請求項14】前記モデル化する工程はさらに、瞬間的
な電流量を貫通電流成分とチャージ電流成分に分けて別
々にモデリングする工程を含むことを特徴とする請求項
1乃至13のいずれかに記載の不要輻射解析方法。 - 【請求項15】前記モデル化する工程は、各セルの種類
ごとにそのセルのピーク電流値をキャラクタライズした
ライブラリを用いて矩形波の高さを算出する工程と、前
記瞬間的な電流量を前記矩形波の高さを算出する工程か
ら算出したピーク電流値とし、面積が各イベントの電流
量になるように矩形波状にモデル化する工程とを有し、
前記FFT処理する工程は、前記矩形波状にモデル化す
る工程によって算出された電流変化情報をFFT処理す
る工程であることを特徴とする請求項1に記載の不要輻
射解析方法。 - 【請求項16】前記矩形波の高さを算出する工程は、入
力波形鈍りとピーク電流の関係を各セルの種類ごとにテ
ーブル化しキャラクタライズしたライブラリを用いて各
セルごとにそのセルの波形鈍り情報からピーク電流値を
算出する工程を含むことを特徴とする請求項15記載の
不要輻射解析方法。 - 【請求項17】前記矩形波の高さを算出する工程は、負
荷容量とピーク電流の関係を各セルの種類ごとにテーブ
ル化しキャラクタライズしたライブラリを用いて各セル
ごとにそのセルの負荷容量情報からピーク電流値を算出
する工程を含むことを特徴とする請求項15に記載の不
要輻射解析方法。 - 【請求項18】前記矩形波の高さを算出する工程は、複
合セルについてはピーク電流値を複数もたせ、キャラク
タライズしたライブラリを用いて複数の矩形波の高さを
算出する工程を含み、矩形波状にモデル化する工程は複
数の矩形波にモデル化する工程であることを特徴とする
請求項15乃至17のいずれかに記載の不要輻射解析方
法。 - 【請求項19】前記矩形波の高さを算出する工程は、フ
リップフロップ(FF)セルのライズ/フォールそれぞ
れにピーク電流値をもたせ、キャラクタライズしたライ
ブラリを用いて複数の矩形波の高さを算出する工程を含
み、矩形波状にモデル化する工程は複数の矩形波にモデ
ル化する工程であることを特徴とする請求項15乃至1
7のいずれかに記載の不要輻射解析方法。 - 【請求項20】前記矩形波の高さを算出する工程が、各
セルの状態毎に入力信号状態を考慮し、ピーク電流値を
キャラクタライズしたライブラリを用いて矩形波の高さ
を算出する工程を含むことを特徴とする請求項15乃至
19のいずれかに記載の不要輻射解析方法。 - 【請求項21】前記モデル化する工程はさらに、各セル
の種類ごとの電流量と電源抵抗成分から電圧降下成分を
算出し、各セル毎に電圧降下成分と瞬間電流量の関係を
テーブル化し、キャラクタライズすることにより、各セ
ルのイベントごとの瞬間的な電流量を補正する工程を含
むことを特徴とする請求項15乃至20のいずれかに記
載の不要輻射解析方法。 - 【請求項22】前記モデル化する工程は、各セルの種類
ごとの電流量と電源抵抗成分とオンチップバイパスコン
デンサ成分から電圧降下成分を算出し、各セル毎に電圧
降下成分と瞬間電流量の関係をテーブル化し、キャラク
タライズすることにより、各セルのイベントごとの瞬間
的な電流量を補正する工程を含むことを特徴とする請求
項15乃至20のいずれかに記載の不要輻射解析方法。 - 【請求項23】前記補正する工程は、電圧降下成分の算
出及び電流波形の補正処理を複数回繰り返し実施する工
程を含むことを特徴とする請求項8乃至10、21、2
2のいずれかに記載の不要輻射解析方法。 - 【請求項24】前記瞬間的な電流量を算出する工程にお
いて、さらに瞬間的な電流量を貫通電流成分とチャージ
電流成分に分けて別々にモデリングする工程を含むこと
を特徴とする請求項15乃至23のいずれかに記載の不
要輻射解析方法。 - 【請求項25】前記モデル化する工程は、前記瞬間的な
電流量を三角波の面積が各イベントの電流量になるよう
に、各イベント情報毎にセルの出力端子におけるスリュ
ー情報(出力スリュー)を考慮して幅を算出するととも
に、この幅に基づいて高さを算出した三角波状にモデル
化する工程を有し、前記FFT処理する工程は、前記三
角波状にモデル化する工程によって算出された電流変化
情報をFFT処理する工程であることを特徴とする請求
項1に記載の不要輻射解析方法。 - 【請求項26】前記モデル化する工程は、さらに前記瞬
間的な電流量を当該セルのイベントが立ち上がりもしく
は立ち下り(ライズ/フォール)状態であるかを考慮し
て、それぞれの状態に応じた係数を乗じて算出し、三角
波の面積が各イベントの電流量になるように、前記三角
波の高さを算出する工程を含むことを特徴とする請求項
25に記載の不要輻射解析方法。 - 【請求項27】前記モデル化する工程は、複合セルにつ
いては各イベント情報毎の前記瞬間的な電流量を算出す
る工程と、前記出力負荷容量と出力及び入力スリュー情
報に基づいて三角波の幅と高さの関係を示すテーブルを
用いて、複合セル内部の段数分に等しい複数個の三角形
波状にモデル化する工程を有し、前記三角波状にモデル
化する工程によって算出された電流変化情報をFFT処
理する工程であることを特徴とする請求項1に記載の不
要輻射解析方法。 - 【請求項28】論理シミュレーション装置と、 前記論理シミュレーション装置に接続され、信号変化の
発生時に生成され、発生対象である各セルのインスタン
ス名、その信号名、発生時刻、遷移情報を含む各イベン
ト情報から瞬間的な電流量を算出する算出手段と、 前記瞬間的な電流量をあらかじめ決定された規則に従っ
てモデル化するモデル化手段と、 前記モデル化する工程によって算出された電流変化情報
を高速フーリエ変換処理手段とを有し、 前記FFT処理手段の出力に基づいて、LSIの不要輻
射量を解析するようにしたことを特徴とする不要輻射解
析装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19619099A JP3821612B2 (ja) | 1999-07-09 | 1999-07-09 | 不要輻射解析方法 |
