JPH10175372A - アブレーション記録材料 - Google Patents

アブレーション記録材料

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JPH10175372A
JPH10175372A JP8338724A JP33872496A JPH10175372A JP H10175372 A JPH10175372 A JP H10175372A JP 8338724 A JP8338724 A JP 8338724A JP 33872496 A JP33872496 A JP 33872496A JP H10175372 A JPH10175372 A JP H10175372A
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nitrate
recording material
cellulose
laser
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JP8338724A
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Tadashi Ito
忠 伊藤
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Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】レーザー照射部分のDminが低く、製造工程上取
り扱いが容易なバインダーを用いたアブレーション記録
材料を提供する。 【解決手段】レーザーを利用して像様加熱する工程を施
すアブレーション記録材料において、構成層の少なくと
も一層が無水グルコース単位1個あたりの硝酸エステル
基置換度が0.05〜2.8であるカルボキシアルキル
セルロースの硝酸エステル類を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザーアブレー
ション記録材料に関するものであり、特にカルボキシア
ルキルセルロースの硝酸エステル類を含有するアブレー
ション記録材料に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、電気信号をサーマルプリントヘッ
ドに与えて、画像形成させる熱転写システムが普及して
きている。一方、サーマルプリントヘッドの代わりにレ
ーザーを用いる方法も開発されており、レーザーの高出
力化に伴って普及していくものと考えられる。このよう
なシステムにおいては、記録材料中にレーザーの波長域
に強く吸収を有する物質が含まれており、吸収物質は光
エネルギーを熱エネルギーに転換してサーマルプリント
ヘッドを用いた場合と同様な効果をもたらす。また、レ
ーザーを使用した場合には、サーマルプリントヘッドに
比べて無接触であるために画像表面にキズが出ないこと
が利点であり、レーザービームが細く絞れるために画像
分解能を向上させることが可能である。
【0003】更に最近では、高出力レーザーを用いた色
素アブレーションと呼ばれる画像形成方法が開発されて
おり、その記録材料が特開平7−164755号、同−
149063号、同7−149065号等に記載されて
おり、画像形成装置が特開平8−48053号、同8−
72400号に開示されている。このシステムでは、支
持体上に塗布された画像色素、レーザー波長域に吸収を
有する物質(赤外吸収物質)およびバインダーからなる
色素層組成物を有する記録材料を、色素層側からレーザ
ー照射することによって画像記録が行われる。レーザー
によって与えられたエネルギーは、レーザービームが材
料に当たったスポットで画像形成層に急激な局部変化を
起こし、それによって物質を層から追い出す。上記特許
公報によれば、これは完全に物理的な変化(例えば、溶
融、蒸発または昇華)ではなく、ある種の化学変化(例
えば、結合破壊)であり、部分的な画像色素の除去では
なく、完全な除去であるという。
【0004】このような色素アブレーション画像形成方
法の有用性は、レーザー露光で画像形成色素を除去する
ことができる効率によって、大きく左右される。この効
率を示す尺度として、レーザー露光部の最小濃度値(D
min)が用いられ、値が小さいほど色素除去効率が高
いことを示す。これらの色素アブレーション材料は硝酸
セルロースをバインダーとして用いて、レーザー露光部
のDminを低減させている。しかしながら、硝酸セルロー
スは引火性が高く、有機溶剤でないと溶けないなどの問
題があり、溶解や塗布製造などの工程での取扱いが困難
であった。また、近年、環境問題により、省溶剤化およ
び無溶剤化が求められており、水系化が可能な上記材料
のバインダーが必要とされていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、公知
の色素アブレーション記録材料の問題点を解決した新し
いアブレーション記録材料を提供すること、すなわち、
高出力レーザーを用いて記録を行うアブレーション記録
材料において、レーザー照射部分のDminが低く、製造工
程上取り扱いが容易なバインダーを用いたアブレーショ
ン記録材料を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、レーザ
ーを利用して像様加熱する工程を施すアブレーション記
録材料において、支持体上に少なくとも一層の着色剤層
を有し、該像様加熱工程は該着色剤層側から行い、該着
色剤層を有する側の少なくとも一層中に、無水グルコー
ス単位1個あたりの硝酸エステル基置換度が0.05〜
2.8であるカルボキシアルキルセルロースの硝酸エス
