JP2001001113A - 合金薄帯並びにそれを用いた部材、及びその製造方法 - Google Patents
合金薄帯並びにそれを用いた部材、及びその製造方法Info
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁心材料を初めとする各種部品素材に好適な
単ロール法により製造されたそりが小さく連続した長尺
の合金薄帯およびそりが小さく連続した長尺の合金薄帯
の製造方法を実現する。 【構成】 単ロール法により製造された幅ｄｍｍの合金
薄帯であって、薄帯幅方向のそりが、０．２×ｄｍｍ以
下である合金薄帯である。この合金薄帯は、合金溶湯を
スリットを有するノズルから回転する金属製の冷却ロー
ル上に噴出し、単ロール法によって製造するもので、溶
湯を出湯後５秒以上経過した後の冷却ロールの表面温度
を８０℃以上３００℃以下に保ち、かつ合金薄帯の冷却
ロールからの剥離をノズルスリット直下のロール外周の
位置からロール外周にそって測定した距離で１００ｍｍ
から１５００ｍｍの範囲で行なう製造方法を採ることに
よって得られる。
単ロール法により製造されたそりが小さく連続した長尺
の合金薄帯およびそりが小さく連続した長尺の合金薄帯
の製造方法を実現する。 【構成】 単ロール法により製造された幅ｄｍｍの合金
薄帯であって、薄帯幅方向のそりが、０．２×ｄｍｍ以
下である合金薄帯である。この合金薄帯は、合金溶湯を
スリットを有するノズルから回転する金属製の冷却ロー
ル上に噴出し、単ロール法によって製造するもので、溶
湯を出湯後５秒以上経過した後の冷却ロールの表面温度
を８０℃以上３００℃以下に保ち、かつ合金薄帯の冷却
ロールからの剥離をノズルスリット直下のロール外周の
位置からロール外周にそって測定した距離で１００ｍｍ
から１５００ｍｍの範囲で行なう製造方法を採ることに
よって得られる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に磁心材料を初
めとする各種磁性部品の素材に好適な単ロール法により
製造されたそりが小さく連続した長尺の合金薄帯および
そりが小さく連続した長尺の合金薄帯の製造方法に関す
るものである。
めとする各種磁性部品の素材に好適な単ロール法により
製造されたそりが小さく連続した長尺の合金薄帯および
そりが小さく連続した長尺の合金薄帯の製造方法に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、単ロール法により合金薄帯が
製造されている。例えば、アモルファス合金薄帯は磁心
材料、蝋材、センサー、シールド、バネ材などに広く使
用されている。また優れた軟磁気特性を示し、各種トラ
ンス、チョークコイルなどに使用されているナノ結晶合
金用の出発素材としても特定の組成のアモルファス合金
薄帯が使用される。代表的材料としては特公平４−４３
９３号公報や特開平１−２４２７５５号公報に記載のＦ
ｅ−Ｃｕ−（Ｎｂ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔ
ａ）−Ｓｉ−Ｂ系合金やＦｅ−Ｃｕ−（Ｎｂ，Ｔｉ，Ｚ
ｒ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔａ）−Ｂ系合金等が知られてい
る。ナノ結晶軟磁性合金は作製したアモルファス合金を
微結晶化したもので結晶粒径は軟磁気特性が良好な合金
では約５０ｎｍ以下であり、アモルファス合金にみられ
るような熱的不安定性がほとんどなく、Ｆｅ系アモルフ
ァス合金と同程度の高い飽和磁束密度と低磁歪で優れた
軟磁気特性を示すことが知られている。更にナノ結晶軟
磁性合金は経時変化が小さく、温度特性にも優れている
ことが知られている。このようにナノ結晶軟磁性合金薄
帯やアモルファス合金薄帯等の合金薄帯は各種磁心や磁
性部材に好適に用いられている。以下、軟磁性合金薄帯
についてアモルファス合金薄帯を例示して説明する。と
ころで、単ロール法は双ロール法などの方法に比べ量産
性に優れるために、現在アモルファス合金薄帯の製造方
法の主流となっている。図１に単ロール装置の一例を概
略図で示す。母合金をセラミックスや石英製のノズル中
で溶解し、圧力ｐで加圧し合金溶湯をノズルのスリット
から高速に回転している冷却ロール上に噴出し、超急冷
することにより厚さ２〜１００μｍ程度のアモルファス
合金薄帯を製造する。
製造されている。例えば、アモルファス合金薄帯は磁心
材料、蝋材、センサー、シールド、バネ材などに広く使
用されている。また優れた軟磁気特性を示し、各種トラ
ンス、チョークコイルなどに使用されているナノ結晶合
金用の出発素材としても特定の組成のアモルファス合金
薄帯が使用される。代表的材料としては特公平４−４３
９３号公報や特開平１−２４２７５５号公報に記載のＦ
ｅ−Ｃｕ−（Ｎｂ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔ
ａ）−Ｓｉ−Ｂ系合金やＦｅ−Ｃｕ−（Ｎｂ，Ｔｉ，Ｚ
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る。ナノ結晶軟磁性合金は作製したアモルファス合金を
微結晶化したもので結晶粒径は軟磁気特性が良好な合金
では約５０ｎｍ以下であり、アモルファス合金にみられ
るような熱的不安定性がほとんどなく、Ｆｅ系アモルフ
ァス合金と同程度の高い飽和磁束密度と低磁歪で優れた
軟磁気特性を示すことが知られている。更にナノ結晶軟
磁性合金は経時変化が小さく、温度特性にも優れている
ことが知られている。このようにナノ結晶軟磁性合金薄
帯やアモルファス合金薄帯等の合金薄帯は各種磁心や磁
性部材に好適に用いられている。以下、軟磁性合金薄帯
についてアモルファス合金薄帯を例示して説明する。と
ころで、単ロール法は双ロール法などの方法に比べ量産
性に優れるために、現在アモルファス合金薄帯の製造方
法の主流となっている。図１に単ロール装置の一例を概
略図で示す。母合金をセラミックスや石英製のノズル中
で溶解し、圧力ｐで加圧し合金溶湯をノズルのスリット
から高速に回転している冷却ロール上に噴出し、超急冷
することにより厚さ２〜１００μｍ程度のアモルファス
合金薄帯を製造する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】単ロール法により作製
されるアモルファス合金薄帯は、合金溶湯をノズルのス
リットから高速に回転する冷却ロール上に噴出し、急速
に冷却固化することにより製造される。製造の際には、
結晶化や薄帯の脆化を防止しするためにできる限り冷却
速度を早くし薄帯の温度を下げる必要があることが知ら
れている。しかし、我々は、単ロール法による製造条件
を詳細に検討した結果、特に広幅のアモルファス合金薄
帯を製造する場合に、ロール温度を低くしすぎるとアモ
ルファス合金薄帯が反ってしまうという問題が生ずるこ
とを見出した。この理由は、良く分かっていないが、ノ
ズルから冷却ロールに噴出された溶湯がロール上で固化
しアモルファス化する際のノズルに近い付近の凝固過程
や薄帯の温度分布が関連していると推定される。
されるアモルファス合金薄帯は、合金溶湯をノズルのス
リットから高速に回転する冷却ロール上に噴出し、急速
に冷却固化することにより製造される。製造の際には、
結晶化や薄帯の脆化を防止しするためにできる限り冷却
速度を早くし薄帯の温度を下げる必要があることが知ら
れている。しかし、我々は、単ロール法による製造条件
を詳細に検討した結果、特に広幅のアモルファス合金薄
帯を製造する場合に、ロール温度を低くしすぎるとアモ
ルファス合金薄帯が反ってしまうという問題が生ずるこ
とを見出した。この理由は、良く分かっていないが、ノ
ズルから冷却ロールに噴出された溶湯がロール上で固化
しアモルファス化する際のノズルに近い付近の凝固過程
や薄帯の温度分布が関連していると推定される。
【０００４】また、アモルファス合金薄帯が広幅となる
と冷却ロールに前記薄帯が密着するようになり、強制的
にロール上から剥離する必要がある。この剥離位置につ
いて、一般的にはノズル直下からできるだけ離れた位置
とした方が薄帯の温度は低下するので、アモルファス化
や脆化の観点から、剥離する距離をできる限り長くした
方が良いとされている。しかし、本発明者等が広幅の薄
帯の製造条件を詳細に検討した結果、ノズル直下から剥
離するまでの距離が適切でないと、広幅の薄帯を製造中
に薄帯が破断して連続した長尺薄帯が製造できないこと
が判明した。このような適切でない条件下でアモルファ
ス合金薄帯を製造した場合、反ったしかも短く切れた薄
帯しか製造できない。したがって、このように反ったア
モルファス合金薄帯では大量に部品を製造するのに使用
することは困難であるし、引続き巻回して磁心等の部材
を製作する場合にも加工上好ましくない。更に、薄帯を
スリットする必要がある場合、このような短く破断した
薄帯では、薄帯をスリッターにセットする回数が増えて
しまい、スリットのコストがアップする問題がある。ま
た、反った広幅のアモルファス合金薄帯は、これを巻い
たり積層したりする場合に取り扱いが困難であり、巻磁
心や積層磁心を製造する場合は形状をうまく保てなかっ
たり、薄帯間に空隙ができ占積率が低下する等の問題が
起ることが判った。また、そった薄帯を強制的に平らに
し部品に成形した場合は応力が残りやすく、軟磁気特性
も劣下する等の問題も生ずることが判った。これらの影
響は、アモルファス合金の中でも特にナノ結晶軟磁性合
金材料の母材となる広幅のＦｅ−（Ｃｕ，Ａｕ）―Ｍ−
Ｓｉ−Ｂ系やＦｅ−（Ｃｕ−Ａｕ）―Ｍ−Ｂ系の軟磁性
合金薄帯を多量に製造する場合等、広幅の軟磁性合金薄
帯を量産する場合に大きな問題となる。本発明は前述の
問題点を解決するためになされたもので、単ロール法に
より製造され、反りが小さくかつ連続した長尺の合金薄
帯であって、軟磁気特性に優れ磁心材料を初めとする各
種磁性部材の素材に好適な合金薄帯及びこれを用いた部
材、さらに反りが小さく連続した長尺の合金薄帯の製造
方法を提供することを目的とする。
と冷却ロールに前記薄帯が密着するようになり、強制的
にロール上から剥離する必要がある。この剥離位置につ
いて、一般的にはノズル直下からできるだけ離れた位置
とした方が薄帯の温度は低下するので、アモルファス化