US09/612,582 US7039572B1 (en) | 1999-07-09 | 2000-07-07 | Method of analyzing electromagnetic interference |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19619099A JP3821612B2 (ja) | 1999-07-09 | 1999-07-09 | 不要輻射解析方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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---|---|
US (1) | US7039572B1 (ja) |
JP (1) | JP3821612B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1132745A3 (en) * | 2000-03-08 | 2002-09-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electromagnetic interference analysis method and apparatus |
ES2188408A1 (es) * | 2001-10-30 | 2003-06-16 | Fundacion Labein | Sistema de prediccion de las emisiones radiadas por un equipo electronico. |
US6782347B2 (en) | 2000-11-27 | 2004-08-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for optimizing electromagnetic interference and method for analyzing the electromagnetic interference |
WO2011030389A1 (ja) * | 2009-09-14 | 2011-03-17 | 三菱電機株式会社 | 超音波検知装置 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7107555B2 (en) * | 2003-07-31 | 2006-09-12 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Method and apparatus for designing high-frequency circuit, and display method for use in designing high-frequency circuit |
JP4065229B2 (ja) * | 2003-11-26 | 2008-03-19 | 松下電器産業株式会社 | 半導体集積回路の電源ノイズ解析方法 |
US7315992B2 (en) * | 2004-07-29 | 2008-01-01 | Texas Instruments Incorporated | Electro-migration (EM) and voltage (IR) drop analysis of integrated circuit (IC) designs |
US7403749B2 (en) * | 2005-07-11 | 2008-07-22 | National Semiconductor Corporation | Method and system for integrated circuit RF immunity enhancement |
US20070044046A1 (en) * | 2005-08-22 | 2007-02-22 | Faour Fouad A | Method for providing a current sink model for an asic |
JP4769687B2 (ja) * | 2006-10-30 | 2011-09-07 | 富士通セミコンダクター株式会社 | タイミング検証方法、タイミング検証装置及びタイミング検証プログラム |
US7962870B2 (en) * | 2007-05-08 | 2011-06-14 | Altera Corporation | Prediction of dynamic current waveform and spectrum in a semiconductor device |
US8132137B1 (en) * | 2007-11-10 | 2012-03-06 | Altera Corporation | Prediction of dynamic current waveform and spectrum in a semiconductor device |
JP5241358B2 (ja) * | 2008-07-11 | 2013-07-17 | キヤノン株式会社 | プリント基板設計支援プログラム、プリント基板設計支援方法及びプリント基板設計支援装置 |
JP5347839B2 (ja) * | 2009-03-25 | 2013-11-20 | 富士ゼロックス株式会社 | 電源ノイズ解析装置 |
JP5640259B2 (ja) * | 2010-06-09 | 2014-12-17 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 回路シミュレーション方法および回路シミュレーション装置 |
WO2014027366A2 (en) * | 2012-08-17 | 2014-02-20 | Airbus Engineering Centre India | System and method for analyzing arrangement of vehicle and building wire harnesses for emi |
