JP2001018527A

JP2001018527A - レーザーアブレーション記録材料

Info

Publication number: JP2001018527A
Application number: JP11193752A
Authority: JP
Inventors: Kazuki Yamazaki; 一樹山▲崎▼; Nobuaki Inoue; 伸昭井上
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-07-07
Filing date: 1999-07-07
Publication date: 2001-01-23

Abstract

(57)【要約】【課題】製版用途として有用な紫外域でのＤｍａｘが
高く、またレーザー照射部分のＤｍｉｎが低く、かつ銀
塩フイルムに近い色調を有するレーザーアブレーション
材料を提供すること。【解決手段】支持体上に少なくとも一層の画像形成層
および保護層を順に有し、前記画像形成層中に画像形成
物質として無機微粒子を含有し、前記画像形成層および
／または前記保護層中に３５０〜４５０ｎｍの波長域の
平均光学濃度が２．５以上５．０以下になる量の青色吸
収色素および／または紫外線吸収色素を含有し、かつ該
波長域における無機微粒子の光学濃度が１．０〜３．０
であることを特徴とするレーザーアブレーション記録材
料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザーアブレー
ション記録材料に関するものであり、特に製版用途とし
て紫外域のＤｍａｘが高くかつＤｍｉｎの低い画像形成
が可能なレーザーアブレーション記録材料に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】近年、電気信号をサーマルプリントヘッ
ドに与えて、画像形成させる熱転写システムが普及して
きている。一方、サーマルプリントヘッドの代わりにレ
ーザーを用いる方法も開発されており、レーザーの高出
力化に伴って普及していくものと考えられる。このよう
なシステムにおいては、記録材料中にレーザーの波長域
に強く吸収を有する物質が含まれており、吸収物質は光
エネルギーを熱エネルギーに転換してサーマルプリント
ヘッドを用いた場合と同様な効果をもたらす。また、レ
ーザーを使用した場合には、サーマルプリントヘッドに
比べて無接触であるために画像表面にキズが出ないこと
が利点であり、レーザービームが細く絞れるために画像
分解能を向上させることが可能である。

【０００３】さらに最近では、高出力レーザーを用いた
色素アブレーションと呼ばれる画像形成方法が開発され
ており、その記録材料が特開平７−１６４７５５号公
報、同−１４９０６３号公報、同７−１４９０６５号公
報等に記載されており、画像形成装置が特開平８−４８
０５３号公報、同８−７２４００号公報に開示されてい
る。このシステムでは、支持体上に塗布された画像色
素、レーザー波長域に吸収を有する物質（赤外吸収物
質）およびバインダーからなる色素層組成物を有する記
録材料を、色素層側からレーザー照射することによって
画像記録が行われる。レーザーによって与えられたエネ
ルギーは、レーザービームが材料に当たったスポットで
画像形成層に急激な局部変化を起こし、それによって物
質を層から追い出す。上記特許公報によれば、これは完
全に物理的な変化（例えば、溶融、蒸発または昇華）で
はなく、ある種の化学変化（例えば、結合破壊）であ
り、部分的な画像色素の除去ではなく、完全な除去であ
るという。

【０００４】このような色素アブレーション画像形成方
法の有用性は、レーザー露光で画像形成色素を除去する
ことができる効率によって、大きく左右される。この効
率を示す尺度として、レーザー露光部の最小濃度値（Ｄ
ｍｉｎ）が用いられ、値が小さいほど色素除去効率が高
いことを示す。しかしながら、これらの色素アブレーシ
ョン材料は、画像部（レーザー未照射部）が色素でのみ
形成されているために、画像の色調が従来使用の銀塩フ
イルムとは大きく異なる、露光後の材料の画像の安定性
が悪く、また指紋跡など他のものに接触した部分で画像
変色が起こる等の問題があった。一方、色素以外の画像
形成物質単独で使用した場合では結合破壊が起こりにく
く、レーザーによる除去効率を示す上記Ｄｍｉｎの値が
高いために実用的ではなかった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の色素
アブレーション記録材料の問題点を解決した新しいレー
ザーアブレーション記録材料を提供することを解決すべ
き課題とした。すなわち本発明は、高出力レーザーを用
いて記録を行うアブレーション記録材料（レーザーアブ
レーション記録材料）において、製版用途として有用な
紫外域でのＤｍａｘが高く、またレーザー照射部分のＤ
ｍｉｎが低く、かつ従来使用の銀塩フイルムに近い色調
を有するレーザーアブレーション材料を提供することを
解決すべき課題とした。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者は上記課題を解
決するために鋭意検討を重ねた結果、青色吸収色素、紫
外線吸収色素および無機微粒子の光学濃度を調節するこ
とによって所期の効果を奏する優れたレーザーアブレー
ション記録材料を提供しうることを見出して、本発明を
提供するに至った。すなわち本発明は、支持体上に少な
くとも一層の画像形成層および保護層を順に有し、前記
画像形成層中に画像形成物質として無機微粒子を含有
し、前記画像形成層および／または前記保護層中に３５
０〜４５０ｎｍの波長域の平均光学濃度が２．５以上
５．０以下になる量の青色吸収色素および／または紫外
線吸収色素を含有し、かつ該波長域における無機微粒子
の光学濃度が１．０〜３．０であることを特徴とするレ
ーザーアブレーション記録材料を提供するものである。
本発明のレーザーアブレーション記録材料では、支持体
と画像形成層との間に少なくとも一層の中間層を有し、
該中間層の少なくとも一層中にレーザー波長に吸収を有
する物質を含有することが好ましい。また、支持体上に
形成した画像形成層側の層の少なくとも一層に、無水グ
ルコース単位１個あたりの硝酸エステル基置換度が０．
０５〜２．８であるカルボキシアルキルセルロースの硝
酸エステル類を含有することが好ましい。さらに、保護
層にテトラフルオロエチレンビーズや、青色吸収色素お
よび／または紫外線吸収色素を含有することが好まし
い。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下において、本発明のレーザー
アブレーション記録材料について詳細に説明する。本発
明のレーザーアブレーション記録材料は、支持体上に少
なくとも一層の画像形成層および保護層を順に有し、前
記画像形成層中に画像形成物質として無機微粒子を含有
する。そして、前記画像形成層および／または前記保護
層中に３５０〜４５０ｎｍの波長域の平均光学濃度が
２．５以上５．０以下になる量の青色吸収色素および／
または紫外線吸収色素を含有し、かつ該波長域における
無機微粒子の光学濃度が１．０〜３．０であることを特
徴とする。