や脆化の観点から、剥離する距離をできる限り長くした
方が良いとされている。しかし、本発明者等が広幅の薄
帯の製造条件を詳細に検討した結果、ノズル直下から剥
離するまでの距離が適切でないと、広幅の薄帯を製造中
に薄帯が破断して連続した長尺薄帯が製造できないこと
が判明した。このような適切でない条件下でアモルファ
ス合金薄帯を製造した場合、反ったしかも短く切れた薄
帯しか製造できない。したがって、このように反ったア
モルファス合金薄帯では大量に部品を製造するのに使用
することは困難であるし、引続き巻回して磁心等の部材
を製作する場合にも加工上好ましくない。更に、薄帯を
スリットする必要がある場合、このような短く破断した
薄帯では、薄帯をスリッターにセットする回数が増えて
しまい、スリットのコストがアップする問題がある。ま
た、反った広幅のアモルファス合金薄帯は、これを巻い
たり積層したりする場合に取り扱いが困難であり、巻磁
心や積層磁心を製造する場合は形状をうまく保てなかっ
たり、薄帯間に空隙ができ占積率が低下する等の問題が
起ることが判った。また、そった薄帯を強制的に平らに
し部品に成形した場合は応力が残りやすく、軟磁気特性
も劣下する等の問題も生ずることが判った。これらの影
響は、アモルファス合金の中でも特にナノ結晶軟磁性合
金材料の母材となる広幅のＦｅ−（Ｃｕ，Ａｕ）―Ｍ−
Ｓｉ−Ｂ系やＦｅ−（Ｃｕ−Ａｕ）―Ｍ−Ｂ系の軟磁性
合金薄帯を多量に製造する場合等、広幅の軟磁性合金薄
帯を量産する場合に大きな問題となる。本発明は前述の
問題点を解決するためになされたもので、単ロール法に
より製造され、反りが小さくかつ連続した長尺の合金薄
帯であって、軟磁気特性に優れ磁心材料を初めとする各
種磁性部材の素材に好適な合金薄帯及びこれを用いた部
材、さらに反りが小さく連続した長尺の合金薄帯の製造
方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明者らは鋭意検討の結果、各種合金薄帯の反り
は、比較的幅の狭い薄帯ではほとんど問題とならない
が、広幅の薄帯では製造条件が適切でないと顕著とな
り、特に薄帯の板厚が薄い場合、反りはより顕著に現れ
ることをつきとめた。本発明によれば、合金溶湯を、ス
リットを有するノズルから回転する金属製の冷却ロール
上に噴出し、単ロール法によって合金薄帯を製造するも
のであって、溶湯を出湯後５秒以上経過した後の冷却ロ
ールの表面温度を８０℃以上３００℃以下に保ち、かつ
合金薄帯の冷却ロールからの剥離をノズルスリット直下
のロール外周の位置からロール外周にそって測定した距
離で、１００ｍｍから１５００ｍｍの範囲で行なうこと
により、幅ｄｍｍの合金薄帯であって、薄帯幅方向のそ
りが、０．２×ｄｍｍ以下であり、かつ長手方向に５０
ｍ以上の長さ連続している合金薄帯の製造が可能とな
り、この薄帯を用いて部品を製造した場合に寸法精度の
良い部品の製造が容易であり、高性能な部品を製造可能
であることを見出し本発明に想到した。すなわち、本発
明の合金薄帯は、幅ｄｍｍの薄帯であって薄帯幅方向の
そりが０．２×ｄｍｍ以下にあるものである。このと
き、薄帯の板厚が２５μｍ以下、幅ｄが１０ｍｍ以上で
ある場合、また、特に薄帯の板厚が２０μｍ以下、幅ｄ
が２０ｍｍ以上である場合に効果的である。これらの反
りは製造後の薄帯状態で規定したものであって加工後あ
るいは部材に利用した後の反りを規定するものではな
い。本発明の合金薄帯では、製造条件が適切でないと反
り等が特に顕著に生ずるため上記製造方法を基本とする
ことが重要である。なお、出湯開始後５秒未満ではロー
ル温度や圧力が急激に変化し、薄帯とロールとの密着性
も悪いため品質が安定せず、製造条件とリボンのそりや
切れとの関係ははっきりしないが、５秒以上ではロール
表面温度の変化、出湯圧力が安定し、薄帯がロールと密
着しそりや切れなどが製造条件に依存するようになる。
量産においては、定常状態でいかに品質の良い連続した
薄帯を製造できるかが鍵であり、本発明の効果が顕著に
現れる。また、反りは、薄帯幅方向以外に長手方向に発
生する場合もあり、このそりも小さい方が望ましいが、
本発明の製造条件下では薄帯の長手方向のそりも小さく
することができる。
めに本発明者らは鋭意検討の結果、各種合金薄帯の反り
は、比較的幅の狭い薄帯ではほとんど問題とならない
が、広幅の薄帯では製造条件が適切でないと顕著とな
り、特に薄帯の板厚が薄い場合、反りはより顕著に現れ
ることをつきとめた。本発明によれば、合金溶湯を、ス
リットを有するノズルから回転する金属製の冷却ロール
上に噴出し、単ロール法によって合金薄帯を製造するも
のであって、溶湯を出湯後５秒以上経過した後の冷却ロ
ールの表面温度を８０℃以上３００℃以下に保ち、かつ
合金薄帯の冷却ロールからの剥離をノズルスリット直下
のロール外周の位置からロール外周にそって測定した距
離で、１００ｍｍから１５００ｍｍの範囲で行なうこと
により、幅ｄｍｍの合金薄帯であって、薄帯幅方向のそ
りが、０．２×ｄｍｍ以下であり、かつ長手方向に５０
ｍ以上の長さ連続している合金薄帯の製造が可能とな
り、この薄帯を用いて部品を製造した場合に寸法精度の
良い部品の製造が容易であり、高性能な部品を製造可能
であることを見出し本発明に想到した。すなわち、本発
明の合金薄帯は、幅ｄｍｍの薄帯であって薄帯幅方向の
そりが０．２×ｄｍｍ以下にあるものである。このと
き、薄帯の板厚が２５μｍ以下、幅ｄが１０ｍｍ以上で
ある場合、また、特に薄帯の板厚が２０μｍ以下、幅ｄ
が２０ｍｍ以上である場合に効果的である。これらの反
りは製造後の薄帯状態で規定したものであって加工後あ
るいは部材に利用した後の反りを規定するものではな
い。本発明の合金薄帯では、製造条件が適切でないと反
り等が特に顕著に生ずるため上記製造方法を基本とする
ことが重要である。なお、出湯開始後５秒未満ではロー
ル温度や圧力が急激に変化し、薄帯とロールとの密着性
も悪いため品質が安定せず、製造条件とリボンのそりや
切れとの関係ははっきりしないが、５秒以上ではロール
表面温度の変化、出湯圧力が安定し、薄帯がロールと密
着しそりや切れなどが製造条件に依存するようになる。
量産においては、定常状態でいかに品質の良い連続した
薄帯を製造できるかが鍵であり、本発明の効果が顕著に
現れる。また、反りは、薄帯幅方向以外に長手方向に発
生する場合もあり、このそりも小さい方が望ましいが、
本発明の製造条件下では薄帯の長手方向のそりも小さく
することができる。
【０００６】合金薄帯の冷却ロールからの剥離を、ノズ
ルスリット直下のロール外周の位置からロール外周にそ
って測定した距離で１５０ｍｍから１０００ｍｍの範囲
とした場合、より破断が起こりにくくなり長手方向に２
００ｍ以上の長さ連続している合金薄帯の製造が可能で
ある。合金薄帯のロールからの剥離は通常、空気，窒
素，アルゴンなどのガスをロール表面に吹き付けること
により行う。合金薄帯を多量に製造する場合は、剥離後
の合金薄帯をロールに巻き取るが、薄帯を巻取るために
は薄帯が著しく破断するのは当然ながら好ましいもので
はない。
ルスリット直下のロール外周の位置からロール外周にそ
って測定した距離で１５０ｍｍから１０００ｍｍの範囲
とした場合、より破断が起こりにくくなり長手方向に２
００ｍ以上の長さ連続している合金薄帯の製造が可能で
ある。合金薄帯のロールからの剥離は通常、空気，窒
素，アルゴンなどのガスをロール表面に吹き付けること
により行う。合金薄帯を多量に製造する場合は、剥離後
の合金薄帯をロールに巻き取るが、薄帯を巻取るために
は薄帯が著しく破断するのは当然ながら好ましいもので
はない。
【０００７】本発明に係わる合金薄帯は、たとえばＦｅ
−Ｂ系、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｆｅ−Ｐ−Ｃ系、Ｆｅ−Ｐ
−Ｂ系、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ−Ｃ系、Ｃｏ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｃ
ｏ−Ｂ系、Ｃｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系、Ｎｉ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｎ
ｉ−Ｐ−Ｂ系、Ｃｕ−Ｚｒ系、Ｃｕ−Ｔｉ系、Ｃｕ−Ｔ
ｉ−Ｎｂ系、Ｃｕ−Ａｇ−Ｐ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｂ系、Ｆ
ｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ系、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｓｉ−Ｂ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ系、Ｆｅ−Ｃｏ−
Ｎｉ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｃｏ−Ｆ
ｅ−Ｍｎ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｃｏ−Ｍｎ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｃｏ
−Ｎｂ−Ｚｒ系、Ｃｏ−Ｎｂ−Ｂ系などの合金薄帯が含
まれる。この合金薄帯は下記するアモルファス合金を出
発材料とし熱処理等の加工を経て軟磁性合金薄帯として
利用される。例えば、Ｆｅ，Ｃｏを含む軟磁性合金薄帯
は主に磁性材料として使用される。他方、Ｎｉ系、Ｃｕ
系の合金薄帯は蝋材やバネ材、歪みゲージ材などに使用
される。
−Ｂ系、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｆｅ−Ｐ−Ｃ系、Ｆｅ−Ｐ
−Ｂ系、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ−Ｃ系、Ｃｏ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｃ
ｏ−Ｂ系、Ｃｏ−Ｎｂ−Ｚｒ系、Ｎｉ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｎ
ｉ−Ｐ−Ｂ系、Ｃｕ−Ｚｒ系、Ｃｕ−Ｔｉ系、Ｃｕ−Ｔ
ｉ−Ｎｂ系、Ｃｕ−Ａｇ−Ｐ系、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｂ系、Ｆ
ｅ−Ｎｉ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ系、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｓｉ−Ｂ系、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ系、Ｆｅ−Ｃｏ−
Ｎｉ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｃｏ−Ｆ
ｅ−Ｍｎ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｃｏ−Ｍｎ−Ｓｉ−Ｂ系、Ｃｏ
−Ｎｂ−Ｚｒ系、Ｃｏ−Ｎｂ−Ｂ系などの合金薄帯が含
まれる。この合金薄帯は下記するアモルファス合金を出
発材料とし熱処理等の加工を経て軟磁性合金薄帯として
利用される。例えば、Ｆｅ，Ｃｏを含む軟磁性合金薄帯
は主に磁性材料として使用される。他方、Ｎｉ系、Ｃｕ
系の合金薄帯は蝋材やバネ材、歪みゲージ材などに使用
される。
【０００８】代表的なＣｏ系のアモルファス合金として
は、組成式：Ｃｏ1００-x-yＭxＸy (原子％)で表され、
式中ＭはＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｗ，
Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｚｎ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｃ
ｕ，Ａｕ，Ａｇ，白金属元素，Ｓｃから選ばれた少なく
とも一種の元素、ＸはＳｉ，Ｂ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｐ，Ｃか
ら選ばれた少なくとも一種の元素であり、 ｘおよびｙ
は０≦ｘ≦１５、５≦ｙ≦３０、１０≦ｘ＋ｙ≦３０の
関係を満足する組成の合金が挙げられる。軟磁性材料と
して使用する場合は、Ｆｅを０原子％以上１０原子％以
下、Ｍｎを０原子％以上１０原子％以下含む合金が好ま
しい。
は、組成式：Ｃｏ1００-x-yＭxＸy (原子％)で表され、
式中ＭはＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｗ，
Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｎｉ，Ｆｅ，Ｚｎ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｃ
ｕ，Ａｕ，Ａｇ，白金属元素，Ｓｃから選ばれた少なく
とも一種の元素、ＸはＳｉ，Ｂ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｐ，Ｃか
ら選ばれた少なくとも一種の元素であり、 ｘおよびｙ
は０≦ｘ≦１５、５≦ｙ≦３０、１０≦ｘ＋ｙ≦３０の
関係を満足する組成の合金が挙げられる。軟磁性材料と
して使用する場合は、Ｆｅを０原子％以上１０原子％以
下、Ｍｎを０原子％以上１０原子％以下含む合金が好ま
しい。
【０００９】代表的なＦｅ系のアモルファス合金として
は、組成式：Ｆｅ1００-x-a-y-zＡxＭaＳｉyＢz（原子
％）で表され、式中ＡはＣｕ，Ａｕから選ばれた少なく
とも一種の元素、ＭはＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，
Ｔａ，Ｗ，Ｎｂ，Ｖからなる群から選ばれた少なくとも
一種の元素であり、ｘ，ｙ，ｚおよびａはそれぞれ０≦
ｘ≦３、０≦ａ≦１０、０≦ｙ≦２０、２≦ｚ≦２５を
満足する合金が挙げられる。この合金の場合、製造条件
の依存性が大きく、特に本発明の効果が著しい。Ｆｅの
一部をＣｏ，Ｎｉから選ばれた少なくとも一種の元素で
置換したり、Ｂの一部をＡｌ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｐ，Ｃ，Ｂ
ｅ，Ｎから選ばれた少なくとも一種の元素で置換した
り、Ｍの一部をＭｎ，Ｃｒ，Ａｇ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｉｎ，
Ａｓ，Ｓｂ，Ｓｃ，Ｙ，白金族元素，Ｃａ，Ｎａ，Ｂ
ａ，Ｓｒ，Ｌｉ，希土類元素から選ばれた少なくとも一
種の元素で置換しても良い。ＡはＣｕ，Ａｕから選ばれ
た少なくとも一種の元素であり、製造したアモルファス
合金薄帯を熱処理により結晶化させナノ結晶磁性材料と
して使用する場合に特に優れた効果があり、熱処理後に
形成する結晶粒を微細化する効果および透磁率を向上さ
せる効果があり、ナノ結晶磁性材料とした場合に優れた
軟磁気特性を実現できる。Ａ量ｘは０．１≦ｘ≦３とす
ることが望ましい。ＭおよびＢはアモルファス形成を促
進する効果を有する元素である。Ｓｉ量ｙは２０原子％
以下が好ましくＳｉ量が２０％を超えると薄帯が脆化し
連続的な薄帯の製造が困難となる。Ｂ量ｚは２原子％以
上２５原子％以下が望ましい。Ｂ量ｚが２原子％未満で
は湯流れが悪くなり製造性が低下し好ましくなく、２５
原子％を越えると薄帯が製造中に脆化しやすくなり好ま
しくない。より好ましいＢ量ｚの範囲は４〜１５原子％
である。この範囲でそりの小さい合金薄帯が得られる。
特に好ましいＢ量ｚの範囲は６〜１２原子％の範囲であ
る。この範囲で特にそりの小さい合金薄帯が得られやす
い。本発明において、周囲のガス、耐火物や原料から溶
解中に混入するＮ，Ｏ，Ｓ等の不可避不純物を含んでも
良い。本発明によって得られた軟磁性合金薄帯は１００
％完全なアモルファス状態である必要はなく一部に結晶
を含んでいても良い。
は、組成式：Ｆｅ1００-x-a-y-zＡxＭaＳｉyＢz（原子
％）で表され、式中ＡはＣｕ，Ａｕから選ばれた少なく
とも一種の元素、ＭはＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，
Ｔａ，Ｗ，Ｎｂ，Ｖからなる群から選ばれた少なくとも
一種の元素であり、ｘ，ｙ，ｚおよびａはそれぞれ０≦
ｘ≦３、０≦ａ≦１０、０≦ｙ≦２０、２≦ｚ≦２５を
満足する合金が挙げられる。この合金の場合、製造条件
の依存性が大きく、特に本発明の効果が著しい。Ｆｅの
一部をＣｏ，Ｎｉから選ばれた少なくとも一種の元素で
置換したり、Ｂの一部をＡｌ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｐ，Ｃ，Ｂ
ｅ，Ｎから選ばれた少なくとも一種の元素で置換した
り、Ｍの一部をＭｎ，Ｃｒ，Ａｇ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｉｎ，
Ａｓ，Ｓｂ，Ｓｃ，Ｙ，白金族元素，Ｃａ，Ｎａ，Ｂ
ａ，Ｓｒ，Ｌｉ，希土類元素から選ばれた少なくとも一
種の元素で置換しても良い。ＡはＣｕ，Ａｕから選ばれ
た少なくとも一種の元素であり、製造したアモルファス
合金薄帯を熱処理により結晶化させナノ結晶磁性材料と
して使用する場合に特に優れた効果があり、熱処理後に
形成する結晶粒を微細化する効果および透磁率を向上さ
せる効果があり、ナノ結晶磁性材料とした場合に優れた
軟磁気特性を実現できる。Ａ量ｘは０．１≦ｘ≦３とす
ることが望ましい。ＭおよびＢはアモルファス形成を促
進する効果を有する元素である。Ｓｉ量ｙは２０原子％
以下が好ましくＳｉ量が２０％を超えると薄帯が脆化し
連続的な薄帯の製造が困難となる。Ｂ量ｚは２原子％以
上２５原子％以下が望ましい。Ｂ量ｚが２原子％未満で
は湯流れが悪くなり製造性が低下し好ましくなく、２５
原子％を越えると薄帯が製造中に脆化しやすくなり好ま
しくない。より好ましいＢ量ｚの範囲は４〜１５原子％
である。この範囲でそりの小さい合金薄帯が得られる。
特に好ましいＢ量ｚの範囲は６〜１２原子％の範囲であ
る。この範囲で特にそりの小さい合金薄帯が得られやす
い。本発明において、周囲のガス、耐火物や原料から溶
解中に混入するＮ，Ｏ，Ｓ等の不可避不純物を含んでも
良い。本発明によって得られた軟磁性合金薄帯は１００
％完全なアモルファス状態である必要はなく一部に結晶
を含んでいても良い。
【００１０】本発明から得られた軟磁性合金薄帯を用い
て、磁性部材を製造する場合は前記アモルファス合金薄
帯を巻き回し、あるいは積層し磁心形状とし、これを熱
処理する。アモルファス合金磁心として使用する場合
は、通常結晶化温度以下で熱処理され、ナノ結晶磁心と
して使用する場合は、通常結晶化温度以上に加熱し熱処
理を行い組織の少なくとも一部に平均粒径５０ｎｍ以下
の結晶粒を望ましくは５０％以上存在させ磁心として使
用される。熱処理は通常はアルゴンガス、窒素ガス等の
不活性ガス中で行なうが大気中等酸素を含む雰囲気や真
空中で行っても良い。また、必要に応じて熱処理期間の
少なくとも一部の期間、合金がほぼ飽和する程度以上の
強さの磁界を印加して磁界中熱処理を行い誘導磁気異方
性を付与しても良い。合金磁心の形状にも依存するが一
般には高角形比とするために薄帯の長手方向（巻磁心の
場合は磁心の磁路方向）に磁界を印加する場合は８Ａ／
ｍ以上、低角形比とするために薄帯の幅方向（巻磁心の
場合は磁心の高さ方向）に印加する場合は８０ｋＡ／ｍ
以上の磁界を印加する場合が多い。熱処理は露点が−３
０℃以下の不活性ガス雰囲気中で行なうことが望まし
く、特に露点が−６０℃以下の不活性ガス雰囲気中で熱
処理を行なうと透磁率もより高くなり、高透磁率が必要
とされる用途に対してはより好ましい結果が得られる。
一定温度に保持する熱処理パターンで熱処理を行う場合
は、一定温度での保持時間は通常量産性の観点から２４
時間以下であり、好ましくは４時間以下である。熱処理
の際の平均昇温速度は、好ましくは０．１℃／ｍｉｎか
ら２００℃／ｍｉｎ、より好ましくは１℃／ｍｉｎから
４０℃／ｍｉｎ、平均冷却速度は好ましくは０．１℃／
ｍｉｎから３０００℃／ｍｉｎ、より好ましくは１℃／
ｍｉｎから１０００℃／ｍｉｎであり、この範囲で特に
優れた軟磁気特性が得られる。
て、磁性部材を製造する場合は前記アモルファス合金薄
