JP2013144831A - 高生産効率の非晶質薄板製造方法および製造設備 - Google Patents
高生産効率の非晶質薄板製造方法および製造設備 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013144831A JP2013144831A JP2012005701A JP2012005701A JP2013144831A JP 2013144831 A JP2013144831 A JP 2013144831A JP 2012005701 A JP2012005701 A JP 2012005701A JP 2012005701 A JP2012005701 A JP 2012005701A JP 2013144831 A JP2013144831 A JP 2013144831A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roll
- thin plate
- base material
- amorphous
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
- B22F9/02—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes
- B22F9/06—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material
- B22F9/08—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material by casting, e.g. through sieves or in water, by atomising or spraying
- B22F9/082—Making metallic powder or suspensions thereof using physical processes starting from liquid material by casting, e.g. through sieves or in water, by atomising or spraying atomising using a fluid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
- C22C1/0433—Nickel- or cobalt-based alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/11—Making amorphous alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/007—Alloys based on nickel or cobalt with a light metal (alkali metal Li, Na, K, Rb, Cs; earth alkali metal Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Al Ga, Ge, Ti) or B, Si, Zr, Hf, Sc, Y, lanthanides, actinides, as the next major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/03—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C45/00—Amorphous alloys
- C22C45/04—Amorphous alloys with nickel or cobalt as the major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/14—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying for coating elongate material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/18—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D2201/00—Treatment for obtaining particular effects
- C21D2201/03—Amorphous or microcrystalline structure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/02—Making non-ferrous alloys by melting
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C2200/00—Crystalline structure
- C22C2200/02—Amorphous
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Fuel Cell (AREA)
- Continuous Casting (AREA)
Abstract
【解決手段】原料金属粉を含む火炎を基材に向けて溶射ガンより噴射し、当該金属粉を火炎によって溶融させたうえ、当該金属粉および火炎を母材に達する前から冷却ガスにて冷却する非晶質皮膜の形成装置を用い、単一種類もしくは複数種類の金属粉もしくは合金粉、又はそれらの混合粉からなる原料金属粉を、基材上に直接又は間接的に連結せしめて、皮膜に形成し、その後、当該皮膜を基材から分離する。基材としてロール、また特定の非晶質形成装置を使用して、さらに基材ロールの温度・表面処理方法を限定することにより、高品質な非晶質薄板を基材ロールから容易に分離させながら、効率よく作製することが可能となる。原料金属粉は、Ni72Mo4.5Nb10B13Cu0.5である。
【選択図】図7
Description
腐食液で、基材のみを溶解する手法も考えられるが、生産効率および環境負荷を考慮すると、大量生産には不適である。
なお、これに関し、基材ロールの周面に接触させて別の圧下用ロールを設置し、適切な加重で圧下しながら成膜する(このとき溶射ガンは、2つのロールの、接触部近傍へ粉末材料を噴出するように、基材の軸方向で往復運動する。)のもよい。そのようにすると、作製する薄板の気孔率低減および表面平滑化を図ることができる。
また、図3に示す基材ロールは、軸心が水平方向に保たれてセッティングされているが、基材ロールを軸心が垂直となるようにセッテイング・回転させ、さらに、溶射ガンを垂直縦方向(基材の軸長方向)に繰り返し動かし、そして、一例として基材ロールの回転速度1rpm、溶射ガン移動速度9000cm/minという条件でも非晶質薄板を作製してみたが、上述の軸心を水平方向に保って、基材ロールの回転速度184rpm、溶射ガンの移動速度を90cm/minで作製した非晶質薄板と、同じ成功率・品質で作製できた。従って、基材ロールのセッティングの、軸心方向と溶射ガンの移動方向の関係は、水平横方向同士でも、垂直縦方向同士でも構わない。