【０００８】本発明で画像形成物質として用いる無機微
粒子としては、カーボンブラック、グラファイト、コロ
イド銀、硫化銀コロイド等が含まれる。本発明に用いる
無機微粒子を塗布した場合の色としては、印刷製版用途
の画像形成の場合はＵＶ領域に吸収を有することが必要
である。このため、無機微粒子の色を与える粒子サイズ
もさまざまであるが、５〜５００ｎｍの粒子サイズが好
ましく、特に５〜２５０ｎｍの粒子サイズが好ましい。
画像形成層における無機微粒子の塗布量は、レーザー未
照射部分で濃度１．０以上３．０以下（紫外および青色
スペクトル域での吸収値）の吸収を有する塗布量であれ
ばどの程度でもよく、その量は使用する無機微粒子の種
類、サイズによっても異なる。例えば、カーボンブラッ
ク（一次粒径として８０ｎｍ）の場合は塗布量０．５g/
m²で、ＵＶ濃度４．２、可視濃度３．８であり、コロイ
ド銀（粒径２０ｎｍ）の場合は塗布量０．５g/m²で、Ｕ
Ｖ濃度３．５、可視濃度０．４である。これらの無機微
粒子でレーザー波長に吸収を有するものは、レーザー波
長吸収物質と、画像形成物質の両者の役割を兼ねること
ができるので、これ以外のレーザー波長吸収物質の使用
量を低減できる点で好ましい。

【０００９】本発明に用いる無機微粒子の製法は、上記
粒子サイズを満たす製法のものであればいずれでもよ
い。例えば、カーボンブラック原料としては、Donnel V
oet 著の"Carbon Black" Marcel Dekker,Inc.(1976) に
記載されているようなチャンネル法、サーマル法、およ
びファーネス法など任意の製法のものが使用できる。ま
た本発明の画像形成物質として用いられる無機微粒子と
して、金属原子含有粒子を好ましく用いることができ
る。金属原子含有粒子とは鉄、クロム、マンガン、コバ
ルト、ニッケル、銅、亜鉛、チタン、銀、アルミニウ
ム、金、白金等の金属またはその酸化物等の化合物を総
称している。

【００１０】本発明に好ましく用いられる金属原子含有
粒子は、強磁性酸化鉄粉末、強磁性金属粉末、六方晶板
状粉末等が挙げられ、中でも、強磁性金属粉末を好適に
用いることができる。強磁性酸化鉄としては、γ−Ｆｅ
₂Ｏ₃、Ｆｅ₃Ｏ₄、またはこれらの中間酸化鉄でＦｅＯｘ
（１．３３＜ｘ＜１．５０）で表されるものを挙げるこ
とができる。強磁性金属粉末としては、Ｆｅ、Ｃｏを始
め、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−
Ｚｎ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃａ系、Ｆ
ｅ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ
系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｍｎ系、Ｆｅ−
Ｎｉ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｍｎ系、Ｆｅ
−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｚｎ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ
−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、
Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ａｌ−Ｃａ系、
Ｎｉ−Ｃｏ系、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ等を主成分とするメタ
ル磁性粉末等の強磁性金属粉末が挙げられ、中でもＦｅ
系金属粉末が好ましく、例えばＣｏ含有γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、
Ｃｏ被着γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ含有Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｏ被着Ｆ
ｅ₃Ｏ₄、Ｃｏ含有磁性ＦｅＯｘ（４／３＜ｘ＜３／２）
粉末等のコバルト含有酸化鉄系磁性粉末が挙げられる。

【００１１】また、耐蝕性および分散性の点から見る
と、Ｆｅ系金属粉末の中で、Ｆｅ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ａｌ
−Ｃａ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｎｉ系、Ｆｅ−Ａｌ−Ｚｎ系、
Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｃｏ
系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ａｌ−Ｃａ系等のＦｅ−Ａｌ系強磁性
粉末が好ましく、さらにこの中では、強磁性粉末に含有
されるＦｅ原子とＡｌ原子との含有量比が原子数比でＦ
ｅ：Ａｌ＝１００：１〜１００：２０であり、かつ強磁
性粉末のＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分光分析法）による分析
深度で１００Å以下の表面域に存在するＦｅ原子とＡｌ
原子との含有量比が原子数比でＦｅ：Ａｌ＝３０：７０
〜７０：３０である構造を有するもの、或いはＦｅ原子
とＮｉ原子とＡｌ原子とＳｉ原子、さらにＣｏ原子とＣ
ａ原子の少なくとも１つとが強磁性粉末に含有され、Ｆ
ｅ原子の含有量が９０原子％以上、Ｎｉ原子の含有量が
１〜１０原子％、Ａｌ原子の含有量が０．１〜５原子
％、Ｓｉ原子の含有量が０．１〜５原子％、Ｃｏ原子ま
たはＣａ原子の含有量（両者を含有する場合は合計量）
が０．１〜１３原子％であり、かつ強磁性粉末のＥＳＣ
Ａ（Ｘ線光電子分光分析法）による分析深度で１００Å
以下の表面域に存在するＦｅ原子とＮｉ原子とＡｌ原子
とＳｉ原子と、Ｃｏ原子および／またはＣａ原子との含
有量比が原子数比でＦｅ：Ｎｉ：Ａｌ：Ｓｉ：（Ｃｏお
よび／またはＣａ）＝１００：（４以下）：（１０〜６
０）：（１０〜７０）：（２０〜８０）である構造を有
するものが好ましい。なお、強磁性粉末の形状は、長軸
径が０．３０μｍ以下、好ましくは０．２０μｍ以下で
ある。このような強磁性粉末によれば画像形成層の表面
性が向上する。