帯を巻き回し、あるいは積層し磁心形状とし、これを熱
処理する。アモルファス合金磁心として使用する場合
は、通常結晶化温度以下で熱処理され、ナノ結晶磁心と
して使用する場合は、通常結晶化温度以上に加熱し熱処
理を行い組織の少なくとも一部に平均粒径５０ｎｍ以下
の結晶粒を望ましくは５０％以上存在させ磁心として使
用される。熱処理は通常はアルゴンガス、窒素ガス等の
不活性ガス中で行なうが大気中等酸素を含む雰囲気や真
空中で行っても良い。また、必要に応じて熱処理期間の
少なくとも一部の期間、合金がほぼ飽和する程度以上の
強さの磁界を印加して磁界中熱処理を行い誘導磁気異方
性を付与しても良い。合金磁心の形状にも依存するが一
般には高角形比とするために薄帯の長手方向（巻磁心の
場合は磁心の磁路方向）に磁界を印加する場合は８Ａ／
ｍ以上、低角形比とするために薄帯の幅方向（巻磁心の
場合は磁心の高さ方向）に印加する場合は８０ｋＡ／ｍ
以上の磁界を印加する場合が多い。熱処理は露点が−３
０℃以下の不活性ガス雰囲気中で行なうことが望まし
く、特に露点が−６０℃以下の不活性ガス雰囲気中で熱
処理を行なうと透磁率もより高くなり、高透磁率が必要
とされる用途に対してはより好ましい結果が得られる。
一定温度に保持する熱処理パターンで熱処理を行う場合
は、一定温度での保持時間は通常量産性の観点から２４
時間以下であり、好ましくは４時間以下である。熱処理
の際の平均昇温速度は、好ましくは０．１℃／ｍｉｎか
ら２００℃／ｍｉｎ、より好ましくは１℃／ｍｉｎから
４０℃／ｍｉｎ、平均冷却速度は好ましくは０．１℃／
ｍｉｎから３０００℃／ｍｉｎ、より好ましくは１℃／
ｍｉｎから１０００℃／ｍｉｎであり、この範囲で特に
優れた軟磁気特性が得られる。
【００１１】また、本発明合金薄帯を熱処理する場合、
熱処理は１段ではなく多段の熱処理や複数回の熱処理を
行なうこともできる。更には、前記アモルファス合金薄
帯に直流、交流あるいはパルス電流を流して合金を発熱
させ熱処理することもできる。また、合金薄帯に張力や
圧力を印加しながら熱処理し異方性を付与することによ
り磁気特性を改良することも可能である。
熱処理は１段ではなく多段の熱処理や複数回の熱処理を
行なうこともできる。更には、前記アモルファス合金薄
帯に直流、交流あるいはパルス電流を流して合金を発熱
させ熱処理することもできる。また、合金薄帯に張力や
圧力を印加しながら熱処理し異方性を付与することによ
り磁気特性を改良することも可能である。
【００１２】本発明の合金薄帯は必要に応じてＳｉ
Ｏ2、ＭｇＯ、Ａｌ2Ｏ3等の粉末あるいは膜で合金薄帯
表面を覆ったり、化成処理により表面に絶縁層を形成し
たり、アノード酸化処理により表面に酸化物層を形成し
層間絶縁層を形成しても良い。層間絶縁処理は本発明合
金薄帯を磁心として使用した場合に特に高周波における
渦電流の影響を低減し、透磁率や磁心損失を更に改善す
る効果がある。また、製造した広幅の合金薄帯は必要に
応じて適当な幅にスリットし使用される場合もある。ス
リットした合金薄帯も本発明に含まれるのはもちろんで
ある。また、本発明の合金薄帯はアモルファス合金薄帯
あるいは、これを出発素材としたナノ結晶合金薄帯をシ
ート状の樹脂中に複合したシートや、本発明の合金薄帯
あるいは、これを出発素材としたナノ結晶合金薄帯を粉
砕しフレークや粉末形状にし、樹脂と複合しシートやブ
ロックを製造することもできる。シールド材や電波吸収
体などにも使用可能である。
Ｏ2、ＭｇＯ、Ａｌ2Ｏ3等の粉末あるいは膜で合金薄帯
表面を覆ったり、化成処理により表面に絶縁層を形成し
たり、アノード酸化処理により表面に酸化物層を形成し
層間絶縁層を形成しても良い。層間絶縁処理は本発明合
金薄帯を磁心として使用した場合に特に高周波における
渦電流の影響を低減し、透磁率や磁心損失を更に改善す
る効果がある。また、製造した広幅の合金薄帯は必要に
応じて適当な幅にスリットし使用される場合もある。ス
リットした合金薄帯も本発明に含まれるのはもちろんで
ある。また、本発明の合金薄帯はアモルファス合金薄帯
あるいは、これを出発素材としたナノ結晶合金薄帯をシ
ート状の樹脂中に複合したシートや、本発明の合金薄帯
あるいは、これを出発素材としたナノ結晶合金薄帯を粉
砕しフレークや粉末形状にし、樹脂と複合しシートやブ
ロックを製造することもできる。シールド材や電波吸収
体などにも使用可能である。
【００１３】また、本発明の合金薄帯であるアモルファ
ス合金薄帯あるいはこのアモルファス合金薄帯を熱処理
により結晶化させたナノ結晶合金薄帯は盗難防止センサ
ー、識別センサーなどの磁気センサーなどにも使用可能
である。更に、本発明の合金薄帯は部材に加工後必要に
応じて樹脂含浸を行ったり、コーティングを行なった
り、樹脂含浸後切断等も可能であり、部品に加工され
る。
ス合金薄帯あるいはこのアモルファス合金薄帯を熱処理
により結晶化させたナノ結晶合金薄帯は盗難防止センサ
ー、識別センサーなどの磁気センサーなどにも使用可能
である。更に、本発明の合金薄帯は部材に加工後必要に
応じて樹脂含浸を行ったり、コーティングを行なった
り、樹脂含浸後切断等も可能であり、部品に加工され
る。
【００１４】前記合金薄帯あるいは前記合金薄帯を熱処
理により結晶化させたナノ結晶合金薄帯を使用したトラ
ンス、チョークコイル、可飽和リアクトル、センサーな
どの磁性部材を少なくとも一部に使用した電源、インバ
ータ、漏電ブレーカ、パソコン、通信機器などの装置は
装置の小型化、効率の向上あるいは低ノイズ化などが可
能となる。
理により結晶化させたナノ結晶合金薄帯を使用したトラ
ンス、チョークコイル、可飽和リアクトル、センサーな
どの磁性部材を少なくとも一部に使用した電源、インバ
ータ、漏電ブレーカ、パソコン、通信機器などの装置は
装置の小型化、効率の向上あるいは低ノイズ化などが可
能となる。
【００１５】もう一つの本発明は、合金溶湯をスリット
を有するノズルから回転する金属製の冷却ロール上に噴
出し、合金薄帯を製造する単ロール法において、溶湯を
出湯後５秒以上経過した後の冷却ロールの表面温度を８
０℃以上３００℃以下に保ち、かつ合金薄帯の冷却ロー
ルからの剥離をノズルスリット直下のロール外周の位置
からロール外周にそって測定した距離で５０ｍｍから１
５００ｍｍの範囲で行なうことを特徴とする前記合金薄
帯の製造方法である。本発明の製造方法により、幅ｄｍ
ｍの合金薄帯であって、薄帯幅方向のそりが、０．２×
ｄｍｍ以下の合金薄帯を得ることが出来る。このときの
板厚は３０μｍ以下であるが、特に、板厚が２５μｍ以
下で幅ｄが１０ｍｍ以上或いは板厚が２０μｍ以下で幅
ｄが２０ｍｍ以上でかつ長手方向に５０ｍ以上の長さ連
続している合金薄帯の製造が可能となる。
を有するノズルから回転する金属製の冷却ロール上に噴
出し、合金薄帯を製造する単ロール法において、溶湯を
出湯後５秒以上経過した後の冷却ロールの表面温度を８
０℃以上３００℃以下に保ち、かつ合金薄帯の冷却ロー
ルからの剥離をノズルスリット直下のロール外周の位置
からロール外周にそって測定した距離で５０ｍｍから１
５００ｍｍの範囲で行なうことを特徴とする前記合金薄
帯の製造方法である。本発明の製造方法により、幅ｄｍ
ｍの合金薄帯であって、薄帯幅方向のそりが、０．２×
ｄｍｍ以下の合金薄帯を得ることが出来る。このときの
板厚は３０μｍ以下であるが、特に、板厚が２５μｍ以
下で幅ｄが１０ｍｍ以上或いは板厚が２０μｍ以下で幅
ｄが２０ｍｍ以上でかつ長手方向に５０ｍ以上の長さ連
続している合金薄帯の製造が可能となる。
【００１６】前記合金薄帯は、融点以上（通常のＦｅ
系、Ｃｏ系材料では１０００℃〜１５００℃程度）に加
熱した合金溶湯をスリットを有するノズルから回転する
金属製の冷却ロール上に噴出し製造する、いわゆる単ロ
ール法により製造される。出湯に使用するノズルスリッ
トは製造する薄帯の幅×０．３〜０．８ｍｍ程度の形状
が好ましい。ノズル材質は石英、シリコンナイトライ
ド、ＢＮ等のセラミックスが用いられる。多重スリット
を使用して製造する場合もある。この単ロール法におい
て、合金溶湯出湯中の冷却ロールとノズル先端との間隔
(ギャップ)は２０μｍ以上５００μｍ以下であり、通常
は２５０μｍ以下である。特に、合金薄帯の冷却ロール
からの剥離をノズルスリット直下のロール外周の位置か
らロール外周にそって測定した距離で１００ｍｍから１
０００ｍｍの範囲とすることにより、より破断が起こり
にくくなり長手方向に２００ｍ以上の長さ連続している
合金薄帯の製造が可能となる。更に、冷却ロール表面温
度を１００℃以上２５０℃以下に保つことにより、脆化
しにくく幅ｄｍｍの薄帯幅方向のそりが０．１×ｄｍｍ
以下の特に反りの小さい長尺の合金薄帯が製造可能であ
る。
系、Ｃｏ系材料では１０００℃〜１５００℃程度）に加
熱した合金溶湯をスリットを有するノズルから回転する
金属製の冷却ロール上に噴出し製造する、いわゆる単ロ
ール法により製造される。出湯に使用するノズルスリッ
トは製造する薄帯の幅×０．３〜０．８ｍｍ程度の形状
が好ましい。ノズル材質は石英、シリコンナイトライ
ド、ＢＮ等のセラミックスが用いられる。多重スリット
を使用して製造する場合もある。この単ロール法におい
て、合金溶湯出湯中の冷却ロールとノズル先端との間隔
(ギャップ)は２０μｍ以上５００μｍ以下であり、通常
は２５０μｍ以下である。特に、合金薄帯の冷却ロール
からの剥離をノズルスリット直下のロール外周の位置か
らロール外周にそって測定した距離で１００ｍｍから１
０００ｍｍの範囲とすることにより、より破断が起こり
にくくなり長手方向に２００ｍ以上の長さ連続している
合金薄帯の製造が可能となる。更に、冷却ロール表面温
度を１００℃以上２５０℃以下に保つことにより、脆化
しにくく幅ｄｍｍの薄帯幅方向のそりが０．１×ｄｍｍ
以下の特に反りの小さい長尺の合金薄帯が製造可能であ
る。
【００１７】金属製の冷却ロールは量産する場合は水冷
する場合が多く、ＣｕおよびＣｕ−Ｂｅ、Ｃｕ−Ｚｒ、
Ｃｕ−ＣｒなどのＣｕ合金が冷却能力が高くなり広幅の
薄帯を製造する場合には好ましい結果が得られ、特に前
記ロールを冷却するための水量が０．１ｍ3／分以上１
０ｍ3／分以下である場合、生産量が５ｋｇ以上と多く
なった場合においても、薄帯の反り、破断、脆化などが
ほとんどない合金薄帯を製造可能である。特に薄い薄帯
