JPH1086513A - アブレーション記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】高出力レーザーを用いて記録を行うアブレーシ
ョン記録材料において、記録材料の保存安定性、特に画
像形成後の画像安定性を改良し、指紋跡などによる画像
変色が少なく取り扱い性に優れ、かつレーザー照射部分
のＤｍｉｎが低い、アブレーション記録材料を提供す
る。 【解決手段】レーザーを利用して像様加熱する工程を施
すアブレーション記録材料において、支持体上に少なく
とも一層の画像形成層を有し、該画像形成層中に画像形
成物質として無機微粒子を含有し、支持体と画像形成層
の間に硝酸セルロースを含む中間層を少なくとも一層有
し、かつ画像形成層を有する側に該レーザー波長に吸収
を有する物質を含有することを特徴とするアブレーショ
ン記録材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザーアブレー
ション記録材料に関するものであり、特に画像形成物質
として無機微粒子を利用したアブレーション記録材料に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、電気信号をサーマルプリントヘッ
ドに与えて、画像形成させる熱転写システムが普及して
きている。一方、サーマルプリントヘッドの代わりにレ
ーザーを用いる方法も開発されており、レーザーの高出
力化に伴って普及していくものと考えられる。このよう
なシステムにおいては、記録材料中にレーザーの波長域
に強く吸収を有する物質が含まれており、吸収物質は光
エネルギーを熱エネルギーに転換してサーマルプリント
ヘッドを用いた場合と同様な効果をもたらす。また、レ
ーザーを使用した場合には、サーマルプリントヘッドに
比べて無接触であるために画像表面にキズが出ないこと
が利点であり、レーザービームが細く絞れるために画像
分解能を向上させることが可能である。

【０００３】更に最近では、高出力レーザーを用いた色
素アブレーションと呼ばれる画像形成方法が開発されて
おり、その記録材料が特開平７−１６４７５５号、同−
１４９０６３号、同７−１４９０６５号等に記載されて
おり、画像形成装置が特開平８−４８０５３号、同８−
７２４００号に開示されている。このシステムでは、支
持体上に塗布された画像色素、レーザー波長域に吸収を
有する物質（赤外吸収物質）およびバインダーからなる
色素層組成物を有する記録材料を、色素層側からレーザ
ー照射することによって画像記録が行われる。レーザー
によって与えられた得寝るキーは、レーザービームが材
料に当たったスポットで画像形成層に急激な局部変化を
起こし、それによって物質を層から追い出す。上記特許
公報によれば、これは完全に物理的な変化（例えば、溶
融、蒸発または昇華）ではなく、ある種の化学変化（例
えば、結合破壊）であり、部分的な画像色素の除去では
なく、完全な除去であるという。

【０００４】このような色素アブレーション画像形成方
法の有用性は、レーザー露光で画像形成色素を除去する
ことができる効率によって、大きく左右される。この効
率を示す尺度として、レーザー露光部の最小濃度値（Ｄ
ｍｉｎ）が用いられ、値が小さいほど色素除去効率が高
いことを示す。しかしながら、これらの色素アブレーシ
ョン材料は、画像部（レーザー未照射部）が色素で構成
されているため、露光後の材料の画像の安定性が悪く、
また指紋跡など他のものに接触した部分で画像変色が起
こる等の問題があった。一方、色素以外の画像形成物質
では結合破壊が起こりにくく、レーザーによる除去効率
を示す上記Ｄｍｉｎの値が高いため実用的でなかった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、公知
の色素アブレーション記録材料の問題点を解決した新し
いアブレーション記録材料を提供すること、すなわち、
高出力レーザーを用いて記録を行うアブレーション記録
材料において、記録材料の保存安定性、特に画像形成後
の画像安定性を改良し、指紋跡などによる画像変色が少
なく取り扱い性に優れ、かつレーザー照射部分のＤｍｉ
ｎが低い、アブレーション記録材料を提供することであ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、レーザ
ーを利用して像様加熱する工程を施すアブレーション記
録材料において、支持体上に少なくとも一層の画像形成
層を有し、該画像形成層中に画像形成物質として無機微
粒子を含有し、支持体と画像形成層の間に硝酸セルロー
スを含む中間層を少なくとも一層有し、かつ画像形成層
を有する側に該レーザー波長に吸収を有する物質を含有
することを特徴とするアブレーション記録材料によって
達成された。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明においては、下記の実施態
様が特に好ましい。 １）該画像記録材料としての無機微粒子が、カーボンブ
ラックおよび／またはコロイド銀であることを特徴とす
る上記の解決手段に述べたアブレーション記録材料。 ２）該レーザー波長に吸収を有する物質が、該中間層に
含有されていることを特徴とする上記の解決手段に述べ
たアブレーション記録材料。 ３）支持体をはさんで画像形成層とは反対側にバック層
を有し、該バック層の最外層表面のベック平滑度が４０
００秒以下であることを特徴とする上記の解決手段に述
べたアブレーション記録材料。 ４）画像形成層の上にテトラフルオロエチレンビーズを
含有するが画像形成物質としての無機微粒子を含有しな
いオーバーコート層を有することを特徴とする上記の解
決手段に述べたアブレーション記録材料。