【００１２】六方晶板状粉末としては、バリウムフェラ
イトやストロンチウムフェライト等の六方晶系フェライ
トを挙げることができ、鉄元素の一部が他の原子（Ｔ
ｉ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｈｂ等）で置換さ
れていてもよく、このようなフェライト磁性体はＩＥＥ
ＥｔｒａｎｓｏｎＭＡＧ，ｐ１８，１６（１９８２）に
記載されたものを挙げることができる。この中で、バリ
ウムフェライト磁性粉末の例としては、Ｆｅの一部が少
なくともＣｏおよびＺｎで置換された平均粒径（六方晶
系フェライトの板面の対角線の高さ）が４００〜９００
Åであり、板状比（六方晶系フェライトの板面の対角線
の長さを板厚で除した値）が２．０〜１０．０である。
また、バリウムフェライト磁性粉末は、さらにＦｅの一
部をＴｉ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｓｎ等の遷移金属
で置換されていてもよい。

【００１３】六方晶系の磁性粉末を製造する方法は、例
えば、目的とするバリウムフェライトを形成するのに必
要な各原子の酸化物、炭酸化物を、硼酸の様なガラス形
成物質とともに溶融し、得られた融液を急冷してガラス
を形成し、次いでこのガラスを所定温度で熱処理して目
的とするバリウムフェライトの結晶粉末を析出させ、最
後にガラス成分を熱処理によって除去するという方法の
ガラス結晶化法の他、共沈−焼成法、水熱合成法、フラ
ックス法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があ
る。

【００１４】本発明のレーザーアブレーション記録材料
には、保護層あるいは画像形成層中に、青色吸収色素お
よび／または紫外線吸収色素（以下「紫外〜青色域に吸
収を持つ色素」という）を含有する。紫外〜青色域に吸
収を持つ色素としては、一般の感光材料に使用されてい
るものを用いることができ、該スペクトル領域に吸収を
持つ色素であれば特に制限なく使用することができる。
例えば、「染料便覧」（３１５〜１１０９ページ、有機
合成化学協会編、１９７０年刊）や、「色材工学ハンド
ブック」（２２５〜４１７ページ、（社）色材協会編、
１９８９年刊）、米国特許第３，５５３，７９４号明細
書、同３，３１４，７９４号明細書、同３，７０７，３
７５号明細書、同４，０４５，２２９号明細書、同３，
７００，４５５号明細書、同３，３５２，６８１号明細
書、特開昭４６−２７８４号公報、米国特許第３，７０
５，８０５号明細書、同３，４９９，７６２号明細書、
西独特許出願公告第１，５４７，８６３号公報に記載の
もの、または米国特許第２，２７４，７８２号明細書に
記載のピラゾロンオキソノール染料、同２，９５６，８
７９号明細書に記載のジアリールアゾ染料、同３，４２
３，２０７号明細書、同３，３８４，４８７号明細書に
記載のスチリル染料やブタジエニル染料に記載のもの、
同２，５２７，５３８号明細書に記載のメロシアニン染
料、同３，４８６，８９７号明細書、同３，６５２，２
８４号明細書、同３，７１８，４７２号明細書に記載の
メロシアニン染料やオキソノール染料、同３，９７６，
６６１号明細書に記載のエナミノヘミアキソノール染料
および英国特許第５８４，６０９号明細書、同１，１７
７，４２９号明細書、特開昭４８−８５１３０号公報、
同４９−９９６２０号公報、同４９−１１４４２０号公
報、同５８−６２６５１号公報、同５７−３８８９６号
公報、同５７−１３２１５４号公報、同６１−１０９０
４９号公報、同５８−１７４５０号公報、独国特許第
３，１３９，１５６号明細書、米国特許第２，５３３，
４７２号明細書、同３，１４８，１８７号明細書、同
３，１７７，０７８号明細書、同３，２４７，１２７号
明細書、同３，５４０，８８７号明細書、同３，５７
５，７０４号明細書、同３，６５３，９０５号明細書、
同４，９７３，５７２号明細書、同４，７７２，５８２
号明細書、同４，８７６，２３５号明細書等に記載のも
のを使用することができるが、本発明はこれに限定され
ない。

【００１５】本発明に用いられる紫外〜青色域に吸収を
持つ色素は、保護層あるいは画像形成層中に含有させる
ことができるが、保護層に用いることがより好ましい。
本発明に用いられる紫外〜青色域に吸収を持つ色素は、
単独で用いても、２種以上併用して用いても良い。本発
明に用いられる色素の使用量は、３５０〜４５０ｎｍの
波長の平均光学濃度が２．５以上５．０以下であるよう
な量で使用される。５．０を越えると色うつり等の障害
が生じコストも高くなってしまう。紫外〜青色域に吸収
を持つ色素は、光吸収物質のモル吸光係数により異なる
が、通常０．０１〜１g/m²の範囲で添加される。好まし
くは３０〜５００mg/m²である。

【００１６】本発明に用いるカルボキシアルキルセルロ
ースの硝酸エステル類とは、カルボキシメチルセルロー
ス、カルボキシエチルセルロース等のカルボキシアルキ
ルセルロース類を公知の硝酸エステル化用混酸、例え
ば、硫酸、硝酸、そして水からなる硝酸エステル化用混
酸で反応を行い、カルボキシアルキルセルロース中に含
まれる硝酸エステル基置換度が０．２以上、カルボキシ
アルキルエーテル基置換度が０．０５以上であるものを
いい、詳しくは特開平５−３９３０１号公報、特開平５
−３９３０２号公報に示された水性セルロース誘導体を
言う。本発明に用いるカルボキシアルキルセルロースの
硝酸エステル類の硝酸エステル基置換度の好ましい範囲
は０．２以上２．２以下であり、カルボキシアルキルエ
ーテル基置換度の好ましい範囲は０．０５以上１．５以
下である。硝酸エステル基置換度が０．２未満では顕色
剤や染料の分散性および耐水性が不十分であり、カルボ
キシアルキルエーテル基置換度が０．０５未満では水へ
の溶解性が不十分になり、実質的に水溶性バインダーと
して用いることが困難となる。