を製造する場合の好ましい水量は、０．１ｍ3／分以上
１ｍ3／分以下である。冷却ロールの直径は、通常３０
０ｍｍから１２００ｍｍ程度であるが、好ましくは４０
０ｍｍから１０００ｍｍ程度が望ましい。特に望ましく
は、５００ｍｍから８００ｍｍである。また、ロール周
速が２０ｍ／ｓからの４０ｍ／ｓの範囲で、出湯圧力が
２７０ｇｆ／ｃｍ2以上である場合に表面性状が良好な
合金薄帯が製造可能でありより好ましい結果が得られ
る。必要に応じて合金薄帯の製造はＨｅ、Ａｒなどの不
活性ガス中で行っても良い。また、製造中にノズル付近
にＨｅガス、ＣＯガスやＣＯ2ガスを流して製造する
と、より一層合金薄帯の表面性状が改善され好ましい結
果が得られる。また、製造中にノズル付近に加熱した不
活性ガスや窒素ガスを流して製造しても合金薄帯の表面
性状が改善され好ましい結果が得られる。
する場合が多く、ＣｕおよびＣｕ−Ｂｅ、Ｃｕ−Ｚｒ、
Ｃｕ−ＣｒなどのＣｕ合金が冷却能力が高くなり広幅の
薄帯を製造する場合には好ましい結果が得られ、特に前
記ロールを冷却するための水量が０．１ｍ3／分以上１
０ｍ3／分以下である場合、生産量が５ｋｇ以上と多く
なった場合においても、薄帯の反り、破断、脆化などが
ほとんどない合金薄帯を製造可能である。特に薄い薄帯
を製造する場合の好ましい水量は、０．１ｍ3／分以上
１ｍ3／分以下である。冷却ロールの直径は、通常３０
０ｍｍから１２００ｍｍ程度であるが、好ましくは４０
０ｍｍから１０００ｍｍ程度が望ましい。特に望ましく
は、５００ｍｍから８００ｍｍである。また、ロール周
速が２０ｍ／ｓからの４０ｍ／ｓの範囲で、出湯圧力が
２７０ｇｆ／ｃｍ2以上である場合に表面性状が良好な
合金薄帯が製造可能でありより好ましい結果が得られ
る。必要に応じて合金薄帯の製造はＨｅ、Ａｒなどの不
活性ガス中で行っても良い。また、製造中にノズル付近
にＨｅガス、ＣＯガスやＣＯ2ガスを流して製造する
と、より一層合金薄帯の表面性状が改善され好ましい結
果が得られる。また、製造中にノズル付近に加熱した不
活性ガスや窒素ガスを流して製造しても合金薄帯の表面
性状が改善され好ましい結果が得られる。
【００１８】特に、合金薄帯が軟磁性合金で、組成式：
Ｆｅ1００-x-a-y-zＡxＭaＳｉyＢz（原子％）で表さ
れ、式中ＡはＣｕ，Ａｕから選ばれた少なくとも一種の
元素、ＭはＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｗ，
Ｖからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素であ
り、ｘ，ｙ，ｚおよびａはそれぞれ０≦ｘ≦３、０≦ａ
≦１０、０≦ｙ≦２０、２≦ｚ≦２５を満足する組成で
ある場合、本発明製造方法の効果が顕著であり、本発明
の製造法を適用することにより本発明外の製造方法で製
造した場合に比べて、反りが小さく、破断が起こりにく
く、長尺な薄帯を製造可能である。前記軟磁性合金薄帯
はＦｅの一部をＣｏ，Ｎｉから選ばれた少なくとも一種
の元素で置換したり、Ｂの一部をＡｌ，Ｇａ，Ｇｅ，
Ｐ，Ｃ，Ｂｅ，Ｎから選ばれた少なくとも一種の元素で
置換したり、Ｍの一部をＭｎ，Ｃｒ，Ａｇ，Ｚｎ，Ｓ
ｎ，Ｉｎ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｓｃ，Ｙ，白金族元素，Ｃａ，
Ｎａ，Ｂａ，Ｓｒ，Ｌｉ，希土類元素から選ばれた少な
くとも一種の元素で置換したりした組成でも良い。
Ｆｅ1００-x-a-y-zＡxＭaＳｉyＢz（原子％）で表さ
れ、式中ＡはＣｕ，Ａｕから選ばれた少なくとも一種の
元素、ＭはＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｗ，
Ｖからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素であ
り、ｘ，ｙ，ｚおよびａはそれぞれ０≦ｘ≦３、０≦ａ
≦１０、０≦ｙ≦２０、２≦ｚ≦２５を満足する組成で
ある場合、本発明製造方法の効果が顕著であり、本発明
の製造法を適用することにより本発明外の製造方法で製
造した場合に比べて、反りが小さく、破断が起こりにく
く、長尺な薄帯を製造可能である。前記軟磁性合金薄帯
はＦｅの一部をＣｏ，Ｎｉから選ばれた少なくとも一種
の元素で置換したり、Ｂの一部をＡｌ，Ｇａ，Ｇｅ，
Ｐ，Ｃ，Ｂｅ，Ｎから選ばれた少なくとも一種の元素で
置換したり、Ｍの一部をＭｎ，Ｃｒ，Ａｇ，Ｚｎ，Ｓ
ｎ，Ｉｎ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｓｃ，Ｙ，白金族元素，Ｃａ，
Ｎａ，Ｂａ，Ｓｒ，Ｌｉ，希土類元素から選ばれた少な
くとも一種の元素で置換したりした組成でも良い。
【００１９】
【実施例】以下本発明を実施例にしたがって説明するが
本発明はこれらに限定されるものではない。 （実施例１）図1と同様な単ロール装置を用い、原子％
でＳｉ１５．５％、Ｂ６．７％、Ｎｂ２．９％、Ｃｕ
０．９％、残部実質的にＦｅからなる合金溶湯をシリコ
ンナイトライドを主体とするセラミックス製のノズルか
ら外径８００ｍｍのＣｕ−Ｂｅ合金製の冷却ロール上に
出湯し、幅２５ｍｍのアモルファス状態の合金薄帯１０
ｋｇを作製した。溶湯の出湯温度は１３００℃、ノズル
のスリットは２５ｍｍ×０．６ｍｍ、ノズル先端と冷却
ロール間のギャップは１００μｍとし、冷却ロール表面
温度を加熱して変え、ノズルスリット直下ロール外周の
位置からロール外周にそって測定した距離で６３０ｍｍ
の位置で剥離して幅２５ｍｍのアモルファス状態の合金
薄帯を作製した。冷却ロール表面の温度はノズル位置か
ら１００ｍｍ離れた薄帯が製造される方向と逆方向の位
置のロール表面を連続的に赤外線放射温度計で測定し
た。冷却ロール表面温度はあらかじめロール温度を加熱
して変え測定しておき、実際の製造中の測定値に補正を
行い求めた。次にこの合金薄帯の製造開始３０秒後に相
当する位置の薄帯を切断し、幅２５ｍｍ×５ｍｍ×１８
μｍの試料を作製し、薄帯幅方向のそりをレーザ光によ
る測定により求めた。図２に測定方法を示す。図におい
て基準面からの最大高さを薄帯の反りとした。薄帯方向
の反りは、幅方向にステージを移動し、薄帯の中心線上
で測定した。図３に薄帯製造開始３０秒後の位置に相当
する薄帯の反り量と薄帯製造開始３０秒後の冷却ロール
表面温度の関係を示す。冷却ロール表面温度が８０℃未
満では、薄帯の反りが５ｍｍ超と大きく好ましくなく、
３００℃を超えると、反りは小さいものの薄帯が脆化す
るため好ましくない。
本発明はこれらに限定されるものではない。 （実施例１）図1と同様な単ロール装置を用い、原子％
でＳｉ１５．５％、Ｂ６．７％、Ｎｂ２．９％、Ｃｕ
０．９％、残部実質的にＦｅからなる合金溶湯をシリコ
ンナイトライドを主体とするセラミックス製のノズルか
ら外径８００ｍｍのＣｕ−Ｂｅ合金製の冷却ロール上に
出湯し、幅２５ｍｍのアモルファス状態の合金薄帯１０
ｋｇを作製した。溶湯の出湯温度は１３００℃、ノズル
のスリットは２５ｍｍ×０．６ｍｍ、ノズル先端と冷却
ロール間のギャップは１００μｍとし、冷却ロール表面
温度を加熱して変え、ノズルスリット直下ロール外周の
位置からロール外周にそって測定した距離で６３０ｍｍ
の位置で剥離して幅２５ｍｍのアモルファス状態の合金
薄帯を作製した。冷却ロール表面の温度はノズル位置か
ら１００ｍｍ離れた薄帯が製造される方向と逆方向の位
置のロール表面を連続的に赤外線放射温度計で測定し
た。冷却ロール表面温度はあらかじめロール温度を加熱
して変え測定しておき、実際の製造中の測定値に補正を
行い求めた。次にこの合金薄帯の製造開始３０秒後に相
当する位置の薄帯を切断し、幅２５ｍｍ×５ｍｍ×１８
μｍの試料を作製し、薄帯幅方向のそりをレーザ光によ
る測定により求めた。図２に測定方法を示す。図におい
て基準面からの最大高さを薄帯の反りとした。薄帯方向
の反りは、幅方向にステージを移動し、薄帯の中心線上
で測定した。図３に薄帯製造開始３０秒後の位置に相当
する薄帯の反り量と薄帯製造開始３０秒後の冷却ロール
表面温度の関係を示す。冷却ロール表面温度が８０℃未
満では、薄帯の反りが５ｍｍ超と大きく好ましくなく、
３００℃を超えると、反りは小さいものの薄帯が脆化す
るため好ましくない。
【００２０】(実施例２）図１と同様な単ロール装置を
用い、原子％でＳｉ１５．５％、Ｂ６．７％、Ｎｂ２．
９％、Ｃｕ０．９％、残部実質的にＦｅからなる合金溶
湯をシリコンナイトライドを主体とするセラミックス製
のノズルから外径８００ｍｍのＣｕ−Ｂｅ合金製の冷却
ロール上に出湯し、幅２５ｍｍのアモルファス状態の合
金薄帯１０ｋｇを作製した。溶湯の出湯温度は１３００
℃、ノズルのスリットは２５ｍｍ×０．６ｍｍ、ノズル
先端と冷却ロール間のギャップは１００μｍとし、ノズ
ルスリット直下ロール外周の位置からロール外周にそっ
て測定した距離を変えて薄帯をロールから剥離し、幅２
５ｍｍのアモルファス状態の合金薄帯を作製した。冷却
ロール表面の温度はノズル位置から１００ｍｍ離れた薄
帯が製造される方向と逆方向の位置のロール表面を赤外
線放射温度計で測定した。冷却ロール表面温度はあらか
じめロール温度を加熱して変え測定しておき、実際の製
造中の測定値に補正を行い求めた。薄帯製造開始５秒後
のロール表面温度は１８０℃、薄帯製造終了時の温度は
２１０℃であった。次に、作製した薄帯の長さを測定し
た。破断している場合は、最も長く連続している薄帯の
長さを測定した。図４に薄帯の長さと剥離距離の関係を
示す。剥離距離ｄが１００ｍｍ未満では、薄帯が脆化し
てしまうため好ましくなく、１５００ｍｍを超えると薄
帯が著しく破断し易くなり、５０ｍ以上連続した薄帯を
製造するのが困難であり、量産が困難である。１５０ｍ
ｍから１０００ｍｍの範囲では１００ｍ以上連続した長
尺の薄帯を製造できるためより好ましい。特に好ましく
は、１５０ｍｍから６５０ｍｍの範囲であり、１０００
ｍを超えるような連続した長尺の薄帯を製造可能であ
る。以上の検討から、冷却ロールの表面温度を８０℃以
上３００℃以下に保ち、かつ合金薄帯の冷却ロールから
の剥離をノズル直下のロール外周の位置からロール外周
にそって測定した距離で１００ｍｍから１５００ｍｍの
範囲として薄帯を製造することにより、薄帯の反りが小