【０００８】本発明で画像形成物質として用いる無機微
粒子としては、カーボンブラック、グラファイト、コロ
イド銀、硫化銀コロイド、金属酸化物等が含まれる。本
発明に用いる無機微粒子を塗布した場合の色としては、
印刷製版用途の画像形成の場合はＵＶ領域に吸収を有す
ることが必要であり、医療用途の場合には、黒色である
ことが必要である。このため、無機微粒子の色を与える
粒子サイズもさまざまであるが、５〜５００ｎｍの粒子
サイズが好ましく、特に５〜２５０ｎｍの粒子サイズが
好ましい。画像形成層における無機微粒子の塗布量は、
レーザー未照射部分で濃度２．５以上（印刷用途の場合
はＵＶ領域の吸収値、医療用途の場合は可視域の吸収
値）の吸収を有する塗布量であればどの程度でもよく、
その量は使用する無機微粒子の種類、サイズによっても
異なる。例えば、カーボンブラック（一次粒径として８
０ｎｍ）の場合は塗布量０．５ｇ／ｍ² で、ＵＶ濃度
４．２、可視濃度３．８であり、コロイド銀（粒径２０
ｎｍ）の場合は塗布量０．５ｇ／ｍ² で、ＵＶ濃度３．
５、可視濃度０．４である。これらの無機微粒子でレー
ザー波長に吸収を有するものは、レーザー波長吸収物質
と、画像形成物質の両者の役割を兼ねることができるの
で、これ以外のレーザー波長吸収物質が必要なくなる、
もしくは量を低減できる点で好ましい。

【０００９】本発明に用いる無機微粒子の製法は、上記
粒子サイズを満たす製法のものであればいずれでもよ
い。例えば、カーボンブラック原料としては、Donnel V
oet 著の"Carbon Black" Marcel Dekker,Inc.(1976) に
記載されているようなチャンネル法、サーマル法、およ
びファーネス法など任意の製法のものがしようできる。

【００１０】本発明に用いる無機微粒子を塗布するバイ
ンダーとしては、無機微粒子を分散させうるものならば
何れでも良く、例えばポリビニルアルコール、ゼラチ
ン、ポリエステル等が好ましい。

【００１１】本発明のアブレーション記録材料は、支持
体と画像形成層の間に硝酸セルロースを含む中間層を設
ける。これは硝酸セルロースを用いることによりアブレ
ーション効率が上がり、前述のレーザー照射部のＤｍｉ
ｎを低減できるからである。ところが、硝酸セルロース
を画像形成層に用いると、無機微粒子の凝集によるＤｍ
ａｘの低下が起こるため、品質上好ましくない。中間層
に硝酸セルロースを用いることで、アブレーション効率
を低下させることなくこの問題が解決できることを見い
だした。本発明の中間層には、画像形成層やオーバーコ
ート層に用いられる他の任意のバインダーを組み合わせ
て用いても良い。中間層の硝酸セルロースの塗布量とし
ては、可能な限りＤｍｉｎが低減できる量ならばいずれ
でもよいが、０．０５〜２ｇ／ｍ² が好ましく、更には
０．１〜１．５ｇ／ｍ² が好ましい。また、中間層を支
持体との密着を兼ねる層、例えば下塗り層としてもよ
く、その場合の硝酸セルロースの塗布量としては０．０
５〜０．５ｇ／ｍ² が好ましい。

【００１２】前述したバインダー以外で、本発明の記録
材料の画像形成層側に用いられる高分子バインダーとし
ては、米国特許第５３３０８７６号に記載されているよ
うなサイズ排除クロマトグラフィーで測定したポリスチ
レン等価分子量が１０万以上で、分解性のポリマーが好
ましい。ここで分解性とは、レーザー画像化の際に得ら
れる温度において素早く熱分解して十分量の気体および
揮発性フラグメントを与えるバインダーか、あるいは少
量の酸存在下で分解温度が著しく低下するバインダーを
意味する。

【００１３】本発明のオーバーコート層に使用するポリ
テトラフルオロエチレンビーズは、意図する目的のため
に有効な任意の濃度または粒子サイズで使用することが
できる。一般的に、このビーズは約１〜約１００μｍ、
好ましくは約５〜約５０μｍの範囲内の粒子サイズを有
している。ビーズの塗布量は約０．００５〜約５．０ｇ
／ｍ² 、好ましくは約０．０５〜約０．５ｇ／ｍ² の範
囲であって良い。ビーズは球状である必要はなく、任意
の形状のものであってよい。本発明のオーバーコート層
は、特開平８−１０８６２２号に記載されているよう
に、耐引掻性、耐磨耗性および艶消し仕上げを付与する
上で有効である。

【００１４】本発明の記録材料においては、ビーズを含
有するオーバーコート層のバインダーとしては、任意の
ポリマー物質を使用することができる。例えば、セルロ
ース誘導体、例えば硝酸セルロース、セルロースアセテ
ート水素フタレート、セルロースアセテート、セルロー
スアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブ
チレート、セルトーストリアセテート、ヒドロキシプロ
ピルセルロースエーテル、エチルセルロースエーテル；
ポリカーボネート；ポリウレタン；ポリエステル；ポリ
（酢酸ビニル）；ポリ（塩化ビニル）およびポリ（塩化
ビニル）コポリマーのようなポリ（ハロゲン化ビニ
ル）；ポリ（ビニルエーテル）；無水マレイン酸コポリ
マー；ポリスチレン；ポリ（スチレン−共−アクリロニ
トリル）；ポリスルホン；ポリ（フェニレンオキシ
ド）；ポリ（エチレンオキシド）；ポリ（ビニルアセタ
ール）、ポリ（ビニルアセタール−共−ブチラール）ま
たはポリ（ビニルベンザール）のようなポリ（ビニルア
ルコール−共−アゼタール）；またはこれらの混合物も
しくはコポリマーを使用することができる。オーバーコ
ート層のバインダーは約０．１〜約５ｇ／ｍ² の塗布量
で使用することができる。