【００１７】また、硝酸エステル基置換度が２．２を越
えると、水と有機溶剤との混合溶剤に溶解または分散す
るために、有機溶剤の量を増加させる必要を生じる。ま
た、カルボキシアルキルエーテル基置換度が１．５を越
えると、塗布面の耐水性がやや不十分となる傾向があ
る。本発明に用いるカルボキシアルキルセルロースの硝
酸エステル類のカルボキシル基は、一部、あるいは全部
中和されていてもかまわない。中和されることにより水
および水を主成分とした水溶性有機溶剤への溶解度が上
がる。中和のためにはアルカリ金属イオン、アルカリ土
類金属イオン、アンモニウムイオン、有機アミン等の陽
イオンの１種または２種以上を用いることができる。こ
の場合、中和の程度は、目的とする溶液の水、有機溶剤
等の組成に応じて任意に決定されるが、一般的には、含
まれるカルボキシル基の５０％以上が中和されているこ
とが好ましい。本発明に用いるカルボキシアルキルセル
ロースの硝酸エステル類は、画像形成層を有する側の構
成層のいずれの層にも用いることができる。好ましく用
いられる構成層としては、画像形成層、支持体と画像形
成層との間の中間層、画像形成層の上の保護層である。
本発明に用いるカルボキシアルキルセルロースの硝酸エ
ステル類の塗布量としては０．０５〜５g/m²が好まし
く、さらには０．１〜３g/m²が好ましい。

【００１８】本発明に用いるカルボキシアルキルセルロ
ースの硝酸エステル類は、単独で使用してもよいし、公
知のバインダーの少なくとも一種と組み合わせて用いる
こともできる。好ましく組み合わせることが可能な公知
のバインダーとしては、カルボキシメチルセルロース、
ヒドロキシエチルセルロースなどのセルロース誘導体、
ポリビニルアルコール、カルボキシ変性ポリビニルアル
コール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリ
アクリルアミド、ゼラチンなどのポリマーであるが、こ
れらに限定されない。また、スチレン−ブタジエンラテ
ックス、ウレタン系ラテックスなどのラテックス系バイ
ンダーと併用してもよい。

【００１９】前述したバインダー以外で、本発明の記録
材料の画像形成層側に用いられる高分子バインダーとし
ては、米国特許第５３３０８７６号明細書に記載されて
いるようなサイズ排除クロマトグラフィーで測定したポ
リスチレン等価分子量が１０万以上で、分解性のポリマ
ーが好ましい。ここで分解性とは、レーザー画像化の際
に得られる温度において素早く熱分解して十分量の気体
および揮発性フラグメントを与えるバインダーか、ある
いは少量の酸存在下で分解温度が著しく低下するバイン
ダーを意味する。

【００２０】本発明の保護層に好ましく用いられるポリ
テトラフルオロエチレンビーズは、意図する目的のため
に有効な任意の濃度または粒子サイズで使用することが
できる。一般的に、このビーズは約１〜約１００μｍ、
好ましくは約３〜約５０μｍの範囲内の粒子サイズを有
している。ビーズの塗布量は約０．００５〜約５．０g/
m²、好ましくは約０．０５〜約０．５g/m²の範囲であっ
て良い。ビーズは球状である必要はなく、任意の形状の
ものであってよい。本発明の保護層は、特開平８−１０
８６２２号公報に記載されているように、耐引掻性、耐
磨耗性および艶消し仕上げを付与する上で有効である。

【００２１】本発明の記録材料においては、ビーズを含
有する保護層のバインダーとしては、任意のポリマー物
質を使用することができる。例えば、セルロース誘導
体、例えば硝酸セルロース、セルロースアセテート水素
フタレート、セルロースアセテート、セルロースアセテ
ートプロピオネート、セルロースアセテートブチレー
ト、セルトーストリアセテート、ヒドロキシプロピルセ
ルロースエーテル、エチルセルロースエーテル；ポリカ
ーボネート；ポリウレタン；ポリエステル；ポリ（酢酸
ビニル）；ポリ（塩化ビニル）およびポリ（塩化ビニ
ル）コポリマーのようなポリ（ハロゲン化ビニル）；ポ
リ（ビニルエーテル）；無水マレイン酸コポリマー；ポ
リスチレン；ポリ（スチレン−共−アクリロニトリ
ル）；ポリスルホン；ポリ（フェニレンオキシド）；ポ
リ（エチレンオキシド）；ポリ（ビニルアセタール）、
ポリ（ビニルアセタール−共−ブチラール）またはポリ
（ビニルベンザール）のようなポリ（ビニルアルコール
−共−アゼタール）；またはこれらの混合物もしくはコ
ポリマーを使用することができる。保護層のバインダー
は約０．１〜約５g/m²の塗布量で使用することができ
る。

【００２２】本発明のレーザーアブレーションによる画
像形成では、アブレートされた材料が支持体から離れて
周囲の空気中に散らばる。このアブレートされた材料の
中にはレーザー装置の周囲に集まり、レーザーで書き込
まれた部分に堆積するものがある。この堆積物はレーザ
ー光を遮り、前述のＤｍｉｎを許容レベル以上に増加さ
せ、画質を実用に耐えなくさせてしまう場合がある。こ
のアブレートされた材料を空気流により除去することが
望ましく、そのような除去装置が特開平８−７２４００
号公報に記載されており、これらを好ましく用いること
ができる。

【００２３】本発明のアブレーション記録材料は、特開
平８−４８０５３号公報に開示されているように、レー
ザー照射後の最小記録濃度（Ｄｍｉｎ）が０．１１以下
であることが好ましい。これはこの濃度以下であると目
に見えるラスターラインが大幅に削減されるからであ
る。このためにはレーザーダイオードによって発生され
る書き込み用レーザー光線の記録材料上での強度が０．
１ミリワット／平方ミクロン（ｍＷ／μｍ²）以上であ
ることが好ましい。

【００２４】本発明の方法を使用してレーザーアブレー
ション画像を得るためには、７００ｎｍ以上に発光を有
する赤外域のダイオートレーザーを使用することが好ま
しい。これは、大きさが小さいこと、コストが低いこ
と、安定性が良好であること、信頼性が良好であるこ
と、頑丈であること、変調がしやすいことといった実質
的な利点があるからである。本発明で用いることのでき
るレーザーは市販されている。例えば、スペクトラダイ
オード研究所（Spectra Diode Labs) からのレーザーモ
デルＳＤＬ−２４２０−Ｈ２またはソニー株式会社から
のレーザーモデルＳＬＤ３０４Ｖ／Ｗを使用することが
できる。