テル類を含有することを特徴とするアブレーション記録
材料によって達成された。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明においては、下記の実施形
態が特に好ましい。 1)該画像記録材料の着色剤層を有する側に該レーザー
波長に吸収を有する物質を含有することを特徴とする上
記の解決手段に述べたアブレーション記録材料。 2)該着色剤層と支持体との間に、無水グルコース単位
1個あたりの硝酸エステル基置換度が0.05〜2.8
であるカルボキシアルキルセルロースの硝酸エステル類
を含有する中間層を有することを特徴とする上記の解決
手段に述べたアブレーション記録材料。 3)該着色剤層の上に、無水グルコース単位1個あたり
の硝酸エステル基置換度が0.05〜2.8であるカル
ボキシアルキルセルロースの硝酸エステル類を含有する
が、該着色剤は含有しないオーバーコート層を有するこ
とを特徴とする上記解決手段に述べたアブレーション記
録材料。 4)該着色剤層の上にテトラフルオロエチレンビーズを
含有するが、該着色剤は含有しないオーバーコート層を
有することを特徴とする上記解決手段に述べたアブレー
ション記録材料。
【0008】本発明に用いるカルボキシアルキルセルロ
ースの硝酸エステル類とは、カルボキシメチルセルロー
ス、カルボキシエチルセルロース等のカルボキシアルキ
ルセルロース類を公知の硝酸エステル化用混酸、例え
ば、硫酸、硝酸、そして水からなる硝酸エステル化用混
酸で反応を行い、カルボキシアルキルセルロース中に含
まれる硝酸エステル基置換度が0.2以上、カルボキシ
アルキルエーテル基置換度が0.05以上であるものを
いい、詳しくは特開平5−39301号公報、特開平5
−39302号公報に示された水性セルロース誘導体を
言う。
【0009】本発明に用いるカルボキシアルキルセルロ
ースの硝酸エステル類の硝酸エステル基置換度の好まし
い範囲は0.2以上2.2以下であり、カルボキシアル
キルエーテル基置換度の好ましい範囲は0.05以上
1.5以下である。硝酸エステル基置換度が0.2未満
では顕色剤や染料の分散性及び耐水性が不十分であり、
カルボキシアルキルエーテル基置換度が0.05未満で
は水への溶解性が不十分になり、実質的に水溶性バイン
ダーとして用いることが困難となる。
【0010】また、硝酸エステル基置換度が2.2を越
えると、水と有機溶剤との混合溶剤に溶解または分散す
るために、有機溶剤の量を増加させる必要を生じる。ま
た、カルボキシアルキルエーテル基置換度が1.5を越
えると、塗布面の耐水性がやや不十分となる傾向があ
る。本発明に用いるカルボキシアルキルセルロースの硝
酸エステル類のカルボキシル基は、一部、あるいは全部
中和されていてもかまわない。中和されることにより水
及び水を主成分とした水溶性有機溶剤への溶解度が上が
る。中和のためにはアルカリ金属イオン、アルカリ土類
金属イオン、アンモニウムイオン、有機アミン等の陽イ
オンの1種または2種以上を用いることが出来る。この
場合、中和の程度は、目的とする溶液の水、有機溶剤等
の組成に応じて任意に決定されるが、一般的には、含ま
れるカルボキシル基の50%以上が中和されていること
が好ましい。
【0011】本発明に用いるカルボキシアルキルセルロ
ースの硝酸エステル類は着色剤層を有する側の構成層の
いずれの層にも用いることができる。好ましく用いられ
る構成層としては、着色剤層、支持体と着色剤層との間
の中間層、着色剤層の上のオーバーコート層である。本
発明に用いるカルボキシアルキルセルロースの硝酸エス
テル類の塗布量としては0.05〜5g/m2が好まし
く、さらには0.1〜3g/m2が好ましい。
【0012】本発明に用いるカルボキシアルキルセルロ
ースの硝酸エステル類は、単独で使用してもよいし、公
知のバインダーの少なくとも一種と組み合わせて用いる
こともできる。好ましく組み合わせることが可能な公知
のバインダーとしては、カルボキシメチルセルロース、
ヒドロキシエチルセルロースなどのセルロース誘導体、
ポリビニルアルコール、カルボキシ変性ポリビニルアル
コール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリ
アクリルアミド、ゼラチンなどのポリマーであるが、こ
れらに限定されない。また、スチレン−ブタジエンラテ
ックス、ウレタン系ラテックスなどのラテックス系バイ
ンダーと併用してもよい。
【0013】前述したバインダー以外で、本発明の記録
材料の着色剤層側に用いられる高分子バインダーとして
は、米国特許第5330876号に記載されているよう
なサイズ排除クロマトグラフィーで測定したポリスチレ
ン等価分子量が10万以上で、分解性のポリマーが好ま
しい。ここで分解性とは、レーザー画像化の際に得られ
る温度において素早く熱分解して十分量の気体および揮
発性フラグメントを与えるバインダーか、あるいは少量
の酸存在下で分解温度が著しく低下するバインダーを意
味する。
【0014】本発明の着色剤層の着色剤には、顔料、無
機微粒子または色素を用いる。好ましく用いることがて
きる顔料、無機微粒子には、カーボンブラック、グラフ
ァイト、チタンブラック、金属フタロシアニン、酸化チ
タンなどの金属酸化物、コロイド銀などが含まれる。本
発明の着色剤層に用いる顔料、無機微粒子を塗布した場
合の色としては、印刷製版用途の画像形成の場合はUV
領域に吸収を有することが必要であり、医療用途の場合
には、黒色であることが必要である。このため、顔料、
無機微粒子の色を与える粒子サイズもさまざまである
が、5〜500nmの粒子サイズが好ましく、特に5〜2
50nmの粒子サイズが好ましい。本発明に用いる顔料、
無機微粒子の塗布量は、レーザー未照射部分で濃度2.