【００１５】本発明のレーザーアブレーションによる画
像形成では、アブレートされた材料が支持体から離れて
周囲の空気中に散らばる。このアブレートされた材料の
中にはレーザー装置の周囲に集まり、レーザーで書き込
まれた部分に堆積するものがある。この堆積物はレーザ
ー光を遮り、前述のＤｍｉｎを許容レベル以上に増加さ
せ、画質を実用に耐えなくさせてしまう場合がある。こ
のアブレートされた材料を空気流により除去することが
望ましく、そのような除去装置が特開平８−７２４００
号に記載されている。

【００１６】本発明のアブレーション記録材料は、特開
平８−４８０５３号に開示されているように、レーザー
照射後の最小記録濃度（Ｄｍｉｎ）が０．１１以下であ
ることが好ましい。これはこの濃度以下であると目に見
えるラスターラインが大幅に削減されるからである。こ
のためにはレーザーダイオードによって発生される書き
込み用レーザー光線の記録材料上での強度が１．０ミリ
ワット／平方ミクロン（ｍＷ／μｍ² ）以上であること
が好ましい。

【００１７】本発明の方法を使用してレーザーアブレー
ション画像を得るためには、７００ｎｍ以上に発光を有
する赤外域のダイオートレーザーを使用することが好ま
しい。これは、大きさが小さいこと、コストが低いこ
と、安定性が良好であること、信頼性が良好であるこ
と、頑丈であること、変調がしやすいことといった実質
的な利点があるからである。本発明で用いることのでき
るレーザーは市販されている。例えば、スペクトラダイ
オード研究所（Spectra Diode Labs) からのレーザーモ
デルＳＤＬ−２４２０−Ｈ２またはソニー株式会社から
のレーザーモデルＳＬＤ３０４Ｖ／Ｗを使用することが
できる。

【００１８】実用に際しては、アブレーション記録材料
に赤外吸収物質、例えばカーボンブラック、または米国
特許４９７３５７２号に記載されているシアニン赤外吸
収色素、または米国特許４９４８７７７号、同４９５０
６４０号、同４９５０６３９号、同４９４８７７６号、
同４９４８７７８号、同４９４２１４１号、同４９５２
５５２号、同５０３６０４０号、同４９１２０８３号、
同５３６０６９４号、同５３８０６３５号および特願平
８−１８９８１７号に記載されている赤外吸収物質を含
有させる。本発明に好ましく用いられる赤外吸収物質の
代表例を以下に示すが、これらに限定されるものではな
い。

【００１９】

【化１】

【００２０】

【化２】

【００２１】レーザー光線は画像形成層中に吸収され、
そして内部変換として知られる分子過程によって熱に変
換される。上記の熱変換のための赤外吸収物質は画像形
成層自身に含まれていても、又これと組み合わされた別
の層、すなわち画像形成層の上層や下層に含まれても良
い。本発明の方法におけるレーザー照射はアブレーショ
ン記録材料の画像形成層を通して行われるので、本発明
の画像形成は単シート法（すなわち、別の受容材料を必
要としない方法）であることができる。本発明に用いら
れる赤外吸収物質の塗布量はレーザー波長の吸光度で
０．５以上、更には１．０以上、特に１．５以上を与え
る量が好ましい。

【００２２】本発明のアブレーション記録材料のバック
層のベック平滑度は、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｐ８１１
９「紙および板紙のベック試験器による平滑度試験方
法」およびＴＡＰＰＩ標準法Ｔ４７９により容易に求め
ることができる。本発明のアブレーション記録材料のバ
ック層の最外層表面のベック平滑度は、４０００秒以下
であり、より好ましくは１０秒〜４０００秒である。こ
れは記録材料同士の接着性や剥離性の点から重要であ
る。

【００２３】ベック平滑度は、前記バック層の最外層に
含有させるマット剤の平均粒径および添加量を種々変化
させることによってコントロールすることができる。本
発明において好ましいマット剤の平均粒径は、２０μｍ
以下であり、特に０．４〜１０μｍの範囲である。本発
明において好ましいマット剤の添加量は、５〜４００mg
／m²、特に１０〜２００mg／m²の範囲である。

【００２４】本発明に用いられるマット剤は、取り扱い
性の上で悪影響を及ぼさない固体粒子であれば、どのよ
うなものでもよい。無機系のマット剤としては、二酸化
ケイ素、チタンおよびアルミニウムの酸化物、亜鉛およ
びカルシウムの炭酸塩、バリウムおよびカルシウムの硫
酸塩、カルシウムおよびアルミニウムのケイ酸塩など、
有機系のマット剤としては、セルロースエステル類、ポ
リメチルメタクリレート、ポリスチレンまたはポリジビ
ニルベンゼンおよびこれらのコポリマーなどの有機重合
体のマット剤が挙げられる。