US9323879B2 (en) | 2014-02-07 | 2016-04-26 | Freescale Semiconductor, Inc. | Method of optimizing the design of an electronic device with respect to electromagnetic emissions based on frequency spreading introduced by hardware, computer program product for carrying out the method and associated article of manufacture |
US9400861B2 (en) * | 2014-02-07 | 2016-07-26 | Freescale Semiconductor, Inc. | Method of optimizing the design of an electronic device with respect to electromagnetic emissions based on frequency spreading introduced by software, computer program product for carrying out the method and associated article of manufacture |
US9323878B2 (en) * | 2014-02-07 | 2016-04-26 | Freescale Semiconductor, Inc. | Method of optimizing the design of an electronic device with respect to electromagnetic emissions based on frequency spreading introduced by data post-processing, computer program product for carrying out the method and associated article of manufacture |
US10285190B2 (en) * | 2016-12-20 | 2019-05-07 | Raytheon Bbn Technologies Corp. | Scheduling access to a shared medium |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5117377A (en) | 1988-10-05 | 1992-05-26 | Finman Paul F | Adaptive control electromagnetic signal analyzer |
US5617325A (en) * | 1990-06-22 | 1997-04-01 | Vlsi Technology, Inc. | Method for estimating interconnect delays in integrated circuits |
EP0534719B1 (en) * | 1991-09-26 | 1997-12-29 | National Semiconductor Corporation | Integrated circuit having reduced electromagnetic emissions |
JP2948437B2 (ja) * | 1993-03-18 | 1999-09-13 | 富士通株式会社 | 論理シミュレーション用のデータ作成方法 |
US5479440A (en) | 1994-04-15 | 1995-12-26 | Gas Research Institute | Apparatus and method for impulsive noise cancellation |
DE69637960D1 (de) * | 1995-04-05 | 2009-08-06 | Nippon Telegraph & Telephone | Verfahren und Vorrichtung zum Suchen nach der Quelle einer elektromagnetischen Störung und kontaktlose Sonde dafür |
US5841672A (en) * | 1996-02-13 | 1998-11-24 | Vlsi Technology, Inc. | Method and apparatus for verifying signal timing of electrical circuits |
US5835380A (en) * | 1996-06-11 | 1998-11-10 | Lsi Logic Corporation | Simulation based extractor of expected waveforms for gate-level power analysis tool |
JPH10143553A (ja) | 1996-11-13 | 1998-05-29 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の解析用パラメータ作成装置及び半導体装置の解析装置 |
DE19702600A1 (de) * | 1997-01-24 | 1998-07-30 | Sgs Thomson Microelectronics | Elektrische Analyse integrierter Schaltungen |
US5959481A (en) * | 1997-02-18 | 1999-09-28 | Rambus Inc. | Bus driver circuit including a slew rate indicator circuit having a one shot circuit |
US6304998B1 (en) * | 1997-03-27 | 2001-10-16 | Fujitsu Limited | Method of manufacturing integrated circuit device |