【００２５】本発明のレーザーアブレーション記録材料
は、画像形成層と支持体の間に少なくとも一層の中間層
を有し、該中間層の少なくとも一層中にレーザー波長を
吸収する物質を含有する。レーザー波長を吸収する物質
としては、光源に用いられるレーザーの波長を吸収して
レーザーの作用によりアブレーションされることができ
るならば、特に制限はないが、例えば上記の赤外域のダ
イオードレーザーを用いる場合には、赤外吸収物質、例
えばカーボンブラック、米国特許第４，５４１，８３０
号明細書、同第４，６９８，６５１号明細書、同第４，
６９５，２８７号明細書、同第４，７０１，４３９号明
細書、同第４，７５７，０４６号明細書、同第４，７４
３，５８２号明細書、同第４，７６９，３６０号明細書
および同第４，７５３，９２２号明細書に記載されてい
る色素、または米国特許４，９７３，５７２号明細書に
記載されているシアニン赤外吸収色素、または米国特許
４，９４８，７７７号明細書、同４，９５０，６４０号
明細書、同４，９５０，６３９号明細書、同４，９４
８，７７６号明細書、同４，９４８，７７８号明細書、
同４，９４２，１４１号明細書、同４，９５２，５５２
号明細書、同５，０３６，０４０号明細書、同４，９１
２，０８３号明細書、同５，３６０，６９４号明細書、
同５，３８０，６３５号明細書および特願平８−１８９
８１７号公報に記載されている赤外吸収物質を含有させ
る。これらの赤外吸収物質は、単独で使用しても組み合
わせて使用してもよい。これらの赤外吸収物質の塗布量
は種類によって異なるが、通常は０．０５〜１g/m²の塗
布量で用いることができる。本発明に好ましく用いられ
る赤外吸収物質の代表例を以下に示すが、これらに限定
されるものではない。

【００２６】

【化１】

【００２７】

【化２】

【００２８】レーザー光線は画像形成層中に吸収され、
そして内部変換として知られる分子過程によって熱に変
換される。上記の熱変換のための赤外吸収物質は画像形
成層自身に含まれていても、またこれと組み合わされた
別の層、すなわち画像形成層の上層や下層に含まれても
良い。本発明の方法におけるレーザー照射はアブレーシ
ョン記録材料の画像形成層側から行われるので、本発明
の画像形成は単シート法（すなわち、別の受容材料を必
要としない方法）であることができる。本発明に用いら
れる赤外吸収物質の塗布量はレーザー波長の吸光度で
０．５以上、さらには１．０以上、特に１．５以上を与
える量が好ましい。

【００２９】本発明のアブレーション記録材料のバック
層のベック平滑度は、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｐ８１１
９「紙および板紙のベック試験器による平滑度試験方
法」およびＴＡＰＰＩ標準法Ｔ４７９により容易に求め
ることができる。本発明のアブレーション記録材料のバ
ック層の最外層表面のベック平滑度は、４０００秒以下
であり、より好ましくは１０秒〜４０００秒であること
が好ましい。これは記録材料同士の接着性や剥離性の点
から重要である。ベック平滑度は、前記バック層の最外
層に含有させるマット剤の平均粒径および添加量を種々
変化させることによってコントロールすることができ
る。本発明において好ましいマット剤の平均粒径は、２
０μｍ以下であり、特に０．４〜１０μｍの範囲であ
る。本発明において好ましいマット剤の添加量は、５〜
４００mg/m²、特に１０〜２００mg/m²の範囲である。

【００３０】本発明に用いられるマット剤は、取り扱い
性の上で悪影響を及ぼさない固体粒子であれば、どのよ
うなものでもよい。無機系のマット剤としては、二酸化
ケイ素、チタンおよびアルミニウムの酸化物、亜鉛およ
びカルシウムの炭酸塩、バリウムおよびカルシウムの硫
酸塩、カルシウムおよびアルミニウムのケイ酸塩など、
有機系のマット剤としては、セルロースエステル類、ポ
リメチルメタクリレート、ポリスチレンまたはポリジビ
ニルベンゼンおよびこれらのコポリマーなどの有機重合
体のマット剤が挙げられる。本発明では、特開平３−１
０９５４２号公報２頁左下欄８行目〜３頁右上欄４行目
に記載された多孔性のマット剤、特開平４−１２７１４
２号公報３頁右上欄７行目〜５頁右下欄４行に記載され
たアルカリで表面修飾したマット剤、特開平６−１１８
５４２号公報の段落番号「０００５」から「００２６」
に記載された有機重合体のマット剤を用いることがより
好ましい。

【００３１】また、これらのマット剤を２種以上併用し
てもよい。例えば、無機系のマット剤と有機系のマット
剤の併用、多孔性のマット剤と非多孔性のマット剤の併
用、不定形のマット剤と球形のマット剤の併用、平均粒
径の異なるマット剤の併用（例えば特開平６−１１８５
４２号公報に記載されている平均粒径が１．５μｍ以上
のマット剤と平均粒径が１μｍ以下のマット剤の併用）
などがある。

【００３２】本発明において、表面抵抗率が２５℃３０
％ＲＨの雰囲気下で１０¹²Ω以下の層（以下「導電層」
と記す）を付与しても良い。導電性物質として、導電性
金属酸化物あるいは導電性高分子化合物などを用いるこ
とによって得られる。本発明に用いられる導電性金属酸
化物として好ましいのは結晶性の金属酸化物粒子である
が、酸素欠陥を含むものおよび用いられる金属酸化物に
対してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等は一
般的に言って導電性が高いので特に好ましい。金属酸化
物の例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａｌ
₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ₃、
Ｖ₂Ｏ₅等、あるいはこれらの複合酸化物が良く、特にＺ
ｎＯ、ＴｉＯ₂およびＳｎＯ₂が好ましい。異種原子を含
む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等の
添加、ＳｎＯ₂に対してはＳｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等
の添加、またＴｉＯ₂に対してはＮｂ、Ｔａ等の添加が
効果的である。これら異種原子の添加量は０．０１mol
％〜３０mol％の範囲が好ましいが、０．１mol％〜１０
mol％であれば特に好ましい。