【００２５】本発明では、特開平３−１０９５４２号公
報２頁左下欄８行目〜３頁右上欄４行目に記載された多
孔性のマット剤、特開平４−１２７１４２号公報３頁右
上欄７行目〜５頁右下欄４行に記載されたアルカリで表
面修飾したマット剤、特願平４−２６５９６２号明細書
の段落番号「０００５」から「００２６」に記載された
有機重合体のマット剤を用いることがより好ましい。

【００２６】また、これらのマット剤を２種以上併用し
てもよい。例えば、無機系のマット剤と有機系のマット
剤の併用、多孔性のマット剤と非多孔性のマット剤の併
用、不定形のマット剤と球形のマット剤の併用、平均粒
径の異なるマット剤の併用（例えば特願平４−２６５９
６２号に記載されている平均粒径が１．５μｍ以上のマ
ット剤と平均粒径が１μｍ以下のマット剤の併用）など
がある。

【００２７】本発明において、表面抵抗率が２５℃３０
％ＲＨの雰囲気下で１０¹²Ω以下の層（以下「導電層」
と記す）を付与しても良い。導電性物質として、導電性
金属酸化物あるいは導電性高分子化合物などを用いるこ
とによって得られる。本発明に用いられる導電性金属酸
化物として好ましいのは結晶性の金属酸化物粒子である
が、酸素欠陥を含むもの及び用いられる金属酸化物に対
してドナーを形成する異種原子を少量含むもの等は一般
的に言って導電性が高いので特に好ましい。金属酸化物
の例としては、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂ 、ＳｎＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ
₃ 、Ｉｎ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＭｏＯ
₃ 、Ｖ₂ Ｏ₅ 等、あるいはこれらの複合酸化物が良く、
特にＺｎＯ、ＴｉＯ₂ 及びＳｎＯ₂ が好ましい。異種原
子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉ
ｎ等の添加、ＳｎＯ₂ に対してはＳｂ、Ｎｂ、ハロゲン
元素等の添加、またＴｉＯ₂ に対してはＮｂ、Ｔａ等の
添加が効果的である。これら異種原子の添加量は０．０
１mol ％〜３０mol％の範囲が好ましいが、０．１mol
％〜１０mol ％であれば特に好ましい。

【００２８】本発明に好ましく用いる金属酸化物微粒子
は導電性を有しており、その体積抵抗率は１０⁷ Ω-cm
以下、特に１０⁵ Ω-cm 以下であることが好ましい。こ
れらの酸化物については特開昭５６−１４３４３１号、
同５６−１２０５１９号、同５８−６２６４７号などに
記載されている。更に又、特公昭５９−６２３５号に記
載のごとく、他の結晶性金属酸化物粒子あるいは繊維状
物（例えば酸化チタン）に上記の金属酸化物を付着させ
た導電性素材を使用してもよい。利用できる粒子サイズ
は１０μ以下が好ましいが、２μ以下であると分散後の
安定性が良く使用し易い。また光散乱性をできるだけ小
さくする為に、０．５μ以下の導電性粒子を利用するこ
とが好ましい。これによって、導電層を設けても支持体
を透明に保つことが可能になるからである。又、導電性
材料が針状あるいは繊維状の場合はその長さは３０μｍ
以下で直径が２μ以下が好ましく、特に好ましいのは長
さが２５μｍ以下で直径０．５μ以下であり長さ／直径
比が３以上である。

【００２９】本発明に用いられる導電性高分子化合物と
しては、例えばポリビニルベンゼンスルホン酸塩類、ポ
リビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、米
国特許第４，１０８，８０２号、同４，１１８，２３１
号、同４，１２６，４６７号、同４，１３７，２１７号
に記載の４級塩ポリマー類、米国特許第４，０７０，１
８９号、ＯＬＳ２，８３０，７６７号、特開昭６１−２
９６３５２号、同６１−６２０３３号等に記載のポリマ
ーラテックス等が好ましい。以下に本発明の導電性高分
子化合物の具体例を示すが、必ずしもこれらに限定され
るものではない。

【００３０】

【化３】

【００３１】

【化４】

【００３２】本発明に用いられる導電性金属酸化物又は
導電性高分子化合物はバインダー中に分散又は溶解させ
て用いられる。バインダーとしては、フィルム形成能を
有するものであれば特に限定されるものではないが、例
えばゼラチン、カゼイン等の蛋白質、カルボキシメチル
セルロース、ヒドロキシエチルセルロース、アセチルセ
ルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロ
ース等のセルロース化合物、デキストラン、寒天、アル
ギン酸ソーダ、澱粉誘導体等の糖類、ポリビニルアルコ
ール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸エステル、ポリ
メタクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリアクリルア
ミド、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリエステル、ポ
リ塩化ビニル、ポリアクリル酸等の合成ポリマー等を挙
げることができる。特に、ゼラチン（石灰処理ゼラチ
ン、酸処理ゼラチン、酵素分解ゼラチン、フタル化ゼラ
チン、アセチル化ゼラチン等）、アセチルセルロース、
ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ポリ
酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ブ
チル、ポリアクリルアミド、デキストラン等が好まし
い。