5以上(印刷用途の場合はUV領域の吸収値、医療用途
の場合は可視域の吸収値)の吸収を有する塗布量であれ
ばどの程度でもよく、その量は使用する無機微粒子の種
類、サイズによっても異なる。例えば、カーボンブラッ
ク(粒径24nm)の場合は塗布量0.67g/m2で、U
V濃度4.0、可視濃度2.7であり、コロイド銀(粒
径20nm)の場合は塗布量0.5g/m2で、UV濃度
3.5、可視濃度0.4である。これらの顔料、無機微
粒子でレーザー波長に吸収を有するものは、レーザー波
長吸収物質と、着色剤の両者の役割を兼ねることができ
るので、これ以外のレーザー波長吸収物質が必要なくな
る、もしくは量を低減できる点で好ましい。
【0015】本発明に用いる顔料、無機微粒子の製法
は、上記粒子サイズを満たす製法のものであればいずれ
でもよい。例えば、カーボンブラック原料としては、Do
nnel Voet 著の"Carbon Black" Marcel Dekker,Inc.(19
76) に記載されているようなチャンネル法、サーマル
法、およびファーネス法など任意の製法のものがしよう
できる。
【0016】本発明の着色剤層に用いることができる色
素には、レーザーの作用によってアブレーションされる
ことができるならば、いずれの色素でも使用することが
できる。たとえば、米国特許第4,541,830号、
同第4,698,651号、同第4,695,287
号、同第4,701,439号、同第4,757,04
6号、同第4,743,582号、同第4,769,3
60号及び同第4,753,922号明細書に記載され
ている色素を好ましく用いることができる。これらの色
素は、単独で使用しても組み合わせて使用してもよい。
これらの色素は、約0.05〜約1g/m2の塗被量で用
いられることができる。
【0017】本発明のオーバーコート層に使用するポリ
テトラフルオロエチレンビーズは、意図する目的のため
に有効な任意の濃度または粒子サイズで使用することが
できる。一般的に、このビーズは約1〜約100μm 、
好ましくは約3〜約50μmの範囲内の粒子サイズを有
している。ビーズの塗布量は約0.005〜約5.0g
/m2、好ましくは約0.05〜約0.5g/m2の範囲で
あって良い。ビーズは球状である必要はなく、任意の形
状のものであってよい。本発明のオーバーコート層は、
特開平8−108622号に記載されているように、耐
引掻性、耐磨耗性および艶消し仕上げを付与する上で有
効である。
【0018】本発明の記録材料においては、ビーズを含
有するオーバーコート層のバインダーとしては、任意の
ポリマー物質を使用することができる。例えば、セルロ
ース誘導体、例えば硝酸セルロース、セルロースアセテ
ート水素フタレート、セルロースアセテート、セルロー
スアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブ
チレート、セルトーストリアセテート、ヒドロキシプロ
ピルセルロースエーテル、エチルセルロースエーテル;
ポリカーボネート;ポリウレタン;ポリエステル;ポリ
(酢酸ビニル);ポリ(塩化ビニル)およびポリ(塩化
ビニル)コポリマーのようなポリ(ハロゲン化ビニ
ル);ポリ(ビニルエーテル);無水マレイン酸コポリ
マー;ポリスチレン;ポリ(スチレン−共−アクリロニ
トリル);ポリスルホン;ポリ(フェニレンオキシ
ド);ポリ(エチレンオキシド);ポリ(ビニルアセタ
ール)、ポリ(ビニルアセタール−共−ブチラール)ま
たはポリ(ビニルベンザール)のようなポリ(ビニルア
ルコール−共−アゼタール);またはこれらの混合物も
しくはコポリマーを使用することができる。オーバーコ
ート層のバインダーは約0.1〜約5g/m2の塗布量で
使用することができる。
【0019】本発明のレーザーアブレーションによる画
像形成では、アブレートされた材料が支持体から離れて
周囲の空気中に散らばる。このアブレートされた材料の
中にはレーザー装置の周囲に集まり、レーザーで書き込
まれた部分に堆積するものがある。この堆積物はレーザ
ー光を遮り、前述のDminを許容レベル以上に増加さ
せ、画質を実用に耐えなくさせてしまう場合がある。こ
のアブレートされた材料を空気流により除去することが
望ましく、そのような除去装置が特開平8−72400
号に記載されており、これらを好ましく用いることがで
きる。
【0020】本発明のアブレーション記録材料は、特開
平8−48053号に開示されているように、レーザー
照射後の最小記録濃度(Dmin)が0.11以下であ
ることが好ましい。これはこの濃度以下であると目に見
えるラスターラインが大幅に削減されるからである。こ
のためにはレーザーダイオードによって発生される書き
込み用レーザー光線の記録材料上での強度が0.1ミリ
ワット/平方ミクロン(mW/μm2 )以上であること
が好ましい。
【0021】本発明の方法を使用してレーザーアブレー
ション画像を得るためには、700nm以上に発光を有
する赤外域のダイオートレーザーを使用することが好ま
しい。これは、大きさが小さいこと、コストが低いこ
と、安定性が良好であること、信頼性が良好であるこ
と、頑丈であること、変調がしやすいことといった実質
的な利点があるからである。本発明で用いることのでき