US6242951B1 (en) * | 1997-09-05 | 2001-06-05 | Shunji Nakata | Adiabatic charging logic circuit |
JP3965739B2 (ja) | 1997-10-13 | 2007-08-29 | 株式会社デンソー | 集積回路のノイズシミュレーション装置及び記録媒体 |
US6151967A (en) * | 1998-03-10 | 2000-11-28 | Horizon Technology Group | Wide dynamic range capacitive transducer |
US6212665B1 (en) * | 1998-03-27 | 2001-04-03 | Synopsys, Inc. | Efficient power analysis method for logic cells with many output switchings |
US6278964B1 (en) * | 1998-05-29 | 2001-08-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Hot carrier effect simulation for integrated circuits |
US6687205B1 (en) * | 1998-06-09 | 2004-02-03 | Seagate Technology Llc | Parallel coded spread spectrum communication for data storage |
JP2000099561A (ja) * | 1998-09-25 | 2000-04-07 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の電源電圧変動解析装置 |
JP4028140B2 (ja) * | 1999-07-14 | 2007-12-26 | 松下電器産業株式会社 | 不要輻射解析方法 |
JP3943326B2 (ja) * | 2000-11-27 | 2007-07-11 | 松下電器産業株式会社 | 不要輻射解析方法および不要輻射解析装置 |
JP2002222230A (ja) * | 2000-11-27 | 2002-08-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 不要輻射最適化方法および不要輻射解析方法 |
JP4124974B2 (ja) * | 2001-03-08 | 2008-07-23 | 松下電器産業株式会社 | 電磁波障害解析方法および電磁波障害解析装置およびこれを用いた半導体装置の製造方法 |
JP3894535B2 (ja) * | 2001-07-13 | 2007-03-22 | 松下電器産業株式会社 | 不要輻射解析方法および不要輻射解析装置 |
US6774687B2 (en) * | 2002-03-11 | 2004-08-10 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for characterizing a delay locked loop |
US7191113B2 (en) * | 2002-12-17 | 2007-03-13 | International Business Machines Corporation | Method and system for short-circuit current modeling in CMOS integrated circuits |
-
1999
- 1999-07-09 JP JP19619099A patent/JP3821612B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-07-07 US US09/612,582 patent/US7039572B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1132745A3 (en) * | 2000-03-08 | 2002-09-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electromagnetic interference analysis method and apparatus |
US6782347B2 (en) | 2000-11-27 | 2004-08-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for optimizing electromagnetic interference and method for analyzing the electromagnetic interference |
ES2188408A1 (es) * | 2001-10-30 | 2003-06-16 | Fundacion Labein | Sistema de prediccion de las emisiones radiadas por un equipo electronico. |
WO2011030389A1 (ja) * | 2009-09-14 | 2011-03-17 | 三菱電機株式会社 | 超音波検知装置 |
JP5634404B2 (ja) * | 2009-09-14 | 2014-12-03 | 三菱電機株式会社 | 超音波検知装置 |
US9146307B2 (en) | 2009-09-14 | 2015-09-29 | Mitsubishi Electric Corporation | Ultrasonic detection device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7039572B1 (en) | 2006-05-02 |
JP3821612B2 (ja) | 2006-09-13 |
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