【００３３】本発明に用いられる導電性金属酸化物ある
いは導電性高分子化合物をより効果的に使用して導電層
の抵抗を下げるために、導電層中における導電性物質の
体積含有率は高い方が好ましいが、層としての強度を十
分に持たせるために最低５％程度のバインダーが必要で
あるので、導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合
物の体積含有率は５〜９５％の範囲が望ましい。本発明
に用いる導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物
の使用量は、写真感光材料一平方メートル当たり０．０
５〜２０ｇが好ましく、特に０．１〜１０ｇが好まし
い。本発明の導電層の表面抵抗率は２５℃３０％ＲＨの
雰囲気下で１０¹²Ω以下で、好ましくは１０¹¹Ω以下が
良い。これにより良好な帯電防止性が得られる。本発明
に用いる導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物
を含有する導電層は、構成層として少なくとも一層設け
ることが好ましい。例えば、表面保護層、バック層、下
塗層などのいずれでもよいが、必要に応じて２層以上設
けることもできる。

【００３４】本発明においては、上記導電性物質の他
に、更に含フッ素界面活性剤を併用することによって更
に良好な帯電防止性を得ることができる。本発明に用い
られる好ましい含フッ素界面活性剤としては、炭素数４
以上のフルオロ−アルキル基、アルケニル基、又はアリ
ール基を有し、イオン性基としてアニオン基（スルホン
酸（塩）、硫酸（塩）、カルボン酸（塩）、リン酸
（塩））、カチオン基（アミン塩、アンモニウム塩、芳
香族アミン塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩）、ベ
タイン基（カルボキシアミン塩、カルボキシアンモニウ
ム塩、スルホアミン塩、スルホアンモニウム塩、ホスホ
アンモニウム塩）又はノニオン基（置換、無置換のポリ
オキシアルキレン基、ポリグリセリル基またはソルビタ
ン残基）を有する界面活性剤が挙げられる。これらの含
フッ素界面活性剤は特開昭４９−１０７２２号、英国特
許第１，３３０，３５６号、米国特許第４，３３５，２
０１号、同４，３４７，３０８号、英国特許第１，４１
７，９１５号、特開昭５５−１４９９３８号、同５８−
１９６５４４号、英国特許第１，４３９，４０２号、な
どに記載されている。これらの具体例のいくつかを以下
に記す。

【００３５】

【化５】

【００３６】本発明に用いられる色素アブレーション記
録材料の支持体には、寸度安定性があり、しかもレーザ
ーの熱に耐えられるならば、いずれの材料でも使用でき
る。このような材料としては、ポリ（エチレンナフタレ
ート）、ポリ（エチレンテレフタレート）などのポリエ
ステル；ポリアミド；ポリカーボネート；酢酸セルロー
スなどのセルロースエステル；ポリ（フッ化ビニリデ
ン）やポリ（テトラフルオロエチレン−共−ヘキサフル
オロプロピレン）などのフッ素ポリマー；ポリオキシメ
チレンなどのポリエーテル；ポリアセタール；ポリスチ
レン、ポリエチレン、ポリプロピレンもしくはメチルペ
ンテンポリマーなどのポリオレフィンおよびポリイミド
−アミドやポリエーテルイミドなどのポリイミドが含ま
れる。支持体の厚さは、一般に約５〜約２００μｍであ
る。また所望であれば、米国特許４６９５２８８号、同
４７３７４８６号に記載されているような下塗り層を支
持体に塗布してもよい。好ましい実施態様では支持体は
透明である。

【００３７】本発明において、画像の耐久性を更に高め
るためにもちいられる、レーザー照射後の画像形成層を
有する側の表面の画像保護の方法に関しては、例えば特
表平５−５０４００８号、特開平６−３４４６７６号に
記載されているような画像保護用積層性シートを積層す
ることにより達成される。これらの方法は、耐久性層を
画像に面するようにして、耐久性層と支持体とを含む積
層用シートを画像に積層させることにより行われる。次
に画像が耐久性層で保護されたまま残るように支持体層
は画像から取り外される。該耐久性層は実質的に透明か
つ対磨耗性を有する。特に、特開平６−３４４６７６号
に記載される保護方法を採用すれば、印刷において用い
られる強力な接着剤テープの繰り返しの使用および保護
された画像の繰り返しの溶剤洗浄に対しても耐久性層の
剥離がない。

【００３８】本発明で用いられる耐久性層材料として
は、特開平６−３４４６７６号に記載のシロキサンを含
有する重合有機材料を使用することができる。シロキサ
ン含有重合材料はどのような方法で作成してもよいが、
例えばビニルエーテル機で官能化された有機単量体また
はオリゴマーと、シロキサン単量体またはオリゴマーと
を共重合化することにより作製される。画像上の耐久性
層は３０μｍ以下の厚みを有するが、解像度の望ましく
ない損失を防止するためには、１０μｍ以下の厚みを有
するのが好ましく、より好ましくは、０．５〜６μｍの
範囲である。

【００３９】

【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説
明するが本発明はこれに限定されるものではない。

【００４０】実施例１ ＜バック層の作製＞二軸延伸したポリエチレンテレフタ
レート支持体（厚味１００μｍ）の片面に下記組成の下
塗層第１層及び第２層を塗布した。 ＜下塗層第１層＞ コアーシェル型塩化ビニリデン共重合体 １５ｇ ２，４−ジクロル−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン ０．２５ｇ ポリスチレン微粒子（平均粒径３μ） ０．０５ｇ 化合物−Ａ ０．２０ｇ コロイダルシリカ（スノーテックスＺＬ：粒径７０〜 １００μｍ日産化学（株）製） ０．１２ｇ 水を加えて １００ｇ さらに、１０重量％のＫＯＨを加え、ｐＨ＝６に調整し
た塗布液を乾燥温度１８０℃２分間で、乾燥膜厚が０．
９μになる様に塗布した。