るレーザーは市販されている。例えば、スペクトラダイ
オード研究所(Spectra Diode Labs) からのレーザーモ
デルSDL−2420−H2またはソニー株式会社から
のレーザーモデルSLD304V/Wを使用することが
できる。
【0022】実用に際しては、アブレーション記録材料
に赤外吸収物質、例えばカーボンブラック、または米国
特許4973572号に記載されているシアニン赤外吸
収色素、または米国特許4948777号、同4950
640号、同4950639号、同4948776号、
同4948778号、同4942141号、同4952
552号、同5036040号、同4912083号、
同5360694号、同5380635号および特願平
8−189817号に記載されている赤外吸収物質を含
有させる。本発明に好ましく用いられる赤外吸収物質の
代表例を以下に示すが、これらに限定されるものではな
い。
【0023】
【化1】
【0024】
【化2】
【0025】レーザー光線は着色剤層中に吸収され、そ
して内部変換として知られる分子過程によって熱に変換
される。上記の熱変換のための赤外吸収物質は着色剤層
自身に含まれていても、又これと組み合わされた別の
層、すなわち着色剤層の上層や下層に含まれても良い。
本発明の方法におけるレーザー照射はアブレーション記
録材料の着色剤層側から行われるので、本発明の画像形
成は単シート法(すなわち、別の受容材料を必要としな
い方法)であることができる。本発明に用いられる赤外
吸収物質の塗布量はレーザー波長の吸光度で0.5以
上、更には1.0以上、特に1.5以上を与える量が好
ましい。
【0026】本発明のアブレーション記録材料のバック
層のベック平滑度は、日本工業規格(JIS)P811
9「紙および板紙のベック試験器による平滑度試験方
法」およびTAPPI標準法T479により容易に求め
ることができる。本発明のアブレーション記録材料のバ
ック層の最外層表面のベック平滑度は、4000秒以下
であり、より好ましくは10秒〜4000秒であること
が好ましい。これは記録材料同士の接着性や剥離性の点
から重要である。
【0027】ベック平滑度は、前記バック層の最外層に
含有させるマット剤の平均粒径および添加量を種々変化
させることによってコントロールすることができる。本
発明において好ましいマット剤の平均粒径は、20μm
以下であり、特に0.4〜10μmの範囲である。本発
明において好ましいマット剤の添加量は、5〜400mg
/m2、特に10〜200mg/m2の範囲である。
【0028】本発明に用いられるマット剤は、取り扱い
性の上で悪影響を及ぼさない固体粒子であれば、どのよ
うなものでもよい。無機系のマット剤としては、二酸化
ケイ素、チタンおよびアルミニウムの酸化物、亜鉛およ
びカルシウムの炭酸塩、バリウムおよびカルシウムの硫
酸塩、カルシウムおよびアルミニウムのケイ酸塩など、
有機系のマット剤としては、セルロースエステル類、ポ
リメチルメタクリレート、ポリスチレンまたはポリジビ
ニルベンゼンおよびこれらのコポリマーなどの有機重合
体のマット剤が挙げられる。
【0029】本発明では、特開平3−109542号公
報2頁左下欄8行目〜3頁右上欄4行目に記載された多
孔性のマット剤、特開平4−127142号公報3頁右
上欄7行目〜5頁右下欄4行に記載されたアルカリで表
面修飾したマット剤、特願平4−265962号明細書
の段落番号「0005」から「0026」に記載された
有機重合体のマット剤を用いることがより好ましい。
【0030】また、これらのマット剤を2種以上併用し
てもよい。例えば、無機系のマット剤と有機系のマット
剤の併用、多孔性のマット剤と非多孔性のマット剤の併
用、不定形のマット剤と球形のマット剤の併用、平均粒
径の異なるマット剤の併用(例えば特願平4−2659
62号に記載されている平均粒径が1.5μm以上のマ
ット剤と平均粒径が1μm以下のマット剤の併用)など
がある。
【0031】本発明において、表面抵抗率が25℃30
%RHの雰囲気下で1012Ω以下の層(以下「導電層」
と記す)を付与しても良い。導電性物質として、導電性
金属酸化物あるいは導電性高分子化合物などを用いるこ
とによって得られる。本発明に用いられる導電性金属酸
化物として好ましいのは結晶性の金属酸化物粒子である
が、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸化物に対
してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等は一般
的に言って導電性が高いので特に好ましい。金属酸化物
の例としては、ZnO、TiO2 、SnO2 、Al2
3 、In2 3 、SiO2 、MgO、BaO、Mo
3 、V2 5 等、あるいはこれらの複合酸化物が良
く、特にZnO、TiO2 及びSnO2 が好ましい。異
種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはA
l、In等の添加、SnO2 に対してはSb、Nb、ハ
ロゲン元素等の添加、またTiO2 に対してはNb、T
a等の添加が効果的である。これら異種原子の添加量は
0.01mol %〜30mol%の範囲が好ましいが、0.