さくかつ長尺の薄帯が製造可能である。このような製造
方法で製造した合金薄帯は、部品化が容易であり、高性
能な磁心などの部品が製造可能である。
用い、原子％でＳｉ１５．５％、Ｂ６．７％、Ｎｂ２．
９％、Ｃｕ０．９％、残部実質的にＦｅからなる合金溶
湯をシリコンナイトライドを主体とするセラミックス製
のノズルから外径８００ｍｍのＣｕ−Ｂｅ合金製の冷却
ロール上に出湯し、幅２５ｍｍのアモルファス状態の合
金薄帯１０ｋｇを作製した。溶湯の出湯温度は１３００
℃、ノズルのスリットは２５ｍｍ×０．６ｍｍ、ノズル
先端と冷却ロール間のギャップは１００μｍとし、ノズ
ルスリット直下ロール外周の位置からロール外周にそっ
て測定した距離を変えて薄帯をロールから剥離し、幅２
５ｍｍのアモルファス状態の合金薄帯を作製した。冷却
ロール表面の温度はノズル位置から１００ｍｍ離れた薄
帯が製造される方向と逆方向の位置のロール表面を赤外
線放射温度計で測定した。冷却ロール表面温度はあらか
じめロール温度を加熱して変え測定しておき、実際の製
造中の測定値に補正を行い求めた。薄帯製造開始５秒後
のロール表面温度は１８０℃、薄帯製造終了時の温度は
２１０℃であった。次に、作製した薄帯の長さを測定し
た。破断している場合は、最も長く連続している薄帯の
長さを測定した。図４に薄帯の長さと剥離距離の関係を
示す。剥離距離ｄが１００ｍｍ未満では、薄帯が脆化し
てしまうため好ましくなく、１５００ｍｍを超えると薄
帯が著しく破断し易くなり、５０ｍ以上連続した薄帯を
製造するのが困難であり、量産が困難である。１５０ｍ
ｍから１０００ｍｍの範囲では１００ｍ以上連続した長
尺の薄帯を製造できるためより好ましい。特に好ましく
は、１５０ｍｍから６５０ｍｍの範囲であり、１０００
ｍを超えるような連続した長尺の薄帯を製造可能であ
る。以上の検討から、冷却ロールの表面温度を８０℃以
上３００℃以下に保ち、かつ合金薄帯の冷却ロールから
の剥離をノズル直下のロール外周の位置からロール外周
にそって測定した距離で１００ｍｍから１５００ｍｍの
範囲として薄帯を製造することにより、薄帯の反りが小
さくかつ長尺の薄帯が製造可能である。このような製造
方法で製造した合金薄帯は、部品化が容易であり、高性
能な磁心などの部品が製造可能である。
【００２１】(実施例3）図１と同様な単ロール装置を用
い、原子％でＳｉ１３．５％、Ｂ８．７％、Ｎｂ２．５
％、Ｍｏ０．５％、Ｃｕ０．８％、残部実質的にＦｅか
らなる合金溶湯を、シリコンナイトライドを主体とする
セラミックス製のノズルから外径６００ｍｍのＣｕ−Ｂ
ｅ合金製の冷却ロール上に出湯し、板厚を変えて幅７．
５ｍｍ、幅１０ｍｍ、２０ｍｍおよび３０ｍｍのアモル
ファス状態の合金薄帯１０ｋｇを作製した。溶湯の出湯
温度は１３００℃、ノズル先端と冷却ロール間のギャッ
プは１００μｍ、冷却ロール表面温度を１９０℃と３０
℃（比較例）とし、ノズルスリット直下ロール外周の位
置からロール外周にそって測定した距離で６３０ｍｍの
位置で剥離して幅２５ｍｍのアモルファス状態の合金薄
帯を作製した。なお前記冷却ロール表面温度は実施例１
と同様な方法により測定している。次にこの合金薄帯の
一部を切断し、幅×５ｍｍ×厚さの形状の試料を作製
し、薄帯幅方向の反りを実施例１と同様にレーザ光によ
る測定により求めた。表１に薄帯の反り量を示す。
い、原子％でＳｉ１３．５％、Ｂ８．７％、Ｎｂ２．５
％、Ｍｏ０．５％、Ｃｕ０．８％、残部実質的にＦｅか
らなる合金溶湯を、シリコンナイトライドを主体とする
セラミックス製のノズルから外径６００ｍｍのＣｕ−Ｂ
ｅ合金製の冷却ロール上に出湯し、板厚を変えて幅７．
５ｍｍ、幅１０ｍｍ、２０ｍｍおよび３０ｍｍのアモル
ファス状態の合金薄帯１０ｋｇを作製した。溶湯の出湯
温度は１３００℃、ノズル先端と冷却ロール間のギャッ
プは１００μｍ、冷却ロール表面温度を１９０℃と３０
℃（比較例）とし、ノズルスリット直下ロール外周の位
置からロール外周にそって測定した距離で６３０ｍｍの
位置で剥離して幅２５ｍｍのアモルファス状態の合金薄
帯を作製した。なお前記冷却ロール表面温度は実施例１
と同様な方法により測定している。次にこの合金薄帯の
一部を切断し、幅×５ｍｍ×厚さの形状の試料を作製
し、薄帯幅方向の反りを実施例１と同様にレーザ光によ
る測定により求めた。表１に薄帯の反り量を示す。
【００２２】
【表１】
【００２３】薄帯の幅が１０ｍｍ以上の場合、本発明外
の製造方法では反りが顕著となり、本発明の効果が著し
いことが分かる。特に薄帯の幅が２０ｍｍ以上で本発明
の効果が顕著である。また、板厚が薄い程、ロール表面
の温度の影響を受けやすく、本発明の効果が著しい。本
発明の効果は２５μｍ以下の板厚でより顕著である。特
に２０μｍ以下の板厚では本発明の効果が著しい。
の製造方法では反りが顕著となり、本発明の効果が著し
いことが分かる。特に薄帯の幅が２０ｍｍ以上で本発明
の効果が顕著である。また、板厚が薄い程、ロール表面
の温度の影響を受けやすく、本発明の効果が著しい。本
発明の効果は２５μｍ以下の板厚でより顕著である。特
に２０μｍ以下の板厚では本発明の効果が著しい。
【００２４】(実施例4）表２に示す種々の組成の軟磁性
合金薄帯を図１と同様な単ロール法により本発明の製造
方法と本発明以外の製造方法により作製した。溶解量は
薄帯の幅２０ｍｍの場合は８ｋｇ、幅２５ｍｍの場合は
１０ｋｇ、幅３０ｍｍの場合は１２ｋｇ、幅２５ｍｍの
場合は７．１ｋｇ、幅５０ｍｍの場合は２０ｋｇ、幅１
００ｍｍの場合は４０ｋｇとした。製造の際のロール表
面温度、薄帯のそり、作製した薄帯の長さを測定した。
破断している場合は、最も長く連続している薄帯の長さ
を測定した。また、製造した合金薄帯を外径50mm内径45
mmに巻き回し巻磁心とし、軟磁気特性について測定し
た。以上の測定結果を表２示す。Ｎｏ.１〜Ｎｏ.１０、
Ｎｏ.１６、Ｎｏ.１９の試料は、最適熱処理を行いナノ
結晶化させた。熱処理後の合金は透過電子顕微鏡による
ミクロ組織観察の結果、平均粒径５０ｎｍ以下の結晶粒
が組織の少なくとも一部に形成していることが確認され
た。一方、Ｎｏ.１１、Ｎｏ.１２、Ｎｏ.１５、Ｎｏ.１
７、Ｎｏ.１８、Ｎｏ.２０の試料は結晶化温度以下の温
度で最適熱処理を行った。熱処理後の合金はX線回折の
結果アモルファス特有のハローパターンが認められ、ア
モルファス状態であることが確認された。そして、これ
らの試料の測定周波数1kHz、測定磁界0.05Am-1における
比透磁率μrを測定した。表２の結果を見ても明らかな
とおり、そりの小さい本発明合金薄帯から構成されてい
る磁心の方が、高いμrを示しており、本発明合金薄帯
の方が磁心の素材として優れていることが確認された。
合金薄帯を図１と同様な単ロール法により本発明の製造
方法と本発明以外の製造方法により作製した。溶解量は
薄帯の幅２０ｍｍの場合は８ｋｇ、幅２５ｍｍの場合は
１０ｋｇ、幅３０ｍｍの場合は１２ｋｇ、幅２５ｍｍの
場合は７．１ｋｇ、幅５０ｍｍの場合は２０ｋｇ、幅１
００ｍｍの場合は４０ｋｇとした。製造の際のロール表
面温度、薄帯のそり、作製した薄帯の長さを測定した。
破断している場合は、最も長く連続している薄帯の長さ
を測定した。また、製造した合金薄帯を外径50mm内径45
mmに巻き回し巻磁心とし、軟磁気特性について測定し
た。以上の測定結果を表２示す。Ｎｏ.１〜Ｎｏ.１０、
Ｎｏ.１６、Ｎｏ.１９の試料は、最適熱処理を行いナノ
結晶化させた。熱処理後の合金は透過電子顕微鏡による
ミクロ組織観察の結果、平均粒径５０ｎｍ以下の結晶粒
が組織の少なくとも一部に形成していることが確認され
た。一方、Ｎｏ.１１、Ｎｏ.１２、Ｎｏ.１５、Ｎｏ.１
７、Ｎｏ.１８、Ｎｏ.２０の試料は結晶化温度以下の温
度で最適熱処理を行った。熱処理後の合金はX線回折の
結果アモルファス特有のハローパターンが認められ、ア
モルファス状態であることが確認された。そして、これ
らの試料の測定周波数1kHz、測定磁界0.05Am-1における
比透磁率μrを測定した。表２の結果を見ても明らかな
とおり、そりの小さい本発明合金薄帯から構成されてい
る磁心の方が、高いμrを示しており、本発明合金薄帯
の方が磁心の素材として優れていることが確認された。
【００２５】
【表２】
【００２６】本発明の合金薄帯は、幅方向のそりを小さ
くすると共に長尺に連続した薄帯としたので各種磁性部
品の素材として用いたとき製造上の手間を掛けることな
く占積率を高くでき、尚かつ優れた磁気特性を発揮する
ことが出来る。これは本発明および本発明外のＦｅ基や
Ｃｏ基の軟磁性合金薄帯を用いて巻磁心、またナノ結晶
化した薄帯を用いて巻磁心を作製したところ、本発明の
合金薄帯を使用した方が、従来に比べ扱いやすくコンパ
クトに製造することができ、さらに軟磁気特性について
も優れた結果を得ることが出来た。
くすると共に長尺に連続した薄帯としたので各種磁性部
品の素材として用いたとき製造上の手間を掛けることな
く占積率を高くでき、尚かつ優れた磁気特性を発揮する
ことが出来る。これは本発明および本発明外のＦｅ基や
Ｃｏ基の軟磁性合金薄帯を用いて巻磁心、またナノ結晶
化した薄帯を用いて巻磁心を作製したところ、本発明の
合金薄帯を使用した方が、従来に比べ扱いやすくコンパ
クトに製造することができ、さらに軟磁気特性について
も優れた結果を得ることが出来た。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、磁心材料を初めとする
各種部品素材に好適であって、単ロール法により製造さ
れたそりが小さく連続した長尺の合金薄帯を得ることが
出来た。また、このようなそりが小さく連続した長尺の
合金薄帯の製造方法を提供できるためその効果は著しい
ものがある。
各種部品素材に好適であって、単ロール法により製造さ
れたそりが小さく連続した長尺の合金薄帯を得ることが
出来た。また、このようなそりが小さく連続した長尺の
合金薄帯の製造方法を提供できるためその効果は著しい
ものがある。
【図１】本発明に係る合金薄帯を製造する単ロール装置
の概略を示した図である。
の概略を示した図である。
【図２】本発明に係る合金薄帯の反り量測定装置の概略
を示した図である。
を示した図である。
【図３】本発明に係る合金薄帯の反り量と冷却ロール表
面温度の関係の一例を示した図である。
面温度の関係の一例を示した図である。
【図４】本発明に係る合金薄帯の長さと剥離距離の関係
の一例を示した図である。
の一例を示した図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２２Ｆ 1/10 Ｃ２２Ｆ 1/10 Ｅ Ｈ０１Ｆ 1/153 Ｈ０１Ｆ 1/16 Ｚ 1/16 Ｃ２２Ｃ 38/00 ３０３Ｖ // Ｃ２２Ｃ 38/00 ３０３ Ｃ２２Ｆ 1/00 ６０８ Ｃ２２Ｆ 1/00 ６０８ ６２２ ６２２ ６６０Ｃ ６６０ ６９１Ｂ ６９１ Ｈ０１Ｆ 1/14 Ｃ (72)発明者 長尾 道弘 島根県安来市安来町2107番地２日立金属株 式会社安来工場内 (72)発明者 目黒 卓 島根県安来市安来町2107番地２日立金属株 式会社安来工場内
Claims (20)
- 【請求項１】 単ロール法により製造された幅ｄｍｍの
合金薄帯であって、薄帯幅方向のそりが、０．２×ｄｍ
ｍ以下であることを特徴とする合金薄帯。 - 【請求項２】 前記合金薄帯の板厚が２５μｍ以下、幅
ｄが１０ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１に記
載の合金薄帯。 - 【請求項３】 前記合金薄帯の板厚が２０μｍ以下、幅
ｄが２０ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１に記
載の合金薄帯。 - 【請求項４】 前記合金薄帯は長手方向に５０ｍ以上の
長さ連続していることを特徴とする請求項1乃至3のいず
れかに記載の合金薄帯。 - 【請求項５】 合金溶湯をスリットを有するノズルから
回転する金属製の冷却ロール上に噴出し、溶湯を出湯後
５秒以上経過した後の冷却ロールの表面温度を８０℃以
上３００℃以下に保ち、かつ薄帯の冷却ロールからの剥
離をノズルスリット直下のロール外周の位置からロール
外周にそって測定した距離で１００ｍｍから１５００ｍ
ｍの範囲で行なうことにより、板厚が３０μｍ以下で幅
ｄが１０ｍｍ以上の薄帯であって薄帯幅方向のそりが
０．２×ｄｍｍ以下であり、かつ長手方向に５０ｍ以上
の長さ連続していることを特徴とする合金薄帯。 - 【請求項６】 前記合金薄帯が、組成式：Ｆｅ
1００-x-a-y-zＡxＭaＳｉyＢz（原子％）で表され、式
中ＡはＣｕ，Ａｕから選ばれた少なくとも一種の元素、
ＭはＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｗ，Ｖから
なる群から選ばれた少なくとも一種の元素であり、ｘ，
ｙ，ｚおよびａはそれぞれ０≦ｘ≦３、０≦ａ≦１０、
０≦ｙ≦２０、２≦ｚ≦２５を満足する組成のアモルフ
ァス合金薄帯であることを特徴とする請求項１乃至５の
いずれかに記載の合金薄帯。 - 【請求項７】 Ｆｅの一部をＣｏ，Ｎｉから選ばれた少
なくとも一種の元素で置換したことを特徴とする請求項
６に記載の合金薄帯。 - 【請求項８】 Ｂの一部をＡｌ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｐ，Ｃ，
Ｂｅ，Ｎから選ばれた少なくとも一種の元素で置換した
ことを特徴とする請求項６又は７に記載の合金薄帯。 - 【請求項９】 Ｍの一部をＭｎ，Ｃｒ，Ａｇ，Ｚｎ，Ｓ
ｎ，Ｉｎ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｓｃ，Ｙ，白金族元素，Ｃａ，
Ｎａ，Ｂａ，Ｓｒ，Ｌｉ，希土類元素から選ばれた少な
くとも一種の元素で置換したことを特徴とする請求項６
乃至８のいずれかに記載の合金薄帯。 - 【請求項１０】 熱処理後において前記アモルファス合
金薄帯の組織の少なくとも５０％を５０ｎｍ以下の結晶
粒が占めるナノ結晶軟磁性合金薄帯となしたことを特徴
とする請求項６乃至９のいずれかに記載の合金薄帯。 - 【請求項１１】 請求項１乃至１０に記載の合金薄帯を
巻き回す、あるいは積層することにより形成されてなる
ことを特徴とする部材。 - 【請求項１２】 合金溶湯をスリットを有するノズルか
ら回転する金属製の冷却ロール上に噴出し、単ロール法
によって合金薄帯を製造するものであって、溶湯を出湯
後５秒以上経過した後の冷却ロールの表面温度を８０℃
以上３００℃以下に保ち、かつ合金薄帯の冷却ロールか
らの剥離をノズルスリット直下のロール外周の位置から
ロール外周にそって測定した距離で１００ｍｍから１５
００ｍｍの範囲で行なうことを特徴とする前記合金薄帯
の製造方法。 - 【請求項１３】 前記合金薄帯の冷却ロールからの剥離
をノズルスリット直下のロール外周の位置からロール外
周にそって測定した距離で１５０ｍｍから１０００ｍｍ
の範囲とすることを特徴とする請求項１２に記載の合金
薄帯の製造方法。 - 【請求項１４】 冷却ロール表面温度を１００℃以上２
５０℃以下に保つことを特徴とする請求項１２又は１３
に記載の合金薄帯の製造方法。 - 【請求項１５】 金属製の冷却ロール内部が水冷されて
おり、前記ロールを冷却するための水量が０．１ｍ３／
分以上１０ｍ３／分以下であることを特徴とする請求項
１２乃至１４のいずれかに記載の合金薄帯の製造方法。 - 【請求項１６】 前記合金薄帯が、組成式：Ｆｅ
1００-x-a-y-zＡxＭaＳｉyＢz（原子％）で表され、式
中ＡはＣｕ，Ａｕから選ばれた少なくとも一種の元素、
ＭはＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｍｏ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｗ，Ｖから
なる群から選ばれた少なくとも一種の元素であり、ｘ，
ｙ，ｚおよびａはそれぞれ０≦ｘ≦３、０≦ａ≦１０、
０≦ｙ≦２０、２≦ｚ≦２５を満足する組成のアモルフ
ァス合金薄帯であることを特徴とする請求項１２乃至１
５のいずれかに記載の合金薄帯の製造方法。 - 【請求項１７】 Ｆｅの一部をＣｏ，Ｎｉから選ばれた
少なくとも一種の元素で置換した組成であることを特徴
とする請求項１６に記載の合金薄帯の製造方法。 - 【請求項１８】 Ｂの一部をＡｌ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｐ，
Ｃ，Ｂｅ，Ｎから選ばれた少なくとも一種の元素で置換
した組成であることを特徴とする請求項１６又は１７に
記載の合金薄帯の製造方法。 - 【請求項１９】 Ｍの一部をＭｎ，Ｃｒ，Ａｇ，Ｚｎ，
Ｓｎ，Ｉｎ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｓｃ，Ｙ，白金族元素，Ｃ
ａ，Ｎａ，Ｂａ，Ｓｒ，Ｌｉ，希土類元素から選ばれた
少なくとも一種の元素で置換した組成であることを特徴
とする請求項１６乃至１８のいずれかに記載の合金薄帯
の製造方法。 - 【請求項２０】 結晶化温度以上の熱処理を行うことに
よって前記アモルファス合金薄帯の組織の少なくとも５
０％を５０ｎｍ以下の結晶粒が占めるナノ結晶軟磁性合
金薄帯となしたことを特徴とする請求項１６乃至１９の
いずれかに記載の合金薄帯の製造方法。
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Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002249802A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Alps Electric Co Ltd | 非晶質軟磁性合金圧密体及びそれを用いた圧粉磁心 |
| JP2005064444A (ja) * | 2003-08-14 | 2005-03-10 | Amotech Co Ltd | 高周波特性に優れたナノ結晶粒金属粉末の製造方法及びこれを用いた高周波用軟磁性コアの製造方法 |
| JP2005254249A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Yaskawa Electric Corp | 液体金属急冷装置 |
| JP2007107096A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-04-26 | Hitachi Metals Ltd | 軟磁性合金、その製造方法、ならびに磁性部品 |
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| JP2008231534A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Hitachi Metals Ltd | 軟磁性薄帯、磁心、および磁性部品 |
| WO2009123100A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 日立金属株式会社 | 非晶質合金薄帯、ナノ結晶軟磁性合金、並びに磁心 |
| JP2009293132A (ja) * | 2009-09-10 | 2009-12-17 | Hitachi Metals Ltd | 軟磁性薄帯、磁心、磁性部品、および軟磁性薄帯の製造方法 |
| JP2010229466A (ja) * | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Hitachi Metals Ltd | ナノ結晶軟磁性合金ならびに磁心 |
| JP2012506495A (ja) * | 2008-10-21 | 2012-03-15 | ザ・ナノスティール・カンパニー・インコーポレーテッド | 延性を示す、金属ガラスをベースにした複合体の構造形成のメカニズム |
| JP2012508323A (ja) * | 2008-11-04 | 2012-04-05 | ザ・ナノスティール・カンパニー・インコーポレーテッド | 薄い製品形態における、産業用途のための変形メカニズムの開発 |
| JP2012179645A (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Nippon Steel Corp | 液相拡散接合用合金 |
| WO2013105304A1 (ja) * | 2012-01-13 | 2013-07-18 | 株式会社中山製鋼所 | 高生産効率の非晶質薄板製造方法および製造設備 |