【００４１】 ＜下塗層第２層＞ ゼラチン １ｇ メチルセルロース ０．０５ｇ 化合物−Ｂ ０．０２ｇ C₁₂H₂₅O(CH₂CH₂O)₁₀H ０．０３ｇ 化合物−Ｃ ３．５×１０^-3ｇ 酢酸 ０．２ｇ 水を加えて １００ｇ この塗布液を乾燥温度１７０℃２分間で、乾燥膜厚が
０．１μになる様に塗布し、下塗層を含む支持体を作製
した。

【００４２】上記下塗層第２層の上に、下記に示す導電
層及びバック層を同時塗布した。 ＜導電層塗布液の調製とその塗布＞ゼラチン水溶液に下
記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が０．０６ｇ／m²と
なるように塗布した。 SnO₂/Sb(9/1 重量比、平均粒径0.25μ) １８６mg／ｍ² ゼラチン（Ca 含有量３０００ppm) ６０mg／ｍ² ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム １３mg／ｍ² ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム １２mg／ｍ² 化合物Ｄ １２mg／ｍ² 化合物Ｃ １mg／ｍ²

【００４３】＜バック層塗布液の調製とその塗布＞ゼラ
チン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が
１．９４ｇ／ｍ²となるように塗布した。 ゼラチン（Ca 含有量３０ppm) １．９４mg／ｍ² ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒径４．７μ） ７mg／ｍ² 化合物Ｃ ３mg／ｍ² ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ６８mg／ｍ² ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム ２１mg／ｍ² Ｃ₈Ｈ₁₇ＳＯ₃Ｌｉ ４mg／ｍ² Ｎ−パーフルオロオクタンスルホニル−Ｎ−プロピル グリシンポタジウム ６mg／ｍ² 硫酸ナトリウム １７７mg／ｍ² 酢酸ナトリウム ４０mg／ｍ² 化合物Ｅ（硬膜剤） 水での膨潤率が９０％になる量 このバック層のベック平滑度は４００秒であった。

【００４４】＜中間層の作製＞以下に示す組成の塗布液
を前記のパック層を塗布した１００μ厚みのポリエチレ
ンテレフタレート透明支持体の反対側に塗布し、７種の
中間層を作製した。 中間層１ ポリビニルブチラール（Monsanto社製Butvar B76) ０．５ｇ／ｍ² 中間層２ ポリビニルブチラール（Monsanto社製Butvar B76) ０．５ｇ／ｍ² 例示赤外吸収物質（１） ０．２５ｇ／ｍ² 中間層３ 硝酸セルロース（RS1000秒、ダイセル化学工業（株）製）０．５ｇ／ｍ² 中間層４ 硝酸セルロース（RS1000秒、ダイセル化学工業（株）製）０．５ｇ／ｍ² 例示赤外吸収物質（１） ０．２５ｇ／ｍ² 中間層５ 硝酸セルロース（RS1000秒、ダイセル化学工業（株）製）０．５ｇ／ｍ² 例示赤外吸収物質（１） ０．２５ｇ／ｍ² 中間層６ 硝酸セルロース（RS2000秒、ダイセル化学工業（株）製）０．５ｇ／ｍ² 中間層７ ポリビニルアルコール（PVA-405 クラレ（株）製） ０．５ｇ／ｍ² 界面活性剤１ ０．０２ｇ／ｍ²

【００４５】＜画像形成層の作製＞上記中間層の上に下
記に示す６種の画像形成層を塗布した。 画像形成層１ カーボンブラック（一次粒子サイズとして80nm） ０．５ｇ／ｍ² ポリビニルアルコール（PVA-405 クラレ（株）製） ０．６７ｇ／ｍ² 界面活性剤２ ０．０３ｇ／ｍ² 画像形成層２ カーボンブラック（一次粒子サイズとして80nm） ０．５ｇ／ｍ² ゼラチン ０．６７ｇ／ｍ² 界面活性剤２ ０．０３ｇ／ｍ² 画像形成層３ カーボンブラック（一次粒子サイズとして80nm） ０．５ｇ／ｍ² ポリビニルアルコール（PVA-405 クラレ（株）製） ０．６７ｇ／ｍ² 例示赤外吸収物質（１） ０．１０ｇ／ｍ² 界面活性剤２ ０．０３ｇ／ｍ² 画像形成層４ コロイド銀（粒子サイズ20nm） ０．５ｇ／ｍ² ゼラチン ０．６７ｇ／ｍ² 界面活性剤２ ０．０３ｇ／ｍ² 画像形成層５ コロイド銀（粒子サイズ20nm） ０．５ｇ／ｍ² ゼラチン ０．６７ｇ／ｍ² 例示赤外吸収物質（１） ０．２５ｇ／ｍ² 界面活性剤２ ０．０３ｇ／ｍ² 画像形成層６ コロイド銀（粒子サイズ20nm） ０．３５ｇ／ｍ² コロイド銀（粒子サイズ120nm） ０．２５ｇ／ｍ² ゼラチン ０．６７ｇ／ｍ² 例示赤外吸収物質（１） ０．２５ｇ／ｍ² 界面活性剤２ ０．０３ｇ／ｍ²