1mol %〜10mol %であれば特に好ましい。
【0032】本発明に好ましく用いる金属酸化物微粒子
は導電性を有しており、その体積抵抗率は107 Ω-cm
以下、特に105 Ω-cm 以下であることが好ましい。こ
れらの酸化物については特開昭56−143431号、
同56−120519号、同58−62647号などに
記載されている。更に又、特公昭59−6235号に記
載のごとく、他の結晶性金属酸化物粒子あるいは繊維状
物(例えば酸化チタン)に上記の金属酸化物を付着させ
た導電性素材を使用してもよい。利用できる粒子サイズ
は10μ以下が好ましいが、2μ以下であると分散後の
安定性が良く使用し易い。また光散乱性をできるだけ小
さくする為に、0.5μ以下の導電性粒子を利用するこ
とが好ましい。これによって、導電層を設けても支持体
を透明に保つことが可能になるからである。又、導電性
材料が針状あるいは繊維状の場合はその長さは30μm
以下で直径が2μ以下が好ましく、特に好ましいのは長
さが25μm以下で直径0.5μ以下であり長さ/直径
比が3以上である。
【0033】本発明に用いられる導電性高分子化合物と
しては、例えばポリビニルベンゼンスルホン酸塩類、ポ
リビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、米
国特許第4,108,802号、同4,118,231
号、同4,126,467号、同4,137,217号
に記載の4級塩ポリマー類、米国特許第4,070,1
89号、OLS2,830,767号、特開昭61−2
96352号、同61−62033号等に記載のポリマ
ーラテックス等が好ましい。以下に本発明の導電性高分
子化合物の具体例を示すが、必ずしもこれらに限定され
るものではない。
【0034】
【化3】
【0035】
【化4】
【0036】本発明に用いられる導電性金属酸化物又は
導電性高分子化合物はバインダー中に分散又は溶解させ
て用いられる。バインダーとしては、フィルム形成能を
有するものであれば特に限定されるものではないが、例
えばゼラチン、カゼイン等の蛋白質、カルボキシメチル
セルロース、ヒドロキシエチルセルロース、アセチルセ
ルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロ
ース等のセルロース化合物、デキストラン、寒天、アル
ギン酸ソーダ、澱粉誘導体等の糖類、ポリビニルアルコ
ール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリ
メタクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリアクリルア
ミド、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリエステル、ポ
リ塩化ビニル、ポリアクリル酸等の合成ポリマー等を挙
げることができる。特に、ゼラチン(石灰処理ゼラチ
ン、酸処理ゼラチン、酵素分解ゼラチン、フタル化ゼラ
チン、アセチル化ゼラチン等)、アセチルセルロース、
ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ブ
チル、ポリアクリルアミド、デキストラン等が好まし
い。
【0037】本発明に用いられる導電性金属酸化物ある
いは導電性高分子化合物をより効果的に使用して導電層
の抵抗を下げるために、導電層中における導電性物質の
体積含有率は高い方が好ましいが、層としての強度を十
分に持たせるために最低5%程度のバインダーが必要で
あるので、導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合
物の体積含有率は5〜95%の範囲が望ましい。本発明
に用いる導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物
の使用量は、アブレーション記録材料一平方メートル当
たり0.05〜20gが好ましく、特に0.1〜10g
が好ましい。本発明の導電層の表面抵抗率は25℃30
%RHの雰囲気下で1012Ω以下で、好ましくは1011
Ω以下が良い。これにより良好な帯電防止性が得られ
る。本発明に用いる導電性金属酸化物あるいは導電性高
分子化合物を含有する導電層は、構成層として少なくと
も一層設けることが好ましい。例えば、表面保護層、バ
ック層、下塗層などのいずれでもよいが、必要に応じて
2層以上設けることもできる。
【0038】本発明においては、上記導電性物質の他
に、更に含フッ素界面活性剤を併用することによって更
に良好な帯電防止性を得ることができる。本発明に用い
られる好ましい含フッ素界面活性剤としては、炭素数4
以上のフルオロ−アルキル基、アルケニル基、又はアリ
ール基を有し、イオン性基としてアニオン基(スルホン
酸(塩)、硫酸(塩)、カルボン酸(塩)、リン酸
(塩))、カチオン基(アミン塩、アンモニウム塩、芳
香族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩)、ベ
タイン基(カルボキシアミン塩、カルボキシアンモニウ
ム塩、スルホアミン塩、スルホアンモニウム塩、ホスホ
アンモニウム塩)又はノニオン基(置換、無置換のポリ
オキシアルキレン基、ポリグリセリル基またはソルビタ
ン残基)を有する界面活性剤が挙げられる。これらの含
フッ素界面活性剤は特開昭49−10722号、英国特
許第1,330,356号、米国特許第4,335,2
01号、同4,347,308号、英国特許第1,41
7,915号、特開昭55−149938号、同58−
196544号、英国特許第1,439,402号、な
どに記載されている。これらの具体例のいくつかを以下
に記す。
【0039】
【化5】
【0040】本発明に用いられるアブレーション記録材