| KR101911569B1 (ko) | 2011-04-15 | 2018-12-19 | 바쿰슈멜체 게엠베하 운트 코. 카게 | 합금, 자심 및 합금으로부터 테이프를 제조하는 방법 |
| JP2019065382A (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-25 | サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド． | Ｆｅ系ナノ結晶粒合金及びこれを用いた電子部品 |
| US10468182B2 (en) | 2011-01-28 | 2019-11-05 | Hitachi Metals, Ltd. | Rapidly quenched Fe-based soft-magnetic alloy ribbon and its production method and core |
| CN114515822A (zh) * | 2020-11-18 | 2022-05-20 | 安泰非晶科技有限责任公司 | 一种非晶纳米晶合金带材及其制备方法 |
| WO2022196672A1 (ja) * | 2021-03-17 | 2022-09-22 | Ｈｉｌｌｔｏｐ株式会社 | Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ系厚板急冷凝固合金薄帯の製造方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4288687B2 (ja) * | 2006-12-04 | 2009-07-01 | 株式会社 東北テクノアーチ | アモルファス合金組成物 |
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-
2000
- 2000-04-12 JP JP2000110730A patent/JP3594123B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (32)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002249802A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Alps Electric Co Ltd | 非晶質軟磁性合金圧密体及びそれを用いた圧粉磁心 |
| JP2005064444A (ja) * | 2003-08-14 | 2005-03-10 | Amotech Co Ltd | 高周波特性に優れたナノ結晶粒金属粉末の製造方法及びこれを用いた高周波用軟磁性コアの製造方法 |
| JP2005254249A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Yaskawa Electric Corp | 液体金属急冷装置 |
| JP2013060665A (ja) * | 2005-09-16 | 2013-04-04 | Hitachi Metals Ltd | 軟磁性合金およびこれを用いた磁性部品 |
| JP2007107096A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-04-26 | Hitachi Metals Ltd | 軟磁性合金、その製造方法、ならびに磁性部品 |
| JP2007107095A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-04-26 | Hitachi Metals Ltd | 磁性合金、アモルファス合金薄帯、および磁性部品 |
| JP2007107094A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-04-26 | Hitachi Metals Ltd | 軟磁性合金およびその製造方法ならびに磁性部品 |
| JP2013067863A (ja) * | 2005-09-16 | 2013-04-18 | Hitachi Metals Ltd | 軟磁性合金粉末およびこれを用いた磁性部品 |
| JP2008231533A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Hitachi Metals Ltd | 軟磁性薄帯、磁心、磁性部品、および軟磁性薄帯の製造方法 |
| JP2008231534A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Hitachi Metals Ltd | 軟磁性薄帯、磁心、および磁性部品 |
| US8414712B2 (en) | 2008-03-31 | 2013-04-09 | Hitachi Metals, Ltd. | Thin strip of amorphous alloy, nanocrystal soft magnetic alloy, and magnetic core |
| CN101796207B (zh) * | 2008-03-31 | 2014-01-01 | 日立金属株式会社 | 非晶态合金薄带,纳米晶态软磁性合金和磁芯 |
| KR101257248B1 (ko) * | 2008-03-31 | 2013-04-23 | 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 | 비정질 합금 박대, 나노 결정 연자성 합금, 및 자심 |
| WO2009123100A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 日立金属株式会社 | 非晶質合金薄帯、ナノ結晶軟磁性合金、並びに磁心 |
| JP2009263775A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-11-12 | Hitachi Metals Ltd | 非晶質合金薄帯、ナノ結晶軟磁性合金、磁心、ならびにナノ結晶軟磁性合金の製造方法 |
| JP2012506495A (ja) * | 2008-10-21 | 2012-03-15 | ザ・ナノスティール・カンパニー・インコーポレーテッド | 延性を示す、金属ガラスをベースにした複合体の構造形成のメカニズム |
| JP2015083722A (ja) * | 2008-10-21 | 2015-04-30 | ザ・ナノスティール・カンパニー・インコーポレーテッド | 延性を示す、金属ガラスをベースにした複合体の構造形成のメカニズム |
| JP2017133104A (ja) * | 2008-10-21 | 2017-08-03 | ザ・ナノスティール・カンパニー・インコーポレーテッド | 延性を示す、金属ガラスをベースにした複合体の構造形成のメカニズム |
| JP2012508323A (ja) * | 2008-11-04 | 2012-04-05 | ザ・ナノスティール・カンパニー・インコーポレーテッド | 薄い製品形態における、産業用途のための変形メカニズムの開発 |
| JP2015120201A (ja) * | 2008-11-04 | 2015-07-02 | ザ・ナノスティール・カンパニー・インコーポレーテッド | 薄い製品形態における、産業用途のための変形メカニズムの開発 |
| KR101614183B1 (ko) | 2008-11-04 | 2016-04-20 | 더 나노스틸 컴퍼니, 인코포레이티드 | 얇은 생성물 형상들의 산업적 사용을 위한 변형 메커니즘의 이용방법 |
| JP2010229466A (ja) * | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Hitachi Metals Ltd | ナノ結晶軟磁性合金ならびに磁心 |
| JP2009293132A (ja) * | 2009-09-10 | 2009-12-17 | Hitachi Metals Ltd | 軟磁性薄帯、磁心、磁性部品、および軟磁性薄帯の製造方法 |
| US10468182B2 (en) | 2011-01-28 | 2019-11-05 | Hitachi Metals, Ltd. | Rapidly quenched Fe-based soft-magnetic alloy ribbon and its production method and core |
| JP2012179645A (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Nippon Steel Corp | 液相拡散接合用合金 |
| KR101911569B1 (ko) | 2011-04-15 | 2018-12-19 | 바쿰슈멜체 게엠베하 운트 코. 카게 | 합금, 자심 및 합금으로부터 테이프를 제조하는 방법 |
| WO2013105304A1 (ja) * | 2012-01-13 | 2013-07-18 | 株式会社中山製鋼所 | 高生産効率の非晶質薄板製造方法および製造設備 |
| JP2013144831A (ja) * | 2012-01-13 | 2013-07-25 | Nakayama Steel Works Ltd | 高生産効率の非晶質薄板製造方法および製造設備 |
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| CN114515822A (zh) * | 2020-11-18 | 2022-05-20 | 安泰非晶科技有限责任公司 | 一种非晶纳米晶合金带材及其制备方法 |
| WO2022196672A1 (ja) * | 2021-03-17 | 2022-09-22 | Ｈｉｌｌｔｏｐ株式会社 | Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ系厚板急冷凝固合金薄帯の製造方法 |
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