【００４６】＜オーバーコート層の作製＞上記画像形成
層の上に下記オーバーコート層を塗布し、試料１〜１８
を作製した。 オーバーコート層１ ポリビニルアルコール（PVA-405 クラレ（株）製） ０．５ｇ／ｍ² 界面活性剤２ ０．０２ｇ／ｍ² オーバーコート層２ ポリウレタン ０．１ｇ／ｍ² ポリエチレン／ポリテトラフルオロエチレンのビーズ （粒子サイズ６〜８μｍ） ０．１５ｇ／ｍ² ノニルフェノキシポリグリシドール ０．０２ｇ／ｍ² 以上の中間層、画像形成層およびオーバーコート層の組
み合わせは表１に示すとおりである。

【００４７】

【化６】

【００４８】

【化７】

【００４９】

【化８】

【００５０】＜画像記録のための露光条件＞特開平８−
４８０５３号に記載されているのと同様な画像露光装置
のドラムに各試料をその画像形成層を外側に向けて固定
した。この装置は、移動ステージに搭載されたレンズ径
に１個のダイオードレーザーが接続されており、焦点を
試料表面に合わせている（但し、レーザー出力を上げた
い場合には、数個のダイオードレーザーを接続合波する
ことが可能なようになっている）。使用したダイオード
レーザーはSpectra Diode Labs製ＳＤＬ−２４３０（波
長範囲：８００〜８３０ｎｍ）であり、上記レンズ系を
通して得られたスポットサイズは１０μｍ（半値幅：７
μｍ）、焦点面での出力は１００ｍＷであった。上記画
像形成装置の試料を巻き付けたドラムの回転数を変化さ
せて照射量を変化させ、試料面の照射量を７００ｍＪ／
ｃｍ² に設定した。また、横方向の移動については、移
動ステージによってダイオードレーザーを移動させて、
照射ビームの中心間距離が７μｍとなるような速度に設
定した。さらに、レーザーによって照射された表面の物
質の除去を効果的に行うために、特開平８−７２４００
号と同様な装置を用いて、レーザー照射をしながら空気
流を吹き付けて、カーボンブラックないしコロイド銀等
の無機微粒子やバインダー等を除去した。

【００５１】＜ＵＶ領域のＤｍａｘ（最高濃度）、Ｄｍ
ｉｎ（最低濃度）の評価＞Macbeth 社製の濃度計ＴＤ９
０４（ＵＶフィルター使用）を用いて、レーザー未照射
部分と照射部分の濃度を測定して、ＵＶ領域のＤｍａｘ
（最高濃度）、Ｄｍｉｎ（最低濃度）とした。得られた
結果を表１に示す。

【００５２】

【表１】

【００５３】表１より、本発明の中間層に硝酸セルロー
スを用いた試料がＤｍｉｎの点で優れていることが分か
る。このことより本発明の有効性は明らかである。ま
た、オーバーコート層２を用いた試料１７、１８は他の
試料に比べて、画像の艶消し効果が大きく、指紋付着な
どが見えにくく、判読しやすい画像であった。

【００５４】実施例２ 実施例１で作製した試料３、１２と色素アブレーション
の比較試料として特開平８−１０８６２２号に記載され
た試料Ｃ−１と同じ試料を作製して、レーザー未照射部
分の画像安定性について評価した。評価法は、下記の条
件で各試料を保存し、３６０ｎｍ（ＵＶ領域）の波長で
その吸光度変化を保存前と保存後とで比較することによ
り、変化幅（％）という形で評価した。 ＜画像安定性評価条件＞ ６０℃、ドライ条件 ３日 ６０℃、湿度７０％ＲＨ ３日

【００５５】

【表２】

【００５６】表２より、色素アブレーション記録材料
（試料Ｃ−１）に比較して、本発明の試料の方が画像安
定性の点で有利であることが明らかである。

【手続補正書】

【提出日】平成９年１月８日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００３

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００３】更に最近では、高出力レーザーを用いた色
素アブレーションと呼ばれる画像形成方法が開発されて
おり、その記録材料が特開平７−１６４７５５号、同−
１４９０６３号、同７−１４９０６５号等に記載されて
おり、画像形成装置が特開平８−４８０５３号、同８−
７２４００号に開示されている。このシステムでは、支
持体上に塗布された画像色素、レーザー波長域に吸収を
有する物質（赤外吸収物質）およびバインダーからなる
色素層組成物を有する記録材料を、色素層側からレーザ
ー照射することによって画像記録が行われる。レーザー
によって与えられたエネルギーは、レーザービームが材
料に当たったスポットで画像形成層に急激な局部変化を
起こし、それによって物質を層から追い出す。上記特許
公報によれば、これは完全に物理的な変化（例えば、溶
融、蒸発または昇華）ではなく、ある種の化学変化（例
えば、結合破壊）であり、部分的な画像色素の除去では
なく、完全な除去であるという。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００９