料の支持体には、寸度安定性があり、しかもレーザーの
熱に耐えられるならば、いずれの材料でも使用できる。
このような材料としては、ポリ(エチレンナフタレー
ト)、ポリ(エチレンテレフタレート)などのポリエス
テル;ポリアミド;ポリカーボネート;酢酸セルロース
などのセルロースエステル;ポリ(フッ化ビニリデン)
やポリ(テトラフルオロエチレン−共−ヘキサフルオロ
プロピレン)などのフッ素ポリマー;ポリオキシメチレ
ンなどのポリエーテル;ポリアセタール;ポリスチレ
ン、ポリエチレン、ポリプロピレンもしくはメチルペン
テンポリマーなどのポリオレフィンおよびポリイミド−
アミドやポリエーテルイミドなどのポリイミドが含まれ
る。支持体の厚さは、一般に約5〜約200μmであ
る。また所望であれば、米国特許4695288号、同
4737486号に記載されているような下塗り層を支
持体に塗布してもよい。好ましい実施態様では支持体は
透明である。
【0041】本発明において、画像の耐久性を更に高め
るためにもちいられる、レーザー照射後の着色剤層を有
する側の表面の画像保護の方法に関しては、例えば特表
平5−504008号、特開平6−344676号に記
載されているような画像保護用積層性シートを積層する
ことにより達成される。これらの方法は、耐久性層を画
像に面するようにして、耐久性層と支持体とを含む積層
用シートを画像に積層させることにより行われる。次に
画像が耐久性層で保護されたまま残るように支持体層は
画像から取り外される。該耐久性層は実質的に透明かつ
対磨耗性を有する。特に、特開平6−344676号に
記載される保護方法を採用すれば、印刷において用いら
れる強力な接着剤テープの繰り返しの使用および保護さ
れた画像の繰り返しの溶剤洗浄に対しても耐久性層の剥
離がない。
【0042】本発明で用いられる耐久性層材料として
は、特開平6−344676号に記載のシロキサンを含
有する重合有機材料を使用することができる。シロキサ
ン含有重合材料はどのような方法で作成してもよいが、
例えばビニルエーテル機で官能化された有機単量体また
はオリゴマーと、シロキサン単量体またはオリゴマーと
を共重合化することにより作製される。画像上の耐久性
層は30μm以下の厚みを有するが、解像度の望ましく
ない損失を防止するためには、10μm以下の厚みを有
するのが好ましく、より好ましくは、0.5〜6μmの
範囲である。
【0043】
【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説
明するが本発明はこれに限定されるものではない。
【0044】実施例1 <バック層の作製>二軸延伸し、両面グロー放電処理し
たポリエチレンテレフタレート支持体(厚み100μ
m)の片面に下記組成の下塗層第1層及び第2層を塗布
した。 <下塗層第1層> コアーシェル型塩化ビニリデン共重合体 15g 2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 0.25g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μ) 0.05g 化合物−A 0.20g コロイダルシリカ(スノーテックスZL:粒径70〜 100μm日産化学(株)製) 0.12g 水を加えて 100g さらに、10重量%のKOHを加え、pH=6に調整し
た塗布液を乾燥温度180℃2分間で、乾燥膜厚が0.
9μになる様に塗布した。
【0045】 <下塗層第2層> ゼラチン 1g メチルセルロース 0.05g 化合物−B 0.02g C12H25O(CH2CH2O)10H 0.03g 化合物−C 3.5×10-3g 酢酸 0.2g 水を加えて 100g この塗布液を乾燥温度170℃2分間で、乾燥膜厚が
0.1μになる様に塗布し、下塗層を含む支持体を作製
した。
【0046】上記下塗層第2層の上に、下記に示す導電
層及びバック層を同時塗布した。 <導電層塗布液の調製とその塗布>ゼラチン水溶液に下
記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が0.06g/m2
なるように塗布した。 SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 186mg/m2 ゼラチン(Ca 含有量3000ppm) 60mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 13mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 12mg/m2 化合物D 12mg/m2 化合物C 1mg/m2
【0047】<バック層塗布液の調製とその塗布>ゼラ
チン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が
0.3g/m2となるように塗布した。 ゼラチン(Ca 含有量30ppm) 0.3g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.7μ) 3mg/m2 化合物C 0.5mg/m2 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 3mg/m28 17SO3 Li 0.5mg/m2 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピル グリシンポタジウム 6mg/m2 硫酸ナトリウム 27mg/m2 酢酸ナトリウム 6mg/m2 化合物E(硬膜剤) 水での膨潤率が90%になる量 このバック層のベック平滑度は500秒であった。
【0048】<バインダーA液、B液の調製>無水グル
コース単位1個あたりの硝酸エステル基置換度が1.
9、カルボキシメチルエーテル基置換度が0.6のカル
ボキシメチルセルロースの硝酸エステルの15%溶液
(このうちブチルセロソルブ10%、水75%で、アン
モニア水にてpH6.4に調整)をバインダーA液とす
る。無水グルコース単位1個あたりの硝酸エステル基置
換度が1.0、カルボキシメチルエーテル基置換度が
0.7のカルボキシメチルセルロースの硝酸エステルの
15%溶液(このうちイソプロピルアルコール25%、
水60%で、アンモニア水にてpH7.2に調整)をバ
インダーB液とする。
【0049】<中間層の作製>以下に示す組成の塗布液
を前記バック層を塗布した100μ厚みのポリエチレン
テレフタレート透明支持体の反対側に塗布し、8種の中
間層を作製した。 中間層1 下記組成の塗布液をポリビニルブチラール塗布量が0.
25g/m2となるように塗布した。 ポリビニルブチラール(Monsant社製 Butvar B76) 1.73g メチルエチルケトン 29.2g トルエン 5.48g 中間層2 下記組成の塗布液をポリビニルアルコール塗布量が0.
25g/m2となるように塗布した。 ポリビニルアルコール(PVA-405 クラレ(株)製) 0.86g 界面活性剤1 0.63g 水 34.5g 中間層3 下記組成の塗布液をカルボキシメチルセルロースの硝酸
エステル塗布量が0.25g/m2となるように塗布し
た。 前述のバインダーA液 11.5g ブチルセロソルブ 9.19g 水 15.3g 中間層4 下記組成の塗布液を硝酸セルロース塗布量が0.25g
/m2となるように塗布した。 硝酸セルロース(RS1000秒、ダイセル化学工業(株)製) 1.73g メチルエチルケトン 28.7g トルエン 5.48g イソプロピルアルコール 0.52g 中間層5 下記組成の塗布液を硝酸セルロース塗布量が0.25g
/m2となるように塗布した。 硝酸セルロース(RS 1/2秒、ダイセル化学工業(株)製) 1.73g メチルエチルケトン 28.7g トルエン 5.48g イソプロピルアルコール 0.52g 中間層6 中間層3の塗布液に例示赤外吸収物質(1) を加え、カル
ボキシメチルセルロースの硝酸エステル塗布量が0.2
5g/m2、例示赤外吸収物質(1) の塗布量が0.05g
/m2となるように塗布した。 中間層7 中間層3の塗布液に例示赤外吸収物質(1) を加え、カル
ボキシメチルセルロースの硝酸エステル塗布量が0.1
25g/m2、例示赤外吸収物質(1) の塗布量が0.05
g/m2となるように塗布した。 中間層8 中間層5の塗布液に例示赤外吸収物質(1) を加え、硝酸
セルロース塗布量が0.125g/m2、例示赤外吸収物
質(1) の塗布量が0.05g/m2となるように塗布し
た。
【0050】<着色剤層の作製> 着色剤層1 下記組成の混合物をペイントシェーカーで均一分散した
後、カーボンブラックの塗布量が0.67g/m2となる
ように塗布した。 バインダーA液 33.3g ブチルセロソルブ 7.34g 水 55.1g ソルスパースS20000(ゼネカ株式会社製) 1.35g ソルスパースS12000(ゼネカ株式会社製) 0.23g カーボンブラック(粒子径24nm) 5g 着色剤層2 下記組成の混合物をペイントシェーカーで均一分散した
後、カーボンブラックの塗布量が0.67g/m2となる
ように塗布した。 バインダーB液 33.3g イソプロピルアルコール 18.4g 水 44.0g ソルスパースS20000(ゼネカ株式会社製) 1.35g ソルスパースS12000(ゼネカ株式会社製) 0.23g カーボンブラック(粒子径24nm) 5g 着色剤層3 下記組成の混合物をペイントシェーカーで均一分散した
後、カーボンブラックの塗布量が0.67g/m2となる
ように塗布した。 硝酸セルロース(RS 1/2秒、ダイセル化学工業(株)製) 5g イソプロピルアルコール 2.14g メチルイソブチルケトン 26.6g メチルエチルケトン 62.0g ソルスパースS20000(ゼネカ株式会社製) 1.35g ソルスパースS12000(ゼネカ株式会社製) 0.23g カーボンブラック(粒子径24nm) 5g 着色剤層4 下記組成の混合物をペイントシェーカーで均一分散した
後、カーボンブラックの塗布量が0.67g/m2となる
ように塗布した。 ポリビニルアルコール(PVA-405 クラレ(株)製) 5g 水 91.5g 界面活性剤−2 0.75g カーボンブラック(粒子径24nm) 5g
【0051】<オーバーコート層の作製>以下に示すオ
ーバーコート層を前記の着色剤層の上に塗布し、試料1
〜20を作製した。 オーバーコート層1 下記組成の塗布液をポリビニルアルコール塗布量0.5
g/m2となるように塗布した。 ポリビニルアルコール(PVA-405 クラレ(株)製) 0.86g 界面活性剤1 0.63g 水 34.5g オーバーコート層2 下記組成の塗布液をカルボキシメチルセルロースの硝酸