【００３３】本発明に好ましく用いる金属酸化物微粒子
は導電性を有しており、その体積抵抗率は１０⁷Ω-cm
以下、特に１０⁵Ω-cm以下であることが好ましい。これ
らの酸化物については特開昭５６−１４３４３１号公
報、同５６−１２０５１９号公報、同５８−６２６４７
号公報などに記載されている。さらにまた、特公昭５９
−６２３５号公報に記載のごとく、他の結晶性金属酸化
物粒子あるいは繊維状物（例えば酸化チタン）に上記の
金属酸化物を付着させた導電性素材を使用してもよい。
利用できる粒子サイズは１０μｍ以下が好ましいが、２
μｍ以下であると分散後の安定性が良く使用し易い。ま
た光散乱性をできるだけ小さくする為に、０．５μｍ以
下の導電性粒子を利用することが好ましい。これによっ
て、導電層を設けても支持体を透明に保つことが可能に
なるからである。また、導電性材料が針状あるいは繊維
状の場合はその長さは３０μｍ以下で直径が２μ以下が
好ましく、特に好ましいのは長さが２５μｍ以下で直径
０．５μｍ以下であり長さ／直径比が３以上である。

【００３４】本発明に用いられる導電性高分子化合物と
しては、例えばポリビニルベンゼンスルホン酸塩類、ポ
リビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、米
国特許第４，１０８，８０２号明細書、同４，１１８，
２３１号明細書、同４，１２６，４６７号明細書、同
４，１３７，２１７号明細書に記載の４級塩ポリマー
類、米国特許第４，０７０，１８９号明細書、西独２，
８３０，７６７号公報、特開昭６１−２９６３５２号公
報、同６１−６２０３３号公報等に記載のポリマーラテ
ックス等が好ましい。以下に本発明の導電性高分子化合
物の具体例を示すが、必ずしもこれらに限定されるもの
ではない。

【００３５】

【化３】

【００３６】本発明に用いられる導電性金属酸化物また
は導電性高分子化合物はバインダー中に分散または溶解
させて用いられる。バインダーとしては、フィルム形成
能を有するものであれば特に限定されるものではない
が、例えばゼラチン、カゼイン等の蛋白質、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、アセ
チルセルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチル
セルロース等のセルロース化合物、デキストラン、寒
天、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体等の糖類、ポリビニ
ルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリメタクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリア
クリルアミド、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリエス
テル、ポリ塩化ビニル、ポリアクリル酸等の合成ポリマ
ー等を挙げることができる。特に、ゼラチン（石灰処理
ゼラチン、酸処理ゼラチン、酵素分解ゼラチン、フタル
化ゼラチン、アセチル化ゼラチン等）、アセチルセルロ
ース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロー
ス、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアク
リル酸ブチル、ポリアクリルアミド、デキストラン等が
好ましい。

【００３７】本発明に用いられる導電性金属酸化物ある
いは導電性高分子化合物をより効果的に使用して導電層
の抵抗を下げるために、導電層中における導電性物質の
体積含有率は高い方が好ましいが、層としての強度を十
分に持たせるために最低５％程度のバインダーが必要で
あるので、導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合
物の体積含有率は５〜９５％の範囲が望ましい。本発明
に用いる導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物
の使用量は、アブレーション記録材料一平方メートル当
たり０．０５〜２０ｇが好ましく、特に０．１〜１０ｇ
が好ましい。本発明の導電層の表面抵抗率は２５℃３０
％ＲＨの雰囲気下で１０¹²Ω以下で、好ましくは１０¹¹
Ω以下が良い。これにより良好な帯電防止性が得られ
る。本発明に用いる導電性金属酸化物あるいは導電性高
分子化合物を含有する導電層は、構成層として少なくと
も一層設けることが好ましい。例えば、表面保護層、バ
ック層、下塗層などのいずれでもよいが、必要に応じて
２層以上設けることもできる。

【００３８】本発明においては、上記導電性物質の他
に、さらに含フッ素界面活性剤を併用することによって
さらに良好な帯電防止性を得ることができる。本発明に
用いられる好ましい含フッ素界面活性剤としては、炭素
数４以上のフルオロ−アルキル基、アルケニル基、また
はアリール基を有し、イオン性基としてアニオン基（ス
ルホン酸（塩）、硫酸（塩）、カルボン酸（塩）、リン
酸（塩））、カチオン基（アミン塩、アンモニウム塩、
芳香族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩）、
ベタイン基（カルボキシアミン塩、カルボキシアンモニ
ウム塩、スルホアミン塩、スルホアンモニウム塩、ホス
ホアンモニウム塩）またはノニオン基（置換、無置換の
ポリオキシアルキレン基、ポリグリセリル基またはソル
ビタン残基）を有する界面活性剤が挙げられる。これら
の含フッ素界面活性剤は特開昭４９−１０７２２号公
報、英国特許第１，３３０，３５６号明細書、米国特許
第４，３３５，２０１号明細書、同４，３４７，３０８
号明細書、英国特許第１，４１７，９１５号明細書、特
開昭５５−１４９９３８号公報、同５８−１９６５４４
号公報、英国特許第１，４３９，４０２号明細書などに
記載されている。これらの具体例のいくつかを以下に記
す。

【００３９】

【化４】

【００４０】本発明に用いられるアブレーション記録材
料の支持体には、寸度安定性があり、しかもレーザーの
熱に耐えられるならば、いずれの材料でも使用できる。
このような材料としては、ポリ（エチレンナフタレー
ト）、ポリ（エチレンテレフタレート）などのポリエス
テル；ポリアミド；ポリカーボネート；酢酸セルロース
などのセルロースエステル；ポリ（フッ化ビニリデン）
やポリ（テトラフルオロエチレン−共−ヘキサフルオロ
プロピレン）などのフッ素ポリマー；ポリオキシメチレ
ンなどのポリエーテル；ポリアセタール；ポリスチレ
ン、ポリエチレン、ポリプロピレンもしくはメチルペン
テンポリマーなどのポリオレフィンおよびポリイミド−
アミドやポリエーテルイミドなどのポリイミドが含まれ
る。支持体の厚さは、一般に約５〜約２００μｍであ
る。また所望であれば、米国特許４６９５２８８号明細
書、同４７３７４８６号明細書に記載されているような
下塗り層を支持体に塗布してもよい。好ましい実施態様
では支持体は透明である。