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００９】本発明に用いる無機微粒子の製法は、上記
粒子サイズを満たす製法のものであればいずれでもよ
い。例えば、カーボンブラック原料としては、Donnel V
oet 著の"Carbon Black" Marcel Dekker,Inc.(1976) に
記載されているようなチャンネル法、サーマル法、およ
びファーネス法など任意の製法のものが使用できる。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３３】本発明に用いられる導電性金属酸化物ある
いは導電性高分子化合物をより効果的に使用して導電層
の抵抗を下げるために、導電層中における導電性物質の
体積含有率は高い方が好ましいが、層としての強度を十
分に持たせるために最低５％程度のバインダーが必要で
あるので、導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合
物の体積含有率は５〜９５％の範囲が望ましい。本発明
に用いる導電性金属酸化物あるいは導電性高分子化合物
の使用量は、アブレーション記録材料一平方メートル当
たり０．０５〜２０ｇが好ましく、特に０．１〜１０ｇ
が好ましい。本発明の導電層の表面抵抗率は２５℃３０
％ＲＨの雰囲気下で１０¹²Ω以下で、好ましくは１０¹¹
Ω以下が良い。これにより良好な帯電防止性が得られ
る。本発明に用いる導電性金属酸化物あるいは導電性高
分子化合物を含有する導電層は、構成層として少なくと
も一層設けることが好ましい。例えば、表面保護層、バ
ック層、下塗層などのいずれでもよいが、必要に応じて
２層以上設けることもできる。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３６】本発明に用いられるアブレーション記録材
料の支持体には、寸度安定性があり、しかもレーザーの
熱に耐えられるならば、いずれの材料でも使用できる。
このような材料としては、ポリ（エチレンナフタレー
ト）、ポリ（エチレンテレフタレート）などのポリエス
テル；ポリアミド；ポリカーボネート；酢酸セルロース
などのセルロースエステル；ポリ（フッ化ビニリデン）
やポリ（テトラフルオロエチレン−共−ヘキサフルオロ
プロピレン）などのフッ素ポリマー；ポリオキシメチレ
ンなどのポリエーテル；ポリアセタール；ポリスチレ
ン、ポリエチレン、ポリプロピレンもしくはメチルペン
テンポリマーなどのポリオレフィンおよびポリイミド−
アミドやポリエーテルイミドなどのポリイミドが含まれ
る。支持体の厚さは、一般に約５〜約２００μｍであ
る。また所望であれば、米国特許４６９５２８８号、同
４７３７４８６号に記載されているような下塗り層を支
持体に塗布してもよい。好ましい実施態様では支持体は
透明である。

【手続補正５】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４０

【補正方法】変更

【補正内容】

【００４０】実施例１ ＜バック層の作製＞二軸延伸したポリエチレンテレフタ
レート支持体（厚み１００μｍ）の片面に下記組成の下
塗層第１層及び第２層を塗布した。 ＜下塗層第１層＞ コアーシェル型塩化ビニリデン共重合体 １５ｇ ２，４−ジクロル−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン ０．２５ｇ ポリスチレン微粒子（平均粒径３μ） ０．０５ｇ 化合物−Ａ ０．２０ｇ コロイダルシリカ（スノーテックスＺＬ：粒径７０〜 １００μｍ日産化学（株）製） ０．１２ｇ 水を加えて １００ｇ さらに、１０重量％のＫＯＨを加え、ｐＨ＝６に調整し
た塗布液を乾燥温度１８０℃２分間で、乾燥膜厚が０．
９μになる様に塗布した。

【手続補正６】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００４３

【補正方法】変更

【補正内容】

【００４３】＜バック層塗布液の調製とその塗布＞ゼラ
チン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が
１．９４ｇ／ｍ²となるように塗布した。 ゼラチン（Ca 含有量３０ppm) １．９４ｇ／ｍ² ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒径４．７μ） ７mg／ｍ² 化合物Ｃ ３mg／ｍ² ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ６８mg／ｍ² ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム ２１mg／ｍ² Ｃ₈Ｈ₁₇ＳＯ₃Ｌｉ ４mg／ｍ² Ｎ−パーフルオロオクタンスルホニル−Ｎ−プロピル グリシンポタジウム ６mg／ｍ² 硫酸ナトリウム １７７mg／ｍ² 酢酸ナトリウム ４０mg／ｍ² 化合物Ｅ（硬膜剤） 水での膨潤率が９０％になる量 このバック層のベック平滑度は４００秒であった。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザーを利用して像様加熱する工程を
   施すアブレーション記録材料において、支持体上に少な
   くとも一層の画像形成層を有し、該画像形成層中に画像
   形成物質として無機微粒子を含有し、支持体と画像形成
   層の間に硝酸セルロースを含む中間層を少なくとも一層
   有し、かつ画像形成層を有する側に該レーザー波長に吸
   収を有する物質を含有することを特徴とするアブレーシ
   ョン記録材料。
2. 【請求項２】 該画像記録材料としての無機微粒子が、
   カーボンブラックおよび／またはコロイド銀であること
   を特徴とする請求項１記載のアブレーション記録材料。
3. 【請求項３】 該レーザー波長に吸収を有する物質が、
   該中間層に含有されていることを特徴とする請求項１記
   載のアブレーション記録材料。
4. 【請求項４】 支持体をはさんで画像形成層とは反対側
   にバック層を有し、該バック層の最外層表面のベック平
   滑度が４０００秒以下であることを特徴とする請求項１
   記載のアブレーション記録材料。
5. 【請求項５】 該画像形成層の上にテトラフルオロエチ
   レンビーズを含有するが画像形成物質としての無機微粒
   子を含有しないオーバーコート層を有することを特徴と
   する請求項１記載のアブレーション記録材料。