表2にある、表面処理Noは、表1にあるものと同一である。
表2から、表面処理No3(ブラスト後に、不織布研磨を施すもの)の条件が、一番幅広い基材ロール温度領域で、成膜後に基材ロールから薄板を分離できることが分かった。また、作製する非晶質薄板の、初期20μm程度の厚さだけ基材ロール温度を200℃程度で成膜し、残りを基材ロール温度を上げて成膜する(例えば、厚さ300μmの非晶質薄板を作製する場合、非晶質薄板/基材ロール界面より、厚さ方向に20μmは基材ロール温度200℃で成膜し、その後再予熱を行い、非晶質薄板表面にかけての残り厚さ280μmは、基材ロール温度350℃で成膜をする。)ことにより、高品質(低気孔率)の非晶質薄板をより容易に、基材ロールから剥離させることも可能である。
アモルファス化率(%)=[ΔH(薄板)/ΔH(リボン)] x 100
図9には、薄板のアモルファス化率と基材ロール温度の関係を示す。ここでは、基材ロール温度が160〜400℃では、アモルファス化率が90%以上となっていることが分かる。この温度(基材ロール)範囲では、目的のアモルファス化率が達成できる。
なお、非晶質薄板のアモルファス化率を低下させる場合は、特許文献4にある溶射条件で、冷媒の量を低下させる、もしくは基材ロールの回転速度を低下させる等で達成できるので、アモルファス化率が90%未満の薄板を得ることは容易である。具体的には、特許文献4で、冷媒として用いる窒素ガスの圧力は、0.25MPa以上あることが望ましいとあるが、この窒素ガスの圧力を0.25MPa未満に低下させる。また同特許文献に、溶射ガンの移動速度として、280mm/secが例として挙げられているが、溶射ガンと基材表面の相対速度がこれよりも低くなるように、基材ロールの回転速度を低下させるというような、溶射条件を選択することとなる。
この#180不織布研磨後の基材表面粗さを、基準長さ2.4mmで6回測定したところ、Raは2.5〜4.0μmであった。この値は、機械製図の仕上げ記号では、▽▽と▽▽▽の間レベルとなる。図11は、実際に測定した粗さ曲線である。
25枚の非晶質薄板(厚さ300μm x 幅105mm x 長さ600mm)を繰り返し作製したところ、成功率100%で、作製時間は、30分/枚であった。板状基材を用いて非晶質薄板を得る場合は、成膜途中の薄板/基材の剥離発生、反対に薄板/基材の過剰密着により、薄板の割れや基材への残存に繋がるため、このような生産効率を達成できなかった。上記のとおり基材ロールを用いて作製した、Ni72Mo4.5Nb10B13Cu0.5非晶質薄板の外観写真を図12に示す。
Claims (8)
- 原料金属粉を含む火炎を基材に向けて溶射ガンより噴射し、当該金属粉を火炎によって溶融させたうえ、当該金属粉および火炎を母材に達する前から冷却ガスにて冷却する非晶質皮膜の形成装置を用い、単一種類もしくは複数種類の金属粉もしくは合金粉、又はそれらの混合粉からなる原料金属粉を、基材上に直接又は間接的に連結せしめて、皮膜に形成し、その後、当該皮膜を基材から分離することを特徴とする非晶質薄板の製造方法。
- 基材としてロール形状の基材を使用し、当該基材の外周面上に上記皮膜を形成し、その後に当該皮膜を基材から分離することを特徴とする請求項1に記載した非晶質薄板の製造方法。
- ロール形状の上記基材で、その外周面が、ブラスト処理を施した後に不織布研磨を施したものであることを特徴とする請求項2に記載した非晶質薄板の製造方法。
- ロール形状の上記基材が外周部にリムを有するものであり、その基材に対し、予熱を行うとともに、上記皮膜の形成中にリムの内側からエアを吹き付けて冷却を行うことによって、上記基材の外周面を160℃を超え450℃未満の温度に保つことを特徴とする請求項3に記載した非晶質薄板の製造方法。
- Ni72Mo4.5Nb10B13Cu0.5の原料金属粉を上記溶射ガンより噴射することによって、当該化学組成の非晶質薄板を得ることを特徴とする請求項4に記載した非晶質薄板の製造方法。
- 上記皮膜の形成を開始する前に、ロール形状の上記基材における外周面上の1箇所に、外周面の全幅に及ぶ長さの耐熱テープを貼付しておくこと、または、全幅より短い長さの耐熱テープを、それぞれ繋がらないように、分割して貼付することを特徴とする請求項2〜5のいずれかに記載した非晶質薄板の製造方法。
- 外周部にリムを有するロール形状の上記基材の周囲に上記非晶質皮膜の形成装置を複数配置し、当該基材を回転させるとともに内側からエアを吹き付けてそのリムを冷却しながら上記複数の形成装置を用いて基材外周面に上記皮膜を形成し、さらに、当該皮膜上に押し付けられる剥離ロールと当該皮膜の下に差し入れられるスクレパーとによって当該皮膜を基材から分離することを特徴とする請求項3〜5のいずれかに記載した非晶質薄板の製造方法。
- 請求項1〜7のいずれかに記載した製造方法によって製造され、任意の割合で非晶質と結晶質が混合していることを特徴とする非晶質薄板。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012005701A JP5905265B2 (ja) | 2012-01-13 | 2012-01-13 | 高生産効率の非晶質薄板製造方法および製造設備 |
PCT/JP2012/073235 WO2013105304A1 (ja) | 2012-01-13 | 2012-09-11 | 高生産効率の非晶質薄板製造方法および製造設備 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012005701A JP5905265B2 (ja) | 2012-01-13 | 2012-01-13 | 高生産効率の非晶質薄板製造方法および製造設備 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013144831A true JP2013144831A (ja) | 2013-07-25 |
JP5905265B2 JP5905265B2 (ja) | 2016-04-20 |
Family
ID=48781269
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012005701A Active JP5905265B2 (ja) | 2012-01-13 | 2012-01-13 | 高生産効率の非晶質薄板製造方法および製造設備 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5905265B2 (ja) |
WO (1) | WO2013105304A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017226915A (ja) * | 2016-06-17 | 2017-12-28 | 吉川工業株式会社 | 溶射皮膜及び溶射皮膜部材 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5973790B2 (ja) * | 2012-05-28 | 2016-08-23 | 株式会社中山アモルファス | 耐食性、導電性、成形性に優れた薄板およびその製造方法 |