【００４１】本発明において、画像の耐久性をさらに高
めるために用いられる、レーザー照射後の画像形成層を
有する側の表面の画像保護の方法に関しては、例えば特
表平５−５０４００８号公報、特開平６−３４４６７６
号公報に記載されているような画像保護用積層性シート
を積層することにより達成される。これらの方法は、耐
久性層を画像に面するようにして、耐久性層と支持体と
を含む積層用シートを画像に積層させることにより行わ
れる。次に画像が耐久性層で保護されたまま残るように
支持体層は画像から取り外される。該耐久性層は実質的
に透明かつ対磨耗性を有する。特に、特開平６−３４４
６７６号公報に記載される保護方法を採用すれば、印刷
において用いられる強力な接着剤テープの繰り返しの使
用および保護された画像の繰り返しの溶剤洗浄に対して
も耐久性層の剥離がない。

【００４２】本発明で用いられる耐久性層材料として
は、特開平６−３４４６７６号公報に記載のシロキサン
を含有する重合有機材料を使用することができる。シロ
キサン含有重合材料はどのような方法で作成してもよい
が、例えばビニルエーテル機で官能化された有機単量体
またはオリゴマーと、シロキサン単量体またはオリゴマ
ーとを共重合化することにより作製される。画像上の耐
久性層は３０μｍ以下の厚みを有するが、解像度の望ま
しくない損失を防止するためには、１０μｍ以下の厚み
を有するのが好ましく、より好ましくは、０．５〜６μ
ｍの範囲である。

【００４３】

【実施例】以下に実施例および試験例を挙げて本発明を
さらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試
薬、割合、操作等は、本発明の精神から逸脱しない限り
適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲
は以下に示す具体例に制限されるものではない。

【００４４】（実施例１）＜支持体の表面処理＞厚さ１
００μｍのポリエチレンテレフタレート支持体の両面
に、処理雰囲気圧力０．２Torr、雰囲気気体中の水分圧
４０％、放電周波数３０kHz、出力２５００Ｗ、処理強
度０．５kV・A・分／ｍ²でグロー放電処理した。この支
持体の片側の面に、下記組成のバック層第１層、第２層
および第３層を塗布した。

【００４５】＜バック層第１層（導電層）の作製＞塩化
第２スズ水和物２３０ｇと三塩化アンチモン２３ｇをエ
タノール３０００ｇに溶解し均一溶液を得た。この溶液
に１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を前記溶液がｐＨ３にな
るまで滴下し、コロイド状酸化第２スズと酸化アンチモ
ンの共沈殿物を得た。得られた共沈殿を５０℃に２４時
間放置し、赤褐色のコロイド状沈殿を得た。赤褐色コロ
イド状沈殿を遠心分離により分離した。過剰なイオンを
除くため沈殿に水を加え遠心分離によって水洗した。こ
の操作を３回繰り返し過剰イオンを除去した。

【００４６】過剰イオンを除去したコロイド状沈殿２０
０ｇを水１５００ｇに再分散し、５００℃に加熱した焼
成炉に噴霧し、青みがかった平均粒径０．００５μｍの
酸化第二スズ−酸化アンチモン複合物の微粒子を得た。
この微粒子粉末の抵抗率は２５Ω・ｃｍであった。上記
微粉末４０ｇと水６０ｇの混合液をｐＨ７．０に調整
し、撹拌機で粗分散の後横型サンドミル（ダイノミル、
Willy A. Backfen AG製）で滞留時間が３０分になるま
で分散して、一次粒子が一部凝集して２次凝集体として
０．０５μｍになる分散液を調製した。下記処方の液を
乾燥膜厚が０．３μｍになるように塗布し、１１０℃で
３０秒間乾燥した。

【００４７】上記導電性微粒子分散液（SnO₂／Sb₂O₃、0.05μｍ）１００ｇゼラチン（Ca²⁺を100ppm含有した石灰処理ゼラチン）１０ｇ水２７０ｇメタノール６００ｇレゾルシン２０ｇポリ（重合度１０）オキシエチレンノニルフェニルエーテル０．１ｇ

【００４８】＜バック層第２層の作製＞以下に示す組成
を有するバックコート層調製用塗布液をジアセチルセル
ロースの塗布量が１．１４g/m²となるように塗布し、１
１０℃で乾燥した。ジアセチルセルロース１００．０ｇトリメトロールプロパン−３−トルエンジイソシアネート１０．０ｇメチルメタクリレート：ジビニルベンゼン＝９：１の共重合物（架橋型ポリマーマット剤：平均粒径8．０μｍ）０．９ｇフローレンＴＧ７１０（３５％：共栄社化学製）１０．０ｇメチルエチルケトン１２３０．０ｇシクロヘキサノン１２３０．０ｇこのバック層のベック平滑度は４００秒であった。

【００４９】＜バック層第３層（滑り層）の作製＞下記
の第１液を９０℃で加温溶解し、第２液に添加後、高圧
ホモジナイザーで分散して滑り分散原液とした。この塗
布液を１０ｃｃ／ｍ²の塗布量でバック層最上層にコー
トした。第１液滑り剤：C₆H₁₃CH(OH)(CH₂)₁₀COOC₄₀H₈₁ ０．７ｇ滑り剤：n-C₁₇H₃₅COOC₄₀H₈₁-n １．１ｇキシレン２．５ｇ第２液プロピレングリコールモノメチルエーテル３４．０ｇジアセチルセルロース３．０ｇアセトン６００．０ｇシクロヘキサノン３５０．０ｇ

【００５０】以上でバック層側の塗設を終了し、次に画
像形成層側の中間層、画像形成層、オーバーコート層を
以下の手順で塗設した。＜中間層の作製＞バック層を塗布したポリエチレンテレ
フタレート透明支持体の反対側に、以下に示す組成の塗
布液をカルボキシメチルセルロースの硝酸エステル塗布
量が０．３g/m²となるように塗布して中間層を作製し
た。なお、下記のバインダーＡ液は、無水グルコース単
位１個あたりの硝酸エステル基置換度が２．１、カルボ
キシメチルエーテル基置換度が０．７のカルボキシメチ
ルセルロースの硝酸エステルの１０％溶液（このうちア
セトン４０％、メタノール２０％、水３０％で、アンモ
ニア水にてｐＨ６．９に調整）である。バインダーＡ液１７．０ｇアセトン１１．８ｇメタノール１２．１ｇ水９．２ｇ赤外吸収物質（１）塗布量０．１g/m²となる量

【００５１】＜画像形成層の作製＞下記組成の混合物を
ペイントシェーカーで均一に分散して画像形成層用の塗
布液を調製した。この塗布液を、中間層の上に表１に示
したカーボンブラックの塗布量となるように塗布、乾燥
して画像形成層を形成した。硝酸セルロース（RS 1／８秒、ダイセル化学工業（株）製）５ｇイソプロピルアルコール２．１４ｇメチルイソブチルケトン２６．６ｇメチルエチルケトン８２．０ｇソルスパースＳ２００００（ゼネカ（株）製）１．３５ｇＤｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１（BYK Chemie製）２．０ｇカーボンブラック（粒径23nm、吸油量66ml／100g）５ｇフッ素系界面活性剤−１３７．３ｍｇ

【００５２】

【化５】

【００５３】＜オーバーコート層の作製＞以下の組成を
有するオーバーコート層調製用塗布液を前記の画像形成
層の上にポリエチルメタクリレートの塗布量が０．１２
g/m²となるように塗布、乾燥して、１１種類のレーザー
アブレーション記録材料を作製した。ポリエチルメタクリレート０．４２ｇポリテトラフルオロエチレンのビーズ（デュポン社製ゾニールTLP-10F-1：粒子サイズ０．２μｍ）０．４２ｇフローレンＴＧ７１０（３５％：共栄社化学製）０．２４ｇシクロヘキサノン４．５７ｇメタノール３．５２ｇイソプロピルアルコール２０．０４ｇジアセトンアルコール７．０３ｇ青色吸収色素・紫外線吸収色素表１に示す量

【００５４】

【化６】

【００５５】＜画像記録のための露光条件＞特開平８−
４８０５３号公報に記載されているのと同様な画像露光
装置のドラムに、画像形成層を外側に向けて各記録材料
を固定した。各レーザービームは830〜840nmの波長範囲
を有し、フィルム面での公称出力は550mW、スポットサ
イズは25μｍであった。上記画像形成装置の記録材料を
巻き付けたドラムの回転数を変化させて照射量を変化さ
せ、適切に露光した。また、横方向の移動については、
移動ステージによってダイオードレーザーを移動させ
て、照射ビームの中心間距離が10μｍとなるような速度
に設定した。さらに、レーザーによって照射された表面
の物質の除去を効果的に行うため、特開平８−７２４０
０号公報と同様な装置を用いて、レーザー照射をしなが
ら空気流を吹き付けて、画像形成物質やバインダーなど
を除去した。

【００５６】＜ＵＶ領域のＤmax（最高濃度）、Ｄmin
（最低濃度）の評価＞Macbeth社製の濃度計TD904（UVフ
ィルター使用）を用いて、レーザー未照射部分と照射部
分の濃度を測定して、UV領域のDmax（最高濃度）、Dmin
（最低濃度）とした。得られた結果を表１に示す。表中
におけるカーボンブラックおよび青色吸収色素・紫外線
吸収色素の塗布量はそれぞれ３５０〜４５０ｎｍの波長
域の平均光学濃度で表した。

【００５７】

【表１】

【００５８】表１より、カーボンブラックのみの記録材
料ではＤｍｉｎが高いのに対して、本発明の記録材料で
は比較サンプルと同等のＤｍａｘを達成しながら低いＤ
ｍｉｎを示した。すなわち本発明の記録材料は、比較サ
ンプルに対してＤｍａｘ−Ｄｍｉｍが大きく、かつ良好
なS/N比を示した。さらに、本発明の記録材料の画像部
はいずれも黒色であり、視認性にも優れていた。一方、
カーボンブラックの塗布量が本発明の範囲以下である場
合は、アブレーションの効率が下がりＤｍｉｎが高かっ
た。

【００５９】（実施例２）実施例１の画像形成層中のカ
ーボンブラックの代わりにチタンブラック１２Ｓ（粒子
径58nm、三菱マテリアル（株）製），コロイド銀（粒子
サイズ２０ｎｍ），あるいはＦｅ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｎｉ−
Ｃｏ系強磁性金属粉末〔Ｆｅ：Ｓｉ：Ａｌ：Ｎｉ：Ｃｏ
原子数比＝１００：１：４：３：５（全体）、平均長軸
径：０．１４μｍ、針状比５、Ｈｃ：１７６０Ｏｅ、
σｓ：１２０ｅｍｕ／ｇ、ＢＥＴ：５９ｍ²／ｇ］を使
用してサンプルを作成した。実施例１と同様にして評価
を行なったところ、実施例１と同様に本発明の記録材料
で良好な結果を得た。

【００６０】

【発明の効果】本発明のレーザーアブレーション材料
は、製版用途として有用な紫外域でのＤｍａｘが高く、
レーザー照射部分のＤｍｉｎが低く、かつ銀塩フイルム
に近い色調を有する。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に少なくとも一層の画像形成層
および保護層を順に有し、前記画像形成層中に画像形成
物質として無機微粒子を含有し、前記画像形成層および
／または前記保護層中に３５０〜４５０ｎｍの波長域の
平均光学濃度が２．５以上５．０以下になる量の青色吸
収色素および／または紫外線吸収色素を含有し、かつ該
波長域における無機微粒子の光学濃度が１．０〜３．０
であることを特徴とするレーザーアブレーション記録材
料。
【請求項２】前記支持体と前記画像形成層との間に少
なくとも一層の中間層を有し、該中間層の少なくとも一
層中にレーザー波長に吸収を有する物質を含有すること
を特徴とする請求項１に記載のレーザーアブレーション
記録材料。
【請求項３】前記支持体上に形成した前記画像形成層
側の層の少なくとも一層に、無水グルコース単位１個あ
たりの硝酸エステル基置換度が０．０５〜２．８である
カルボキシアルキルセルロースの硝酸エステル類を含有
することを特徴とする請求項１または２に記載のレーザ
ーアブレーション記録材料。
【請求項４】前記保護層にテトラフルオロエチレンビ
ーズを含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれ
かに記載のレーザーアブレーション記録材料。
【請求項５】前記保護層中に青色吸収色素および／ま
たは紫外線吸収色素を含有することを特徴とする請求項
１〜４のいずれかに記載のレーザーアブレーション記録
材料。