エステル塗布量が0.5g/m2となるように塗布した。 前述のバインダーB液 5.75g イソプロピルアルコール 4.60g 水 19.7g オーバーコート層3 下記塗布量となるよう塗布した。 バインダーB液のカルボキシメチルセルロースの硝酸エステル 0.2g/m2 ポリテトラフルオロエチレンのビーズ(粒子サイズ2μm ) 0.15g/m2 ノニルフェノキシポリグリシドール 0.02g/m2 以上の中間層、着色層およびオーバーコート層の組み合
わせは表1に示す通りである。
【0052】
【化6】
【0053】
【化7】
【0054】
【化8】
【0055】<画像記録のための露光条件>特開平8−
48053号に記載されているのと同様な画像露光装置
のドラムに各試料をその画像形成層を外側に向けて固定
した。この装置は、移動ステージに搭載されたレンズ径
に1個のダイオードレーザーが接続されており、焦点を
試料表面に合わせている(但し、レーザー出力を上げた
い場合には、数個のダイオードレーザーを接続合波する
こと及び書き込み速度を上げられるように数個のレーザ
ーアレイが可能となるように作製されている)。使用し
たダイオードレーザーはSpectra Diode Labs製SDL−
2430(波長範囲:800〜830nm)であり、上
記レンズ系を通して得られたスポットサイズは10μm
(半値幅:7μm)、焦点面での出力は100mWであ
った。上記画像形成装置の試料を巻き付けたドラムの回
転数を変化させて照射量を変化させ、試料面の照射量を
700mJ/cm2 に設定した。また、横方向の移動に
ついては、移動ステージによってダイオードレーザーを
移動させて、照射ビームの中心間距離が7μmとなるよ
うな速度に設定した。さらに、レーザーによって照射さ
れた表面の物質の除去を効果的に行うために、特開平8
−72400号と同様な装置を用いて、レーザー照射を
しながら空気流を吹き付けて、カーボンブラックやバイ
ンダー等を除去した。
【0056】<UV領域のDmax(最高濃度)、Dm
in(最低濃度)の評価>Macbeth 社製の濃度計TD9
04(UVフィルター使用)を用いて、レーザー未照射
部分と照射部分の濃度を測定して、UV領域のDmax
(最高濃度)、Dmin(最低濃度)とした。得られた
結果を表1に示す。
【0057】
【表1】
【0058】表1より、本発明のカルボキシアルキルセ
ルロースの硝酸エステルを用いた試料がDminの点で優れ
ていることがわかる。試料4、5、11はDminは低いが
硝酸セルロースを用いているため有機溶剤が多量に必要
であり、環境上好ましくない。したがって、Dminや有機
溶剤量低減の観点で本発明が有効である。また、オーバ
ーコート層3を用いた試料19、20は他の試料に比べ
て、画像の艶消し効果が大きく、指紋付着などが見えに
くく、判読しやすい画像であった。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザーを利用して像様加熱する工程を
    施すアブレーション記録材料において、支持体上に少な
    くとも一層の着色剤層を有し、該像様加熱工程は該着色
    剤層側から行い、該着色剤層を有する側の少なくとも一
    層中に、無水グルコース単位1個あたりの硝酸エステル
    基置換度が0.05〜2.8であるカルボキシアルキル
    セルロースの硝酸エステル類を含有することを特徴とす
    るアブレーション記録材料。
  2. 【請求項2】 該着色剤層を有する側に該レーザー波長
    に吸収を有する物質を含有することを特徴とする請求項
    1記載のアブレーション記録材料。
  3. 【請求項3】 該着色剤層と支持体との間に、無水グル
    コース単位1個あたりの硝酸エステル基置換度が0.0
    5〜2.8であるカルボキシアルキルセルロースの硝酸
    エステル類を含有する中間層を有することを特徴とする
    請求項1記載のアブレーション記録材料。
  4. 【請求項4】 該着色剤層の上に、無水グルコース単位
    1個あたりの硝酸エステル基置換度が0.05〜2.8
    であるカルボキシアルキルセルロースの硝酸エステル類
    を含有するが、該着色剤は含有しないオーバーコート層
    を有することを特徴とする請求項1記載のアブレーショ
    ン記録材料。
  5. 【請求項5】 該着色剤層の上にテトラフルオロエチレ
    ンビーズを含有するが、該着色剤は含有しないオーバー
    コート層を有することを特徴とする請求項1記載のアブ
    レーション記録材料。
JP8338724A 1996-09-11 1996-12-18 アブレーション記録材料 Pending JPH10175372A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100453557C (zh) * 2003-02-19 2009-01-21 北京理工大学 纤维素甘油醚硝酸酯的制备方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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