JP5980167B2 (ja) * | 2013-05-23 | 2016-08-31 | 株式会社中山アモルファス | 耐食性、導電性、成形性に優れた固体高分子型燃料電池用セパレータ材料およびその製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5588843A (en) * | 1978-12-27 | 1980-07-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of amorphous body |
JP2001001113A (ja) * | 1999-04-15 | 2001-01-09 | Hitachi Metals Ltd | 合金薄帯並びにそれを用いた部材、及びその製造方法 |
JP2008043869A (ja) * | 2006-08-14 | 2008-02-28 | Nakayama Steel Works Ltd | 過冷却液相金属皮膜の形成用溶射装置 |
JP2010022895A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Nakayama Steel Works Ltd | アモルファス皮膜の形成装置および形成方法 |
-
2012
- 2012-01-13 JP JP2012005701A patent/JP5905265B2/ja active Active
- 2012-09-11 WO PCT/JP2012/073235 patent/WO2013105304A1/ja active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5588843A (en) * | 1978-12-27 | 1980-07-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of amorphous body |
JP2001001113A (ja) * | 1999-04-15 | 2001-01-09 | Hitachi Metals Ltd | 合金薄帯並びにそれを用いた部材、及びその製造方法 |
JP2008043869A (ja) * | 2006-08-14 | 2008-02-28 | Nakayama Steel Works Ltd | 過冷却液相金属皮膜の形成用溶射装置 |
JP2010022895A (ja) * | 2008-07-15 | 2010-02-04 | Nakayama Steel Works Ltd | アモルファス皮膜の形成装置および形成方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017226915A (ja) * | 2016-06-17 | 2017-12-28 | 吉川工業株式会社 | 溶射皮膜及び溶射皮膜部材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5905265B2 (ja) | 2016-04-20 |
WO2013105304A1 (ja) | 2013-07-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5571152B2 (ja) | スパッタリングターゲットの製造方法 | |
US10946447B2 (en) | Systems and methods for fabricating objects including amorphous metal using techniques akin to additive manufacturing | |
KR101543895B1 (ko) | 저온분사공정을 이용하여 아연도금강판에 기능성 코팅층을 형성하는 방법 및 기능성 코팅층이 형성된 아연도금강판 | |
JP4677050B1 (ja) | 被膜形成方法及びその方法により形成される複合材 | |
JPWO2008117482A1 (ja) | 真空成膜装置用部品及び真空成膜装置 | |
JP5905265B2 (ja) | 高生産効率の非晶質薄板製造方法および製造設備 | |
JP5605901B2 (ja) | コールドスプレー法による金属材料の補修方法及びコールドスプレー用粉末材料の製造方法、並びに、コールドスプレー皮膜 | |
JP6644147B2 (ja) | 鋼板の金属コーティング方法及びそれを用いて製造された金属コーティング鋼板 | |
JP5848617B2 (ja) | アモルファス板とその製造方法 | |
CN107636188B (zh) | 用于制备管状制品的方法 | |
WO2013154183A1 (ja) | アモルファス合金の塑性加工方法および塑性加工装置 | |
JP3233854U (ja) | 金型鋼に対する前処理装置及び前処理方法 | |
WO2012099284A1 (ko) | 심가공성 및 극저온 접합취성이 우수한 용융아연도금강판 및 그 제조방법 | |
JP6010554B2 (ja) | アモルファス板の製造方法および製造装置 | |
JP2009215574A (ja) | 積層体の製造方法 | |
JP5975661B2 (ja) | 成形加工用アルミニウム板 | |
JP2011017080A (ja) | 薄板金属基材上に金属ガラス溶射被膜層が形成された複合材料及びその製造方法 | |
JP2009155729A (ja) | 金属ガラス複合材料の変形加工方法 | |
KR101543891B1 (ko) | 초음속 진공유동 적층을 통한 나노구조의 금속 박막 코팅방법 | |
US11498881B2 (en) | Coating tape | |
JP6029133B2 (ja) | 断熱材及びこれを用いた樹脂成形用金型 | |
CN110565001A (zh) | 一种热喷涂粉末及其用于制备热喷涂层的方法 | |
JP6440553B2 (ja) | 金属または合金からなる皮膜の製造方法 | |
CN115627439B (zh) | 一种无分层组织结构的致密厚合金涂层及其制备方法 | |
KR20090052698A (ko) | 분사코팅법을 이용한 박판의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20130823 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20141023 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150901 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151007 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160308 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160316 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5905265 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |